JPH0655218B2 - 人工基底膜及びその製造方法 - Google Patents
人工基底膜及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0655218B2 JPH0655218B2 JP61004310A JP431086A JPH0655218B2 JP H0655218 B2 JPH0655218 B2 JP H0655218B2 JP 61004310 A JP61004310 A JP 61004310A JP 431086 A JP431086 A JP 431086A JP H0655218 B2 JPH0655218 B2 JP H0655218B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- basement membrane
- producing
- same
- artificial basement
- artificial
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、人工基底膜及びその製造方法に関する。基底
膜は、上皮細胞、内皮細胞及び中皮細胞の基底面に存在
するコラーゲンと糖蛋白質を主成分とする細胞間質であ
る。現在、基底膜は癌の転移や上皮一間充織糸における
上皮細胞の増殖制御の調節等、生物学的に重要な役割を
果していることが判明してきている。しかし、この基底
膜はin vitroで人工的に作成することは一般に極めて難
しく、又、ラミニンタイプIVコラーゲン、ＨＳＰＧＳ
(ヘパラン硫酸、プロテオグリカン等)を主成分として再
構成させる方法では、生成された人工基底膜は生体組織
内のものとは著しくその構造が異なっていた。
膜は、上皮細胞、内皮細胞及び中皮細胞の基底面に存在
するコラーゲンと糖蛋白質を主成分とする細胞間質であ
る。現在、基底膜は癌の転移や上皮一間充織糸における
上皮細胞の増殖制御の調節等、生物学的に重要な役割を
果していることが判明してきている。しかし、この基底
膜はin vitroで人工的に作成することは一般に極めて難
しく、又、ラミニンタイプIVコラーゲン、ＨＳＰＧＳ
(ヘパラン硫酸、プロテオグリカン等)を主成分として再
構成させる方法では、生成された人工基底膜は生体組織
内のものとは著しくその構造が異なっていた。
上記に鑑み、本発明者らはコラーゲンゲル内に繊維芽細
胞をうめ込んだ凝結合織上に、基底膜要素を重層培養す
ることで天然の基底膜と構造的に極めて均等な人工基底
膜を製造することに成功した。また上記方法で作成した
再構成基底膜上で皮膚由来上皮細胞を培養したところ、
著しく優れた増殖能を示し、３週間経過時には、上皮細
胞の均一な多層構造の形成を光学及び電子顕微鏡で観察
することができた。さらに上述した培養皮膚をネズミに
移植したところ、創傷治癒も著しく昂進され、またケロ
イド状瘢痕も全く認められなかった。
胞をうめ込んだ凝結合織上に、基底膜要素を重層培養す
ることで天然の基底膜と構造的に極めて均等な人工基底
膜を製造することに成功した。また上記方法で作成した
再構成基底膜上で皮膚由来上皮細胞を培養したところ、
著しく優れた増殖能を示し、３週間経過時には、上皮細
胞の均一な多層構造の形成を光学及び電子顕微鏡で観察
することができた。さらに上述した培養皮膚をネズミに
移植したところ、創傷治癒も著しく昂進され、またケロ
イド状瘢痕も全く認められなかった。
以下、本発明の構成等につき詳細に分説する。
基底膜構成成分 本発明において、基底膜構成成分は適量のtypeIVコラー
ゲン(ＢＲＬ社製)、ラミニン(ＢＲＬ社製)、及びファブ
ロネクチン(ＢＲＬ社製)を含むＭＥＭ培地１０％ＦＣＳ
溶液とした。
ゲン(ＢＲＬ社製)、ラミニン(ＢＲＬ社製)、及びファブ
ロネクチン(ＢＲＬ社製)を含むＭＥＭ培地１０％ＦＣＳ
溶液とした。
又、基板となる繊維芽細胞含有ゲルとしては、適量のty
peＩコラーゲン(またはアテロコラーゲン)を含むＭＥＭ
培地１０％ＦＣＳ溶液を使用した。尚、上記２溶液にヘ
パラン硫酸、コンドロイチン硫酸、ニドゲン及びエンタ
クチン等を微量に加えることにより、人工基底膜がより
良好に製造できることも確認された。
peＩコラーゲン(またはアテロコラーゲン)を含むＭＥＭ
培地１０％ＦＣＳ溶液を使用した。尚、上記２溶液にヘ
パラン硫酸、コンドロイチン硫酸、ニドゲン及びエンタ
クチン等を微量に加えることにより、人工基底膜がより
良好に製造できることも確認された。
再構成基底膜の製造 再構成基底膜は、使用対象に応じて構成因子の動物種を
選択することが必要であるが、細胞性免疫を考慮すると
基底膜内に極力細胞を含まないことが望ましい。
選択することが必要であるが、細胞性免疫を考慮すると
基底膜内に極力細胞を含まないことが望ましい。
以上の見地から次のような方法で基底膜を製造した。
第１図は本発明再構成基底膜の製造方法の１つを模式的
に示したものであり、繊維芽細胞を組み込んだtypeＩコ
ラーゲンゲル１上に細胞を含まないtypeＩコラーゲンゲ
ル２を重層、さらにその上に基底膜構成成分３を重層し
てある。このときの培養条件は５％ＣＯ2、９５％大
気、３７℃とする。
に示したものであり、繊維芽細胞を組み込んだtypeＩコ
ラーゲンゲル１上に細胞を含まないtypeＩコラーゲンゲ
ル２を重層、さらにその上に基底膜構成成分３を重層し
てある。このときの培養条件は５％ＣＯ2、９５％大
気、３７℃とする。
尚、このとき１層と２層の間にミリポアフィルター(ミ
リポア社製)等間隔を挟み込むと、基底膜中への細胞の
混入をさらに妨げることができる。
リポア社製)等間隔を挟み込むと、基底膜中への細胞の
混入をさらに妨げることができる。
又、第２図に模式的に示した様に、繊維芽細胞を組み込
んだtyplＩコラーゲンゲル１上に基底膜成分３を重層
し、５％ＣＯ2、９５％大気で７日間培養後５％ＣＯ2、
５０％Ｏ2、４５％Ｎ2に条件を変えて３日間培養する方
法も有効である。これは、繊維芽細胞が高酸素濃度下で
は増殖阻害される性質を利用したものである。この方法
に従うと前記方法に比べ、繊維芽細胞と再構成成分とが
直接接する機会が多いため、人工基底膜の構造を頑強に
することができ、さらに再構成基底膜中に繊維芽細胞が
混入することを防ぐことができる。
んだtyplＩコラーゲンゲル１上に基底膜成分３を重層
し、５％ＣＯ2、９５％大気で７日間培養後５％ＣＯ2、
５０％Ｏ2、４５％Ｎ2に条件を変えて３日間培養する方
法も有効である。これは、繊維芽細胞が高酸素濃度下で
は増殖阻害される性質を利用したものである。この方法
に従うと前記方法に比べ、繊維芽細胞と再構成成分とが
直接接する機会が多いため、人工基底膜の構造を頑強に
することができ、さらに再構成基底膜中に繊維芽細胞が
混入することを防ぐことができる。
以下本発明を実験例により詳細に説明する。
実験例１ 前記方法で製造した再構成基底膜６ml上に、１枚あたり
６×１０6個の線維芽細胞を植え、５％ＣＯ2、９５％大
気、３７℃でゲルの収縮状態を観察した。ゲル収縮の度
合は、基底膜上で培養している細胞の活発さと関係して
いることが、知られている。結果は第３図に示し、図
中、横軸は移植後の日数、縦軸はゲルの直径(cm)を表
す。
６×１０6個の線維芽細胞を植え、５％ＣＯ2、９５％大
気、３７℃でゲルの収縮状態を観察した。ゲル収縮の度
合は、基底膜上で培養している細胞の活発さと関係して
いることが、知られている。結果は第３図に示し、図
中、横軸は移植後の日数、縦軸はゲルの直径(cm)を表
す。
実験例II 前記方法で製造した再構成基底膜上にて、モルモット皮
膚上皮細胞を培養したところ著しく増殖し、３週間経過
した時点で上皮細胞の均一な多層構造が形成されること
を光学及び電子顕微鏡で観察した。さらに上記の培養上
皮細胞をモルモット背部に移植したところ、正常な角質
の形成が観察され、さらに移植後４週間観察を続けたと
ころ移植片の拒絶反応はなく、また皮膚のひこう等のケ
ロイド上瘢痕の形成は認められなかった。
膚上皮細胞を培養したところ著しく増殖し、３週間経過
した時点で上皮細胞の均一な多層構造が形成されること
を光学及び電子顕微鏡で観察した。さらに上記の培養上
皮細胞をモルモット背部に移植したところ、正常な角質
の形成が観察され、さらに移植後４週間観察を続けたと
ころ移植片の拒絶反応はなく、また皮膚のひこう等のケ
ロイド上瘢痕の形成は認められなかった。
以上から明らかな様に本発明は天然の基底膜と構造的に
極めて均等な人工基底膜とその製造方法を提示したもの
であり、上皮系細胞の培養において著効を有するものと
言い得る。
極めて均等な人工基底膜とその製造方法を提示したもの
であり、上皮系細胞の培養において著効を有するものと
言い得る。
第１図及び第２図は本発明人工基底膜の製造方法を示し
た説明図である。 第３図は、実験例Ｉの結果を示す説明図である。
た説明図である。 第３図は、実験例Ｉの結果を示す説明図である。
Claims (1)
- 【請求項１】コラーゲンゲル中で培養した繊維芽細胞を
基板とし、その上にIV型コラーゲン、糖タンパク質、ム
コ多糖を含む構成成分を重層し、生理的条件下でゲル化
させることを特徴とする人工基底膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61004310A JPH0655218B2 (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 人工基底膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61004310A JPH0655218B2 (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 人工基底膜及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62270162A JPS62270162A (ja) | 1987-11-24 |
| JPH0655218B2 true JPH0655218B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=11580911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61004310A Expired - Lifetime JPH0655218B2 (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 人工基底膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0655218B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2667246A1 (fr) * | 1990-10-02 | 1992-04-03 | Imedex | Biomateriau a base de collagene et des applications. |
| JP4074043B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2008-04-09 | 株式会社資生堂 | 皮膚基底膜形成促進剤、人工皮膚形成促進剤及び人工皮膚の製造方法 |
-
1986
- 1986-01-14 JP JP61004310A patent/JPH0655218B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62270162A (ja) | 1987-11-24 |
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