JPH06302768A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
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- JPH06302768A JPH06302768A JP5088540A JP8854093A JPH06302768A JP H06302768 A JPH06302768 A JP H06302768A JP 5088540 A JP5088540 A JP 5088540A JP 8854093 A JP8854093 A JP 8854093A JP H06302768 A JPH06302768 A JP H06302768A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高密度多ピンLSIのウエハの全てのボンデ
ィングパッドを金属プローブ針でプロービングすること
なくウエハのテストを可能とする。
【構成】 半導体集積回路と外部との電気的接続を行う
入出力ボンディングパッド31、34と、該入出力ボン
ディングパッドに接続される入出力回路部41、44
と、該入出力論理回路部と内部論理回路部20との間に
接続された選択切換回路10とを有し、上記選択切換回
路の切換動作をウエハテスト用切換入力信号T1、T2
により制御して、1個の入出力ボンディングパッドに接
続された入出力回路部を、他の入出力ボンディングパッ
ドに接続された入出力回路部に接続された内部論理回路
部に接続できるようにして、上記1個の入出力ボンディ
ングパッド31でウエハ中の内部論理回路部中の複数の
回路部分のプローブテストを可能にしたことを特徴とす
る。
(57) [Abstract] [Purpose] To enable wafer testing without probing all bonding pads of a high-density multi-pin LSI wafer with metal probe needles. Configuration: Input / output bonding pads 31, 34 for electrically connecting the semiconductor integrated circuit to the outside, and input / output circuit parts 41, 44 connected to the input / output bonding pads
And a selection switching circuit 10 connected between the input / output logic circuit section and the internal logic circuit section 20. The switching operation of the selection switching circuit is controlled by the wafer test switching input signals T1 and T2.
By controlling the input / output circuit section connected to one input / output bonding pad to the internal logic circuit section connected to the input / output circuit section connected to another input / output bonding pad. The one input / output bonding pad 31 enables a probe test of a plurality of circuit parts in an internal logic circuit part in a wafer.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高密度多ピン半導体集
積回路ウエハのプローブテストが可能な半導体集積回路
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device capable of performing a probe test on a high density multi-pin semiconductor integrated circuit wafer.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は従来の半導体集積回路装置(以
下、LSIと称す)の入出力部を概略的に示す図で、1
1、12、13は入力ボンディングパッド、14、1
5、16は入力バッファ、21、22、23は出力ボン
ディングパッド、24、25、26は出力バッファであ
る。入力ボンディングパッド11、12、13に供給さ
れる入力信号IN1、IN2、IN3はそれぞれ入力バ
ッファ14、15、16を経て入力信号in1、in
2、in3となり、内部論理回路部2に伝送される。一
方、内部論理回路部2からの出力信号out1、out
2、out3はそれぞれ出力バッファ24、25、26
を経て出力信号OUT1、OUT2、OUT3となり、
出力ボンディングパッド21、22、23へ伝送され
る。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a diagram schematically showing an input / output unit of a conventional semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as an LSI).
1, 12, 13 are input bonding pads, 14, 1
Reference numerals 5 and 16 are input buffers, 21, 22 and 23 are output bonding pads, and 24, 25 and 26 are output buffers. The input signals IN1, IN2, IN3 supplied to the input bonding pads 11, 12, 13 pass through the input buffers 14, 15, 16 respectively, and the input signals in1, in
2, in3, and transmitted to the internal logic circuit section 2. On the other hand, output signals out1 and out from the internal logic circuit unit 2
2 and out3 are output buffers 24, 25 and 26, respectively.
To output signals OUT1, OUT2, OUT3,
It is transmitted to the output bonding pads 21, 22, 23.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来のLS1は図4の
ように構成されているので、ウエハのプローブテスト時
に、全ボンディングパッド11〜13、21〜23に金
属プローブ針でプロービングする必要がある。このた
め、高密度多ピンLSIではボンディングパッドの配列
ピッチが極めて小さくなり、これに対応して金属プロー
ブ針も細くする必要があり、金属プローブ針の耐久性に
問題が生ずる。また、高密度多ピン化が進むとプロービ
ング自体が不可能になるという問題もある。Since the conventional LS1 is constructed as shown in FIG. 4, it is necessary to probe all the bonding pads 11 to 13 and 21 to 23 with a metal probe needle during a wafer probe test. . Therefore, in a high-density multi-pin LSI, the arrangement pitch of the bonding pads becomes extremely small, and it is necessary to make the metal probe needle thin correspondingly, which causes a problem in durability of the metal probe needle. There is also a problem that probing itself becomes impossible as the number of high-density and more pins increases.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
従来の高密度多ピンLSIのウエハのプローブテストに
関する問題を解消して、高密度多ピンLSIのウエハの
プローブテストを容易に行うことができる半導体集積回
路装置を得ることを目的とする。本発明に係る半導体集
積回路は、基本的には入出力ボンディングパッドに接続
された入出力部と内部論理回路部との間に、1つの入出
力ボンディングパッドから、他の入出力ボンディングパ
ッドに接続された内部論理回路部をアクセスできる選択
切換回路を設け、該選択切換回路の動作をウエハテスト
用切換入力信号により制御して上記1つの入出力ボンデ
ィングパッドで他の入出力ボンディングパッドに供給さ
れる入力信号、出力信号を各々入力またはモニタできる
ようにしたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the problems relating to the conventional probe test of a high-density multi-pin LSI wafer, and facilitates a high-density multi-pin LSI wafer probe test. An object is to obtain a semiconductor integrated circuit device that can be manufactured. The semiconductor integrated circuit according to the present invention basically connects one input / output bonding pad to another input / output bonding pad between the input / output unit connected to the input / output bonding pad and the internal logic circuit unit. A selection switching circuit that can access the selected internal logic circuit portion is provided, and the operation of the selection switching circuit is controlled by a wafer test switching input signal to be supplied to another input / output bonding pad by the one input / output bonding pad. The input signal and the output signal can be respectively input or monitored.
【0005】[0005]
【作用】本発明によれば、1個のボンディングパッドか
ら他の入力ボンディングパッドの入力信号を入力するこ
とができ、また他の出力ボンディングパッドに現れる出
力信号をモニタすることができるので、ウエハ上のすべ
てのボンディングパッドに金属プローブ針でプロービン
グする必要がない。従って、高密度多ピンLSIでボン
ディングパッドの配列ピッチが極めて小さい場合もウエ
ハのプローブテストを容易に行うことができる。According to the present invention, an input signal of another input bonding pad can be input from one bonding pad, and an output signal appearing at another output bonding pad can be monitored. No need to probe all bonding pads with a metal probe needle. Therefore, the probe test of the wafer can be easily performed even when the arrangement pitch of the bonding pads is extremely small in the high density multi-pin LSI.
【0006】[0006]
【実施例】図1は本発明の半導体集積回路装置の第1の
実施例の本発明に関連する入出力部の構造を示す図で、
31、32、33、34はボンディングパッドで、入力
ボンディングパッド31は入力バッファ41を経てデー
タラッチ4、5の各データ入力Dに接続され、ウエハテ
スト用切換入力信号T1が供給されるボンディングパッ
ド32は入力バッファ42を経てデータラッチ4のトリ
ガ入力Eに接続され、また上記入力バッファ42および
インバータ6を経てデータラッチ5のトリガ入力Eに接
続されている。35はプルアップ抵抗である。FIG. 1 is a diagram showing the structure of an input / output section related to the present invention of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.
Reference numerals 31, 32, 33, and 34 denote bonding pads, and the input bonding pad 31 is connected to each data input D of the data latches 4 and 5 via the input buffer 41 and is supplied with the wafer test switching input signal T1. Is connected to the trigger input E of the data latch 4 via the input buffer 42, and is connected to the trigger input E of the data latch 5 via the input buffer 42 and the inverter 6. Reference numeral 35 is a pull-up resistor.
【0007】ウエハテスト用切換入力信号T2が供給さ
れるボンディングパッド33は入力バッファ43を経て
トランスミッションゲート8、9の各一方のゲート端子
に供給され、また入力バッファ43およびインバータ3
6を経てトランスミッションゲート8、9の各他方のゲ
ート端子に接続されている。トランスミッションゲート
8、9およびインバータ36は切換回路10を構成し、
この切換回路10とデータラッチ4、5とにより選択切
換回路を構成している。入力ボンディングパッド34は
入力バッファ44を経てトランスミッションゲート9の
伝送路に接続されている。トランスミッションゲート
8、9としては、例えば図示のように反対導電形のFE
Tを並列接続したものが使用される。37、38はプル
アップ抵抗である。The bonding pad 33 to which the wafer test switching input signal T2 is supplied is supplied to one gate terminal of each of the transmission gates 8 and 9 via the input buffer 43, and the input buffer 43 and the inverter 3 are also provided.
It is connected via 6 to the other gate terminal of each of transmission gates 8 and 9. The transmission gates 8 and 9 and the inverter 36 constitute the switching circuit 10,
The switching circuit 10 and the data latches 4 and 5 form a selection switching circuit. The input bonding pad 34 is connected to the transmission line of the transmission gate 9 via the input buffer 44. The transmission gates 8 and 9 are, for example, FEs of opposite conductivity type as shown in the figure.
A parallel connection of T is used. 37 and 38 are pull-up resistors.
【0008】データラッチ4のQ出力は集積回路装置の
内部論理回路部20の所定回路部分に接続され、データ
ラッチ5のQ出力はトランスミッションゲート8を経て
上記内部論理回路部20の他の回路部分に接続され、ま
たトランスミッションゲート9も内部論理回路部20の
上記他の回路部分に接続されている。The Q output of the data latch 4 is connected to a predetermined circuit portion of the internal logic circuit portion 20 of the integrated circuit device, and the Q output of the data latch 5 passes through the transmission gate 8 and the other circuit portion of the internal logic circuit portion 20. The transmission gate 9 is also connected to the other circuit portion of the internal logic circuit section 20.
【0009】次に図1の半導体集積回路装置の動作を説
明する。図1において、ボンディングパッド33に供給
されるウエハテスト用切換入力信号T2を接地レベル
(以下、Lレベルと称す)にすると、トランスミッショ
ンゲート8はターンオン、トランスミッションゲート9
はターンオフする。ここで、ボンディングパッド32に
供給されるウエハテスト用切換入力信号T1を電源レベ
ル(以下、Hレベルと称す)にすると、データラッチ4
はデータスルー状態となり、入力ボンディングパッド3
1に供給された入力信号IN1は入力バッファ41およ
びデータラッチ4を経由して信号in1として内部論理
回路部20に伝送される。Next, the operation of the semiconductor integrated circuit device of FIG. 1 will be described. In FIG. 1, when the wafer test switching input signal T2 supplied to the bonding pad 33 is set to the ground level (hereinafter, referred to as L level), the transmission gate 8 is turned on and the transmission gate 9 is turned on.
Turns off. Here, when the wafer test switching input signal T1 supplied to the bonding pad 32 is set to the power supply level (hereinafter referred to as H level), the data latch 4
Becomes the data through state, and the input bonding pad 3
The input signal IN1 supplied to 1 is transmitted to the internal logic circuit section 20 as the signal in1 via the input buffer 41 and the data latch 4.
【0010】一方、データラッチ5のトリガ入力Eには
インバータ6により信号T1の反転されたものが供給さ
れるから、該データラッチ5はラッチ状態になり、入力
信号IN1の変化には関係なくin2は一定値を保持す
る。次にウエハテスト用切換入力信号T1をLレベルに
すると、データラッチ4はラッチ状態になり、入力信号
IN1の変化に関係なくin1は一定値に維持される。
一方、データラッチ5はデータスルー状態になり、ボン
ディングパッド31に供給された入力信号IN1は上記
データラッチ5およびトランスミッションゲート8を経
由して信号in2として内部論理回路部20の他の部分
に供給される。従って、ウエハテスト用切換入力信号の
H、Lの切換えにより、入力ボンディングパッド31に
供給される入力信号をin1、in2としてそれぞれ内
部論理回路部20の所定の回路部分に各別に伝送するこ
とができる。これによって1個の入力ボンディングパッ
ド31を使ってウエハの上記所定の回路部分プローブテ
ストを行うことができる。On the other hand, since the inverted input of the signal T1 is supplied to the trigger input E of the data latch 5 by the inverter 6, the data latch 5 is in the latch state and in2 is irrespective of the change of the input signal IN1. Holds a constant value. Next, when the wafer test switching input signal T1 is set to the L level, the data latch 4 enters the latch state, and in1 is maintained at a constant value regardless of the change of the input signal IN1.
On the other hand, the data latch 5 enters the data through state, and the input signal IN1 supplied to the bonding pad 31 is supplied to the other part of the internal logic circuit section 20 as the signal in2 via the data latch 5 and the transmission gate 8. It Therefore, by switching the wafer test switching input signal between H and L, the input signals supplied to the input bonding pad 31 can be separately transmitted as in1 and in2 to predetermined circuit portions of the internal logic circuit section 20. . As a result, the above-mentioned predetermined circuit portion probe test of the wafer can be performed using one input bonding pad 31.
【0011】次にボンディングパッド33に供給される
ウエハテスト用切換入力信号T2をHレベルにすると、
トランスミッションゲート8はターンオフ、トランスミ
ッションゲート9はターンオンする。これによってデー
タラッチ5の出力には関係なく入力ボンディングパッド
34に供給される入力信号IN2が入力バッファ44お
よびトランスミッションゲート9を経由して信号in2
として内部論理回路20に伝送される。このときボンデ
ィングパッド32に供給されるウエハテスト用切換信号
T1をT2同様Hレベルにしておけば、ボンディングパ
ッド31に供給される入力信号IN1は入力バッファ4
1、データラッチ4を経て信号in1として同様に内部
論理回路部20に供給されるから、IN1、IN2によ
りウエハを実仕様の動作状態にすることすることができ
る。以上のように、図1の実施例では、1個のボンディ
ングパッド31を金属プローブ針でプロービングするこ
とにより、実仕様状態では他のボンディングパッドに接
続される内部論理回路部20中の回路部分をもテストす
ることができる。Next, when the wafer test switching input signal T2 supplied to the bonding pad 33 is set to H level,
The transmission gate 8 turns off and the transmission gate 9 turns on. As a result, the input signal IN2 supplied to the input bonding pad 34 irrespective of the output of the data latch 5 passes through the input buffer 44 and the transmission gate 9 and then the signal in2.
Is transmitted to the internal logic circuit 20. At this time, if the wafer test switching signal T1 supplied to the bonding pad 32 is set to the H level like T2, the input signal IN1 supplied to the bonding pad 31 will be input to the input buffer 4.
Similarly, since the signal in1 is supplied to the internal logic circuit section 20 via the data latch 4, the wafer can be brought into an actual operating state by IN1 and IN2. As described above, in the embodiment of FIG. 1, by probing one bonding pad 31 with the metal probe needle, the circuit portion in the internal logic circuit unit 20 connected to another bonding pad in the actual specification state is removed. Can also be tested.
【0012】図2は本発明の第2の実施例の入出力部の
構造を示す。図2の実施例では、入力ボンディングパッ
ド51は入力バッファ61を経てデータラッチ54のデ
ータ入力Dに接続され、該データラッチ54の出力Qは
ウエハの内部論理回路30に接続されている。ボンディ
ングパッド52は入力バッファ63を経てデータラッチ
54のトリガ入力Eおよびゲート形のトライステート出
力バッファ62の制御入力に接続されている。出力バッ
ファ62とデータラッチ54とにより選択切換回路28
を構成する。出力ボンディングパッド53には内部論理
回路部30の内部信号out1が出力バッファ64を経
て外部出力信号OUT1として伝送される。内部出力信
号out1はまたトライステート出力バッファ62の入
力にも供給され、該トライステート出力バッファ62の
出力は入力ボンディングパッド51に接続されている。
65はプルアップ抵抗である。FIG. 2 shows the structure of the input / output unit according to the second embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 2, the input bonding pad 51 is connected to the data input D of the data latch 54 via the input buffer 61, and the output Q of the data latch 54 is connected to the internal logic circuit 30 of the wafer. The bonding pad 52 is connected to the trigger input E of the data latch 54 and the control input of the gate type tri-state output buffer 62 via the input buffer 63. The selection switching circuit 28 is constituted by the output buffer 62 and the data latch 54.
Make up. The internal signal out1 of the internal logic circuit section 30 is transmitted to the output bonding pad 53 as the external output signal OUT1 via the output buffer 64. The internal output signal out1 is also supplied to the input of the tri-state output buffer 62, and the output of the tri-state output buffer 62 is connected to the input bonding pad 51.
Reference numeral 65 is a pull-up resistor.
【0013】図2の半導体集積回路装置の動作を説明す
る。ボンディングパッド52に供給されるウエハテスト
用切換入力信号T1をLレベルにすると、トライステー
ト出力バッファ62はターンオンし、内部論理回路部3
0の出力信号out1はOUT1として上記入力ボンデ
ィングパッド51に伝送される。このときデータラップ
54はラッチ状態になり、入力バッファ61の出力には
関係なく内部論理回路部30の内部入力信号in3は一
定値に維持される。The operation of the semiconductor integrated circuit device of FIG. 2 will be described. When the wafer test switching input signal T1 supplied to the bonding pad 52 is set to L level, the tri-state output buffer 62 is turned on, and the internal logic circuit section 3 is turned on.
The output signal out1 of 0 is transmitted to the input bonding pad 51 as OUT1. At this time, the data wrap 54 is in the latched state, and the internal input signal in3 of the internal logic circuit section 30 is maintained at a constant value regardless of the output of the input buffer 61.
【0014】ウエハテスト用切換入力信号T1をHレベ
ルにすると、データラッチ54はデータスルー状態にな
り、トライステート出力バッファ62はターンオフす
る。従って、入力ボンディングパッド51に供給された
入力信号IN3は入力バッファ61およびデータラッチ
54を経てin3として内部論理回路部30に供給され
る。また、ウエハテスト用切換入力信号T1のレベルに
は関係なく内部論理回路部30の他の回路部分の出力信
号out1は出力バッファ64を経て出力ボンディング
パッド53にOUT1として伝送される。従って、図2
の実施例では、ウエハテスト用切換入力信号T1のレベ
ルの切換えにより、1個の入力ボンディングパッド51
を金属プローブ針でプロービングして、入力信号IN3
をin3として内部論理回路部30の特定の回路部分に
伝送することができ、また他の回路部分の内部出力信号
out1をモニタすることができる。When the wafer test switching input signal T1 is set to the H level, the data latch 54 enters the data through state and the tristate output buffer 62 is turned off. Therefore, the input signal IN3 supplied to the input bonding pad 51 is supplied to the internal logic circuit section 30 as in3 via the input buffer 61 and the data latch 54. Further, regardless of the level of the wafer test switching input signal T1, the output signal out1 of the other circuit portion of the internal logic circuit section 30 is transmitted to the output bonding pad 53 as OUT1 via the output buffer 64. Therefore, FIG.
In this embodiment, one input bonding pad 51 is selected by switching the level of the wafer test switching input signal T1.
Input signal IN3 by probing with a metal probe needle.
Can be transmitted as in3 to a specific circuit portion of the internal logic circuit portion 30, and the internal output signal out1 of another circuit portion can be monitored.
【0015】図3は本発明の第3の実施例の入出力部の
構造を示す。図3で、71、72は出力ボンディングパ
ッド、73はウエハテスト用切換入力信号T1が供給さ
れるボンディングパッド、81、82は出力バッファ、
83は入力バッファ、84はインバータ、85はプルア
ップ抵抗、8、9はトランスミッションゲート、40の
内部論理回路部である。トランスミッションゲート8、
9およびインバータ84は切換選択回路50を構成して
いる。FIG. 3 shows the structure of the input / output unit of the third embodiment of the present invention. In FIG. 3, 71 and 72 are output bonding pads, 73 is a bonding pad to which the wafer test switching input signal T1 is supplied, 81 and 82 are output buffers,
Reference numeral 83 is an input buffer, 84 is an inverter, 85 is a pull-up resistor, 8 and 9 are transmission gates, and 40 is an internal logic circuit section. Transmission gate 8,
9 and the inverter 84 form the switching selection circuit 50.
【0016】図3の動作を説明すると、ウエハテスト用
切換入力信号T1がレベルのときはトランスミッション
ゲート8がターンオン、トランスミッションゲート9が
ターンオフする。このとき、内部論理回路部40中の特
定の回路部分の内部出力信号out3はトランスミッシ
ョンゲート8および出力バッファ81を経て出力ボンデ
ィングパッド71に伝送されてモニタされる。ウエハテ
スト用切換入力信号T1がHレベルのときはトランスミ
ッションゲート9がターンオン、トランスミッションゲ
ート8がターンオフし、内部論理回路部40の他の回路
部分の内部出力信号out2がトランスミッションゲー
ト9および出力バッファ81を経て出力ボンディングパ
ッド71に伝送されてモニタされる。また、ボンディン
グパッド73に供給されるウエハテスト用切換入力信号
T1のレベルには関係なく上記他の回路部分の内部出力
信号のout3は出力バッファ82を経て出力ボンディ
ングパッド72に伝送される。従って、図3の実施例に
おいてもウエハテスト用切換入力信号T1のレベルの切
換えにより、1個の出力ボンディングパッド71を金属
プローブ針でプロービングして、2つの内部出力信号o
ut2およびout3をモニタすることができる。The operation of FIG. 3 will be described. When the wafer test switching input signal T1 is at the level, the transmission gate 8 is turned on and the transmission gate 9 is turned off. At this time, the internal output signal out3 of a specific circuit portion in the internal logic circuit portion 40 is transmitted to the output bonding pad 71 via the transmission gate 8 and the output buffer 81 and is monitored. When the wafer test switching input signal T1 is at the H level, the transmission gate 9 is turned on, the transmission gate 8 is turned off, and the internal output signal out2 of the other circuit portion of the internal logic circuit portion 40 is transmitted to the transmission gate 9 and the output buffer 81. Then, it is transmitted to the output bonding pad 71 and monitored. Further, the internal output signal out3 of the other circuit portion is transmitted to the output bonding pad 72 via the output buffer 82 regardless of the level of the wafer test switching input signal T1 supplied to the bonding pad 73. Therefore, in the embodiment of FIG. 3 as well, by switching the level of the switching input signal T1 for wafer test, one output bonding pad 71 is probed with a metal probe needle to generate two internal output signals o.
ut2 and out3 can be monitored.
【0017】[0017]
【発明の効果】以上のように、本発明においては入出力
ボンディングパッドに接続された入出力回路部と内部論
理回路部との間にウエハテスト用切換入力信号により制
御される選択切換回路を設けたので、プロービングによ
るウエハテスト時に、すべてのボンディングパッドを金
属プローブ針でプロービングする必要がなく、高密度多
ピンLSIでボンディングパッドの配列ピッチが極めて
小さい場合でも容易に且つ高信頼度をもってウエハのテ
ストを行うことができるという効果があり、また金属プ
ローブ針のプロービング回数も減少するから、高密度多
ピンに対応した細い金属プローブ針を使用しても、摩耗
が少なく、耐久性に何らの問題もない。As described above, in the present invention, the selection switching circuit controlled by the wafer test switching input signal is provided between the input / output circuit section connected to the input / output bonding pad and the internal logic circuit section. Therefore, it is not necessary to probe all the bonding pads with metal probe needles during the wafer test by probing, and it is possible to test the wafer easily and with high reliability even when the arrangement pitch of the bonding pads is extremely small in the high density multi-pin LSI. Since the number of probing of the metal probe needle is reduced, even if a thin metal probe needle compatible with high density multi-pin is used, there is little wear and there is no problem in durability. Absent.
【図1】本発明の半導体集積回路装置の第1の実施例の
入出力部の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an input / output unit of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.
【図2】本発明の半導体集積回路装置の第2の実施例の
入出力部の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an input / output unit of a second embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.
【図3】本発明の半導体集積回路装置の第3の実施例の
入出力部の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of an input / output unit of a third embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.
【図4】従来の半導体集積回路装置の入出力部の構成を
示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an input / output unit of a conventional semiconductor integrated circuit device.
4 データラッチ 5 データラッチ 6 インバータ 10 切換回路 20 内部論理回路部 28 選択切換回路 30 内部論理回路部 31 入力ボンディングパッド 32 ボンディングパッド 33 ボンディングパッド 34 入力ボンディングパッド 40 内部論理回路部 41 入力バッファ 42 入力バッファ 43 入力バッファ 44 入力バッファ 50 選択切換回路 51 入力ボンディングパッド 52 ボンディングパッド 53 出力ボンディングパッド 54 データラッチ 61 入力バッファ 62 トライステート出力バッファ 63 入力バッファ 64 出力バッファ 71 ボンディングパッド 72 ボンディングパッド 73 ボンディングパッド 81 出力バッファ 82 出力バッファ 83 入力バッファ 4 data latch 5 data latch 6 inverter 10 switching circuit 20 internal logic circuit section 28 selection switching circuit 30 internal logic circuit section 31 input bonding pad 32 bonding pad 33 bonding pad 34 input bonding pad 40 internal logic circuit section 41 input buffer 42 input buffer 43 Input Buffer 44 Input Buffer 50 Selection Switching Circuit 51 Input Bonding Pad 52 Bonding Pad 53 Output Bonding Pad 54 Data Latch 61 Input Buffer 62 Tri-State Output Buffer 63 Input Buffer 64 Output Buffer 71 Bonding Pad 72 Bonding Pad 73 Bonding Pad 81 Output Buffer 82 output buffer 83 input buffer
Claims (3)
行うための複数の入力ボンディングパッドと、該入力ボ
ンディングパッドに接続された入力回路部と、該入力回
路部と上記半導体集積回路の内部論理回路部との間に接
続された2個以上のデータラッチと少なくとも1個の切
換回路とからなる選択切換回路とを具備し、半導体集積
回路の外部から上記切換回路に供給されるウエハテスト
用切換入力信号により上記切換回路を制御して、上記複
数の入力ボンディングパッド中の特定の1個の入力ボン
ディングパッドに接続される入力回路部を、他の入力ボ
ンディングパッドに接続される入力回路部に接続された
内部論理回路部に接続してこれに入力信号を供給できる
ようにしたことを特徴とする半導体集積回路装置。1. A plurality of input bonding pads for electrically connecting the semiconductor integrated circuit to the outside, an input circuit unit connected to the input bonding pads, the input circuit unit and the inside of the semiconductor integrated circuit. A wafer test, which comprises a selection switching circuit including two or more data latches connected to a logic circuit section and at least one switching circuit, and is supplied to the switching circuit from outside the semiconductor integrated circuit. The switching circuit is controlled by the switching input signal so that an input circuit unit connected to a specific one input bonding pad among the plurality of input bonding pads becomes an input circuit unit connected to another input bonding pad. A semiconductor integrated circuit device characterized in that it is connected to an internal logic circuit part connected thereto so that an input signal can be supplied thereto.
行うための入力ボンディングパッドおよび出力ボンディ
ングパッドと、上記入力ボンディングパッドに接続され
た入力回路部と、上記出力ボンディングパッドに接続さ
れた出力回路部と、上記入力回路部と上記半導体集積回
路の内部論理回路部との間に接続されたデータラッチ
と、上記出力回路部に接続された半導体集積回路の他の
内部論理回路部と上記入力ボンディングパッドとの間に
接続されたゲート形出力回路部とを具備し、上記ゲート
形出力回路部とデータラッチとは選択切換回路を構成
し、半導体集積回路の外部から上記ゲート形出力回路部
とデータラッチとに供給されるウエハテスト用切換入力
信号により上記選択切換回路を制御して、上記他の内部
論理回路部を上記ゲート形出力回路部を経て上記入力ボ
ンディングパッドに接続して上記他の内部論理回路部の
出力信号を上記入力ボンディングパッドでモニタできる
ようにしたことを特徴とする半導体集積回路装置。2. An input bonding pad and an output bonding pad for electrically connecting the semiconductor integrated circuit to the outside, an input circuit section connected to the input bonding pad, and an output connected to the output bonding pad. A circuit section, a data latch connected between the input circuit section and an internal logic circuit section of the semiconductor integrated circuit, and another internal logic circuit section of the semiconductor integrated circuit connected to the output circuit section and the input A gate-type output circuit section connected between the bonding pad and the gate pad, the gate-type output circuit section and the data latch constitute a selection switching circuit, and the gate-type output circuit section and the gate-type output circuit section from the outside of the semiconductor integrated circuit. The selection switching circuit is controlled by the wafer test switching input signal supplied to the data latch and the other internal logic circuit portion is gated. A semiconductor integrated circuit device, characterized in that it is connected to the input bonding pad via an output circuit section so that the output signal of the other internal logic circuit section can be monitored by the input bonding pad.
行うための複数の出力ボンディングパッドと、該出力ボ
ンディングパッドに接続された出力回路部と、該出力回
路部と上記半導体集積回路の内部論理回路部との間に接
続された選択切換回路とを具備し、半導体集積回路の外
部から上記選択切換回路に供給されるウエハテスト用切
換入力信号により上記選択切換回路を制御して、上記複
数の出力ボンディングパッド中の特定の1個の出力ボン
ディングパッドに接続される出力回路部を、他の出力ボ
ンディングパッドに接続される出力回路部に接続された
内部論理回路部に接続してこの内部論理回路部の出力信
号を上記特定の1個の出力ボンディングパッドでモニタ
できるようにしたことを特徴とする半導体集積回路装
置。3. A plurality of output bonding pads for electrically connecting the semiconductor integrated circuit to the outside, an output circuit unit connected to the output bonding pads, the output circuit unit and the inside of the semiconductor integrated circuit. A selection switching circuit connected to a logic circuit section, and controlling the selection switching circuit by a wafer test switching input signal supplied from the outside of the semiconductor integrated circuit to the selection switching circuit. The output circuit section connected to a specific one of the output bonding pads of the above is connected to the internal logic circuit section connected to the output circuit section connected to the other output bonding pad, and this internal logic is connected. A semiconductor integrated circuit device characterized in that an output signal of a circuit portion can be monitored by the above-mentioned specific one output bonding pad.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088540A JPH06302768A (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088540A JPH06302768A (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06302768A true JPH06302768A (en) | 1994-10-28 |
Family
ID=13945686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5088540A Pending JPH06302768A (en) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06302768A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006229131A (en) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Nec Electronics Corp | Semiconductor integrated circuit |
| US7400134B2 (en) | 2004-01-20 | 2008-07-15 | Nec Electronics Corporation | Integrated circuit device with multiple chips in one package |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP5088540A patent/JPH06302768A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7400134B2 (en) | 2004-01-20 | 2008-07-15 | Nec Electronics Corporation | Integrated circuit device with multiple chips in one package |
| JP2006229131A (en) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Nec Electronics Corp | Semiconductor integrated circuit |
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