JPH06174785A - Thermostatic test equipment for ic device - Google Patents
Thermostatic test equipment for ic deviceInfo
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- JPH06174785A JPH06174785A JP4343607A JP34360792A JPH06174785A JP H06174785 A JPH06174785 A JP H06174785A JP 4343607 A JP4343607 A JP 4343607A JP 34360792 A JP34360792 A JP 34360792A JP H06174785 A JPH06174785 A JP H06174785A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 大型の恒温槽の内部を均一な温度に保ち、サ
ブ基板に搭載した全てのデバイスを等しい温度条件下で
試験・測定できるようにすること。
【構成】 恒温槽10の内部を、区画壁52〜55で仕
切ることによって、アンローダ部1の部位を槽外から搬
入されるサブ基板6に搭載したデバイスを試験・測定温
度となるように加熱乃至冷却する恒温化熱処理チャンバ
C1とし、また上流側試験測定部2を第1試験チャンバ
C2、待機部3を待機チャンバC3、下流側試験測定部
4を第2試験チャンバC4とし、さらにアンローダ部1
が配置され、テスト済のサブ基板6を搬出するために、
このサブ基板6をできるだけ常温に近い状態に戻すため
の常温化熱処理チャンバC5とに分けて、各チャンバC
1〜C5には、それぞれ個別的に温度管理を行う。
(57) [Summary] (Correction) [Purpose] To maintain a uniform temperature inside a large temperature chamber so that all devices mounted on a sub-board can be tested and measured under the same temperature conditions. [Structure] By partitioning the interior of the thermostatic chamber 10 with partition walls 52 to 55, the device mounted on the sub-board 6 that is loaded from the outside of the chamber at the portion of the unloader unit 1 is heated to a test / measurement temperature. A constant temperature heat treatment chamber C1 to be cooled is used, the upstream side test measurement unit 2 is a first test chamber C2, the standby unit 3 is a standby chamber C3, the downstream test measurement unit 4 is a second test chamber C4, and the unloader unit 1 is further used.
Is placed, in order to carry out the tested sub-board 6,
The sub-substrate 6 is divided into a room temperature heat treatment chamber C5 for returning the room temperature to a room temperature as close as possible, and each chamber C
Temperature control is individually performed for each of 1 to C5.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ICデバイスを水平搬
送させる間に、ICテスタのテストヘッドに接続して、
その電気的特性の試験・測定を行うためのICデバイス
の試験装置であって、特にICデバイスを所定の温度条
件下でテストするための恒温試験装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention connects to a test head of an IC tester during horizontal transportation of an IC device,
The present invention relates to an IC device test apparatus for testing and measuring its electrical characteristics, and more particularly to a constant temperature test apparatus for testing an IC device under a predetermined temperature condition.
【0002】[0002]
【従来の技術】ICデバイスの試験装置としては、IC
テスタと、このICテスタのテストヘッドにデバイスを
供給したり、テスト終了後のデバイスを収納したりする
ためのデバイス移送機構とから構成されるものであっ
て、デバイス移送機構は、ローダ部と、試験測定部と、
アンローダ部とを備え、ローダ部から送り出したICデ
バイスを試験測定部において、ICテスタのテストヘッ
ドに接続して、デバイスに通電することによりその電気
的特性の試験・測定を行って、アンローダ部に排出する
ように構成されている。2. Description of the Related Art IC is used as an IC device testing apparatus.
The tester includes a tester and a device transfer mechanism for supplying the device to the test head of the IC tester and storing the device after the test is completed. The device transfer mechanism includes a loader section and a loader section. A test and measurement section,
An unloader section is provided, and the IC device sent from the loader section is connected to the test head of the IC tester in the test measurement section, and the device is energized to test and measure the electrical characteristics of the IC device. It is configured to discharge.
【0003】デバイス移送機構におけるデバイスの搬送
方式としては、自重滑走方式と強制搬送方式とがあり、
強制搬送方式は、自重滑走に適さない形状のデバイスを
取り扱うのに用いられるものであって、搬送路は一般に
水平方向に設けられる。デバイスは治具に載置させて、
コンベアその他適宜の駆動手段によって、ローダ部から
試験測定部に、また試験測定部からアンローダ部に搬送
するようにしている。ここで、デバイスを載置する治具
として搬送専用のものを用いると、試験測定部におい
て、デバイスを治具からテストヘッドのソケットに移し
替えなければならないという不都合があることから、多
数のソケットとテストヘッドへの接続コンタクト部とを
備えたサブ基板を用い、このサブ基板の各ソケットにデ
バイスを搭載させて搬送して、試験測定部においては、
サブ基板をテストヘッドに接続するようにしたものが開
発されている。このようにすれば、多数のデバイスを、
移し替え等の作業を必要とすることなく同時にテストヘ
ッドに接離できるようになることから、試験・測定の高
速化が図れる等の利点がある。There are a self-weighted sliding system and a forced transportation system as the device transportation system in the device transfer mechanism.
The forced transfer method is used to handle a device having a shape that is not suitable for sliding by its own weight, and the transfer path is generally provided in the horizontal direction. Put the device on the jig,
Conveyors and other appropriate driving means convey the loader section to the test measuring section and the test measuring section to the unloader section. Here, if a jig dedicated to transportation is used as a jig for mounting the device, there is a disadvantage that the device has to be transferred from the jig to the socket of the test head in the test measurement unit. Using a sub-board with a connection contact part to the test head, the device is mounted in each socket of this sub-board and transported, and in the test measurement section,
A sub-board that has been connected to a test head has been developed. In this way, a large number of devices
Since it becomes possible to contact and separate from the test head at the same time without the need for transferring or the like, there is an advantage that the speed of the test / measurement can be achieved.
【0004】ここで、ICデバイスは、常温状態でテス
トするだけでなく、80°〜150℃程度の高温や、−
30℃〜−50℃といった低温の各条件下の範囲でテス
トを行う必要もある。このために、ICデバイスを設定
温度条件となるように熱処理するために、恒温槽が設け
られ、この恒温槽内において、サブ基板に搭載されてい
るデバイスをテスト温度に加熱乃至冷却して、設定温度
条件を維持した状態で通電テストが行われる。Here, the IC device is not only tested at room temperature but also at a high temperature of about 80 ° to 150 ° C.
It is also necessary to perform the test under each condition of low temperature such as 30 ° C to -50 ° C. Therefore, a constant temperature bath is provided to heat the IC device so that the temperature of the IC device is set to a preset temperature condition. In this constant temperature bath, the device mounted on the sub-board is heated or cooled to a test temperature and set. The energization test is performed while maintaining the temperature condition.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、デバイスの
試験・測定をより大量に、しかも効率的に行うには、サ
ブ基板の面積を広くして、より多くの数のソケットを設
け、テストヘッドのコンタクト部も多数設け、また試験
測定部をサブ基板の搬送方向に複数個所設けるように構
成すれば良い。ただし、サブ基板の面積を広くし、かつ
試験測定部を多数設けると、それだけ恒温槽が大型化す
ることになる。このような大型の恒温槽を用いると、そ
の内部温度を隈なく均一な状態に保持するのは、極めて
困難であるという問題点がある。By the way, in order to test and measure a device in a large amount and efficiently, the area of the sub-board is widened and a larger number of sockets are provided so that the test head A large number of contact portions may be provided, and a plurality of test and measurement portions may be provided in the sub-substrate carrying direction. However, if the area of the sub-board is widened and a large number of test and measurement parts are provided, the thermostat becomes larger accordingly. When such a large-sized constant temperature bath is used, it is extremely difficult to keep the internal temperature of the bath in a uniform state.
【0006】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、恒温槽内の全てのデ
バイスを均一な温度条件下で試験・測定できるようにす
ることにある。The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to make it possible to test and measure all devices in a constant temperature bath under uniform temperature conditions. .
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、ICデバイスを搭載するソケットを
多数配置したサブ基板を、所定の温度条件となるように
熱処理した状態で、ローダ部から1枚ずつ取り出して水
平搬送して、この搬送経路に沿って複数個所設けた試験
測定部に設けたテストヘッドのそれぞれに接続させて、
その電気的特性の試験・測定を行った後に、アンローダ
部に排出するようにしたICデバイスの恒温試験装置で
あって、前記各部の間には、サブ基板移行用の開口を形
成した隔壁により区画形成したチャンバをそれぞれ形成
し、これら各チャンバには、前記隔壁に沿う方向に空気
循環流を流通させる構成としたことをその特徴とするも
のである。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a loader in which a sub-board on which a large number of sockets for mounting IC devices are arranged is heat-treated under a predetermined temperature condition. One by one from the unit, horizontally transported, and connected to each of the test heads provided in the test measurement unit provided at a plurality of locations along this transportation path,
A constant temperature test apparatus for an IC device, which is configured to discharge to an unloader section after the electrical characteristics are tested and measured, and a partition formed with an opening for transferring a sub-board between the sections. Each of the formed chambers is formed, and an air circulation flow is made to flow through each of the chambers in the direction along the partition wall.
【0008】[0008]
【作用】恒温槽内において、それぞれ機能上から、ロー
ダ部,試験測定部及びアンローダ部に、また複数設けた
試験測定部間に待機部が設けられている場合には、この
待機部をも含めて、各部間を、その内部構成部材の配置
等を考慮して、複数の区画に分けるために隔壁を設け
る。ただし、各部間にサブ基板を移行させなければなら
ないことから、サブ基板を通過させるのに必要最小限の
開口を形成する。これによって、大型の恒温槽内を複数
の小さいチャンバに分けることができる。このように小
さなチャンバに分割すると、各チャンバ内での温度管理
は容易になり、厳格な温度管理が可能となる。In the thermostatic chamber, from the viewpoint of function, the loader section, the test measurement section and the unloader section, and when a standby section is provided between a plurality of test measurement sections, this standby section is also included. Then, partition walls are provided to divide each unit into a plurality of sections in consideration of the arrangement of the internal constituent members. However, since it is necessary to move the sub-board between the respective parts, the minimum opening necessary for passing the sub-board is formed. As a result, the inside of the large-sized constant temperature bath can be divided into a plurality of small chambers. When the chamber is divided into such small chambers, temperature control in each chamber becomes easy and strict temperature control becomes possible.
【0009】各チャンバ内をそれぞれ個別的に熱処理を
行う。この熱処理は熱源からの空気循環流をチャンバ内
に循環させることにより行う。而して、この空気循環流
は各チャンバに区画形成する隔壁に沿う方向に流通させ
る。これによって、各チャンバ全体が均一な温度条件に
保持できると共に、各チャンバはそれぞれ独立に温度管
理が可能となり、一のチャンバの空気循環流が他方のチ
ャンバに影響を及ぼすことはなく、各チャンバは個別的
に、それぞれの機能に応じて微細に制御ができるように
なり、均一な温度でICデバイスの試験・測定を行うこ
とができる。Heat treatment is individually performed in each chamber. This heat treatment is performed by circulating an air circulation flow from a heat source in the chamber. Thus, this air circulation flow is made to circulate in the direction along the partition wall that forms a partition in each chamber. As a result, the temperature of each chamber can be kept uniform, and the temperature of each chamber can be controlled independently, so that the air circulation flow of one chamber does not affect the other chamber. It becomes possible to finely control individually according to each function, and it is possible to test / measure the IC device at a uniform temperature.
【0010】[0010]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。まず、図1において、1はローダ部、2は
上流側試験測定部、3は待機部、4は下流側試験測定
部、5はアンローダ部をそれぞれ示す。ローダ部1は、
ロード位置1aと恒温化熱処理部1bとからなり、恒温
化熱処理部1bには多数のサブ基板6が段積みに配置さ
れており、ロード位置1aはその下部に位置し、恒温化
熱処理部1bからサブ基板6が順次1枚ずつロード位置
1aに供給されるようになっている。また、アンローダ
部5はアンロード位置5aと、このアンロード位置5a
の上部に形成されている常温化熱処理部5bとからな
り、このアンローダ部5に送り込まれた試験・測定が終
了したサブ基板6は常温化熱処理部5bに順次押し上げ
るようになっている。さらに、上流側及び下流側の試験
測定部2及び4には、その下部位置にICテスタのテス
トヘッド7,8が配置されており、サブ基板6は、ロー
ダ部1からアンローダ部5に至るサブ基板6の搬送経路
に臨む搬送位置2a,4aと、テストヘッド7に接続さ
れるテスト位置2b,4bとの間に変位可能となってい
る。以上のように構成されるサブ基板6の搬送経路にお
いては、ローダ部1,上流側試験測定部2,待機部3,
下流側試験測定部4及びアンローダ部5のそれぞれの位
置にサブ基板6を配置した時には、相隣接する各サブ基
板6間の間隔は全て一定となるように設定されている。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. First, in FIG. 1, 1 is a loader unit, 2 is an upstream test measuring unit, 3 is a standby unit, 4 is a downstream test measuring unit, and 5 is an unloader unit. The loader unit 1 is
It is composed of a load position 1a and a constant temperature heat treatment section 1b, and a large number of sub-boards 6 are arranged in a stack in the constant temperature heat treatment section 1b. The load position 1a is located at the lower part of the constant temperature heat treatment section 1b. The sub substrates 6 are sequentially supplied one by one to the load position 1a. Further, the unloader unit 5 has an unloading position 5a and an unloading position 5a.
The sub-substrate 6 which is made up of the normal temperature heat treatment section 5b formed on the upper part of the substrate and which has been subjected to the test and measurement and sent to the unloader section 5 is sequentially pushed up to the normal temperature heat treatment section 5b. Further, the test heads 7 and 8 of the IC tester are arranged at the lower positions of the upstream and downstream test measurement units 2 and 4, and the sub-board 6 is connected to the sub-boards from the loader unit 1 to the unloader unit 5. It is displaceable between the transfer positions 2a and 4a facing the transfer path of the substrate 6 and the test positions 2b and 4b connected to the test head 7. In the transport path of the sub-board 6 configured as described above, the loader unit 1, the upstream side test measurement unit 2, the standby unit 3,
When the sub-boards 6 are arranged at the respective positions of the downstream side test measurement section 4 and the unloader section 5, the intervals between the adjacent sub-boards 6 are all set to be constant.
【0011】ここで、サブ基板6は、図2に示したよう
に、ベースプレート6aと、このベースプレート6aに
装着した多数のソケット6bとを有し、またベースプレ
ート6aにおけるソケット6bの装着部とは反対側の面
にはテストヘッド7,8のコンタクト部に接続可能な端
子ピン(図示せず)が所要数突設されている。デバイス
Dは各ソケット6bに、所定の位置に位置決めされた状
態にして搭載されている。このサブ基板6の前後の位置
に、それをテストヘッド7,8に接続する際に、このテ
ストヘッド7,8に設けた位置決めピン7a,8aに嵌
入させることによって、その位置決めを行う等のため
に、透孔6c,6dが穿設されている。また、このサブ
基板6は長方形となっており、その短辺が搬送方向の前
後に向くようにして搬送経路に沿って搬送されるように
なっている。As shown in FIG. 2, the sub-board 6 has a base plate 6a and a large number of sockets 6b mounted on the base plate 6a, and is opposite to the mounting portion of the socket 6b on the base plate 6a. A required number of terminal pins (not shown) connectable to the contact portions of the test heads 7 and 8 are provided on the side surface. The device D is mounted in each socket 6b while being positioned at a predetermined position. For connecting the test heads 7 and 8 to the front and rear positions of the sub-board 6 by fitting the positioning pins 7a and 8a provided on the test heads 7 and 8 to perform the positioning. Through holes 6c and 6d are formed in the. The sub-board 6 has a rectangular shape, and is transported along the transport path with its short sides facing forward and backward in the transport direction.
【0012】ICデバイスの試験装置は概略以上のよう
に構成されるが、この装置では、ICデバイスDを高温
または低温にして試験・測定するためのものであり、ロ
ーダ部1,上流側試験測定部2,待機部3,下流側試験
測定部4及びアンローダ部5は、所定の恒温状態に保持
されている恒温槽10内に設けられている。The IC device testing apparatus is constructed as described above. This apparatus is for testing and measuring the IC device D at a high temperature or a low temperature. The loader section 1 and the upstream side test measurement. The unit 2, the standby unit 3, the downstream side test measuring unit 4 and the unloader unit 5 are provided in a constant temperature bath 10 which is kept in a predetermined constant temperature state.
【0013】ローダ部1から上流側測定部2に、上流側
測定部2から待機部3にサブ基板6を移行させるため
に、第1の送り手段11が設けられており、また待機部
3から下流側試験測定部4に、下流側試験測定部4から
アンローダ部5にサブ基板6を移行させるために、第2
の送り手段12が設けられている。そこで、以下に送り
手段11,12の構成について、図3乃至図6を参照し
て説明するが、これら2つの送り手段11,12は全く
同一の構造のものであるから、第1の送り手段11につ
いて説明し、第2の送り手段12の各構成部材について
は、同一の符号を用い、その具体的な説明を省略する。A first feeding means 11 is provided for transferring the sub-board 6 from the loader unit 1 to the upstream measuring unit 2 and from the upstream measuring unit 2 to the standby unit 3, and from the standby unit 3. In order to transfer the sub-board 6 from the downstream side test measurement section 4 to the unloader section 5 in the downstream side test measurement section 4,
The feeding means 12 is provided. Therefore, the configuration of the feeding means 11 and 12 will be described below with reference to FIGS. 3 to 6. However, since the two feeding means 11 and 12 have exactly the same structure, the first feeding means will be described. 11, the same reference numerals will be used for the respective constituent members of the second feeding means 12, and a detailed description thereof will be omitted.
【0014】而して、20はアームであって、このアー
ム20には、搬送経路における相隣接するサブ基板6,
6間の間隔に相当する間隔だけ離間させた位置に一対の
係合ピン21,22が垂設されており、これら各係合ピ
ン21,22は、それぞれ搬送方向の上流側に位置する
サブ基板6の前方側の透孔6cと、下流側に位置するサ
ブ基板6の後方側の透孔6dとにそれぞれ係合させるこ
とができるようになっている。そして、この係合ピン2
1,22を透孔6c,6dに挿嵌させた状態で、アーム
20を搬送経路の搬送方向に所定の距離だけ移動させ
て、透孔6c,6dから離脱させることによって、各サ
ブ基板6を1ピッチ送ることができるようになる。Reference numeral 20 denotes an arm, and the arm 20 has sub-boards 6 adjacent to each other in the transfer path.
A pair of engagement pins 21 and 22 are vertically provided at positions separated by a distance corresponding to the distance between the six sub-boards. These engagement pins 21 and 22 are located on the upstream side in the transport direction. The through hole 6c on the front side of 6 and the through hole 6d on the rear side of the sub-board 6 located on the downstream side can be engaged with each other. And this engagement pin 2
With each of the sub-boards 6 and 6 inserted into the through holes 6c and 6d, the arm 20 is moved in the carrying direction of the carrying path by a predetermined distance to be separated from the through holes 6c and 6d. You will be able to send one pitch.
【0015】アーム20は、下降,前進,上昇,後退を
1サイクルとする矩形運動を行うことによって、2枚の
サブ基板6を1ピッチずつ搬送するようになっている。
この矩形運動を可能ならしめるために、昇降機構及び水
平駆動機構を備えている。ここで、これら昇降機構及び
水平駆動機構により行われる第1の送り手段11のアー
ム20と第2の送り手段12のアーム20とは、同期し
た状態で作動して、最大限4枚のサブ基板6を同時にピ
ッチ送りするように制御される。The arm 20 carries out a rectangular motion in which one cycle includes descending, advancing, ascending, and retracting, so that the two sub-boards 6 are conveyed one pitch at a time.
An elevating mechanism and a horizontal driving mechanism are provided to enable this rectangular movement. Here, the arm 20 of the first feeding means 11 and the arm 20 of the second feeding means 12 which are operated by the lifting mechanism and the horizontal driving mechanism operate in a synchronized state, and a maximum of four sub-boards are provided. It is controlled so as to pitch 6 simultaneously.
【0016】アーム20は昇降機構を構成する昇降ブロ
ック23に取り付けられており、この昇降ブロック23
はロッド24に連結されている。ロッド24は軸受部材
25を貫通して上方に延在しており、その先端部にはコ
字状に形成した昇降駆動レール26に係合するガイドロ
ーラ27が取り付けられている。昇降駆動レール26
は、アーム20の水平方向への移動距離より長い寸法を
有し、その両端には、平行四辺形リンク機構部28a,
28bが連結されており、この平行四辺形リンクによっ
て、上下動させるようになっている。そして、この昇降
駆動レール26を上下動させるために、その中間位置に
は連結バー29が枢着されており、この連結バー29は
モータ30に連結したレバー31に連結されている。従
って、モータ30を作動させると、昇降駆動レール26
が下降して、ガイドローラ27と、このガイドローラ2
7に連結したロッド24が押し下げられて、アーム20
を下降させることができるようになっている。ここで、
モータ30は恒温槽10の外部に設けられており、その
出力軸30aが恒温槽10の壁を貫通して槽内に延びて
いる。The arm 20 is attached to an elevating block 23 which constitutes an elevating mechanism.
Is connected to the rod 24. The rod 24 penetrates through the bearing member 25 and extends upward, and a guide roller 27 that engages with an up-and-down drive rail 26 formed in a U shape is attached to a tip end portion thereof. Lifting drive rail 26
Has a dimension longer than the moving distance of the arm 20 in the horizontal direction, and has parallelogram linkage mechanism 28a,
28b are connected to each other and can be moved up and down by this parallelogram link. A connecting bar 29 is pivotally mounted at an intermediate position for vertically moving the elevating drive rail 26, and the connecting bar 29 is connected to a lever 31 connected to a motor 30. Therefore, when the motor 30 is operated, the lifting drive rail 26
Is lowered, and the guide roller 27 and the guide roller 2
The rod 24 connected to 7 is pushed down and the arm 20
Can be lowered. here,
The motor 30 is provided outside the constant temperature bath 10, and its output shaft 30 a penetrates the wall of the constant temperature bath 10 and extends into the bath.
【0017】このように、アーム20を下降させること
によって、係合ピン21は前方に位置するサブ基板6の
後方側の透孔6dに係合し、また係合ピン22が後方に
位置する前方側の透孔6cに係合することになる。一
方、アーム20が上昇すると、係合ピン21,22とサ
ブ基板6との係合が解除される。As described above, by lowering the arm 20, the engaging pin 21 engages with the rear through hole 6d of the sub-board 6 located at the front side, and the engaging pin 22 moves forward at the rear position. It will be engaged with the through hole 6c on the side. On the other hand, when the arm 20 moves up, the engagement between the engagement pins 21 and 22 and the sub-board 6 is released.
【0018】また、アーム20の水平駆動機構としては
ベルト駆動手段が用いられる。このベルト駆動手段は、
一対からなるプーリ32,33間に、耐熱性の良好な金
属帯片からなる金属ベルト34を巻回して設けている。
そして、この金属ベルト34に軸受部材25を連結し
て、金属ベルト34を送ることによって、アーム20を
前後方向に移動させるようになっている。また、このア
ーム20の移動時に、軸受部材25をガイドするため
に、恒温槽10の内壁にはスライドレール35の取付部
材35aが固着されており、スライドレール35に軸受
部材25に連結したスライド部材36が係合している。Belt drive means is used as a horizontal drive mechanism for the arm 20. This belt drive means
A metal belt 34 made of a metal strip having good heat resistance is wound around the pair of pulleys 32, 33.
Then, the bearing member 25 is connected to the metal belt 34 and the metal belt 34 is fed to move the arm 20 in the front-rear direction. Further, in order to guide the bearing member 25 when the arm 20 moves, an attachment member 35a of a slide rail 35 is fixed to the inner wall of the constant temperature bath 10, and a slide member connected to the bearing member 25 is attached to the slide rail 35. 36 is engaged.
【0019】プーリ32,33の軸32a,33aは恒
温槽10の壁を貫通して外部に導出されており、この軸
32a,33aの他端には、プーリ37,38が取り付
けられている。そして、このプーリ37,38間にもベ
ルト39が巻回して設けられており、このベルト39に
はロッドレスシリンダ40の従動側部材40aに連結さ
れている。従って、ロッドレスシリンダ40のストロー
クをアーム20の前後動ストロークと一致させておけ
ば、格別センサ等を設けなくとも、アーム20を正確に
前後動させることができる。ここで、第1の送り手段1
1と第2の送り手段12とは、構成自体は全く同じもの
であるが、アーム20の向きは反対方向となっている。Shafts 32a and 33a of the pulleys 32 and 33 extend through the wall of the constant temperature bath 10 to the outside, and pulleys 37 and 38 are attached to the other ends of the shafts 32a and 33a. A belt 39 is also wound around the pulleys 37 and 38, and the belt 39 is connected to a driven side member 40 a of a rodless cylinder 40. Therefore, if the stroke of the rodless cylinder 40 is matched with the stroke of the arm 20 moving back and forth, the arm 20 can be accurately moved back and forth without providing a special sensor or the like. Here, the first feeding means 1
The first and second feeding means 12 have exactly the same configuration, but the arms 20 are oriented in opposite directions.
【0020】次に、サブ基板6の搬送経路について、図
7に基づいて説明する。ここで、サブ基板6は、その裏
面側に電極ピンが突出する状態に設けられているから、
その左右の両側部をガイドして搬送するようになってい
る。そして、ローダ部1では、それぞれ恒温化熱処理部
部1bからロード位置1aにサブ基板6を落とし込み、
またアンローダ部5ではアンロード位置5aから常温化
熱処理部5bに向けてサブ基板6を押し上げることか
ら、そのガイドレール41は、搬送経路の左右両側部に
相対向させて設けた一対のL字レール41aを有し、こ
のL字レール41a,41aにおける水平面の部位にサ
ブ基板6の左右両側の下面を摺接させるようにしてい
る。ローダ部1から上流側試験測定部2への移行部,上
流側試験測定部2から待機部3までの部位及び下流側試
験測定部4からアンローダ部5への移行部には、その上
方を開放しなければならないという条件はないから、移
動の安定性を図るためには、ガイドレール42は、コ字
レール42aで形成しても良く、また前述のローダ部
2,アンローダ部4におけるL字レール41aからなる
ガイドレール41を用いるようにしても良い。Next, the transfer path of the sub-board 6 will be described with reference to FIG. Here, since the sub-board 6 is provided with the electrode pins protruding on the back surface side thereof,
The left and right sides are guided and conveyed. Then, in the loader unit 1, the sub-board 6 is dropped from the constant temperature heat treatment unit 1b to the loading position 1a,
Further, in the unloader unit 5, the sub-board 6 is pushed up from the unloading position 5a toward the room temperature heat treatment unit 5b, so that the guide rails 41 thereof are provided on the left and right sides of the transfer path so as to face each other. 41a, and the lower surfaces on the left and right sides of the sub-board 6 are brought into sliding contact with the horizontal plane portions of the L-shaped rails 41a, 41a. The upper part is opened to the transition part from the loader part 1 to the upstream side test measurement part 2, the part from the upstream side test measurement part 2 to the standby part 3 and the transition part from the downstream side test measurement part 4 to the unloader part 5. Since there is no requirement that the guide rail 42 be formed, the guide rail 42 may be formed by a U-shaped rail 42a in order to ensure stability of movement, and the L-shaped rail in the loader section 2 and the unloader section 4 described above may be formed. You may make it use the guide rail 41 which consists of 41a.
【0021】これに対して、上流側及び下流側の各試験
測定部2,4の位置には第1のガイドレール43と第2
のガイドレール44とが設けられており、これら2組の
ガイドレール43,44は、第1のガイドレール43を
下方に位置させた状態にして、上下に配設されている。
なお、上流側及び下流側の各試験測定部2,4は同じ構
成となっているので、図面においては上流側試験測定部
2を示し、下流側試験測定部4については、その図示及
び説明は省略する。第1のガイドレール43は、サブ基
板6の搬送経路として機能するだけでなく、テストヘッ
ド7,8に接離させる機能をも発揮するようになってお
り、このために、この第1のガイドレール43は左右一
対のコ字レール43aを有し、サブ基板6の左右両側部
をこのコ字レール43aによって挟み込ませるようにし
て、上下方向への動きを規制できるようになっている。
一方、第2のガイドレール44は搬送経路としてのみの
機能を発揮するものであるから、L字レール44aを備
える構成となっている。On the other hand, the first guide rail 43 and the second guide rail 43 are provided at the positions of the upstream and downstream test measuring sections 2 and 4, respectively.
Guide rails 44 and the two guide rails 43 and 44 are arranged vertically with the first guide rail 43 positioned below.
Since the upstream and downstream test measurement units 2 and 4 have the same configuration, the upstream test measurement unit 2 is shown in the drawings, and the downstream test measurement unit 4 is not illustrated and described. Omit it. The first guide rail 43 not only functions as a transfer path for the sub-board 6, but also has a function of bringing the test heads 7 and 8 into and out of contact with each other. The rail 43 has a pair of left and right U-shaped rails 43a, and the left and right side portions of the sub-board 6 are sandwiched by the U-shaped rails 43a so that the vertical movement of the rails 43 can be restricted.
On the other hand, the second guide rail 44 has a configuration including the L-shaped rail 44a because it functions only as a conveyance path.
【0022】ここで、第1のガイドレール43と第2の
ガイドレール44とは昇降手段によって、一体的に上下
動して、第1のガイドレール43が搬送経路に臨み、第
2のガイドレール44はこの搬送経路より上方に位置す
る位置と、両ガイドレール43,44が下降して、第1
のガイドレール43によってサブ基板6をテストヘッド
7,8に接続し、第2のガイドレール44が搬送経路に
臨む位置との間に変位させるようになっている。このた
めに、第1,第2のガイドレール43,44はそれぞれ
保持板43b,44bに固定して設けられており、この
保持板43b,44b間は搬送経路とテストヘッドとの
高さの差に相当する間隔となるように保持するためのス
ペーサロッド45が架設されている。また保持板44b
には上下動ロッド46,46が連結されており、この上
下動ロッド46はスライドレール35の取付板35aに
固着して設けた軸受部材47に挿嵌されている。上下動
ロッド46の上端部には作動板48が連結されており、
この作動板48にはラック49が取り付けられている。
このラック49には駆動ギヤ50が噛合しており、この
駆動ギヤ50は、恒温槽10の外部に設けたモータ51
により駆動されるようになっている。なお、この作動板
48の昇降駆動手段としては、前述のものの他、例えば
シリンダ等を用いることもできる。Here, the first guide rail 43 and the second guide rail 44 are integrally moved up and down by the elevating means so that the first guide rail 43 faces the conveyance path, and the second guide rail. A position 44 is located above the transport path, and both guide rails 43 and 44 are lowered to move the first guide rail 43.
The sub-board 6 is connected to the test heads 7 and 8 by the guide rail 43, and is displaced between the second guide rail 44 and the position facing the transport path. Therefore, the first and second guide rails 43 and 44 are fixedly provided to the holding plates 43b and 44b, respectively, and the height difference between the conveying path and the test head is provided between the holding plates 43b and 44b. A spacer rod 45 is installed to hold the spacer rod 45 at a distance corresponding to. Also, the holding plate 44b
Vertical movement rods 46, 46 are connected to the vertical movement rod 46, and the vertical movement rod 46 is fitted into a bearing member 47 fixedly provided on a mounting plate 35 a of the slide rail 35. An operating plate 48 is connected to the upper end of the vertically moving rod 46,
A rack 49 is attached to the operating plate 48.
A drive gear 50 meshes with the rack 49, and the drive gear 50 is a motor 51 provided outside the constant temperature bath 10.
It is designed to be driven by. In addition to the above-mentioned means, for example, a cylinder or the like can be used as the raising and lowering drive means for the operating plate 48.
【0023】以上のように構成することによって、上流
側及び下流側の試験測定部2,4において、第1のガイ
ドレール43をテスト位置2a,4aまで下降させるこ
とによって、サブ基板6をテストヘッド7,8に接続し
て、それに搭載したデバイスDの通電テストを行ってい
る間に、ローダ部1のロード位置1aからサブ基板を1
枚取り出して、上流側試験測定部2を通り越して待機部
3に移行させる。また、待機部3に上流側試験測定部2
でテスト済のサブ基板が配置されている場合には、ロー
ド位置1aから待機部3にテスト前のサブ基板が送り込
まれると同時に、テスト済のサブ基板を下流側試験測定
部4を通り越してアンローダ部5に送り込む。ここで、
各試験測定部2,4において通電テストが行われている
際には、第2のガイドレール44が当該部位での搬送経
路に臨むことになるから、サブ基板の通り越しは第1,
第2の送り手段11,12によって円滑に行われる。With the above-described structure, the first guide rail 43 is lowered to the test positions 2a and 4a in the upstream and downstream test measurement units 2 and 4, so that the sub-board 6 is tested. 7 and 8, and while conducting the energization test of the device D mounted therein, the sub-board 1 is moved from the load position 1a of the loader unit 1 to the sub-board 1.
The sheet is taken out, passed through the upstream side test measurement section 2, and transferred to the standby section 3. In addition, the upstream side test measurement unit 2 is provided in the standby unit 3.
In the case where the sub-board that has been tested is placed in the standby position 3, the pre-tested sub-board is sent from the load position 1a to the standby unit 3 and at the same time, the tested sub-board passes through the downstream side test measurement unit 4 and the unloader. Send to Part 5. here,
When the energization test is being performed in each of the test measuring units 2 and 4, the second guide rail 44 faces the transport path at the relevant portion, so that the first and second sub-boards pass through the first and second passages.
It is performed smoothly by the second feeding means 11 and 12.
【0024】各試験測定部2,4で通電テストが終了
し、第1のガイドレール43が搬送位置2a,4aに復
帰すると、テスト前のサブ基板がロード位置1aと待機
部3とに臨み、また各試験測定部2,4にはテスト済の
サブ基板が位置する。従って、第1,第2の送り手段1
1,12を作動させると、テスト前の2枚のサブ基板は
それぞれ上流側及び下流側の試験測定部2,4に移行
し、その第1のガイドレール43により保持される。ま
た、下流側試験測定部4に位置していたテスト済のサブ
基板はアンローダ部5に、上流側試験測定部2に位置し
ていたサブ基板は待機部3にそれぞれ移行する。この状
態で、第1のガイドレール43を搬送位置2a,4aか
らテスト位置2b,4bに移行させることによって、通
電テストが行われる。この間に、第1,第2の送り手段
11,12を2サイクル動作させることによって、待機
部3に位置するテスト済のサブ基板は下流側試験測定部
4において、搬送位置4aに臨む第2のガイドレール4
4を通ってアンローダ部5に回収され、またローダ部1
から新たなサブ基板が取り出されて、上流側試験測定部
2の搬送位置2aに臨んでいる第2のガイドレール44
を通って待機部3に移行する。When the energization test is completed in each of the test measuring units 2 and 4, and the first guide rail 43 is returned to the transporting positions 2a and 4a, the sub-board before the test faces the loading position 1a and the standby unit 3, In addition, a tested sub-board is located in each test measurement unit 2, 4. Therefore, the first and second feeding means 1
When 1 and 12 are actuated, the two pre-test sub-boards move to the upstream and downstream test measurement units 2 and 4, respectively, and are held by the first guide rails 43. Further, the tested sub-board located in the downstream side test measurement section 4 moves to the unloader section 5, and the sub-board located in the upstream side test measurement section 2 moves to the standby section 3. In this state, the energization test is performed by moving the first guide rail 43 from the transport positions 2a, 4a to the test positions 2b, 4b. During this time, by operating the first and second feeding means 11 and 12 for two cycles, the tested sub-board located in the standby part 3 is moved to the second position in the downstream side test and measurement part 4 at the second transfer position 4a. Guide rail 4
4 and is collected by the unloader unit 5 and the loader unit 1
A new sub-board is taken out from the second guide rail 44 facing the transport position 2a of the upstream side test measuring section 2.
To the standby unit 3 through.
【0025】以下、この動作を繰り返すことによって、
順次サブ基板に搭載されているデバイスDの試験・測定
が行われる。即ち、第1,第2の送り手段11,12を
1サイクル作動させることによって、サブ基板をそれぞ
れ2箇所の試験測定部2,4に送り込んだ後、これら各
試験測定部2,4でデバイスDの通電テストを行ってい
る間に、その間の時間を無駄なく利用して、第1,第2
の送り手段11,12を2サイクル作動させることによ
って、搬送経路にあるテスト済の2枚のサブ基板をアン
ローダ部5に回収すると共に、テスト前の2枚のサブ基
板をそれぞれロード位置1a及び待機部3に配置して、
次の試験・測定を行える状態を作り出すことができる。
このように、搬送経路に沿って2箇所の試験測定部を設
けて、デバイスの通電テストを行っている間に、サブ基
板の搬送を行うようにすることによって、高速で、しか
も多数のICデバイスを極めて効率的に試験・測定を行
うことができる。Thereafter, by repeating this operation,
The device D mounted on the sub-board is sequentially tested and measured. That is, by operating the first and second feeding means 11 and 12 for one cycle, the sub-boards are respectively fed to the two test measuring units 2 and 4, and then the device D is operated by each of the test measuring units 2 and 4. While conducting the power-on test of the
By operating the feeding means 11 and 12 for 2 cycles, the two tested sub-boards on the transfer path are collected in the unloader unit 5, and the two pre-tested sub-boards are loaded at the loading position 1a and the standby position, respectively. Place it in part 3,
It is possible to create a state in which the next test / measurement can be performed.
As described above, by providing two test measuring units along the transport path and transporting the sub-board while conducting the device energization test, a high speed and a large number of IC devices can be obtained. Can be tested and measured very efficiently.
【0026】ICデバイスDを搭載したサブ基板6は、
このようにしてローダ部1から取り出されて、その電気
的特性の試験・測定を行った上で、アンローダ部5に回
収されることになる。そして、2枚のサブ基板6が同時
にテストされる関係から、ローダ部1と、アンローダ部
5とに加えて、2箇所の試験測定部2,4と、その間の
待機部3とが設けられ、しかも各試験測定部2,4にお
いて、できるだけ多くのデバイスDを試験・測定するた
めに、サブ基板6の外形寸法自体も大きいものが使用さ
れる。ここで、デバイスDは、高温または低温にした状
態で通電テストが行われるようになっており、このため
に前述した各部は恒温槽10の内部に配置されている。
従って、この恒温槽10の内部空間はかなり広くなって
おり、この恒温槽10内全体を均一な温度状態に保持す
るのは、極めて困難である。The sub-board 6 on which the IC device D is mounted is
In this way, after being taken out from the loader unit 1, the electrical characteristics thereof are tested and measured, and then collected in the unloader unit 5. Since the two sub-boards 6 are tested at the same time, in addition to the loader unit 1 and the unloader unit 5, two test measurement units 2 and 4 and a standby unit 3 therebetween are provided. Moreover, in order to test and measure as many devices D as possible in each of the test measuring units 2 and 4, the sub-board 6 having a large outer dimension itself is used. Here, the device D is designed to be subjected to an energization test in a high temperature or low temperature state. For this reason, the above-mentioned respective parts are arranged inside the constant temperature bath 10.
Therefore, the internal space of the constant temperature bath 10 is considerably wide, and it is extremely difficult to maintain the entire inside of the constant temperature bath 10 in a uniform temperature state.
【0027】以上のことから、本発明においては、恒温
槽10の内部を比較的小さな区画に分けるようにしてい
る。即ち、アンローダ部1の部位を槽外から搬入される
サブ基板6に搭載したデバイスDを試験・測定温度とな
るように加熱乃至冷却する恒温化熱処理チャンバC1と
し、また上流側試験測定部2を第1試験チャンバC2、
待機部3を待機チャンバC3、下流側試験測定部4を第
2試験チャンバC4とし、さらにアンローダ部1が配置
され、テスト済のサブ基板6を搬出するために、このサ
ブ基板6をできるだけ常温に近い状態に戻すための常温
化熱処理チャンバC5とする。From the above, in the present invention, the interior of the constant temperature bath 10 is divided into relatively small compartments. That is, the part of the unloader unit 1 is a constant temperature heat treatment chamber C1 for heating or cooling the device D mounted on the sub-board 6 carried in from the outside of the tank to the test / measurement temperature, and the upstream side test measurement unit 2 is used. The first test chamber C2,
The standby unit 3 is used as the standby chamber C3, the downstream side test measurement unit 4 is used as the second test chamber C4, and the unloader unit 1 is arranged. In order to carry out the tested sub-substrate 6, the sub-substrate 6 is kept at room temperature as much as possible. The room temperature heat treatment chamber C5 for returning to a close state is used.
【0028】これら各チャンバC1〜C5内の温度条件
が相互間で影響し合うのを防止するために、各チャンバ
C1〜C5はそれぞれ区画壁52〜55で仕切られてお
り、この区画壁52〜55には、サブ基板6及び第1,
第2の送り手段11,12における各アーム20が通過
できる程度の開口52a〜55aが形成されている。常
温化熱処理チャンバC5は他のチャンバとは温度条件が
かなり異なるために、開口52a〜55aのうち、第2
試験チャンバC4と常温化熱処理チャンバC5との間の
開口55aには、シャッタ55が配設されて、サブ基板
6が通過する際にのみこのシャッタ56を開放すること
によって、第2試験チャンバC4の温度条件が常温化熱
処理チャンバC5からの影響を受けないようにしてい
る。また、恒温化熱処理チャンバC1には、テストを行
うべきサブ基板の搬入口57が、常温化熱処理チャンバ
C5には、テスト済のサブ基板の搬出口58が開設され
るが、搬入口57にはシャッタ59が設けられ、また搬
出口58にはシャッタは適宜必要に応じて設けられる。
ここで、恒温槽10の外壁は断熱壁とするが、各チャン
バC1〜C5を仕切る区画壁52〜55は必ずしも断熱
壁とする必要はなく、例えば金属板材等を用いて形成し
ても良い。In order to prevent the temperature conditions in the chambers C1 to C5 from affecting each other, the chambers C1 to C5 are partitioned by partition walls 52 to 55, respectively. 55, the sub-board 6 and the first,
The openings 52a to 55a are formed so that the arms 20 of the second feeding means 11 and 12 can pass therethrough. Since the temperature condition of the room temperature heat treatment chamber C5 is significantly different from that of the other chambers, the second chamber of the openings 52a to 55a is the second chamber.
A shutter 55 is provided in the opening 55a between the test chamber C4 and the room temperature heat treatment chamber C5, and the shutter 56 is opened only when the sub-substrate 6 passes, thereby the second test chamber C4. The temperature condition is not influenced by the room temperature heat treatment chamber C5. Further, in the constant temperature heat treatment chamber C1, an inlet 57 for the sub-substrate to be tested is provided, and in the room temperature heat treatment chamber C5, an outlet 58 for the tested sub-substrate is opened. A shutter 59 is provided, and a shutter is provided at the carry-out port 58 as needed.
Here, the outer wall of the constant temperature bath 10 is a heat insulating wall, but the partition walls 52 to 55 that partition the chambers C1 to C5 do not necessarily have to be heat insulating walls, and may be formed using, for example, a metal plate material or the like.
【0029】チャンバC1〜C5には、それぞれ個別的
に温度管理を行うために、熱源と恒温化空気循環流の流
通手段とからなる温度管理機構を備えている。そこで、
以下に各チャンバC1〜C5の温度管理機構について説
明する。なお、第1,第2の各試験チャンバC2,C4
及び待機チャンバC3は同じ構造となっているから、第
1試験チャンバC2について説明し、待機チャンバC3
及び第2試験チャンバC4の図示及びその説明は省略す
る。Each of the chambers C1 to C5 is provided with a temperature control mechanism including a heat source and a circulating means for circulating a constant temperature air in order to individually control the temperature. Therefore,
The temperature control mechanism of each chamber C1 to C5 will be described below. The first and second test chambers C2, C4
Since the standby chamber C3 and the standby chamber C3 have the same structure, the first test chamber C2 will be described and the standby chamber C3 will be described.
The illustration and description of the second test chamber C4 are omitted.
【0030】図8及び図9には、恒温化熱処理チャンバ
C1が示されている。これらの図から明らかなように、
この恒温化熱処理チャンバC1には、その恒温化熱処理
部1bとして、サブ基板6を9枚段積みにされている。
そして、この段積みにされたサブ基板6を1ピッチずつ
下降させることによって、順次ロード位置1aに移行す
ることになる。このために、一対のチェーン駆動方式の
サブ基板ピッチ下降手段13が設けられており、このサ
ブ基板ピッチ下降手段13には、サブ基板6の前後の両
端部に係合・保持する保持爪14が取り付けられてい
る。A constant temperature heat treatment chamber C1 is shown in FIGS. As you can see from these figures,
In the constant temperature heat treatment chamber C1, nine sub substrates 6 are stacked as the constant temperature heat treatment section 1b.
Then, the stacked sub-boards 6 are lowered one pitch at a time to sequentially move to the loading position 1a. For this purpose, a pair of chain drive type sub-board pitch lowering means 13 is provided, and the sub-board pitch lowering means 13 is provided with holding claws 14 which are engaged and held at both front and rear ends of the sub-board 6. It is installed.
【0031】而して、恒温化熱処理チャンバC1では、
搬入されたサブ基板6を試験・測定温度となるように熱
処理を行う。このための温度管理機構として、熱源とな
るヒータ60と冷媒供給管61とが設けられており、こ
のヒータ60または冷媒供給管61から供給される温風
または冷風からなる恒温化空気循環流の流通手段とし
て、ファン62とダクト63とが設けられている。ヒー
タ60は、ロッドヒータからなり、ダクト63における
ファン62の下流側において、その全長にわたるように
配設されている。また、冷媒供給管61は、窒素ガス等
の冷媒を噴出させることにより冷気を作り出すものであ
って、図10に示したように、T字状の管からなり、そ
の両端部近傍位置に冷媒噴出口61a,61aを形成し
ている。Thus, in the constant temperature heat treatment chamber C1,
The carried-in sub-board 6 is heat-treated so as to reach the test / measurement temperature. As a temperature management mechanism for this purpose, a heater 60 serving as a heat source and a refrigerant supply pipe 61 are provided, and a circulation of a constant temperature air circulation flow composed of warm air or cold air supplied from the heater 60 or the refrigerant supply pipe 61. A fan 62 and a duct 63 are provided as means. The heater 60 is composed of a rod heater and is arranged on the downstream side of the fan 62 in the duct 63 so as to extend over its entire length. The refrigerant supply pipe 61 is for producing cool air by ejecting a refrigerant such as nitrogen gas. As shown in FIG. 10, the refrigerant supply pipe 61 is composed of a T-shaped pipe, and the refrigerant is ejected to positions near both ends thereof. The outlets 61a and 61a are formed.
【0032】ここで、恒温化熱処理チャンバC1では、
サブ基板6が常温状態で搬入され、サブ基板ピッチ下降
手段13によって順次下降して、ロード位置1aにまで
移行した時に、試験・測定温度に加熱または冷却するよ
うになっており、より効率的に恒温化するために、ダク
ト63における恒温化空気循環流の吹き出し口は上中下
の3段63U,63M,63Lにわたって吹き出し口が
形成されている。そして、これら各吹き出し口63U,
63M,63L近傍位置には、それぞれ風向調整板64
U,64M,64Lと、風量調整板65U,65M,6
5Lが配設されている。従って、風向調整板64U,6
4M,64L及び風量調整板65U,65M,65Lに
よって、各吹き出し口63U,63M,63Lから所望
の風向及び風量の恒温化空気循環流を流通させるように
なっている。上段部分ではサブ基板6は搬入口57から
恒温槽10内に搬入されたばかりのものであるから、急
速に熱処理を行うようにするために、上段吹き出し口6
3Uからは、大流量で恒温化空気循環流を流し、中段吹
き出し口63Mからは、それより流量を少なくして、温
度の調整を行い、さらに下段吹き出し口63Lではサブ
基板6の温度状態を維持するために、流量をより少なく
するように制御できる。また、恒温槽10内に搬入され
た直後のサブ基板6に急激な温度変化を与えると、サブ
基板6が変形したり、損傷したりするおそれがある場合
には、中段吹き出し口63Mの流量を最も多くすること
も可能である。勿論、全ての吹き出し口63U,63
M,63Lから均一な風量の恒温化空気循環流を流すよ
うにしても良い。Here, in the constant temperature heat treatment chamber C1,
When the sub-board 6 is carried in at room temperature and sequentially lowered by the sub-board pitch lowering means 13 to reach the loading position 1a, the sub-board 6 is heated or cooled to the test / measurement temperature, which is more efficient. In order to make the temperature constant, the temperature-controlled air circulation flow outlet in the duct 63 is formed over the upper, middle, and lower three stages 63U, 63M, 63L. And each of these outlets 63U,
At the positions near 63M and 63L, the wind direction adjusting plate 64 is provided.
U, 64M, 64L and air volume adjusting plates 65U, 65M, 6
5L is arranged. Therefore, the wind direction adjusting plates 64U, 6
The 4M, 64L and the air volume adjusting plates 65U, 65M, 65L allow a constant temperature air circulation flow having a desired air flow direction and air volume to flow from the air outlets 63U, 63M, 63L. In the upper part, the sub-board 6 has just been loaded into the constant temperature bath 10 from the loading port 57, so that the upper stage blow-out port 6 should be used in order to perform heat treatment rapidly.
A constant temperature air circulation flow is made to flow from 3U at a large flow rate, and a flow rate is made smaller from that at the middle stage outlet 63M to adjust the temperature, and the temperature state of the sub-board 6 is maintained at the lower stage outlet 63L. Therefore, the flow rate can be controlled to be smaller. In addition, if a sudden temperature change is applied to the sub-board 6 immediately after being loaded into the constant temperature bath 10, if the sub-board 6 may be deformed or damaged, the flow rate of the middle-stage outlet 63M is set to It is also possible to make the most. Of course, all outlets 63U, 63
A constant temperature air circulation flow having a uniform air flow may be made to flow from M and 63L.
【0033】第1試験チャンバC2(第2試験チャンバ
C4及び待機チャンバC3も同様)においては、サブ基
板6を試験・測定温度状態に維持するものであり、従っ
てこの第1試験チャンバC2においても、図11に示し
たように、恒温化熱処理チャンバC1と同様、温度管理
機構として、熱源となるヒータ70と冷媒供給管71と
が設けられており、またヒータ70または冷媒供給管7
1から供給される温風または冷風からなる恒温化空気循
環流の流通手段として、ファン72とダクト73とが設
けられている。また、ダクト73の吹き出し口73aの
近傍位置には、風向調整板74と風量調整板75とが設
けられている。ただし、この部位では、搬送位置2aと
テスト位置2bとしか設けられていないことから、吹き
出し口73aはこの位置に向けて1箇所のみ開口してい
る。In the first test chamber C2 (similarly to the second test chamber C4 and the standby chamber C3), the sub-substrate 6 is maintained at the test / measurement temperature state, and therefore, also in the first test chamber C2. As shown in FIG. 11, as in the constant temperature heat treatment chamber C1, a heater 70 as a heat source and a refrigerant supply pipe 71 are provided as a temperature management mechanism, and the heater 70 or the refrigerant supply pipe 7 is provided.
A fan 72 and a duct 73 are provided as a circulation means of the constant temperature air circulation flow composed of the warm air or the cold air supplied from 1. An air flow direction adjusting plate 74 and an air flow amount adjusting plate 75 are provided in the duct 73 in the vicinity of the blowout port 73a. However, since only the transport position 2a and the test position 2b are provided at this portion, the blowout port 73a is open at only one position toward this position.
【0034】ここで、第1試験チャンバC2,待機チャ
ンバC3及び第2試験チャンバC4間を仕切る隔壁5
3,54の位置には、第1,第2の送り手段11,12
が配置されている関係から、かなり大きな開口53a,
54aを形成しなければならないが、これら3つのチャ
ンバC2〜C4は実質的に同じ温度状態に保持されるこ
とから、相互間の温度条件が影響し合うおそれは少な
い。ただし、これら各チャンバC2〜C4内全体の温度
を一定に保ち、一定の空気循環流とするために、個別的
に恒温化空気循環流を流すようにする。また、第1,第
2の送り手段11,12は、待機部3の中間位置で分け
られていることから、この待機部3の中間位置に隔壁を
設けて、上流側試験測定部2,待機部3及び下流側試験
測定部4の部位を2つのチャンバに区画形成して、これ
らを別々の温度管理機構で管理するように構成すれば、
この隔壁はアーム20及びサブ基板6を通過させる極め
て小さな開口を設けるだけで良くなる。Here, a partition wall 5 for partitioning the first test chamber C2, the standby chamber C3, and the second test chamber C4.
At the positions of 3, 54, the first and second feeding means 11, 12 are provided.
Because of the arrangement of the
54a must be formed, but since these three chambers C2 to C4 are maintained at substantially the same temperature state, there is little risk of mutual temperature conditions affecting each other. However, in order to maintain a constant temperature in each of the chambers C2 to C4 and maintain a constant air circulation flow, a constant temperature air circulation flow is individually passed. Further, since the first and second feeding means 11 and 12 are divided at the intermediate position of the standby part 3, a partition is provided at the intermediate position of the standby part 3 to provide the upstream side test measurement part 2 and the standby position. If the parts of the part 3 and the downstream side test measuring part 4 are divided into two chambers, and these are controlled by separate temperature control mechanisms,
This partition can be formed by providing an extremely small opening for passing the arm 20 and the sub-board 6.
【0035】アンローダ部5が配置されている常温化熱
処理チャンバC5は、試験・測定温度状態にあるサブ基
板6を、乾燥状態に保ちながら、できるだけ常温に近い
状態に戻すためのものである。ここで、アンローダ部5
を常温化熱処理チャンバC5内に設けるのは、サブ基板
6及びそれに搭載されているデバイスDがあまり急激な
温度変化に晒されると、結露したり、変形したりする等
の不都合を生じるための温度緩衝機能を発揮させるたも
のものである。このために、この常温化熱処理チャンバ
C5では、図12に示したように、熱源となるヒータ8
0が設けられるが設けられている。ただし、チャンバ内
を冷却する必要がないので、冷媒供給は行わない。そし
て、ヒータ80から供給される温風からなる常温化空気
循環流の流通手段として、ファン81とダクト82とが
設けられる。ここで、アンローダ部5には、複数段(図
面では5段)の常温化熱処理部5bが設けられているか
ら、ローダ部1におけるチェーン駆動方式のサブ基板ピ
ッチ下降手段13と同様の構造のサブ基板ピッチ上昇手
段(図示せず)を設け、またダクト82の吹き出し口は
2段に形成され、下段吹き出し口82L近傍位置には、
風向調整板83Lと風量調整板84Lとが設けられ、上
段吹き出し口82U近傍位置には、風向調整板83U及
び風量調整板84Uが設けられて、それぞれ個別的に常
温化熱処理を行うことができるようになっている。常温
化熱処理チャンバC5では、デバイスDが乾燥状態を保
ったまま、円滑に常温に戻すためのものであるから、ダ
クト82における吸い込み口82Sには、外気取り込み
部85が対面しており、従って、できるだけ外気を取り
込んで、外気温度と試験・測定温度とのほぼ中間の温度
条件の空気循環流を作り出して、サブ基板6に接触させ
るようにしている。The room temperature heat treatment chamber C5 in which the unloader section 5 is arranged is for returning the sub-substrate 6 in the test / measurement temperature state to the state as close to the room temperature as possible while keeping the dry state. Here, the unloader unit 5
Is provided in the room temperature heat treatment chamber C5 because the sub-substrate 6 and the device D mounted thereon are exposed to excessively rapid temperature changes, which causes inconveniences such as dew condensation and deformation. It is the one that exerts a buffering function. For this reason, in this room temperature heat treatment chamber C5, as shown in FIG.
0 is provided. However, since it is not necessary to cool the inside of the chamber, no refrigerant is supplied. Further, a fan 81 and a duct 82 are provided as a circulation means of the normal temperature air circulation flow composed of warm air supplied from the heater 80. Here, since the unloader unit 5 is provided with a plurality of stages (five stages in the drawing) of the room temperature heat treatment unit 5b, the sub substrate pitch lowering means 13 of the chain drive system in the loader unit 1 has the same structure. Substrate pitch raising means (not shown) is provided, the outlet of the duct 82 is formed in two stages, and a position near the lower outlet 82L is
An air flow direction adjusting plate 83L and an air flow rate adjusting plate 84L are provided, and an air flow direction adjusting plate 83U and an air flow rate adjusting plate 84U are provided in the vicinity of the upper outlet 82U so that they can be individually heat-treated at room temperature. It has become. In the room temperature heat treatment chamber C5, since the device D is for returning to normal temperature smoothly while keeping the dry state, the outside air intake part 85 faces the suction port 82S of the duct 82, and therefore, The outside air is taken in as much as possible to create an air circulation flow of a temperature condition approximately in the middle of the outside air temperature and the test / measurement temperature so as to be in contact with the sub-board 6.
【0036】而して、前述したダクト63,73,82
から吹き出される空気循環流は、図13において、矢印
Fで示したように、全て同じ方向であって、しかも各チ
ャンバに区画形成する区画壁52〜55に沿う方向、即
ち短辺を前後に向けた状態で搬送されるサブ基板6の搬
送方向(図中に矢印Rで示した方向)と直交する方向に
空気循環流が形成されるようになっている。これによっ
て、区画壁52〜55には、それぞれ開口52a〜55
aが形成されているにも拘らず、相隣接するチャンバの
温度が相互間で殆ど影響を及ぼすようなことがなくな
り、それぞれ小区画に分けた各チャンバを独立して、厳
格に温度管理を行うことができる。しかも、空気循環流
はサブ基板6の搬送方向と直交する方向で、このサブ基
板6の板面に沿う方向に向けられていることから、この
空気循環流はサブ基板6の短辺方向に流れることにな
り、従ってその上流側と下流側との間の距離はかなり少
なくなる。この結果、空気循環流によって、サブ基板6
自体に実質的に温度勾配が生じることもなく、しかもサ
ブ基板6が整流作用を発揮するので、チャンバ内で乱流
等となるおそれもない。Thus, the above-mentioned ducts 63, 73, 82
As shown by arrow F in FIG. 13, the air circulation flow blown out from is in the same direction and along the partition walls 52 to 55 that partition each chamber, that is, the short sides are forward and backward. An air circulation flow is formed in a direction orthogonal to the transport direction of the sub-substrate 6 transported in the facing direction (the direction indicated by the arrow R in the drawing). Accordingly, the partition walls 52 to 55 have openings 52a to 55, respectively.
Despite the formation of a, the temperatures of adjacent chambers hardly affect each other, and each chamber divided into small compartments is independently temperature-controlled strictly. be able to. Moreover, since the air circulation flow is directed in the direction orthogonal to the carrying direction of the sub-board 6 and along the plate surface of the sub-board 6, the air-circulation flow flows in the short side direction of the sub-board 6. Therefore, the distance between the upstream side and the downstream side is considerably reduced. As a result, due to the circulating air flow, the sub-board 6
There is substantially no temperature gradient in itself, and since the sub-board 6 exerts a rectifying function, there is no fear of turbulence or the like in the chamber.
【0037】以上のように、各チャンバ、特に第1,第
2の各試験チャンバC2,C4の内部温度を厳格に管理
でき、しかもできるだけ多数のデバイスDを搭載できる
ようにするために、かなり広い面積を有するサブ基板6
自体においても、実質的に温度勾配のない状態とするこ
とによって、全てのデバイスDをほぼ同一の温度条件上
で通電テストを行うことができるようになるので、試験
・測定精度が著しく向上する。As described above, the internal temperature of each chamber, particularly the first and second test chambers C2 and C4, can be strictly controlled and, in addition, as many devices D as possible can be mounted in a considerably wide range. Sub substrate 6 having an area
Even by itself, by setting a state in which there is substantially no temperature gradient, all devices D can be subjected to an energization test under substantially the same temperature condition, so that the test / measurement accuracy is significantly improved.
【0038】なお、前述の実施例においては、搬送経路
に試験測定部を2箇所設けるように構成したが、デバイ
スの通電テストを行うために必要な時間と、サブ基板を
搬送するのに必要な時間との間にさらに大きな差があれ
ば、試験測定部を3箇所以上設け、各試験測定部間にそ
れぞれ待機部を設けるようにすることも可能である。た
だし、3箇所の試験測定部を設けた場合には、送り手段
も3箇所必要であり、かつ通電試験を行っている間に、
これら送り手段を5サイクル作動させるようにする。ま
た、相隣接する試験測定部間に待機部を形成するように
したが、例えば上流側試験測定部では、一部のデバイス
の試験・測定を行い、下流側試験測定部では他のデバイ
スの試験・測定を行ったり、また上流側試験測定部では
ある種の通電テストを行い、また下流側試験測定部にお
いては、これとは異なる種類の通電テストを行うような
場合には、必ずしも待機部を設ける必要はない。In the above-mentioned embodiment, the test path is provided with two test measuring sections, but it is necessary to carry out the device energization test and to carry the sub-board. If there is a larger difference from the time, it is also possible to provide three or more test measurement units and provide a standby unit between each test measurement unit. However, when three test measuring parts are provided, three feeding means are also required, and during the energization test,
These feeding means are operated for 5 cycles. Further, the standby section is formed between the adjacent test and measurement sections. For example, the upstream test and measurement section tests and measures some devices, and the downstream test and measurement section tests other devices. -When performing measurements or conducting some kind of energization test in the upstream side test measurement section, and when conducting a different type of energization test in the downstream side test measurement section, the standby section is not always necessary. There is no need to provide it.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、少なく
ともローダ部と、アンローダ部との間に複数の試験測定
部を形成し、これら各部の間には、サブ基板移行用の開
口を形成した隔壁により区画形成したチャンバをそれぞ
れ形成し、これら各チャンバには、隔壁に沿う方向に空
気循環流を流通させる構成としたので、広いスペースを
持った恒温槽内で、所定の試験・測定温度に保った状態
で、サブ基板に搭載されている多数のICデバイスの電
気的特性の試験・測定を行うに当って、全てのICデバ
イスがほぼ一定の温度状態となるように厳格に管理する
ことができ、ICデバイスの高温テスト及び低温テスト
を極めて正確に行うことができる等の諸効果を奏する。As described above, according to the present invention, a plurality of test measuring sections are formed at least between the loader section and the unloader section, and the sub-substrate transfer openings are formed between these sections. Each of the chambers is defined by partition walls, and the air circulation flow is made to flow through each of the chambers in the direction along the partition walls. When testing and measuring the electrical characteristics of a large number of IC devices mounted on the sub-board while maintaining the same, strictly control all IC devices so that they are in a substantially constant temperature state. Therefore, various effects such as a high temperature test and a low temperature test of the IC device can be performed extremely accurately are exhibited.
【図1】本発明の一実施例を示すICデバイスの試験装
置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC device testing apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図2】サブ基板とICデバイスとの外観図である。FIG. 2 is an external view of a sub-board and an IC device.
【図3】サブ基板の搬送手段の構成説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a configuration of a sub-substrate carrying unit.
【図4】図3のX−X断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line XX of FIG.
【図5】搬送手段とその駆動機構との構成を示す平面図
である。FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a transport unit and a drive mechanism thereof.
【図6】図3とは異なる作動状態を示す搬送手段の構成
説明図である。FIG. 6 is a configuration explanatory view of a conveying unit showing an operating state different from that of FIG.
【図7】試験測定部におけるサブ基板の昇降手段の構成
説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of a configuration of a sub-board raising / lowering unit in the test measurement unit.
【図8】恒温化熱処理チャンバの構成説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram of the configuration of a constant temperature heat treatment chamber.
【図9】図8のY−Y断面図である。9 is a sectional view taken along line YY of FIG.
【図10】冷媒供給管の構成説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a configuration of a refrigerant supply pipe.
【図11】第1試験チャンバの構成説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram of a configuration of a first test chamber.
【図12】常温化熱処理チャンバの構成説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a structure of a room temperature heat treatment chamber.
【図13】各チャンバ内の空気循環流を示す説明図であ
る。FIG. 13 is an explanatory diagram showing an air circulation flow in each chamber.
1 ローダ部 1a ロード位置 1b 恒温化熱処理部 2 上流側試験測定部 3 待機部 4 下流側試験測定部 5 アンローダ部 5a アンロード位置 5b 常温化熱処理部 7,8 テストヘッド 6 サブ基板 10 恒温室 11 第1の送り手段 12 第2の送り手段 52〜55 隔壁 52a〜55a 開口 60,70,80 ヒータ 61,71. 冷媒供給管 62,72,81 ファン 63,73,82 ダクト C1 恒温化熱処理チャンバ C2 第1試験チャンバ C3 待機チャンバ C4 第2試験チャンバ C5 常温化熱処理チャンバ D ICデバイス 1 loader part 1a load position 1b constant temperature heat treatment part 2 upstream test measurement part 3 standby part 4 downstream test measurement part 5 unloader part 5a unload position 5b normal temperature heat treatment part 7, 8 test head 6 sub-board 10 constant temperature chamber 11 1st sending means 12 2nd sending means 52-55 Partition wall 52a-55a Opening 60,70,80 Heater 61,71. Refrigerant supply pipe 62, 72, 81 Fan 63, 73, 82 Duct C1 Constant temperature heat treatment chamber C2 First test chamber C3 Standby chamber C4 Second test chamber C5 Normal temperature heat treatment chamber D IC device
Claims (2)
配置したサブ基板を、所定の温度条件となるように熱処
理した状態で、ローダ部から1枚ずつ取り出して水平搬
送して、この搬送経路に沿って複数個所設けた試験測定
部に設けたテストヘッドのそれぞれに接続させて、その
電気的特性の試験・測定を行った後に、アンローダ部に
排出するようにしたICデバイスの恒温試験装置におい
て、前記各部の間には、サブ基板移行用の開口を形成し
た隔壁により区画形成したチャンバをそれぞれ形成し、
これら各チャンバには、前記隔壁に沿う方向に空気循環
流を流通させる構成としたことを特徴とするICデバイ
スの恒温試験装置。1. A sub-board on which a large number of sockets for mounting IC devices are arranged is taken out from the loader section one by one and horizontally transferred while being heat-treated under a predetermined temperature condition. In a constant temperature test apparatus for an IC device, which is connected to each of the test heads provided in a plurality of test measuring units provided to test and measure its electrical characteristics, and then discharged to the unloader unit. Between each part, a chamber defined by a partition having an opening for transferring the sub-substrate is formed,
A constant temperature test apparatus for an IC device, characterized in that an air circulating flow is circulated in each of these chambers in a direction along the partition wall.
向に複数枚配設してなる恒温化領域を形成し、この恒温
化領域には、複数段に分けてそれぞれ温度条件を変えて
恒温化空気を流通させる構成としたことを特徴とする請
求項1記載のICデバイスの試験装置。2. A constant temperature region, in which a plurality of the sub-boards are arranged in the vertical direction, is formed in the loader section, and the constant temperature region is divided into a plurality of stages and the temperature conditions are changed respectively. The IC device testing apparatus according to claim 1, wherein the test device is configured to pass the modified air.
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|---|---|---|---|
| JP34360792A JP3254775B2 (en) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | IC device constant temperature test equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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- 1992-12-01 JP JP34360792A patent/JP3254775B2/en not_active Expired - Fee Related
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