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JPH07262790A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH07262790A
JPH07262790A JP6053441A JP5344194A JPH07262790A JP H07262790 A JPH07262790 A JP H07262790A JP 6053441 A JP6053441 A JP 6053441A JP 5344194 A JP5344194 A JP 5344194A JP H07262790 A JPH07262790 A JP H07262790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
signal
level
circuit
memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6053441A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Tamaoki
智 玉置
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP6053441A priority Critical patent/JPH07262790A/en
Publication of JPH07262790A publication Critical patent/JPH07262790A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To relieve and use a defective memory cell even if such a memory exists by controlling memory cell array with block selection signal. CONSTITUTION:A block selecting circuit 2 determines a selection level from block selection signals BS1 to BS41 according to second address signals AD1, AD2 unless there is the defective memory cell in the memory cell arrays MA1 to MA4. A row selecting circuit RS and a column selecting and amplifying circuit CSA corresponding to the selection signal BS of the selection level are activated. The memory cells of the addresses of the rows and columns assigned by the row address signal ADr and column address signal ADC of a first address signal are selected and reading out and writing of the data from the memory cells are executed. Only the block selection signal corresponding to one of the memory cells where the defective memory cells do not exist is fixed at the selection level by the selecting circuit 2 and the writing and reading out of the data are executed only for this memory cell if the defective memory cell exists.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特にメモリセルアレイ中に不良のメモリセルが存在する
ときこれを救済して製造歩留りの向上が可能な半導体記
憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device capable of relieving a defective memory cell when it exists in a memory cell array and improving the manufacturing yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種の半導体記憶装置において、そのメ
モリ容量が増大すると、メモリセルアレイ中に不良のメ
モリセルが存在する割合が大きくなり、製造歩留りが低
下する。そこで、メモリセルアレイの他に、冗長メモリ
セル行(列)を含む冗長回路を設けて不良のメモリセル
が存在する行(列)と置換し、その半導体記憶装置を救
済し、製造歩留りを向上させる技法が採用されるように
なった。
2. Description of the Related Art In various semiconductor memory devices, when the memory capacity thereof increases, the proportion of defective memory cells present in the memory cell array increases, and the manufacturing yield decreases. Therefore, in addition to the memory cell array, a redundant circuit including a row (column) of redundant memory cells is provided to replace the row (column) in which a defective memory cell exists, to repair the semiconductor memory device and improve the manufacturing yield. Techniques have come to be adopted.

【0003】半導体記憶装置の冗長回路には、様々な回
路,手法があるが(例えば、サイエンスフォーラム社発
行,ULSI DRAM技術,67〜70頁,特開平2
−210697号公報,特開平4−28098号公報等
参照)、最も典型的,代表的な冗長回路を備えた半導体
記憶装置の一例(第1の例)を図7に示す。
There are various circuits and methods for the redundant circuit of the semiconductor memory device (for example, published by Science Forum, ULSI DRAM technology, pages 67 to 70, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2).
FIG. 7 shows an example (first example) of a semiconductor memory device provided with a most typical and typical redundant circuit.

【0004】この半導体記憶装置は、行,列マトリクス
状に配列された複数のメモリセルを備え選択された行及
び列のメモリセルに対しデータの書込み及び読出しを行
うメモリセルアレイMAxと、外部からのアドレス信号
ADを受けて行アドレス信号ADr及び列アドレス信号
ADcを出力するアドレスバッファ回路1xと、行アド
レス信号ADrに従ってメモリセルアレイMAxの所定
の行を選択する行選択回路RSxと、列アドレス信号A
Dcに従ってメモリセルアレイMAxの所定の列を選択
すると共にこのメモリセルアレイMAxから読出された
データを増幅し書込み用のデータをメモリセルアレイM
Axに伝達する列選択・増幅回路CSAxと、列選択・
増幅回路CSAxで増幅されたデータの外部への出力
(DTO)及び外部からの書込み用のデータDTIを列
選択・増幅回路CSAxへ伝達するデータ入出力バッフ
ァ回路3xと、メモリセルアレイMAx中に不良のメモ
リセルが存在するとき、この不良のメモリセルが存在す
る行,列に代ってデータの書込み,読出しを行う冗長メ
モリセル行RAMr及び冗長メモリセル列RMAcと、
メモリセルアレイMAx中に不良のメモリセルが存在す
るとき、この不良のメモリセルが存在する行アドレスを
記憶しておき行アドレス信号ADrがこの記憶している
行アドレスを指定したとき冗長メモリセル行RMArの
所定の行を選択すると共に行選択回路RSxを非活性化
する冗長行選択回路RRSと、メモリセルアレイMAx
中に(前述の不良のメモリセルとは異なる)不良のメモ
リセルが存在するとき、この不良のメモリセルが存在す
る列アドレスを記憶しておき冗長メモリセル列RMAc
の所定の列を選択して列選択・増幅回路CSAxを非活
性化すると共に、冗長メモリセル列RAMcから読出さ
れたデータを増幅してデータ入出力バッファ回路3xへ
伝達しデータ入出力バッファ回路3xからの書込み用の
データ(DTI)を冗長メモリセル列RMAcへ伝達す
る冗長列選択・増幅回路RCSAとを有する構成となっ
ている。
This semiconductor memory device includes a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, a memory cell array MAx for writing and reading data to and from memory cells in selected rows and columns, and an external memory cell array. An address buffer circuit 1x that receives the address signal AD and outputs a row address signal ADr and a column address signal ADc, a row selection circuit RSx that selects a predetermined row of the memory cell array MAx according to the row address signal ADr, and a column address signal A.
A predetermined column of the memory cell array MAx is selected according to Dc, data read from the memory cell array MAx is amplified, and write data is transferred to the memory cell array Mx.
Column selection / amplification circuit CSAx that transmits to Ax
The output (DTO) of the data amplified by the amplifier circuit CSAx to the outside and the data input / output buffer circuit 3x for transmitting the data DTI for writing from the outside to the column selection / amplifier circuit CSAx and the defective memory cell array MAx. When a memory cell exists, a redundant memory cell row RAMr and a redundant memory cell column RMAc for writing and reading data instead of the row and column in which the defective memory cell exists,
When a defective memory cell exists in the memory cell array MAx, the row address in which the defective memory cell exists is stored and the row address signal ADr specifies the stored row address. Redundant memory cell row RMAr , A redundant row selection circuit RRS for deactivating the row selection circuit RSx and a memory cell array MAx.
When a defective memory cell (different from the defective memory cell described above) exists therein, the column address in which the defective memory cell exists is stored and the redundant memory cell column RMAc is stored.
Column deselecting / amplifying circuit CSAx is deactivated and the data read from the redundant memory cell column RAMc is amplified and transmitted to the data input / output buffer circuit 3x. And a redundant column selecting / amplifying circuit RCSA for transmitting the write data (DTI) from the redundant memory cell column RMAc to the redundant memory cell column RMAc.

【0005】この半導体記憶装置では、冗長メモリセル
行RMAr及び冗長メモリセル列RMAcの両方が設け
られているが、何れか一方のみの例も数多くある。
In this semiconductor memory device, both the redundant memory cell row RMAr and the redundant memory cell column RMAc are provided, but there are many examples of only one of them.

【0006】この半導体記憶装置においては、メモリセ
ルアレイMAx中に不良のメモリセルが存在する場合、
この不良のメモリセルが存在する行又は列に代えて冗長
メモリセル行RMAr又は冗長メモリセル列RMAcを
使用してデータの書込み、読出しが行なわれるので、メ
モリセルアレイMAx中の不良のメモリセルの数が、冗
長メモリセル行RMAr,冗長メモリセル列RAMcで
置換できる範囲であればこの半導体記憶装置を良品とし
て救済することができ、製造歩留りを向上させることが
できる。
In this semiconductor memory device, when a defective memory cell exists in the memory cell array MAx,
Data is written and read using the redundant memory cell row RMAr or the redundant memory cell column RMAc instead of the row or column in which the defective memory cell exists, so that the number of defective memory cells in the memory cell array MAx is increased. However, this semiconductor memory device can be repaired as a non-defective product within a range in which the redundant memory cell row RMAr and the redundant memory cell column RAMc can be replaced, and the manufacturing yield can be improved.

【0007】このような半導体記憶装置の、冗長行選択
回路RRSの不良のメモリセルの行アドレスを記憶する
代表的な回路例を図8に示す(列アドレスを記憶する回
路も同様である)。
A typical circuit example for storing the row address of the defective memory cell of the redundant row selection circuit RRS in such a semiconductor memory device is shown in FIG. 8 (the same applies to the circuit for storing the column address).

【0008】この回路は、ゲートに行アドレス信号AD
rの各構成ビットの真・補の信号ADr1,ADr1*
(*印は補の信号を示す)〜ADrn,ADrn*それ
ぞれを受けてオン,オフするソース接地型のトランジス
タQ11,Q12〜Qn1,Qn2と、これらトランジ
スタのドレインと出力節点N1との間に接続されたヒュ
ーズF11,F12〜Fn1,Fn2と、出力節点N1
に電源電圧VCCを供給するためのトランジスタQpと
を備えている。
This circuit has a row address signal AD at its gate.
True / complementary signals ADr1, ADr1 * of each constituent bit of r
(* Indicates a complementary signal) to ADrn, ADrn * are connected between the source-grounded transistors Q11, Q12 to Qn1 and Qn2 which are turned on / off, respectively, and the drains of these transistors and the output node N1. Fuses F11, F12 to Fn1, Fn2 and output node N1
And a transistor Qp for supplying the power supply voltage VCC.

【0009】この回路において、切断されていないヒュ
ーズと接続されているトランジスタのゲートに“1”レ
ベル(高レベル)の行アドレス信号(真・補何れであっ
ても)が入力されると、出力節点N1はヒューズ及びト
ランジスタを通じて接地電位点と接続して低電位(非活
性レベル)となり、冗長メモリセル行RMArは非選択
状態となる。従って、不良のメモリセルの行アドレス信
号の各構成ビットの真・補の信号のうちの“1”の信号
と対応する全てのヒューズを切断することにより、不良
のメモリセルの行アドレスのときのみ出力節点N1を接
地電位点と接続する経路がなくなり、出力接点N1を電
源電位VCCレベルの高レベル(活性化レベル)に保つ
ことができ、冗長メモリセル行RMArを選択すること
ができる。
In this circuit, when a "1" level (high level) row address signal (whether true or complementary) is input to the gate of the transistor connected to the uncut fuse, the output The node N1 is connected to the ground potential point through a fuse and a transistor and has a low potential (inactive level), and the redundant memory cell row RMAr is in a non-selected state. Therefore, by disconnecting all the fuses corresponding to the "1" signal of the true / complementary signals of each constituent bit of the row address signal of the defective memory cell, only at the row address of the defective memory cell. There is no path connecting the output node N1 to the ground potential point, the output contact N1 can be kept at the high level (activation level) of the power supply potential VCC level, and the redundant memory cell row RMAr can be selected.

【0010】冗長メモリセル行RMAr,冗長メモリセ
ル列RMAcにはこのような不良アドレス記憶回路が各
行,各列に必要となるので、冗長メモリセル行,冗長メ
モリセル列を含め、その分チップ面積が増大する。従っ
て、冗長メモリセル行,冗長メモリセル列の設置数には
必然的に制約があり、この設置数は、許容できるチップ
面積の上限,歩留りの下限,不良メモリセルの発生状況
等によって決定される。
Since such a defective address storage circuit is required for each row and each column of the redundant memory cell row RMAr and the redundant memory cell column RMAc, the chip area including the redundant memory cell row and the redundant memory cell column is correspondingly increased. Will increase. Therefore, the number of redundant memory cell rows and redundant memory cell columns to be installed is inevitably limited, and this number of installations is determined by the allowable upper limit of chip area, the lower limit of yield, the occurrence state of defective memory cells, and the like. .

【0011】メモリ容量が更に増大すると、1本のビッ
ト線,ワード線と接続するメモリセルの数が増加し、こ
れらビット線,ワード線の付加容量が増大して動作速度
が低下すると共に、これらビット線,ワード線の電位変
化,充放電による消費電力が増大する。そこで、大容量
の半導体記憶装置においては、メモリセルアレイを複数
個に分割して1本のビット線,ワード線と接続するメモ
リセルの数を少なくし、動作速度の低下を防止し、かつ
消費電力の低減をはかっている(例えば、サイエンスフ
ォーラム社発行,ULSI DRAM技術,89〜91
頁参照)。
When the memory capacity further increases, the number of memory cells connected to one bit line and word line increases, the additional capacity of these bit lines and word lines increases, and the operating speed decreases. Power consumption increases due to potential changes and charging / discharging of bit lines and word lines. Therefore, in a large-capacity semiconductor memory device, the memory cell array is divided into a plurality of memory cells to reduce the number of memory cells connected to one bit line or word line, thereby preventing a decrease in operating speed and reducing power consumption. (For example, published by Science Forum, ULSI DRAM technology, 89-91)
See page).

【0012】複数個のメモリセルアレイを有する半導体
記憶装置(第2の例)においても、当然、冗長回路によ
る救済処置が施され、歩留り向上がはかられる。この場
合にも、前述のメモリセルアレイ1個の場合と同様に、
冗長メモリセル行,冗長メモリセル列の設置数には制約
がある。
Even in a semiconductor memory device having a plurality of memory cell arrays (second example), a repair process is naturally performed by a redundant circuit to improve the yield. Also in this case, as in the case of one memory cell array described above,
There is a limit to the number of redundant memory cell rows and redundant memory cell columns that can be installed.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は、冗長回路によって救済処置が施され、歩留
りの向上がはかれるものの、許容できるチップ面積の上
限等によって冗長メモリセル行,冗長メモリセル列(以
下、冗長メモリセル行,列と記す)の設置数に制約があ
り、不良のメモリセルが存在するメモリセル行,メモリ
セル列(以下、メモリセリ行,列と記す)の数が冗長メ
モリセル行,列の設置数を越えると救済不可能となり廃
棄処分されていた。しかしながら、複数のメモリセルア
レイを備えた半導体記憶装置で上述のように廃棄処分さ
れるものであっても、複数のメモリセルアレイ全てに不
良のメモリセルが残存するものではなく、不良のメモリ
セルが存在しないメモリセルアレイを含む場合も多い。
すなわち、使用可能なメモリセルアレイが含まれていて
も廃棄処分されるため、資源の無駄、製造諸工程の無駄
が生じ、コスト高になるという問題点があった。
In the conventional semiconductor memory device described above, although the repair process is performed by the redundant circuit and the yield is improved, the redundant memory cell row and the redundant memory cell are limited due to the allowable upper limit of the chip area and the like. There is a limit to the number of columns (hereinafter referred to as redundant memory cell rows and columns) installed, and the number of memory cell rows and memory cell columns (hereinafter referred to as memory cell rows and columns) in which defective memory cells exist is redundant memory. When the number of cell rows and columns was exceeded, it was impossible to relieve and was discarded. However, even if a semiconductor memory device having a plurality of memory cell arrays is disposed of as described above, defective memory cells do not remain in all of the plurality of memory cell arrays, and defective memory cells exist. It often includes a memory cell array that does not.
That is, even if the usable memory cell array is included, it is discarded, so that there is a problem that resources are wasted and various manufacturing processes are wasted, resulting in high cost.

【0014】また、複数メモリセルアレイを備えた半導
体記憶装置や、メモリセルアレイを複数個に分割した構
成の半導体記憶装置において、メモリ容量が比較的小さ
い場合やチップ面積に厳しい上限がある場合などには、
冗長回路を持たないことも多い。これら半導体記憶装置
では、メモリセルアレイ中に1個でも不良のメモリセル
が存在すると廃棄処分となるが複数のメモリセルアレイ
全て、分割されたメモリセルアレイ全てに不良メモリセ
ルが存在するとは限らず、多くの場合、不良のメモリセ
ルが存在しないメモリセルアレイ、分割されたメモリセ
ルアレイを含む。このような場合にも、前述のように、
資源の無駄、製造諸工程の無駄が生じ、コスト高になる
という問題点がある。
Further, in a semiconductor memory device having a plurality of memory cell arrays or a semiconductor memory device having a plurality of divided memory cell arrays, when the memory capacity is relatively small or the chip area has a strict upper limit, etc. ,
Often does not have a redundant circuit. In these semiconductor memory devices, if at least one defective memory cell is present in the memory cell array, it is discarded, but not all of the plurality of memory cell arrays and all of the divided memory cell arrays have defective memory cells, and many defective memory cells are present. In this case, the memory cell array includes no defective memory cells and the divided memory cell array. Even in such a case, as described above,
There is a problem that resources are wasted and manufacturing processes are wasted, resulting in high cost.

【0015】本発明の目的は、資源の無駄、製造諸工程
の無駄を少なし、コストの低減をはかることができる半
導体記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which can reduce the waste of resources and the various manufacturing steps and can reduce the cost.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、それぞれ複数のメモリセルを備えこれら複数のメモ
リセルのうちの選択状態のメモリセルからその記憶デー
タを読出す複数のメモリセルアレイと、これら複数のメ
モリセルアレイそれぞれと対応して設けられ対応するブ
ロック選択信号が選択レベルのとき対応するメモリセル
アレイ内の第1のアドレス信号指定のアドレスのメモリ
セルを選択状態とする複数のアドレス選択回路と、前記
複数のメモリセルアレイそれぞれに不良のメモリセルが
存在しないときはこれら複数のメモリセルアレイのうち
の第2のアドレス信号指定のメモリセルアレイと対応す
るブロック選択信号を選択レベルとし、前記複数のメモ
リセルアレイのうちに不良のメモリセルが存在するもの
と存在しないものとが含まれるときはこれら複数のメモ
リセルアレイのうちの不良のメモリセルが存在しない所
定のメモリセルアレイと対応するブロック選択信号のみ
を前記第2のアドレス信号指定とは無関係に選択レベル
に固定するブロック選択回路とを有している。またブロ
ック選択回路が、プログラム可能な複数の不揮発性記憶
素子を備え複数のメモリセルアレイのうちに不良のメモ
リセルが存在するものと存在しないものが含まれるとき
は前記複数の不揮発性記憶素子をプログラミングして前
記複数のメモリセルアレイのうちの不良のメモリセルが
存在しない所定のメモリセルアレイと対応するブロック
選択信号を選択レベルとするためのプログラミング信号
を発生する選択ブロック設定回路と、プログラム可能な
不揮発性記憶素子を備え前記複数のメモリセルアレイの
うちに不良のメモリセルが存在するものと存在しないも
のとが含まれるときはこの不揮発性記憶素子をプログラ
ミングしてアクティブレベルの切換制御信号を発生する
切換制御回路と、前記切換制御信号がアクティブレベル
のときは前記プログラミング信号に従って複数のメモリ
セルアレイのうちの所定のメモリセルアレイと対応する
ブロック選択信号を選択レベルとしインアクティブレベ
ルのときは第2のアドレス信号指定のメモリセルアレイ
と対応するブロック選択信号を選択レベルとする切換・
デコード回路とを含んで構成され、また、ブロック選択
回路が、プログラム可能な複数の不揮発性記憶素子を備
え複数のメモリセルアレイのうちに不良のメモリセルが
存在するものと存在しないものとが含まれるときは前記
複数の不揮発性記憶素子をプログラミングして前記複数
のメモリセルアレイのうちの不良のメモリセルが存在し
ない所定のメモリセルアレイと対応するブロック選択信
号のみを選択レベルに固定した固定ブロック選択信号を
発生する選択ブロック設定回路と、第2のアドレス信号
指定のメモリセルアレイと対応するブロック選択信号を
選択レベルとするアドレス指定ブロック選択信号を出力
するデコード回路と、前記複数のメモリセルアレイのう
ちに不良のメモリセルが存在するものと存在しないもの
とが含まれるときは前記固定ブロック選択信号を選択
し、前記複数のメモリセルアレイそれぞれに不良のメモ
リセルが存在しないときは前記アドレス指定ブロック選
択信号を選択して前記複数のメモリセルアレイそれぞれ
と対応するブロック選択信号として出力する切換回路と
を含んで構成される。
A semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of memory cells, each of which has a plurality of memory cells and which reads out its stored data from a memory cell in a selected state among the plurality of memory cells. A plurality of address selection circuits which are provided corresponding to each of the plurality of memory cell arrays, and which, when the corresponding block selection signal is at the selection level, bring the memory cell of the address designated by the first address signal in the corresponding memory cell array into the selected state; When there is no defective memory cell in each of the plurality of memory cell arrays, a block selection signal corresponding to a memory cell array designated by a second address signal among the plurality of memory cell arrays is set to a selection level, Of those with and without defective memory cells Block selection for fixing only a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array in which no defective memory cell exists among the plurality of memory cell arrays to a selection level irrespective of the designation of the second address signal. And a circuit. In addition, when the block selection circuit includes a plurality of programmable non-volatile memory elements and one of which has a defective memory cell and one of which does not exist, the plurality of non-volatile memory elements are programmed. A selected block setting circuit for generating a programming signal for setting a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array having no defective memory cell among the plurality of memory cell arrays to a selection level; Of the plurality of memory cell arrays having defective memory cells and those having defective memory cells, the nonvolatile memory elements are programmed to generate an active level switching control signal. When the control circuit and the switching control signal are active level According to the programming signal, a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array among a plurality of memory cell arrays is set as a selection level, and when the block level is an inactive level, a block selection signal corresponding to the second address signal designated memory cell array is set as a selection level. Switching to
And a block selection circuit including a plurality of programmable non-volatile memory elements and including a defective memory cell and a non-defective memory cell among a plurality of memory cell arrays. In this case, a fixed block selection signal in which only the block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array having no defective memory cell in the plurality of memory cell arrays is fixed to a selection level by programming the plurality of nonvolatile memory elements A generated select block setting circuit, a decode circuit which outputs an addressing block selection signal having a block selection signal corresponding to the second address signal specifying memory cell array as a selection level, and a defective circuit among the plurality of memory cell arrays. When some memory cells exist and some do not The fixed block selection signal is selected, and when there is no defective memory cell in each of the plurality of memory cell arrays, the addressing block selection signal is selected and output as a block selection signal corresponding to each of the plurality of memory cell arrays. And a switching circuit.

【0017】また、複数の冗長メモリセルを含む冗長回
路を備えた半導体記憶装置であって、複数のメモリセル
アレイを前記冗長回路により、これら複数のメモリセル
アレイ中に複数の不良のメモリセルが存在しこれら複数
の不良のメモリセルに対し、これら所定の不良のメモリ
セルが第1のアドレス信号によりアドレス指定を受けた
ときにこれら所定のメモリセルに代って対応する記憶デ
ータを読出すように置換処置が行なわれた後のメモリセ
ルアレイとして構成される。
Further, in a semiconductor memory device having a redundant circuit including a plurality of redundant memory cells, a plurality of defective memory cells are present in the plurality of memory cell arrays by the redundant circuit. Substituting the plurality of defective memory cells so as to read corresponding stored data in place of the predetermined memory cells when the predetermined defective memory cells are addressed by the first address signal. It is configured as a memory cell array after treatment is performed.

【0018】[0018]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0019】図1は本発明の第1の実施例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.

【0020】この実施例は、それぞれ複数のメモリセル
を備え(図示省略)これら複数のメモリセルのうちの選
択状態のメモリセルからその記憶データを読出しまた伝
達されたデータを選択状態のメモリセルに書込み記憶す
る複数のメモリセルアレイMA1〜MA4と、外部から
のアドレス信号ADを取込み第1のアドレス信号の行ア
ドレス信号ADr及び列アドレス信号ADc並びに第2
のアドレス信号AD1,AD2を出力するアドレスバッ
ファ回路1と、複数のメモリセルアレイMA1〜MA4
それぞれに不良のメモリセルが存在しないときはこれら
複数のメモリセルアレイMA1〜MA4のうちの第2の
アドレス信号AD1,AD2指定のメモリセルアレイと
対応するブロック選択信号(BS1〜BS4)を選択レ
ベルとし、複数のメモリセルアレイMA1〜MA4のう
ちに不良のメモリセルが存在するものと存在しないもの
とが含まれるときはこれら複数のメモリセルアレイMA
1〜MA4のうちの不良のメモリセルが存在しない所定
のメモリセルアレイと対応するブロック選択信号のみを
第2のアドレス信号AD1〜AD2指定とは無関係に選
択レベルに固定するブロック選択回路2と、複数のメモ
リセルアレイMA1〜MA4それぞれと対応して設けら
れ対応するブロック選択信号(BS1〜BS4)が選択
レベルのとき対応するメモリセルアレイ内の第1のアド
レス信号(ADr,ADc)指定のアドレスのメモリセ
ルを選択状態とすると共に、選択状態のメモリセルから
読出されたデータを増幅し、書込み用のデータを選択状
態のメモリセルに伝達する行選択回路RS1〜RS4及
び列選択・増幅回路CSA1〜CSA4と、メモリセル
アレイMA1〜MA4から読出され増幅されたデータを
外部へ出力し(DTO)、外部からの書込み用のデータ
を列選択・増幅回路CSA1〜CSA4を通してメモリ
セルアレイMA1〜MA4に伝達するデータ入出力バッ
ファ回路3とを有する構成となっている。
This embodiment is provided with a plurality of memory cells (not shown), and the stored data is read from the selected memory cell among the plurality of memory cells and the transmitted data is transferred to the selected memory cell. A plurality of memory cell arrays MA1 to MA4 for writing and storing and an address signal AD from the outside are taken in, and a row address signal ADr and a column address signal ADc of the first address signal and a second
Address buffer circuit 1 for outputting the address signals AD1 and AD2 of the plurality of memory cell arrays MA1 to MA4
When there is no defective memory cell in each, the block selection signals (BS1 to BS4) corresponding to the memory cell array designated by the second address signals AD1 and AD2 of the plurality of memory cell arrays MA1 to MA4 are set to the selection level, When some of the plurality of memory cell arrays MA1 to MA4 include a defective memory cell and one of which does not exist, the plurality of memory cell arrays MA
1 to MA4, a block selection circuit 2 for fixing only a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array having no defective memory cell to a selection level irrespective of designation of the second address signals AD1 to AD2; Of the memory cell arrays MA1 to MA4 respectively, and when the corresponding block selection signals (BS1 to BS4) are at the selection level, the memory cell of the address specified by the first address signal (ADr, ADc) in the corresponding memory cell array. Row selection circuits RS1 to RS4 and column selection / amplification circuits CSA1 to CSA4 for amplifying data read from the selected memory cell and transmitting write data to the selected memory cell. , And outputs the data read and amplified from the memory cell arrays MA1 to MA4 to the outside (D O), has a configuration having a data output buffer circuit 3 for transmitting the data for writing from the outside through the column selection and amplification circuit CSA1~CSA4 the memory cell array MA1~MA4.

【0021】次に、この実施例の使用方法及び動作につ
いて説明する。ここで、メモリセルアレイMA1〜MA
4は、冗長回路(図示省略)によって不良のメモリセル
に対する置換処理が施された後のメモリセルアレイであ
っても、冗長回路がなく置換処理が行えないメモリセル
アレイであってもよい。
Next, the usage and operation of this embodiment will be described. Here, the memory cell arrays MA1 to MA
Reference numeral 4 may be a memory cell array after a defective memory cell is replaced by a redundant circuit (not shown) or a memory cell array in which the replacement process cannot be performed without a redundant circuit.

【0022】何れのメモリセルアレイであっても、これ
らメモリセルアレイMA1〜MA4中に不良のメモリセ
ルが存在しなければ、ブロック選択回路2は、第2のア
ドレス信号AD1,AD2に従ってブロック選択信号B
S1〜BS4のうちの1つ、例えばBS1を選択レベル
とする。この結果、選択レベルのブロック選択信号BS
1と対応する行選択回路RS1及び列選択・増幅回路C
SA1が活性化し、第1のアドレス信号の行アドレス信
号ADr及び列アドレス信号ADcが指定する行,列の
アドレスのメモリセルが選択状態となり、このメモリセ
ルからのデータの読出し、このメモリセルへのデータの
書込みが行なわれる。すなわち、メモリセルアレイMA
1〜MA4すべてがデータの書込み、読出しに使用され
る。
In any memory cell array, if there is no defective memory cell in these memory cell arrays MA1 to MA4, the block selection circuit 2 operates in accordance with the second address signals AD1 and AD2.
One of S1 to BS4, for example, BS1 is set as the selection level. As a result, the block selection signal BS of the selection level
1 corresponding to the row selection circuit RS1 and the column selection / amplification circuit C
SA1 is activated, the memory cell at the address of the row and column designated by the row address signal ADr and the column address signal ADc of the first address signal is in the selected state, and the data is read from this memory cell and the memory cell is read. Data is written. That is, the memory cell array MA
All of 1 to MA4 are used for writing and reading data.

【0023】メモリセルアレイMA1〜MA4のうちに
不良のメモリセルが存在するもの(例えばMA1,MA
3)と存在しないもの(例えばMA2,MA4)とが含
まれるときには、ブロック選択回路2により、不良のメ
モイセルが存在しないメモリセル(MA2,MA4)の
うちの1つ(例えばMA4)と対応するブロック選択信
号(BS4)のみを選択レベルに固定する。その結果、
1つのメモリセルアレイ(MA4)に対してのみ、デー
タの書込み、読出しが行なわれる。
Among the memory cell arrays MA1 to MA4, there are defective memory cells (for example, MA1 and MA4).
3) and non-existing ones (for example, MA2 and MA4) are included, the block selection circuit 2 causes a block corresponding to one (for example, MA4) of the memory cells (MA2 and MA4) in which the defective memory cell does not exist. Only the selection signal (BS4) is fixed to the selection level. as a result,
Data writing and reading are performed only for one memory cell array (MA4).

【0024】従来、冗長回路を有する半導体記憶装置に
あってはこの冗長回路による救済(置換)処理が施され
た後の複数のメモリセルアレイまた、冗長回路を持たな
い半導体記憶装置にあってはそのままの複数のメモリセ
ルアレイに、1つでも不良のメモリセルが存在するとそ
の半導体記憶装置は不良品として廃棄処分されていた。
しかし、本発明では、不良のメモリセルが存在するメモ
リセルアレイが含まれていても、不良のメモリセルが存
在しないメモリセルアレイが含まれていれば、この不良
のメモリセルが存在しないメモリセルアレイのみを使用
してメモリ容量の小さい半導体記憶装置として製品化
し、廃棄処分しなくて済む。従って資源の無駄や製造諸
工程の無駄が少なくなり、その分コストを低減すること
ができる。
Conventionally, in a semiconductor memory device having a redundant circuit, a plurality of memory cell arrays after repair (replacement) processing by the redundant circuit have been performed. If at least one defective memory cell exists in the plurality of memory cell arrays, the semiconductor memory device is discarded as a defective product.
However, in the present invention, even if the memory cell array including the defective memory cell is included, if the memory cell array including no defective memory cell is included, only the memory cell array including no defective memory cell is included. It can be used as a semiconductor memory device with a small memory capacity, and can be discarded without disposal. Therefore, the waste of resources and the waste of various manufacturing processes are reduced, and the cost can be reduced accordingly.

【0025】メモリ容量の小さい半導体記憶装置とする
場合、通常、半導体記憶装置はそのメモリ容量が4の倍
数で変化するので、この実施例では1/4のメモリ容量
とするのが一般的であるが、これにこだわる必要はな
い。
In the case of a semiconductor memory device having a small memory capacity, the memory capacity of the semiconductor memory device usually changes in multiples of 4, so in this embodiment, the memory capacity is generally 1/4. But you don't have to worry about this.

【0026】図2(A),(B)はこの実施例のブロッ
ク選択回路2の具体的な回路例を示す回路図並びにその
入力信号及びヒューズ切断状態に対する出力信号のレベ
ルを示す図である。
FIGS. 2A and 2B are a circuit diagram showing a concrete circuit example of the block selection circuit 2 of this embodiment and a diagram showing the level of the input signal and the output signal with respect to the fuse blown state.

【0027】このブロック選択回路2は、第2のアドレ
ス信号AD1,AD2の各構成ビット(すなわちAD
1,AD2)の真・補の信号それぞれと対応して設けら
れ一端を電源電位点と接続したプログラム可能な不揮発
性記憶素子としてのヒューズFj(j=1〜4、以下同
じ)、それぞれソースを接地電位点と接続しドレインを
対応するヒューズ(Fj)の他端と接続しゲートを電源
電位点と接続するトランジスタQj(Q1のみ表示)、
これらヒューズFjと対応するトランジスタQjとの接
続点のレベルを検知し”1”または”0”のレベルの信
号を出力するインバータIVj1(IV11のみ表
示)、第1の入力端に対応するインバータ(IVj1)
の出力信号を受け第2の入力端に切換制御信号SWを受
ける2入力NAND型のゲート回路Gj(G1のみ表
示)、及びこれらゲート回路Gjの出力信号をレベル反
転するインバータIVj2(IV12のみ表示)を備
え、メモリセルアレイMA1〜MA4のうちに不良のメ
モリセルが存在するものと存在しないものとが含まれる
ときは複数のヒューズFjをプログラミングしてメモリ
セルアレイMA1〜MA4のうちの不良のメモリセルが
存在しない所定のメモリセルアレイと対応するブロック
選択信号(BS1〜BS4)を選択レベルとするための
プログラミング信号を発生する選択ブロック設定回路2
1と、一端を接地電位点と接続したプログラム可能な不
揮発性記憶素子としてのヒューズF5、ソースをこのヒ
ューズF5の他端と接続しゲート及びドレインを電源電
位点と接続するトランジスタQ5、これらヒューズF5
とトランジスタQ5との接続点のレベルを検出し”1”
または”0”レベルの信号を出力するインバータIV5
1、及びこのインバータIV51の出力信号をレベル反
転するインバータIV52を備え、メモリセルアレイM
A1〜MA4のうちに不良のメモリセルが存在するもの
と存在しないものとが含まれるときはこのヒューズF5
をプログラミングしてアクティブレベルの切換制御信号
SWを発生する切換制御回路22と、第2のアドレス信
号AD1,AD2の補信号を発生するインバータIV
1,IV2、第1の入力端に切換制御信号SWを受け第
2の入力端に第2のアドレス信号AD1,AD2の真・
補の信号をそれぞれ対応して受ける2入力NOR型のゲ
ート回路G11〜G14、第1の入力端に選択ブロック
設定回路21からのプログラミング信号を第2の入力端
にゲート回路G11〜G14の出力信号をそれぞれ対応
して受ける2入力NOR型のゲート回路G15〜G1
8,第1の入力端にこれらゲート回路G15〜G18出
力信号をそれぞれ対応して受け第2の入力端にそれぞれ
内部アドレス活性化信号IAEを受ける2入力NAND
型のゲート回路G19〜G22、第1,第2の入力端に
これらゲート回路G19〜G22の出力信号を受けてデ
コードし出力端からのブロック選択信号BS1〜BS4
のうちの1つを選択レベルとする2入力NOR型のゲー
ト回路G23〜G26を備え、切換制御信号SWがアク
ティベレベルのときは上記プログラミング信号に従って
複数のメモリセルアレイMA1〜MA4のうちの所定の
メモリセルアレイと対応するブロック選択信号を選択レ
ベルとしインアクティブレベルのときは第2のアドレス
信号AD1,AD2指定のメモリセルアレイと対応する
ブロック選択信号を選択レベルとする切換・デコード回
路23とを含んで構成される。なお、ヒューズF1〜F
4それぞれを含みプログラミング信号の構成ビットを出
力する同一構成の回路は、ヒューズ回路211〜214
として表示してある。
The block selection circuit 2 includes the constituent bits of the second address signals AD1 and AD2 (that is, AD).
1, AD2) corresponding to the true / complementary signals, one end of which is connected to the power supply potential point, and the fuse Fj (j = 1 to 4, hereinafter the same) as a programmable non-volatile memory element, and the sources thereof, respectively. A transistor Qj (only Q1 is shown), which is connected to the ground potential point, connects the drain to the other end of the corresponding fuse (Fj), and connects the gate to the power supply potential point,
An inverter IVj1 (only IV11 is shown) that detects the level of the connection point between the fuse Fj and the corresponding transistor Qj and outputs a signal of level "1" or "0", and an inverter (IVj1 corresponding to the first input terminal )
2-input NAND type gate circuit Gj (only G1 is shown) which receives the switching control signal SW at its second input terminal, and an inverter IVj2 (only IV12 is shown) which inverts the output signals of these gate circuits Gj. When a defective memory cell exists in the memory cell arrays MA1 to MA4 and a defective memory cell does not exist in the memory cell arrays MA1 to MA4, a plurality of fuses Fj are programmed to detect the defective memory cell in the memory cell arrays MA1 to MA4. Selected block setting circuit 2 for generating a programming signal for setting the block selection signals (BS1 to BS4) corresponding to a predetermined nonexistent memory cell array to the selection level
1, a fuse F5 as a programmable non-volatile memory element whose one end is connected to the ground potential point, a transistor Q5 whose source is connected to the other end of this fuse F5 and whose gate and drain are connected to the power supply potential point, and these fuses F5
"1" is detected at the level of the connection point between the transistor and the transistor Q5.
Or an inverter IV5 that outputs a "0" level signal
1 and an inverter IV52 for inverting the level of the output signal of the inverter IV51, and the memory cell array M
If one of A1 to MA4 includes a defective memory cell and a defective memory cell does not exist, the fuse F5
And a switching control circuit 22 for programming an active level switching control signal SW and an inverter IV for generating a complementary signal of the second address signals AD1 and AD2.
1, IV2, the first input terminal receives the switching control signal SW, and the second input terminal receives the true / false status of the second address signals AD1 and AD2.
Two-input NOR type gate circuits G11 to G14 which receive complementary signals respectively, and a programming signal from the selection block setting circuit 21 is input to the first input terminal and output signals of the gate circuits G11 to G14 are input to the second input terminal. Two-input NOR type gate circuits G15 to G1 which respectively receive
8. A two-input NAND which receives the output signals of these gate circuits G15 to G18 at its first input terminal and receives the internal address activation signal IAE at its second input terminal, respectively.
Type gate circuits G19 to G22 and block selection signals BS1 to BS4 from the output terminals of the gate circuits G19 to G22 which receive the output signals of the gate circuits G19 to G22 at their first and second input terminals and decode them.
Two-input NOR type gate circuits G23 to G26 having one of them as a selection level are provided, and when a switching control signal SW is at an active level, a predetermined memory among a plurality of memory cell arrays MA1 to MA4 is provided according to the programming signal. When the block selection signal corresponding to the cell array is set as the selection level and the inactive level is set, a switching / decoding circuit 23 for setting the block selection signal corresponding to the memory cell array designated by the second address signals AD1 and AD2 as the selection level is included. To be done. In addition, the fuses F1 to F
The fuse circuits 211 to 214 have the same configuration and each of the four circuits outputs the configuration bit of the programming signal.
Is displayed as.

【0028】このブロック選択回路2においては、ヒュ
ーズF1〜F5が全く切断されていない状態では、切換
制御信号SWがインアクティブレベルとなり、プログラ
ミング信号の全ビットが非活性化レベルの低レベルとな
るので、第2のアドレス信号AD1,AD2の真・補の
信号がゲート回路G11〜G14,G15〜G18を通
過し、更に内部アドレス活性化信号IAEが活性化レベ
ル(高レベル)になるとゲート回路G19〜G22を通
過してゲート回路G23〜G26を含む回路によりデコ
ードされ、第2のアドレス信号AD1,AD2の指定ア
ドレスと対応するブロック選択信号(BS1〜BS4の
うちの1つ)が選択レベルとなる。
In the block selection circuit 2, when the fuses F1 to F5 are not blown at all, the switching control signal SW becomes inactive level and all bits of the programming signal become low level of inactivation level. , When the true / complementary signals of the second address signals AD1 and AD2 pass through the gate circuits G11 to G14 and G15 to G18, and the internal address activation signal IAE becomes the activation level (high level), the gate circuits G19 to G19 to The block select signal (one of BS1 to BS4) corresponding to the designated address of the second address signals AD1 and AD2 is passed through G22 and decoded by the circuit including the gate circuits G23 to G26, and becomes the selection level.

【0029】メモリセルアレイMA1〜MA4のうちに
不良のメモリセルが存在するものと存在しないものとが
含まれる場合には、まずヒューズF5を切断し切換制御
信号SWをアクティブレベル(高レベル)とする。この
結果、ゲート回路G11〜G14により第2のアドレス
信号AD1,AD2は非活性化され、プログラミング信
号が活性化される。ヒューズF1〜F4のうちのどのヒ
ューズを切断(C)する(プログラミングする)かは、
どのブロック選択信号(BS1〜BS4)を選択レベル
にするかによって決定される。例えば、メモリ容量を1
/4として使用するものとし、ブロック選択信号BS1
を選択レベルにする場合には、ヒューズF1,F3を切
断する。
When some of the memory cell arrays MA1 to MA4 have defective memory cells and some have no defective memory cells, first, the fuse F5 is blown to set the switching control signal SW to the active level (high level). . As a result, the gate circuits G11 to G14 inactivate the second address signals AD1 and AD2 and activate the programming signal. Which of the fuses F1 to F4 is to be cut (C) (programmed) is
It is determined by which block selection signal (BS1 to BS4) is set to the selection level. For example, if the memory capacity is 1
Block selection signal BS1
When the voltage is set to the selection level, the fuses F1 and F3 are blown.

【0030】このヒューズF1〜F4の切断箇所は、ヒ
ューズF1が第2のアドレス信号AD1の真の信号に、
F2がAD1の補の信号に、F3が第2のアドレス信号
AD2の真の信号に、F4がAD2の補の信号にそれぞ
れ対応し、かつ、第2のアドレス信号AD1,AD2の
真・補の信号の「低レベル」がヒューズF1〜F4の
「切断」に対応する。従って、どのヒューズを切断すれ
ばよいかは、第2のアドレス信号AD1,AD2とブロ
ック選択信号BS1〜BS4との関係から極めて容易に
判定することができる。
At the cut points of the fuses F1 to F4, the fuse F1 becomes a true signal of the second address signal AD1.
F2 corresponds to the complementary signal of AD1, F3 corresponds to the true signal of the second address signal AD2, F4 corresponds to the complementary signal of AD2, and the true / complement of the second address signals AD1 and AD2. The "low level" of the signal corresponds to the "cutting" of the fuses F1 to F4. Therefore, which fuse should be blown can be extremely easily determined from the relationship between the second address signals AD1 and AD2 and the block selection signals BS1 to BS4.

【0031】図3は本発明の第2の実施例のブロック選
択回路の具体的な回路例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a concrete circuit example of the block selection circuit according to the second embodiment of the present invention.

【0032】第1の実施例におけるブロック選択回路2
では、ヒューズ回路211〜214のトランジスタQ1
〜Q4(Q1のみ表示)が常時オン状態となっているの
で、電源電位点と接地電位点との間にこれらトランジス
タQ1〜Q4及びヒューズF1〜F4による電流経路が
形成されて常時電流が流れ、メモリセルアレイの数、メ
モリセルアレイの分割数が増加するとこの電流による消
費電力が増大する。
Block selection circuit 2 in the first embodiment
Then, the transistor Q1 of the fuse circuits 211 to 214
Since ~ Q4 (only Q1 is displayed) is always on, a current path is formed by these transistors Q1 to Q4 and fuses F1 to F4 between the power supply potential point and the ground potential point, and a constant current flows, When the number of memory cell arrays and the number of divided memory cell arrays increase, the power consumption due to this current increases.

【0033】そこでこの第2の実施例では、トランジス
タQj(j=1〜4)のゲートに外部アドレス取込み信
号EAL(外部からのアドレス信号ADをアドレスバッ
ファ回路1等に取込むための信号)を入力し、インバー
タIVj1に入出力端を逆に接続した非活性化制御信号
端子付きのインバータIVj3を設けてこれらにより保
持回路を形成し、外部アドレス取込み信号EALがアク
ティブレベル(高レベル)のときトランジスタQjをオ
ンとしてこのときのトランジスタQjとヒューズFjと
の接続点のレベルをインバータIVj1,IVj3によ
る保持回路に取込む構成のヒューズ回路211a〜21
4aとすることにより、外部アドレス取込み信号EAL
のアクティブレベルの期間以外はヒューズFj,トラン
ジスタQjによる電流経路及びインバータIVj1,I
Vj3に電流が流れないようにし、消費電力を低減して
いる。
Therefore, in the second embodiment, an external address take-in signal EAL (a signal for taking in an external address signal AD to the address buffer circuit 1 or the like) is applied to the gate of the transistor Qj (j = 1 to 4). An inverter IVj3 having a deactivation control signal terminal whose input and output terminals are inversely connected to the inverter IVj1 is provided to form a holding circuit, and a transistor is provided when the external address take-in signal EAL is at an active level (high level). Fuse circuits 211a to 21 configured to turn on Qj and take in the level of the connection point between the transistor Qj and the fuse Fj at this time to the holding circuit formed by the inverters IVj1 and IVj3.
By setting 4a, the external address take-in signal EAL
Except during the active level period, the current path by the fuse Fj and the transistor Qj and the inverters IVj1 and Ij
The current is prevented from flowing to Vj3 to reduce the power consumption.

【0034】インバータIVj3の非活性化制御信号端
子にはパワーオン信号PONを入力し、この信号(PO
N)がアクティブレベル(高レベル)の電源投入直後の
過渡状態のときに上記保持回路を非活性状態とし、不安
定なレベルが取込まれるのを防止している。
The power-on signal PON is input to the deactivation control signal terminal of the inverter IVj3, and this signal (PO
When N) is in an active level (high level) in a transient state immediately after power-on, the holding circuit is deactivated to prevent an unstable level from being taken.

【0035】その他の部分は、第1の実施例と同様であ
り、同様の効果が得られる。参考のため、図4に第2の
実施例の各部信号のタイミング図を示しておく。なお、
これら実施例において、ヒューズF1〜F5の抵抗値及
びトランジスタQ1〜Q5のオン抵抗,オフ抵抗は、バ
ータIVj1,IV51のしきい値電圧に対し、ヒュー
ズF1〜F5の切断,非切断のレベルが明確に判定で
き、かつトランジスタQ1〜Q5オフ時に上記保持回路
の保持レベルが変化しないような値に設定されることは
明らかである。
The other parts are similar to those of the first embodiment, and similar effects can be obtained. For reference, FIG. 4 shows a timing chart of signals in each part of the second embodiment. In addition,
In these embodiments, the resistance values of the fuses F1 to F5 and the on-resistances and off-resistances of the transistors Q1 to Q5 have clear levels of disconnection and non-disconnection of the fuses F1 to F5 with respect to the threshold voltages of the burners IVj1 and IV51. It is clear that the holding level of the holding circuit is set to a value that does not change when the transistors Q1 to Q5 are turned off.

【0036】図5は本発明の第3の実施例のブロック選
択回路の一部分の具体的な回路例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a concrete circuit example of a part of the block selection circuit according to the third embodiment of the present invention.

【0037】第1,第2の実施例では、ブロック選択信
号BS1〜BS4のうちのどれを選択レベルにするか
を、ヒューズF1〜F5によりプログラミングしている
が、この第3の実施例ではEPROM素子MC1〜MC
5(MC2〜MC4は図示省略)によりプログラミング
するようにしたものである。EPROM素子MC1〜M
C5への書込みはパッドPD1〜PD4,PD51に所
定の高電圧(例えば7V)を印加しPD52を接地電位
点と接続し、外部アドレス取込み信号EAL入力端に所
定の電圧(例えば7V)を印加して行い、しきい値電圧
を変化させる。プログラミング後は、パッドPD1〜P
D4,PD51を所定の電位点(例えば接地変位点)に
接続する。
In the first and second embodiments, which of the block selection signals BS1 to BS4 is set to the selection level is programmed by the fuses F1 to F5, but in the third embodiment, the EPROM is used. Elements MC1 to MC
5 (MC2 to MC4 are not shown) for programming. EPROM elements MC1 to M
To write to C5, a predetermined high voltage (for example, 7V) is applied to the pads PD1 to PD4 and PD51, PD52 is connected to the ground potential point, and a predetermined voltage (for example, 7V) is applied to the external address take-in signal EAL input terminal. Then, the threshold voltage is changed. After programming, pads PD1-P
D4 and PD51 are connected to a predetermined potential point (for example, ground displacement point).

【0038】この実施例では、メモリセルアレイがEP
ROM素子で構成されている場合、上記EPROM素子
MC1〜MC5をメモリセルアレイと同一工程で形成で
きるという利点がある。その他の部分は、第1,第2の
実施例と同様であり、これら実施例と同様の効果が得ら
れる。
In this embodiment, the memory cell array is EP
If it is composed of ROM elements, there is an advantage that the EPROM elements MC1 to MC5 can be formed in the same step as the memory cell array. Other parts are the same as those of the first and second embodiments, and the same effects as those of these embodiments can be obtained.

【0039】図6は本発明の第4の実施例のブロック選
択回路の具体的な回路例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a concrete circuit example of the block selection circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【0040】この実施例のブロック選択回路2bは、一
端を接地電位と接続するプログラム可能な不揮発性記憶
素子のヒューズFj(j=1〜4)、ソースを対応する
ヒューズFjの他端と接続しゲート及びドレインを電源
電位点と接続するトランジスタQj(j=1のみ図
示)、対応するヒューズFj及びトランジスタQjの接
続点のレベルを検知し“1”または“0”のレベルの信
号を出力するインバータIVj1(j=1のみ図示)、
及び対応するインバータIVj1の出力信号をレベル反
転するインバータIVj2(j=1のみ図示)を備え、
複数のメモリセルアレイMA1〜MA4のうちに不良の
メモリセルが存在するものと存在しないものとが含まれ
るときはヒューズFjをプログラミングしてメモリセル
アレイMA1〜MA4のうちの不良のメモリセルが存在
しない所定のメモリセルアレイと対応するブロック選択
信号(BS1〜BS4のうちの所定のもの)のみを選択
レベルに固定した固定されたブロック選択信号を発生す
る選択ブロック設定回路21cと、第2のアドレス信号
AD1,AD2のレベル反転信号(補信号)を発生する
インバータIV1,IV2、第2のアドレス信号AD
1,AD2及びその補信号をデコードする2入力NOR
型のゲート回路G23〜G26、及びこれらゲート回路
G23〜G26それぞれの出力信号をレベル反転するイ
ンバータIV3〜IV6を備え、第2のアドレス信号A
D1,AD2指定のメモリセルアレイと対応するブロッ
ク選択信号(BS1〜BS4)を選択レベルとするアド
レス指定ブロック選択信号を出力するデコード回路24
と、上記固定されたブロック選択信号の全構成ビットを
入力する4入力NOR型のゲート回路G27、この回路
G27の出力信号をレベル反転するインバータIV7、
それぞれ第1の入力端に上記アドレス指定ブロック選択
信号の対応するビットを受け第2の入力端にインバータ
IV7の出力信号を受ける2入力NOR型のゲート回路
G11〜G14、それぞれ第1の入力端に上記固定され
たブロック選択信号の対応するビットを受け第2の入力
端にゲート回路G11〜G14の対応する出力信号を受
ける2入力NOR型のゲート回路G15〜G18、及び
それぞれ第1の入力端にゲート回路G15〜G18の対
応する出力信号を受け第2の入力端に内部アドレス活性
化信号IAEを受ける2入力NAND型のゲート回路G
19〜G22を備え、メモリセルアレイMA1〜MA4
のうちに不良のメモリセルが存在するものと存在しない
ものとが含まれるときは上記固定されたブロック選択信
号を選択しメモリセルアレイMA1〜MA4それぞれに
不良のメモリセルが存在しないときは上記アドレス指定
ブロック選択信号を選択してメモリセルアレイMA1〜
MA4それぞれと対応するブロック選択信号BS1〜B
S4として出力する切換回路25とを含んで構成され
る。なお、ヒューズFjそれぞれを含む固定されたブロ
ック選択信号の構成ビットを出力する同一構成の回路
は、ヒューズ回路21jbとして表示してある。
In the block selection circuit 2b of this embodiment, a programmable nonvolatile memory element fuse Fj (j = 1 to 4) having one end connected to the ground potential and a source connected to the other end of the corresponding fuse Fj. An inverter that detects the level of the transistor Qj (only j = 1 is shown) that connects the gate and drain to the power supply potential point, the connection point of the corresponding fuse Fj and transistor Qj, and outputs a signal of "1" or "0" level. IVj1 (only j = 1 is shown),
And an inverter IVj2 (only j = 1 is shown) for inverting the level of the output signal of the corresponding inverter IVj1.
When some of the plurality of memory cell arrays MA1 to MA4 include defective memory cells and some of which do not exist, the fuse Fj is programmed to determine that the defective memory cells of the memory cell arrays MA1 to MA4 do not exist. Selected block setting circuit 21c for generating a fixed block selection signal in which only the block selection signal (a predetermined one of BS1 to BS4) corresponding to the memory cell array is fixed to the selection level, and the second address signal AD1, Inverters IV1 and IV2 for generating a level inversion signal (complementary signal) of AD2, second address signal AD
2-input NOR for decoding 1, AD2 and its complementary signal
Type gate circuits G23 to G26, and inverters IV3 to IV6 for inverting the levels of the output signals of the gate circuits G23 to G26, respectively.
Decoding circuit 24 that outputs an addressing block selection signal having block selection signals (BS1 to BS4) corresponding to the memory cell arrays specified by D1 and AD2 as selection levels.
A 4-input NOR type gate circuit G27 for inputting all the constituent bits of the fixed block selection signal, an inverter IV7 for inverting the level of the output signal of the circuit G27,
Two-input NOR type gate circuits G11 to G14 each of which receives a corresponding bit of the addressing block selection signal at its first input terminal and each of which receives an output signal of the inverter IV7 at its second input terminal. Two-input NOR type gate circuits G15 to G18 for receiving corresponding bits of the fixed block selection signal and receiving corresponding output signals of the gate circuits G11 to G14 at their second input terminals, and their first input terminals respectively. A 2-input NAND type gate circuit G which receives the corresponding output signals of the gate circuits G15 to G18 and receives the internal address activation signal IAE at the second input terminal.
19 to G22 and memory cell arrays MA1 to MA4
If there is a defective memory cell in the memory cell array, and if there is a defective memory cell in the memory cell array, the fixed block selection signal is selected, and if there is no defective memory cell in each of the memory cell arrays MA1 to MA4, the address designation is performed. Select the block selection signal to select the memory cell arrays MA1 to MA1.
Block selection signals BS1 to B corresponding to the respective MA4
And a switching circuit 25 for outputting as S4. A circuit having the same configuration that outputs the constituent bits of the fixed block selection signal including each fuse Fj is shown as a fuse circuit 21jb.

【0041】この実施例において、全てのメモリセルア
レイMA1〜MA4に不良のメモリセルが存在せず、ヒ
ューズFjの全てが切断されていないときには、上記固
定されたブロック選択信号は全ビット非活性レベル(低
レベル)であるので、上記アドレス指定ブロック選択信
号がゲート回路G11〜G14,G15〜G18を通過
した後ゲート回路G19〜G22を通過し、ブロック選
択信号RS1〜BS4として出力される。
In this embodiment, when there is no defective memory cell in all the memory cell arrays MA1 to MA4 and all the fuses Fj are not blown, the fixed block selection signal is at the inactive level (all bits). (Low level), the addressing block selection signal passes through the gate circuits G11 to G14 and G15 to G18 and then the gate circuits G19 to G22, and is output as the block selection signals RS1 to BS4.

【0042】メモリセルアレイMA1〜MA4中に不良
のメモリセルが存在するものと存在しないものとが含ま
れるときには、不良のメモリセルが存在しない所定のメ
モリセルアレイ、例えばMA1と対応するヒューズF1
を切断する。この結果、上記アドレス指定ブロック選択
信号はインバータIV7の出力により非活性化され、ヒ
ューズF1対応の高レベルの固定されたブロック選択信
号の構成ビットがゲート回路G15,G19を通過して
ブロック選択信号BS1を選択レベルとする。
When the memory cell arrays MA1 to MA4 include defective memory cells and non-defective memory cells, a predetermined memory cell array having no defective memory cells, for example, a fuse F1 corresponding to MA1.
Disconnect. As a result, the addressing block selection signal is inactivated by the output of the inverter IV7, and the constituent bits of the fixed block selection signal of the high level corresponding to the fuse F1 pass through the gate circuits G15 and G19 and the block selection signal BS1. Is the selection level.

【0043】この実施例では、選択するメモリセルアレ
イと対応するヒューズのみを切断すればよいので、第1
の実施例等に比べプログラミングが極めて容易になると
いう利点と、ヒューズが1本少くなり回路素子数が少な
くなるという利点がある。その他の部分は第1の実施例
と同様であり、同様の効果が得られる。
In this embodiment, only the fuse corresponding to the selected memory cell array needs to be blown, so that the first
There is an advantage that programming is extremely easy as compared with the above-mentioned embodiment and that there is one fuse and the number of circuit elements is reduced. Other parts are similar to those of the first embodiment, and similar effects can be obtained.

【0044】上記実施例においては、プログラム可能な
不揮発性記憶素子としてヒューズ及びEPROM素子を
使用した場合について説明したが、他のPROM素子、
例えばダイオード素子等であってよい。また第4の実施
例のヒューズ回路に、第2の実施例のヒューズ回路や第
3の実施例のPROM回路を適用することもでき、更に
そのほかの組合せも可能である。
In the above embodiment, the case where the fuse and the EPROM element are used as the programmable non-volatile memory element has been described, but other PROM elements,
For example, it may be a diode element or the like. Further, the fuse circuit of the second embodiment and the PROM circuit of the third embodiment can be applied to the fuse circuit of the fourth embodiment, and other combinations are possible.

【0045】また、複数のメモリセルアレイは、前述し
たように、冗長回路による救済処置が施されたものであ
っても、冗長回路がなく救済処置ができないものであっ
てもよい。救済処置が施されたものでは更に省資源化を
進めることができ、救済できないものにあっては、省資
源化のほか、冗長回路の分だけチップ面積を小さくでき
ると共に救済処置に必要な工数を省くことができる利点
がある。
As described above, the plurality of memory cell arrays may be repaired by the redundant circuit or may not be repaired without the redundant circuit. Resource saving can be further promoted with the relief processing, and resource saving can be achieved with the resource saving, and the chip area can be reduced by the amount of the redundant circuit and the man-hour required for the relief processing can be reduced. There is an advantage that it can be omitted.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数のメ
モリセルアレイそれぞれに不良のメモリセルが存在しな
いときはこれら複数のメモリセルアレイのうちの第2の
アドレス信号指定のメモリセルアレイと対応するブロッ
ク選択信号を選択レベルとし、前記複数のメモリセルア
レイのうちに不良のメモリセルが存在するものと存在し
ないものとが含まれるときはこれら複数のメモリセルア
レイのうちの不良のメモリセルが存在しない所定のメモ
リセルアレイと対応するブロック選択信号のみを前記第
2のアドレス信号指定とは無関係に選択レベルに固定す
るブロック選択回路と設け、選択レベルのブロック選択
信号と対応するメモリセルアレイに対し書込み、読出し
を行う構成とすることにより、従来、複数のメモリセル
アレイ中に1つでも不良のメモリセルが存在するメモリ
セルアレイがあると廃棄処分されていたが、不良のメモ
リセルが存在しないメモリセルアレイが1つでもあれば
これを良品として使用することができるので、資源の無
駄及び製造諸工程の無駄を少なくすることができ、その
分コストを低減することができる効果がある。
As described above, according to the present invention, when there is no defective memory cell in each of the plurality of memory cell arrays, the block corresponding to the second address signal designated memory cell array among the plurality of memory cell arrays. When the selection signal is set to a selection level and one of the plurality of memory cell arrays has a defective memory cell and the other of which does not exist, a predetermined memory cell of the plurality of memory cell arrays does not have a predetermined memory cell. A block selection circuit that fixes only the block selection signal corresponding to the memory cell array to the selection level regardless of the designation of the second address signal is provided, and writing and reading are performed on the memory cell array corresponding to the block selection signal of the selection level. Conventionally, one of the memory cell arrays can be configured It was discarded if there was a memory cell array with defective memory cells, but if there is at least one memory cell array without defective memory cells, it can be used as a good product, which is a waste of resources and manufacturing. There is an effect that the waste of various steps can be reduced and the cost can be reduced accordingly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック図であ
る。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された実施例のブロック選択回路の具
体的な回路例を示す回路図並びにその入力信号及びヒュ
ーズ切断状態に対する出力信号レベルを示す図である。
2 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a block selection circuit of the embodiment shown in FIG. 1 and a diagram showing an input signal thereof and an output signal level with respect to a fuse blown state.

【図3】本発明の第2の実施例のブロック選択回路の具
体的な回路例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a block selection circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3に示された回路を含む第2の実施例の各部
信号のタイミング図である。
FIG. 4 is a timing diagram of signals of respective parts of the second embodiment including the circuit shown in FIG.

【図5】本発明の第3の実施例のブロック選択回路の具
体的な回路例を示す部分回路図である。
FIG. 5 is a partial circuit diagram showing a specific circuit example of a block selection circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第4の実施例のブロック選択回路の具
体的な回路例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a block selection circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置の一例を示すブロック図
である。
FIG. 7 is a block diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device.

【図8】図7に示された半導体記憶装置の冗長行選択回
路の具体的な回路例を示す回路図である。
8 is a circuit diagram showing a specific circuit example of a redundant row selection circuit of the semiconductor memory device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1x アドレスバッファ回路 2,2a,2b ブロック選択回路 3,3x データ入出力バッファ回路 21,21a,21b,21c 選択ブロック設定回
路 22,22a,22b 切換制御回路 23 切換・デコード回路 24 デコード回路 25 切換回路 211〜214,211a〜214a,211b〜21
4b ヒューズ回路 215 PROM回路 CSA1〜CSA4,CSAx 列選択・増幅回路 F1〜F5,F11,F12〜Fn1,Fn2 ヒュ
ーズ MA1〜MA4,MAx メモリセルアレイ MC1〜MC5 EPROM素子 Q1〜Q5,Q11,Q12〜Qn1,Qn2,Qp
トランジスタ RCSA 冗長列選択・増幅回路 RMAc 冗長メモリセル列 RMAr 冗長メモリセル行 RRS 冗長行選択回路 RS1〜RS4,RSx 行選択回路
1, 1x address buffer circuit 2, 2a, 2b block selection circuit 3, 3x data input / output buffer circuit 21, 21a, 21b, 21c selection block setting circuit 22, 22a, 22b switching control circuit 23 switching / decoding circuit 24 decoding circuit 25 Switching circuit 211-214, 211a-214a, 211b-21
4b Fuse circuit 215 PROM circuit CSA1 to CSA4, CSAx column selection / amplification circuit F1 to F5, F11, F12 to Fn1, Fn2 Fuse MA1 to MA4, MAx memory cell array MC1 to MC5 EPROM device Q1 to Q5, Q11, Q12 to Qn1, Qn2, Qp
Transistor RCSA Redundant column selection / amplification circuit RMAc Redundant memory cell column RMAr Redundant memory cell row RRS Redundant row selection circuit RS1 to RS4, RSx row selection circuit

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ複数のメモリセルを備えこれら
複数のメモリセルのうちの選択状態のメモリセルからそ
の記憶データを読出す複数のメモリセルアレイと、これ
ら複数のメモリセルアレイそれぞれと対応して設けられ
対応するブロック選択信号が選択レベルのとき対応する
メモリセルアレイ内の第1のアドレス信号指定のアドレ
スのメモリセルを選択状態とする複数のアドレス選択回
路と、前記複数のメモリセルアレイそれぞれに不良のメ
モリセルが存在しないときはこれら複数のメモリセルア
レイのうちの第2のアドレス信号指定のメモリセルアレ
イと対応するブロック選択信号を選択レベルとし、前記
複数のメモリセルアレイのうちに不良のメモリセルが存
在するものと存在しないものとが含まれるときはこれら
複数のメモリセルアレイのうちの不良のメモリセルが存
在しない所定のメモリセルアレイと対応するブロック選
択信号のみを前記第2のアドレス信号指定とは無関係に
選択レベルに固定するブロック選択回路とを有すること
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cell arrays each of which has a plurality of memory cells and reads stored data from a memory cell in a selected state among the plurality of memory cells, and a plurality of memory cell arrays provided corresponding to the plurality of memory cell arrays, respectively. A plurality of address selection circuits for selecting a memory cell of an address designated by a first address signal in a corresponding memory cell array when a corresponding block selection signal is at a selection level; and a defective memory cell in each of the plurality of memory cell arrays. Is not present, the block selection signal corresponding to the memory cell array designated by the second address signal among the plurality of memory cell arrays is set to the selection level, and the defective memory cell is present in the plurality of memory cell arrays. If there are some memory cells that do not exist, And a block selection circuit for fixing only a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array in which no defective memory cell exists in the ray to the selection level regardless of the designation of the second address signal. Semiconductor memory device.
【請求項2】 ブロック選択回路が、プログラム可能な
複数の不揮発性記憶素子を備え複数のメモリセルアレイ
のうちに不良のメモリセルが存在するものと存在しない
ものが含まれるときは前記複数の不揮発性記憶素子をプ
ログラミングして前記複数のメモリセルアレイのうちの
不良のメモリセルが存在しない所定のメモリセルアレイ
と対応するブロック選択信号を選択レベルとするための
プログラミング信号を発生する選択ブロック設定回路
と、プログラム可能な不揮発性記憶素子を備え前記複数
のメモリセルアレイのうちに不良のメモリセルが存在す
るものと存在しないものとが含まれるときはこの不揮発
性記憶素子をプログラミングしてアクティブレベルの切
換制御信号を発生する切換制御回路と、前記切換制御信
号がアクティブレベルのときは前記プログラミング信号
に従って複数のメモリセルアレイのうちの所定のメモリ
セルアレイと対応するブロック選択信号を選択レベルと
しインアクティブレベルのときは第2のアドレス信号指
定のメモリセルアレイと対応するブロック選択信号を選
択レベルとする切換・デコード回路とを含んで構成され
た請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The plurality of non-volatile circuits when the block selection circuit includes a plurality of programmable non-volatile memory elements and includes one of a plurality of memory cell arrays having a defective memory cell and one having no defective memory cell. A selected block setting circuit for programming a memory element to generate a programming signal for setting a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array in which no defective memory cell exists among the plurality of memory cell arrays to a selection level; When a programmable non-volatile memory element is provided and one of the plurality of memory cell arrays has and does not have a defective memory cell, the non-volatile memory element is programmed and an active level switching control signal is programmed. And a switching control circuit that generates the In the case of, the block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array among the plurality of memory cell arrays is set as a selection level according to the programming signal, and when it is inactive level, the block selection signal corresponding to the memory cell array designated by the second address signal is set. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, comprising a switching / decoding circuit for setting a selection level.
【請求項3】 切換制御信号のインアクティブレベルに
応答してプログラミング信号を非活性化レベルにするよ
うにした請求項2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the programming signal is set to an inactive level in response to the inactive level of the switching control signal.
【請求項4】 ブロック選択回路が、プログラム可能な
複数の不揮発性記憶素子を備え複数のメモリセルアレイ
のうちに不良のメモリセルが存在するものと存在しない
ものとが含まれるときは前記複数の不揮発性記憶素子を
プログラミングして前記複数のメモリセルアレイのうち
の不良のメモリセルが存在しない所定のメモリセルアレ
イと対応するブロック選択信号のみを選択レベルに固定
した固定ブロック選択信号を発生する選択ブロック設定
回路と、第2のアドレス信号指定のメモリセルアレイと
対応するブロック選択信号を選択レベルとするアドレス
指定ブロック選択信号を出力するデコード回路と、前記
複数のメモリセルアレイのうちに不良のメモリセルが存
在するものと存在しないものとが含まれるときは前記固
定ブロック選択信号を選択し、前記複数のメモリセルア
レイそれぞれに不良のメモリセルが存在しないときは前
記アドレス指定ブロック選択信号を選択して前記複数の
メモリセルアレイそれぞれと対応するブロック選択信号
として出力する切換回路とを含んで構成された請求項1
記載の半導体記憶装置。
4. The plurality of non-volatile circuits when the block selection circuit includes a plurality of programmable non-volatile memory elements and includes one of a plurality of memory cell arrays in which a defective memory cell exists and one of which does not exist. Block setting circuit for programming a static memory element to generate a fixed block selection signal in which only a block selection signal corresponding to a predetermined memory cell array among the plurality of memory cell arrays in which no defective memory cell exists is fixed to a selection level A decoding circuit for outputting an addressing block selection signal having a block selection signal corresponding to the second address signal designating memory cell array as a selection level; and a defective memory cell among the plurality of memory cell arrays. And the nonexistent fixed block selection signal And a switching circuit for selecting the addressing block selection signal and outputting it as a block selection signal corresponding to each of the plurality of memory cell arrays when there is no defective memory cell in each of the plurality of memory cell arrays. Claim 1 composed of
The semiconductor memory device described.
【請求項5】 プログラム可能な不揮発性記憶素子が、
導通状態,非導通状態により2値情報を記憶するヒュー
ズ素子で形成された請求項2または請求項4記載の半導
体記憶装置。
5. A programmable non-volatile storage element comprising:
5. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device is formed of a fuse element that stores binary information in a conductive state and a non-conductive state.
【請求項6】 プログラム可能な不揮発性記憶素子が、
しきい値電圧の高低により2値情報を記憶するEPRO
M素子で形成された請求項2または請求項4記載の半導
体記憶装置。
6. A programmable non-volatile storage element comprising:
EPRO that stores binary information depending on the threshold voltage
The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device is formed of an M element.
【請求項7】 選択ブロック設定回路が、第2のアドレ
ス信号の各構成ビットの真・補の信号それぞれと対応し
て設けられた複数の不揮発性記憶素子を備え、これら複
数の不揮発性記憶素子を、前記第2のアドレス信号の各
構成ビットの真・補の信号と対応させてプログラミング
するようにした請求項2記載の半導体記憶装置。
7. The selection block setting circuit includes a plurality of nonvolatile memory elements provided corresponding to the true / complementary signals of the respective constituent bits of the second address signal, and the plurality of nonvolatile memory elements. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein is programmed in correspondence with a true / complement signal of each constituent bit of the second address signal.
【請求項8】 選択ブロック設定回路が、複数のメモリ
セルアレイそれぞれ対応して設けられた複数の不揮発性
記憶素子を備え、選択レベルとするブロック選択信号対
応の前記メモリセルアレイと対応する不揮発性記憶素子
のみの記憶状態を変化させるようにした請求項4記載の
半導体記憶装置。
8. A selected block setting circuit includes a plurality of nonvolatile memory elements provided corresponding to a plurality of memory cell arrays, respectively, and a nonvolatile memory element corresponding to the memory cell array corresponding to a block selection signal to be a selection level. 5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein the memory state of only one is changed.
【請求項9】 選択ブロック設定回路が、複数の不揮発
性記憶素子それぞれと対応しかつ対応する不揮発性記憶
素子を1つずつ含む複数の不揮発性記憶素子回路を備
え、これら不揮発性記憶素子回路それぞれが、基準電位
点と電源電位点との間に直列接続された前記不揮発性記
憶素子及び外部アドレス取込み信号に応答してオン,オ
フするトランジスタと、これら不揮発性記憶素子及びト
ランジスタの直列接続点の前記外部アドレス取込み信号
のアクティブレベル時のレベルを検知して所定のレベル
に保持する保持回路とを含んで構成された請求項2また
は請求項4記載の半導体記憶装置。
9. The selected block setting circuit comprises a plurality of nonvolatile memory element circuits each corresponding to each of the plurality of nonvolatile memory elements and including one corresponding nonvolatile memory element, and each of these nonvolatile memory element circuits. Of the nonvolatile memory element connected in series between the reference potential point and the power source potential point and a transistor which is turned on / off in response to an external address take-in signal, and a series connection point of the nonvolatile memory element and the transistor. 5. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: a holding circuit that detects a level of the external address take-in signal at an active level and holds the level at a predetermined level.
【請求項10】 切換制御回路が、基準電位点と電源電
位点との間に直列接続された不揮発性記憶素子及び外部
アドレス取込み信号に応答してオン,オフするトランジ
スタと、これら不揮発性記憶素子及びトランジスタの直
列接続点の前記外部アドレス信号取込み信号のアクティ
ブレベル時のレベルを検知して所定のレベルに保持する
保持回路とを含んで構成された請求項2記載の半導体記
憶装置。
10. A non-volatile memory element in which a switching control circuit is connected in series between a reference potential point and a power source potential point, a transistor which is turned on / off in response to an external address take-in signal, and these non-volatile memory elements. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: a holding circuit that detects the level of the external address signal fetch signal at the active level of the serial connection point of transistors and holds the level at a predetermined level.
【請求項11】 複数の冗長メモリセルを含む冗長回路
を備えた半導体記憶装置であって、複数のメモリセルア
レイを前記冗長回路により、これら複数のメモリセルア
レイ中に複数の不良のメモリセルが存在しこれら複数の
不良のメモリセルに対し、これら所定の不良のメモリセ
ルが第1のアドレス信号によりアドレス指定を受けたと
きにこれら所定のメモリセルに代って対応する記憶デー
タを読出すように置換処置が行なわれた後のメモリセル
アレイとする請求項1記載の半導体記憶装置。
11. A semiconductor memory device having a redundant circuit including a plurality of redundant memory cells, wherein a plurality of defective memory cells are present in the plurality of memory cell arrays by the redundant circuit. Substituting the plurality of defective memory cells so as to read corresponding stored data in place of the predetermined memory cells when the predetermined defective memory cells are addressed by the first address signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell array is processed.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009134846A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Hynix Semiconductor Inc Multi-chip package device
JP2009176384A (en) * 2008-01-28 2009-08-06 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JP4833214B2 (en) * 2004-09-01 2011-12-07 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション Low voltage programmable eFUSE with difference sensing technology

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02285589A (en) * 1989-04-27 1990-11-22 Nec Corp Semiconductor memory
JPH03168998A (en) * 1989-11-28 1991-07-22 Nec Corp Semiconductor memory
JPH05217397A (en) * 1992-02-04 1993-08-27 Hitachi Ltd Semiconductor memory device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02285589A (en) * 1989-04-27 1990-11-22 Nec Corp Semiconductor memory
JPH03168998A (en) * 1989-11-28 1991-07-22 Nec Corp Semiconductor memory
JPH05217397A (en) * 1992-02-04 1993-08-27 Hitachi Ltd Semiconductor memory device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4833214B2 (en) * 2004-09-01 2011-12-07 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション Low voltage programmable eFUSE with difference sensing technology
JP2009134846A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Hynix Semiconductor Inc Multi-chip package device
JP2009176384A (en) * 2008-01-28 2009-08-06 Toshiba Corp Semiconductor memory device
US8644072B2 (en) 2008-01-28 2014-02-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Three dimensionally stacked memory and the isolation of memory cell layer

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