JPH0794191B2 - Direct drawing type lithographic printing plate - Google Patents
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は平版印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a direct drawing type lithographic printing plate precursor suitable for office printing plate precursors and the like.
(従来技術) 現在、事務用印刷原版としては支持体上に画像受理層を
有する直描型平版印刷原版が広く用いられている。この
ような印刷原版に製版、即ち画像形成を行なうには一般
に画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか、
タイプライター、イングジェット方式あるいは転写型感
熱方式等で印字する方法が採用されている。その他、普
通紙電子写真複写機(PPC)を用いて帯電、露光及び現
像の工程を経て感光体上に形成したトナー画像を画像受
理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。いずれに
しても製版後の印刷原版は不感脂化液(いわゆるエッチ
液)で表面処理して非画像部を不感脂化した後、印刷版
として原版印刷に供せられる。(Prior Art) At present, a direct drawing type lithographic printing original plate having an image receiving layer on a support is widely used as an office printing original plate. To make a plate on such a printing original plate, that is, to form an image, generally, an oil-based ink is drawn by hand on the image receiving layer, or
Printing methods such as a typewriter, an ing jet method, or a transfer type heat-sensitive method are used. In addition, a method of transferring and fixing a toner image formed on a photoconductor through a process of charging, exposing and developing using a plain paper electrophotographic copying machine (PPC) to an image receiving layer has also started to be used in recent years. In any case, the printing plate precursor after plate making is subjected to surface treatment with a desensitizing solution (so-called etching solution) to desensitize the non-image area, and then used as a printing plate for printing the original plate.
従来の直描型原版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。裏面層又
は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エマル
ジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている。表面
層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。In the conventional direct drawing type lithographic printing plate, a surface layer was provided on both sides of a support such as paper with a back layer and an intermediate layer interposed. The back surface layer or the intermediate layer is formed of a water-soluble resin such as PVA starch and a water-dispersible resin such as a synthetic resin emulsion and a pigment. The surface layer is formed of a pigment, a water-soluble resin and a waterproofing agent.
このような直描型平版印刷原版の代表例は米国特許第25
32865号に記載されるように、画像受理層をPVAのような
水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシウム等のよ
うな無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒド樹脂初期
縮合物のような耐水化剤を主成分として構成したもので
ある。A typical example of such a direct drawing type lithographic printing plate precursor is U.S. Pat.
As described in No. 32865, the image receiving layer is mainly composed of a water-soluble resin binder such as PVA, an inorganic pigment such as silica and calcium carbonate, and a water-proofing agent such as a melamine-formaldehyde resin precondensate. It is composed.
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、この様にして得られた従来の印刷版は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させる
と、耐刷性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発
生し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐刷
性が低下するという問題があった。特に30℃以上の高温
使用環境下ではオフセット印刷に使用する浸し水に表面
層が溶解し、耐刷性の低下及び印刷汚れの両者が発生す
るなど大きな欠点があった。(Problems to be Solved by the Invention) However, the conventional printing plate thus obtained is
If the hydrophobicity is increased by increasing the amount of waterproofing agent added or using a hydrophobic resin to improve printing durability, printing durability is improved, but hydrophilicity is reduced, and printing stains are reduced. On the other hand, when the hydrophilic property is improved, the water resistance is deteriorated and the printing durability is deteriorated. In particular, in a high-temperature use environment of 30 ° C. or higher, the surface layer was dissolved in the immersion water used for offset printing, and there were major drawbacks such as deterioration of printing durability and printing stains.
更に、平版印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐刷
性が低下してしまうという問題もあった。Further, the lithographic printing plate precursor is for drawing an oil-based ink or the like as an image portion on the image-receiving layer, and if the adhesion between the receiving layer and the oil-based ink is not good, even if the non-image portion has sufficient hydrophilicity, Even if such printing stains do not occur, there is a problem that the oil-based ink in the image portion is lost during printing, resulting in a decrease in printing durability.
本発明は以上の様な直描型平版印刷用原版の有する問題
点を解消するものである。The present invention solves the above-mentioned problems of the direct-drawing type lithographic printing plate precursor.
本発明の目的は、オフセット原版として全面一様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不感脂化性の
優れた直描型平版印刷用原版を提供することである。An object of the present invention is to provide, as an offset original plate, a direct drawing type lithographic printing original plate having excellent desensitizing property which does not cause spotwise background stain as well as uniform background stain.
本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しな
い、高耐刷力を有する平版印刷用原版を提供することで
ある。The object of the present invention is to improve the adhesion between the oil-based ink in the image area and the image-receiving layer, and the hydrophilicity of the non-image area is sufficiently maintained even if the number of printed sheets is increased in printing, and there is no scumming. An object is to provide a lithographic printing plate precursor having high printing durability.
(問題点を解決するための手段) 前記した諸目的は、支持体上に画像受理層を有する直描
型平版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の少
なくとも1部に、分解して少なくとも1個のチオール
基、ホスホノ基、アミノ基及び/又はスルホ基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有する樹脂で、且つ、少な
くとも一部分が架橋されている事を特徴としている。こ
れにより、本発明による平版印刷用原版は、原画に対し
て忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好で
あるため地汚れも発生せず、画像受理層の平滑性が良好
であり、更に耐刷力が優れているという利点を有する。(Means for Solving Problems) The above-mentioned various purposes are as follows: in a direct drawing type lithographic printing plate precursor having an image receiving layer on a support, at least one part of the binder of the image receiving layer is decomposed. And a resin containing at least one functional group capable of forming at least one thiol group, phosphono group, amino group and / or sulfo group, and at least a part of which is crosslinked. As a result, the lithographic printing plate precursor according to the present invention reproduces a copy image that is faithful to the original image, and since the non-image area has good hydrophilicity, scumming does not occur, and the image receiving layer has good smoothness. And further has the advantage that the printing durability is excellent.
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に左
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。Further, the lithographic printing plate precursor of the invention is characterized by being unaffected by the environment at the time of plate making processing and being excellent in preservability before processing.
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホノ基、スルホ基及び/又はア
ミノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含
有する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と
称することもある)について詳しく説明する。Below, a resin containing at least one functional group that decomposes to generate a hydrophilic group of at least one thiol group, phosphono group, sulfo group and / or amino group used in the present invention (hereinafter, simply referred to as hydrophilic The group-generating functional group-containing resin may also be referred to).
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成する
が、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個
以上でもよい。The functional group contained in the hydrophilic group-forming functional group-containing resin of the present invention produces at least one hydrophilic group by decomposition, but one or two or more hydrophilic groups may be produced from one functional group.
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記一般
式(I)〔−S−LA〕で示される官能基を少なくとも1
種含有する樹脂である。Hereinafter, the resin containing a functional group that generates at least one thiol group by decomposition (thiol group-forming functional group-containing resin) will be described in detail. Such a resin has, for example, at least one functional group represented by the following general formula (I) [-S-L A ].
It is a resin containing seeds.
一般式(I):〔−S−LA〕 式中、LAは、 を表わす。General formula (I): [-S-L A ] In the formula, L A is Represents
但し、RA 1,RA 2及びRA 3は、互いに同じで異なってもよ
く、各々炭化水素基又は−O−RA′(RA′は炭化水素基
を示す)を表わし、RA 4、RA 5、RA 6、RA 7、RA 8、RA 9及び
RA 10は各々独立に炭化水素基を表わす。However, R A 1 , R A 2 and R A 3 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group or —O—R A ′ (R A ′ represents a hydrocarbon group), and R A 4 , R A 5 , R A 6 , R A 7 , R A 8 , R A 9 and
R A 10 each independently represents a hydrocarbon group.
上記一般式〔−S−LA〕の官能基は、分解によって、チ
オール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明す
る。Functional groups of the general formula [-S-L A] is degraded by, is intended to generate a thiol group, is described below in more detail.
を表わす場合において、RA 1、RA 2及びRA 3は、互いに同
じで異なってもよく、好ましくは置換されてもよい炭素
数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、ク
ロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基
等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい炭素数
7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又は、
置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル
基等)又は−O−RA′(RA′は、炭化水素基を表わし、
具体的には、上記RA 1、RA 2、RA 3の炭化水素基で記述し
た置換基類を例として挙げることができる)を表わす。 In the case of representing, R A 1 , R A 2 and R A 3 may be the same as or different from each other, and are preferably an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl). Group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (eg, A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or
An optionally substituted aromatic group (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or —O—R A ′ (R A ′ is a hydrocarbon Represents a group,
Specifically, the substituents described for the hydrocarbon group of R A 1 , R A 2 and R A 3 can be mentioned as an example).
又は−S−RA 8を表わす場合において、RA 4、RA 5、RA 6、
RA 7、RA 8は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数
1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、
ヘキシル基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル
基、2,2,2−トリフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘ
キサフルオロ−i−プロピル基、オクチル基、デシル基
等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル
基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、
メトキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数
6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチル
フェニル基等)を表わす。 Or in the case of representing the -S-R A 8, R A 4, R A 5, R A 6,
R A 7 and R A 8 are each preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, ethyl Group, propyl group, n-butyl group,
Hexyl group, 3-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, octyl group, decyl group, etc.), even if substituted A good aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group,
Methoxybenzyl group etc.), optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl) Group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
を表わす場合において、RA 9及びRA 10は各々同じでも異
なっていてもよく、好ましい例としては、前記RA 4〜RA 8
で好ましいとして記載した置換基を表わす。本発明の他
の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は、一般式
(II)又は一般式(III)で示されるチイラン環を少な
くとも1種含有する樹脂である。 In the case of representing, R A 9 and R A 10 may be the same or different, and preferred examples thereof include R A 4 to R A 8
Represents the substituents described as being preferable. Another preferable thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one thiirane ring represented by the general formula (II) or the general formula (III).
一般式(II) 一般式(III) 式(II)において、RA 11及びRA 12は、互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。
好ましくは、水素原子又は前記RA 4〜RA 7で好ましいとし
て記載した置換基を表わす。General formula (II) General formula (III) In formula (II), R A 11 and R A 12, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
Preferably, it represents a substituent described as the preferable a hydrogen atom or the R A 4 ~R A 7.
式(III)において、XAは、水素原子又は脂肪族基を表
わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)を表わす。In formula (III), X A represents a hydrogen atom or an aliphatic group. The aliphatic group preferably represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.).
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、一般式(IV)で示されるイオウ原子含有のヘテ
ロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。Still another preferable thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by the general formula (IV).
一般式(IV) 式(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を表わ
す。General formula (IV) In formula (IV), Y A represents an oxygen atom or -NH- group.
RA 13、RA 14及びRA 15は、同じでも異なっていてもよく、
各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは水素
原子又は前記RA 4〜RA 7で好ましいとして記載した置換基
を表わす。R A 13 , R A 14 and R A 15 may be the same or different,
Each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably represents a substituent described as the preferable a hydrogen atom or the R A 4 ~R A 7.
RA 16及びRA 17は、同じでも異なっていてもよく、水素原
子、炭化水素基又は−O−RA″(RA″は炭化水素基を表
わす)を表わす。好ましくは、前記RA 1〜RA 3で好ましい
として記載した置換基を表わす。R A 16 and R A 17, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or —O—R A ″ (R A ″ represents a hydrocarbon group). Preferably, it represents the substituents described as preferable in R A 1 to R A 3 .
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。According to still another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing resin has a functional group having at least two thiol groups sterically close to each other in the form of being simultaneously protected with one protecting group. Is a resin containing at least one.
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記一般式(V)、(VI)及び(VI
I)で表わされるものを挙げることができる。Examples of the functional group having at least two thiol groups sterically close to each other simultaneously protected by one protecting group include, for example, the following general formulas (V), (VI) and (VI)
Examples include those represented by I).
一般式(V) 一般式(VI) 一般式(VII) 式(V)及び式(VI)において、ZAはヘテロ原子を介し
てもよい炭素−炭素結合又はC−S結合同志を直接連結
する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子数は
4個以内である)。更に一方のZA…C結合が単なる
結合のみを表わし、例えば下記の様になっていてもよ
い。General formula (V) General formula (VI) General formula (VII) In the formulas (V) and (VI), Z A represents a carbon-carbon bond which may have a heteroatom or a chemical bond which directly connects the C—S bonds with each other (provided that the number of atoms between sulfur atoms is 4). It is within the number). Further, one Z A ... C bond represents only a bond, and may be, for example, as shown below.
式(VI)において、RA 18、RA 19は、同じでも異なってい
てもよく、水素原子、炭化水素基又は−O−RA″(RA″
は炭化水素基を示す)を表わす。 In the formula (VI), R A 18 and R A 19 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or —O—R A ″ (R A ″).
Represents a hydrocarbon group).
式(VI)において、RA 18及びRA 19は、好ましくは互いに
同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12
の置換されていてもよいアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、2
−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素数7〜9の
置換されていてもよいアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネテル基、メチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の脂環式基
(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)又
は置換されていてもよいアリール基(例えばフェニル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、メチルフ
ェニル基、シアノフェニル基等)又は−O−RA″(RA″
はRA 18、RA 19における炭化水素基と同義である)を表わ
す。In formula (VI), R A 18 and R A 19 may preferably be the same or different from each other, a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 12
An optionally substituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2
-Methoxyethyl group, octyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenether group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), 5 carbon atoms 7 alicyclic group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) or optionally substituted aryl group (eg, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) or —O— R A ″ (R A ″
Has the same meaning as the hydrocarbon group in R A 18 and R A 19 .
式(VII)において、RA 20、RA 21、RA 22、RA 23は、互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化
水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は、RA 18、RA
19において好ましいと記載した炭化水素基と同義の内容
を表わす。In formula (VII), R A 20 , R A 21 , R A 22 , and R A 23, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or R A 18 , R A
It has the same meaning as the hydrocarbon group described as preferred in 19 .
本発明に用いられる一般式(I)〜(VII)で示される
官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含
有されるチオール基を高分子反応によって保護基により
保護した形にする方法又は予め保護基により保護された
形の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の
又は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合
反応により重合する方法により製造される。The resin containing at least one functional group represented by the general formulas (I) to (VII) used in the present invention has a thiol group contained in a polymer protected by a polymer group by a polymer reaction. Polymerization by a method or a polymerization reaction of a monomer containing one or more thiol groups previously protected by a protecting group, or of the monomer and another monomer copolymerizable therewith Manufactured by the method.
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブテン塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。A polymer containing a thiol group, because the thiol group inhibits radical polymerization, it is difficult to polymerize a thiol group-containing monomer as it is. A thiol group is produced by polymerizing a monomer having a protected thiol group in the form of a functional group, isothiuronium salt, butene salt or the like used in the present invention, and then performing a decomposition reaction to form a thiol group.
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(I)〜(VII)の官
能基を含有する単量体からの重合反応により製造する方
法が好ましい。Therefore, it is possible to arbitrarily adjust the functional group that protected the thiol group in the polymer, not to mix impurities, or
A method of producing by a polymerization reaction from a monomer containing a functional group of the general formulas (I) to (VII) in advance is preferable because it will not polymerize unless it is a monomer having a thiol group protected finally. .
1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉義男・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜237頁
(講談社:1977年刊)、日本化学会編「新実験化学講座
第14巻、有機化合物の合成と反応〔III〕」、第8章、
第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社1978年刊)、J.F.W.
McOmie,「Protective Groupsin Organic Chemistry」第
7章(Plenum Press.1973年刊)、S.Patai,「The Chemi
stry of the thiol group part2」第12章、第14章(Joh
n Wiley&Sons,1974年刊)等の総説引例の公知文献記載
の方法等を適用することができる。Examples of the production method for converting one or at least two thiol groups into a functional group protected by a protecting group include, for example,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", pages 230-237 (Kodansha: 1977), edited by The Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Lecture Volume 14, Organic Compound Synthesis and Reactions [III]", 8 chapter,
Pages 1700 to 1713 (Maruzen Co., Ltd., 1978), JFW
McOmie, “Protective Groups in Organic Chemistry” Chapter 7 (Plenum Press. 1973), S. Patai, “The Chemi
stry of the thiol group part 2 "Chapters 12 and 14 (Joh
n Wiley & Sons, published in 1974, etc., the methods described in publicly known documents in the review reference can be applied.
1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(I)〜(VII)で表わされる官能基を
含有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含
み且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、
例えば、前記した公知文献等に記載された方法に従っ
て、チオール基を一般式(I)〜(VII)の官能基に変
換するか、あるいは一般式(I)〜(VII)の官能基を
含有する化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応
させる方法によって、製造することができる。A monomer in which one or more thiol groups are protected by a protecting group, for example, a monomer containing a functional group represented by formula (I) to (VII) is specifically a polymerizable double bond. A compound containing a bond and containing at least one thiol group,
For example, the thiol group is converted into the functional group of the general formulas (I) to (VII) or the functional group of the general formulas (I) to (VII) is contained according to the method described in the above-mentioned publicly known documents. It can be produced by a method of reacting a compound with a compound containing a polymerizable double bond.
更に具体的には、一般式(I)〜(VII)の官能基を含
有する単量体として以下の様な化合物を挙げることがで
きるが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。More specifically, examples of the monomer having a functional group of the general formulas (I) to (VII) include the following compounds, but the scope of the present invention is not limited thereto. .
又、本発明において、分解してホスホノ基、例えば下記
一般式(VIII)又は(IX)の基を生成する官能基を含有
する樹脂について詳しく説明する。一般式(VIII) 一般式(IX) 式(VIII)において、RBは炭化水素基又は−ZB 2−RB′
(ここでRB′は炭化水素を示し、ZB 2は酸素原子又はイ
オイ原子を示す)を表わす。QB 1は酸素原子又はイオウ
原子を表わす。ZB 1は、酸素原子又はイオウ原子を表わ
す。式(IX)において、QB 2、ZB 3及びZB 4は、各々独立
に酸素原子又はイオウ原子を表わす。 Further, in the present invention, a resin containing a functional group which decomposes to form a phosphono group, for example, a group represented by the following general formula (VIII) or (IX) will be described in detail. General formula (VIII) General formula (IX) In formula (VIII), R B is a hydrocarbon group or —Z B 2 —R B ′.
(Wherein R B ′ represents a hydrocarbon and Z B 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom). Q B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Z B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. In formula (IX), Q B 2 , Z B 3 and Z B 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
好ましくは、RBは置換されていてもよい炭素数1〜12、
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、3
−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、置
換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭素
数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネ
チル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、クロ
ロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族基
(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基、
キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−ZB 2−
RB′(ここでZB 2は、酸素原子又はイオウ原子を表わ
す。RB′は炭化水素基を表わし、具体的には、上記RBの
炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げることでき
る)を表わす。Preferably, R B has 1 to 12 carbon atoms which may be substituted,
Linear or branched alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, 2-methoxyethyl group, 3
-Methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted C7-12 aralkyl group (eg, , A benzyl group, a phenethyl group, a methylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a chlorobenzyl group, etc.) or an aromatic group which may be substituted (eg, a phenyl group, a chlorophenyl group, a tolyl group,
Xylyl group, a methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group), or -Z B 2 -
R B ′ (wherein Z B 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R B ′ represents a hydrocarbon group, and specifically, the substituents described above for the hydrocarbon group of R B are exemplified. Can be listed).
QB 1、QB 2、ZB 1、ZB 3、ZB 4は、各々独立に酸素原子又は
イオウ原子を表わす。Q B 1 , Q B 2 , Z B 1 , Z B 3 , and Z B 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
以上の如き、分解により式(VIII)又は(IX)で示され
るホスホノ基を生成する官能基としては、一般式(X)
及び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。As the functional group which produces the phosphono group represented by the formula (VIII) or (IX) by the decomposition as described above, the general formula (X)
And / or a functional group represented by (XI).
一般式(X) 一般式(XI) 式(X)及び(XI)において、QB 1、QB 2、ZB 1、ZB 3、ZB
4及びRBはそれぞれ式(VIII)及び(IX)で定義した通
りの内容を表わす。General formula (X) General formula (XI) In formulas (X) and (XI), Q B 1 , Q B 2 , Z B 1 , Z B 3 , and Z B
4 and R B have the same meanings as defined in formulas (VIII) and (IX), respectively.
LB 1、LB 2及びLB 3は互いに独立にそれぞれ を表わす。LB 1〜LB 3が を表わす場合において、RB 1、RB 2は、互いに同じでも異
なってもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子、フッ素原子等)又はメチル基を表わす。
XB 1及びXB 2は、電子吸引性置換基を表わし、好ましくは
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子
等)、−CN、−CONH2、−NO2又は−SO2RB″(RB″は、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基等の如き炭化水素基を表わす)を表わす。n
は1又は2を表わす。更に、XB 1がメチル基の場合に
は、RB 1及びRB 2がメチル基でn=1を表わす。L B 1 , L B 2 and L B 3 are independent of each other. Represents L B 1 to L B 3 In the case of, R B 1 and R B 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.) or a methyl group.
X B 1 and X B 2 represent an electron-withdrawing substituent, preferably a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), —CN, —CONH 2 , —NO 2 or —SO 2 R B ″ (R B ″ is
Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group,
Represents a hydrocarbon group such as a mesityl group). n
Represents 1 or 2. Further, when X B 1 is a methyl group, R B 1 and R B 2 are methyl groups and n = 1.
を表わす場合において、RB 3、RB 4及びRB 5は、互いに同
じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換
されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、
メトキシプロピル基等)、置換されていてもよい脂環式
基(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシ
ベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族基(例
えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基,ジクロロフェニル基等)又は−O−RB(RB
は、炭化水素基を表わし、具体的には、上記RB 3、RB 4、
RB 5の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げるこ
とができる)を表わす。 In the case of representing, R B 3 , R B 4 and R B 5 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. Group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group,
Methoxypropyl group etc.), optionally substituted alicyclic group (eg cyclopentyl, cyclohexyl group etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, Methoxybenzyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or —O—R B (R B
Represents a hydrocarbon group, specifically, the above R B 3 , R B 4 ,
The substituents mentioned for the hydrocarbon group of R B 5 can be mentioned as an example).
−RB 10を表わす場合において、RB 6、RB 7、RB 8、RB 9及び
RB 10は、各々独立に炭化水素基を表わす。好ましくは置
換されていてもよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、エチル基、プロ
ピル基、ヘキシル基、t−ブチル基、ヘキサフルオロ−
i−プロピル基等)、置換されていてもよい炭素数7〜
9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、
メチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基等)、置換されても
よい炭素数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、ニトロフェニル基、シアノフェニ
ル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)を表わ
す。 In the case of representing -R B 10 , R B 6 , R B 7 , R B 8 , R B 9 and
R B 10 each independently represents a hydrocarbon group. Preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2- Trifluoroethyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, t-butyl group, hexafluoro-
i-propyl group, etc.), optionally substituted 7 to 7 carbon atoms
9 aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group,
A methylbenzyl group, a trimethylbenzyl group, a heptamethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, etc., and an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group) , Methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
表わす場合において、YB 1及びYB 2は酸素原子又はイオウ
原子を表わす。 When represented, Y B 1 and Y B 2 represent an oxygen atom or a sulfur atom.
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VIII)又は
(IX)の親水性基(ホスホノ基)を高分子反応によって
保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基に
より保護された形の官能基(例えば式(X)又は(XI)
の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれと共
重合し得る他の単量体との重合反応により重合する方法
により製造される。The resin containing at least one functional group used in the present invention has a hydrophilic group (phosphono group) of the above formula (VIII) or (IX) contained in a polymer protected by a protective group by a polymer reaction. Or a functional group previously protected by a protecting group (eg, formula (X) or (XI))
Of the functional group) or a monomer and the other monomer which can be copolymerized with the monomer.
いずれの方法においても、保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的に
は、J.F.W.McOmie,「Protective groups in Organic Ch
emistry」第6章(Plenum Press,1973年刊)の総説引例
の公知文献に記載の方法、あるいは日本化学会編「新実
験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第
2497頁(丸善株式会社刊、1978年)等の総説引例の公知
文献に記載のヒドロキシル基への保護基導入の方法と同
様の合成反応、あるいはS.Patai,「The Chemistry of t
he Triol Group Part2」第13章、第14章(Wiley−Inter
science1974年刊)、T.W.Greene,「Protective groups
in Organic Synthesis」第6章(Wiley−Interscience1
981年刊)等の総説引例の公知文献等に記載のチオール
基への保護基導入の方法と同様の合成反応により製造で
きる。In either method, the same synthetic reaction can be used as the method for introducing the protective group. Specifically, JFWMcOmie, `` Protective groups in Organic Ch
“Emistry” Chapter 6 (Plenum Press, published in 1973), the method described in the literature cited in the reference, or “The New Experimental Chemistry Course, Volume 14, Organic Compound Synthesis and Reaction [V]” edited by the Chemical Society of Japan.
2497 (published by Maruzen Co., Ltd., 1978), a synthetic reaction similar to the method of introducing a protecting group into a hydroxyl group described in a known document of a review reference, or S. Patai, “The Chemistry of t.
he Triol Group Part 2 ”Chapters 13 and 14 (Wiley-Inter
1974), TW Greene, "Protective groups
in Organic Synthesis ”Chapter 6 (Wiley-Interscience1
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method of introducing a protective group into a thiol group described in publicly known documents such as review references cited in 981).
保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(XI)の官
能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具体
的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではな
い。The following examples can be given as specific examples of the compound that can be a repeating unit of the polymerization component containing the functional group of the general formula (X) and / or (XI) used for the protective group. However, the present invention is not limited to these.
次に該分解によりアミノ基、例えば−NH2基及び/又は
−NHRC基を生成する官能基として、例えば下記一般式
(XII)〜(XIV)で表わされる基を挙げることができ
る。 Next, examples of the functional group that produces an amino group such as an —NH 2 group and / or an —NHR C group by the decomposition include groups represented by the following general formulas (XII) to (XIV).
一般式(XII) 一般式(XIII) 一般式(XIV) 式(XII)及び式(XIV)中、RC 0は各々、水素原子、炭
素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、
2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、2−エト
キシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−
メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等)、炭素
数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル基、クロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベンジル基、
メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
いアリール基(例えばフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クロロメチル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、エトキシフェニル基、クロロメトキシフェニル
基等)等を表わす。General formula (XII) General formula (XIII) General formula (XIV) In formulas (XII) and (XIV), R C 0 is each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group). , Octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group,
2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-
Methoxypropyl group, 6-chlorohexyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl) Group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, 1-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group,
Methylbenzyl group, etc.), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, phenyl group, chlorophenyl group,
Dichlorophenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chloromethyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group and the like).
好ましくはRC 0が該炭化水素基を表わす場合は、炭素数
1〜8の炭化水素基類が挙げられる。When R C 0 preferably represents the hydrocarbon group, hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms can be mentioned.
式(XII)で表わされる官能基において、RC 1は炭素数2
〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし、更に具体的
にはRC 1は下記式(XV)で示される基を表わす。In the functional group represented by the formula (XII), R C 1 has 2 carbon atoms.
To C 12 represent an optionally substituted aliphatic group, and more specifically, R C 1 represents a group represented by the following formula (XV).
式(XV) 式(XV)中、a1,a2は各々水素原子、ハロゲン原子(例
えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12の置換さ
れてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメチル基、
エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−クロロ
エチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、
メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジクロロ
フェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル基等)
を表わし、YCは、水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素
原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例えばフェ
ニル、トリル基、シアノフェニル基、2,6−ジメチルフ
ェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ヘプタメチ
ルフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、2,4,6−ト
リメトキシフェニル基、2−プロピルフェニル基、2−
ブチルフェニル基、2−クロロ−6−メチルフェニル
基、フラニル基等)又は−SO2−RC 6(RC 6は、YCの炭化
水素基と同様の内容を表わす)等を表わす。nは1又は
2を表わす。Expression (XV) In formula (XV), a 1 and a 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom or the like) or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, Propyl group, butyl group, hexyl group, methoxymethyl group,
Ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group,
Benzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group,
(Methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.)
The stands, Y C is a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. fluorine atom, a chlorine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), substituted An aromatic group which may contain a group (for example, phenyl, tolyl group, cyanophenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2,6-dimethoxyphenyl group Group, 2,4,6-trimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group, 2-
Butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.) or —SO 2 —R C 6 (R C 6 has the same meaning as the hydrocarbon group of Y C ) and the like. n represents 1 or 2.
より好ましくは、YCが水素原子又はアルキル基の場合に
は、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa1及び
a2は、水素原子以外の置換基を表わす。More preferably, when Y C is a hydrogen atom or an alkyl group, a 1 on the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond and
a 2 represents a substituent other than a hydrogen atom.
YCが水素原子又はアルキル基でない場合にはa1及びa2は
上記内容のいずれの基でもよい。When Y C is not a hydrogen atom or an alkyl group, a 1 and a 2 may be any of the groups described above.
即ち、 において、少なくとも1つ以上の電子吸引性基を含有す
る基を形成する場合あるいはウレタン結合の酸素原子に
隣接する炭素が立体的にかさ高い基を形成する場合が好
ましい例であることを示すものである。That is, In the above, it is shown that the case where a group containing at least one or more electron-withdrawing groups is formed or the case where the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group is a preferable example. is there.
又は具体的に、RC 1は脂環式基{例えば単環式炭化水素
基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシル
基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化水
素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビシ
クロノナン基、トリシクロヘプタン基等)等}を表わ
す。Or specifically, R C 1 is an alicyclic group (for example, a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclobutyl group, etc.)) Or a crosslinked cyclic hydrocarbon group (bicyclooctane group, bicyclooctene group, bicyclononane group, tricycloheptane group, etc.)}.
一般式(XIII)において、RC 2及びRC 3は同じでも異なっ
ていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水素基を表わ
し、具体的には、式(XII)のYCにおける脂肪族基又は
芳香族基と同様の内容を表わす。In the general formula (XIII), R C 2 and R C 3 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, specifically, a fat in Y C of the formula (XII). It has the same meaning as the group or aromatic group.
一般式(XIV)において、XC 1及びXC 2は同じでも異なっ
ていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を表わす。
RC 4,RC 5は同じでも異なっていてもよく、各々炭素数1
〜8の炭化水素基を表わし、具体的には式(XII)のYC
における脂肪族基又は芳香族基を表わす。In the general formula (XIV), X C 1 and X C 2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom.
R C 4 and R C 5 may be the same or different and each has 1 carbon atom.
~ 8 hydrocarbon groups, specifically Y C of formula (XII)
Represents an aliphatic group or an aromatic group.
式(XII)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示すが本
発明はこれらに限定されるものではない。Specific examples of the functional groups of the formulas (XII) to (XIV) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(81) −NHCOOCH2CF3 (82) −NHCOOCH2CCl3 本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば−NH2
基及び/又は−NHRC基)を生成する官能基、例えば上記
一般式(XII)〜(XIV)の群から選択される官能基を少
なくとも1種含有する樹脂は、例えば、日本化学編、
「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応
〔V〕」第2555頁(丸善株式会社刊)、J.F.W.McOmie、
「Protective groups in Organic Chemistry」第2章
(Plenum Press1973年刊)、「Protective groups in O
rganic Sinthesis」第7章(John Wiley&Sons、1981
刊)等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造す
ることができる。 (81) -NHCOOCH 2 CF 3 (82) -NHCOOCH 2 CCl 3 By the decomposition used in the present invention, an amino group (for example, --NH 2
Group and / or -NHR C group) -containing functional group, for example, a resin containing at least one functional group selected from the group of the above general formulas (XII) to (XIV) is, for example, edited by Nippon Kagaku,
"New Experimental Chemistry Course, Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [V]", page 2555 (published by Maruzen Co., Ltd.), JFWMcOmie,
"Protective groups in Organic Chemistry" Chapter 2 (Plenum Press, 1973), "Protective groups in O"
rganic Sinthesis ”Chapter 7 (John Wiley & Sons, 1981
It can be produced by a method described in a publicly known document such as a general reference.
重合体中の一般式(XII)〜(XIV)の官能基を任意に調
整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこと等の
理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の官能基を含有
する単量体からの重合反応により製造する方法が好まし
い。具体的には、重合性の二重結合を含む1級又は2級
アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載された方法に
従って、そのアミノ基を一般式(XII)〜(XIV)の官能
基に変換した後、重合反応を行ない製造することができ
る。Since the functional groups of the general formulas (XII) to (XIV) in the polymer can be arbitrarily adjusted or the impurities are not mixed, the functional groups of the general formulas (XII) to (XIV) are previously prepared. A method of producing by a polymerization reaction from the contained monomer is preferable. Specifically, a primary or secondary amino group containing a polymerizable double bond is converted into a functional group of the general formulas (XII) to (XIV) by, for example, the method described in the above-mentioned publicly known documents. After the conversion into a polymer, a polymerization reaction can be carried out to produce the product.
更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、一般式(XVI)又は(XVII
I)で表わされる官能基が挙げられる。Further, as the functional group which forms at least one sulfo group by the decomposition, for example, a general formula (XVI) or (XVII
The functional group represented by I) may be mentioned.
一般式(XVI) −SO2−O−RD 1 一般式(XVIII) −SO2−O−RD 2 式(XVI)中、RD 1は 又は−NHCORD 7を表わす。Formula (XVI) -SO 2 -O-R D 1 formula (XVIII) -SO 2 -O-R D 2 expression in (XVI), R D 1 is Or represents -NHCOR D 7 .
式(XVIII)中、RD 2は、炭素数1〜18の置換されてもよ
い脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有してもよい
アリール基を表わす。In formula (XVIII), R D 2 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms and optionally having a substituent.
上記一般式(XVI)、(XVIII)の官能基は、分解によっ
て、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳しく
説明する。The functional groups represented by the general formulas (XVI) and (XVIII) generate a sulfo group by decomposition, and will be described in more detail below.
RD 1が を表わす場合において、RD 3、RD 4は同じでも異なっても
よく水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原
子、臭素原子等)又は炭素数1〜6のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換
されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリ
フロロメチル基、メタンスルホニルメチル基、シアノメ
チル基、2−メトキシエチル基、エトキシメチル基、ク
ロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−プロポキシ
カルボニルエチル基、メチルチオメチル基、エチルチオ
メチル基等)、炭素数2〜18の置換されてもよいアルケ
ニル基(例えばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12
の置換基を含有してもよいアリール基(例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、トリフロロメチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、ベンゼン
スルホニルフェニル基、トリル基、キシリル基、アセト
キシフェニル基、ニトロナフチル基等)、又は (RD 8は、脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的にはY
Dで記した該置換基の内容と同一のものを表わす)を表
わす。nは0、1又は2を表わす。より好ましくは、 において、少なくとも1つの電子吸引性基を含有する官
能基が挙げられる。具体的には、nが0で、YDが置換基
として電子吸引性基を含有しない炭化水素基の場合、 において、少なくとも1ヶ以上のハロゲン原子を含有す
る。又nが0、1又は2で、YDが電子吸引性基を少なく
とも1つ含有する。更には、nが1又は2でYDが 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−、 −SO2−、−CN、−NO2等が挙げられる。R D 1 In the case of representing, R D 3 and R D 4 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group). Y is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group, 2-methoxyethyl group, ethoxymethyl group, chloromethyl group , A dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-propoxycarbonylethyl group, a methylthiomethyl group, an ethylthiomethyl group, etc.), an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl. Group, allyl group, etc.), carbon number 6-12
An aryl group which may contain a substituent (for example, phenyl group, naphthyl group, nitrophenyl group, dinitrophenyl group, cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, methanesulfonyl group Phenyl group, benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group, etc.), or (R D 8 represents an aliphatic group or an aromatic group, specifically, Y
Represents the same as the content of the substituent described in D ). n represents 0, 1 or 2. More preferably, In, a functional group containing at least one electron-withdrawing group can be mentioned. Specifically, when n is 0 and Y D is a hydrocarbon group containing no electron withdrawing group as a substituent, In, at least one halogen atom is contained. Further, n is 0, 1 or 2, and Y D contains at least one electron-attracting group. Furthermore, n is 1 or 2 and Y D is Etc. The electron-withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant, for example, a halogen atom, -COO-, -SO 2 -, - CN, -NO 2 , and the like.
もう1つの好ましい置換基として、−SO2−O−RDにお
いて酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも2つの炭
化水素基が置換するかあるいは、n=0又は1で、YDが
アリール基の場合に、アリール基の2−位及び6−位に
置換基を有する場合が挙げられる。As another preferred substituent, at least two hydrocarbon groups are substituted on the carbon atom adjacent to the oxygen atom in —SO 2 —O—R D , or n = 0 or 1 and Y D is an aryl group. In this case, the case where the aryl group has a substituent at the 2-position and the 6-position is exemplified.
を表わす場合において、ZDは、環状イミド基を形成する
有機残基を表わす。好ましくは、一般式(XVIII)又は
(XIX)で示される有機残基を表わす。 In the case of representing, Z D represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by the general formula (XVIII) or (XIX).
一般式(XVIII) 一般式(XIX) 式(XVIII)中、RD 9、RD 10は各々同じでも異なってもよ
く、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、3
−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル)エチル
基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)、炭素数7
〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジ
ル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチル
ベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、炭素数
3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えばアリル
基、3−メチル−2−プロペニル基)、 を表わす場合において、RD 5、RD 6は各々水素原子、脂肪
族基(具体的には、RD 3、RD 4のそれは同一の内容を表わ
す)又はアリール基(具体的にはRD 3、RD 4のそれと同一
の内容を表わす)を表わす。但しRD 5及びRD 6がともに水
素原子を表わすことはない。General formula (XVIII) General formula (XIX) In formula (XVIII), R D 9 and R D 10 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
Bromine atom etc.), alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group) , 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3
-Chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.), carbon number 7
To 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), carbon number 3 To 18 optionally substituted alkenyl groups (eg, allyl group, 3-methyl-2-propenyl group), R D 5 and R D 6 are each a hydrogen atom, an aliphatic group (specifically, R D 3 and R D 4 have the same meanings), or an aryl group (specifically R D 5 and R D 6 ). D 3 has the same content as that of R D 4 . However, neither R D 5 nor R D 6 represents a hydrogen atom.
RD 1が−NHCORD 7を表わす場合において、RD 7は脂肪族基
又はアリール基を表わし、具体的には、RD 3、RD 4のそれ
は同一の内容を各々表わす。When R D 1 represents —NHCOR D 7 , R D 7 represents an aliphatic group or an aryl group, and specifically, R D 3 and R D 4 each have the same content.
式(XVII)中、RD 2は、炭素数1〜18の置換されてもよ
い脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有してもよいア
リール基を表わす。In the formula (XVII), R D 2 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.
更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYDにお
ける脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす。More specifically, it has the same contents as the aliphatic group or aryl group in Y D represented by formula (XVI).
本発明に用いられる、一般式〔−SO2−O−RD 1〕又は
〔−SO2−O−RD 2〕群から選択される官能基を少なくと
も1種含有する樹脂は、重合体に含有されるスルホ基
を、高分子反応によって一般式(XVI)又は(XVIII)の
官能基に変換する方法、又は、一般式(XVI)又は(XVI
II)の官能基を1種又はそれ以上含有する、1種又はそ
れ以上の単量体又は該単量体及びこれと共重合し得る他
の単量体の重合反応により重合する方法により製造され
る。Used in the present invention, the general formula [-SO 2 -O-R D 1] or resin containing at least one functional group selected from [-SO 2 -O-R D 2] group, the polymer A method of converting the contained sulfo group into a functional group of the general formula (XVI) or (XVIII) by a polymer reaction, or a method of converting the functional group of the general formula (XVI) or (XVI
II) prepared by a method of polymerizing by a polymerization reaction of one or more monomers containing one or more functional groups or one or more monomers or other monomers copolymerizable therewith It
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。The method of converting the functional group by the polymer reaction can be performed in the polymer reaction in the same manner as the method of synthesizing the monomer.
更に具体的に一般式(XVI)−SO2−O−RD 1又は一般式
(XVIII)−SO2−O−RD 2の官能基として以下の様な例
を挙げることができるが、本発明の範囲はこれらに限定
されるものではない。Can further include the following as an example as specifically formula (XVI) -SO 2 -O-R D 1 or the general formula (XVIII) -SO 2 -O-R D 2 functional groups, the The scope of the invention is not limited to these.
(108) −SO2OCH2CF3 (110) −SO2OCH2(CHF)2CH2F (111) −SO2OCH2CCl3 (113) −SO2O(CH2)2SO2C4H9 (123) −SO2O(CH2)2SO2C2H5 (124) −SO2SC4H9 (125) −SO2SC6H13 (126) −SO2S(CH2)2OC2H5 (128) −SO2OCH2CHFCH2F 前記した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法に
おいて用いられる一般式(I)〜(VII)、(X)〜(X
IV)、(XVI)及び(XVIII)の官能基を含有する共重合
体成分について更に具体的に述べると、例えば下記一般
式〔A〕の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合
体成分例に限定されるものではない。 (108) −SO 2 OCH 2 CF 3 (110) -SO 2 OCH 2 (CHF) 2 CH 2 F (111) -SO 2 OCH 2 CCl 3 (113) −SO 2 O (CH 2 ) 2 SO 2 C 4 H 9 (123) -SO 2 O (CH 2) 2 SO 2 C 2 H 5 (124) -SO 2 SC 4 H 9 (125) -SO 2 SC 6 H 13 (126) -SO 2 S (CH 2) 2 OC 2 H 5 (128) −SO 2 OCH 2 CHFCH 2 F As described above, the compounds represented by the general formulas (I) to (VII) and (X) to (X) used in the method for producing a desired resin by a polymerization reaction are used.
The copolymer component containing the functional groups IV), (XVI) and (XVIII) will be described more specifically. Examples thereof include components represented by the following general formula [A]. However, the copolymer components are not limited to these examples.
一般式(A) 式(A)中、X′は、−O−,−CO−,−COO−,−OCO
−, −SO2−, −CH2COO−,−CH2OCO−, 芳香族基、又はヘテロ環基を示す〔但し、Q1,Q2,Q3,Q4
は、各々水素原子,炭化水素基,又は式(VI)中の
Y′−W〕を表わし、b1,b2は同じでも異なっていても
よく、水素原子,炭化水素基又は式(VI)中のY′−
W)を表わし、nは0〜18の整数を示す〕。General formula (A) In the formula (A), X ′ represents —O—, —CO—, —COO—, —OCO.
-, -SO 2 -, -CH 2 COO -, - CH 2 OCO-, Indicates an aromatic group or a heterocyclic group (provided that Q 1 , Q 2 , Q 3 , Q 4
Each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or Y'-W] in formula (VI), b 1 and b 2 may be the same or different, and a hydrogen atom, a hydrocarbon group or formula (VI) Y'- in
W), and n represents an integer of 0 to 18].
Y′は、結合基X′と結合基〔W〕を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わし(ヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 例えば CH=CH,−O−,−S−, −COO−,−CONH−,−SO2−,−SO2NH−,−NHCOO−,
−NHCONH−,等の結合単位の単独又は組合せの構成より
成るものである(但しb3,b4,b5は、各々前記b1,b2と同
義である。) Wは式(I)〜(VII)、(X)〜(XIV)、(XVI)又
は(XVII)で表わされる官能基を表わす。Y'represents a carbon-carbon bond which connects the bonding group X'and the bonding group [W], and which may be through a hetero atom (the hetero atom represents an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom), For example CH = CH, -O-, -S-, -COO -, - CONH -, - SO 2 -, - SO 2 NH -, - NHCOO-,
-NHCONH-, which has the constitution alone or in combination of binding units equal (although b 3, b 4, b 5 are each the same meaning as the b 1, b 2.) W is formula (I) To (VII), (X) to (XIV), (XVI) or (XVII).
a1,a2は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、
炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニル
メチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカル
ボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜12の
アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基等のアリール基)、又は式(A)中の−W基を含む
置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18のアルキ
ル基,アキル基,アルケニル基,アラルキル基、脂環式
基、芳香族基を示す)を表わす。a 1 and a 2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group,
Hydrocarbon group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxy A carbonylmethyl group, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group, a phenyl group, a tolyl group, an xylyl group, an aryl group such as a chlorophenyl group) or a formula ( A) represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aromatic group, which may be substituted with a substituent containing a -W group. .
又、式(A)中の〔−X′−Y′〕結合残基は と−W部を直接連結させてもよい。In addition, the [-X'-Y '] bond residue in the formula (A) is And the -W portion may be directly connected.
これらの本発明の共重合体成分とともに、共重合し得る
他の共重合体成分としては、それらに相当する単量体と
してその例を挙げれば、例えば、酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸ア
リル等の如き脂肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエ
ステル類、アクリル酸、メタクリル酸、ストロン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマール酸等の如く不飽和カル
ボン酸及びこれらの不飽和カルボン酸のエステル類又は
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニルピロリド
ンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙げられ
る。Along with these copolymer components of the present invention, other copolymer components that can be copolymerized include, for example, the corresponding monomers, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, Aliphatic carboxylic acids such as allyl acetate and allyl propionate or allyl esters, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, stronic acid, itaconic acid, maleic acid and fumaric acid, and unsaturated carboxylic acids thereof. And styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene and α-methylstyrene, α-olefins, vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile and N-vinylpyrrolidone.
本発明の樹脂は更に、直描型平版印刷用原版において、
少なくともその一部分が架橋されていることを特徴とす
る。The resin of the present invention is further used in a direct drawing type lithographic printing plate precursor,
It is characterized in that at least a part thereof is crosslinked.
かかる樹脂としては、製版工程における感光層形成物塗
布時に予め架橋されている樹脂を用いてもよいし、ある
いは、熱及び/又は光で硬化反応を起こすような架橋性
官能基を含有する樹脂を用いて平版印刷用原版製造工程
中(例えば乾燥工程中)に架橋させてもよい。更にこれ
らを併用してもよい。As such a resin, a resin which has been cross-linked in advance at the time of applying the photosensitive layer forming material in the plate making process may be used, or a resin containing a cross-linkable functional group which causes a curing reaction with heat and / or light. It may be used for crosslinking during the process of producing the lithographic printing plate precursor (for example, during the drying process). Further, these may be used in combination.
重合体の一部分が、予め架橋された樹脂(重合体中に架
橋構造を有する樹脂)を結着樹脂として用いる場合に
は、該樹脂中に含有される前記のチオール基、ホスホノ
基、アミノ基及び/他はスルホ基の親水性基を生成する
官能基が分解により該親水性基を生成したときに、酸性
及びアルカリ性の水溶液に対して難溶もしくは不溶性で
ある樹脂が好ましい。When a part of the polymer uses a pre-crosslinked resin (a resin having a crosslinked structure in the polymer) as a binder resin, the thiol group, phosphono group, amino group and In addition to the above, a resin that is hardly soluble or insoluble in an acidic or alkaline aqueous solution when a functional group that produces a hydrophilic group of a sulfo group produces the hydrophilic group by decomposition is preferable.
具体的には、蒸留水に対する溶解度が20〜25℃の温度に
おいて好ましくは90重量%以下、より好ましくは70重量
%以下の溶解性を示すものである。Specifically, it has a solubility in distilled water of preferably 20% by weight or less, more preferably 70% by weight or less at a temperature of 20 to 25 ° C.
重合体中に架橋構造を導入する方法としては、通常知ら
れている方法を利用することができる。即ち、単量体の
重合反応において、多官能性単量体を共存させて重合す
る方法及び重合体中に、架橋反応を進行する官能基を含
有させ高分子反応で架橋する方法である。As a method for introducing a crosslinked structure into the polymer, a generally known method can be used. That is, in the polymerization reaction of monomers, there are a method in which a polyfunctional monomer is allowed to coexist for polymerization, and a method in which a polymer contains a functional group that promotes a crosslinking reaction and is crosslinked by a polymer reaction.
本発明の樹脂が、画像受理特性を損なわないこと、ある
いは製造方法が簡便なこと(例えば、長時間の反応を要
する、反応が定量的でない、反応促進助剤を用いる等で
不純物が混入する等)等から、自己橋かけ反応を有する
官能基:−CONHCH2OR′(R′は水素原子又はアルキル
基)あるいは、重合による橋かけ反応が有効である。The resin of the present invention does not impair the image receiving property, or the manufacturing method is simple (for example, a long reaction time is required, the reaction is not quantitative, impurities are mixed by using a reaction accelerating aid, etc.) ) Etc., a functional group having a self-crosslinking reaction: —CONHCH 2 OR ′ (R ′ is a hydrogen atom or an alkyl group) or a crosslinking reaction by polymerization is effective.
重合反応性基において、好ましくは、重合性官能基を2
個以上有する単量体を本発明の分解により親水性基を生
成する官能基を含有する単量体とともに重合する方法、
あるいは、該重合性官能基を2個以上有する単量体を親
水性基を含有する単量体とともに重合して共重合体とし
た後、前記した様に親水性基を保護する方法によって、
本発明の樹脂を製造することができる。In the polymerization-reactive group, preferably, the polymerizable functional group is 2
A method of polymerizing a monomer having at least one together with a monomer containing a functional group that produces a hydrophilic group by the decomposition of the present invention,
Alternatively, by polymerizing a monomer having two or more polymerizable functional groups together with a monomer containing a hydrophilic group into a copolymer, and then protecting the hydrophilic group as described above,
The resin of the present invention can be manufactured.
重合性官能基として具体的に、CH2=CH−、CH2=CH−CH
2−、 CH2=CH−CONH−、 CH2=CH−NHCO−、CH2=CH−CH2−NHCO−、 CH2=CH−SO2−、CH2=CH−CO−、 CH2=CH−O−、CH2=CH−S−、等を挙げることができ
るが、上記の重合性官能基を2個以上有する単量体は、
これらの重合性官能基を同一のものあるいは異なったも
のを2個以上有した単量体であればよく、重合によって
非水溶剤に不溶な重合体を形成する。Specifically as the polymerizable functional group, CH 2 = CH-, CH 2 = CH-CH
2- , CH 2 = CH-CONH-, CH 2 = CH-NHCO-, CH 2 = CH-CH 2 -NHCO-, CH 2 = CH-SO 2 -, CH 2 = CH-CO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = CH-S -, Etc. can be mentioned, but the monomer having two or more polymerizable functional groups is
Any monomer may be used as long as it has two or more of the same or different polymerizable functional groups, and a polymer insoluble in a non-aqueous solvent is formed by polymerization.
重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、#400、#600、1,3−ブチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
ど)又は、ポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキ
ノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)
のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル
類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸
(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸、
等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルア
ミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチレ
ンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレン
ジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸(例え
ば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酢
酸等)との縮合体などが挙げられる。Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, a monomer having the same polymerizable functional group as a styrene derivative such as divinylbenzene or trivinylbenzene: a polyhydric alcohol (for example, ethylene. Glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 200, # 400, # 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.) or , Polyhydroxyphenols (eg hydroquinone, resorcin, catechol and their derivatives)
Methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (for example, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid,
Etc.) vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups (eg methacrylic acid) , Acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.) and the like.
又、異なる重合性官能基を有する単量体として、例え
ば、ビニル基を含有するカルボン酸〔例えば、メタクリ
ル酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル
酢酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロ
ピオン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピ
オン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反
応体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、ア
リルオキシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニ
ル安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸、
等)等〕のビニル基を含有したエステル誘導体又はアミ
ド誘導体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビ
ニル、イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリ
ル酸アリル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビ
ニル、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロ
イルプロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカ
ルボニルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカル
ボニルメチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−
アリルアクリルアミド、N−アリルメタクリルアミド、
N−アリルイタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオ
ン酸アリルアミド、等)、又は、アミノアルコール類
(例えばアミノエタノール、1−アミノプパノール、1
−アミノブタノール、1−アミノヘキサノール、2−ア
ミノブタノール等)と、ビニル基を含有したカルボン酸
の縮合体などが挙げられる。Further, as a monomer having a different polymerizable functional group, for example, a carboxylic acid containing a vinyl group [for example, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, acryloyl propionic acid, itaconiloyl acetic acid, itaconic acid Niloylpropionic acid, a reaction product of an alcohol or an amine with a carboxylic acid anhydride (for example, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropionic acid,
Etc.] etc.] or a vinyl group-containing ester derivative or amide derivative (for example, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate). , Allyl methacryloylpropionate, vinyloxycarbonylmethyl methacrylate, vinyloxycarbonylmethyloxycarbonylethylene acrylate, N-
Allyl acrylamide, N-allyl methacrylamide,
N-allylitaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allylamide, etc., or amino alcohols (eg, amino ethanol, 1-amino propanol, 1
-Aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a vinyl group-containing carboxylic acid condensate.
本発明に用いられる2個以上の重合性官能基を有する単
量体は、全単量体の10モル%以下、好ましくは5モル%
以下用いて重合し、樹脂を形成する。The monomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is 10 mol% or less, preferably 5 mol% of the total monomers.
The following is used to polymerize to form a resin.
一方、本発明においては、前記の親水性基生成官能基と
ともに熱及び/又は光で硬化反応を起こす架橋性官能基
を含有する樹脂を結着剤として用いて、その後の原版製
造工程において架橋構造が形成されてもよい。On the other hand, in the present invention, a resin containing a crosslinkable functional group that undergoes a curing reaction with heat and / or light together with the above-mentioned hydrophilic group-forming functional group is used as a binder, and a crosslinked structure is formed in the subsequent master plate manufacturing process. May be formed.
該官能基は、分子間で化学反応を生じ化学結合を形成し
得るものであればいずれでもよい。即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。具体的には、解離性の水素原子を
有する官能基〔(例えば−COOH基、−PO3H2基、 (▲R″ 1▼はR1〜3で示される炭化水素基と同一の内
容の基又は▲−OR 1▼基(▲R 1▼は▲R″ 1▼の
基と同一の内容)を表わす)、−OH基、−SH基、−NH・
▲R″ 2▼基(▲R″ 2▼は、水素原子又はメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4のア
ルキル基を表わす)〕と −NCO、−NCS、環状ジカルホン酸無水物との群から各々
選ばれた官能基の組合せを少なくとも1組含有する場合
あるいは、−CONHCH2OR″3(R″3は水素原子又はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
等の炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は重合性二
重結合基等が挙げられる。The functional group causes a chemical reaction between molecules to form a chemical bond.
Any may be used as long as it can be obtained. That is, condensation reaction
Cross-linking between molecules due to addition reaction or polymerization reaction
The reaction mode in which a bridge is generated by heat and / or light is used.
Can be used. Specifically, dissociative hydrogen atom
Having a functional group [(eg, --COOH group, --PO3H2Base,(▲ R″ 1▼ is R1~ThreeWithin the same hydrocarbon group represented by
Yoji or ▲ -OR 1▼ group (▲ R 1▼ is ▲ R″ 1▼
Group)), --OH group, --SH group, --NH.
▲ R″ Two▼ group (▲ R″ Two▼ is a hydrogen atom or a methyl group,
C1-C4 alkyl groups such as ethyl, propyl and butyl groups
Represents a rukyi group)] and -NCO, -NCS, cyclic dicarphonic anhydride and each group
When containing at least one selected combination of functional groups
Alternatively, -CONHCH2OR ″Three(R ″ThreeIs a hydrogen atom or
Cyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group
Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) or a polymerizable group
A heavy bond group etc. are mentioned.
該重合性二重結合基として具体的には、前記の重合性官
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。Specific examples of the polymerizable double bond group include those mentioned above as specific examples of the polymerizable functional group.
更には、例えば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精密化」
(C.M.C(株)、1986年刊)、原崎勇次、「最新バイン
ダー技術便覧」第II−1章(総合技術センター、1985年
刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」(中部経営開発センター出版部、1985年刊)、大森
英三「機能性アクリル系樹脂」(テクノシステム1985年
刊)乾英夫、永松元太郎、「感光性高分子」(講談社、
1977年刊)、角田隆弘、「新・感光性樹脂」(印刷学会
出版部、1981年刊)、G.E.Green and,B.P.Star R,J.Mac
ro.Sci Revs Macro.Chem.,C21(2),187〜273(1981〜
82),C.G.Roffey,「Photopolymerization of SurfaceCo
atings」(A.Wiley Interscience Pub.1982年刊)等の
総説に引例された官能基・化合物等を用いることができ
る。For example, Takeshi Endo, "Refinement of thermosetting polymers"
(CMC Corporation, published in 1986), Yuji Harazaki, "Latest Binder Technology Handbook" Chapter II-1 (General Technology Center, published in 1985), Takayuki Otsu "Synthesis and design of acrylic resin and new application development" (Chubu Management) Development Center Press, 1985), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" (Techno System 1985) Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, "Photosensitive Polymer" (Kodansha,
1977), Takahiro Tsunoda, "New Photosensitive Resin" (Publishing Society of Japan, 1981), GEGreen and, BPStar R, J.Mac
ro.Sci Revs Macro.Chem., C21 (2), 187-273 (1981-
82), CGRoffey, “Photopolymerization of SurfaceCo
The functional groups / compounds and the like cited in the review articles such as "atings" (A.Wiley Interscience Pub. 1982) can be used.
これらの架橋性官能基は、親水性基生成官能基ととも
に、一つの共重合体成分中に含有されていてもよいし、
親水性基生成官能基を含有する共重合体成分とは別個の
共重合体成分中に含有されていてもよい。These crosslinkable functional groups may be contained in one copolymer component together with the hydrophilic group-forming functional group,
It may be contained in a copolymer component separate from the copolymer component containing the hydrophilic group-forming functional group.
これらの架橋性官能基を含有する共重合体成分に相当す
る単量体の具体的なものとしては、例えば、前記一般式
(A)と共重合し得る該官能基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。Specific examples of the monomer corresponding to the copolymer component containing the crosslinkable functional group include, for example, vinyl compounds containing the functional group that can be copolymerized with the general formula (A). Any one will do.
例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック
〔基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリ
ブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブ
ロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロ
ロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エ
ステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−ア
ルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メ
チル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−
2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マ
レイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミ
ド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該架橋性官能基を含有す
る化合物等が挙げられる。For example, it is described in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]", edited by Japan Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro form Body, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (for example, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid). , 4-methyl-
2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids And a compound having a crosslinkable functional group in the substituent of the carboxylic acid or sulfonic acid ester derivative, amide derivative, or the like.
本発明の樹脂における「架橋性官能基を含有する共重合
体成分」の割合は、該樹脂中好ましくは1〜80重量%で
ある。より好ましくは、5〜50重量%である。The ratio of the "copolymer component containing a crosslinkable functional group" in the resin of the present invention is preferably 1 to 80% by weight in the resin. More preferably, it is 5 to 50% by weight.
かかる樹脂には、架橋反応を促進させるために、必要に
応じて、反応促進剤を添加してもよい。例えば、酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、P−ト
ルエンスルホン酸等)、過酸化物、アゾビス系化合物、
架橋剤、増感剤、光重合性単量体等が挙げられる。具体
的には、架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金子
東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に
記載されている化合物等を用いることができる。例え
ば、通常用いられる、有機シラン、ポリウレタン、ポリ
イソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラミン
樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。If necessary, a reaction accelerator may be added to the resin in order to accelerate the crosslinking reaction. For example, acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, P-toluenesulfonic acid, etc.), peroxides, azobis compounds,
Examples thereof include a crosslinking agent, a sensitizer, and a photopolymerizable monomer. Specifically, as the cross-linking agent, specifically, compounds described in “Cross-linking agent handbook” edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha Co., Ltd. (1981) can be used. For example, a commonly used crosslinking agent such as organic silane, polyurethane or polyisocyanate, or a curing agent such as epoxy resin or melamine resin can be used.
光架橋反応性の官能基を含有する場合には、前記した感
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。In the case of containing a photocrosslinking-reactive functional group, the compounds cited in the above-mentioned review article on the photosensitive resin can be used.
架橋性官能基を含有する樹脂を用いた場合には、重合体
の少なくとも一部における架橋は画像受理層を形成する
過程あるいはエッチング処理前の加熱及び/又は光照射
の過程等で行なわれ得る。通常は、熱硬化処理を行なう
のが好ましい。この熱硬化処理は従来の感光体作製時の
乾燥条件を厳しくすることにより行うことができる。例
えば、60℃〜120℃で5分〜120分間処理すればよい。上
述の反応促進剤を併用すると、より穏かな条件で処理す
ることが可能となる。When a resin containing a crosslinkable functional group is used, at least a part of the polymer can be crosslinked in the process of forming the image receiving layer or the process of heating and / or light irradiation before the etching treatment. Usually, it is preferable to carry out a heat curing treatment. This heat curing treatment can be performed by tightening the drying conditions in the conventional production of a photoreceptor. For example, the treatment may be performed at 60 ° C. to 120 ° C. for 5 minutes to 120 minutes. When the above reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under more mild conditions.
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹
脂、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹
脂、スチレン−ブタジエン樹脂、アクリル樹脂等があげ
られ、具体的には、栗田隆治・石渡次郎、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、イメー
ジング、1973(No.8)第9頁等の総説引例の公知材料等
が挙げられる。Conventionally known resins can be used together with the resin used in the present invention. Examples thereof include silicone resins, alkyd resins, vinyl acetate resins, polyester resins, styrene-butadiene resins, acrylic resins, etc. as described above, and specifically, Ryuji Kurita and Jiro Ishiwatari, Polymer, No. 17
Volume, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8) p. 9, etc.
本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。An inorganic pigment is used as another component of the image receiving layer of the present invention, and examples of the inorganic pigment include kaolin clay,
Examples thereof include calcium carbonate, silica, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate and alumina.
画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0.5〜5)、好ましくは1/(0.8〜2.5)程度が適
当である。The ratio of the binder resin / pigment in the image receiving layer varies depending on the type of material and the particle size in the case of the pigment, but is generally 1 / (0.5 to 5), preferably 1 / (0.8 to 2.5) by weight. Is appropriate.
その他画像受理層には、膜強度をより向上させるために
架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、有機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等
に記載されている。In addition, a crosslinking agent may be added to the image receiving layer in order to further improve the film strength. As the cross-linking agent, commonly used ammonium chloride, organic peroxide, metal soap, organic silane, polyurethane cross-linking agent, epoxy resin curing agent and the like can be used. Specifically, it is described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981).
本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。Examples of the support used in the present invention include high-quality paper, wet-strength paper, plastic films such as polyester films, and metal plates such as aluminum plates.
本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。In the present invention, an intermediate layer is provided between the support and the image receiving layer for the purpose of improving water resistance and interlayer adhesion, and a back coat layer is provided on the side of the support opposite to the image receiving layer for curling prevention. You can
ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン〜ブタジエン共
重合体、メタアクリル酸エステル〜ブタジエン共重合
体、アクリロニトリル〜ブタジエン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキ
シ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等
の少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応
じて無機顔料や耐水化剤を添加することができる。Here, the intermediate layer is an emulsion resin such as an acrylic resin, a styrene-butadiene copolymer, a methacrylic acid ester-butadiene copolymer, an acrylonitrile-butadiene copolymer, an ethylene-vinyl acetate copolymer; an epoxy resin, a polyvinyl butyral. Solvent-based resins such as polyvinyl chloride, polyvinyl acetate; at least one of the above-mentioned water-soluble resins, etc., as a main component, but if necessary, an inorganic pigment or a waterproofing agent should be added. You can
バックコート層の構成も中間層とほぼ同様である。The structure of the back coat layer is almost the same as that of the intermediate layer.
PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原板
の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての体
積固有抵抗が1010〜1013Ωcmとなるように、更に画像受
理層、中間層及び/又はバックコート層に誘電剤を添加
することができる。誘電剤としては無機系のものでも有
機系のものでもよく、無機系のものではNa、K、Li、M
g、Zn、Co、Ni等の1価又は多価金属の塩が、また有機
系のものではポリビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、アクリル樹脂変性四級アンモニウム塩等
の高分子カチオン導電剤や高分子スルホン酸塩のような
高分子アニオン導電剤が挙げられる。これらの導電剤の
添加量は各量に使用されるバインダー量の3〜40重量
%、好ましくは5〜20重量%である。When used as a PPC plate making, in order to further reduce the background stain of the printing original plate of the present invention, the volume resistivity as the printing original plate is 10 10 ~ 10 13 Ωcm, further image receiving layer, an intermediate layer and A dielectric agent can be added to the backcoat layer. The dielectric agent may be inorganic or organic, and if it is inorganic, Na, K, Li, M
Salts of monovalent or polyvalent metals such as g, Zn, Co and Ni, and organic ones such as polyvinyl benzyl trimethyl ammonium chloride, acrylic resin modified quaternary ammonium salt, and other polymeric cationic conductive agents and polymeric sulfonic acids Examples include polymeric anionic conductive agents such as salts. The amount of these conductive agents added is 3 to 40% by weight, preferably 5 to 20% by weight, based on the amount of binder used in each amount.
本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水溶液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい。なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/m2、5
〜20g/m2、5〜20g/m2が適当である。To prepare the lithographic printing plate precursor of the invention, generally, one surface of the support is coated with an aqueous solution containing an intermediate layer component, if necessary, and dried to form an intermediate layer, and then an aqueous liquid containing an image receiving layer component is formed. An image receiving layer may be formed by coating and drying, and if necessary, an aqueous liquid containing a backcoat layer component may be coated and dried on the other surface to form a backcoat layer. The amount of each of the image receiving layer, the intermediate layer, and the back coat layer is 1 to 30 g / m 2 , 5 respectively.
To 20 g / m 2, it is appropriate 5 to 20 g / m 2.
本発明の樹脂は、活性光線の照射により、分解してチオ
ール基、ホスホノ基、アミノ基あるいはスルホ基を生成
するものを包含する。ここで用いられる活性光線として
は、200〜900nmの波長範囲にある光が好ましく、その光
源としては、例えば水銀燈、メタルハライドランプ、キ
セノンランプ、ケミカルランプあるいはカーボンアーク
ランプなどがある。The resin of the present invention includes a resin that decomposes to produce a thiol group, a phosphono group, an amino group or a sulfo group when irradiated with an actinic ray. The active light used here is preferably light in the wavelength range of 200 to 900 nm, and its light source includes, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp or a carbon arc lamp.
(実施例) 以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれら
に限定されるものではない。(Examples) Examples of the present invention will be shown below, but the scope of the present invention is not limited thereto.
実施例1 ベンジルメタクリレート30g、下記の化合物例(A)の
単量体70g、アクリル酸0.2g、ジビニルベンゼン1.5g及
びトルエン300gの混合溶液を窒素気流下75℃の温度に加
温した後、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)1.0gを加え8時間反応した。得られた共重合体
〔1〕の重量平均分子量は350,000であった。Example 1 30 g of benzyl methacrylate, 70 g of the monomer of the following compound example (A), 0.2 g of acrylic acid, 1.5 g of divinylbenzene and 300 g of toluene were heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream, and then 2 , 2'-Azobisisobutyronitrile (AIB
N) 1.0 g was added and reacted for 8 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [1] was 350,000.
続いて、この共重合物40g〔固形分量として〕、酸化亜
鉛150g、及びトルエン300gの混合物をボールミル中で1
時間分散して画像受理層形成物を調整し、これを上質紙
の一方の面にバック層、他方の面に中間層が設けられた
支持体の中間層上に乾燥付着量が18g/m2となるようにワ
イヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥して、平版印
刷用原版を作製した。 Then, a mixture of 40 g of this copolymer [as solid content], 150 g of zinc oxide, and 300 g of toluene was mixed in a ball mill with 1
Time dispersion to adjust the image receiving layer forming material, a back layer which on one side of fine paper, dry coating weight of 18 g / m 2 on the intermediate layer of the support an intermediate layer provided on the other side To obtain a lithographic printing plate precursor, which was then coated with a wire bar and dried at 110 ° C. for 1 minute.
この原版を、不感脂化処理液〔富士写真フィルム(株)
製ELP−EX〕でエッチングプロセッサーに1回通して処
理し、これに蒸留水2μの水滴を乗せ、形成された水
との接触角をゴニオメーターで測定した所、10゜以下で
あった。尚、不感脂化処理前は78゜であった。このこと
は、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親油性か
ら親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非画像
部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の度合
は、水との接触角20℃以下であることが必要である)。This original plate is treated with a desensitizing solution [Fuji Photo Film Co., Ltd.
ELP-EX] was passed through an etching processor once, and a drop of distilled water (2 μm) was placed on it. The contact angle with water formed was measured by a goniometer and found to be 10 ° or less. It was 78 ° before the desensitizing treatment. This indicates that the non-image area of the image-receiving layer of the original plate of the present invention changed from lipophilicity to hydrophilicity (usually, the non-image area does not cause print background stains, dot-like stains, etc. during printing). The degree of chemical conversion is required to be less than 20 ° of contact angle with water).
次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同様
の条件で不感脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。Next, plate making was performed using a commercially available PPC, and the obtained original plate was subjected to a desensitizing treatment under the same conditions as above to obtain a printing original plate.
得られた原版の画像部の濃度は1.0以上であり、非画像
部の地カブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。こ
れをオフセット印刷機(ハマダスター(株)製ハマダス
ター800SX型〕にかけ上質紙上に印刷した。2000枚を越
えても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題を生じなかった。The density of the image area of the obtained original plate was 1.0 or more, there was no background fog in the non-image area, and the image quality of the image area was clear. This was printed on a high-quality paper by using an offset printing machine (Hamaduster 800SX type, manufactured by Hamada Star Co., Ltd.) Even if the number of printed sheets exceeds 2000, there is no problem with the background stain of the non-image area of the printed matter and the image quality of the image area.
更に上記原版を用いて、環境条件を30℃、80%PHとし
て、市販のPPCで製版した所、得られた原版の画像は、
画像部の濃度は1.0以上有り非画像部の地カブリもな
く、画像部の画質も鮮明であった。これを上記と同様に
印刷した所、2000枚を印刷しても問題なかった。Further, using the above original plate, the environmental conditions were 30 ° C. and 80% PH, and the image of the obtained original plate was obtained by making the plate with a commercially available PPC.
The density of the image area was 1.0 or more, there was no background fog in the non-image area, and the image quality of the image area was clear. When this was printed in the same manner as above, there was no problem even if 2000 sheets were printed.
以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPC製版
で画質を劣化させなかった。As described above, this original plate did not deteriorate the image quality by PPC plate making even under the condition of high temperature and high humidity.
実施例2〜14 実施例1において、本発明の樹脂〔1〕の代わりに表−
1に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様に
操作して平版印刷用原版を作製した。Examples 2-14 In Example 1, instead of the resin [1] of the present invention,
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the copolymer shown in 1 was used.
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で画
質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で印
刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮明
な画質であった。 When a plate was prepared using the same apparatus as in Example 1, the obtained master plate for offset printing had a density of 1.0 or more and the image quality was clear. When the product was further etched and printed with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had a clear image quality without fog.
更に、この感光材料を(45℃、75%RH)の条件下に放置
した後上記と全く同様の処理を行なったが、経時前と全
く変わらなかった。Further, this light-sensitive material was left under the conditions of (45 ° C., 75% RH) and then subjected to the same processing as above, but there was no difference from that before the passage of time.
実施例15 ベンジルメタクリレート12g、下記化合物例(2)の単
量体80g、N−メトキシメチルメタクリルアミド8g、ト
ルエン200g及びイソプロピルアルコール50gの混合溶液
を窒素気流下75℃の温度に加温した後、2′,2′−アゾ
ビスイソブチロニトリル2gを加え8時間反応した。更
に、温度を100℃に加温しイソプロピルアルコール共沸
溶媒を留出しながら2時間反応した。Example 15 After heating 12 g of benzyl methacrylate, 80 g of the monomer of the following compound example (2), 8 g of N-methoxymethylmethacrylamide, 200 g of toluene and 50 g of isopropyl alcohol to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream, 2 g of 2 ', 2'-azobisisobutyronitrile was added and reacted for 8 hours. Furthermore, the temperature was raised to 100 ° C. and the reaction was carried out for 2 hours while distilling off the isopropyl alcohol azeotropic solvent.
得られた共重合体〔15〕の重量平均分子量は98,000であ
った。The weight average molecular weight of the obtained copolymer [15] was 98,000.
単量体(2) この共重合体〔15〕を、実施例1における共重合体
〔1〕の代わりに用いた他は、実施例1と同様に行なっ
て、平版印刷用原版を作製した。Monomer (2) A lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that this copolymer [15] was used instead of the copolymer [1] in Example 1.
これを実施例1と同様に操作して、製版・不感脂化処理
を行ない印刷用原版を得た。This was operated in the same manner as in Example 1 to carry out plate making / desensitizing treatment to obtain a printing original plate.
得られたオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.
0以上で画質は鮮明であった。印刷機で印刷した所、200
0枚印刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像
も鮮明であった。The density of the obtained master plate for offset printing is 1.
The image quality was clear at 0 or more. Place printed with a printing machine, 200
The printed matter after printing 0 sheets had no fog in the non-image area and the image was clear.
実施例16 下記共重合体〔A〕及び〔B〕を各々50g及びトルエン2
50gの混合物を温度60℃に加温し、均一に溶解した。そ
のまま3時間攪拌し、反応した。Example 16 50 g of each of the following copolymers [A] and [B] and toluene 2
50 g of the mixture was heated to a temperature of 60 ° C. and uniformly dissolved. The mixture was stirred as it was for 3 hours and reacted.
得られた本発明の共重合体〔16〕の重量平均分子量は2.
2×105であった。The weight average molecular weight of the obtained copolymer (16) of the present invention is 2.
It was 2 × 10 5 .
共重合体〔A〕:重量平均分子量43,000 共重合体〔B〕:重量平均分子量38,000 続いて、実施例1において用いた共重合体〔1〕の代わ
りに、上記共重合体〔16〕40gを用いた他は、実施例1
と同様にして画像受理層を形成した平版原版を作製し
た。Copolymer [A]: Weight average molecular weight 43,000 Copolymer [B]: Weight average molecular weight 38,000 Subsequently, Example 1 was repeated except that 40 g of the above copolymer [16] was used instead of the copolymer [1] used in Example 1.
A lithographic original plate having an image-receiving layer formed in the same manner as in (1).
これを実施例1と同様に、製版した所、得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で画質は
鮮明であった。更に、エッチング処理をして、印刷機で
印刷した所、2000枚印刷後の印刷物の画質は、地カブリ
のない鮮明のものであった。As a result of plate making in the same manner as in Example 1, the obtained master plate for offset printing had a density of 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore, when the product was etched and printed by a printing machine, the image quality of the printed matter after printing 2000 sheets was clear without background fog.
実施例17 実施例16で用いた共重合体〔A〕50g、1,6−ヘキサンジ
イソシアナート4.5g及びトルエン200gの混合物を温度60
℃に加温し3時間攪拌した。得られた、本発明の共重合
体〔17〕の重量平均分子量は1.8×105であった。Example 17 A mixture of 50 g of the copolymer [A] used in Example 16, 4.5 g of 1,6-hexanediisocyanate and 200 g of toluene was added at a temperature of 60.
The mixture was heated to ℃ and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [17] of the present invention was 1.8 × 10 5 .
実施例1において、本発明の樹脂〔1〕の代わりに上記
共重合体〔17〕を用いた他は、実施例1と同様に操作し
て、各平版印刷用原版を作製した。Each lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1, except that the above copolymer [17] was used in place of the resin [1] of the present invention.
これを実施例1と同様の装置で製版し、次いでエッチン
グ処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセッ
ト印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画質は
鮮明であった。又、2000枚印刷した印刷物の画質は良好
で地汚れも発生しなかった。This was made into a plate with the same apparatus as in Example 1, then subjected to etching treatment and printed with a printing machine. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, the image quality of the printed matter printed on 2000 sheets was good, and no background stain was generated.
実施例18 実施例16で用いた共重合体〔B〕50g、ジエチレングリ
コール3.8g及びトルエン200gの混合物を温度60℃に加温
し4時間攪拌した。得られた本発明の共重合体〔18〕の
重量平均分子量は2.4×105であった。Example 18 A mixture of 50 g of the copolymer [B] used in Example 16, 3.8 g of diethylene glycol and 200 g of toluene was heated to a temperature of 60 ° C. and stirred for 4 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [18] of the present invention was 2.4 × 10 5 .
続いて、実施例1において用いた、共重合体〔1〕の代
わりに上記共重合体〔18〕40gを用いた他は、実施例1
と同様にして、平版印刷用原版を作製した。Subsequently, Example 1 was repeated except that 40 g of the above copolymer [18] was used in place of the copolymer [1] used in Example 1.
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in.
これを実施例1と同様に、製版した所、得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で画質は
鮮明であった。更にエッチング処理をして、印刷機で印
刷した所、2000枚印刷後の印刷物は、非画像部のカブリ
がなく、画像も鮮明であった。As a result of plate making in the same manner as in Example 1, the obtained master plate for offset printing had a density of 1.0 or more and the image quality was clear. Further etching treatment and printing with a printing machine revealed that the printed matter after printing 2000 sheets had no fog in the non-image area and the image was clear.
実施例19 下記共重合体〔19〕を40g及び[ブチルメタクリレート
/アクリル酸(99/1)重量比]共重合体(重量平均分子
量45000)10g、酸化亜鉛100g、及びトルエン300gの混合
物をボールミル中で2時間分散した。Example 19 A mixture of 40 g of the following copolymer [19] and 10 g of [butyl methacrylate / acrylic acid (99/1) weight ratio] copolymer (weight average molecular weight 45,000), 100 g of zinc oxide, and 300 g of toluene in a ball mill. Dispersed for 2 hours.
次に、この分散物にアリルメタクリレート10g及び2,2′
−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え、ボールミル
中10分間分散して得た分散物を、実施例1と同様な支持
体に、乾燥付着量が20g/m2となる様にワイヤーバーで塗
布し、80℃で2時間、更に100℃で30分間乾燥すること
により平版印刷用原版を作製した。Next, 10 g of allyl methacrylate and 2,2 'were added to this dispersion.
-0.5 g of azobisisobutyronitrile was added, and the dispersion obtained by dispersing in a ball mill for 10 minutes was applied to a support similar to that of Example 1 with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m 2. A lithographic printing plate precursor was prepared by coating and drying at 80 ° C. for 2 hours and then at 100 ° C. for 30 minutes.
共重合体(19) 重量平均分子量5.6×104 これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で画
質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で印
刷した所、2000枚印刷後の印刷物の画質は地カブルがな
く鮮明であった。Copolymer (19) Weight-average molecular weight 5.6 × 10 4 When this was made into a plate by the same apparatus as in Example 1, the density of the master plate for offset printing obtained was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, after etching and printing with a printing machine, the image quality of the printed matter after printing 2000 sheets was clear without background blur.
実施例20〜25 実施例19において、本発明の樹脂〔19〕の代わりに表2
に示される共重合体を用いた他は、実施例19と同様に操
作して、各平版印刷用原版を作製した。Examples 20 to 25 In Example 19, Table 2 was used instead of the resin [19] of the present invention.
Each lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 19 except that the copolymer shown in 1 was used.
これらの各原版を実施例1と同様にして、各特性を調べ
た。得られたオフセット印刷用マスタープレートの濃度
は1.0以上で、画質も鮮明であった。更にエッチング処
理をして印刷機で印刷した所、本発明のプレートは2000
枚印刷した印刷物でもその画質は鮮明で地汚れも認めら
れなかった。 The characteristics of each of these original plates were examined in the same manner as in Example 1. The density of the obtained master plate for offset printing was 1.0 or more, and the image quality was clear. The plate of the present invention is 2000
The image quality was clear and no background stain was observed on the printed matter.
実施例26 下記に示される化学構成の本発明の共重合体〔26〕及び
〔27〕を各々15g用いた他は、実施例1と同様に操作し
て平版印刷用原版を作製した。Example 26 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 15 g of each of the copolymers [26] and [27] of the present invention having the chemical constitution shown below was used.
共重合体〔26〕:重量平均分子量43,000 共重合体〔27〕:重量平均分子量38,000 これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエッチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画質
は鮮明であった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地カ
ブリのない鮮明な画像のものであった。Copolymer [26]: Weight average molecular weight 43,000 Copolymer [27]: Weight average molecular weight 38,000 This was subjected to plate making with the same device as in Example 1, then etching treatment and printing with a printing machine. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, the image quality of the printed matter after printing 10,000 sheets was a clear image with no background fog.
実施例27及び比較例A エチルメタクリレート30g,下記構造の単量体〔D〕40
g、アリルメタクリレート30g及びトルエン500gの混合溶
液を窒素気流下60℃の温度に加温した後、2,2′,−ア
ゾビスバレロニトリル1.0gを加え8時間反応した。得ら
れた共重合体〔I〕の重量平均分子量は62,000であっ
た。Example 27 and Comparative Example A Ethyl methacrylate 30 g, monomer [D] 40 having the following structure
A mixed solution of g, 30 g of allyl methacrylate and 500 g of toluene was heated to a temperature of 60 ° C. under a nitrogen stream, 1.0 g of 2,2 ′,-azobisvaleronitrile was added, and the mixture was reacted for 8 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [I] was 62,000.
本発明の共重合体成分相当の単量体〔D〕 続いて、この共重合物30g(固形分量として)及び〔ブ
チルメタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比〕共重
合体(重量平均分子量45000)10g、酸化亜鉛200g、及び
トルエン300gの混合物をボールミル中で2時間分散し
た。Monomer corresponding to the copolymer component of the present invention [D] Then, a mixture of 30 g of this copolymer (as solid content) and 10 g of [butyl methacrylate / acrylic acid (99/1) weight ratio] copolymer (weight average molecular weight 45000), 200 g of zinc oxide, and 300 g of toluene was ball-milled. Dispersed for 2 hours.
次に、この分散物に、アリルメタクリレート10g及び2,
2′−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え、ボール
ミル中、10分間分散して得た分散物を実施例1同様の支
持体紙に、乾燥付着量が25g/m2となる様にワイヤーバー
で塗布し、100℃で30分間乾燥して、平板印刷用原版を
作製した。Next, 10 g of allyl methacrylate and 2,
0.5 g of 2'-azobisisobutyronitrile was added, and the resulting dispersion was dispersed in a ball mill for 10 minutes, and the resulting dispersion was applied to a support paper similar to that of Example 1 so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2. It was coated with a bar and dried at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a lithographic printing plate precursor.
比較例A エチルメタクリレート60g,単量体〔D〕40g及びトルエ
ン200gの混合溶液を窒素気流下75℃の温度に加温した
後、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル1.0gを加え8
時間反応した。得られた共重合体〔A〕の重量平均分子
量は45,000であった。Comparative Example A A mixed solution of 60 g of ethyl methacrylate, 40 g of monomer [D] and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream, and then 1.0 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added.
Reacted for hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [A] was 45,000.
続いて、実施例27において用いた共重合体〔I〕の代わ
りに、上記共重合体〔A〕を用いた他は、実施例27と同
様にして、まずボールミル中2時間分散し、、乾燥付着
量が25g/m2となるようにワイヤーバーで塗布し、110℃
で1分間乾燥し、平板印刷用原版を作製した。Then, in the same manner as in Example 27 except that the above copolymer [A] was used in place of the copolymer [I] used in Example 27, first, the mixture was dispersed in a ball mill for 2 hours and dried. Apply with a wire bar so that the adhered amount becomes 25 g / m 2, and 110 ℃
And dried for 1 minute to prepare a lithographic printing plate precursor.
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各原版の水との接
触角は、本発明及び比較例Aの原版の値が15℃以下と小
さく、充分に親水化されていることを示した。Further, the contact angle of each of the master plates subjected to the desensitizing treatment with a desensitizing solution with water was as small as 15 ° C. or less for the master plates of the present invention and Comparative Example A, showing that they were sufficiently hydrophilized. .
又、これらをオフセット印刷用マスタープレートとして
印刷してみると、本発明及び比較例Aのプレートは非画
像部の地汚れの発生しない良好なものであった。更にこ
の両者のプレート印圧が強い条件で1万枚印刷した所、
本発明のプレートは1万枚印刷した印刷物の画質は良好
で地汚れも発生しなかったが、比較例Aは5500枚目で地
汚れが発生した。Further, when printing these as a master plate for offset printing, the plates of the present invention and Comparative Example A were good in that no background stain was generated in the non-image area. Furthermore, after printing 10,000 sheets under the condition that both plates have strong printing pressure,
With the plate of the present invention, the quality of the printed matter printed on 10,000 sheets was good and no background stain was generated, but in Comparative Example A, background stain was generated at the 5500th sheet.
以上の事実より、本発明の原版のみが、環境条件が変動
して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成し且
つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ることがで
きた。From the above facts, it was possible to obtain 10,000 or more prints which always form a clear copy image and have no background stain even when the original plate of the present invention is used for plate making under changing environmental conditions.
実施例28〜38 実施例27において、共重合体〔I〕の代わりに、表−3
の共重合体を用いた他は、実施例27と同様にして、各平
板印刷用原版を作製した。Examples 28 to 38 In Example 27, instead of the copolymer [I], Table 3
Each lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 27 except that the copolymer of Example 1 was used.
これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエッチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画質
は鮮明であった。又、1万枚印刷後の印刷物の画質は地
カブリのない鮮明な画像のものであった。 This was subjected to plate making with the same device as in Example 1, then etching treatment and printing with a printing machine. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, the image quality of the printed matter after printing 10,000 sheets was a clear image with no background fog.
実施例39〜44 実施例27において、本発明の樹脂〔I〕の代わりに表4
に示される共重合体を用いた他は、実施例27と同様に操
作して、各平版印刷用原版を作製した。Examples 39 to 44 In Example 27, Table 4 was used instead of the resin [I] of the present invention.
Each lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 27 except that the copolymer shown in 1 was used.
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、
画質は鮮明であった。更にエッチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。 When the plate was made using the same apparatus as in Example 1, the density of the master plate for offset printing obtained was 1.0 or more.
The image quality was clear. When the product was further etched and printed with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had a clear image quality without fog.
実施例45 実施例27において用いる[ブチルメタクリレート/アク
リル酸]共重合体の代わりに[ブチルメタクリレート/
アリルメタクリレート/アクリル酸(79/20/1)重量
比]共重合体を用いた他は、実施例27と同様にして、平
版印刷用原版を作製した。Example 45 Instead of the [butyl methacrylate / acrylic acid] copolymer used in Example 27, [butyl methacrylate /
Allyl methacrylate / acrylic acid (79/20/1) weight ratio] A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 27 except that the copolymer was used.
これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP404Vで製版
した所、得られたオフセット印刷用マスタープレートの
濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、エッチン
グ処理をして、印刷機で印刷した所、一万枚印刷後の印
刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明であっ
た。When this was subjected to plate making by a fully automatic plate making machine ELP404V as in Example 1, the density of the obtained master plate for offset printing was 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore, after etching treatment and printing with a printing machine, the printed matter after printing 10,000 sheets had no fog in the non-image area and the image was clear.
(発明の効果) 本発明によれば、地汚れの発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐刷力を併せもつ直描型平版印刷用原版を得
ることができる。(Effect of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain a direct-drawing type lithographic printing plate precursor in which the occurrence of background stain is satisfactorily suppressed and the printing durability is also good.
Claims (3)
印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の少くとも
1部として、分解によりチオール基、ホスホノ基、アミ
ノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有し且つ少なくとも一部分
が架橋されている樹脂を少なくとも1種含有してなるこ
とを特徴とする直描型平版印刷用原版。1. A direct-drawing lithographic printing plate precursor having an image-receiving layer on a support, wherein a thiol group, a phosphono group, an amino group and a sulfo group are formed by decomposition as at least part of the binder of the image-receiving layer. A direct-drawing lithographic printing plate precursor comprising at least one functional group which forms at least one of the groups and at least one resin which is at least partially crosslinked.
ノ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの
基を生成する官能基を少なくとも1種含有する共重合成
分を含有し且つ分解により該基を生成したときに水に対
して難溶又は不溶となる様に予め架橋されている樹脂で
ある請求項の(1)記載の直描型平版印刷用原版。2. The resin contains a copolymerization component containing at least one functional group capable of generating at least one group selected from a thiol group, a phosphono group, an amino group and a sulfo group upon decomposition, and further comprising: The direct-drawing lithographic printing plate precursor as claimed in (1), which is a resin which has been pre-crosslinked so as to be sparingly soluble or insoluble in water when a group is formed.
ノ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの
基を生成する官能基を少なくとも1種及び熱及び/又は
光で硬化反応を起こす官能基を少なくとも1種各々含有
する樹脂である請求項の(1)記載の直描型平版印刷用
原版。3. A function of causing the resin to undergo a curing reaction with at least one kind of functional group that generates at least one group of a thiol group, a phosphono group, an amino group and a sulfo group by decomposition and with heat and / or light. A lithographic printing plate precursor for direct drawing according to claim 1, which is a resin containing at least one group.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11703588A JPH0794191B2 (en) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | Direct drawing type lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|
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