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JPH07210212A - Control system - Google Patents

Control system

Info

Publication number
JPH07210212A
JPH07210212A JP340094A JP340094A JPH07210212A JP H07210212 A JPH07210212 A JP H07210212A JP 340094 A JP340094 A JP 340094A JP 340094 A JP340094 A JP 340094A JP H07210212 A JPH07210212 A JP H07210212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
algorithm
control system
chaotic
potential
state
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP340094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoki Tanaka
尚樹 田中
Yasuo Morooka
泰男 諸岡
Masahiro Shikayama
昌宏 鹿山
Masami Naito
正美 内藤
Hiroshi Okamoto
博司 岡本
Shinichiro Umemura
晋一郎 梅村
Hiroaki Okudaira
弘明 奥平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP340094A priority Critical patent/JPH07210212A/en
Publication of JPH07210212A publication Critical patent/JPH07210212A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カオス状態にあるシステムを任意の周期状態
に迅速に安定化するための制御システムを提供すること
である。 【構成】 カオスアトラクタ上の任意の領域をターゲッ
トにできるようにSOGYアルゴリズムを拡張することによ
って,周期状態への安定化のためのOGYアルゴリズムに
うまくつなげられた。またSOGYアルゴリズムの実効を確
保するために非線形予測を導入した。さらに予測の不確
かさを考慮することにより,むだな制御を省き,SOGYア
ルゴリズムの有効性を高めた。
(57) [Summary] [Objective] To provide a control system for rapidly stabilizing a system in a chaotic state to an arbitrary periodic state. [Structure] By extending the SOGY algorithm so that it can target any region on the chaotic attractor, it was successfully connected to the OGY algorithm for stabilization to periodic states. We also introduced nonlinear prediction to ensure the effectiveness of the SOGY algorithm. Furthermore, by considering the uncertainty of the prediction, unnecessary control was omitted and the effectiveness of the SOGY algorithm was improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はカオス状態を利用する制
御システムに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a control system utilizing chaotic states.

【0002】[0002]

【従来の技術】カオス状態を利用する制御技術としては
OGYアルゴリズムとSOGYアルゴリズムに基づく制御が挙
げられる。OGYアルゴリズムとは、制御対象系が相空間
におけるポアンカレ断面上の不安定周期点近傍にあると
き、系にわずかな摂動を加えて、この周期点に安定化さ
せるというものである (文献 [1] :フィジカル レビ
ュー レターズ,64, 1196-1199 (1990); Phys. Rev.
Lett. 64, 1196-1199 (1990) ) 。周期点とは周期状態
にある系の軌道がポアンカレ断面を貫く点である。OGY
アルゴリズムではポアンカレ写像が制御パラメータ p
に線形に依存することを仮定しているため、制御パラメ
ータ p の調節可能な範囲は有限な領域 Ip (=[pmin, p
max]、 即ちpmin≦p≦pmax )になる。その結果 、OGYア
ルゴリズムが有効に働くためには、系がある領域 It
になければならないという制約が課せられる。一方SOGY
アルゴリズムは系にわずかな摂動を加えて、系の状態を
カオス軌道上の任意の状態(ターゲット)に迅速に移行さ
せるものである (文献 [2] :フィジカル レビュー
レターズ,65, 3215-3218 (1990); Phy. Rev. Lett.,6
5, 3215-3218 (1990) )。これらOGYアルゴリズムとSOGY
アルゴリズムを組み合わせることにより迅速な制御が可
能になるのではないかと考えられていた (文献[3] :ジ
ャーナル オブ フィジカル ケミストリー 95, 4957-
4959 (1991);J. Phys. Chem., 95, 4957-4959 (1991)
)。
2. Description of the Related Art As a control technique utilizing a chaotic state,
Controls based on the OGY algorithm and the SOGY algorithm are included. The OGY algorithm is that when the controlled system is near an unstable periodic point on the Poincaré section in phase space, a slight perturbation is applied to the system to stabilize it at this periodic point (Reference [1] : Physical Review Letters, 64, 1196-1199 (1990); Phys. Rev.
Lett. 64, 1196-1199 (1990)). The periodic point is the point where the orbit of the system in the periodic state penetrates the Poincaré cross section. OGY
In the algorithm, the Poincare map is the control parameter p
Since it is assumed that the control parameter p is linearly dependent on, the adjustable range of the control parameter p is a finite region I p (= [p min , p
max ], that is, p min ≤p≤p max ). As a result, in order to OGY algorithm works effectively is restriction that must be within the area I t which is the system is imposed. On the other hand SOGY
The algorithm adds a slight perturbation to the system and rapidly shifts the system state to an arbitrary state (target) on a chaotic orbit (Reference [2]: Physical review
Letters, 65, 3215-3218 (1990); Phy. Rev. Lett., 6
5, 3215-3218 (1990)). These OGY algorithms and SOGY
It was thought that rapid control would be possible by combining algorithms (Reference [3]: Journal of Physical Chemistry 95, 4957-.
4959 (1991); J. Phys. Chem., 95, 4957-4959 (1991).
).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしOGYアルゴリズ
ムとSOGYアルゴリズムをどのように組み合わせるかにつ
いては具体的に明らかではなかった。またSOGYアルゴリ
ズム自体の有効性をどのように確保するか等にも問題が
あった。
However, how to combine the OGY algorithm and the SOGY algorithm has not been concretely clarified. There was also a problem in how to secure the effectiveness of the SOGY algorithm itself.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】元のSOGYアルゴリズムで
はターゲットは相空間内の1つの点であるためOGYアル
ゴリズムとの整合性が悪かった。そこで本発明ではSOGY
アルゴリズムをターゲットが領域 It である場合に拡張
する。そのことによりOGYアルゴリズムとSOGYアルゴリ
ズムをうまく組み合わせることができる。
[Means for Solving the Problems] In the original SOGY algorithm, the target is a single point in the phase space, and thus the consistency with the OGY algorithm was poor. Therefore, in the present invention, SOGY
Algorithm expands if the target is a region I t. This allows the OGY and SOGY algorithms to be combined well.

【0005】またSOGYアルゴリズムはフィードフォワー
ド型制御アルゴリズムであるから、その実施には系の将
来についての情報が必要となる。文献にあるように力学
法則が既知である場合にはそれは容易に得られる。しか
し実際には力学法則が既知である場合はむしろ少ない。
そこで本発明では将来についての情報を得るために非線
形予測の方法を利用する。すなわち系の過去出力データ
を相当量記憶させ、埋め込みによってカオスアトラクタ
を構成する。それをもとに特徴抽出を行い、将来値(将
来の状態)を推定する。具体的な方法としてはノンパラ
メトリックな0次または1次の局所近似、パラメトリッ
クな大域的または局所的近似、ニューラルネットワーク
モデルなどが挙げられる。パラメトリックな大域的近似
には多項式展開や動径基底関数展開があり、パラメトリ
ックな局所的近似には多項式展開がある。
Since the SOGY algorithm is a feedforward type control algorithm, its implementation requires information on the future of the system. If the law of mechanics is known, as in the literature, it is easily obtained. However, in reality, there are few cases where the laws of dynamics are known.
Therefore, the present invention uses a method of non-linear prediction to obtain information about the future. That is, a large amount of past output data of the system is stored and a chaotic attractor is constructed by embedding. Feature extraction is performed based on it, and the future value (future state) is estimated. Specific methods include non-parametric zero-order or first-order local approximation, parametric global or local approximation, and a neural network model. Parametric global approximation includes polynomial expansion and radial basis function expansion, and parametric local approximation includes polynomial expansion.

【0006】SOGYアルゴリズムの性格上、予測は正確に
行うのが望ましい。通常用いられる時間遅延座標では、
その座標成分に含まれる不確かさを考慮した距離評価法
を用いることによって、予測の信頼性を高めることが可
能である。このような改善された予測方法を利用すれ
ば、制御自体の有効性を高めることになる。
Due to the nature of the SOGY algorithm, it is desirable to make accurate predictions. In the commonly used time delay coordinates,
The reliability of prediction can be improved by using a distance evaluation method that takes into consideration the uncertainty included in the coordinate component. The use of such an improved prediction method will increase the effectiveness of the control itself.

【0007】[0007]

【作用】領域 It をターゲットとするSOGYアルゴリズム
への拡張は次のようにできる。相空間内のポアンカレ断
面上の状態変数を ξi で表わす。i はポアンカレ断面
を i 回目に訪れたことを意味している。パラメータ p
を Ip の範囲で自由に変え得る場合には、現在の状態を
ξ0 とすると k ステップ後の状態 ξk はある領域 I
k の中にあることになる。そこで非線形予測等によりIk
を推定し、 Itと Ik が重なりをもつような最小の値 n
を求めればよい。 n は
[Action] extension of the area I t to SOGY algorithm that targets can be as follows. The state variable on the Poincaré cross section in the phase space is represented by ξ i . i means that the Poincaré section was visited the i-th time. Parameter p
The if may freely changed in the range of I p is the state xi] k after k steps when the current state and xi] 0 region I
will be in k . Therefore, Ik
, The smallest value n such that I t and I k overlap
You should ask. n is

【0008】[0008]

【数1】 [Equation 1]

【0009】と表わせる。即ち現在値が p0 となってい
るパラメータを Ip の範囲で調節してξn が It に入る
ようにできるわけである。パラメータの修正値 δp は
次のように与えられる。 It と Ik との重なり部分に対
応するパラメータの領域を求め、その領域の重心に対応
するパラメータ p* を修正されたパラメータとする。修
正値はδp = p*-p0 により求められる。 以上SOGYアル
ゴリズムを拡張することによりOGYアルゴリズムとの結
合が可能になることを説明した。
Can be expressed as That is, the parameter whose current value is p 0 can be adjusted within the range of I p so that ξ n can be within I t . The parameter correction value δp is given as follows. The area of the parameter corresponding to the overlapping portion of I t and I k is obtained, and the parameter p * corresponding to the center of gravity of the area is set as the modified parameter. The correction value is obtained by δp = p * -p 0 . It has been explained that the SOGY algorithm can be combined with the OGY algorithm by expanding it.

【0010】次に、時間遅延座標を用いる予測におい
て、その座標成分に含まれる不確かさを考慮した距離評
価法を用いることによって、予測の信頼性を高めること
が可能であるということを示す。非線形予測の局所近似
に於ては、過去データ{x-i}からアトラクタを構成し、
現在値 x0 に対応する点 X0 に近接する点の挙動から将
来値 xk を推定する。通常はユークリッド距離が用いら
れる。しかし、時間遅延座標を用いる場合に1つの点の
座標を表わすのに異なった時刻のデータを使うため各座
標成分に含まれる不確かさが異なる。点 X-iが d 次元
時間遅延座標空間にあるとき具体的には X-i = (x-i,x-i-τ,x-i-2τ,.....,x-i-(m-1)τ,.....,
x-i-(d-2)τ,x-i-(d-1)τ) と表わせる。ここでτは時間遅れである。 x-i に含ま
れる不確かさをε0としたとき x-i-(m-1)τに含まれ
る不確かさεはリャプノフ指数の最大絶対値 K と関係
付けられ、 ε 〜 ε0 exp[K(m-1)τ], K 〜 max(|λj|; j = 1,2,3,..., d ) のようになる。λjはリャプノフ指数である。したがっ
て距離計算において各成分を 1/εで重み付けした距離
評価式例えば
Next, it is shown that the reliability of the prediction can be improved by using the distance evaluation method in consideration of the uncertainty included in the coordinate component in the prediction using the time delay coordinate. In the local approximation of nonlinear prediction, we construct an attractor from past data {x -i },
The future value x k is estimated from the behavior of a point near the point X 0 corresponding to the current value x 0 . Euclidean distance is usually used. However, when the time-delayed coordinate is used, since the data at different times are used to represent the coordinate of one point, the uncertainty included in each coordinate component is different. When the point X -i is in the d-dimensional time delay coordinate space, specifically, X -i = (x -i , x -i-τ , x -i-2τ , ....., x -i- ( m-1) τ , .....,
x -i- (d-2) τ , x -i- (d-1) τ ). Where τ is a time delay. When the uncertainty contained in x -i is ε 0 , the uncertainty ε contained in x -i- (m-1) τ is related to the maximum absolute value K of the Lyapunov exponent, and ε ~ ε 0 exp [K (m-1) τ], K ~ max (| λ j |; j = 1,2,3, ..., d). λ j is the Lyapunov exponent. Therefore, in the distance calculation, each component is weighted by 1 / ε.

【0011】[0011]

【数2】 [Equation 2]

【0012】を用いることによって予測をより正確にな
し得る。ここではユ−クリッド型ノルムを使用したが、
他のノルム例えば最大ノルム等を使用できる。
The prediction can be made more accurate by using. We used the Euclidean norm here,
Other norms can be used, such as the maximum norm.

【0013】ここでこの距離評価式を用いた予測結果例
を図1に示す。ヘノン写像が生成するカオス時系列に対
して、ノンパラメトリックな0次局所近似に基づいた予
測を行い、予測値と実際の値との相関係数をもとめたも
のである。 (a) はユークリッド距離を用いた場合、(b)
は上式の距離評価式を使った場合である。(b) ではd=1
の場合を除いて次元 d によるばらつきがほぼ消失して
いる。また予測ステップが1の場合、相関係数は (a)
が 0.999891 (b) が 0.999965 となった。これは精度と
して約3倍の向上に相当する。1次の局所近似について
も同様な改善が見られる。このように上式を使った予測
はより正確な予測値を提供する。
FIG. 1 shows an example of a prediction result using this distance evaluation formula. The chaotic time series generated by the Henon map is predicted based on nonparametric zero-order local approximation, and the correlation coefficient between the predicted value and the actual value is obtained. (a) is the case of using Euclidean distance, (b)
Is the case where the above distance evaluation formula is used. (b) d = 1
Except for the case, the variation due to the dimension d has almost disappeared. If the prediction step is 1, the correlation coefficient is (a)
Became 0.999891 (b) became 0.999965. This corresponds to an improvement in accuracy of about 3 times. Similar improvements are seen for first-order local approximations. Thus, the prediction using the above formula provides a more accurate predicted value.

【0014】[0014]

【実施例】【Example】

(実施例1)合金めっきにおける制御システムに本発明
を適用した例を説明する。ここで考える構成は電流規制
型および電位規制型の2タイプである。合金めっきでは
成分比分布および膜厚が目標値として与えられる。膜厚
制御については従来の制御が十分有効であり、ここでは
主として成分比分布の制御を取り上げる。めっき液中の
金属イオンは電極の電位がそれ自身の酸化還元電位より
低いほど速く析出する。従って電位が周期的に変動する
と成分比はめっき層の厚さ方向に周期的に変動する。ま
た電位が一定であれば成分比も一定となる。したがって
電位を制御することで成分比分布を制御することができ
る。
(Example 1) An example in which the present invention is applied to a control system in alloy plating will be described. The configurations considered here are of two types: a current regulation type and a potential regulation type. In alloy plating, component ratio distribution and film thickness are given as target values. Regarding the film thickness control, the conventional control is sufficiently effective, and here, the control of the component ratio distribution will be mainly taken up. The metal ions in the plating solution deposit faster as the potential of the electrode is lower than the redox potential of itself. Therefore, when the potential changes periodically, the component ratio changes periodically in the thickness direction of the plating layer. If the potential is constant, the component ratio will also be constant. Therefore, the component ratio distribution can be controlled by controlling the potential.

【0015】(1) 電流規制型 図2に構成を示す。コントローラ201はガルバノスタ
ット202と電解槽203からなる電流規制型合金めっ
き装置の制御を行う。電解槽203は内部に参照極20
4、作用極205および合金の成分金属で作られた対極
206を備える。また槽内は合金成分の金属イオンを含
む電解質溶液で満たされている。対極206の金属が溶
出し、作用極205に析出するという形でめっきが進行
する。このとき作用極205と対極206との間にはコ
ントローラ201により設定される電流値 i が流れ
る。作用極205の参照極に対する電位 E=EW-ER は電
極表面状態の変化ともに変動する。この電位 E はガル
バノスタット202を経由してコントローラ201に送
られている。この例では作用極の電位がカオス的に振動
する場合に電流値 i をわずかに変化させることによっ
て所望の周期的な電位変動を得るものである。カオス状
態の近傍には無数の不安定な周期状態が存在する。その
1つの周期状態が作用極の電位として実現されると、そ
れは1つの成分比分布を形成する。予めこれらの不安定
周期点がどのような成分比分布に対応するかをポアンカ
レ断面の解析から知ることができる。カオス状態から目
的の周期状態への移行を迅速化するために制御アルゴリ
ズムは図3のようになっている。
(1) Current Control Type FIG. 2 shows the configuration. The controller 201 controls a current-regulating alloy plating apparatus including a galvanostat 202 and an electrolytic cell 203. The electrolytic cell 203 has a reference electrode 20 inside.
4, a working electrode 205 and a counter electrode 206 made of a component metal of an alloy. Further, the inside of the tank is filled with an electrolyte solution containing metal ions as an alloy component. The plating proceeds in such a manner that the metal of the counter electrode 206 is eluted and deposited on the working electrode 205. At this time, the current value i set by the controller 201 flows between the working electrode 205 and the counter electrode 206. Potential E = E W -E R relative to the reference electrode of the working electrode 205 varies with a change both of the electrode surface condition. This potential E is sent to the controller 201 via the galvanostat 202. In this example, when the potential of the working electrode oscillates chaotically, the current value i is slightly changed to obtain a desired periodic potential fluctuation. There are innumerable unstable periodic states near the chaotic state. When the one periodic state is realized as the potential of the working electrode, it forms one component ratio distribution. It is possible to know in advance what kind of component ratio distribution these unstable periodic points correspond to by analyzing the Poincare section. The control algorithm is as shown in FIG. 3 in order to speed up the transition from the chaotic state to the target periodic state.

【0016】制御対象301からの出力である電位 E
を離散化手段302でポアンカレ断面においてサンプリ
ングして離散化する。以下では離散化された電位 Ei
出力と見做す。成分比分布の指定は安定化すべき周期点
の指定としてなされる。そこで安定化可能な電位の範囲
It = [Emin,Emax] が決まる。制御指令装置303は目
的周期点の代表的な電位 E0と It を送る。制御開始ま
えの電流値 i = i0 で電位 Ei はカオス的に変動する。
電流値 i は [i0-Δi,i0+Δi] の範囲で調節し、以下の
ように制御を行う。
The potential E which is the output from the controlled object 301
Is sampled and discretized in the Poincare section by the discretization means 302. Below, the discretized potential E i is regarded as the output. The component ratio distribution is designated as the designation of the periodic points to be stabilized. Therefore, the range of potential that can be stabilized
I t = [E min , E max ] is determined. Control instruction unit 303 sends a representative voltage E 0 and I t object periodic point. At the current value i = i 0 before the start of control, the potential E i changes chaotically.
The current value i is adjusted within the range of [i 0 -Δi, i 0 + Δi], and the control is performed as follows.

【0017】判断304によって電位 Ei が It に含ま
れるときには迅速化のための制御は不要であり、安定化
のアルゴリズム305により次のステップで目的の周期
点に安定化できるように電流値 i を修正する。周期点
の代表的な電位 E0からのずれに比例した修正 δi を加
えて安定化を達成できる。
When the potential E i is included in I t according to the determination 304, control for speeding up is not necessary, and the stabilization algorithm 305 enables the current value i to be stabilized at the target periodic point in the next step. To fix. Stabilization can be achieved by adding a correction δi proportional to the deviation of the periodic point from the typical potential E 0 .

【0018】判断304によって電位 Ei が It に含ま
れないときには予測をおこなう。電流値 i を [ i0
i, i0+Δi ] の範囲で変えたときの k ステップ後の電
位の区間 Ik を予測手段306により推定する。迅速化
のアルゴリズム307によって修正値 δi を求める。
In が It とはじめて重なりをもつとき、δi の調節でn
ステップ後に It に移行できる。その結果 n ステップ
めには安定化のアルゴリズム305が有効となり、次の
ステップで目的の周期点に安定化できる。安定化および
迅速化のアルゴリズムにはそれぞれOGY、SOGYアルゴリ
ズムを用いる。Cu-Ag 合金めっきに対して本発明を適用
した結果について説明する。この系において電流値 1.2
5 mA では電位 E がカオス的な変動を示した。電流値 i
を [1.2, 1.3] (mA) の範囲で調節し、制御を行った。
予測はパラメトリックな1次の局所近似を使い、過去デ
ータとして i = 1.2, 1.25, 1.3 mA について各2000点
を用いた。その結果図4(1)〜(5) のような合金めっき
層を作製できた。対応するめっき過程における電位 E
の変動を図5(1)〜(5) に示す。図中、矢印で開始、完
了と示したところで、それぞれ、新しい制御指令が出さ
れ、制御目標に達したことを表わす。図4の (1) はカ
オス→周期1 (2) はカオス→周期2 (3) はカオス→周
期1→周期2→周期1→………→周期2という制御を行
った場合を示す。図中 a, b, c は成分比の分布が異な
ることを示す。即ち a, b, c では合金層中に分布する
Cu, Ag の割合が異なっている。これらはそれぞれ図5
(1), (2)中に示した a, b, c の電位範囲における析出
に対応している。図4中の斜線部分はカオス状態から周
期状態へ移行する際の過渡的状態に対応している。ここ
ではほぼ平均的な成分比が得られた。図4(4) はカオス
→周期1という制御でSOGYアルゴリズムが働かないよう
にした場合、図4(5) はカオス→周期1という制御で、
座標成分に含まれる不確かさを考慮した距離評価式を利
用した予測を行った場合の結果をあらわす。図5(4)、
(5) はそれぞれ、図4(4)、 (5) の場合に対応した電位
変動を示している。制御の仕方を変えると、過渡的状態
の時間が変化し、それに対応して斜線部分の厚さが変化
している。これらのことから i) 周期を変えることで
成分比の分布を変えることが可能であり、ii)SOGYアル
ゴリズムが有効に働き、過渡状態に対応する部分を少な
くでき、iii) 座標成分に含まれる不確かさを考慮した
距離評価式を利用した予測をすることで、過渡状態に対
応する部分をさらに少なくできることが明かとなった。
また同じ周期に対応する状態を利用しても、制御を行う
ポアンカレ断面の位置を変えることにより、成分比分布
を変化させることが可能である。その結果ほとんど無数
のバリエーションが得られる。
If the potential E i is not included in I t according to the determination 304, prediction is performed. Change the current value i to [i 0
The prediction unit 306 estimates the section I k of the potential after k steps when changing in the range of i, i 0 + Δi]. The correction value δi is calculated by the speed-up algorithm 307.
When I n overlaps with I t for the first time, n is adjusted by adjusting δ i.
It can be migrated to I t after the step. As a result, the stabilization algorithm 305 becomes effective in the nth step, and the target periodic point can be stabilized in the next step. The OGY and SOGY algorithms are used for the stabilization and speed-up algorithms, respectively. The results of applying the present invention to Cu-Ag alloy plating will be described. Current value 1.2 in this system
At 5 mA, the potential E showed chaotic fluctuation. Current value i
Was controlled in the range of [1.2, 1.3] (mA).
For the prediction, a parametric first-order local approximation was used, and 2000 points were used for i = 1.2, 1.25, and 1.3 mA as past data. As a result, an alloy plating layer as shown in FIGS. 4 (1) to (5) could be produced. Potential E in the corresponding plating process
The variation of is shown in Fig. 5 (1) to (5). In the drawing, where the start and the end are indicated by arrows, new control commands are issued and the control targets are reached. (1) of FIG. 4 shows the case where chaos → cycle 1 (2) is chaos → cycle 2 (3) is chaos → cycle 1 → cycle 2 → cycle 1 → ... …… → cycle 2 In the figure, a, b, and c indicate that the distributions of the component ratios are different. That is, a, b, and c are distributed in the alloy layer
The proportions of Cu and Ag are different. These are shown in Figure 5, respectively.
This corresponds to the precipitation in the potential range of a, b, and c shown in (1) and (2). The shaded area in FIG. 4 corresponds to the transitional state when the chaotic state changes to the periodic state. Here, almost average component ratios were obtained. Fig. 4 (4) shows the case where the SOGY algorithm does not work under the control of chaos → cycle 1, and Fig. 4 (5) shows the control of chaos → cycle 1.
This section presents the results when prediction is performed using a distance evaluation formula that considers the uncertainty included in the coordinate components. Figure 5 (4),
(5) shows potential fluctuations corresponding to the cases of FIGS. 4 (4) and 4 (5), respectively. When the control method is changed, the time of the transient state changes, and the thickness of the shaded portion changes correspondingly. From these facts, i) it is possible to change the distribution of the component ratio by changing the period, ii) the SOGY algorithm works effectively, the part corresponding to the transient state can be reduced, and iii) the uncertainty contained in the coordinate component It was clarified that the portion corresponding to the transient state can be further reduced by making a prediction using the distance evaluation formula in consideration of the size.
Further, even if the states corresponding to the same cycle are used, it is possible to change the component ratio distribution by changing the position of the Poincare section to be controlled. The result is an almost infinite number of variations.

【0019】このように上の例では電位を直接モニタし
たが、センサとして水晶振動子を設置して周波数をモニ
タすることも可能である。その場合の構成は図6のよう
になる。水晶振動子センサ61はセンサ表面に付けられ
た電極の電位が作用極205と等電位になるように設計
されている。図2の場合との違いは電位 E の代わりに
周波数 f 62をモニタすることである。水晶振動子の
周波数は析出した金属の質量に依存するためその時間変
化は合金の成分比を直接に反映する。したがって電位 E
をモニタするのと同じ効果をもつ。さらに、作用極表
面上に析出する合金の成分比分布が、電位 E から推定
される理想的な成分比分布からずれている場合には電極
表面上に析出する金属を直接モニタできるこのシステム
が優れている。
As described above, in the above example, the potential is directly monitored, but it is also possible to install a crystal oscillator as a sensor to monitor the frequency. The configuration in that case is as shown in FIG. The crystal oscillator sensor 61 is designed so that the electric potential of the electrode attached to the sensor surface becomes equal to that of the working electrode 205. The difference from the case of FIG. 2 is that the frequency f 62 is monitored instead of the electric potential E. Since the frequency of the crystal oscillator depends on the mass of the deposited metal, its time change directly reflects the composition ratio of the alloy. Therefore the potential E
Has the same effect as monitoring. Furthermore, if the composition ratio distribution of the alloy deposited on the surface of the working electrode deviates from the ideal composition ratio distribution estimated from the potential E, this system that can directly monitor the metal deposited on the electrode surface is excellent. ing.

【0020】なお、膜厚の制御は、流れた電気量をモニ
タし目標値に達したときめっきが終了するように行う。
合金めっきの多層膜を形成する場合には、例えば操作者
に全体膜厚と図4に示すような仕上がりタイプを指定さ
せて、マイコンで形成すべき成分比分布に対応する周期
状態と膜厚のシ−ケンスを自動生成するものとする。こ
のことは従来から行われている手法と同じであるので、
説明を省略する。
The film thickness is controlled so that the amount of electricity flowing is monitored and the plating is completed when the target value is reached.
When forming a multilayer film of alloy plating, for example, the operator is allowed to specify the total film thickness and the finishing type as shown in FIG. 4, and the periodic state and film thickness corresponding to the component ratio distribution to be formed by the microcomputer are set. The sequence shall be automatically generated. Since this is the same as the conventional method,
The description is omitted.

【0021】(2) 電位規制型 電位規制型では電位を直接に制御する。構成を図7に示
す。カオス的に変動する電位はカオスジェネレータ71
によって発生させる。カオスジェネレータ71は電子回
路のようなハードウェアでもソフトウェアでもよい。こ
こでは写像 Ei= p Ei-1[1-Ei-1] によってカオス列を発
生させ、金属の析出電位範囲に合わせてスケール変換し
た結果を新たに Ei とし、ポテンショスタット72に送
る。次の Ei+1 が送られるまでこの値が保持される。こ
の間、作用極の参照極を基準とする電位 E も Ei に保
持される。この Ei は図2のポアンカレ断面で離散化さ
れた電位 Ei に対応する。 p が制御パラメータ73で
ある。従って制御対象はカオスジェネレータである。p=
3.87 でカオスを発生させ Ip = [3.84, 3.89] でパラメ
ータの調節を行った。制御アルゴリズムは図3と同様で
ある。ただし、この例では系の力学法則である写像が既
知なので、予測手段306としてこの写像を使用でき
る。またカオスジェネレータは離散化されたカオス列を
発生するので離散化手段302は省略される。例えば、
周期1状態(固定点)の安定化によって、膜の厚さ方向に
成分比の一様なめっき層が形成される。膜厚の制御は電
流 I74の積分値 をモニタして行う。
(2) Potential regulation type In the potential regulation type, the potential is directly controlled. The configuration is shown in FIG. The chaotic potential changes in the chaos generator 71.
Caused by. The chaos generator 71 may be hardware such as an electronic circuit or software. Here, a chaotic train is generated by the map E i = p E i-1 [1-E i-1 ], and the result of scale conversion according to the metal deposition potential range is newly set as Ei and sent to the potentiostat 72. This value is held until the next E i + 1 is sent. During this time, the electric potential E based on the reference electrode of the working electrode is also held at E i . This E i corresponds to the electric potential E i discretized in the Poincare section of FIG. p is the control parameter 73. Therefore, the controlled object is the chaos generator. p =
Chaos was generated at 3.87 and parameters were adjusted at I p = [3.84, 3.89]. The control algorithm is the same as in FIG. However, in this example, since the mapping which is the dynamic law of the system is known, this mapping can be used as the prediction means 306. Further, since the chaos generator generates a discretized chaos sequence, the discretizing means 302 is omitted. For example,
By stabilizing the cycle 1 state (fixed point), a plating layer having a uniform component ratio is formed in the film thickness direction. The film thickness is controlled by monitoring the integrated value of the current I74.

【0022】周期4状態に制御して Cu-Ag 合金のめっ
き層を作製した場合の結果を図8に示す。図8(1) は作
製されためっき層構造の模式図である。斜線部分はカオ
ス状態から周期状態へ移行する際の過渡的状態に対応し
ている。実際には無視し得るほど薄かった。図8(2) は
離散化された電位 Ei の変動を示す。カオス列の発生の
時間間隔は 5 秒とした。異なった成分比( d, e, f, g
)を有する均一層が交互に積層されている。図では1つ
1つの点が1つの離散化電位に対応している。周期4状
態では点が密に並んでいるため1つ1つの点を区別でき
ない。また図中の矢印は制御を開始した点である。目標
に達した点は周期4状態の始まったてんであり、明瞭で
ある。
FIG. 8 shows the result when a Cu-Ag alloy plating layer was produced by controlling the period to 4 states. FIG. 8 (1) is a schematic diagram of the produced plating layer structure. The shaded area corresponds to the transient state when transitioning from the chaotic state to the periodic state. In fact, it was so negligible. Figure 8 (2) shows the variation of the discretized potential Ei. The time interval of occurrence of chaotic sequences was 5 seconds. Different component ratios (d, e, f, g
) Are alternately stacked. In the figure, each point corresponds to one discretized potential. In the cycle 4 state, the dots are closely arranged, so that the dots cannot be distinguished from each other. The arrow in the figure indicates the point at which control is started. The point of reaching the target is the beginning of the cycle 4 state and is clear.

【0023】この例でも電位を直接モニタせずに、セン
サとして水晶振動子を設置して周波数をモニタすること
も可能である。その場合の構成は図9のようになる。こ
の場合は電流規制型における場合(図6)と同じになる。
制御アルゴリズムも図3と同じになる。ただし図7の場
合と同じように離散化手段302は省略される。ここで
は予測はニューラルネットを用いて行い、有効性を確か
めた。具体的には 4-4-1 型のニューラルネットワーク
を用い、バックプロパゲーションによる学習に依った。
使用した過去データは3つのパラメータ値 p = 3.84,3.
87,3.89 について各 2000 点である。電位規制型の例で
はカオスジェネレータ71が離散的なカオス列を発生す
る場合を取り上げた。もちろん連続的なカオス列を発生
する場合も、同様に実施可能である。ただし、その場合
は制御アルゴリズム(図3)において離散化手段302を
省略できない。
In this example as well, it is possible to monitor the frequency by directly installing a crystal oscillator as a sensor instead of directly monitoring the potential. The configuration in that case is as shown in FIG. This case is the same as the case of the current regulation type (FIG. 6).
The control algorithm is also the same as in FIG. However, as in the case of FIG. 7, the discretization means 302 is omitted. Here, the prediction was performed using a neural network, and the effectiveness was confirmed. Specifically, we used a 4-4-1 type neural network and learned by backpropagation.
The past data used are three parameter values p = 3.84,3.
There are 2000 points for 87 and 3.89 respectively. In the potential regulation type example, the case where the chaos generator 71 generates a discrete chaos sequence is taken up. Of course, the same can be done when a continuous chaotic sequence is generated. However, in that case, the discretization means 302 cannot be omitted in the control algorithm (FIG. 3).

【0024】(実施例2)多元系材料の薄膜製造におけ
る制御システムを例に本発明を説明する。図10は2元
系材料の蒸着による多層膜製作装置に本発明を適用した
例である。カオスジェネレータ71によって発生したカ
オス列 Ti 101に従って蒸着源のシャッタの開閉時間
を決める。この例ではシャッタ A 102が開いている
ときはシャッタ B 103は閉じていて,逆にシャッタ
B が開いているときはシャッタ Aは閉じていてるように
している。このようにして原料 A 104,原料 B 10
5の基板106への蒸着を制御する。制御の目標は各層
の膜厚である。カオス列Ti は奇数番目がシャッタ A が
開いている時間を,偶数番目がシャッタ A が閉じてい
る時間を表わしている。従って2元系で周期的構造をも
つ多層膜を作製するには周期2以上の高い周期状態を利
用する必要がある。制御はカオスジェネレータ71に対
して行う。基板106の付近に設けられた膜厚計107
からの出力である膜厚 ti 108をモニタする。制御ア
ルゴリズムはここでも図3と同様になる。離散化された
電位 Ei に対応するのが膜厚 ti の変化Δti(=ti−t
i-1)である。従って離散化手段302は省略される。
(Embodiment 2) The present invention will be described by taking a control system in the thin film production of multi-component materials as an example. FIG. 10 shows an example in which the present invention is applied to a multilayer film manufacturing apparatus by vapor deposition of binary materials. The opening / closing time of the shutter of the vapor deposition source is determined according to the chaotic sequence T i 101 generated by the chaos generator 71. In this example, when shutter A 102 is open, shutter B 103 is closed, and vice versa.
Shutter A is closed when B is open. In this way, raw material A 104 and raw material B 10
Deposition of No. 5 on the substrate 106 is controlled. The control target is the film thickness of each layer. In the chaos row T i, the odd number represents the time when the shutter A is open, and the even number represents the time when the shutter A is closed. Therefore, in order to fabricate a multilayer film having a periodic structure in a binary system, it is necessary to utilize a high periodic state of period 2 or more. The chaos generator 71 is controlled. A film thickness meter 107 provided near the substrate 106
The film thickness t i 108, which is the output from, is monitored. The control algorithm is the same as in FIG. 3 here. The change in film thickness t i Δt i (= t i −t) corresponds to the discretized potential E i.
i-1 ). Therefore, the discretizing means 302 is omitted.

【0025】図11にAu-Ag 系の多層膜に適用した場合
の結果を示す。カオスから周期4状態への安定化を利用
しAu,Ag を交互積層した。その場合の多層膜の構造,
シャッタの開閉のシーケンスをそれぞれ図10(1), (2)
に示す。周期的な構造が得られている。
FIG. 11 shows the results when applied to an Au—Ag system multilayer film. Au and Ag were alternately laminated by using the stabilization from chaos to cycle 4 state. The structure of the multilayer film in that case,
The shutter open / close sequence is shown in Fig. 10 (1) and (2) respectively.
Shown in. A periodic structure is obtained.

【0026】(実施例3)本発明を心臓ペースメーカに
おける制御システムに適用した例を図12に示す。この
ペースメーカでは発振器としてカオスジェネレータ71
を備えている。カオスジェネレータ71はカオス素子で
構成されている。カオス素子の例としては合原一幸編
「カオス」サイエンス社 ( 1990 年 ) などに述べられ
ている。ここでもカオス状態から周期状態への制御を利
用する。安静時の心拍数を維持するのに高い周期状態た
とえば周期15状態を用いて,高い心拍数状態を周期1
0〜14状態を用いればわずかなパラメータの変更で6
段階の心拍数の制御が可能となる。安静時に60回/分
を設定した場合には,90回/分までを6段階 ( 60, 6
5, 69, 75, 82, 90 )で調節できた。カオスジェネレー
タ71によって等時間間隔に生成されるカオス列につい
て制御を行い,ある周期状態のうちで,もっとも大きな
値に合わせてパルスが出るようになっている。例えば,
周期15状態では15の離散的な値をとることになる
が,そのうちの最大値にあわせて信号が発振器121に
送られ,発振器121はそのタイミングでパルスを発生
する。そのパルスが心臓ペースメーカとしての役割を果
たす。
(Embodiment 3) FIG. 12 shows an example in which the present invention is applied to a control system in a cardiac pacemaker. In this pacemaker, a chaos generator 71 is used as an oscillator.
Is equipped with. The chaos generator 71 is composed of chaotic elements. Examples of chaotic elements are described in "Chaos" Science Co. (1990) edited by Kazuyuki Aihara. Here again, control from the chaotic state to the periodic state is used. A high heart rate condition is used to maintain a resting heart rate, for example, a cycle 15 condition,
If you use 0 to 14 states, it will be 6 with a slight parameter change.
It is possible to control the heart rate in stages. If you set 60 times / minute at rest, you can set up to 90 times / minute in 6 steps (60, 6
5, 69, 75, 82, 90). The chaotic sequence generated by the chaotic generator 71 at regular time intervals is controlled, and a pulse is output in accordance with the largest value in a certain periodic state. For example,
In the period 15 state, it takes 15 discrete values, but a signal is sent to the oscillator 121 in accordance with the maximum value, and the oscillator 121 generates a pulse at that timing. The pulse acts as a cardiac pacemaker.

【0027】心疾患を有しないの健康なヒトの心拍変動
がカオス的であることがすでに知られている。このカオ
スを再現するような発振素子を用いれば制御オフの状態
やペースの切り替え時の過渡状態でも自然なゆらぎをも
つペースメーカになる。さらに発汗量や血液中の酸素濃
度等へのセンシングと組み合わせることによって自律的
なペースメーカを構成することも可能である。
It is already known that the heart rate variability of healthy humans without heart disease is chaotic. If an oscillating element that reproduces this chaos is used, it becomes a pacemaker that has natural fluctuations even in a control-off state or in a transient state when switching paces. It is also possible to construct an autonomous pacemaker by combining it with sensing of the amount of sweat, the oxygen concentration in blood, and the like.

【0028】以上代表的ないくつかの実施例において本
発明の制御システムが有効に機能することを説明してき
た。しかしSOGYアルゴリズムにおいて,上記 n が大き
な値になるとアルゴリズムの有効性を保証できなくなる
場合もある。これはおそらく予測誤差のためである。SO
GYアルゴリズム自体の有効性をどのように確保するかに
ついては,上で説明した予測方法の改善のほかに以下の
ようにいくつかの解決策があり,何れをとっても有効で
あることを確認した。
It has been described above that the control system of the present invention functions effectively in some typical embodiments. However, in the SOGY algorithm, the effectiveness of the algorithm may not be guaranteed if the above n becomes large. This is probably due to the prediction error. SO
Regarding how to secure the effectiveness of the GY algorithm itself, in addition to the improvement of the prediction method described above, there are several solutions as below, and it was confirmed that any of them is effective.

【0029】1) n の限界値を設けてこれを越える場合
はパラメータを現在値 (ノミナルな値) にして n=1 と
して制御 を続ける。
1) A limit value of n is set, and when it exceeds the limit value, the parameter is set to the current value (nominal value), and the control is continued with n = 1.

【0030】2) 各ステップ k について予測の不確かさ
Δ(k) を見積り It (=[Emin,Emax]) の代わりに It(k)
(=[Emin+Δ(k),Emax-Δ(k)]) を用いてSOGYアルゴリズ
ムを働かせる。その結果 It(k) 〜空集合となる場合は
パラメータを現在値(ノミナルな値)にして n=1 として
制御を続ける。
[0030] 2) Alternatively It of each step k the estimated uncertainty of the prediction Δ a (k) I t (= [ E min, E max]) (k)
(= [E min + Δ (k), E max -Δ (k)]) is used to activate the SOGY algorithm. As a result, if I t (k) ~ empty set, the parameter is set to the current value (nominal value) and control is continued with n = 1.

【0031】3) Ip そのものを広くとり,n が大きくな
らないようにする。ただしこのとき写像 F の p に対す
る線形性は失われる可能性がある。OGY アルゴリズムで
は写像 F の p に対する線形性が仮定されているが,
写像 F が1次元的である場合にはアルゴリズムを拡張
できる。 即ち p についての1次方程式を解く ( 文献
[3] ) 代わりに高次数の方程式を解けばよい。SOGYアル
ゴリズムの部分では何の変更も要しない。
3) Make Ip wide so that n does not become large. But at this time, the linearity of the map F with respect to p may be lost. Although the OGY algorithm assumes linearity of the map F with respect to p,
The algorithm can be extended if the map F is one-dimensional. That is, solve a linear equation for p (references)
[3]) Instead, solve higher order equations. No changes are required in the SOGY algorithm part.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上のように,本発明の制御システム
は,カオス状態から種々の周期状態への移行を迅速かつ
正確に行い,その状態を安定に維持することが可能であ
る。
As described above, the control system of the present invention can quickly and accurately make a transition from the chaotic state to various periodic states and maintain the state in a stable manner.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)、(b)は座標成分に含まれる不確かさ
を考慮した距離評価式を用いた場合の予測結果を示す
図。
1A and 1B are diagrams showing prediction results when a distance evaluation formula considering uncertainty included in a coordinate component is used.

【図2】作用極電位をモニタする場合の電流規制型合金
めっきシステムの構成図。
FIG. 2 is a configuration diagram of a current-regulating alloy plating system when monitoring a working electrode potential.

【図3】図2のシステムにおける制御の内容を示すブロ
ック図。
3 is a block diagram showing the contents of control in the system of FIG.

【図4】作製した合金めっき層断面模を示す式図。FIG. 4 is a formula diagram showing a cross section of the produced alloy plating layer.

【図5】図3の合金めっき層作製時の対応する電位変動
を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing corresponding potential fluctuations when the alloy plated layer of FIG. 3 is produced.

【図6】水晶振動子からの信号をモニタする場合の電流
規制型合金めっきシステム構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram of a current-regulating alloy plating system when monitoring a signal from a crystal oscillator.

【図7】作用極電位をモニタする場合の電位規制型合金
めっきシステム構成図。
FIG. 7 is a block diagram of a potential-regulating alloy plating system for monitoring the working electrode potential.

【図8】作製した合金めっき層断面を示す模式図および
対応するめっき層作製時の電位変動を示す図。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a cross section of the produced alloy plating layer and a diagram showing potential fluctuations at the time of producing the corresponding plating layer.

【図9】水晶振動子からの信号をモニタする場合の電位
規制型合金めっきシステム構成図。
FIG. 9 is a configuration diagram of a potential-regulating alloy plating system when monitoring a signal from a crystal oscillator.

【図10】2元系材料の蒸着による多層膜製作装置制御
システムの構成図。
FIG. 10 is a configuration diagram of a control system for a multilayer film manufacturing apparatus by vapor deposition of binary materials.

【図11】作製された多層膜の構造を示す模式図および
シャッタの開閉のシーケンスを示す図。
FIG. 11 is a schematic diagram showing a structure of a manufactured multilayer film and a diagram showing an opening / closing sequence of a shutter.

【図12】ペースメーカの構成図を表わす。FIG. 12 shows a block diagram of a pacemaker.

【符号の簡単な説明】[Simple explanation of symbols]

201…コントローラ、202…ガルバノスタット、2
03…電解槽、204…参照極 R、205…作用極 W、
206…対極 C、207…電流値 i、208…参照極電
位 ER、209…作用極電位 EW、210…参照極電位を
基準とした作用極電位 E (=EW-ER )、301…制御対
象、302…ポアンカレ断面を利用した離散化手段、3
03…制御指令装置、304…判断ステップ、305…
周期点安定化のアルゴリズム、306…予測手段、30
7…迅速化のアルゴリズム、61…水晶振動子センサ
S、62…周波数 f、71…カオスジェネレータ、72
…ポテンショスタット、73…制御パラメータ p、74
…電流値 I、101…カオス列 Ti 、102…シャッタ
A、103…シャッタ B、104…原料 A、105…原
料B、106…基板、107…膜厚計、108…膜厚 t
i,膜厚変化Δti
201 ... Controller, 202 ... Galvanostat, 2
03 ... Electrolyzer, 204 ... Reference electrode R, 205 ... Working electrode W,
206 ... Counter electrode C, 207 ... Current value i, 208 ... Reference electrode potential ER, 209 ... Working electrode potential EW, 210 ... Working electrode potential E (= EW-ER) based on the reference electrode potential, 301 ... Control object, 302 ... Discretizing means using Poincare section, 3
03 ... Control command device, 304 ... Judgment step, 305 ...
Periodic point stabilization algorithm, 306 ... Prediction means, 30
7 ... Algorithm for speeding up, 61 ... Crystal oscillator sensor
S, 62 ... Frequency f, 71 ... Chaos generator, 72
… Potentiostat, 73… Control parameter p, 74
… Current value I, 101… Chaotic train Ti, 102… Shutter
A, 103 ... Shutter B, 104 ... Raw material A, 105 ... Raw material B, 106 ... Substrate, 107 ... Thickness gauge, 108 ... Thickness t
i, change in film thickness Δt i .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 正美 埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式会 社日立製作所基礎研究所内 (72)発明者 岡本 博司 埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式会 社日立製作所基礎研究所内 (72)発明者 梅村 晋一郎 埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式会 社日立製作所基礎研究所内 (72)発明者 奥平 弘明 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masami Naito 2520 Akanuma, Hatoyama-cho, Hiki-gun, Saitama Stock Company Hitachi Research Laboratories (72) Inventor Hiroshi Okamoto 2520 Akanuma, Hatoyama-cho, Hiki-gun, Saitama Prefecture Stock Company Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Shinichiro Umemura 2520 Akanuma, Hatoyama-cho, Hiki-gun, Saitama Stock Company Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Hiroaki Okuhira 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Kanagawa Stock company Hitachi Manufacturing Technology Institute

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】カオス時系列の予測演算を行う部位を有
し、かつ、制御対象をカオス的状態から周期的状態へ移
行し安定化するためのアルゴリズムおよび安定化を迅速
に達成させるためのアルゴリズムを備えることを特徴と
するとする制御システム。
1. An algorithm for stabilizing a transition target from a chaotic state to a periodic state, which has a part for performing a chaotic time series prediction operation, and an algorithm for quickly achieving stabilization. A control system comprising:
【請求項2】前記迅速化のアルゴリズムが、前記安定化
のアルゴリズムが有効に動作する状態に制御対象を時系
列の予測結果に基づいてフィードワード制御により迅速
に移行させるものであることを特徴とする請求項1記載
の制御システム。
2. The speed-up algorithm quickly transfers the controlled object to a state in which the stabilization algorithm effectively operates by feed word control based on a time-series prediction result. The control system according to claim 1.
【請求項3】前記カオス時系列予測部におけるアルゴリ
ズムが、ノンパラメトリックな0次または1次の局所近
似に基づくことを特徴とする請求項1または2記載の制
御システム。
3. The control system according to claim 1, wherein the algorithm in the chaotic time series prediction unit is based on nonparametric zero-order or first-order local approximation.
【請求項4】前記カオス時系列予測部におけるアルゴリ
ズムが、パラメトリックな大域的または局所的近似に基
づくことを特徴とする請求項1または2記載の制御シス
テム。
4. The control system according to claim 1, wherein the algorithm in the chaotic time series prediction unit is based on parametric global or local approximation.
【請求項5】前記カオス時系列予測部におけるアルゴリ
ズムが、ニューラルネットワークモデルに基づくことを
特徴とする請求項1または2記載の制御システム。
5. The control system according to claim 1 or 2, wherein the algorithm in the chaotic time series prediction unit is based on a neural network model.
【請求項6】前記カオス時系列予測部におけるアルゴリ
ズムが時間遅延座標を用いるノンパラメトリックな0次
または1次の局所近似に基づく場合において、座標成分
に含まれる不確かさを考慮した距離評価をすることを特
徴とする請求項1または2記載の制御システム。
6. When the algorithm in the chaotic time series prediction unit is based on non-parametric zero-order or first-order local approximation using time-delayed coordinates, distance evaluation is performed in consideration of uncertainty included in coordinate components. The control system according to claim 1 or 2, characterized in that.
【請求項7】前記カオス時系列予測部におけるアルゴリ
ズムが時間遅延座標を用いるパラメトリックな0次また
は1次の局所近似に基づく場合において、座標成分に含
まれる不確かさを考慮した距離評価をすることを特徴と
する請求項1または2記載の制御システム。
7. When the algorithm in the chaotic time series prediction unit is based on a parametric 0th-order or 1st-order local approximation using time-delayed coordinates, distance evaluation considering uncertainty included in coordinate components is performed. The control system according to claim 1 or 2, which is characterized.
【請求項8】カオス時系列予測が有する予測誤差を考慮
した上で、操作量を与えることを特徴とする請求項1乃
至7記載のいずれかの制御システム。
8. The control system according to claim 1, wherein the operation amount is given in consideration of the prediction error of the chaotic time series prediction.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6763271B2 (en) * 2001-04-12 2004-07-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Tracking sustained chaos

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