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JPH0567399A - Semiconductor memory device having burn-in mode confirmation means - Google Patents

Semiconductor memory device having burn-in mode confirmation means

Info

Publication number
JPH0567399A
JPH0567399A JP4048798A JP4879892A JPH0567399A JP H0567399 A JPH0567399 A JP H0567399A JP 4048798 A JP4048798 A JP 4048798A JP 4879892 A JP4879892 A JP 4879892A JP H0567399 A JPH0567399 A JP H0567399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
type mos
internal power
burn
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4048798A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutoshi Hirayama
和俊 平山
Seiji Sawada
誠二 澤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4048798A priority Critical patent/JPH0567399A/en
Publication of JPH0567399A publication Critical patent/JPH0567399A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明はバーンイン時に内部電源電圧が外
部電源電圧と等しくなったことを電気的に確認可能な情
報として出力することのできるようなバーンインモード
確認手段を有する半導体記憶装置を提供することを主要
な特徴とする。 【構成】 P型MOSトランジスタ11,12により内
部電源電圧と外部電源電圧とをNCピン10から外部に
電気的情報として出力することにより、ストレスモード
時とそうでないときとで電気的情報に差があるかないか
を判定する。
(57) [Summary] [Object] The present invention is a semiconductor memory having a burn-in mode confirmation means capable of outputting as electrically identifiable information that the internal power supply voltage has become equal to the external power supply voltage during burn-in. The main feature is to provide a device. By outputting the internal power supply voltage and the external power supply voltage from the NC pin 10 to the outside as electrical information by the P-type MOS transistors 11 and 12, there is a difference in electrical information between the stress mode and the stress mode. Determine whether or not there is.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はバーンインモード確認
手段を有する半導体記憶装置に関し、特に、内部電源発
生回路を有する半導体記憶装置の特殊モードであるスト
レスモード時に、内部電源を外部電源と等しくできるよ
うなバーンインモード確認手段を有する半導体記憶装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having burn-in mode confirming means, and more particularly, to an internal power supply which can be made equal to an external power supply in a stress mode which is a special mode of a semiconductor memory device having an internal power supply generation circuit. Semiconductor memory device having various burn-in mode confirmation means.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置では、電源は外部
から入力されたレベルがそのまま内部電源として使用さ
れていたが、最近の大容量化に伴うトランジスタの微細
化により、その信頼性および消費電流の増大から内部電
源を降圧する方式が広く提案されるようになった。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor memory device, the level input from the outside is used as it is as an internal power source. However, due to the miniaturization of transistors accompanying the recent increase in capacity, its reliability and current consumption are reduced. Due to the increase in power consumption, the method of stepping down the internal power supply has been widely proposed.

【0003】さて、一般に半導体記憶装置においては、
製造上の微細な欠陥により短期の使用で不良となるよう
なチップが製造直後にある一定の比率で含まれているの
が普通である。そこで、メーカーでは、高温/高電圧で
数十時間から数日の間、連続動作を行ない、上述のよう
な結果を含むチップを予め選別によりスクリーニングし
ているのが普通である。この高電圧の連続動作をバーン
インと呼んでいる。
Generally, in a semiconductor memory device,
Immediately after manufacture, chips are usually included in a certain ratio, which may be defective in a short period of time due to minute defects in manufacturing. Therefore, it is usual for manufacturers to perform continuous operation at high temperature / high voltage for several tens of hours to several days, and to screen chips including the above results by screening in advance. This high voltage continuous operation is called burn-in.

【0004】電源降圧回路を内蔵した半導体記憶装置で
は、外部電源電圧を高くしても、内部電源電圧は一定と
なり、バーンインができない。そこで、バーンイン時に
は、内部電源線と外部電源線をトランスファーゲートで
接続し、外部電源電圧を内部に印加する手法があり、そ
れをストレスモードと呼んでいる。
In a semiconductor memory device having a built-in power supply step-down circuit, even if the external power supply voltage is increased, the internal power supply voltage becomes constant and burn-in cannot be performed. Therefore, at the time of burn-in, there is a method of connecting an internal power supply line and an external power supply line with a transfer gate and applying an external power supply voltage to the inside, which is called a stress mode.

【0005】図11はストレスモードを有する従来の半
導体記憶装置における内部電源降圧回路の電気回路図で
ある。図11を参照して、P型MOSトランジスタ1と
2のそれぞれのドレインには外部電源extVccが与
えられ、それぞれのソースには内部電源intVccが
与えられている。内部電源intVcccはレベルシフ
タ回路3に与えられてレベルダウンされ、レベルダウン
された電圧が差動増幅回路4に与えられ、基準電圧Vr
efと比較される。差動増幅回路4の出力はP型MOS
トランジスタ1のゲートに与えられ、P型MOSトラン
ジスタ2のゲートにはストレスモード信号/SMが与え
られる。
FIG. 11 is an electric circuit diagram of an internal power supply voltage down circuit in a conventional semiconductor memory device having a stress mode. Referring to FIG. 11, external power supply extVcc is applied to the drains of P-type MOS transistors 1 and 2, and internal power supply intVcc is applied to the respective sources. The internal power supply intVccc is applied to the level shifter circuit 3 to be leveled down, the leveled down voltage is applied to the differential amplifier circuit 4, and the reference voltage Vr is applied.
ef is compared. The output of the differential amplifier circuit 4 is a P-type MOS
The stress mode signal / SM is applied to the gate of the transistor 1 and the gate of the P-type MOS transistor 2.

【0006】次に、図11に示した内部電源降圧回路の
動作について説明する。内部電源intVccがレベル
シフタ回路3によってレベルダウンされ、その電圧が差
動増幅回路4によって基準電圧Vrefと比較され、レ
ベルダウンされた電圧が基準電圧Vrefよりも低いと
き、差動増幅回路4の出力は“L”レベルになり、P型
MOSトランジスタ1が導通し、外部電源extVcc
と内部電源intVccが接続される。内部電源int
Vccが高くなり、レベルダウンされた電圧が基準電圧
Vrefよりも高くなると、差動増幅回路4の出力は
“H”となり、P型MOSトランジスタ1が非導通にな
り、外部電源extVccと内部電源intVccとが
切離される。また、ストレスモード時には、バーンイン
モード信号/SMが“L”レベルになり、P型MOSト
ランジスタ2が導通し、上述の内部電源intVccの
高いか否かにかかわらず、外部電源extVccと内部
電源intVccとが接続される。
Next, the operation of the internal power supply voltage down circuit shown in FIG. 11 will be described. The internal power supply intVcc is level down by the level shifter circuit 3, the voltage thereof is compared with the reference voltage Vref by the differential amplifier circuit 4, and when the level down voltage is lower than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 4 is It becomes the “L” level, the P-type MOS transistor 1 becomes conductive, and the external power supply extVcc
And the internal power supply intVcc are connected. Internal power supply int
When Vcc becomes higher and the level-lowered voltage becomes higher than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 4 becomes “H”, the P-type MOS transistor 1 becomes non-conductive, and the external power supply extVcc and the internal power supply intVcc. And are separated. In the stress mode, the burn-in mode signal / SM goes to "L" level, the P-type MOS transistor 2 becomes conductive, and the external power supply extVcc and the internal power supply intVcc are irrespective of whether the internal power supply intVcc is high or not. Are connected.

【0007】図12は従来のバーンインモードを有する
内部電源降圧回路の他の例を示す電気回路図である。こ
の図12に示した内部電源降圧回路は、図11に示した
P型MOSトランジスタ2に対してN型MOSトランジ
スタ5が並列接続され、このN型MOSトランジスタ5
のゲートにバーンイン時に活性化される信号BIEが与
えられ、この信号BIEはインバータ6で反転されてP
型MOSトランジスタ2のゲートにも与えられる。差動
増幅回路4には抵抗7と8とで電源電圧Vccが分割さ
れて基準電圧Vrefが基準入力としてその基準入力端
に与えられ、比較入力端には内部電源intVccが与
えられている。
FIG. 12 is an electric circuit diagram showing another example of the conventional internal power supply step-down circuit having the burn-in mode. In the internal power supply step-down circuit shown in FIG. 12, an N-type MOS transistor 5 is connected in parallel to the P-type MOS transistor 2 shown in FIG.
A signal BIE that is activated at the time of burn-in is applied to the gate of the signal BIE.
It is also applied to the gate of the MOS transistor 2. In the differential amplifier circuit 4, the power supply voltage Vcc is divided by the resistors 7 and 8, the reference voltage Vref is applied to the reference input terminal as a reference input, and the internal power supply intVcc is applied to the comparison input terminal.

【0008】図12に示した内部電源降圧回路におい
て、バーンインモード時に活性化される信号BIEによ
りN型MOSトランジスタ5が導通して、外部電源ex
tVccと内部電源intVccとが直結される。
In the internal power supply voltage down circuit shown in FIG. 12, the N-type MOS transistor 5 is rendered conductive by the signal BIE activated in the burn-in mode, and the external power supply ex
tVcc and internal power supply intVcc are directly connected.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述のごとく、図11
および図12に示した電源降圧回路を内蔵した半導体記
憶装置において、外部電源extVccと内部電源in
tVccとを接続するために、P型MOSトランジスタ
1,2などが設けられているが、実際のバーンイン時
や、テスト時にバーンイン用に電圧が切換わったか否か
をチップ外部から判別することができないという問題点
があった。
As described above, FIG.
In the semiconductor memory device having the built-in power supply voltage down circuit shown in FIG. 12, the external power supply extVcc and the internal power supply in
Although P-type MOS transistors 1 and 2 are provided to connect to tVcc, it is not possible to determine from the outside of the chip whether or not the voltage has been switched for burn-in during actual burn-in or during testing. There was a problem.

【0010】それゆえに、この発明の主たる目的は、バ
ーンイン時やテスト時に内部電圧と外部電圧とが等しく
なったことを外部で電気的に確認可能な情報として出力
し得るバーンインモード確認手段を有する半導体記憶装
置を提供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a semiconductor having a burn-in mode confirmation means capable of outputting as externally electrically confirmable information that the internal voltage and the external voltage are equal at the time of burn-in or test. A storage device is provided.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は内部で電源電
圧を降圧し、欠陥を内在しているチップを選別するため
の連続動作試験用に、内部電源電圧と外部電源電圧とを
等しくするモードを有する半導体記憶装置であって、内
部電源電圧と外部電源電圧とを等しくするモードになっ
たことを半導体記憶装置の外部から電気的に確認可能な
手段を設けて構成したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a mode in which the internal power supply voltage and the external power supply voltage are made equal for a continuous operation test for internally stepping down the power supply voltage and selecting chips having defective defects. And a means for electrically confirming from the outside of the semiconductor memory device that the mode has become equal to the internal power supply voltage and the external power supply voltage.

【0012】[0012]

【作用】この発明に係るバーンインモード確認手段を有
する半導体記憶装置は、バーンインモードに入って内部
電源が外部電源と等しくなったことを出力することによ
り、テスト時や実際のバーンイン時に確実に正しい加速
係数のバーンインがなされているか否かを確認すること
ができる。
The semiconductor memory device having the burn-in mode confirming means according to the present invention outputs the fact that the internal power supply becomes equal to the external power supply when the burn-in mode is entered, so that the correct acceleration can be surely performed at the time of test or actual burn-in. It is possible to confirm whether or not the coefficient burn-in is performed.

【0013】[0013]

【実施例】図1はこの発明の一実施例の電気回路図であ
る。図1において、P型MOSトランジスタ11のドレ
インは図11に示した外部電源extVccに接続さ
れ、P型MOSトランジスタ12のドレインは同様にし
て図1に示した内部電源intVccに接続される。P
型MOSトランジスタ11と12のソースはNCピン1
0に接続されるとともに、抵抗9を介して接地される。
P型MOSトランジスタ11のゲートに入力される制御
信号AおよびP型MOSトランジスタ12のゲートに入
力される制御信号Bは、外部から入力してもよくあるい
はアドレスキーなどのタイミング制御信号などであって
もよい。
1 is an electric circuit diagram of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the drain of P-type MOS transistor 11 is connected to external power supply extVcc shown in FIG. 11, and the drain of P-type MOS transistor 12 is similarly connected to internal power supply intVcc shown in FIG. P
Sources of type MOS transistors 11 and 12 are NC pin 1
It is connected to 0 and grounded via a resistor 9.
The control signal A input to the gate of the P-type MOS transistor 11 and the control signal B input to the gate of the P-type MOS transistor 12 may be input externally or may be timing control signals such as address keys. Good.

【0014】図2および図3は図1の動作を説明するた
めのタイミング図であり、特に、図2は外部電源レベル
モニタ時を示し、図3は内部電源モニタ時を示す。
2 and 3 are timing charts for explaining the operation of FIG. 1, particularly FIG. 2 shows an external power supply level monitor, and FIG. 3 shows an internal power supply monitor.

【0015】次に、図1に示した実施例の動作について
説明する。ストレスモードでないときには、図11で説
明したように、外部電源extVccと内部電源int
Vccとが接続されていない。図2に示すように、制御
信号Aが“L”レベルに立下がると、P型MOSトラン
ジスタ11が導通し、NCピン10には外部電源ext
Vccがそのまま出力される。逆に、図3に示すよう
に、制御信号Bが“L”レベルに立下がると、P型MO
Sトランジスタ12が導通し、NCピン10には内部電
源intVccが出力される。すなわち、ストレスモー
ドでないときに、P型MOSトランジスタ11と12が
それぞれ導通すると、NCピン10に出力される電圧は
外部電源extVccのレベルと内部電源intVcc
のレベルであり、両者に差が生じている。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be described. When not in the stress mode, as described in FIG. 11, the external power supply extVcc and the internal power supply int are used.
Not connected to Vcc. As shown in FIG. 2, when the control signal A falls to the “L” level, the P-type MOS transistor 11 becomes conductive and the NC pin 10 receives the external power supply ext.
Vcc is output as it is. On the contrary, as shown in FIG. 3, when the control signal B falls to the "L" level, the P-type MO
The S transistor 12 is turned on, and the internal power supply intVcc is output to the NC pin 10. That is, when the P-type MOS transistors 11 and 12 are turned on in the stress mode, the voltage output to the NC pin 10 is at the level of the external power supply extVcc and the internal power supply intVcc.
There is a difference between the two.

【0016】一方、ストレスモードでは、図11で説明
したように、外部電源extVccと内部電源intV
ccとが接続されているため、P型MOSトランジスタ
11と12がそれぞれ導通したときにNCピン10にそ
れぞれ出力される電圧のレベルに差を生じない。つま
り、ストレスモードでないときに、図2および図3に示
すタイミングでP型MOSトランジスタ11と12とを
導通させたときのNCピン10に出力される電圧を測定
し、差がある半導体装置をストレスモードに設定したと
き、同様にして図2および図3のタイミングでNCピン
10に出力される電圧を測定し、それぞれ差がないこと
を確認することによって、ストレスモード時に外部電源
extVccと内部電源intVccが等しくなったこ
とを確認することができる。
On the other hand, in the stress mode, as described in FIG. 11, the external power supply extVcc and the internal power supply intV are used.
Since cc is connected, there is no difference in the level of the voltage output to the NC pin 10 when the P-type MOS transistors 11 and 12 are turned on. That is, when the stress mode is not set, the voltage output to the NC pin 10 when the P-type MOS transistors 11 and 12 are turned on at the timings shown in FIGS. When the mode is set, the voltage output to the NC pin 10 is similarly measured at the timings of FIG. 2 and FIG. 3, and it is confirmed that there is no difference between them, so that the external power supply extVcc and the internal power supply intVcc are checked in the stress mode. You can see that

【0017】図4はこの発明の他の実施例の電気回路図
である。図4を参照して、n型MOSトランジスタ21
と23とが直列接続され、N型MOSトランジスタ21
のドレインには外部電源extVccが与えられ、N型
MOSトランジスタ23のソースは接地される。N型M
OSトランジスタ21のソースとN型MOSトランジス
タ23のドレインの接続点はDoutピン24に接続さ
れる。N型MOSトランジスタ22のドレインは内部電
源intVccに接続され、ソースはDoutピン24
に接続される。N型MOSトランジスタ21のゲートに
は信号RD1が与えられ、N型MOSトランジスタ22
のゲートには信号RD2が与えられ、N型MOSトラン
ジスタ23のゲートには信号/RDが与えられる。
FIG. 4 is an electric circuit diagram of another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, n-type MOS transistor 21
And 23 are connected in series, and the N-type MOS transistor 21
An external power supply extVcc is applied to the drain of, and the source of the N-type MOS transistor 23 is grounded. N type M
The connection point between the source of the OS transistor 21 and the drain of the N-type MOS transistor 23 is connected to the Dout pin 24. The drain of the N-type MOS transistor 22 is connected to the internal power supply intVcc, and the source is the Dout pin 24.
Connected to. The signal RD1 is applied to the gate of the N-type MOS transistor 21 and the N-type MOS transistor 22
A signal RD2 is applied to the gate of, and a signal / RD is applied to the gate of the N-type MOS transistor 23.

【0018】図5は図4に示した信号RD1と信号RD
2を発生する電気回路図である。図5において、伝送ゲ
ート24には読出データRDを信号RD1として出力
し、伝送ゲート25は読出データRDを信号RD2とし
て出力する。制御信号Cはアドレスキーなどのタイミン
グ信号であって、伝送ゲート24の一方の入力ゲートと
伝送ゲート25の一方の入力ゲートに与えられ、さらに
インバータ26で反転されて伝送ゲート24の他方のゲ
ートに与えられるとともに、インバータ27で反転さ
れ、伝送ゲート25の他方のゲートに与えられる。
FIG. 5 shows the signals RD1 and RD shown in FIG.
It is an electric circuit diagram which generates 2. In FIG. 5, the read data RD is output to the transmission gate 24 as the signal RD1, and the transfer gate 25 outputs the read data RD as the signal RD2. The control signal C is a timing signal such as an address key and is given to one input gate of the transmission gate 24 and one input gate of the transmission gate 25, and further inverted by the inverter 26 to the other gate of the transmission gate 24. While being given, it is inverted by the inverter 27 and given to the other gate of the transmission gate 25.

【0019】図6および図7は図4に示した実施例の動
作を説明するためのタイミング図であり、特に、図6は
外部電源レベルをモニタするときのタイミング図であ
り、図7は内部電源レベルをモニタするときのタイミン
グ図である。
6 and 7 are timing charts for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 4, particularly FIG. 6 is a timing chart for monitoring the external power supply level, and FIG. 7 is an internal chart. It is a timing diagram when monitoring a power supply level.

【0020】次に、図4および図5の動作について説明
する。図5において、制御信号Cが“H”レベルになる
と、伝送ゲート24が導通し、読出データRDが信号R
D1として出力される。この信号RD1は図4に示すN
型MOSトランジスタ21を導通させるので、Dout
ピン24にはextVcc−Vの電圧が出力される。こ
こで、電圧VはN型MOSトランジスタ21のサイズや
しきい値によって定まる値である。
Next, the operation of FIGS. 4 and 5 will be described. In FIG. 5, when the control signal C becomes "H" level, the transmission gate 24 becomes conductive and the read data RD becomes the signal R.
It is output as D1. This signal RD1 is N shown in FIG.
Type MOS transistor 21 is made conductive, Dout
A voltage of extVcc-V is output to the pin 24. Here, the voltage V is a value determined by the size of the N-type MOS transistor 21 and the threshold value.

【0021】同様にして、制御信号Cが“L”レベルに
なると、伝送ゲート25が導通し、読出データRDが信
号RD2として出力される。この信号RD2は図4に示
すN型MOSトランジスタ22を導通させるので、Do
utピン24にはintVcc−Vの電圧が出力され
る。
Similarly, when the control signal C becomes "L" level, the transmission gate 25 becomes conductive and the read data RD is output as the signal RD2. This signal RD2 turns on the N-type MOS transistor 22 shown in FIG.
A voltage of intVcc-V is output to the ut pin 24.

【0022】図4において、ストレスモードでないと
き、図6に示すように、外部からの/RAS,/CAS
が“L”レベルで/WEが“H”レベルになって読出デ
ータが出力されかつ制御信号Cが“H”レベルのときに
Doutピン24に出力される電圧を測定し、図7に示
すように、制御信号Cが“L”レベルのときにDout
ピン24に出力される電圧を測定し、差がある半導体記
憶装置をストレスモードに設定したとき、同様にして、
図6および図7のタイミングでDoutピン24に出力
される電圧を測定する。そして、差がなくなることを確
認することによって、ストレスモード時に外部電源ex
tVccと内部電源intVccとが等しくなったこと
を確認することができる。
In FIG. 4, when the stress mode is not set, as shown in FIG.
Is at the "L" level, / WE is at the "H" level, the read data is output, and the voltage output to the Dout pin 24 is measured when the control signal C is at the "H" level. As shown in FIG. Dout when the control signal C is at "L" level
When the voltage output to the pin 24 is measured and the semiconductor memory devices having the difference are set in the stress mode,
The voltage output to the Dout pin 24 is measured at the timings of FIGS. 6 and 7. Then, by confirming that there is no difference, the external power supply ex
It can be confirmed that tVcc is equal to the internal power supply intVcc.

【0023】図8はこの発明のさらに他の実施例を示す
電気回路図である。この図8に示した例は、半導体記憶
装置の入力初段回路の一例を示すものであって、P型M
OSトランジスタ31のドレインには外部電源extV
ccが与えられ、P型MOSトランジスタ32のドレイ
ンには内部電源intVccが与えられる。P型MOS
トランジスタ31のゲートには制御信号Dが与えられ、
P型MOSトランジスタ32のゲートには制御信号/D
が与えられる。制御信号D,/Dはアドレスキーなどの
タイミング制御信号などである。各P型MOSトランジ
スタ31,32の各ソースはノードN1に接続される。
外部端子EXTは初段のMOSトランジスタ33のゲー
トとN型MOSトランジスタ34のゲートとに接続さ
れ、P型MOSトランジスタ33のドレインはノードN
1に接続され、ソースはN型MOSトランジスタ34の
ドレインに接続され、N型MOSトランジスタ34のソ
ースは接地される。
FIG. 8 is an electric circuit diagram showing still another embodiment of the present invention. The example shown in FIG. 8 is an example of an input first stage circuit of a semiconductor memory device, and is a P-type M
The drain of the OS transistor 31 has an external power supply extV
The internal power supply intVcc is applied to the drain of the P-type MOS transistor 32. P-type MOS
The control signal D is given to the gate of the transistor 31,
A control signal / D is applied to the gate of the P-type MOS transistor 32.
Is given. The control signals D and / D are timing control signals such as address keys. The sources of the P-type MOS transistors 31 and 32 are connected to the node N1.
The external terminal EXT is connected to the gate of the first-stage MOS transistor 33 and the gate of the N-type MOS transistor 34, and the drain of the P-type MOS transistor 33 is the node N.
1, the source is connected to the drain of the N-type MOS transistor 34, and the source of the N-type MOS transistor 34 is grounded.

【0024】次に、動作について説明する。制御信号D
が“L”レベルであり、制御信号/Dが“H”レベルに
なると、P型MOSトランジスタ31が導通し、ノード
N1は外部電源extVccの電圧レベルになる。逆
に、制御信号Dが“H”レベルになり、制御信号/Dが
“L”レベルになると、P型MOSトランジスタ32が
導通し、ノードN1は内部電源intVccの電圧レベ
ルになる。
Next, the operation will be described. Control signal D
Is at the "L" level and the control signal / D goes to the "H" level, the P-type MOS transistor 31 becomes conductive and the node N1 attains the voltage level of the external power supply extVcc. On the contrary, when the control signal D becomes "H" level and the control signal / D becomes "L" level, the P-type MOS transistor 32 becomes conductive and the node N1 becomes the voltage level of the internal power supply intVcc.

【0025】一方、EXT端子の電圧が中間レベルにな
っていると、P型MOSトランジスタ33およびN型M
OSトランジスタ34の両方が導通し、ノードN1の電
圧が高い方がP型MOSトランジスタ33,N型MOS
トランジスタ34の出力であるノードN2は“H”レベ
ルになりやすい。すなわち、ノードN1が外部電源ex
tVccの電圧であるかあるいは内部電源intVcc
の電圧であるかによって入力初段のしきい値電圧が異な
ってくる。つまり、ストレスモードでないときに、制御
信号Dが“L”レベルであり、制御信号/Dが“H”レ
ベルのときに測定したしきい値電圧と、制御信号Dが
“H”レベルであり、制御信号/Dが“L”レベルのと
きに測定したしきい値電圧とで差がある半導体記憶装置
を、ストレスモードに設定したときに、同様に制御信号
Dが“L”レベルであり、前記信号/Dが“H”レベル
のときに測定したしきい値電圧と、制御信号Dが“H”
レベルであり、制御信号/Dが“L”レベルのときに測
定したしきい値とで差がなくなることを確認することに
よって、ストレスモード時に外部電源extVccと内
部電源intVccが等しくなったことを確認すること
ができる。
On the other hand, when the voltage at the EXT terminal is at the intermediate level, the P-type MOS transistor 33 and the N-type M
Both of the OS transistors 34 are conductive, and the higher voltage of the node N1 is the P-type MOS transistor 33 and the N-type MOS.
The node N2, which is the output of the transistor 34, tends to be at "H" level. That is, the node N1 is connected to the external power supply ex
tVcc voltage or internal power supply intVcc
The threshold voltage of the input first stage differs depending on whether or not That is, when not in the stress mode, the control signal D is at “L” level, the threshold voltage measured when the control signal / D is at “H” level, and the control signal D is at “H” level, When the semiconductor memory device having a difference with the threshold voltage measured when the control signal / D is at "L" level is set in the stress mode, the control signal D is similarly at "L" level, Threshold voltage measured when signal / D is at "H" level and control signal D is at "H"
It is a level, and it is confirmed that the external power supply extVcc and the internal power supply intVcc are equal in the stress mode by confirming that there is no difference between the threshold value measured when the control signal / D is “L” level. can do.

【0026】図9はこの発明のさらに他の実施例を示す
電気回路図である。この図9に示した実施例は、前述の
図12に示した従来の内部電源電圧発生回路に加えて、
スイッチ回路50とNANDゲート53とインバータ5
4とを含む。スイッチ回路50はP型MOSトランジス
タ51とN型MOSトランジスタ52とを含み、それぞ
れのドレインは、たとえばアドレスピンなどの外部ピン
55に接続される。NANDゲート53の一方入力端に
は信号BIEが与えられ、他方入力端にはチェック信号
CHECKが与えられる。NANDゲート53の出力は
P型MOSトランジスタ51のゲートに与えられるとと
もに、インバータ54で反転されてN型MOSトランジ
スタ52のゲートに与えられる。
FIG. 9 is an electric circuit diagram showing still another embodiment of the present invention. In addition to the conventional internal power supply voltage generating circuit shown in FIG. 12, the embodiment shown in FIG.
Switch circuit 50, NAND gate 53, and inverter 5
Including 4 and. The switch circuit 50 includes a P-type MOS transistor 51 and an N-type MOS transistor 52, and their drains are connected to an external pin 55 such as an address pin, for example. A signal BIE is applied to one input end of the NAND gate 53, and a check signal CHECK is applied to the other input end. The output of the NAND gate 53 is given to the gate of the P-type MOS transistor 51, inverted by the inverter 54, and given to the gate of the N-type MOS transistor 52.

【0027】次に、図9に示した実施例の動作について
説明する。バーンインモードに入って信号BIEが
“H”レベルに活性化されると、内部電源intVcc
はスイッチ回路9によって切換えられて外部電源ext
Vccと同一レベルになるが、特定のタイミングなどに
よってセットされるチェック信号CHECKにより、ス
イッチ回路50が動作し、内部電源intVccがスイ
ッチ回路50を介して外部ピン55に出力される。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 9 will be described. When the signal BIE is activated to "H" level in the burn-in mode, the internal power supply intVcc
Is switched by the switch circuit 9 and the external power source ext
Although at the same level as Vcc, the check signal CHECK set at a specific timing or the like causes the switch circuit 50 to operate, and the internal power supply intVcc is output to the external pin 55 via the switch circuit 50.

【0028】前述の特定のタイミングは、たとえばダイ
ナミックRAMでは、/CAS before /RA
Sなどとなるようなタイミングであってもよい。また、
外部ピン55が未使用の空ピンやいずれか特定のアドレ
スピンやクロックピンなどであってもよい。外部ピン5
5に出力されたレベルをテスタやバーンインの装置で判
定し、外部電源extVccと同一レベルであることを
確認すればよい。
The above-mentioned specific timing is, for example, / CAS before / RA in a dynamic RAM.
The timing may be S or the like. Also,
The external pin 55 may be an unused empty pin or any specific address pin or clock pin. External pin 5
The level output to 5 may be determined by a tester or burn-in device to confirm that it is at the same level as the external power supply extVcc.

【0029】図10はこの発明の他の実施例のバーンイ
ンモード確認手段の電気回路図である。この図10に示
した実施例は、バーンインモードに入ったときに活性化
される信号BIEを利用して特定の外部ピン40をリー
クさせるものである。このために、外部ピン40と接地
間にN型MOSトランジスタ41〜44が直列接続さ
れ、N型MOSトランジスタ44のゲートに信号BIE
が与えられる。信号BIEが活性化されて“H”レベル
になると、N型MOSトランジスタ44が導通し、N型
MOSトランジスタ41,42,43のそれぞれのしき
い値の和以上の電圧が外部ピン40に加わることによ
り、リーク電流が生じる。厳密には、内部電圧レベルの
チェックにはならないが、正常に信号BIEが出力され
ていることのチェックをすることができる。
FIG. 10 is an electric circuit diagram of burn-in mode confirmation means according to another embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 10 utilizes a signal BIE activated when the burn-in mode is entered to leak a specific external pin 40. Therefore, N-type MOS transistors 41 to 44 are connected in series between the external pin 40 and the ground, and the signal BIE is applied to the gate of the N-type MOS transistor 44.
Is given. When the signal BIE is activated and becomes "H" level, the N-type MOS transistor 44 becomes conductive and a voltage equal to or higher than the sum of the threshold values of the N-type MOS transistors 41, 42 and 43 is applied to the external pin 40. This causes a leak current. Strictly speaking, the internal voltage level is not checked, but it can be checked that the signal BIE is normally output.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、スト
レスモード時に、外部電源電圧と内部電源電圧が等しく
なっていることを確認することができるので、バーンイ
ン時に内部電源電圧が何Vになっているかを正確に知る
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to confirm that the external power supply voltage is equal to the internal power supply voltage in the stress mode. You can know exactly what is going on.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例によるストレスモード確認
手段の電気回路図である。
FIG. 1 is an electric circuit diagram of a stress mode confirmation means according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1における外部電源電圧測定タイミングを示
す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an external power supply voltage measurement timing in FIG.

【図3】図1における内部電源電圧測定タイミングを示
す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an internal power supply voltage measurement timing in FIG.

【図4】この発明の他の実施例によるストレスモード確
認手段の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of stress mode confirmation means according to another embodiment of the present invention.

【図5】図4における入力信号制御回路を示す電気回路
図である。
5 is an electric circuit diagram showing an input signal control circuit in FIG.

【図6】図4における外部電源電圧測定タイミングを示
す図でる。
FIG. 6 is a diagram showing external power supply voltage measurement timing in FIG.

【図7】図4における内部電源電圧測定タイミングを示
す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an internal power supply voltage measurement timing in FIG.

【図8】この発明のさらに他の実施例によるストレスモ
ード確認手段の電気回路図である。
FIG. 8 is an electric circuit diagram of a stress mode confirmation means according to still another embodiment of the present invention.

【図9】この発明の他の実施例の内部電源降圧回路の一
例を示す電気回路図である。
FIG. 9 is an electric circuit diagram showing an example of an internal power supply voltage down circuit according to another embodiment of the present invention.

【図10】この発明のさらに他の実施例を示すバーンイ
ンモード確認手段の電気回路図である。
FIG. 10 is an electric circuit diagram of burn-in mode confirmation means showing still another embodiment of the present invention.

【図11】従来の内部電源降圧回路の一例を示す電気回
路図である。
FIG. 11 is an electric circuit diagram showing an example of a conventional internal power supply voltage step-down circuit.

【図12】従来のバーンインモードを有する内部電源降
圧回路の一例を示す電気回路図である。
FIG. 12 is an electric circuit diagram showing an example of a conventional internal power supply voltage down circuit having a burn-in mode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,11,12,31,32,33 P型MOSト
ランジスタ 4 差動増幅回路 5,21,22,23,34,52 N型MOSトラン
ジスタ 6,26,27,54 インバータ 53 NANDゲート
1, 2, 11, 12, 31, 32, 33 P-type MOS transistor 4 Differential amplifier circuit 5, 21, 22, 23, 34, 52 N-type MOS transistor 6, 26, 27, 54 Inverter 53 NAND gate

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部で電源電圧を降圧し、欠陥を内在し
ているチップを選別するための連続動作試験用に、内部
電源電圧と外部電源電圧とを等しくするモードを有する
半導体記憶装置において、 前記モードになったことを前記半導体記憶装置の外部か
ら電気的に確認可能な手段を設けたことを特徴とする、
バーンインモード確認手段を有する半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device having a mode in which an internal power supply voltage is made equal to an external power supply voltage for a continuous operation test for internally lowering a power supply voltage and selecting a chip having a defect therein, A means for electrically confirming that the mode has been entered from outside the semiconductor memory device,
Semiconductor memory device having burn-in mode confirmation means.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6501691B2 (en) 2000-01-26 2002-12-31 Fujitsu Limited Word-line deficiency detection method for semiconductor memory device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02116080A (en) * 1988-10-25 1990-04-27 Nec Corp Semiconductor memory
JPH02177194A (en) * 1988-12-28 1990-07-10 Mitsubishi Electric Corp dynamic random access memory device
JPH0419900A (en) * 1990-05-14 1992-01-23 Mitsubishi Electric Corp semiconductor equipment

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02116080A (en) * 1988-10-25 1990-04-27 Nec Corp Semiconductor memory
JPH02177194A (en) * 1988-12-28 1990-07-10 Mitsubishi Electric Corp dynamic random access memory device
JPH0419900A (en) * 1990-05-14 1992-01-23 Mitsubishi Electric Corp semiconductor equipment

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6501691B2 (en) 2000-01-26 2002-12-31 Fujitsu Limited Word-line deficiency detection method for semiconductor memory device
US6839293B2 (en) 2000-01-26 2005-01-04 Fujitsu Limited Word-line deficiency detection method for semiconductor memory device

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Effective date: 19970715