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JPH07314616A - 樹脂板の表面仕上げ方法 - Google Patents

樹脂板の表面仕上げ方法

Info

Publication number
JPH07314616A
JPH07314616A JP10833794A JP10833794A JPH07314616A JP H07314616 A JPH07314616 A JP H07314616A JP 10833794 A JP10833794 A JP 10833794A JP 10833794 A JP10833794 A JP 10833794A JP H07314616 A JPH07314616 A JP H07314616A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
photopolymerizable
film
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10833794A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsunehisa Ueda
倫久 上田
Toshiyuki Doro
敏行 堂路
Fujiaki Yamakawa
藤明 山河
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP10833794A priority Critical patent/JPH07314616A/ja
Publication of JPH07314616A publication Critical patent/JPH07314616A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面の加工状態が粗く、表面が微細な凹凸で
曇っている様な樹脂板を、短時間で平滑・透明化(艶出
し)する樹脂板の表面仕上げ方法を提供することを目的
とする。 【構成】 粗い表面の樹脂板に、透明な支持体に積層さ
れている有機高分子共重合体100重量部に対し、光重
合可能な不飽和化合物5〜500重量部および光重合開
始剤0.05〜40重量部からなり、必要に応じて、可
塑剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、安定
剤、着色剤等が添加された光重合性樹脂組成物のフィル
ムを貼り合わせ、該支持体上より光照射を行うことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂板の表面仕上げ方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、ディスプレーパネル等で意匠性、
機能性の面から、ポリメチルメタクリル酸樹脂板の様な
透明合成樹脂板(導光体)端面から光線を入射し使用す
ることが増えている(例:エッジライト方式バックライ
ト)。この様な用途に使用される透明樹脂板の端面は、
表面が粗くエンボス化されており曇っているため内部が
見えない様な物であってはならず、表面が平滑で内部が
見えるよう透明でなければならない。通常、このような
樹脂板は、ディスプレーパネル等で使用される大きさ
に、広幅の板から電動カッター等で切断して得ているた
め、切断面となる端面は、凹凸の激しい粗面となってい
る。この様な粗い表面は平滑化し透明にする必要がある
が、従来は、「Mass Finishing technology and the su
rface refinement of plastics(Soc. Plast. Eng. Ann
u. Tech. Conf. Vol.44th 1110-1113(1986)) 」や、特
公平5−39452号公報に記載されているように、ま
ず、グラインダー等の研磨機で粗く表面を研磨し、次い
で、粒度の細かい研磨剤を用いたバフ研磨機等で艶出し
を行うといった方法をとっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の様な表
面加工方法では、傷や溝の深さが1μm以内になる様な
粗い研磨を行う工程は短時間で済むが、最後の艶出し
(傷や溝の深さが0.1μm以内)工程には、非常に時
間を要するといった問題があった。本発明の目的は、表
面の加工状態が粗く、表面が微細な凹凸で曇っている様
な樹脂板を、短時間で平滑・透明化(艶出し)する樹脂
板の表面仕上げ方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、粗い表面の樹
脂板に、透明な支持体に光重合性塗膜を形成してなる光
重合性フィルムを貼り合わせ、該支持体上より光照射を
行うことを特徴とする樹脂板の表面仕上げ方法をその要
旨とするものである。
【0005】本発明において表面仕上げされる樹脂板
は、特に限定されるものではないが、例えば、(メタ)
アクリル酸系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニ
ル系樹脂等からなる透明な合成樹脂板が挙げられる。
又、本発明において使用される透明な支持体としては、
化学的及び熱的に安定な種々のものが使用可能である。
例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、ポリアミド類、ポリカーボネート等の
フィルム、シート乃至プレートが挙げられるが、二軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは特に好適に使
用される。
【0006】又、これらの支持体は、表面仕上げを行っ
た後に、取除かれても良いし、そのまま使用されても良
い。支持体を取除く場合には、剥離時の支持体と光重合
性フィルムとの離型性をよくするために、離型処理を施
してもよい。離型処理は、使用する支持体の種類によっ
て適宜選択されるが、代表的なものとしては、シリコー
ン系あるいはフッ素系離型剤による化学的処理が挙げら
れる。支持体をそのまま残して光重合性フィルムと一体
にして使用する場合には、支持体と光重合性フィルムと
の密着性を高めるため、アンカー処理を施しても良い。
アンカー処理は使用する支持体の種類によって、適宜選
択されるが、代表的なものとしては、プライマー処理に
よる化学的処理や、コロナ処理による物理的処理が挙げ
られる。
【0007】又、本発明で使用される光重合性フィルム
を形成する光重合性樹脂組成物としては、有機高分子共
重合体100重量部に対し、光重合可能な不飽和化合物
5〜500重量部および光重合開始剤0.05〜40重
量部からなり、必要に応じて、可塑剤、熱重合禁止剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤、安定剤、着色剤等が添加さ
れる。更に、光重合性樹脂組成物の層を保護するための
保護層を設ける事も可能である。
【0008】上記有機高分子共重合体としては、α、β
−不飽和エチレン系単量体から構成されている樹脂(例
えば、ポリオレフィン、ポリオレフィンとα、β−不飽
和カルボン酸との共重合体、ポリオレフィンとα、β−
不飽和カルボン酸エステルとの共重合体及び、その金属
イオンで架橋された樹脂、ポリ塩化ビニリデン及びその
共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアルコール又はポリ−N−ビニ
ルピロリドン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレ
ン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体、ブチルゴ
ム、ポリアクリル系樹脂)や、共重合ポリエステル、共
重合ポリアミド、共重合ポリウレタンが好適に用いられ
る。
【0009】上記α、β−不飽和エチレン系単量体とし
ては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレ
イン酸(無水物)、フマル酸、イタコン酸などの不飽和
カルボン酸類、スチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、
p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレ
ン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、
3,4−ジメチルクロルスチレンなどのスチレン類、α
−ビニルナフタレンなどのビニルナフタレン類、エチレ
ン、プロピレン、ブチレンまたはC5 〜C30及びそれ以
上のオレフィン類、ブタジエン、イソプレンまたはC6
〜C30及びそれ以上のジエン類、塩化ビニル、臭化ビニ
ル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエス
テル類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル
酸プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)
アクリル酸イチブチル、(メタ)アクリル酸n−オクチ
ル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸
−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸−2−クロ
ルエチル、α−クロル(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ジメチル
アミノエチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニ
ル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリ
ル酸ベンジルなどの(メタ)アクリル酸エステル類、ビ
ニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテルなどのビニ
ルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケト
ンなどのビニルケトン類、N−ビニルピロール、N−ビ
ニルインドールなどのN−ビニル化合物、(メタ)アク
リロニトリル、(メタ)アクリル酸アミド類が挙げられ
る。
【0010】上記単量体は、得られる上記有機高分子共
重合体が、所望の物性(軟化点、ガラス転移点、弾性
率、柔軟性等)を示すように、単独で使用しても、2種
以上を併用してもよい。。上記軟化温度は150℃以下
になる方が好ましい。この様な樹脂は、当該事業者によ
って、任意の方法で(例えば、有機溶媒中での、ラジカ
ル重合など)容易に得られる。
【0011】上記有機高分子共重合体の重量平均分子量
は、1万〜200万程度であるが、好ましくは、5万〜
100万である。有機高分子共重合体の重量平均分子量
が1万未満では、該有機高分子共重合体を使用した光重
合性樹脂組成物からなるフィルムが、所謂コールドフロ
ーを起こし易くなり、該フィルムをロール状に捲重して
保存する場合、該フィルムに皺が入ったりして使用不能
となる。逆に、200万を超えると、支持体に該有機高
分子共重合体を使用した光重合性樹脂組成物を塗工する
際に、溶解性が低下し、塗工が困難となる。
【0012】本発明で使用される光重合可能な不飽和化
合物は、例えば、多官能モノマーとしては、トリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−アクリロキ
シジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン等の2官
能モノマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレン
オキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、プロピレンオキシド変性ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート等の3官能モノマー、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレ
ンオキシド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、プロピレンオキシド変性ペンタエリスリト
ールテトラ(メタ)アクリレート等の4官能モノマー、
ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等
の5官能以上のモノマーが挙げられる。
【0013】又、単官能モノマーとしては、メチル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等、
前記する有機高分子共重合体に使用される総てのモノマ
ーが使用できる。そして、これら以外にも、ウレタンア
クリレートやポリエステルアクリレートや下記一般式
(1)で表される様なオリゴマーが挙げられる。 A−〔OCONH−X−NHCO−(OR1 m −〕n − −OCONH−X−NHCOO−A ・・・ (1) 式(1)において、R1 は2価の炭化水素基であり、2
価の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、脂環式または
芳香族などの部分から構成される炭化水素基、例えば、
エチレン基、プロピレン基、ネオペンチル基等があげら
れる。Xで示される2価の炭化水素基としては、直鎖、
分岐鎖、脂環式または芳香族などの部分から構成される
炭化水素基、例えば、ヘキサメチレン基、トリレン基、
イソホロン基等があげられる。mは5〜100の整数、
nは1〜15の整数、Xは2価の炭化水素基であり、A
は下式(2)、(3)、(4)から選ばれる。
【0014】 CH2=C(R2 )COOCH2 CH2 − ・・・ (2) 〔CH2=C(R3 )COO−CH2 2-CH− ・・・ (3) 〔CH2=C(R4 )COO−CH2 3-C−CH2 − ・・・ (4) 式(2)、(3)及び(4)において、R2 、R3 及び
4 は、いずれも、水素またはメチル基を示す。上記式
(1)の不飽和化合物の製法は、任意の方法が採用され
てよく、例えば、ジイソシアネートとジオールを、求め
る化合物の組成比に合う割合で混合して反応させ、末端
にイソシアネート基をもつウレタンオリゴマーを形成し
た後、水酸基をもつ(メタ)アクリレートを添加して末
端にあるイソシアネート基と反応させればよい。この
際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ト
ルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させてもよく、さ
らにジブチルスズジラウレートなどの触媒を添加しても
よい。
【0015】この重量平均分子量は、大きくなると不飽
和基の量が相対的に低下し、光重合性が悪くなる(感度
が低下する)ので、10,000以下が好ましく、より
好ましくは8,000以下である。光重合性樹脂組成物
中の不飽和化合物の量は、少なくなると露光後の耐熱性
が不足し、逆に多くなるとコールドフローが起こりやす
くなるので、前記有機高分子共重合体100重量部に対
して5〜500重量部であり、好ましくは20〜200
重量部である。
【0016】本発明で使用される光重合開始剤は、紫外
線、可視光線などの活性光線により上記不飽和化合物を
活性化し、重合を開始させる性質を有する。紫外線で活
性化するものとしては、例えば、ソジウムメチルジチオ
カーバメイトサルファイド、テトラメチルチウラムモノ
サルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾ
チアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサ
ルファイド類、チオキサントン、2−エチルチオキサン
トン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントンなどのチオキサントン誘導体、ヒドラゾ
ン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニウムな
どのジアゾ化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾ
フェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、
t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキ
ノン、2−クロロアントラキノン、ベンジルジメチルケ
タール、メチルフェニルグリオキシレートなどの芳香族
カルボニル化合物、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−
ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、2、
2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシア
セトフェノンなどのアセトフェノン誘導体、p−ジメチ
ルアミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエ
チルアミノ安息香酸イソプロピルなどのジアルキルアミ
ノ安息香酸エステル類、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、キュメンハイドロパーオキサイドなどの過酸化物、
9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルア
クリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアク
リジンなどのアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベ
ンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−
メトキシベンズフェナジンなどのフェナジン誘導体、ト
リメトキシ−2,3−ジフェニルキノキサリンなどのキ
ノキサリン誘導体、2,4,5−トリフェニルイミダゾ
イル二量体、ハロゲン化ケトン、2,4,6−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ピバロイ
ルジフェニルホスフィンオキシド、2−メチルベンゾイ
ルジフェニルホスフィンオキシド、テレフタロイル−ビ
ス−ジフェニルホスフィンオキシド、1−メチルシクロ
ヘキシルカルボニルジフェニルホスフィンオキシド、バ
ーサトイルジフェニルホスフィンオキシド、4−メチル
ベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、2,
4,6−トリメチルベンゾイルホスフィン酸ジエチルエ
ステル、アシルホスフォナートなどのアシル化リン化合
物などが挙げられる。
【0017】又、可視光線で活性化するものとしては、
例えば、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリフェ
ニルビリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリス
(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,
3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトンな
どが挙げられる。又、これらの開始剤は単独でも用いら
れるが、下記の様な主として、アミン系化合物からなる
開始助剤を併用することも可能である。
【0018】開始助剤としては、トリエタノールアミン
や、ジアルキルアミノ安息香酸エステル等のアルキルア
ミン化合物が挙げられる。
【0019】光重合性樹脂組成物中の光重合開始剤の量
は、前記有機高分子共重合体100重量部に対して、
0.05未満では、硬化時間がかかるか、また、充分硬
化しないため不飽和基残存量が多くなり、耐候性が悪化
する等の欠点がある。逆に40重量部を超えると、樹脂
が黄変したり、脆くなったりする。
【0020】又、本発明で使用される光重合性樹脂組成
物には、ジオクチルフタレート、トリエチレングリコー
ルジアセテート、p−トルエンスルホンアミド、N−エ
チルトルエンスルホンアミド等の可塑剤、ヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール等の熱重合禁止剤、ロジ
ン、テルペン等の粘着付与樹脂、ワックス、安定剤、紫
外線吸収剤、酸化防止剤、顔料等の着色剤、溶剤などが
添加されてもよい。
【0021】本発明において、上記光重合性樹脂組成物
は、上記支持体にフィルム状に積層されるのであるが、
上記支持体に積層された積層体を作製する方法として
は、光重合性樹脂組成物を加熱・溶融させ支持体上に流
延させる方法や、光重合性樹脂組成物を溶剤に溶解さ
せ、それを支持体上に塗布し乾燥させる方法が挙げられ
る。
【0022】光重合性樹脂組成物を加熱・溶融させ支持
体上に流延させる方法では、先ず、光重合性樹脂組成物
を、好ましくは、不活性ガス雰囲気下で、100℃〜3
00℃で溶融させ、次いで、溶融した光重合性樹脂組成
物を支持体上に、ホットメルト用のアプリケーター等を
用いて、塗布または流延させる。光重合性樹脂組成物を
溶剤に溶解させ、それを支持体上に塗布し乾燥させる方
法では、まず、光重合性樹脂組成物を、トルエンやメチ
ルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール等の溶剤に溶
解させ、次いで、支持体上に塗布し、50℃〜150℃
で、乾燥させる。
【0023】このようにして得られる光重合性樹脂組成
物の層の膜厚は、薄すぎると層を均一にするのが難しく
また、粗い表面の樹脂板の表面を平滑化する能力に欠
け、逆に厚すぎると充分に硬化させるのに長時間を要す
るため、0.1μm〜100μmが好ましく、さらには
1.0μm〜30μmが好ましい。本発明の光重合性樹
脂組成物のフィルム表面には、該光重合性樹脂組成物の
層を保護するために、保護フィルムからなる保護層を設
けることもできる。
【0024】保護フィルムとしては、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル
類、ポリアミド類、ポリカーボネート等があるが、特に
好ましいのは、ポリエチレンフィルム、二軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートフィルムである。
【0025】更に、使用時に保護層を除去しやすくする
ために、保護フィルムに離型処理を行うことが好まし
い。離型処理は使用する支持体の種類によって、適宜選
択されるが、代表的なものとしては、シリコーン系ある
いはフッ素系離型剤による化学的処理が挙げられる。こ
の保護フィルムの離型力は、支持体に離型処理を行った
場合、支持体と光重合性樹脂組成物のフィルムとの離型
力より軽くなるように調整する。
【0026】又、保護フィルムを使用せずにロール状で
光重合性樹脂組成物のフィルムを保存しておくには、支
持体の光重合性樹脂組成物を設けるのとは逆側に離型処
理がほどこされているものが有効である。
【0027】本発明の光重合性樹脂組成物のフィルムを
使用して、樹脂板の粗い表面を平滑化する(艶出しす
る)方法を説明する。先ず、艶出しを行う直前までに粗
研磨された樹脂板(例えばPMMA板)の表面に、光重
合性樹脂組成物からなるフィルム層を空気が入らないよ
うに密着させ、加圧もしくは、加圧加熱しながら、貼り
合わせる。この際、光重合性フィルムに保護層を設けた
場合は、除去してからこの作業を行う。また、貼り合わ
せは、ラミネートロールによって、加圧しながら、加熱
融着する方法が挙げられる。ラミネートロールの温度
は、使用する支持体の耐熱性、光重合性樹脂組成物の軟
化温度等によって決定されるが、一般に、50〜150
℃の範囲が好ましく、圧力は49〜980KPa(0.
5〜10Kg/cm2 )が適当である。空気が入らない
ように、真空密着装置を用いてもよい。次いで、貼り合
わされた光重合性フィルムの支持体を通して、10〜
3,000mJ/cm2 、光照射を行う。照射するため
の光源としては、従来公知のものが使用でき、例えば、
超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が
好適に用いられる。この後、支持体を除去することも可
能である。
【0028】
【作用】本発明は、粗い表面の樹脂板に、予め、透明な
支持体に光重合性樹脂組成物からなるフィルムを積層し
た積層体を貼り合わせ、該支持体上より光照射を行う所
謂ドライプロセスで表面仕上げを実施するものであるの
で、極めて短時間で作業が完了し、常に一定した品質の
表面を提供できるのである。更に、実際の作業では、被
処理面の汚れを洗浄するだけで、研磨剤等の使用がない
ので、作業環境が極めて良好に維持できる。
【0029】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例において、対向する小口間の透視度、光線透過率
及び作業性は、以下に示す方法で測定評価された。猶、
実施例、比較例に用いた樹脂板は、厚さ3mmのポリメ
チルメタクリル酸樹脂板(三菱レーヨン製「アクリライ
トEX」)から、回転丸鋸で50mm×50mmの直方
体に切断し、切断された4面の小口を、いずれも回転研
磨機(#1200で研磨した後#4000で研磨)に
て、表面の粗さが0.5μm以内になるまで粗研磨した
ものを用いた。この切断面は、表面が粗く、微細な凹凸
によって光線が乱反射し、この小口から樹脂板の内部や
対向する小口が見えない。
【0030】1.透視度 新聞紙面上に、被検樹脂板を直立させて、上面の小口よ
り対向する下面の小口を通して印刷文字が明確に見える
か否かを、目視で評価した。
【0031】2.光線透過率 測定する小口と対向する面以外の表裏2面と左右2面を
遮光し、500nmの光線透過率(単位:%)を測定し
た。
【0032】3.作業性 前1項の透視度において、小口を通して印刷文字が目視
で明確に見える状態になるまで、切断された対向する2
面の小口を表面仕上げを行ったとき、その作業に要した
時間をもって評価した。
【0033】(実施例1)ポリメチルメタクリレート
(旭化成社製、商品名:デルペットLP−1、重量平均
分子量11万)100重量部、ジエトキシ化トリメチロ
ールプロパントリアクリレート(東亜合成社製、商品
名:M−360)150重量部、2,4,6−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(ドイツ
国、BASF社製、商品名:ルシリンTPO)2.5重
量部、メチルエチルケトン300重量部からなる光重合
性樹脂組成物の溶液を、厚さ38μmのポリエチレンテ
レフタレート樹脂フィルムからなる支持体に塗布し、9
0℃で90秒間乾燥して、厚さ20μmの光重合性樹脂
組成物からなるフィルムを形成した。得られた光重合性
樹脂組成物からなるフィルムを粗研磨した上記ポリメチ
ルメタクリル酸樹脂板の小口に重ね、ラミネーターを用
いて、温度100℃、圧力5Kg/cm2 、貼付速度
1.2m/分で貼り付け、光源500mJ/cm2 の高
圧水銀ランプで露光し、光重合性樹脂組成物を重合硬化
せしめた。又、上記の如く処理された小口と対向する小
口についても、同様に処理を行った。然る後、支持体の
ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムをいずれも剥
離した。上記の表面仕上げ作業に要した時間は、片面6
0秒、合計120秒であった。表面仕上げされたポリメ
チルメタクリル酸樹脂板の小口の性能を表1に示した。
【0034】(実施例2)光重合可能な不飽和化合物、
ジエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(東亜合成社製、商品名:M−360)の配合量を20
0重量部とし、重合開始剤、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(ドイツ国、B
ASF社製、商品名:ルシリンTPO)の配合量を3重
量部とした以外は、実施例1と同様な方法で表面仕上げ
を実施した。表面仕上げされたポリメチルメタクリル酸
樹脂板の小口の性能は表1に示した。
【0035】(実施例3)光重合可能な不飽和化合物、
ジエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(東亜合成社製、商品名:M−360)150重量部に
替えて、トリメチロールプロパントリアクリレート(東
亜合成社製、商品名:A−TMPT)150重量部とし
た以外は、実施例1と同様な方法で表面仕上げを実施し
た。表面仕上げされたポリメチルメタクリル酸樹脂板の
小口の性能は表1に示した。
【0036】(実施例4)光重合可能な不飽和化合物、
ジエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(東亜合成社製、商品名:M−360)150重量部に
替えて、ポリエチレングリコール#200ジアクリレー
ト(新中村化学社製、商品名:A−200)150重量
部とした以外は、実施例1と同様な方法で表面仕上げを
実施した。表面仕上げされたポリメチルメタクリル酸樹
脂板の小口の性能は表1に示した。
【0037】(実施例5)光重合可能な不飽和化合物、
ジエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(東亜合成社製、商品名:M−360)150重量部に
替えて、ポリエチレングリコール#400ジアクリレー
ト(新中村化学社製、商品名:A−400)150重量
部とした以外は、実施例1と同様な方法で表面仕上げを
実施した。表面仕上げされたポリメチルメタクリル酸樹
脂板の小口の性能は表1に示した。
【0038】(実施例6)光重合可能な不飽和化合物、
ジエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
(東亜合成社製、商品名:M−360)150重量部に
替えて、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
(新中村化学社製、商品名:A−TMMT)150重量
部とした以外は、実施例1と同様な方法で表面仕上げを
実施した。表面仕上げされたポリメチルメタクリル酸樹
脂板の小口の性能は表1に示した。
【0039】(比較例1)実施例1〜6と同様に、粗研
磨されたポリメチルメタクリル酸樹脂板の小口を、直径
30cmノウール製(無塵布)ポリッシャーに、ドイツ
国、Menzeruna-Werk社製の研磨剤を使用し、回転数3,
000rpmで、対向する小口2面を1面について60
秒、合計120秒間研磨した。表面仕上げされたポリメ
チルメタクリル酸樹脂板の小口の性能は表1に示した。
【0040】(比較例2)研磨時間を1面について12
分、合計24分とした以外は、比較例1と同様な方法で
表面仕上げを実施した。表面仕上げされたポリメチルメ
タクリル酸樹脂板の小口の性能は表1に示した。
【0041】
【表1】
【0042】
【発明の効果】本発明は、粗い表面の樹脂板に、予め、
透明な支持体に光重合性樹脂組成物からなるフィルムを
積層した積層体を貼り合わせ、該支持体上より光照射を
行う所謂ドライプロセスで表面仕上げを実施するもので
あるので、極めて短時間で作業が完了し、常に一定した
品質の表面を提供できるのである。更に、実際の作業で
は、被処理面の汚れを洗浄するだけで、研磨剤等の使用
がないので、作業環境が極めて良好に維持できるなどの
効果も奏するのである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粗い表面の樹脂板に、透明な支持体に光
    重合性塗膜を形成してなる光重合性フィルムを貼り合わ
    せ、該支持体上より光照射を行うことを特徴とする樹脂
    板の表面仕上げ方法。
JP10833794A 1994-05-23 1994-05-23 樹脂板の表面仕上げ方法 Pending JPH07314616A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001512066A (ja) * 1997-07-29 2001-08-21 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 微細構造化ポリマー基材

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001512066A (ja) * 1997-07-29 2001-08-21 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 微細構造化ポリマー基材

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