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JPH0754192A - Method for chromium plating - Google Patents

Method for chromium plating

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Publication number
JPH0754192A
JPH0754192A JP21506293A JP21506293A JPH0754192A JP H0754192 A JPH0754192 A JP H0754192A JP 21506293 A JP21506293 A JP 21506293A JP 21506293 A JP21506293 A JP 21506293A JP H0754192 A JPH0754192 A JP H0754192A
Authority
JP
Japan
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plating
vibration
chrome
copper
stirring
Prior art date
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Granted
Application number
JP21506293A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2989440B2 (en
Inventor
Tatsuaki Omasa
龍晋 大政
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Nihon Techno KK
Original Assignee
Nihon Techno KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Techno KK filed Critical Nihon Techno KK
Priority to JP5215062A priority Critical patent/JP2989440B2/en
Publication of JPH0754192A publication Critical patent/JPH0754192A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2989440B2 publication Critical patent/JP2989440B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To omit a pre-plating process, improve the plating rate and prevent microcracking in the plating layer by directly executing plating with chromium on iron-base and copper-base metals which are considered not suitable for direct chromium plating under vibrating and stirring conditions. CONSTITUTION:A process of copper plating and nickel plating on surfaces of iron-base metal, zinc-base metal or electroless copper-plated metal formed on plastics, a process of nickel plating on the surface of copper-base metal, and a process of base plating on the surface of aluminum-base metal can be omitted. Chromium plating is directly applied on surfaces of these metals under stirring and vibrating conditions by a vibrator motor with 15-60Hz frequency.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、振動撹
拌下に直接クロムめっきを行うクロムめっき方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a chrome plating method for performing chrome plating directly on a metal surface which is said to be impossible to chrome plating directly on the metal surface while vibrating and stirring.

【0002】[0002]

【従来技術】硬質クロムめっきにおいては、そのめっき
皮膜に微細なクラックが生ずることは避けられなてこと
であり、腐食環境ではこのクラックが腐食の発生点とな
り、クラックに沿って多発的、連鎖的に腐食が進行す
る。これらの腐食を少しでも抑制するため、従来から硬
質クロムめっきにおいては、銅、ニッケルなどの下めっ
き処理が不可欠であった。たとえば鉄系金属に対するク
ロムめっきは、防錆および装飾等の目的で多用されてい
るが、クロムめっきを直接鉄系金属上に行うとクラック
が発生し、防錆効果が少ないため、鉄系金属上にまず銅
めっきを、つづいてニッケルめっきをほどこした後、ク
ロムめっきを行っていた。鉄系金属表面の脱脂→水洗→
酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッケル
めっき→水洗→クロムめっき。それでもまだクラックの
発生を完全に回避することができずなかなか満足すべき
めっきが得られず、各社共秘術を尽くしているのが実情
である。プラスチックスに対するめっきは、主として装
飾の目的で行われており、化学めっき(通常、化学銅め
っきまたは化学ニッケルめっき)をしたうえに、銅めっ
き、つづいてニッケルめっきを施した後、クロムめっき
が行われている。プラスチックス表面の脱脂→プレエッ
チング→エッチング→キャタライジング→アクセラレイ
ティング→無電解銅めっき→水洗→銅めっき→水洗→ニ
ッケルめっき→水洗→クロムめっき。この場合も化学め
っき層上にいきなりクロムめっきをするとクラックが発
生する。また、亜鉛系金属へのめっきの場合も亜鉛系金
属上に銅めっき、つづいてニッケルめっきを施した後、
クロムめっきを行っている。亜鉛系金属表面の脱脂→水
洗→酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッ
ケルめっき→水洗→クロムめっき。Al、Al合金、C
u、Cu合金等についても同様である。このように鉄系
金属、プラスチックスおよび亜鉛系金属、銅系金属、ア
ルミニウム系金属など、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、直接ク
ロムめっきを行うことができれば、クロムめっきの前段
階として銅めっきやニッケルめっきの工程が必要ではな
くなり工業的意義は極めて大きい。また、クロムめっき
工程それ自体を今まで以上に高速化できれば、さらにす
ばらしいことである。
2. Description of the Related Art In hard chrome plating, it is unavoidable that fine cracks are generated in the plating film, and in a corrosive environment, these cracks become points of corrosion, and multiple cracks occur along the cracks. Corrosion progresses. In order to suppress these corrosions as much as possible, a conventional undercoating process of copper, nickel or the like has been indispensable in hard chrome plating. For example, chrome plating on iron-based metal is often used for the purpose of rust prevention and decoration, but if chrome plating is applied directly on the iron-based metal, cracks will occur and the rust-preventive effect will be small, so it will not be applied on the iron-based metal. First, copper plating was applied, followed by nickel plating, and then chromium plating. Degreasing of ferrous metal surface → Washing with water →
Pickling → water washing → copper strike → copper plating → water washing → nickel plating → water washing → chrome plating. Even so, the generation of cracks could not be completely avoided, and satisfactory plating could not be obtained, and the fact is that each company is doing their secret technique. Plating for plastics is mainly done for decorative purposes. After chemical plating (usually chemical copper plating or chemical nickel plating), copper plating, then nickel plating, and then chromium plating are performed. It is being appreciated. Degreasing of plastics surface → Pre-etching → Etching → Catalyzing → Accelerating → Electroless copper plating → Washing → Copper plating → Washing → Nickel plating → Washing → Chrome plating. In this case as well, when the chromium plating is suddenly performed on the chemical plating layer, cracks occur. Also, in the case of plating on zinc-based metal, after copper-plating on the zinc-based metal, then nickel plating,
Chrome plating is performed. Degreasing of zinc-based metal surface → Washing → Pickling → Washing → Copper strike → Copper plating → Washing → Nickel plating → Washing → Chrome plating. Al, Al alloy, C
The same applies to u and Cu alloys. In this way, it is possible to perform direct chrome plating on metal surfaces such as iron-based metals, plastics and zinc-based metals, copper-based metals, and aluminum-based metals, which are said to be incapable of direct chrome plating on the metal surface. If possible, the step of copper plating or nickel plating as a pre-stage of chrome plating is not necessary, and its industrial significance is extremely large. It would be even better if the chrome plating process itself could be made faster than ever.

【0003】[0003]

【目的】本発明は、鉄系金属、プラスチックス、亜鉛系
金属、銅系金属、アルミニウム系金属などの直接のクロ
ムめっきが不可能と考えられていた金属表面に対するク
ロムめっきを、従来の方法である予備めっき工程を省略
し、かつクロムめっき速度を高速化し、そのうえ、得ら
れたクロムめっき層のマイクロクラックの発生がない新
規なクロムめっき法を提供する点にある。
[Objective] The present invention uses conventional methods to perform chrome plating on metal surfaces, such as iron-based metals, plastics, zinc-based metals, copper-based metals, and aluminum-based metals, which were considered impossible to perform direct chrome plating. It is to provide a novel chrome plating method which omits a certain pre-plating step, speeds up the chrome plating rate, and is free from the occurrence of microcracks in the obtained chrome plating layer.

【0004】[0004]

【構成】本発明の第一は、その金属表面には直接クロム
めっきができないとされている金属表面に対して、振動
撹拌下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロ
ムめっき法に関する。本発明の第二は、鉄系金属表面に
クロムめっきを行うにあたり、銅めっき工程−ニッケル
めっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接クロムめ
っきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関する。
本発明の第三は、プラスチックス表面にクロムめっきを
行うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−
ニッケルめっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接
クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に
関する。本発明の第四は、亜鉛系金属表面にクロムめっ
きを行うにあたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを
経ることなく、銅めっき層上に振動撹拌下に直接クロム
めっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関す
る。本発明の第五は、銅系金属表面にクロムめっきを行
うにあたり、ニッケルめっきを経ることなく、振動撹拌
下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめ
っき法に関する。本発明の第六は、アルミニウム系金属
表面にクロムめっきを行うにあたり、下地めっきを経る
ことなく、振動撹拌下に直接クロムめっきを行うことを
特徴とするクロムめっき法に関する。本発明は、いずれ
にしても今までその金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直
接被めっき体に対してクロムめっきを行うことができる
ことを発見したことに基づくものであり、これにより今
まで必要とされていたクロムめっきのための前めっき工
程を省略することおよびクロムめっきの速度を大幅に向
上した点に大きな特徴を有する。
[First Structure] A first aspect of the present invention relates to a chrome plating method characterized in that a chrome plating is performed directly on a metal surface which is said to be impossible to be directly chrome plated on the metal surface under vibration and stirring. A second aspect of the present invention relates to a chrome plating method characterized in that, when chrome plating is performed on an iron-based metal surface, the chrome plating is performed directly under vibration and stirring without going through a copper plating step-nickel plating step.
The third aspect of the present invention is to perform chrome plating on the surface of plastics, on the electroless copper plating layer, in the copper plating step-
The present invention relates to a chrome plating method characterized in that chrome plating is performed directly under vibration and stirring without going through a nickel plating step. A fourth aspect of the present invention is characterized in that, in performing chromium plating on a zinc-based metal surface, direct chromium plating is performed on a copper plating layer under vibrating stirring without undergoing nickel plating after a copper plating step. Regarding plating method. A fifth aspect of the present invention relates to a chrome plating method characterized in that when chrome-plating a copper-based metal surface, the chrome-plating is performed directly under vibration and stirring without undergoing nickel plating. A sixth aspect of the present invention relates to a chrome plating method characterized in that, when chrome plating is performed on the surface of an aluminum-based metal, the chrome plating is performed directly under vibrating and stirring without undergoing undercoating. The present invention has discovered that, in any case, it is possible to perform chrome plating directly on the object to be plated while vibrating and stirring the metal surface, which has been considered to be impossible to perform chrome plating directly on the metal surface. This is based on what has been done, and has a great feature in that the pre-plating step for chromium plating which has been required up to now is omitted and the speed of chromium plating is greatly improved.

【0005】本発明に用いる振動撹拌手段は、15〜6
0Hz、好ましくは20〜40Hzでの振動を発生させ
る、振動モータによる振動を液中の振動板に伝え、液体
にこの振動を伝えることにもとづく本発明者が開発した
新しい撹拌手段であり、その基本的考え方は特開平3−
275130号公報に開示したとおりであり、また、そ
の変形撹拌手段は特願平4−286544号として平成
4年9月14日に出願している。さらに、振動撹拌に関
連する技術を特願平5−116566号、5−1390
28号として出願している。この振動撹拌は、振動板に
よる振動が系全体に伝えられると、スクリューによる撹
拌に較べて系全体がすみやかに均一化されることは驚く
べきことである。なお、振動板の振幅はとくに制限はな
いが、通常2〜30mm、好ましくは10〜15mmで
ある。
The vibrating and stirring means used in the present invention is 15 to 6
It is a new stirring means developed by the present inventor based on transmitting vibration by a vibration motor to a diaphragm in liquid and generating the vibration at 0 Hz, preferably 20 to 40 Hz. Thinking is Japanese Patent Laid-Open No. 3-
As disclosed in Japanese Patent Application No. 275130, the deformation stirring means is applied for on September 14, 1992 as Japanese Patent Application No. 4-286544. Furthermore, the technology related to vibration stirring is disclosed in Japanese Patent Application No. 5-116566 and 5-1390.
No. 28 has been filed. It is surprising that this vibration agitation, when vibration by the vibrating plate is transmitted to the entire system, makes the entire system more uniform than the agitation by the screw. The amplitude of the diaphragm is not particularly limited, but is usually 2 to 30 mm, preferably 10 to 15 mm.

【0006】本発明で使用する振動撹拌手段を設けため
っき装置を図1〜2に示す。図3、図4についてはめっ
き用電極を省略して図示されている。振動撹拌手段は、
振動モーター26で発生した振動を振動枠23、振動棒
21を介して振動羽根群22、22……に伝える。振動
羽根群は図2、3に明示されているようにめっき槽29
の両側に設置する。振動モーター26よりの振動が槽2
9本体に影響しないようにするため、振動枠23はスプ
リング24と台座25を介して架台に取付けられてい
る。また、27は電極であり、28は液温を保持するた
めの加熱用ヒーターである。振動羽根は、水平であって
もよいがやや傾斜をつけて取付けることが好ましい。傾
斜の程度は水平方向を基準にして0〜45°、好ましく
は10〜20°の角度で取付けることが好ましい。本実
施例では15°でセットした。振動羽根の幅は特に制限
はないが30mm以上程度あれば充分その効力を発揮す
る。通常30〜100mm、好ましくは50〜80mm
程度である。撹拌羽根同士の間隔はとくに制限はないが
通常10〜80mm、好ましくは30〜40mmであ
り、本実施例では35mm間隔とした。また、左右の振
動羽根22の位置は、同一の高さでもよいが、ややずら
せた位置に設けることもできる。最上位の振動羽根は液
面から約100mm下の位置にすることが好ましい。こ
れより上に設けるとその振幅により多少異なるが、液が
飛び散るので好ましくない。最下位の振動羽根は底から
約50mm上の位置とすることが好ましい。本発明の振
動羽根は幅80mm、長さ400mm、間隔35mmと
した。
1 and 2 show a plating apparatus provided with a vibration stirring means used in the present invention. 3 and 4, the plating electrode is omitted. The vibration stirring means is
The vibration generated by the vibration motor 26 is transmitted to the vibrating blade groups 22, 22 ... Through the vibrating frame 23 and the vibrating rod 21. As shown in FIGS. 2 and 3, the vibrating blade group is a plating bath 29.
Install on both sides of. The vibration from the vibration motor 26 causes the tank 2
The vibration frame 23 is attached to the mount via a spring 24 and a pedestal 25 so as not to affect the main body. Further, 27 is an electrode, and 28 is a heater for maintaining the liquid temperature. The vibrating blade may be horizontal, but is preferably attached with a slight inclination. The degree of inclination is preferably 0 to 45 ° with respect to the horizontal direction, preferably 10 to 20 °. In this example, the setting was made at 15 °. The width of the vibrating blade is not particularly limited, but if it is about 30 mm or more, its effect is sufficiently exhibited. Usually 30 to 100 mm, preferably 50 to 80 mm
It is a degree. The spacing between the stirring blades is not particularly limited, but is usually 10 to 80 mm, preferably 30 to 40 mm, and in this embodiment, the spacing was 35 mm. The positions of the left and right vibrating blades 22 may be at the same height, but they may be provided at slightly displaced positions. The uppermost vibrating blade is preferably located about 100 mm below the liquid surface. If it is provided above this, the liquid will be scattered, although it is somewhat different depending on the amplitude, which is not preferable. The lowest vibrating blade is preferably located about 50 mm above the bottom. The vibrating blade of the present invention has a width of 80 mm, a length of 400 mm, and an interval of 35 mm.

【0007】振動撹拌手段における振動板の設け方は、
大別すると3つのタイプに分けることができる。 (1)めっき槽の周辺部に周辺に沿って幅2〜10cm
程度の振動板を上下に多数枚を設けるタイプ、(図1〜
3参照)(上下振動) (2)めっき槽の底部に槽のほぼ全面に1枚ないし2枚
の振動板を設けるタイプ、(図4参照)(上下振動) (3)めっき槽の底部に横方向に振動する振動板を設け
るタイプ(図5〜9参照) (4)めっき槽の中央部に、プロペラ撹拌翼のかわり
に、プロペラの長さと同程度またはそれ以下の大きさの
任意形状の振動板を上下に多数枚設けるタイプ、(特願
平4−286544号参照) があるが、とくに(1)のタイプのものが好ましい。め
っき電極の位置は、振動版の上方、あるいは振動版の内
側または外側であることができる。
The vibrating plate in the vibrating stirring means is
It can be roughly divided into three types. (1) 2 to 10 cm wide along the periphery of the plating tank
A type in which a large number of vibration plates are provided above and below (Fig.
(Refer to 3) (Vertical vibration) (2) Type in which one or two diaphragms are provided on the bottom of the plating tank almost all over the tank, (see Fig. 4) (Vertical vibration) (3) Horizontally at the bottom of the plating tank Type with a vibrating plate that vibrates in any direction (see Figures 5 to 9) (4) Instead of the propeller stirring blades in the center of the plating tank, a vibration of an arbitrary shape with a length equal to or less than the propeller length There is a type in which a large number of plates are provided above and below (see Japanese Patent Application No. 4-286544), but the type (1) is particularly preferable. The position of the plating electrode can be above the vibrating plate or inside or outside the vibrating plate.

【0008】振動板の振動のさせ方は、前記公報や明細
書記載のように振動板を均一に振動させてもよいが、振
動板の1箇所または2箇所を振動軸に連結して振動させ
ることもできる。この場合、液槽が四角形のときは振動
板の一辺の両端部に振動軸を一本づつ二本設けてもよい
が、辺の中央に一本設けることもできる。また振動板の
一つの角部に一本の振動軸を設けてもよい。振動軸をと
りつけた辺の対角辺あるいは振動軸をとりつけた角部以
外の角部は固定軸により支持する。固定軸には弾性体、
たとえば、ゴム、スプリング、空気バネ等を介して振動
板を固定することが好ましいが、振動板自体の弾力にた
よることも可能である。図5にその一具体例を示す。振
動モーターに任意の手段で連結した振動伝達棒5を介し
て振動棒1,2を設け、この振動棒1,2にはゴム片
8,9を用いて振動板6を固定する一方、固定棒3,4
には、振動板6の振動を支持する支持用ゴム片10,1
1を固定し、これに振動板6を連結する。振動板6は、
支持用ゴム片10,11を支点として振動伝達棒1,2
の上下軸にあわせて扇をあおぐように振動するのでこれ
を槽中におさえることにより、液体、粉体、粒体等の混
合撹拌を行うことができる。
The vibrating plate may be vibrated uniformly as described in the above publications and specifications, but one or two parts of the vibrating plate are connected to the vibrating shaft to vibrate. You can also In this case, when the liquid tank has a quadrangular shape, two vibration shafts may be provided at both ends of one side of the diaphragm, but one vibration axis may be provided at the center of the side. Further, one vibration shaft may be provided at one corner of the diaphragm. The diagonal side of the side to which the vibration axis is attached or the corners other than the corner to which the vibration axis is attached are supported by the fixed shaft. An elastic body on the fixed shaft,
For example, it is preferable to fix the diaphragm via rubber, spring, air spring or the like, but it is also possible to rely on the elasticity of the diaphragm itself. FIG. 5 shows a specific example thereof. The vibrating rods 1 and 2 are provided via a vibration transmitting rod 5 connected to a vibrating motor by any means, and the vibrating plate 6 is fixed to the vibrating rods 1 and 9 by using rubber pieces 8 and 9, while the fixed rod is fixed. 3,4
The supporting rubber pieces 10, 1 for supporting the vibration of the diaphragm 6.
1 is fixed, and the diaphragm 6 is connected thereto. The diaphragm 6 is
Vibration transmission rods 1, 2 with the supporting rubber pieces 10, 11 as fulcrums
Since the fan vibrates like a vertical axis in line with the vertical axis, it is possible to mix and stir liquids, powders, granules, etc. by holding this in a tank.

【0009】本発明で使用する横振動撹拌手段を設けた
めっき装置の概要を図6〜9に示す。図6は、本発明で
使用する横振動撹拌装置の上面図を示し、図7はその断
面図を示す。31は、横方向に振動を発生する振動モー
タであり、32はその振動を伝達するためのコの字状振
動伝達子であり、槽または任意の支持物に直接またはス
ライドベアリング13などを介して取付けられている。
33は、振動モーター31で発生した振動が減衰しない
ようにするための支持体であり、34は、振動羽根36
をつけた振動子35を吊り下げかつコの字状振動伝達子
の振動を振動子35に伝達する役目をする垂直振動伝達
子である。振動羽根36は振動モーター31の振動によ
り振動撹拌作用を槽内の液体や粉体などに与える働きを
する。支持体33の両側には例えばスプリングのような
弾性体38,38が設けられており、コの字状振動伝達
子32の振動が減衰しないようにするとともに振動モー
ター31の側の重量とほぼ同じ重量にして無用振動によ
り発生する音を最小限に抑えこむ。コの字形の振動伝達
子を介して該槽の一方の側に設置されている振動モータ
ーとその対向する側に設けられた弾性体とその保持機構
との両者間では重量的にほぼバランスが取れるよう調整
されていることが好ましい。
The outline of the plating apparatus provided with the horizontal vibration stirring means used in the present invention is shown in FIGS. FIG. 6 shows a top view of a horizontal vibration stirring device used in the present invention, and FIG. 7 shows a cross-sectional view thereof. Reference numeral 31 is a vibration motor that horizontally generates vibration, and 32 is a U-shaped vibration transmitter for transmitting the vibration, which is directly or via a slide bearing 13 or the like in a tank or an arbitrary support. Installed.
33 is a support for preventing the vibration generated by the vibration motor 31 from being attenuated, and 34 is a vibrating blade 36.
It is a vertical vibration transmitter that suspends the vibrator 35 attached with and plays a role of transmitting the vibration of the U-shaped vibration transmitter to the vibrator 35. The vibrating blade 36 has a function of giving a vibrating and stirring action to liquid or powder in the tank by vibrating the vibrating motor 31. Elastic bodies 38, 38 such as springs are provided on both sides of the support body 33 to prevent the vibration of the U-shaped vibration transmitter 32 from being attenuated and to have a weight substantially equal to that of the vibration motor 31 side. Use the weight to minimize the noise generated by unnecessary vibration. The vibration motor installed on one side of the tank via the U-shaped vibration transmitter, the elastic body installed on the opposite side of the vibration motor, and the holding mechanism thereof are substantially balanced in weight. Is preferably adjusted so that

【0010】振動羽根は任意枚数を振動子に付設すれば
よい。振動羽根は振動子上に垂直にあるいは斜めに取り
付ける〔図10の(a)〜(d)参照〕。振動羽根の取
付け方は振動子に溶接することもできるし、着脱自在と
することもできる。とくに羽根を振動子に押込式にとり
つける方式を採用すれば、必要とする撹拌条件に応じて
振動羽根の大きさを変更したり、振動羽根の数を変更す
ることができるので、好ましい。また、羽根の取付角度
を変更できるようにすることもできる。槽の大きさが幅
800mm、長さ1000mm、深さ1100mmの場
合には、例えば、50mm間隔で幅80mm、長さ50
0mm、厚さ0.15mmの振動羽根を取り付けること
により充分撹拌効果を挙げることができる。
Any number of vibrating blades may be attached to the vibrator. The vibrating blades are vertically or obliquely mounted on the vibrator [see (a) to (d) of FIG. 10]. The vibrating blades can be attached to the vibrator by welding or detachably. In particular, it is preferable to adopt a method in which the blades are press-fitted to the vibrator because the size of the vibrating blades can be changed and the number of the vibrating blades can be changed according to the required stirring conditions. It is also possible to change the mounting angle of the blades. When the size of the tank is 800 mm in width, 1000 mm in length and 1100 mm in depth, for example, the width is 80 mm and the length is 50 at intervals of 50 mm.
By installing a vibrating blade having a thickness of 0 mm and a thickness of 0.15 mm, a sufficient stirring effect can be achieved.

【0011】コの字状の振動伝達子の両先端部を弾性体
を介して受け取めている支持体の存在は、振動モーター
により発生した横方向の振動が減衰しないようにするた
め、地盤と同じようにしっかりした構造体のものとする
ことが好ましい。例えば、地盤に基礎を打ち、それに垂
直に立ち上ったH型鋼材、あるいは鉄筋、鉄骨入りコン
クリート壁などを用いることができる。槽の壁が充分に
しっかりしているときは槽の壁をもって支持体とするこ
ともできる。
The presence of the support body which receives both ends of the U-shaped vibration transmitter through the elastic body prevents the lateral vibration generated by the vibration motor from being attenuated. It is preferred that it be of a similarly solid structure. For example, it is possible to use an H-shaped steel material in which a foundation is struck on the ground and rises vertically to it, or a reinforcing bar, a concrete wall containing steel frames, or the like. If the wall of the tank is sufficiently solid, the wall of the tank can serve as the support.

【0012】前記弾性体は、振動伝達子の振動をうけと
め、前記支持体からその振動をはねかえす役割を果すも
のであり、強いバネ力をもつものが好ましい。例えば、
図8に示すように、丸棒37のまわりにバネ鋼により作
った直径3〜10mmのスプリング38をはめこんだも
のを前記弾性体として使用することができる。前記弾性
体は前記支持体の振動モーター側とその反対側とに対照
的に設置することが好ましい。図8のものは、そのよう
な構造になっており、バネは止め板39で固定されてい
る。
The elastic body plays a role of receiving the vibration of the vibration transmitter and repelling the vibration from the support, and preferably has a strong spring force. For example,
As shown in FIG. 8, a spring 38 having a diameter of 3 to 10 mm made of spring steel and fitted around a round bar 37 can be used as the elastic body. It is preferable that the elastic body is symmetrically installed on the vibration motor side and the opposite side of the support. The structure of FIG. 8 has such a structure, and the spring is fixed by the stopper plate 39.

【0013】本発明においては、振動撹拌手段に加えて
さらにエアレーション手段を付設することができる。
In the present invention, aeration means can be additionally provided in addition to the vibration stirring means.

【0014】本発明で用いるクロムめっき浴の組成は、
従来のクロムめっき浴の各種組成のものを使用すること
ができる。代表的処方としては、 (a)クロム酸(CrO3) 100〜500g/l 硫酸 0.5〜7.7g/l (b)クロム酸(CrO3) 200〜300g/l 硫酸 0.25〜3g/l ケイフッ化ナトリウム(Na2SiF6) 0.5〜20
g/l
The composition of the chromium plating bath used in the present invention is
Conventional chromium plating baths having various compositions can be used. As a typical formulation, (a) chromic acid (CrO 3 ) 100 to 500 g / l sulfuric acid 0.5 to 7.7 g / l (b) chromic acid (CrO 3 ) 200 to 300 g / l sulfuric acid 0.25 to 3 g / L sodium silicofluoride (Na 2 SiF 6 ) 0.5 to 20
g / l

【0015】本発明における鉄系金属とは鉄または鉄を
主成分とする合金であり、亜鉛系金属とは亜鉛または亜
鉛を主成分とする合金であり、銅系金属とは銅または銅
を主成分とする合金であり、アルミニウム系金属とはア
ルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金であ
る。プラスチックスは、ABS、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどいずれのプラスチックスも対照物とするこ
とができる。
The iron-based metal in the present invention is iron or an alloy containing iron as a main component, the zinc-based metal is zinc or an alloy containing zinc as a main component, and the copper-based metal is mainly copper or copper. It is an alloy containing a component, and the aluminum-based metal is aluminum or an alloy containing aluminum as a main component. As the plastics, any of plastics such as ABS, polyethylene and polypropylene can be used as a control.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1(鉄系金属へのめっき)(吊下げ式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→クロムめっき 使用装置:図 に示す振動撹拌手段を有するFRP製め
っき槽(容量200リットル)で、振動数は27Hzと
した。 陽極:チタン上に酸化インジウムをコーティングしたも
の 液温:60℃ 被めっき体:鋼鉄製ディスク(直径55mm) (厚さ5mm) めっき浴組成: CrO3 300g/l H2SO4 3g/l 以上の条件下で鋼鉄上に直接クロムめっきを行ったとこ
ろ、 電流密度 80A/dm2 とすることができ、この状態で20分間めっきを行っ
た。その結果、中心部7μm厚、外周部20μm厚のク
ラックのないクロムめっき層を得ることができた。振動
撹拌を伴わない場合より高速でめっきができた。JIS
の塩水噴霧試験は96時間後も合格であった。また、振
動撹拌を伴わない場合、電流密度が40A/dm2に減
少し、同じ膜厚を得るためのクロムめっき工程の所要時
間は振動撹拌を行わない場合の1/2であった。
Example 1 (Plating on iron-based metal) (Suspension type) Basic process: Degreasing → Washing → Pickling → Washing → Chromium plating Equipment: FRP plating tank (vibration 200 liters) with vibration stirring means shown in the figure The frequency was 27 Hz. Anode: Titanium coated with indium oxide Liquid temperature: 60 ° C. Plated object: Steel disk (diameter 55 mm) (thickness 5 mm) Plating bath composition: CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 3 g / l or more When chromium was directly plated on steel under the conditions, a current density of 80 A / dm 2 was obtained, and plating was performed for 20 minutes in this state. As a result, it was possible to obtain a crack-free chromium plating layer having a thickness of 7 μm at the center and a thickness of 20 μm at the outer periphery. Plating could be done at a higher speed than that without vibration stirring. JIS
The salt spray test of was still acceptable after 96 hours. In addition, the current density was reduced to 40 A / dm 2 without vibration stirring, and the time required for the chrome plating step to obtain the same film thickness was half that in the case without vibration stirring.

【0017】比較例1 振動撹拌を行わない以外は、実施例1を繰り返した。そ
の結果、電流密度40A/dm2、膜厚11μmのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くJISの塩水
噴霧試験は96時間後では完全に不合格であった。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that no vibrating stirring was performed. As a result, a chromium plating film having a current density of 40 A / dm 2 and a film thickness of 11 μm was obtained, but there were many cracks and the JIS salt spray test completely failed after 96 hours.

【0018】実施例2(鉄系金属へのめっき)(吊下げ
式) 振動数を28Hz、電流密度60A/dm2とし、被め
っき体を鉄製シャフト(直径10mm、長さ135m
m)にクロムめっきを行った。クロムめっきの厚さは2
0〜22μmで、クラックの発生は認められなかった。
JISの塩水噴霧試験は96時間後でも合格であった。
Example 2 (Plating on iron-based metal) (suspended type) The frequency was 28 Hz, the current density was 60 A / dm 2, and the object to be plated was an iron shaft (diameter 10 mm, length 135 m).
m) was plated with chrome. The thickness of chrome plating is 2
The occurrence of cracks was not observed at 0 to 22 μm.
The JIS salt spray test passed even after 96 hours.

【0019】比較例2 振動撹拌を行わない以外は、実施例2を繰り返した。そ
の結果、電流密度40A/dm2、膜厚11μmのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くJISの塩水
噴霧試験は96時間後では完全に不合格であった。
Comparative Example 2 Example 2 was repeated except that no vibrating stirring was performed. As a result, a chromium plating film having a current density of 40 A / dm 2 and a film thickness of 11 μm was obtained, but there were many cracks and the JIS salt spray test completely failed after 96 hours.

【0020】比較例3(鉄系金属へのめっき)(吊下げ
式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 実施例2の被めっき体を用い、通常どおり銅めっき−ニ
ッケルめっきを施したものに、クロムめっきを行った
(振動撹拌なし)。 硫酸銅めっき浴 硫酸銅 230g/l 硫酸 50g/l 光沢剤 少量 液温 25℃ 陰極電流密度 3A/dm2 時間 ニッケルめっき浴 硫酸ニッケル 240g/l 塩化ニッケル 45g/l ホウ酸 30g/l 光沢剤 少量 液温 50℃ 電流密度 5A/dm2 クロムめっき浴 CrO3 300g/l H2SO4 3g/l よりなるサージェント浴を用いた。 液温:60℃ 電流密度:50A/dm2 めっき時間:30分 その結果、25μm厚のクロムめっき層が得られたが、
多数のマイクロクラックが認められた。JISの塩水噴
霧試験のけっかは96時間後不合格であった。
Comparative Example 3 (Plating on iron-based metal) (suspended type) Basic process: Degreasing → washing → pickling → washing → copper strike → copper plating → washing → nickel plating → washing → chromium plating Using an object to be plated, copper plating-nickel plating was applied as usual to chromium plating (without vibration stirring). Copper sulphate plating bath Copper sulphate 230g / l Sulfuric acid 50g / l Brightener small amount Liquid temperature 25 ° C Cathode current density 3A / dm 2 hours Nickel plating bath Nickel sulphate 240g / l Nickel chloride 45g / l Boric acid 30g / l Brightener small amount liquid Temperature 50 ° C. Current density 5 A / dm 2 Chromium plating bath CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 3 g / l A Sargent bath was used. Liquid temperature: 60 ° C. Current density: 50 A / dm 2 Plating time: 30 minutes As a result, a 25 μm thick chromium plating layer was obtained.
Many microcracks were observed. The JIS salt spray test failed after 96 hours.

【0021】実施例3(鉄製品へのバレルめっき) 本実施例に用いるバレルめっき装置は、図11(上面
図)、図12(断面図)に示すものである。振動撹拌手
段は、振動モーター56で発生した振動を振動枠53、
振動棒51を介して振動羽根群52、52……に伝え
る。振動羽根群は図6〜8に明示されているように循環
槽59の両側に設置する。振動モーター56よりの振動
が循環槽59本体に影響しないようにするため、振動枠
53はスプリング54と台座55を介して本体に取付け
られている。振動羽根の傾斜の程度は水平方向を基準に
して15゜でセットした。振動羽根の幅80mm、撹拌
羽根同士の間隔は35mmとした。図12に示すとお
り、振動羽根部分は、バレル63と電極57の間に設け
られている。バレル63は、穴径3mmの多数の穴を有
する八角形筒体で約3リットルの容量の硬質塩化ビニル
樹脂よりなるものである。被めっき物品としては、直径
20mm、長さ20mmの鉄製円柱体を用いた。このも
のは銅めっき、ニッケルめっきを施していないものであ
る。クロムめっき浴の組成はつぎのとおりとした。 無水クロム酸(CrO3) 250g/l 硫酸(H2SO4) 2.5g/l 陰極電流密度25A/dm2、めっき温度60℃、バレ
ル回転数6r.p.m.で、1時間めっきした。なお、
被めっき物品はバレル容積の1/3になるように充填し
た。めっき終了後は、水洗、酸中和、水洗、乾燥を行っ
た。この結果、振動撹拌を行わない場合は電流密度が上
らず、クロムめっき膜がほとんど形成できないのに較
べ、本実施例3のものは、膜厚10μmのクロム膜が均
一に形成されており、この膜厚は吊り具を用いためっき
の場合とほゞ同様であった。
Example 3 (Barrel plating on iron products) The barrel plating apparatus used in this example is shown in FIG. 11 (top view) and FIG. 12 (cross-sectional view). The vibrating agitating means applies the vibration generated by the vibrating motor 56 to the vibrating frame 53,
This is transmitted to the vibrating blade groups 52, 52 ... Through the vibrating rod 51. The vibrating blade groups are installed on both sides of the circulation tank 59 as clearly shown in FIGS. The vibration frame 53 is attached to the main body via a spring 54 and a pedestal 55 so that the vibration from the vibration motor 56 does not affect the main body of the circulation tank 59. The inclination of the vibrating blade was set at 15 ° with respect to the horizontal direction. The width of the vibrating blade was 80 mm, and the distance between the stirring blades was 35 mm. As shown in FIG. 12, the vibrating blade portion is provided between the barrel 63 and the electrode 57. The barrel 63 is an octagonal cylindrical body having a large number of holes with a diameter of 3 mm and is made of a hard vinyl chloride resin having a capacity of about 3 liters. As the article to be plated, an iron columnar body having a diameter of 20 mm and a length of 20 mm was used. This product is not plated with copper or nickel. The composition of the chrome plating bath was as follows. Chromic anhydride (CrO 3 ) 250 g / l Sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 2.5 g / l Cathode current density 25 A / dm 2 , plating temperature 60 ° C., barrel rotation speed 6 r. p. m. Then, it plated for 1 hour. In addition,
The article to be plated was filled to 1/3 of the barrel volume. After completion of plating, washing with water, neutralization with acid, washing with water and drying were performed. As a result, the current density does not increase and the chrome plating film can hardly be formed when the vibration stirring is not performed, whereas in the third embodiment, the chrome film having a thickness of 10 μm is formed uniformly, This film thickness was almost the same as in the case of plating using a suspender.

【0022】実施例4(鉄製品へのバレルめっき) クロムめっき浴として下記の組成のものを用い、陰極電
流密度50A/dm2、めっき温度55℃としたほかは
実施例1を繰り返した。 無水クロム酸(CrO3) 260g/l ケイフッ化カリウム(K2SiF6) 4g/l 重クロム酸カリ(K2Cr27) 25g/l 硫酸(H2SO4) 1g/l この結果、実施例1に較べ約1.3倍の早さでクロムめ
っき層が形成された。
Example 4 (Barrel plating on iron products) Example 1 was repeated except that a chromium plating bath having the following composition was used, the cathode current density was 50 A / dm 2 , and the plating temperature was 55 ° C. Chromic anhydride (CrO 3 ) 260 g / l Potassium silicofluoride (K 2 SiF 6 ) 4 g / l Potassium dichromate (K 2 Cr 2 O 7 ) 25 g / l Sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 1 g / l As a result, The chromium plating layer was formed about 1.3 times faster than in Example 1.

【0023】実施例5(プラスチックスへのめっき) 基本プロセス:脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→クロムめっき ポリアセタールディスク(直径20mm、厚さ20m
m)に化学めっき(化学銅めっき)を施して表面を活性
化した後、これに直接振動撹拌下にクロムめっきを行っ
た。めっき条件は実施例1と同様に行い、めっき時間は
20分とした。クロムめっき層の厚みは20μmであ
り、マイクロクラックの発生は認められなかった。JI
Sによる塩水噴霧試験の結果は、96時間後も合格であ
った。
Example 5 (Plating on plastics) Basic process: Degreasing → pre-etching → etching → catalyzing → accelerating → electroless copper plating → chrome plating Polyacetal disk (diameter 20 mm, thickness 20 m)
m) was subjected to chemical plating (chemical copper plating) to activate the surface, and then subjected to chromium plating directly under vibration and stirring. The plating conditions were the same as in Example 1, and the plating time was 20 minutes. The thickness of the chromium plating layer was 20 μm, and no microcracks were observed. JI
The result of the salt spray test with S was acceptable even after 96 hours.

【0024】比較例4(プラスチックスへのめっき) 基本プロセス:脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→銅めっき→ニッケルめっき→クロムめっき 実施例2と同一のポリアセタールディスクに、比較例1
と同様に銅めっき、ニッケルめっきを施した後、クロム
めっきを行った(振動撹拌なし)。20分間めっき後、
クロムめっき層の厚みは11μmであり、マイクロクラ
ックの存在が認められた。JISによる塩水噴霧試験の
結果は、96時間後、不合格であった。
Comparative Example 4 (Plating on Plastics) Basic Process: Degreasing → Pre-etching → Etching → Catalyzing → Accelerating → Electroless Copper Plating → Copper Plating → Nickel Plating → Chrome Plating The same polyacetal disk as in Example 2 Comparative Example 1
After copper plating and nickel plating were performed in the same manner as above, chromium plating was performed (without vibration stirring). After plating for 20 minutes,
The thickness of the chromium plating layer was 11 μm, and the presence of microcracks was recognized. The result of the salt spray test according to JIS was unsuccessful after 96 hours.

【0025】実施例6(亜鉛系金属へのめっき)(吊下
げ方式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→クロムめっき 銅めっきされた亜鉛系金属ディスク(直径20mm、厚
さ20mm)に、振動数を28Hzとした以外は、実施
例1と同様にして20分間クロムめっきを行った。その
結果は、マイクロクラックの発生は認められず、JIS
の塩水噴霧試験において96時間後も合格であった。
Example 6 (plating on zinc-based metal) (suspending method) Basic process: degreasing → washing → pickling → washing → copper strike → copper plating → washing → chrome plating zinc-plated copper-based metal disk ( Chromium plating was performed for 20 minutes in the same manner as in Example 1 except that the diameter was 20 mm and the thickness was 20 mm and the frequency was 28 Hz. As a result, the occurrence of microcracks was not observed,
In the salt spray test of No. 1, it passed even after 96 hours.

【0026】比較例5(亜鉛系金属へのめっき)(吊下
げ方式) 基本プロセス:脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 銅ストライク処理された亜鉛系金属ディスク(直径20
mm、厚さ20mm)に、比較例1と同様の処方で通常
の基本プロセスにより、銅めっき→ニッケルめっき→ク
ロムめっきを行った。クロムめっきの時間は20分とし
た。その結果は、クロムめっき層にマイクロクラックが
発生していた。
Comparative Example 5 (plating on zinc-based metal) (suspension method) Basic process: degreasing → washing → pickling → washing → copper strike → copper plating → washing → nickel plating → washing → chrome plating Copper strike treatment Zinc-based metal disc (diameter 20
mm, thickness 20 mm) was subjected to copper plating → nickel plating → chromium plating by the usual basic process with the same formulation as in Comparative Example 1. The chromium plating time was 20 minutes. As a result, microcracks were generated in the chromium plating layer.

【0027】実施例7(アルミ系金属へのめっき)(吊
下げ方式) クロムめっき浴として CrO3 300g/l H2SO4 1g/l を用い、アルミダイキャスト製品(直径55mm、厚さ
5mm)の試料に実施例1と同様に振動数27Hz、液
温60℃で電流密度80A/dm2、20分間のめっき
を行った。膜厚平均15μmのクラックのないクロムめ
っき層を得ることができた。通常、中間処理として従来
から行われている亜鉛置換法や亜鉛合金置換法等の処理
層を設ける必要がなく、マイクロクラックの発生のない
防食性のめっき層を高速度で得ることができた。なお、
通常の脱脂、水洗、活性化処理は常法により行ってい
る。
Example 7 (plating on aluminum metal) (suspension system) CrO 3 300 g / l H 2 SO 4 1 g / l was used as a chromium plating bath, and an aluminum die cast product (diameter 55 mm, thickness 5 mm) was used. The sample was subjected to plating at a frequency of 27 Hz, a liquid temperature of 60 ° C. and a current density of 80 A / dm 2 for 20 minutes in the same manner as in Example 1. It was possible to obtain a chromium plating layer having an average film thickness of 15 μm and having no crack. Usually, it is not necessary to provide a treatment layer such as a zinc substitution method or a zinc alloy substitution method that has been conventionally used as an intermediate treatment, and a corrosion-resistant plating layer without generation of microcracks can be obtained at high speed. In addition,
Normal degreasing, washing with water, and activation treatment are carried out by conventional methods.

【0028】[0028]

【効果】【effect】

(1)本発明は、振動撹拌を用いることにより、鉄系合
金、プラスチックスあるいは亜鉛系金属にクロムめっき
をするにあたり、今まで必要とされていた予備めっき工
程を簡略化することができた。この工程簡略化は、作業
効率の大巾な向上につながるとともに、予備めっき液も
不要となるから、廃水処理上のメリットも大きく、極め
て大きな効果である。 (2)本発明は、振動撹拌を用いることにより、従来法
におけるクロムめっきの速さに比較してほぼ2倍のめっ
き速度を得ることができる。このことは振動撹拌により
高い電流密度を達成できることと深い関係を有する。一
例を挙げれば、従来のクロムめっきでは、 電流密度40A/dm2、20分でクロムめっき厚11
μm であるのに対し、本発明のクロムめっきでは、 電流密度80A/dm2、20分でクロムめっき厚22
μm であるから、同一時間で2倍の厚みのクロムめっきをす
ることができる。いいかえれば、めっき速度は2倍にな
っていることが明らかである。 (3)得られたクロムめっき層は、従来品のようなマイ
クロクラックがなく、従来品に較べて耐久性が一層向上
した。
(1) The present invention can simplify the preliminary plating step, which has been required until now, when chromium plating is applied to iron-based alloys, plastics or zinc-based metals by using vibration stirring. This simplification of the process leads to a great improvement in working efficiency and also eliminates the need for a preliminary plating solution, which has a great advantage in treating wastewater and is a very large effect. (2) In the present invention, by using vibration stirring, it is possible to obtain a plating rate almost twice as high as that of the chromium plating in the conventional method. This has a close relation with the fact that a high current density can be achieved by vibrating stirring. For example, in the conventional chrome plating, the current density is 40 A / dm 2 , and the chrome plating thickness is 11 at 20 minutes.
Whereas in the chromium plating of the present invention, the current density is 80 A / dm 2 , and the chromium plating thickness is 22 in 20 minutes.
Since the thickness is μm, it is possible to perform double-thickness chromium plating in the same time. In other words, it is clear that the plating rate has doubled. (3) The obtained chromium plating layer has no microcracks as in the conventional product, and the durability is further improved as compared with the conventional product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の上面図
である。
FIG. 1 is a top view of a vibration stirrer used in an example of the present invention.

【図2】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の側面図
である。
FIG. 2 is a side view of a vibration stirrer used in an example of the present invention.

【図3】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置のもう一
方の側からみた側面図である。
FIG. 3 is a side view of the vibration stirrer used in the example of the present invention as seen from the other side.

【図4】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の要部の
みの斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of only a main part of a vibration stirrer used in an example of the present invention.

【図5】本発明のめっき方法に用いることのできる上下
振動撹拌手段の変形例を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a modified example of the vertical vibration stirring means that can be used in the plating method of the present invention.

【図6】本発明の実施例で用いる横方向振動撹拌装置の
上面図である。
FIG. 6 is a top view of a lateral vibration stirrer used in an example of the present invention.

【図7】図6の断面図である。7 is a cross-sectional view of FIG.

【図8】図6のA部分の拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged sectional view of a portion A in FIG.

【図9】振動伝達機構と振動子の概略図である。FIG. 9 is a schematic view of a vibration transmission mechanism and a vibrator.

【図10】振動羽根の振動子への取付け態様のいろいろ
を(a)から(d)に示す。
10 (a) to 10 (d) show various attachment modes of the vibrating blade to the vibrator.

【図11】振動撹拌手段を備えたバレルめっき装置の上
面図である。
FIG. 11 is a top view of a barrel plating apparatus provided with a vibration stirring means.

【図12】図11の断面図である。12 is a cross-sectional view of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 振動棒 2 振動棒 3 固定棒 4 固定棒 5 振動伝達棒 6 振動板 7 槽底部 8 支持用ゴム片 9 支持用ゴム片 10 支持用ゴム片 11 支持用ゴム片 21 振動棒 22 振動羽根 23 振動枠 24 スプリング 25 台座 26 振動モーター 27 電極 28 加熱用ヒーター 29 めっき槽 31 振動モーター 32 コの字状振動伝達子 33 支持体 34 垂直振動伝達子 35 振動子 36 振動羽根 37 丸棒 38 スプリング 39 止め板 40 ヒーター 41 電極 42 槽 43 スライドベアリング 51 振動棒 52 振動羽根 53 振動枠 54 スプリング 55 台座 56 振動モーター 57 電極 59 槽 62 回転軸 63 バレル 1 Vibration Rod 2 Vibration Rod 3 Fixed Rod 4 Fixed Rod 5 Vibration Transmission Rod 6 Vibration Plate 7 Tank Bottom 8 Supporting Rubber Piece 9 Supporting Rubber Piece 10 Supporting Rubber Piece 11 Supporting Rubber Piece 21 Vibration Rod 22 Vibrating Blade 23 Vibration Frame 24 Spring 25 Pedestal 26 Vibration motor 27 Electrode 28 Heating heater 29 Plating bath 31 Vibration motor 32 U-shaped vibration transmitter 33 Support body 34 Vertical vibration transmitter 35 Vibrator 36 Vibration blade 37 Round bar 38 Spring 39 Stop plate 40 Heater 41 Electrode 42 Tank 43 Slide Bearing 51 Vibration Rod 52 Vibration Blade 53 Vibration Frame 54 Spring 55 Pedestal 56 Vibration Motor 57 Electrode 59 Tank 62 Rotation Shaft 63 Barrel

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 その金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき
法。
1. A chrome plating method characterized in that chrome plating is performed directly on a metal surface which is said not to be directly chrome plated on the metal surface under vibration stirring.
【請求項2】 鉄系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、銅めっき工程−ニッケルめっき工程を経ることな
く、振動撹拌下に直接クロムめっきを行うことを特徴と
するクロムめっき法。
2. A chrome plating method characterized in that when chrome-plating an iron-based metal surface, the chrome-plating is performed directly under vibration and stirring without going through a copper plating step-nickel plating step.
【請求項3】 プラスチックス表面にクロムめっきを行
うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−ニ
ッケルめっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接ク
ロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法。
3. Chromium plating on the surface of the plastics is performed directly on the electroless copper plating layer under vibrating stirring without performing the copper plating step-nickel plating step. Plating method.
【請求項4】 亜鉛系金属表面にクロムめっきを行うに
あたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを経ることな
く、銅めっき層上に振動撹拌下に直接クロムめっきを行
うことを特徴とするクロムめっき法。
4. A chrome plating method characterized in that when chrome-plating a surface of a zinc-based metal, the chrome-plating is performed directly on a copper-plated layer under vibrating stirring without undergoing nickel-plating after the copper-plating step. .
【請求項5】 銅系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、ニッケルめっきを経ることなく、振動撹拌下に直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき
法。
5. A chrome plating method characterized in that when chrome-plating a copper-based metal surface, the chrome-plating is performed directly under vibration and stirring without undergoing nickel plating.
【請求項6】 アルミニウム系金属表面にクロムめっき
を行うにあたり、下地めっきを経ることなく、振動撹拌
下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめ
っき法。
6. A chrome plating method characterized in that when chrome-plating an aluminum-based metal surface, the chrome-plating is performed directly under vibration and stirring without passing through a base plating.
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