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JPH07114221B2 - Tab用テープ - Google Patents

Tab用テープ

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Publication number
JPH07114221B2
JPH07114221B2 JP20611591A JP20611591A JPH07114221B2 JP H07114221 B2 JPH07114221 B2 JP H07114221B2 JP 20611591 A JP20611591 A JP 20611591A JP 20611591 A JP20611591 A JP 20611591A JP H07114221 B2 JPH07114221 B2 JP H07114221B2
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JP
Japan
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adhesive layer
tape
adhesive
parts
resin
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JP20611591A
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JPH0529398A (ja
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章訓 清
均 成嶋
忠弘 大石
美和 塚本
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Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
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Publication date
Priority to JP2011744A priority Critical patent/JPH06105730B2/ja
Application filed by Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Tomoegawa Paper Co Ltd
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Priority to DE4224567A priority patent/DE4224567A1/de
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Priority to US08/216,432 priority patent/US5523137A/en
Publication of JPH07114221B2 publication Critical patent/JPH07114221B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの組み
立て工程において、デバイスの多ピン化、小型化、高密
度実装に際し、注目されているTAB(TapeAut
omated Bonding)方式に用いられる保護
層、接着剤層および有機絶縁フィルムの3層構造からな
るテープ(以下、TAB用テープという。)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、TAB用テープは、次のように加
工されてフィルムキャリアテープを形成する。 1)スプロケット・デバイスホールをスタンピングによ
り穿孔する。 2)穿孔されたテープに銅箔を熱圧着した後、加熱によ
り接着剤を硬化させる。 3)フォトレジストを塗布し、マスクを通して紫外線等
を照射した後、現像する。 4)デバイスホールの裏打ち、銅のエッチング、レジス
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作製し、ソルダー
レジストをかける。 5)銅、金メッキを行う。 以上の工程を経て作製されたテ−プに、チップがインナ
ーボンディングされた後、リードを切断し、プリント基
板等にアウターリードボンディングし、樹脂で封止す
る。或いは、インナーリードボンディングした後、樹脂
で封止し、周辺回路も含めて切断し、アウターリードボ
ンディングする。
【0003】TAB用テープの接着剤層および有機絶縁
フィルムは、周辺回路、封止樹脂中に残留させることが
多い。この様な場合、高密度が益々進む中、銅箔のパタ
ーン間の絶縁信頼性やチップのAl配線の腐食に影響す
るイオン性不純物が問題になる。腐蝕信頼性やイオン性
不純物は、主に接着剤の特性に起因するところが大き
い。すなわち、イオン性不純物は、上記工程3)ないし
5)において、接着剤がアルカリ(例えば、銀メッキ時
は塩素イオン、硫酸イオンの含有)、エッチング液(塩
素イオンの含有)等にさらされるために生じたり、また
接着剤そのものに含まれている場合がある。また、絶縁
信頼性は、接着剤の耐湿熱性、電気抵抗、上記イオン性
不純物等に支配される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来用いられてきたT
AB用テープの接着剤は、エポキシ系のものであるが、
これは次のような性質、すなわち、a)加工中にイオン
性不純物(特に、Clイオン)が含有されやすい、b)
湿熱により加水分解されやすい、c)電気抵抗が低い等
の性質により、パターン間の金属移行等を含め、絶縁劣
化が問題となっている。また、TAB用テープに用いら
れる接着剤は、金属である銅箔と有機絶縁フィルムとの
層間を構成するものであるため、金属および有機絶縁フ
ィルムの双方に高い接着力を持つことが要求される。従
来用いられてきたTAB用テープの接着剤層は、いずれ
も樹脂のみで構成されているものであって、これらのも
のは、a)上記工程において、接着剤層がアルカリ(例
えば、金メッキ時、レジスト剥離時)、酸(例えば、錫
メッキ時)、エッチング液等にさらされることによる銅
箔に対する接着力の低下、b)前記アルカリ、酸が接着
剤層に吸蔵されることによる絶縁信頼性の低下、c)イ
ンナーリードおよびアンターリードボンディング時、高
温下での有機絶縁フィルムに対する接着力の低下、d)
前記ボンディング後、銅箔パターンが接着剤層へめりこ
むことによって生ずるテープ本体厚さの不均化等の欠点
があり、デバイスの高密度化、多ピン化が益々進む中
で、多ピンチップのボンディングミスやリードの変形、
剥がれ等が問題になっている。
【0005】本発明は、従来のTAB用テープにおける
上記のような問題を解決することを目的とするものであ
る。すなわち、本発明の目的は、耐薬品性、耐熱性に優
れ、高い接着力を有するTAB用テープを提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のTAB用テープ
は、有機絶縁性フィルム上に、ポリアミド樹脂を主成分
とする熱硬化型の接着剤層および保護層を設けてなり、
該接着剤層が少なくとも1種類の粉体状無機充填剤を含
有することを特徴とする。
【0007】図1は、本発明のTAB用テープの模式的
断面図であって、有機絶縁フィルム1の片面に、粉体状
無機充填剤4を含有する半硬化状の接着剤層2と保護層
となる保護フィルム3が順次積層されている。図におい
ては、接着剤層2は1層構成になっているが、接着剤層
は、2層以上の層構成を有するものであってもよい。
【0008】有機絶縁フィルムとしては、厚さ25〜1
88μm、好ましくは50〜125μmのポリイミド、
ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルエーテルケトン等の耐熱性フィルムや、エポ
キシ樹脂−ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−
ガラスクロス等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁フ
ィルムが使用できる。
【0009】接着剤層は、熱硬化型のものであって、半
硬化状であることが必要であり、少なくとも1層より構
成される。接着剤層の膜厚は、10〜50μm、好まし
くは15〜〜30μmの範囲にある。接着剤層は、有機
絶縁フィルムに直接接するので、高温時においても高い
粘着性を示し、有機絶縁フィルムとの高い接着力を示
し、また、銅箔との高い接着性とフィルムキャリアへの
加工時にさらされる薬液に対して優れた耐薬品性を有す
ることが要求される。その様な要求を満たすために、本
発明においては、ポリアミド樹脂を主成分とし、少なく
とも1種類の粉体状無機充填剤を含有するものが使用さ
れるが、熱硬化性成分として、耐薬品性を付与するため
にフェノール樹脂やエポキシ樹脂を含有させるのが好ま
しい。エポキシ樹脂を使用する場合には、イミダゾール
化合物等の硬化促進剤を併用するのが好ましい。さらに
また、ポリエステル樹脂、NBR、SBR等の熱可塑性
樹脂を併用することもできる。
【0010】粉体状無機充填剤は、接着剤層の熱膨脹収
縮を抑制する作用をするものであって、粉体状のシリ
カ、アルミナ、けいそう土、酸化チタン、酸化亜鉛、酸
化マグネシウムなどの安定な金属酸化物、およびその他
の無機顔料等が使用できる。これら粉体状無機充填剤
は、その平均粒径が0.1〜30μmの範囲のものが好
ましく使用することができる。接着剤層における粉体状
無機充填剤の含有量は、1〜90重量%の範囲、特に3
〜50重量%の範囲が好ましい。粉体状無機充填剤の含
有量が90重量%よりも高くなると、TAB用テープ加
工時に、穿孔されたテープに銅箔を熱圧着する際に、十
分な接着強度が得られない場合や、接着剤自体が不透明
になることから、ボンディング時、位置合わせの際に、
テープを介した場合の視認性に支障をきたす場合があ
る。また、1重量%よりも低くなると、粉体状無機充填
剤の添加効果が生じなくなる。本発明において、接着剤
層が2層以上の層よりなる場合には、粉体状無機充填剤
は、保護フィルムと接触する層に含有させることが必要
である。
【0011】接着剤層の主成分として使用するポリアミ
ド樹脂としては、公知の種々のものが使用できる。使用
するポリアミド樹脂の分子量は、フレキシビリティー、
テープと銅箔との熱圧着時や、接着剤の硬化時の溶融特
性(デバイスホールからの接着剤のはみ出し)に関連す
るものであって、分子量が低すぎると溶融温度が低くな
り、はみ出しの問題が生じる。また、分子量が高すぎる
と、銅箔との熱圧着温度が高くなり過ぎるという問題が
生じる。したがって、本発明においては、分子量30、
000〜150,000の範囲で、軟化温度100〜1
80℃のポリアミド樹脂が好適に使用される。
【0012】さらにまた、デバイスホールからの接着剤
のはみ出し等に関連する溶融特性に影響を与える因子と
して、分子量分布があり、分子量分布が狭い場合には、
熱による急激な粘度低下を起こし、テープと銅箔との熱
圧着時にデバイスホールからのはみ出しの生じない熱圧
着条件が狭くなるので好ましくない。したがって、本発
明において使用するポリアミド樹脂は、分子量分布の広
いものが好ましい。また、ポリアミド樹脂として、例え
ば、アミド基当量(分子量/アミド基1個)が200な
いし400のポリアミド樹脂を用いると、接着剤層の吸
湿性が低くなり、また、吸湿による電気抵抗の低下を1
桁程度に抑えることができ、そして、加水分解等に対す
る耐湿性が向上し、結果的に絶縁劣化を防止することが
できるので、特に好ましい。
【0013】また、ポリアミド樹脂としては、その1分
子鎖の中で、アミド基間の炭化水素の分子量が100か
ら800の広範囲にわたるもの、そして、異なる分子量
を持つアミド基間炭化水素分子が不規則に並んで入った
ものを用いてもよい。これ等のポリアミド樹脂は、アミ
ド基当量が大きいにもかかわらず、接着性を有し、フレ
キシビリティも大きいので好ましく使用できる。
【0014】本発明において、上記ポリアミド樹脂と併
用することができるフェノール樹脂としては、フェノー
ル成分がビスフェノールAおよびアルキルフェノールか
ら選択されたビスフェノールA型、アルキルフェノール
型、またはそれ等の共縮合型のレゾール型フェノール樹
脂、およびノボラック型フェノール樹脂があげられ、1
種または2種以上のものを併用することができる。アル
キルフェノール型のレゾール型フェノール樹脂として
は、フェノール性水酸基のo−またはp−位に、メチル
基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、ノニル基等
を有するものがあげられる。これらレゾール型フェノー
ル樹脂は、加熱により反応して、接着力を有する不溶不
融の固体になり、接着剤の接着力、絶縁信頼性、耐薬品
性、耐熱性を向上させる作用があるので、好ましい。フ
ェノール樹脂は、ポリアミド樹脂100重量部に対して
5〜60重量部の範囲の配合量で配合される。
【0015】エポキシ樹脂は、ポリアミド樹脂の分子鎖
末端で反応し、また、共存させるイミダゾール化合物の
作用により容易に反応して、耐熱性および耐薬品性を向
上させる。使用できるエポキシ樹脂としては、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル、エポキシ化フェノール
ノボラック、エポキシ化クレゾールノボラック等があげ
られる。エポキシ樹脂と共存させるイミダゾール化合物
としては、2−メチルイミダゾール、2ーエチルー4ー
メチルイミダゾール等のメチルエチルケトン等、汎用溶
剤に溶解するものや、2−フェニル−4−ベンジル−5
−ヒドロキシルメチルイミダゾール等、汎用溶剤に難溶
のものなどがあげられる。エポキシ樹脂は、ポリアミド
樹脂100重量部に対して9〜88重量部の範囲の配合
量で、また、イミダゾール化合物はポリアミド樹脂10
0重量部に対して0.03〜10重量部の範囲の配合量
で使用される。
【0016】上記接着剤層の保護層となる保護フィルム
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステルのフィルムが使用で
きる。 次に、本発明のTABテープの製造法について
説明する。図2は、製造工程を示すもので、保護フィル
ム3の上に所定の配合の粉体状無機充填剤4を含有する
接着剤を、乾燥後の膜厚が上記の範囲になるように塗布
する。この際、半硬化状の状態にするために、その加熱
条件は150〜180℃で2分間乾燥させることが必要
である。
【0017】次に、形成された接着剤層2の表面に、有
機絶縁フィルム1を重ね合わせ、100〜130℃で1
kg/cm2 以上の条件で熱圧着する。得られたTAB
用テープは、巻回されて、例えば、幅30〜200mm
で30〜300mの長さのものが得られる。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。な
お、「部」は全て「重量部」を意味する。 実施例1 厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる保護フィルムに、下記組成の接着剤形成用塗料を
塗布し、160℃で2分間乾燥して、膜厚20μmの接
着剤層を形成した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 70部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 6部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 4部 シリカ(HDK H−2000、Wacker社製) 12部 次に、厚さ50μmのポリイミドフィルムからなる有機
絶縁フィルムを重ね合わせ、130℃、1kg/cm2
の条件で加熱圧着して、TAB用テープを作製した。
【0019】次に、このTAB用テープの保護フィルム
を剥がし、1オンスの電解銅箔(厚さ35〜40μm)
を貼り合わせ、130℃、1kg/cm2の条件で加熱
加圧処理を行った。その後、さらに60℃で6時間、8
0℃で6時間、120℃で3時間、および150℃で5
時間、順次加熱を行い、接着剤層の硬化を行った。さら
に常法により銅箔上にフォトレジスト膜を形成して処理
し、銅箔をエッチングし、櫛型回路を形成してフィルム
キャリアテープを作製した。
【0020】実施例2 接着剤層形成用塗料として、下記組成のものを用いた以
外は、実施例1と同様にしてTAB用テープおよびフィ
ルムキャリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 70部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 6部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 4部 2−エチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 7部 酸化チタン(R−550、石原産業社製) 12部
【0021】比較例1 接着剤層形成用塗料として、下記組成のものを用いた以
外は、実施例1と同様にして比較用のTAB用テープお
よびフィルムキャリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 100部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 8部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 8部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 2−エチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 10部
【0022】(特性評価試験)実施例1および2、およ
び比較例1のフィルムキャリアテープに対して、下記の
特性試験を行った。その結果を表1に示す。 1)線間100μmパターンを用い、121℃、2気
圧、100ボルト印加下での短絡が生じる間での時間。 2)耐薬品性(アセトンおよびメタノール浸漬による溶
解量):接着剤層の配合物を加熱硬化させた後、アセト
ンまたはメタノールにて30℃で1時間(超音波下)浸
漬した後の重量減少率(%)。 3)常温時における銅箔との接着力(100μm幅、9
0°剥離)。 4)高温時における銅箔との接着力(250℃、100
μm幅、90°剥離)。
【0023】
【表1】
【0024】表1から明らかな通り、本発明のTAB用
テープは、高い絶縁信頼性と耐薬品性を有し、常温及び
高温時においても強い接着性を備えたものであることが
確認された。
【0025】
【発明の効果】本発明のTAB用テープは、接着剤層に
粉体状無機充填剤が含有されているので、接着剤層の熱
膨脹及び収縮が抑制され、耐薬品性及び耐熱性が向上す
る。その結果、半導体デバイスの組み立て工程における
処理に際してエッチング液やメッキ液に侵され難いの
で、銅箔に対する接着力の低下を防止することができ
る。また、本発明のTAB用テープは、絶縁信頼性が高
く、接着力も高いので、多ピン化が進んで線幅が狭くな
っているパターンと有機絶縁フィルムとを確実に接着す
る事ができ、リード間の絶縁性に問題を生じることもな
い。したがって、チップと外部回路との接続に使用され
る際に、リードのピン数が増えても、リード部分にテー
プを残留させることができる。それゆえ、多ピンチップ
を実装する場合、ボンディングミスが生じがたく、搬送
工程、ボンディング工程等において、リードの変形が少
なく、歩留りが大巾に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のTAB用テープの模式的断面図であ
る。
【図2】 本発明のTAB用テープの製造工程図であ
る。
【符号の説明】
1…有機絶縁フィルム 2…接着剤層 3…保護フィルム 4…粉末状無機充填剤

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機絶縁性フィルム上に、ポリアミド樹
    脂を主成分とする熱硬化型の接着剤層および保護層を設
    けてなり、該接着剤層が少なくとも1種類の粉体状無機
    充填剤を含有することを特徴とするTAB用テープ。
  2. 【請求項2】 粉体状無機充填剤の含有量が1〜90重
    量%であることを特徴とする請求項1記載のTAB用テ
    ープ。
JP20611591A 1990-01-23 1991-07-24 Tab用テープ Expired - Lifetime JPH07114221B2 (ja)

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US08/216,432 US5523137A (en) 1991-07-24 1994-03-23 Adhesive paper for tape automated bonding
US08/612,264 US5843550A (en) 1991-07-24 1996-03-07 Adhesive tape for tape automated bonding
US08/967,901 US5945188A (en) 1991-07-24 1997-11-12 Adhesive tape for tape automated bonding

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US5707730A (en) * 1993-12-20 1998-01-13 Tomoegawa Paper Co. Ltd. Adhesive for semiconductor device and reinforcing material using the same
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