[go: up one dir, main page]

JPH0634715A - 高周波帯プローブヘッド - Google Patents

高周波帯プローブヘッド

Info

Publication number
JPH0634715A
JPH0634715A JP4213552A JP21355292A JPH0634715A JP H0634715 A JPH0634715 A JP H0634715A JP 4213552 A JP4213552 A JP 4213552A JP 21355292 A JP21355292 A JP 21355292A JP H0634715 A JPH0634715 A JP H0634715A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency band
high frequency
waveguide
signal
probe head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4213552A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Kato
隆幸 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4213552A priority Critical patent/JPH0634715A/ja
Priority to US07/995,695 priority patent/US5408188A/en
Publication of JPH0634715A publication Critical patent/JPH0634715A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P5/00Coupling devices of the waveguide type
    • H01P5/08Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices
    • H01P5/10Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices for coupling balanced lines or devices with unbalanced lines or devices
    • H01P5/107Hollow-waveguide/strip-line transitions
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06772High frequency probes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高周波帯、特に同軸ケーブルの使用の困難な
60GHz以上のミリ波帯において低損失,低反射のプ
ローブを得ることを目的とする。 【構成】 導波管の一端にリッジ変換部を設け、該リッ
ジ先端部に信号用コンタクト部を設け、該コンタクト部
をはさんで導波管外郭の同一平面上に複数の接地用コン
タクト部を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は高周波帯、特に60G
Hz以上のミリ波帯で動作するICチップの評価を行な
う際に用いる高周波帯プローブヘッドに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図11はマイクロ波信号の伝送に用いら
れる代表的なマイクロ波線路を示す図であり、図11
(a) は同軸線路、図11(b) はコプレーナライン、図1
1(c) は導波管をそれぞれ示す。
【0003】図11(a) に示すように、同軸線路150
は、導体信号線路111の周囲にテフロン等の誘電体1
13と導体接地外郭114を有する。同軸線路は、良好
なシールド性と機械的に柔軟であるという利点を有す
る。同軸線路により伝送可能な信号の周波数範囲はDC
〜60GHz程度である。ここで、例えば、40GHz
帯のマイクロ波信号の伝送に用いられる同軸線路では、
導体信号線路111の直径は2〜3mm,導体接地外郭1
14の内径は5mm程度である。
【0004】図11(b) に示すように、コプレーナライ
ン151は、誘電体123の一平面上に、導体信号線路
121と該導体信号線路121の両側にこれを挟むよう
に配置された導体接地線路122とを有する。コプレー
ナラインは、信号線路121と接地線路122が同一平
面上にあるため上方からのプローブが容易であり、また
周波数の自由度が大きいため、高周波帯信号が用いられ
る集積回路(以下、高周波帯ICと称する)や該高周波
帯ICの評価を行なう際に用いる高周波帯プローブに多
用されている。コプレーナラインにより伝送可能なマイ
クロ波信号の周波数範囲はDC〜150GHz程度であ
る。
【0005】図11(c) に示すように、導波管152
は、長方形の導体接地外郭134を有し、その内部は空
気である。導波管は、同軸線路において損失増大の原因
となる中心導体と誘電体がないので、同軸線路に比べ高
周波信号の減衰が小さいという長所を有するが、使用可
能な周波数帯域が設計周波数の30%〜50%と比較的
狭く、特にDC信号が通らないという欠点がある。導体
接地外郭は一般に亜鉛(Zn),無酸素銅(Cu)で形
成されており、管の内壁には損失低減のため金(Au)
などの良導体のメッキが2〜3ミクロンの厚みで施され
ている。導波管により伝送可能なマイクロ波信号の周波
数範囲は40〜300GHz程度である。ここで、例え
ば、40GHz帯のマイクロ波信号の伝送に用いられる
導波管では、導体接地外郭134の内側の寸法は長辺が
4〜5mm,短辺が2〜3mm程度である。この導波管のサ
イズは、周波数が高い程小さいものが使用され、例えば
100GHz帯のマイクロ波信号の伝送に用いられる導
波管では長辺が1.2mm,短辺が0.5mm程度である。
【0006】図18は高周波帯ICを評価する装置の構
成の一例を示す概略図であり、図において、201は評
価装置本体、204は被評価ICである。第1の接続ケ
ーブル202aにより評価装置本体201と接続された
第1の高周波帯プローブヘッド203aは被評価ICの
信号入力端子205aに当接され、第2の接続ケーブル
202bにより評価装置本体201と接続された第2の
高周波帯プローブヘッド203bは被評価ICの出力端
子205bに当接される。
【0007】ここで、高周波帯ICの評価装置における
装置本体と高周波帯プローブヘッドとの間の接続ケーブ
ル202a,202bとしては、同軸ケーブル(DC〜
60GHz)または導波管(40〜300GHz)の使
用が一般的であり、また被評価高周波帯ICの入出力イ
ンターフェイス部分はコプレーナライン構造が一般的で
あるため、プローブヘッド部分で両者の変換を行なう必
要が生じる。
【0008】図12は同軸ケーブルをコプレーナライン
に変換する従来の同軸型高周波帯プローブヘッドの一例
を示す分解斜視図である。図において、105はプロー
ブヘッドカバー、106は裏面側にコプレーナライン構
造を有する誘電体ブレード、107は導体からなるプロ
ーブヘッドボディである。同軸ケーブル150はプロー
ブヘッドボディ107に固着された導体からなるソケッ
ト部112に挿入され、固定用ナット115で固定され
ており、その導体信号線路111の先端は、プローブヘ
ッドボディ107の誘電体ブレード106が配置される
部分に突出している。図13は図12に示すプローブヘ
ッドの誘電体ブレード106先端部の裏面を示す図であ
る。図13に示すように、誘電体ブレード106は、誘
電体からなるブレード状の板103の裏面に、導体信号
線路101,及び導体接地線路102を配置し、導体信
号線路101,及び導体接地線路102の先端部分に信
号コンタクト部109,及び接地コンタクト部110を
それぞれ設けたものである。図14は図12に示すプロ
ーブヘッドの同軸/コプレーナライン(誘電体ブレー
ド)変換部を示す断面図である。図14に示すように、
同軸ケーブルの中心導体111は下向きのコプレーナラ
インの導体信号線路101と接続されている。また同軸
ケーブルの導体接地線路114はプローブヘッドボディ
107に固着されたソケット部112に接しており、下
向きのコプレーナラインの導体接地線路102は図示し
ない位置でプローブヘッドボディ107に接触している
ので、同軸ケーブルの導体接地線路114はコプレーナ
ラインの導体接地線路102に接続された構造となって
いる。なお、図14において、116は同軸ケーブル1
50の先端部分に固着された導体部材であり、この導体
部材116がソケット部112と固定用ナット115に
よりプローブヘッドボディ107に固定されることによ
り、同軸ケーブル150がプローブヘッドボディ107
に固定される。
【0009】また、図15(a) は導波管をコプレーナラ
インに変換する従来の導波管型高周波帯プローブヘッド
の一例を示す側面図である。図15(b) は図15(a) に
示すプローブヘッドのプローブヘッドボディ117内部
の導波管/コプレーナライン(誘電体ブレード)変換部
を示す分解斜視図である。図において、154a,15
4bは導波管152と同一の内側の寸法を有する導波管
を形成する導体接地外郭部材であり、プローブヘッドボ
ディ117内部に収納される。また118は導体接地外
郭部材154aに設けられたリッジ部である。リッジ部
118は導波管内部上面より徐々に突出しており、先端
部分において誘電体ブレード106の導体信号線路と接
続されている。図16は上記プローブヘッドの導波管/
コプレーナライン(誘電体ブレード)変換部の接続状態
を示す断面図であり、図16(b)に示すように、リッジ
部118の先端部分は導線155により下向きのコプレ
ーナラインの導体信号線路101に接続されている。
【0010】図17は図12,図15に示す従来の高周
波帯プローブを用いて高周波帯ICの評価を行っている
状態を示す斜視図である。高周波帯IC160の入出力
インターフェイス部分は、半導体基板161上に配置さ
れた信号線の端部に設けられた信号電極パッド162
と、バイアホール164を介して基板161裏面に形成
された裏面接地導体170に接続された接地電極パッド
163とにより構成されるコプレーナライン構造を有す
る。一方、前記従来例のプローブヘッドはいずれも先端
部に誘電体ブレード116(下向きコプレーナライン)
を有しており、この誘電体ブレード116の信号コンタ
クト部109,接地コンタクト部110をそれぞれ高周
波帯IC160の信号電極パッド162,接地電極パッ
ド163と密着させる。
【0011】図17に示す高周波帯プローブヘッドの高
周波帯ICの入出力インターフェイス部分への当接は、
図18に示す高周波帯ICの入力端子(又は出力端子)
の部分に第1(又は第2)の高周波帯プローブヘッドを
当接させることに該当する。このようにプローブヘッド
を高周波帯ICの入出力端子に当接させた状態で、第1
のプローブヘッドから例えば100GHz前後のミリ波
帯信号を高周波帯ICの入力端子に印加し、高周波帯I
Cの出力端子にあらわれるマイクロ波信号を第2のプロ
ーブヘッドで取り出して、評価装置本体で特性の評価を
行なう。
【0012】ところで、図12,図15に示す従来の高
周波帯プローブヘッドは同軸ケーブルもしくは導波管を
まず誘電体ブレード(下向きコプレーナライン)に変換
し、さらにICのインターフェイス部(コプレーナライ
ン)に変換するという2段階変換を行っているため、変
換部での通過損失,反射損失が大きくなるという問題点
がある。ここで、誘電体ブレードからICのインターフ
ェイス部への変換で生ずる損失は0.2dB程度と比較
的小さいが、例えば、20〜30GHz帯の同軸ケーブ
ルをコプレーナライン構造の誘電体ブレードに変換する
場合では0.4dB程度の損失が生じ、さらに100G
Hz帯の導波管をコプレーナライン構造の誘電体ブレー
ドに変換する場合では0.8dB程度の損失が生ずる。
【0013】図19は、特願平4−100711号に記
載された、導波管を直接ICのインターフェイス部(コ
プレーナライン)に変換する、従来の高周波帯プローブ
ヘッドを示す図であり、図19(a) は該ヘッドを下面側
からみた斜視図、図19(b)は図19(a) のXIXb−XIXb
線断面を示す図である。
【0014】この高周波帯プローブヘッド320は、水
平方向の導波管部分320aと、その一端にこれと一体
に形成された垂直方向の導波管部分320bとから構成
されている。水平方向の導波管320aの下面320d
の所定箇所には、高周波帯ICの入出力インターフェイ
ス部の接地電極パッドに接触可能な接地コンタクト部3
23が設けられている。水平方向の導波管320aの下
面320dの、上記接地コンタクト部323間には開口
部320cが形成されており、該開口部320cの中央
部分には高周波帯ICの入出力インターフェイス部の信
号電極パッドと接触可能な信号コンタクト部324が配
置されている。この信号コンタクト部324はヘッド本
体の導波管部分320a内の上面に下面方向に向かって
突出するように配置された導電性部材(リッジ部)32
2の下端322aに支持されている。
【0015】このような構造を有する高周波帯プローブ
ヘッドでは、プローブヘッド内に導波管/コプレーナラ
イン変換部分を持たず、コプレーナライン構造の誘電体
ブレード部分もないので、ミリ波帯の信号の損失を低減
することができ、精度よく特性測定を行なうことができ
る。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】従来の導波管を直接I
Cのコプレーナラインに変換する高周波帯プローブヘッ
ドは上述のように構成されているので、高周波帯ICの
評価を行なう際に、図20(a) に示すように、高周波帯
プローブヘッドのコンタクト部323,324が水平方
向の導波管部分320aに隠れた状態となり、プローブ
の際のコンタクト部と被検査ICの電極パッドとの位置
合わせ、及びこれらの接触状態の確認が困難であるとい
う問題点があった。特に被検査IC側の電極パッド間に
段差がある場合、例えば図20(b) に示すように接地電
極パッド163が信号電極パッド162よりも高いよう
な場合には、信号コンタクト部324が信号電極パッド
162に当接しないという接触不良が生ずるが、従来の
高周波帯プローブヘッドではこの接触不良の確認は困難
である。また、この従来の高周波帯プローブヘッドは、
その水平方向の導波管部分320aの前端部分が導体接
地外郭で覆われた構造を有するため、この前端部分で反
射される高周波成分を考慮して設計しなければならない
という問題点もあった。
【0017】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、容易に設計可能で、プローブの
際のコンタクト部と被検査ICの電極パッドとの位置合
わせ,及びこれらの接触状態の確認が容易な、高周波
帯、特に同軸ケーブルの使用の困難な60GHz以上の
ミリ波帯において低損失,低反射のプローブを得ること
を目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明に係る高周波帯
プローブヘッドは、一端が開放端構造である導波管の該
開放端近傍の上部内面に設けられた、開放端に近づくほ
どその先端部分が下方に突出した形状を有するリッジ変
換部と、該リッジ変換部の先端部分に設けられた、被検
査ICの信号入力端子に当接する信号コンタクト部と、
該信号コンタクト部をはさんで導波管外郭の同一平面上
に設けられた、被検査ICの接地端子に当接する複数の
接地コンタクト部とを備え、導波管からICインターフ
ェイス部のコプレーナラインへの直接変換を行なうもの
である。
【0019】
【作用】この発明においては、導波管を開放端構造と
し、この導波管の該開放端近傍の上部内面に、先端に信
号コンタクト部を備えたリッジ変換部を設け、該信号コ
ンタクト部をはさんで導波管外郭の同一平面上に接地コ
ンタクト部を設けた構成としたから、設計が容易な、プ
ローブの際のコンタクト部と被検査ICの電極パッドと
の位置合わせ,及びこれらの接触状態の確認が容易であ
り、かつ低損失,低反射の高周波帯プローブヘッドが得
られる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例を図について説明す
る。 (実施例1)図1は本発明の第1の実施例による高周波
帯プローブヘッドを示す図であり、図1(a) はその斜視
図、図1(b) は図1(a) のIb−Ib線断面を示す図であ
る。図において、4は導波管を構成する導体接地外郭で
ある。導体からなるリッジ変換部8は、導波管の端部の
導体接地外郭4内面上部に直接設けられ、導波管の先端
部に近づくにつれて導波管の上部から下方に向けて、徐
々に突出する形状を有する。リッジ変換部8の先端部は
導体接地外郭4の先端部分の下部に設けられた切り込み
部40を突き抜ける形で導体接地外郭4の外側に突出し
ており、この突出した部分には信号コンタクト部9が設
けられる。また、接地コンタクト部10は導体接地外郭
4の下面上に、信号コンタクト部9を挟むように配置さ
れる。ここで信号コンタクト部9と接地コンタクト部1
0の中心間の距離は100〜250ミクロンである。ま
た、図において1は高周波帯プローブヘッド全体を示
す。
【0021】図2は本第1の実施例による高周波帯プロ
ーブヘッド1を用いて高周波帯ICの評価を行っている
状態を示す斜視図である。高周波帯IC2の入出力イン
ターフェイス部分は、半導体基板11上に配置された信
号線の端部に設けられた信号電極パッド12と、バイア
ホール14を介して基板11裏面に形成された裏面接地
導体20に接続された接地電極パッド13とにより構成
されるコプレーナライン構造を有する。本第1の実施例
による高周波帯プローブヘッドを用いて高周波帯ICの
評価を行なう場合、信号コンタクト部9,接地コンタク
ト部10をそれぞれ高周波帯IC2の信号電極パッド1
2,接地電極パッド13と密着させる。ここで、通常、
高周波帯IC2の電極パッド12,13間の間隔は、高
周波帯プローブヘッドのコンタクト部9,10間の間隔
に合わせて作製されるので、プローブする際に信号コン
タクト部が正確に信号電極パッドに位置合わせされれ
ば、接地コンタクト部は自ずと接地電極パッドに位置合
わせされる。本実施例では導波管の端部が導体接地外郭
で覆われていないので、リッジ部の位置を端部側から容
易に確認することができ、このリッジ部の位置に基づい
て容易に信号コンタクト部を信号電極パッドに位置合わ
せすることができる。しかも本実施例では、信号コンタ
クト部9,接地コンタクト部10が導波管の端部に並ぶ
ように配置されているので、信号コンタクト部9,及び
接地コンタクト部10と高周波帯IC2の信号電極パッ
ド12,及び接地電極パッド13との接触状態を目視に
より容易に確認することができる。
【0022】この状態で、従来例と同様に、高周波帯I
Cの入力端子側に当接した高周波帯プローブヘッドから
例えば100GHz前後のミリ波帯信号を高周波帯IC
の入力端子に印加し、高周波帯ICの出力端子にあらわ
れるマイクロ波信号を高周波帯ICの出力端子に当接し
た高周波帯プローブヘッドで取り出して、評価装置本体
で特性の評価を行なう。
【0023】このように、本実施例では、導波管を開放
端構造とし、この導波管の該開放端近傍の上部内面に、
先端に信号コンタクト部を備えたリッジ変換部を設け、
該信号コンタクト部をはさんで導波管外郭の同一平面上
に接地コンタクト部を設けたので、プローブの際のコン
タクト部と被検査ICの電極パッドとの位置合わせ,及
びこれらの接触状態の確認を容易とできる。また、本実
施例は、導波管が開放端構造であり、高周波信号の導波
管端部における反射がプローブヘッドのインピーダンス
に影響を与えないので、設計が極めて容易である。
【0024】(実施例2)ところで、被評価装置が高周
波信号の入出力端子とは別にDC入出力端子を備えた高
周波帯ICである場合とは異なり、例えば高周波帯トラ
ンジスタ単体のように高周波信号入力部とDC入力部、
高周波信号出力部とDC出力部が同じ端子となっている
ものを評価する場合は、高周波帯プローブヘッドの信号
コンタクト部から高周波,DCの両方を入出力する必要
がある。上記第1の実施例ではリッジ部8は導体接地外
郭と等電位、即ち接地された構成となっており、信号コ
ンタクト部の電位を制御することはできないので、上述
のように高周波信号入力部とDC入力部、高周波信号出
力部とDC出力部が同じ端子となっているものを評価す
ることが困難である。
【0025】図3は高周波信号入力部とDC入力部、高
周波信号出力部とDC出力部が同じ端子となっている高
周波帯装置の評価を容易に行なうことのできる本発明の
第2の実施例による高周波帯プローブヘッドを示す図で
あり、図3(a) はその斜視図、図3(b) は図3(a) のII
Ib−IIIb線断面を示す図である。図において、導体から
なるリッジ変換部80は、導波管の端部の導体接地外郭
4内面上部にDCブロック用誘電体層15を介して設け
られ、上記第1の実施例のリッジ変換部と同様、導波管
の先端部に近づくにつれて導波管の上部から下方に向け
て、徐々に突出する形状を有し、導体接地外郭4の先端
部分の下部に設けられた切り込み部40を突き抜ける形
で導体接地外郭4の外側に突出したリッジ変換部80の
先端部分には信号コンタクト部9が設けられる。また、
接地コンタクト部10は導体接地外郭4の下面上に、信
号コンタクト部9を挟むように配置される。また、17
は誘電体基板であり、該基板上にはバイアス回路が形成
されている。18は貫通コンデンサである。16aはリ
ッジ変換部80とバイアス回路とを接続するワイヤ、1
6bはバイアス回路と貫通コンデンサを接続するワイヤ
である。
【0026】図4は本第2の実施例による高周波帯プロ
ーブヘッド1を用いて高周波帯ICの評価を行っている
状態を示す斜視図である。ここでは高周波信号入力部と
DC入力部、高周波信号出力部とDC出力部が同じ端子
となっている被評価高周波帯装置として、ソース接地型
の高周波帯トランジスタを例として示す。高周波帯トラ
ンジスタ3のゲート信号入力部分は、半導体基板11上
に配置された信号線の端部に設けられた信号電極パッド
12と、バイアホール14を介して基板11裏面に形成
された裏面接地導体20に接続された接地電極パッド1
3とにより構成されるコプレーナライン構造を有する。
またソース電極35はバイアホール14を介して接地さ
れており、ゲート電極36は信号電極パッド12が設け
られた信号線に接続され、ドレイン電極37はコプレー
ナライン構造の出力端子に接続される。本第2の実施例
による高周波帯プローブヘッドを用いて高周波帯トラン
ジスタの評価を行なう場合、トランジスタに信号を印加
する側のプローブヘッド(信号入力側プローブヘッド)
の信号コンタクト部9,接地コンタクト部10をそれぞ
れ高周波帯トランジスタの信号電極パッド12,接地電
極パッド13と密着させ、トランジスタからの出力信号
を取り出す側のプローブヘッド(信号出力側プローブヘ
ッド)の信号コンタクト部9,接地コンタクト部10を
それぞれ図示しない高周波帯トランジスタの出力端子側
の信号電極パッド,及びこの出力端子とともにコプレー
ナライン構造を構成する接地電極パッドに密着させる。
この状態で、信号入力側プローブヘッドの信号コンタク
ト部9より高周波帯トランジスタの信号電極パッド12
に高周波信号と直流バイアスとを与え、高周波帯トラン
ジスタの出力端子側の信号電極パッドに現れる高周波出
力信号とDC信号とを信号出力側プローブヘッドの信号
コンタクト部9より取り出し、評価装置により評価を行
なう。
【0027】ここで、本実施例では、リッジ部80及び
信号コンタクト部9は誘電体層15により、接地されて
いる導波管外郭4と絶縁されているため自由な電位の設
定が可能である。リッジ部80の電位設定は貫通コンデ
ンサ18,ワイヤ16b,バイアス回路17,及びワイ
ヤ16aを介して外部より行なう。ここで、ワイヤ16
aはインダクタンス成分が大きいため高周波信号は通過
できず、よって測定周波数帯域におけるプローブヘッド
のインピーダンスに影響を与えることはない。また、こ
こでは貫通コンデンサ30が被評価ICの発振を防止す
る素子として機能するが、バイアス回路17に被評価I
Cの発振を防止する発振防止回路等を含ませることも可
能である。
【0028】このような本実施例によれば、上記第1の
実施例と同様の効果が得られるとともに、高周波信号入
力部とDC入力部、高周波信号出力部とDC出力部が同
じ端子となっている高周波帯装置の評価を容易に行なう
ことができる。なお、上記実施例ではバイアス回路17
を介してリッジ部80に電位を印加する構成としている
が、ワイヤ16aのみを介して直接印加するようにして
もよい。また,上記実施例では電位供給のための線路と
してワイヤを用いているが、導体リボンを用いることも
可能である。
【0029】(実施例3)図5は本発明の第3の実施例
による高周波帯プローブヘッドを示す図であり、図5
(a) はその斜視図、図5(b) は図5(a) のVb−Vb線断面
を示す図である。図において、図3と同一符号は同一又
は相当部分である。本第3の実施例では、導波管の先端
部近傍の側壁に信号導波方向に伸びる開孔部40が設け
られており、導体で形成された可動スタブ18が該開孔
部に挿入される。ここで、開孔部の長さL1 は1/4波
長以上、スタブの長さL2 は1/4波長程度である。
【0030】図6は本第3の実施例による高周波帯プロ
ーブヘッドを用いて高周波帯ICの評価を行っている状
態を示す斜視図であり、図において、図4と同一符号は
同一又は相当部分である。本実施例による高周波帯プロ
ーブヘッドを用いた高周波トランジスタの評価は、上記
第2の実施例と同様、信号入力側プローブヘッドの信号
コンタクト部9,接地コンタクト部10をそれぞれ高周
波帯トランジスタの信号電極パッド12,接地電極パッ
ド13と密着させ、信号出力側プローブヘッドの信号コ
ンタクト部9,接地コンタクト部10をそれぞれ図示し
ない高周波帯トランジスタの出力端子側の信号電極パッ
ド,及びこの出力端子とともにコプレーナライン構造を
構成する接地電極パッドに密着させた状態で、信号入力
側プローブヘッドの信号コンタクト部9より高周波帯ト
ランジスタの信号電極パッド12に高周波信号と直流バ
イアスとを与え、高周波帯トランジスタの出力端子側の
信号電極パッドに現れる高周波出力信号とDC信号とを
信号出力側プローブヘッドの信号コンタクト部9より取
り出して行なう。
【0031】ここで、本実施例では導波管外郭4側面の
開孔部に設けられた可動スタブ18が信号伝達方向(図
5(b) 中のx方向)及び導波管中心方向(図5(b) 中の
y方向)に移動することにより、被測定素子端面でのイ
ンピーダンスの位相及び絶対値の調整を行なう。可動ス
タブ18の長さは1/4波長程度、すなわち1mm以下で
あり、マイクロマシン技術を用いた静動モータによる駆
動等が考えられる。
【0032】このような本実施例によれば、上記第1,
第2の実施例と同様の効果が得られるとともに、被測定
素子端面でのインピーダンスの位相及び絶対値の調整を
行なうことができる。
【0033】なお、スタブによる調整は、一般に高周波
トランジスタ単体の評価を行なう場合に必要となるもの
であるので、本第3の実施例では高周波入力とDC入力
を同一のパッドから行なうことのできる構成、即ち図3
に示す本発明の第2の実施例の高周波帯プローブヘッド
に可動スタブを設けたものについて示したが、高周波入
力とDC入力を異なるパッドより行なう高周波集積回路
においても稀にスタブにより調整して評価を行なう場合
があり、このような場合は図1に示す本発明の第1の実
施例の高周波帯プローブヘッドに可動スタブを設けた構
成とすることも可能である。
【0034】(実施例4)ところで、被評価装置の表面
のフラットネスが悪い場合、特に、図20で示したよう
に、接地電極パッドが信号電極パッドよりも高いような
場合、あるいは逆に信号電極パッドが接地電極パッドよ
りも高いような場合には、高周波帯プローブヘッドのコ
ンタクト部が被評価装置の電極パッドに正常に接触しな
いため、評価を精度よく行なうことができない。
【0035】図7(a) は被評価装置の表面のフラットネ
スが悪い場合にも評価を精度よく行なうことのできる本
発明の第4の実施例による高周波帯プローブヘッドを示
す図であり、図7(b) はその使用時の状態を示す図であ
る。図において、図1と同一符号は同一又は相当部分で
あり、41は導体接地外郭4のリッジ変換部8が設けら
れた部分の両側にリッジ変換部8に沿って設けられた切
込み(スリット)である。
【0036】本実施例では、導波管上面の導体接地外郭
4に図のようなスリット41を備えているので、IC表
面のフラットネスが悪い場合、例えば、図7(b) に示す
ように、信号電極パッド14が接地電極パッドよりも高
い場合には、導体接地外郭4のスリット41に挟まれた
部分が上方に湾曲し、IC表面の段差分を吸収でき、高
周波帯プローブヘッドのコンタクト部とICのパッドと
の接触を良好に得ることができる。
【0037】なお、図7に示すように、信号コンタクト
部9と接地コンタクト部10のパッド接触面を面一に構
成した場合には、接地電極パッドが信号電極パッドより
も高い場合に信号コンタクト部9が信号電極パッド12
に接触不能となるが、図8(a) に示す変形例のように、
リッジ部8の上下方向の寸法を大きくする、あるいは信
号コンタクト部材の厚みを厚くすることにより、信号コ
ンタクト部9が接地コンタクト部10よりも突出した構
造とすることにより、図8(b) に示すように、接地電極
パッドが信号電極パッドよりも高い場合にも良好な接触
状態を得ることができる。ここで突出寸法h1 は、被評
価装置の電極パッド間で予期される段差に応じて設定す
ればよい。
【0038】なお、上記実施例では、上記第1の実施例
の高周波帯プローブヘッドの導体接地外郭にスリットを
設けたものについて示したが、第2,第3の実施例の高
周波帯プローブヘッドの導体接地外郭4にスリットを設
けてもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
【0039】(実施例5)ところで、図18にも示すよ
うに、高周波帯プローブを用いて高周波帯ICの評価を
行なう場合、高周波帯ICの入力端子に対して高周波信
号を印加する入力側の高周波帯プローブと、高周波帯I
Cの出力端子からの高周波信号を受ける出力側の高周波
帯プローブとを対で用いるのが一般的である。一方、上
記第1〜第4の実施例の高周波帯プローブヘッドは、先
端が開孔状態(開放端構造)であるため、若干の信号の
洩れ出し,洩れ込みが発生し、特に上述のごとく入力
側,及び出力側のプローブヘッドを対で用いる場合のよ
うに、複数のプローブヘッドを近距離で対向させて使用
する場合には相互のアイソレーションの劣化が懸念され
る。
【0040】図9は複数のプローブヘッドを近距離で対
向させて使用する場合のプローブヘッド間相互のアイソ
レーションの劣化を防止できる、本発明の第5の実施例
による高周波帯プローブ(高周波帯プローブセット)を
示す側面図である。図において19は接地導体もしくは
電波吸収材料で形成された遮蔽板である。信号入力側プ
ローブヘッド1aと信号出力側プローブヘッド1bは、
対向した状態で、その信号コンタクト部9a,9b間の
間隔dが被評価装置の入力信号電極パッドと出力信号電
極パッド間の間隔となるように、導体からなる固定治具
50により固定されている。固定治具50とプローブヘ
ッド1a,1bとの固着は、溶接又は導伝性接着材によ
り行なう。遮蔽板19を接地導体とする場合には固定治
具50と一体成形することができる。プローブヘッド1
a,1bは評価する高周波帯装置に応じて上記第1〜第
4の実施例の何れかの構造のものを用いる。なお、接地
コンタクト部は図示していない。
【0041】図10は図9に示す高周波帯プローブセッ
トを用いて高周波帯ICの評価をオンウエハ状態で行な
っている状態を示す側面図である。図において、12
a,及び12bは高周波帯ICの入力信号電極パッド,
及び出力信号電極パッドである。本第5の実施例による
高周波帯プローブセットを用いて高周波帯ICを評価す
る場合、信号入力側プローブヘッド1aの信号コンタク
ト部9aを高周波帯ICの入力信号電極パッド12a
に、信号出力側プローブヘッド1bの信号コンタクト部
9bを高周波帯ICの入力信号電極パッド12bにそれ
ぞれ密着させる。図示しないが、このときそれぞれのプ
ローブヘッドの接地コンタクト部は高周波帯ICの接地
電極パッドに当接される。この状態で、信号コンタクト
部9aより高周波信号を入力信号電極パッド12aに印
加し、出力信号電極パッド12bに現れる高周波信号を
信号コンタクト部9bにより取り出して高周波帯ICの
評価を行なう。ここで、本実施例のプローブセットはヘ
ッドの間に接地導体もしくは電波吸収材料からなる遮蔽
板19があるためヘッド間の良好なアイソレーションが
得られる。
【0042】なお、上記実施例ではプローブヘッド1
a,1bを固定治具50に固着したものについて示した
が、ネジ止め式等とすることによりコンタクト部9a,
9b間の間隔dを可変とすることも可能である。
【0043】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、一端が
開放端構造である導波管の該開放端近傍の上部内面に設
けられた、開放端に近づくほどその先端部分が下方に突
出した形状を有するリッジ変換部と、該リッジ変換部の
先端部分に設けられた、被検査ICの信号入力端子に当
接する信号コンタクト部と、該信号コンタクト部をはさ
んで導波管外郭の同一平面上に設けられた、被検査IC
の接地端子に当接する複数の接地コンタクト部とを備え
た構成としたから、設計が容易な、プローブの際のコン
タクト部と被検査ICの電極パッドとの位置合わせ,及
びこれらの接触状態の確認が容易であり、かつ低損失,
低反射の高周波帯プローブヘッドが得られる効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例による高周波帯プローブ
を示す図である。
【図2】図1の高周波帯プローブを用いて高周波帯IC
の評価を行っている状態を示す斜視図である。
【図3】本発明の第2の実施例による高周波帯プローブ
を示す図である。
【図4】図3の高周波帯プローブを用いて高周波帯IC
の評価を行っている状態を示す斜視図である。
【図5】本発明の第3の実施例による高周波帯プローブ
を示す図である。
【図6】図5の高周波帯プローブを用いて高周波帯IC
の評価を行っている状態を示す斜視図である。
【図7】本発明の第4の実施例による高周波帯プローブ
及びこれを用いて高周波帯ICの評価を行っている状態
を示す斜視図である。
【図8】本発明の第4の実施例による高周波帯プローブ
の変形例を説明するための図である。
【図9】本発明の第5の実施例による高周波帯プローブ
セットを示す図である。
【図10】図9の高周波帯プローブセットを用いて高周
波帯ICの評価を行っている状態を示す図である。
【図11】同軸ケーブル,コプレーナライン,及び導波
管を示す図である。
【図12】同軸ケーブルをコプレーナラインに変換する
従来の同軸型高周波帯プローブヘッドの一例を示す分解
斜視図である。
【図13】プローブヘッドの構成部品である誘電体ブレ
ード(下向きコプレーナライン)の先端部の裏面を示す
図である。
【図14】図12に示すプローブヘッドの同軸/コプレ
ーナライン(誘電体ブレード)変換部を示す断面図であ
る。
【図15】導波管をコプレーナラインに変換する従来の
導波管型高周波帯プローブヘッドの一例を説明するため
の図である。
【図16】図15に示すプローブヘッドの導波管/コプ
レーナライン(誘電体ブレード)変換部の接続状態を示
す断面図である。
【図17】従来の高周波帯プローブを用いて高周波帯I
Cの評価を行っている状態を示す斜視図である。
【図18】高周波帯ICを評価する装置の構成の一例を
示す概略図である。
【図19】導波管を直接ICのインターフェイス部(コ
プレーナライン)に変換する従来の高周波帯プローブヘ
ッドを示す図である。
【図20】図19に示す高周波帯プローブヘッドにおけ
る問題点を説明するための図である。
【符号の説明】
4 導体接地外郭 8 リッジ部 9 信号コンタクト部 10 接地コンタクト部 11 半導体基板 12 IC側信号電極パッド 13 IC側接地電極セッド 14 バイアホール 15 DCブロック用誘電体層 16 ワイヤ 17 バイアス回路 18 可動スタブ 19 遮蔽板 20 裏面接地導体 30 貫通コンデンサ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高周波帯信号が用いられる装置の特性を
    測定するための高周波帯プローブヘッドにおいて、 一端が開放端構造である導波管と、 該導波管の上記開放端近傍の上部内面に設けられ、上記
    開放端に近づくほどその先端部分が下方に突出した形状
    を有するリッジ変換部と、 該リッジ変換部の先端部分に設けられ、被検査装置の信
    号入力端子に当接する信号コンタクト部と、 該信号コンタクト部をはさんで導波管外郭の同一平面上
    に設けられ、被検査装置の接地端子に当接する複数の接
    地コンタクト部とを備えたことを特徴とする高周波帯プ
    ローブヘッド。
  2. 【請求項2】 上記リッジ部は、導波管を構成する導体
    接地外郭の内面に誘電体層を介して固着されており、上
    記導体接地外郭とDC的に絶縁されていることを特徴と
    する請求項1記載の高周波帯プローブヘッド。
  3. 【請求項3】 上記リッジ部に接続された大きなインダ
    クタンスを有する線路を備え、該線路を介して上記リッ
    ジ部にDC電位が与えられることを特徴とする請求項2
    記載の高周波帯プローブヘッド。
  4. 【請求項4】 上記導波管を構成する導体接地外郭に設
    けられた導波管進行方向に長さλ/4(λ:波長)以上
    の開孔部と、 該開孔部に挿入され、導波管進行方向及び導波管中心方
    向にそれぞれ独立に可動するスタブとを備えたことを特
    徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の高
    周波帯プローブヘッド。
  5. 【請求項5】 上記導波管を構成する導体接地外郭の上
    記リッジ変換部が設けられた部分の両側に上記リッジ変
    換部に沿って設けられた切込みを備えたことを特徴とす
    る請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の高周波帯
    プローブヘッド。
  6. 【請求項6】 一端が開放端構造である導波管と、該導
    波管の上記開放端近傍の上部内面に設けられ、上記開放
    端に近づくほどその先端部分が下方に突出した形状を有
    するリッジ変換部と、該リッジ変換部の先端部分に設け
    られ、被検査装置の信号入力端子に当接する信号コンタ
    クト部と、該信号コンタクト部をはさんで導波管外郭の
    同一平面上に設けられ、被検査装置の接地端子に当接す
    る複数の接地コンタクト部とを備えた高周波帯プローブ
    ヘッドが複数個対向して配置されて構成される高周波帯
    プローブヘッドであって、 導波管先端開孔部同士の間に電波吸収体もしくは接地導
    体からなる平板を備えたことを特徴とする高周波帯プロ
    ーブヘッド。
JP4213552A 1992-07-17 1992-07-17 高周波帯プローブヘッド Pending JPH0634715A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4213552A JPH0634715A (ja) 1992-07-17 1992-07-17 高周波帯プローブヘッド
US07/995,695 US5408188A (en) 1992-07-17 1992-12-23 High frequency wafer probe including open end waveguide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4213552A JPH0634715A (ja) 1992-07-17 1992-07-17 高周波帯プローブヘッド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0634715A true JPH0634715A (ja) 1994-02-10

Family

ID=16641097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4213552A Pending JPH0634715A (ja) 1992-07-17 1992-07-17 高周波帯プローブヘッド

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5408188A (ja)
JP (1) JPH0634715A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0923107A (ja) * 1995-07-10 1997-01-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> シールド型コプレーナガイド伝送線路
JPH10115636A (ja) * 1996-09-11 1998-05-06 Kiyota Seisakusho:Kk ミリ波デバイス用プロ−ブ
US5827720A (en) * 1995-12-28 1998-10-27 Kikkoman Corporation α-glucosidase, and a process for producing the same
JPH11258270A (ja) * 1998-03-16 1999-09-24 Nec Corp 先端脱着式高周波プローブ
JP2000188501A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体スイッチ
US6242930B1 (en) 1997-11-21 2001-06-05 Nec Corporation High-frequency probe capable of adjusting characteristic impedance in end part and having the end part detachable
US6310483B1 (en) 1997-10-31 2001-10-30 Nec Corporation Longitudinal type high frequency probe for narrow pitched electrodes
JP2006194765A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Molex Inc 高周波プローブ装置
EP3349299A1 (en) 2017-01-11 2018-07-18 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Cable for transmitting electromagnetic waves
JP2020506603A (ja) * 2017-01-26 2020-02-27 ケーエムダブリュ・インコーポレーテッド 伝送線路−導波管転移装置

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5345170A (en) 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US6380751B2 (en) 1992-06-11 2002-04-30 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having environment control enclosure
US5561377A (en) 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
US6232789B1 (en) 1997-05-28 2001-05-15 Cascade Microtech, Inc. Probe holder for low current measurements
US5914613A (en) 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6002263A (en) 1997-06-06 1999-12-14 Cascade Microtech, Inc. Probe station having inner and outer shielding
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6445202B1 (en) 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6838890B2 (en) 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
DE10035584A1 (de) * 2000-07-21 2002-01-31 Philips Corp Intellectual Pty Mobilfunkgerät
US6798223B2 (en) * 2000-07-28 2004-09-28 Hei, Inc. Test methods, systems, and probes for high-frequency wireless-communications devices
US6965226B2 (en) 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US6914423B2 (en) 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
DE10143173A1 (de) 2000-12-04 2002-06-06 Cascade Microtech Inc Wafersonde
US7355420B2 (en) 2001-08-21 2008-04-08 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6777964B2 (en) 2002-01-25 2004-08-17 Cascade Microtech, Inc. Probe station
WO2003100445A2 (en) 2002-05-23 2003-12-04 Cascade Microtech, Inc. Probe for testing a device under test
US6847219B1 (en) 2002-11-08 2005-01-25 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low noise characteristics
US6724205B1 (en) 2002-11-13 2004-04-20 Cascade Microtech, Inc. Probe for combined signals
US7250779B2 (en) 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US6861856B2 (en) 2002-12-13 2005-03-01 Cascade Microtech, Inc. Guarded tub enclosure
US7221172B2 (en) 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US7492172B2 (en) 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US7250626B2 (en) 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
US7187188B2 (en) 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
DE202004021093U1 (de) 2003-12-24 2006-09-28 Cascade Microtech, Inc., Beaverton Aktiver Halbleiterscheibenmessfühler
EP1754072A2 (en) 2004-06-07 2007-02-21 CASCADE MICROTECH, INC. (an Oregon corporation) Thermal optical chuck
US7330041B2 (en) 2004-06-14 2008-02-12 Cascade Microtech, Inc. Localizing a temperature of a device for testing
KR100600482B1 (ko) * 2004-06-22 2006-07-13 삼성전자주식회사 반도체 패키지 측정용 프로브
KR101157449B1 (ko) 2004-07-07 2012-06-22 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 멤브레인 서스펜디드 프로브를 구비한 프로브 헤드
EP1789812A2 (en) 2004-09-13 2007-05-30 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7449899B2 (en) 2005-06-08 2008-11-11 Cascade Microtech, Inc. Probe for high frequency signals
JP5080459B2 (ja) 2005-06-13 2012-11-21 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド 広帯域能動/受動差動信号プローブ
WO2007146285A2 (en) 2006-06-09 2007-12-21 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probe with integral balun
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7443186B2 (en) 2006-06-12 2008-10-28 Cascade Microtech, Inc. On-wafer test structures for differential signals
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
US8410806B2 (en) 2008-11-21 2013-04-02 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
US8319503B2 (en) 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test
FR2940859A1 (fr) * 2009-01-07 2010-07-09 Ecole Nationale Superieure D E Ensemble d'adaptation d'impedance, circuit electronique et procedes de fabrication associes
DE102009051370A1 (de) * 2009-06-04 2010-12-09 Rohde & Schwarz Gmbh & Co Kg Messkoppler in Bandleitertechnik
WO2012024007A2 (en) * 2010-05-21 2012-02-23 University Of Virginia Patent Foundation Micromachined on-wafer probes and related method
EP3373017B1 (en) 2017-03-07 2024-05-29 Nxp B.V. A testing system for millimetre wave packaged integrated circuits
DE102017214871A1 (de) * 2017-08-24 2019-02-28 Astyx Gmbh Übergang von einer Streifenleitung auf einen Hohlleiter

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4697143A (en) * 1984-04-30 1987-09-29 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe
US5262739A (en) * 1989-05-16 1993-11-16 Cornell Research Foundation, Inc. Waveguide adaptors

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0923107A (ja) * 1995-07-10 1997-01-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> シールド型コプレーナガイド伝送線路
US5827720A (en) * 1995-12-28 1998-10-27 Kikkoman Corporation α-glucosidase, and a process for producing the same
JPH10115636A (ja) * 1996-09-11 1998-05-06 Kiyota Seisakusho:Kk ミリ波デバイス用プロ−ブ
US6310483B1 (en) 1997-10-31 2001-10-30 Nec Corporation Longitudinal type high frequency probe for narrow pitched electrodes
US6242930B1 (en) 1997-11-21 2001-06-05 Nec Corporation High-frequency probe capable of adjusting characteristic impedance in end part and having the end part detachable
JPH11258270A (ja) * 1998-03-16 1999-09-24 Nec Corp 先端脱着式高周波プローブ
JP2000188501A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体スイッチ
JP2006194765A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Molex Inc 高周波プローブ装置
EP3349299A1 (en) 2017-01-11 2018-07-18 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Cable for transmitting electromagnetic waves
JP2020506603A (ja) * 2017-01-26 2020-02-27 ケーエムダブリュ・インコーポレーテッド 伝送線路−導波管転移装置
US11101535B2 (en) 2017-01-26 2021-08-24 Kmw Inc. Transmission line-waveguide transition device comprising a waveguide having a ridge connected to the transmission line at a reduced width ground transition area

Also Published As

Publication number Publication date
US5408188A (en) 1995-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0634715A (ja) 高周波帯プローブヘッド
US4697143A (en) Wafer probe
US6856131B2 (en) Magnetic sensor, side-opened TEM cell, and apparatus using such magnetic sensor and side-opened TEM cell
JP5147826B2 (ja) ミリ波用途のための導波管−平面伝送線路変換器を構築し、パッケージするための装置及び方法
US5770989A (en) Nonradiative dielectric line apparatus and instrument for measuring characteristics of a circuit board
US4980636A (en) Universal nondestructive MM-wave integrated circuit test fixture
US4837529A (en) Millimeter wave microstrip to coaxial line side-launch transition
US5869898A (en) Lead-frame having interdigitated signal and ground leads with high frequency leads positioned adjacent a corner and shielded by ground leads on either side thereof
JP2001044716A (ja) ストリップライン給電装置
US4965514A (en) Apparatus for probing a microwave circuit
JPH047603B2 (ja)
US4970522A (en) Waveguide apparatus
US11994539B2 (en) Optical voltage probe
JPH1041714A (ja) 誘電体線路
US5151652A (en) Measuring position for microwave components
JP2803551B2 (ja) マイクロストリップ導波管変換回路
JP3462062B2 (ja) 高周波用伝送線路の接続構造および配線基板
JPH08250911A (ja) 高周波気密モジュール
JP3435241B2 (ja) テープ状半導体搭載装置の評価装置
US11391765B2 (en) Test socket assembly with waveguide antenna probe
JPH05199019A (ja) 高周波回路パッケージ
JPH04206845A (ja) 高周波プローブ針
JP4821391B2 (ja) 回路基板の接続構造
JPH0262064A (ja) セラミックパッケージ
JP2631883B2 (ja) Rf整合終端装置