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JPH05275570A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH05275570A
JPH05275570A JP10223092A JP10223092A JPH05275570A JP H05275570 A JPH05275570 A JP H05275570A JP 10223092 A JP10223092 A JP 10223092A JP 10223092 A JP10223092 A JP 10223092A JP H05275570 A JPH05275570 A JP H05275570A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal member
chip
resin
package
tab
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10223092A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Kamiyama
正 神家満
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP10223092A priority Critical patent/JPH05275570A/ja
Publication of JPH05275570A publication Critical patent/JPH05275570A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ICチップが発する熱を効率よく外部に放出
することができる半導体装置を提供する。 【構成】 金属部材22にICチップ12を嵌合できる
凹部を形成し、導電性接着剤24を介してICチップ1
2を金属部材22の凹部に接着している。ICチップ1
2を樹脂封止する際に、エポキシ樹脂26を金属部材2
2の下面側、すなわち凹部が形成された側だけに形成
し、金属部材22の上面及び側面を露出させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子たとえばI
CチップをTAB(Tape Automated Bonding)方式で実
装し、樹脂封止した半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウエハから切り出された半導体素子、た
とえばICチップの実装技術のひとつとしてTAB方式
が知られている。この方式は、ポリイミド等で作られた
可撓性のテープ状フィルムに複数のリードを形成し、そ
のリードとICチップに形成された複数の電極とを一括
して接合するボンディング方式である。TAB方式は、
テープの段階で電気的特性の検査が可能であり、またテ
ープの可撓性を利用し、折り曲げて立体的な実装ができ
る等の特徴がある。
【0003】図10は従来のTABパッケージの概略断
面図である。図10に示すTABパッケージは、ICチ
ップ112と、フィルム114と、フィルム114に形
成されたリード116と、バンプ118と、平坦な金属
プレート122と、導電性接着剤124と、保護樹脂
(エポキシ樹脂)126と、放熱用フィン128とを備
えるものである。
【0004】このTABパッケージを形成するには、ま
ず、インナーリードボンディング工程において、リード
116の先端部にバンプ118を介してICチップ11
2の電極を接合した後、ICチップ112の裏面に導電
性接着剤124を塗布し、金属プレート122を接着す
る。一般に金属プレート122はグランドを取るために
使用されるが、ここでは、金属プレート122を放熱用
に用いる。そして、このフィルム114を上金型と下金
型で挟み、エポキシ樹脂126を注入してICチップ1
12を樹脂封止する。ただし、金属プレート122の上
面は露出させるようにする。最後に、金属プレート12
2の露出面上に導電性接着剤124を介してフィン12
8を取り付けることにより、TABパッケージが形成さ
れる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般にIC
チップの保護樹脂として使用しているエポキシ樹脂は放
熱性がよくない。しかも、成形樹脂は表面が平坦で、か
なり厚く形成されているため、ICチップが発する熱を
効率よく外部に放出することができない。したがって、
樹脂封止後の樹脂成形品に放熱フィンを設けた場合で
も、高い放熱効果は期待できなかった。
【0006】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、ICチップが発する熱を効率よく外部に放出す
ることができる半導体装置を提供することを目的とする
ものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明は、フィルムキャリア上に搭載された半導体
素子を樹脂で封止した半導体装置において、前記半導体
素子の裏面に放熱用の金属部材を取り付け、該金属部材
の下面側を前記樹脂で封止し、前記金属部材の上面及び
側面を露出させたことを特徴とするものである。
【0008】
【作用】本発明は前記の構成によって、半導体素子の裏
面に放熱用の金属部材を取り付け、半導体素子を樹脂封
止する際に金属部材の下面側にだけ樹脂を形成したこと
により、金属部材の上面及び側面を露出させる。パッケ
ージの表面は、略上半分に金属部材が露出しているの
で、従来の半導体装置よりも広い範囲から、半導体素子
が発する熱を効率よく外部に放出することができる。
【0009】
【実施例】以下に本発明の第一実施例について図面を参
照して説明する。図1は本発明の第一実施例である半導
体装置(TABパッケージ)の概略断面図、図2はその
TABパッケージの製造方法を説明するための図であ
る。
【0010】図1に示すTABパッケージは、TABテ
ープと、金属部材22と、導電性接着剤24と、保護樹
脂(エポキシ樹脂)26と、ポリイミド系の接着剤28
とを備えるものである。また、本実施例においてTAB
テープは、ICチップ12と、テープ状のフィルム14
上にリード16が形成されたフィルムキャリアと、バン
プ18とを有するものである。尚、フィルムキャリアの
表面とはリード16が形成された面をいう。
【0011】ICチップ12とリード16との接続に
は、いわゆる転写バンプ方式を用いており、ICチップ
12の表面に形成した電極とリード16の先端部とをバ
ンプ18を介して接合する。尚、ICチップ12はフィ
ルムキャリアの表面に搭載される。
【0012】金属部材22は、金属製のプレートに凹部
を形成したものである。凹部の形状はICチップ12の
裏面側が嵌合できるように形成している。ICチップ1
2と金属部材22とは、ポリイミド系の導電性接着剤2
8を介して固定される。金属部材22の材質としては、
アルミニウムなどの熱伝導性の高い金属を用いる。ここ
では、金属部材22を放熱用に使用する。
【0013】保護樹脂26は、金属部材22の全体を覆
うように形成されるのではなく、金属部材22の下面
側、すなわち凹部を形成した側だけに形成され、金属部
材22の上面及び側面は露出されている。また、ポリイ
ミド系の接着剤28を金属部材22に塗布して、金属部
材22とエポキシ樹脂26との接着性をよくしている。
【0014】次に、第一実施例のTABパッケージの製
造方法を説明する。まず、フィルムキャリアから、いわ
ゆる転写バンプ方式を用いて、リード16の先端部とI
Cチップ12の表面に形成した電極とをバンプ18を介
して接合することにより、TABテープを形成する。金
属部材22の凹部に導電性接着剤24を塗布し、ICチ
ップ12を金属部材22の凹部に嵌め込んで接着する。
ここで、金属部材22に形成された凹部の周囲の面に
は、ポリイミド系の接着剤28を塗布しておく。
【0015】続いて、ICチップ12の樹脂封止を行
う。ここで使用する成形金型としては、フィルムキャリ
アの表面に当接させる上金型の樹脂注入室の形状を金属
部材の形状に合致するように形成したものを使用する。
図2に示すように、上金型32の樹脂注入室に金属部材
22を嵌め込むようにして、上金型32と下金型34と
でTABテープを挟持する。溶融した熱硬化性樹脂(エ
ポキシ樹脂)26を下金型34に設けた樹脂供給口(不
図示)から流し込み、樹脂注入室に圧入する。樹脂の硬
化を進行させるために数分間加圧したまま保持した後、
樹脂成形したTABテープを金型から取り出す。
【0016】その後、パンチング工程において各コマ毎
にフィルム14及びリード16を切断することにより、
樹脂封止を行ったICチップ12を個々に打ち抜く。最
後に、リード16のフォーミングを行い、図1に示すT
ABパッケージの完成品を得る。
【0017】第一実施例のTABパッケージでは、IC
チップの裏面に金属部材を取り付け、ICチップを樹脂
封止する際に金属部材の下面側にだけ保護樹脂を形成し
たことにより、金属部材の上面及び側面を露出させるこ
とができる。このように、パッケージの表面は約上半分
に金属部材が露出しているので、従来のTABパッケー
ジよりも広い範囲から、ICチップが発する熱を効率よ
く外部に放出することができる。
【0018】また、第一実施例のTABパッケージで
は、ICチップを金属部材の凹部に嵌め込み、上金型と
して樹脂注入室の形状が金属部剤の形状に合うように形
成されたものを使用しているため、樹脂封止する際に、
ICチップが金属部材を介して上金型に固定されるの
で、注入する樹脂の流れや樹脂圧によりICチップが所
定の位置からずれたり傾いたりするのを防止することが
できる。このため、薄型のICチップを使用した場合で
も、ICチップの電極とリードとの接合が剥がれること
はなく、不良品の発生率を減少させることができるの
で、製品の歩留りの向上を図ることができる。
【0019】次に、本発明の第二実施例について図3を
参照して説明する。図3は本発明の第二実施例であるT
ABパッケージの概略断面図である。第二実施例におい
て上記第一実施例と同一の機能を有するものには同一の
符号を付すことにより、その詳細な説明を省略する。
【0020】第二実施例が第一実施例と異なる点は、金
属部材22aの上面にフィン23aを形成したことであ
る。かかる金属部材22aを有するTABパッケージ
は、たとえばフィン23aと嵌合する溝を形成した上金
型を用いることにより、上記第一実施例と同様の方法で
容易に形成できる。その他の構成は第一実施例と同様で
ある。第二実施例のTABパッケージも、上記第一実施
例と同様の作用・効果を奏するが、フィンを設けた分だ
け熱を外部に放出することができ、放熱性を向上させる
ことができる。
【0021】次に、本発明の第三実施例について図4を
参照して説明する。図4は本発明の第三実施例であるT
ABパッケージの概略断面図である。第三実施例におい
て第一及び第二実施例と同一の機能を有するものには同
一の符号を付すことにより、その詳細な説明を省略す
る。
【0022】第三実施例が第二実施例と異なる点は、金
属部材22bの上面だけでなく、側面にもフィン23b
を形成したことである。かかる金属部材22bを有する
TABパッケージは、上記第二実施例と同様の方法によ
り形成できる。その他の構成は第一及び第二実施例と同
様である。第三実施例のTABパッケージも、第一及び
第二実施例と同様の作用・効果を奏するが、フィンを金
属部材の側面にも設けたため、第二実施例で形成したT
ABパッケージよりも、一層、放熱性を向上させること
ができる。
【0023】次に、本発明の第四実施例について図5及
び図6を参照して説明する。図5は本発明の第四実施例
であるTABパッケージの概略断面図、図6はそのTA
Bパッケージの製造方法を説明するための図である。第
四実施例において第一実施例と同一の機能を有するもの
には同一の符号を付すことにより、その詳細な説明を省
略する。
【0024】第四実施例が第一実施例と異なる点は、同
一パッケージ内に二つのICチップ12a,12bを設
けた点である。第四実施例のTABパッケージを製造す
るには、まず、フィルム14c上に形成したリード16
cと二つのICチップ12a,12bの表面に形成した
電極とをバンプ18を介して接合する。また、配線設計
上、二つのICチップ12a,12bの電極間をボンデ
ィングワイヤ17で接続している。金属部材22cの二
つの凹部に導電性接着剤24を塗布し、ICチップ12
a,12bを金属部材22cの各凹部に嵌め込んで接着
する。ここで、ボンディングワイヤ17の流れや曲がり
を防止するため、図6に示すように、ボンディングワイ
ヤ17をポッティングで樹脂封止する。そして、第一実
施例と同様に金属部材22cを介してICチップ12
a,12bを上金型で固定して樹脂封止を行うことによ
り、図5に示すTABパッケージが得られる。尚、27
はポッティング樹脂である。
【0025】第四実施例のTABパッケージも、上記第
一実施例と同様の作用・効果を奏する。また、二つのI
Cチップを同一パッケージ内に形成することにより、半
導体装置の省スペース化を図ることができる。
【0026】次に、本発明の第五実施例について図7を
参照して説明する。図7は本発明の第五実施例であるT
ABパッケージの概略断面図である。第五実施例におい
て第四実施例と同一の機能を有するものには同一の符号
を付すことにより、その詳細な説明を省略する。
【0027】第五実施例が第四実施例と異なる点は、金
属部材22dの上面にフィン23dを形成したことであ
る。かかる金属部材22dを有するTABパッケージ
は、上記第二実施例と同様の方法で容易に形成できる。
その他の構成は第四実施例と同様である。第五実施例の
TABパッケージも、第四実施例と同様の作用・効果を
奏するが、フィンを設けた分だけ熱を外部に放出するこ
とができ、放熱性を向上させることができる。
【0028】次に、本発明の第六実施例について図8を
参照して説明する。図8は本発明の第六実施例であるT
ABパッケージの概略断面図である。第六実施例におい
て第四及び第五実施例と同一の機能を有するものには同
一の符号を付すことにより、その詳細な説明を省略す
る。
【0029】第六実施例が第五実施例と異なる点は、金
属部材22eの上面だけでなく、側面にもフィン23e
を形成したことである。かかる金属部材22eを有する
TABパッケージは、第五実施例と同様の方法により形
成できる。その他の構成は第四及び第五実施例と同様で
ある。第六実施例のTABパッケージも、第四及び第五
実施例と同様の作用・効果を奏するが、フィンを金属部
材の側面にも設けたため、第五実施例で形成したTAB
パッケージよりも、一層、放熱性を向上させることがで
きる。
【0030】本発明は、上記の各実施例に限定されるも
のではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が可
能である。たとえば、上記の各実施例では、転写バンプ
方式でリードとICチップの電極とを接合したTABテ
ープを用いてTABパッケージを形成した場合について
説明したが、ICバンプ方式で形成したTABテープを
用いてTABパッケージを形成することも可能である。
ICバンプ方式では、フィルムキャリアの表裏面のどち
らにもICチップを搭載することができる。このため、
フィルムキャリアの裏面にICチップを搭載したTAB
テープを用いて、TABパッケージを形成することによ
り、図9に示すように、半導体装置の薄型化を図ること
ができる。尚、図9において、図1に示すものと同一の
機能を有するものには同一の符号を付することにより、
その詳細な説明を省略する。
【0031】また、上記の各実施例では、金属部材に凹
部を形成し、導電性接着剤を介してICチップを凹部に
嵌め込んで固定する場合について説明したが、必ずしも
金属部材に凹部を形成する必要はなく、導電性接着剤で
介して金属部材とICチップとを接着してもよい。この
場合も、ICチップが発する熱を効率よく外部に放出す
ることができる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、半
導体素子の裏面に放熱用の金属部材を取り付け、金属部
材の下面側を樹脂で封止し、金属部材の上面及び側面を
露出させたことにより、パッケージの表面は約上半分に
金属部材が露出しているので、半導体素子が発する熱を
広い範囲から効率よく外部に放出することができる半導
体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図2】第一実施例である半導体装置の製造方法を説明
するための図である。
【図3】本発明の第二実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図4】本発明の第三実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図5】本発明の第四実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図6】第四実施例である半導体装置の製造方法を説明
するための図である。
【図7】本発明の第五実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図8】本発明の第六実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図9】本発明の他の実施例である半導体装置の概略断
面図である。
【図10】従来の半導体装置の概略断面図である。
【符号の説明】
12,12a,12b ICチップ 14,14c フィルム 16,16c リード 17 ボンディングワイヤ 18 バンプ 22,22a,22b,22c,22d,22e 金
属部材 23a,23b,23d,23e フィン 24 導電性接着剤 26 エポキシ樹脂 27 ポッティング樹脂 28 ポリイミド系の接着剤 32 上金型 34 下金型

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フィルムキャリア上に搭載された半導体
    素子を樹脂で封止した半導体装置において、前記半導体
    素子の裏面に放熱用の金属部材を取り付け、該金属部材
    の下面側を前記樹脂で封止し、前記金属部材の上面及び
    側面を露出させたことを特徴とする半導体装置。
JP10223092A 1992-03-27 1992-03-27 半導体装置 Withdrawn JPH05275570A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10223092A JPH05275570A (ja) 1992-03-27 1992-03-27 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10223092A JPH05275570A (ja) 1992-03-27 1992-03-27 半導体装置

Publications (1)

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JPH05275570A true JPH05275570A (ja) 1993-10-22

Family

ID=14321851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10223092A Withdrawn JPH05275570A (ja) 1992-03-27 1992-03-27 半導体装置

Country Status (1)

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JP (1) JPH05275570A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007157876A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Sony Corp 半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法
JP2011044557A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Fujitsu Ltd マルチチップモジュールの製造方法及びマルチチップモジュール

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007157876A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Sony Corp 半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法
JP2011044557A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Fujitsu Ltd マルチチップモジュールの製造方法及びマルチチップモジュール
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Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990608