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JPH07126827A - 金属表面の複合皮膜及びその形成方法 - Google Patents

金属表面の複合皮膜及びその形成方法

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Publication number
JPH07126827A
JPH07126827A JP5294327A JP29432793A JPH07126827A JP H07126827 A JPH07126827 A JP H07126827A JP 5294327 A JP5294327 A JP 5294327A JP 29432793 A JP29432793 A JP 29432793A JP H07126827 A JPH07126827 A JP H07126827A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
coating
ceramic
sprayed
titanium nitride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5294327A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichiro Kato
周一郎 加藤
Shiyouichi Kaneki
昭一 金気
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Aluminium Co Ltd
Original Assignee
Nippon Aluminium Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Aluminium Co Ltd filed Critical Nippon Aluminium Co Ltd
Priority to JP5294327A priority Critical patent/JPH07126827A/ja
Publication of JPH07126827A publication Critical patent/JPH07126827A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 セラミック溶射皮膜のみに基づく性質を改善
し又は改質することのできる金属表面の複合皮膜を提供
することである。 【構成】 金属(基板1)表面に形成された下地溶射皮
膜2と下地溶射皮膜2上に形成されたセラミック溶射皮
膜3とからなる複合皮膜4において、下地溶射皮膜2が
窒化チタンを主成分とすることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばアルミニウム等
の金属の表面に形成された下地溶射皮膜及びセラミック
溶射皮膜からなる複合皮膜、及びその形成方法に関する
ものである。
【0002】
【従来技術及びその問題点】金属表面にセラミック溶射
皮膜を形成する場合には、金属とセラミックとの熱膨張
係数の差を緩和して両者の密着性を向上させるために、
両者の中間の熱膨張係数を有する材料からなる下地溶射
皮膜を両者間に形成することが、一般に行なわれてい
る。そして、従来、下地溶射皮膜は金属からなるもので
あった。
【0003】ところで、金属表面にセラミック溶射皮膜
を形成する目的は、絶縁性の向上、耐熱性の向上等、種
々ある。例えば、絶縁性の向上を図る場合には、所望の
絶縁性を呈する厚さ及び材料のセラミック溶射皮膜を形
成する。しかし、形成できるセラミック溶射皮膜の厚さ
には上限があるため、絶縁性の向上にも限界があった。
このような限界は、絶縁性に限らず、セラミック溶射皮
膜に基づく他の性質の発現においても同様であった。
【0004】
【発明の目的】本発明者は、下地溶射皮膜の材質に着目
し、これを変えることにより、下地溶射皮膜の性質をセ
ラミック溶射皮膜に基づく性質に相加的又は相乗的に作
用させることを考えた。即ち、本発明は、セラミック溶
射皮膜のみに基づく性質を改善し又は改質することので
きる金属表面の複合皮膜を提供することを目的とし、ま
た、そのような複合皮膜を形成することのできる方法を
提供することを目的とする。
【0005】
【目的を達成するための手段】本発明の金属表面の複合
皮膜は、金属表面に形成された下地溶射皮膜と下地溶射
皮膜上に形成されたセラミック溶射皮膜とからなる複合
皮膜において、下地溶射皮膜が窒化チタンを主成分とす
ることを特徴としている。
【0006】本発明の金属表面の複合皮膜の形成方法
は、金属表面に下地溶射皮膜を介してセラミック溶射皮
膜を形成して、両溶射皮膜からなる複合皮膜を形成する
方法において、チタンを大気中で溶射して下地溶射皮膜
を形成することを特徴としている。
【0007】
【作用】本発明の金属表面の複合皮膜においては、下地
溶射皮膜の大部分が窒化チタンからなっているので、下
地溶射皮膜はセラミックとしての性質を発現することと
なる。従って、複合皮膜の性質は、セラミック溶射皮膜
のセラミックとしての性質に、下地溶射皮膜のセラミッ
クとしての性質が作用したものとなる。
【0008】チタンは大気中にて反応して窒化チタンに
なりやすいので、本発明の金属表面の複合皮膜の形成方
法によれば、下地溶射皮膜の大部分は窒化チタンからな
るものとなる。
【0009】
【実施例】図1は本発明の方法により形成された複合皮
膜を示す断面図である。図において、1はアルミニウム
部材からなる基板、2は下地溶射皮膜、3はセラミック
溶射皮膜である。複合皮膜4は、両溶射皮膜2、3から
なっている。基板1のアルミニウム部材としてはA50
52を用い、セラミック溶射皮膜3のセラミックとして
はホワイトアルミナを用いた。また、基板1の厚さは6
mm、下地溶射皮膜2の厚さは50〜100μm、セラ
ミック溶射皮膜3の厚さは200〜300μmとした。
【0010】次に、形成方法について説明する。基板1
表面に、ブラスト処理後、粒度が10〜44μmの純チ
タン粉末をプラズマ溶射して下地溶射皮膜2を形成し
た。ブラスト処理は、アルミナグリッドを用いて行なっ
た。アルミナグリッドとしては具体的には、「アランダ
ム#24」を用いた。
【0011】次に、下地溶射皮膜2上に、粒度が10〜
45μmのホワイトアルミナをプラズマ溶射してホワイ
トアルミナからなるセラミック溶射皮膜3を形成した。
【0012】なお、下地溶射皮膜2及びセラミック溶射
皮膜3を形成する際の各プラズマ溶射は、出力60kw
級の国産のプラズマ溶射装置を用いて、表1に示す条件
で行なった。
【0013】
【表1】
【0014】こうして、アルミニウム部材からなる基板
1表面に、下地溶射皮膜2を介してセラミック溶射皮膜
3が形成された。即ち、複合皮膜4が形成された。図2
は図1のA部の拡大写真である。
【0015】上記形成方法において、下地溶射皮膜2を
形成する際に、純チタンは大気中にて反応して殆んどが
窒化チタンに変わる。このため、下地溶射皮膜2は大部
分が窒化チタンからなっており、純チタンは少量であ
る。図3は下地溶射皮膜2の組成を示すX線回折図であ
る。図3からわかるように、窒化チタンと純チタンの含
有割合は約5:1である。
【0016】窒化チタン及び純チタンの熱膨張係数は、
アルミニウムとアルミナの間に位置している。このた
め、セラミック溶射皮膜3の基板1に対する密着性は、
下地溶射皮膜2を介することによって向上している。密
着強度は、具体的には5kg・f/mm2であった。特
に、チタンはアルミニウムと反応するので、下地溶射皮
膜2の基板1に対する密着性は向上している。
【0017】セラミック溶射皮膜3は、セラミックであ
るホワイトアルミナからなっているため、絶縁性を有し
ている。下地溶射皮膜2も、大部分がセラミックである
窒化チタンからなっているため、絶縁性を有している。
従って、複合皮膜4は、セラミック溶射皮膜3のみに基
づく絶縁性よりも高い絶縁性を有することとなる。即
ち、セラミック溶射皮膜3のみに基づく絶縁性は改善さ
れたこととなる。
【0018】以下に、絶縁破壊試験の方法及びその結果
を示す。結果から、絶縁性が改善されていることがわか
る。絶縁破壊試験 ・種類:気中試験 試験方法:JIS−C2110(段階破壊試験)に準
じる。 印加周波数:800Hz(方形波) 平板−平板電極(φ25) なお、従来例は、下地溶射皮膜2としてNi・Al合金
を用いた。
【0019】また、絶縁性以外に、耐熱性、耐高温腐食
等の特性を改善することができる。
【0020】なお、下地溶射皮膜2及びセラミック溶射
皮膜3を形成する際の各プラズマ溶射の条件を表2又は
表3に示すようにしても、上記実施例と略同じ複合皮膜
4が得られた。
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】また、基板1の金属としては、例えば、種
々の鉄鋼材料、銅、銅合金、チタン、チタン合金、ニッ
ケル基合金、コバルト基合金等を用いてもよく、セラミ
ック溶射皮膜3のセラミックとしては、例えば、ジルコ
ニア、チタニア、スピネル、イットリア等を用いてもよ
い。
【0024】
【発明の効果】以上のように本発明の金属表面の複合皮
膜によれば、下地溶射皮膜2の大部分が窒化チタンから
なっているので、下地溶射皮膜2にセラミックとしての
性質を持たせることができる。従って、複合皮膜4の性
質を、セラミック溶射皮膜3のセラミックとしての性質
に、下地溶射皮膜2のセラミックとしての性質を作用さ
せてなるものにでき、セラミック溶射皮膜3のみに基づ
く性質を改善し又は改質することができる。例えば、複
合皮膜4に、セラミック溶射皮膜3のみによる絶縁性よ
り高い絶縁性を持たせることができ、更には、耐熱性、
耐高温腐食等の特性を改善することができる。
【0025】また、本発明の金属表面の複合皮膜の形成
方法によれば、大部分が窒化チタンからなる下地溶射皮
膜2を容易且つ確実に形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の方法により形成された複合皮膜を示
す断面図である。
【図2】 結晶の構造を示す図面に代わる写真であっ
て、図1の一部を拡大して示す。
【図3】 下地溶射皮膜の組成を示すX線回折図であ
る。
【符号の説明】
1 基板 2 下地溶射皮膜 3 セラミック溶射皮膜 4 複合皮膜

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属表面に形成された下地溶射皮膜と下
    地溶射皮膜上に形成されたセラミック溶射皮膜とからな
    る複合皮膜において、下地溶射皮膜が窒化チタンを主成
    分とすることを特徴とする金属表面の複合皮膜。
  2. 【請求項2】 金属表面に下地溶射皮膜を介してセラミ
    ック溶射皮膜を形成して、両溶射皮膜からなる複合皮膜
    を形成する方法において、チタンを大気中で溶射して下
    地溶射皮膜を形成することを特徴とする金属表面の複合
    皮膜の形成方法。
JP5294327A 1993-10-28 1993-10-28 金属表面の複合皮膜及びその形成方法 Pending JPH07126827A (ja)

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