JPH0798787B2 - Styryl compound, method for producing the same, and electroluminescence device comprising the same - Google Patents
Styryl compound, method for producing the same, and electroluminescence device comprising the sameInfo
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- JPH0798787B2 JPH0798787B2 JP3057714A JP5771491A JPH0798787B2 JP H0798787 B2 JPH0798787 B2 JP H0798787B2 JP 3057714 A JP3057714 A JP 3057714A JP 5771491 A JP5771491 A JP 5771491A JP H0798787 B2 JPH0798787 B2 JP H0798787B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、新規なスチリル化合
物,その製造方法及びそれからなるエレクトロルミネッ
センス素子に関し、詳しくはエレクトロルミネッセンス
素子(EL素子)の発光材料に有用な新規なスチリル化
合物及びその効率のよい製造方法,ならびに該スチリル
化合物を用いたEL素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel styryl compound, a method for producing the same, and an electroluminescent device comprising the same. More specifically, the present invention relates to a novel styryl compound useful as a light emitting material for an electroluminescent device (EL device) and its efficiency. The present invention relates to a good manufacturing method and an EL device using the styryl compound.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】有機化
合物の高い蛍光効率に着目し、有機化合物のEL性能を
利用した素子の研究は古くから行われている。例えば、
W. Helfrish, Dresmer,Williamsらはアントラセン結晶
を用い、青色発光を得ている(J.Chem. Phys.,44, 2902
(1966))。また、Vincett やBarlowらは、縮合多環芳香
族化合物を真空蒸着法により発光素子の製作を行ってい
る(Thin Solid Films, 99, 171(1982))。しかしいずれ
も発光輝度,発光効率の低いものしか得られていない。
最近、テトラフェニルブタジエンを発光材料に用いて1
00cd/m2 の青色発光を得たことが報告されている
(特開昭59−194393号公報)。更に、正孔伝導
性のジアミン化合物と発光材料としての蛍光性アルミニ
ウムキレート錯体を積層することにより、輝度1000
cd/m2以上の緑色発光有機薄膜EL素子を開発した
ことが報告されている(Appl. Phys. Lett., 51, 913(1
987)) 。また、レーザー色素として有名なジスチリルベ
ンゼン系化合物は、青〜青緑の領域で高い蛍光性を有
し、これを発光材料として単層で80cd/m2程度の
EL発光を得られたことが報告されている(欧州特許第
0319881号明細書)。また、スチリル化合物を含
有することを特徴とする感光体については、特開昭63
−269158号公報及び特開平3−11355号公報
に開示されている。本発明者らは、特開平2−2472
78号公報において、輝度1000cd/m2 以上の高
輝度のエレクトロルミネッセンス発光を与えるスチリル
化合物を提供するとともに、さらに初期輝度の劣化の少
ないスチリル化合物を開発すべく鋭意研究を重ねた。2. Description of the Related Art Focusing on the high fluorescence efficiency of organic compounds, research on devices utilizing the EL performance of organic compounds has been conducted for a long time. For example,
W. Helfrish, Dresmer, Williams et al. Obtained blue emission using anthracene crystal (J. Chem. Phys., 44 , 2902).
(1966)). In addition, Vincett and Barlow et al. Manufacture a light emitting device by a vacuum evaporation method of a condensed polycyclic aromatic compound (Thin Solid Films, 99 , 171 (1982)). However, in all cases, only those with low emission brightness and emission efficiency have been obtained.
Recently, using tetraphenyl butadiene as a light emitting material 1
It has been reported that blue emission of 00 cd / m 2 was obtained (Japanese Patent Laid-Open No. 194393/1984). Furthermore, by stacking a hole-conductive diamine compound and a fluorescent aluminum chelate complex as a light emitting material, a brightness of 1000 is obtained.
It has been reported that a green light emitting organic thin film EL device with cd / m 2 or more has been developed (Appl. Phys. Lett., 51, 913 (1
987)). The distyrylbenzene compound, which is famous as a laser dye, has high fluorescence in the blue to blue-green region, and using this as a light emitting material, it was possible to obtain EL light emission of about 80 cd / m 2 in a single layer. Reported (EP 0319881). Further, regarding a photoconductor characterized by containing a styryl compound, JP-A-63-63
No. 269158 and Japanese Patent Laid-Open No. 3-11355. The inventors of the present invention disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-2472
In Japanese Patent Publication No. 78, in addition to providing a styryl compound that provides high-luminance electroluminescence emission with a luminance of 1000 cd / m 2 or more, the inventors have earnestly studied to develop a styryl compound with less deterioration in initial luminance.
【0003】[0003]
【課題を解決するための手段】その結果、特定の置換基
を有する新規なスチリル化合物が、上記目的に適うもの
であることを見出した。本発明は、かかる知見に基づい
て完成したものである。すなわち本発明は、一般式
(I)As a result, it has been found that a novel styryl compound having a specific substituent is suitable for the above purpose. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention has the general formula (I)
【0004】[0004]
【化9】 [Chemical 9]
【0005】〔式中、k,l,m,nはそれぞれ0〜5
の整数を示す。但し、k,l,m,nがいずれも0の場
合は除く。Arは、[Wherein k, l, m and n are 0 to 5 respectively]
Indicates an integer. However, the case where k, l, m, and n are all 0 is excluded. Ar is
【0006】[0006]
【化10】 [Chemical 10]
【0007】(式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基
又はハロゲンを示し、R2 ,R3 はそれぞれ水素,炭素
数1〜6のアルキル基又はハロゲンを示す。また、pは
1〜4の整数、q,rはそれぞれ0〜4の整数を示す。
但し、p,q,rが複数のときはR1 ,R2 ,R3 はそ
れぞれ同じでも異なっていてもよい。)を示す。〕で表
されるスチリル化合物を提供するものである。また、本
発明は、一般式(II)(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or halogen, R 2 and R 3 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or halogen, and p is 1 Is an integer of 4 and q and r are integers of 0 to 4, respectively.
However, when p, q and r are plural, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different. ) Is shown. ] The styryl compound represented by these is provided. The present invention also provides a compound represented by the general formula (II)
【0008】[0008]
【化11】 [Chemical 11]
【0009】〔式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基又
はフェニル基を示し、Arは前記と同様である。〕で表
されるアリーレン基含有リン化合物を、一般式(III)[In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and Ar is as defined above. ] The arylene group-containing phosphorus compound represented by the general formula (III)
【0010】[0010]
【化12】 [Chemical 12]
【0011】〔式中、s,tはそれぞれ0〜5の整数を
示す。但し、s,tがいずれも0の場合は除く。〕で表
されるケトンと縮合させることを特徴とする一般式
(I)に示すスチリル化合物の製造方法(以下方法Aと
する。)を提供し、さらに一般式(IV)[In the formula, s and t each represent an integer of 0-5. However, the case where both s and t are 0 is excluded. The present invention provides a method for producing a styryl compound represented by the general formula (I) (hereinafter referred to as method A), which comprises condensing with a ketone represented by the general formula (IV).
【0012】[0012]
【化13】 [Chemical 13]
【0013】〔式中、R,s,tは前記と同様であ
る。〕で表されるリン化合物を、一般式(V)[In the formula, R, s, and t are the same as described above. ] The phosphorus compound represented by the general formula (V)
【0014】[0014]
【化14】 OCH−Ar−CHO …vEmbedded image OCH-Ar-CHO ... v
【0015】〔式中、Arは前記と同様である。〕で表
されるジアルデヒドと縮合させることを特徴とする一般
式(I)に示すスチリル化合物の製造方法(以下方法B
とする。)を提供するものである。更に、本発明は、一
般式(VI)[In the formula, Ar has the same meaning as described above. ] The manufacturing method of the styryl compound shown by General formula (I) characterized by condensing with the dialdehyde represented by these (following Method B
And ) Is provided. Furthermore, the present invention provides the compound of general formula (VI)
【0016】[0016]
【化15】 [Chemical 15]
【0017】〔式中、R,k,m,Arは前記と同様で
ある。〕で表されるアリーレン基含有リン化合物を、一
般式(VII)[In the formula, R, k, m and Ar are the same as described above. ] The arylene group-containing phosphorus compound represented by the general formula (VII)
【0018】[0018]
【化16】 [Chemical 16]
【0019】〔式中、l,nは前記と同様である。〕で
表されるケトンと縮合させることを特徴とする一般式
(I)に示すスチリル化合物の製造方法(以下方法Cと
する。)を提供し、さらに一般式(I)に示すスチリル
化合物を発光材料とするエレクトロルミネッセンス素子
を提供するものである。[In the formula, l and n are the same as above. The present invention provides a method for producing a styryl compound represented by the general formula (I) (hereinafter referred to as method C), which comprises condensing with a ketone represented by the formula (I), and further emits the styryl compound represented by the general formula (I). It is intended to provide an electroluminescence device made of a material.
【0020】前記式(I)で表されるスチリル化合物
は、1分子中に2つのメチリディン( =C=CH−
)単位を有し、このメチリディン単位の幾何異性によ
って、4通りの組合わせすなわち、シス−シス,トラン
ス−シス,シス−トランス及びトランス−トランスの組
合わせがあるが、本発明のスチリル化合物は、それらの
いずれのものであってもよいし、幾何異性体の混合した
ものでもよい。特に好ましくは、全てトランス体のもの
である。上述した本発明の新規なスチリル化合物は、各
種の方法で製造することができるが、本発明の上記方法
A,BあるいはCによれば、効率よく製造することがで
きる。The styryl compound represented by the above formula (I) has two methylidines (= C = CH-) in one molecule.
) Units, and due to the geometrical isomerism of this methylidin unit, there are four combinations, namely, cis-cis, trans-cis, cis-trans and trans-trans combinations, but the styryl compound of the present invention is Any of them may be used, or a mixture of geometrical isomers may be used. Particularly preferably, all are trans. Although the novel styryl compound of the present invention described above can be produced by various methods, it can be efficiently produced by the above method A, B or C of the present invention.
【0021】まず、本発明の方法Aでは、前述の一般式
(II)で表されるアリーレン基含有リン化合物と一般式
(III)で表されるケトンとを、縮合反応させることによ
って、目的とする一般式(I)のスチリル化合物を製造
する。ここで一般式(II)中のArは、製造すべきスチ
リル化合物のArに対応する。ここでArは、例えばト
リレン基,キシリレン基,テトラメチルフェニレン基,
エチルキシリレン基,ジクロロフェニレン基,テトラブ
ロモフェニレン基,ジターシャリブチルフェニレン基,
ビフェニレン基,メチルビフェニレン基,ジメチルビフ
ェニレン基,ジエチルメチルビフェニレン基,ジクロロ
ビフェニレン基,ジブロモビフェニレン基,テトラクロ
ロビフェニレン基,ジターシャリブチルジブロモビフェ
ニレン基,オクタメチルビフェニレン基などが挙げられ
る。また、Rは炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メ
チル基,エチル基,プロピル基,ブチル基)及びフェニ
ル基である。このアリーレン基含有リン化合物は、公知
の方法、例えば Arbsov 反応:つまり 一般式 XH2 C−Ar −CH2 X 〔式中、Xはハロゲン原子を示し、Arは前記と同様で
ある。〕で表される芳香族ビスハロメチル化合物と、 一般式 (RO)3P 〔式中、Rは前記と同様である。〕で表される亜リン酸
トリアルキルを反応させることにより得ることができ
る。また、一般式(III)のケトンにおいて、シアノ基の
置換数s,tは、製造すべきスチリル化合物のシアノ基
の置換数k,l,m,nに対応して選定される。この一
般式(II)のアリーレン基含有リン化合物と一般式(II
I)のケトンとの縮合反応は、様々な条件で進行させるこ
とができる。ここで用いる反応溶媒としては、炭化水
素,アルコール類,エーテル類が良好である。具体的に
は、メタノール;エタノール;イソプロパノール;ブタ
ノール;2−メトキシエタノール;1,2−ジメトキシ
エタン;ビス(2−メトキシエチル)エーテル;ジオキ
サン;テトラヒドロフラン;トルエン;キシレン;ジメ
チルスルホキシド;N,N−ジメチルホルムアミド;N
−メチルピロリドン;1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノンなどが挙げられる。中でもテトラヒドロフラ
ン,ジメチルスルホキシドが好適である。また、縮合剤
としては苛性ソーダ,苛性カリ,ナトリウムアミド,水
素化ナトリウム,n−ブチルリチウム,ナトリウムメチ
ラート及びカリウム−t−ブトキシド等のアルコラート
が、必要に応じて用いられる。中でもn−ブチルリチウ
ム,カリウム−t−ブトキシドが好適である。反応温度
は、用いる反応原料の種類や他の条件により異なり、一
義的に定めることはできないが、通常は約0℃〜約10
0℃まで広範囲に選択することができる。特に好ましく
は10℃〜70℃の範囲である。First, in the method A of the present invention, the objective compound is obtained by subjecting the above-mentioned arylene group-containing phosphorus compound represented by the general formula (II) to the ketone represented by the general formula (III) in a condensation reaction. A styryl compound of the general formula (I) is prepared. Here, Ar in the general formula (II) corresponds to Ar of the styryl compound to be produced. Here, Ar is, for example, a tolylene group, a xylylene group, a tetramethylphenylene group,
Ethylxylylene group, dichlorophenylene group, tetrabromophenylene group, ditertiarybutylphenylene group,
Examples thereof include a biphenylene group, a methylbiphenylene group, a dimethylbiphenylene group, a diethylmethylbiphenylene group, a dichlorobiphenylene group, a dibromobiphenylene group, a tetrachlorobiphenylene group, a ditertiarybutyldibromobiphenylene group, and an octamethylbiphenylene group. R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) and phenyl group. The arylene group containing phosphorus compound, a known method, for example Arbsov reactions: i.e. the general formula XH 2 C-Ar -CH 2 X [wherein, X represents a halogen atom, Ar is as defined above. ] And an aromatic bishalomethyl compound represented by the general formula (RO) 3 P [wherein R is the same as defined above]. ] It can obtain by making the trialkyl phosphite represented by these react. Further, in the ketone of the general formula (III), the substitution numbers s and t of the cyano group are selected corresponding to the substitution numbers k, l, m and n of the cyano group of the styryl compound to be produced. The arylene group-containing phosphorus compound of the general formula (II) and the general formula (II
The condensation reaction of I) with a ketone can proceed under various conditions. As the reaction solvent used here, hydrocarbons, alcohols and ethers are preferable. Specifically, methanol; ethanol; isopropanol; butanol; 2-methoxyethanol; 1,2-dimethoxyethane; bis (2-methoxyethyl) ether; dioxane; tetrahydrofuran; toluene; xylene; dimethyl sulfoxide; N, N-dimethyl. Formamide; N
-Methylpyrrolidone; 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Of these, tetrahydrofuran and dimethyl sulfoxide are preferable. Further, as the condensing agent, alcoholates such as caustic soda, caustic potash, sodium amide, sodium hydride, n-butyllithium, sodium methylate and potassium-t-butoxide are used if necessary. Among them, n-butyllithium and potassium-t-butoxide are preferable. The reaction temperature varies depending on the type of reaction raw materials used and other conditions and cannot be uniquely determined, but is usually about 0 ° C to about 10 ° C.
A wide range can be selected up to 0 ° C. Particularly preferably, it is in the range of 10 ° C to 70 ° C.
【0022】本発明のスチリル化合物は、上記方法Aで
効率よく製造することができるが、またこのスチリル化
合物のうち、特定のものは、方法Bによっても効率よく
製造することができる。この方法Bでは、一般式(IV)
で表されるリン化合物と一般式(V)で表されるジアル
デヒドとを、縮合反応させることによって、目的とする
一般式(I)のスチリル化合物を製造する。ここで一般
式(IV)中のRは炭素数1〜4のアルキル基(例えば、
メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基)及びフェ
ニル基であり、シアノ基の置換数s,tは製造すべきス
チリル化合物のシアノ基の置換数k,l,m,nに対応
する。また、一般式(V)中のArは、製造すべきスチ
リル化合物のArに対応する。この一般式(IV)のリン
化合物と一般式(V)のジアルデヒドとの縮合反応は、
様々な条件で進行させることができる。ここで好適に用
られる反応溶媒や縮合剤は、前記方法Aで用いるものと
同様である。また、反応温度は、用いる反応原料の種類
や他の条件により異なり、一義的に定めることはできな
いが、通常は約0℃〜約100℃まで広範囲に選択する
ことができる。特に好ましくは0℃〜70℃である。The styryl compound of the present invention can be efficiently produced by the above method A, and a specific one of the styryl compounds can also be efficiently produced by the method B. In this method B, the general formula (IV)
The target styryl compound of general formula (I) is produced by subjecting the phosphorus compound represented by and the dialdehyde of general formula (V) to a condensation reaction. Here, R in the general formula (IV) is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example,
(Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) and phenyl group, and the substitution numbers s, t of the cyano group correspond to the substitution numbers k, 1, m, n of the cyano group of the styryl compound to be produced. Further, Ar in the general formula (V) corresponds to Ar of the styryl compound to be produced. The condensation reaction between the phosphorus compound of the general formula (IV) and the dialdehyde of the general formula (V) is
It can proceed under various conditions. The reaction solvent and the condensing agent which are preferably used here are the same as those used in the method A. The reaction temperature varies depending on the type of reaction raw material used and other conditions and cannot be uniquely determined, but it can be generally selected in a wide range from about 0 ° C to about 100 ° C. Particularly preferably, it is 0 ° C to 70 ° C.
【0023】本発明のスチリル化合物は、上述の方法A
及びBにより効率よく製造することができる。また、さ
らに方法Cによっても製造できる。この方法Cでは、一
般式(VI)で表されるリン化合物と一般式(VII)で表さ
れるケトンとを縮合反応させることによって、目的とす
る一般式(I)のスチリル化合物を製造する。ここで一
般式(VI)中のRは炭素数1〜4のアルキル基(例え
ば、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基)及び
フェニル基であり、シアノ基の置換数k,mは製造すべ
きスチリル化合物のシアノ基の置換数k,mに対応して
選定される。ここで、一般式(VI)の製造法としては、
一般式The styryl compound of the present invention is obtained by the method A described above.
And B can be efficiently manufactured. Further, it can also be produced by the method C. In this method C, a target styryl compound of the general formula (I) is produced by subjecting a phosphorus compound represented by the general formula (VI) and a ketone represented by the general formula (VII) to a condensation reaction. Here, R in the general formula (VI) is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group) and a phenyl group, and the substitution numbers k and m of the cyano group are produced. It is selected according to the number of substitutions k and m of the cyano group of the styryl compound to be obtained. Here, as a method for producing the general formula (VI),
General formula
【0024】[0024]
【化17】 [Chemical 17]
【0025】〔式中、k,m,Rは、前記と同様であ
る。〕で表されるリン化合物を一般式 OHC−Ar−CH3 〔式中、Arは前記と同様である。〕で表されるアルデ
ヒドを縮合させることにより一般式[In the formula, k, m and R are the same as described above. In the general formula OHC-Ar-CH 3 [wherein a phosphorus compound represented by], Ar are as defined above. ] The general formula by condensing the aldehyde represented by
【0026】[0026]
【化18】 [Chemical 18]
【0027】〔式中、k,m,Arは前記と同様であ
る。〕で表されるスチリル化合物が得られる。これを公
知の方法、例えばN−ハロアミド、特にN−クロロ又は
N−ブロモ−コハク酸アミドによるハロゲン化反応によ
り一般式[In the formula, k, m and Ar are the same as described above. ] The styryl compound represented by this is obtained. This can be prepared according to known methods, for example by halogenation reaction with N-haloamides, especially N-chloro or N-bromo-succinamide, in the general formula
【0028】[0028]
【化19】 [Chemical 19]
【0029】〔式中、Xはハロゲン原子を示し、Ar,
k,mは前記と同様である。〕で表される芳香族ハロメ
チル化合物が得られる。このハロメチル化合物と、一般
式 (RO)3P 〔式中、Rは前記と同様である。〕で表される亜リン酸
トリアルキルを反応させることにより得ることができ
る。以上が一般式(VI)の製造法であるが、また、一般
式(VII)のケトンにおいて、シアノ基の置換数l,n
は、製造すべきスチリル化合物(I)のシアノ基の置換
数l,nに対応し、選定される。この一般式(VI)のリ
ン化合物と一般式(VII)のケトンとの縮合反応は、様々
な条件で進行させることができる。ここで、好適に用い
られる反応溶媒や縮合剤は、前記方法Aで用いるものと
同様である。また、反応温度は、用いる反応原料の種類
や他の条件により異なり、一義的に定めることはできな
いが、通常は約0℃〜約100℃まで広範囲に選定する
ことができる。特に好ましくは、0℃〜70℃の範囲で
ある。[Wherein X represents a halogen atom, Ar,
k and m are the same as above. ] The aromatic halomethyl compound represented by this is obtained. This halomethyl compound and the general formula (RO) 3 P [wherein R is the same as defined above. ] It can obtain by making the trialkyl phosphite represented by these react. The above is the production method of the general formula (VI), but in the ketone of the general formula (VII), the substitution numbers l and n of the cyano group are
Is selected according to the substitution numbers l and n of the cyano group of the styryl compound (I) to be produced. The condensation reaction of the phosphorus compound of the general formula (VI) and the ketone of the general formula (VII) can proceed under various conditions. Here, the reaction solvent and the condensing agent which are preferably used are the same as those used in the method A. The reaction temperature varies depending on the type of reaction raw material used and other conditions and cannot be uniquely determined, but usually can be selected in a wide range from about 0 ° C to about 100 ° C. Particularly preferably, it is in the range of 0 ° C to 70 ° C.
【0030】一般式(I)で表される化合物の具体例と
しては、次に示すものを挙げることができる。Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include those shown below.
【0031】[0031]
【化20】 [Chemical 20]
【0032】[0032]
【化21】 [Chemical 21]
【0033】[0033]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0034】[0034]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0035】[0035]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0036】[0036]
【化25】 [Chemical 25]
【0037】但し、これらに限定されるものではない。
このようにして得られる本発明のスチリル化合物は、低
電圧で高輝度の発光が可能なEL素子として有効に利用
できるものである。この本発明のスチリル化合物は、E
L素子の発光層として不可欠な電子注入機能,電子輸送
機能及び発光機能を兼備し、しかも耐熱性,薄膜性にす
ぐれている。さらに、このスチリル化合物は、蒸着温度
まで加熱しても、分解や変質することなく、均一な微結
晶粒からなる緻密な膜が形成できる上、ピンホールが生
成しないという長所がある。すでに述べたように、本発
明の前記一般式(I)で表される化合物は、EL素子に
おける発光層として有効である。この発光層は、例えば
蒸着法,スピンコート法,キャスト法などの公知の方法
によって、一般式(I)の化合物を薄膜化してことによ
り形成することができるが、特に分子堆積膜とすること
が好ましい。ここで分子堆積膜とは、該化合物の気相状
態から沈着され形成された薄膜や、該化合物の溶液状態
又は液相状態から固体化され形成された膜のことであ
り、例えば蒸着膜などを示すが、通常この分子堆積膜は
LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは区別す
ることができる。また、該発光層は、特開昭59−19
4393号公報などに開示されているように、樹脂など
の結着剤と該化合物とを、溶剤に溶かして溶液としたの
ち、これをスピンコート法などにより薄膜化し、形成す
ることができる。However, the present invention is not limited to these.
The styryl compound of the present invention thus obtained can be effectively used as an EL device capable of emitting light with high brightness at a low voltage. The styryl compound of the present invention is E
It has an electron injection function, an electron transport function, and a light emitting function which are indispensable as a light emitting layer of an L element, and has excellent heat resistance and thin film property. Furthermore, this styryl compound has the advantages that it does not decompose or deteriorate even when heated to the vapor deposition temperature, a dense film of uniform fine crystal grains can be formed, and pinholes do not form. As described above, the compound represented by the general formula (I) of the present invention is effective as a light emitting layer in an EL device. This light-emitting layer can be formed by thinning the compound of the general formula (I) by a known method such as a vapor deposition method, a spin coating method, a casting method, or the like. preferable. Here, the molecular deposition film is a thin film formed by depositing the compound from a gas phase state, or a film formed by solidifying from a solution state or a liquid phase state of the compound, for example, a vapor deposition film or the like. Although shown, this molecular deposition film can be generally distinguished from a thin film (molecular cumulative film) formed by the LB method. Further, the light emitting layer is disclosed in JP-A-59-19.
As disclosed in Japanese Patent No. 4393 or the like, a binder such as a resin and the compound are dissolved in a solvent to form a solution, which can be formed into a thin film by a spin coating method or the like.
【0038】このようにして形成された発光層の薄膜に
ついては特に制限はなく、適宜状況に応じて選ぶことが
できるが、通常5nmないし5μmの範囲で選定され
る。このEL素子における発光層は、(1)電界印加時
に、陽極又は正孔注入層により正孔を注入することがで
き、かつ陰極又は電子注入層より電子を注入することが
できる注入機能、(2)注入した電荷(電子と正孔)を
電界の力で移動させる輸送機能、(3)電子と正孔の再
結合の場を発光層内部に提供し、これを発光につなげる
発光機能などを有している。なお、正孔の注入されやす
さと、電子の注入されやすさに違いがあってもよいし、
正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小があっても
よいが、どちらか一方の電荷を移動することが好まし
い。この発光層に用いる前記一般式(I)で表される化
合物は、一般にイオン化エネルギーが6.0eV程度より
小さいので、適当な陽極金属又は陽極化合物を選べば、
比較的正孔を注入しやすい。また電子親和力は2.8eV
程度より大きいので、適当な陰極金属又は陰極化合物を
選べば、比較的電子を注入しやすい上、電子,正孔の輸
送能力も優れている。さらに固体状態の蛍光性が強いた
め、該化合物やその会合体又は結晶などの電子と正孔の
再結晶時に形成された励起状態を光に変換する能力が大
きい。The thin film of the light emitting layer thus formed is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the situation, but is usually selected in the range of 5 nm to 5 μm. The light emitting layer in this EL device has (1) an injection function capable of injecting holes from the anode or the hole injection layer and injecting electrons from the cathode or the electron injection layer when an electric field is applied, (2 ) It has a transport function to move the injected charges (electrons and holes) by the force of the electric field, and (3) provides a field for recombination of electrons and holes inside the light-emitting layer and connects it to light emission. is doing. There may be a difference between the ease of injecting holes and the ease of injecting electrons,
The transport ability represented by the mobility of holes and electrons may be large or small, but it is preferable to move one of the charges. Since the compound represented by the general formula (I) used for the light emitting layer generally has an ionization energy of less than about 6.0 eV, if an appropriate anode metal or anode compound is selected,
It is relatively easy to inject holes. The electron affinity is 2.8 eV.
Since it is larger than the above range, if an appropriate cathode metal or cathode compound is selected, it is relatively easy to inject electrons and the electron and hole transporting ability is excellent. Furthermore, since the solid-state fluorescence is strong, it has a large ability to convert the excited state formed at the time of recrystallization of electrons and holes of the compound or its associated body or crystal into light.
【0039】本発明の化合物を用いたEL素子の構成
は、各種の態様があるが、基本的には、一対の電極(陽
極と陰極)間に、前記発光層を挟持した構成とし、これ
に必要に応じて、正孔注入層や電子注入層を介在させれ
ばよい。具体的には(1)陽極/発光層/陰極,(2)
陽極/正孔注入層/発光層/陰極,(3)陽極/正孔注
入層/発光層/電子注入層/陰極,(4)陽極/発光層
/電子注入層/陰極などの構成を挙げることができる。
該正孔注入層や電子注入層は、必ずしも必要ではない
が、これらの層があると発光性能が一段と向上する。ま
た、前記構成の素子においては、いずれも基板に支持さ
れていることが好ましく、該基板については特に制限は
なく、従来EL素子に慣用されているもの、例えばガラ
ス,透明プラスチック,石英などから成るものを用いる
ことができる。The structure of an EL device using the compound of the present invention has various modes. Basically, the light emitting layer is sandwiched between a pair of electrodes (anode and cathode). A hole injection layer or an electron injection layer may be interposed if necessary. Specifically, (1) anode / light-emitting layer / cathode, (2)
Anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode, (3) anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (4) anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode, etc. You can
The hole injection layer and the electron injection layer are not always necessary, but the presence of these layers further improves the light emission performance. Further, it is preferable that all of the elements having the above-mentioned constitution are supported by a substrate, and there is no particular limitation on the substrate, and the elements conventionally used for EL elements such as glass, transparent plastic, quartz and the like are used. Any thing can be used.
【0040】このEL素子における陽極としては、仕事
関数の大きい(4eV以上)金属,合金,電気伝導性化
合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好まし
く用いられる。このような電極物質の具体例としてはA
uなどの金属,CuI,ITO,SnO2 ,ZnOなど
の誘電性透明材料が挙げられる。該陽極は、これらの電
極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜
を形成させることにより作製することができる。この電
極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大
きくすることが望ましく、また、電極としてのシート抵
抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にも
よるが、通常10nmないし1μm,好ましくは10〜
200nmの範囲で選ばれる。As the anode in this EL device, those having an electrode substance of a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a large work function (4 eV or more) and a mixture thereof are preferably used. Specific examples of such an electrode material include A
Examples thereof include metals such as u and dielectric transparent materials such as CuI, ITO, SnO 2 , and ZnO. The anode can be prepared by forming a thin film of these electrode substances by a method such as vapor deposition or sputtering. When the emitted light is taken out from this electrode, it is desirable that the transmittance is higher than 10%, and the sheet resistance as an electrode is preferably several hundred Ω / □ or less. The film thickness depends on the material, but is usually 10 nm to 1 μm, preferably 10 nm to 1 μm.
It is selected in the range of 200 nm.
【0041】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
(4eV以下)金属,合金,電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、ナトリウム,ナトリウ
ム−カリウム合金,マグネシウム,リチウム,マグネシ
ウム/銅混合物,Al/AlO2 ,インジウムなどが挙
げられる。該陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッ
タリングなどの方法により、薄膜を形成させることによ
り、作製することができる。また、電極としてのシート
抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm
ないし1μm,好ましくは50〜200nmの範囲で選
ばれる。なお、このEL素子においては、該陽極又は陰
極のいずれか一方が透明又は半透明であることが、発光
を透過するため、発光の取出し効率がよく好都合であ
る。On the other hand, as the cathode, a material having an electrode substance of a metal, an alloy, an electrically conductive compound or a mixture thereof having a low work function (4 eV or less) is used. Specific examples of such an electrode material include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, Al / AlO 2 , indium and the like. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode substances by a method such as vapor deposition or sputtering. Further, the sheet resistance as an electrode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually 10 nm.
To 1 μm, preferably 50 to 200 nm. In this EL element, it is convenient that either the anode or the cathode is transparent or semi-transparent to allow the emitted light to pass therethrough, so that the emission efficiency of the emitted light is good.
【0042】本発明の化合物を用いるEL素子の構成
は、前記したように、各種の態様があり、前記(2)又
は(3)の構成のEL素子における正孔注入層(正孔注
入輸送層)は、正孔伝達化合物からなる層であって、陽
極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有し、
この正孔注入層を陽極と発光層との間に介在させること
により、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入さ
れ、その上、発光層に陰極又は電子注入層より注入され
た電子は、発光層と正孔注入層の界面に存在する電子の
障壁により、この発光層内の界面付近に蓄積され発光効
率が向上するなど、発光性能の優れた素子となる。The EL device using the compound of the present invention has various constitutions as described above, and the hole injecting layer (hole injecting and transporting layer) in the EL device having the constitution (2) or (3) is various. ) Is a layer composed of a hole transfer compound, and has a function of transferring holes injected from the anode to the light emitting layer,
By interposing this hole injection layer between the anode and the light emitting layer, many holes are injected into the light emitting layer at a lower electric field, and moreover, electrons injected from the cathode or the electron injection layer into the light emitting layer. Is a device having excellent light emitting performance, such as being accumulated in the vicinity of the interface in the light emitting layer due to the barrier of electrons existing at the interface between the light emitting layer and the hole injection layer to improve the light emitting efficiency.
【0043】前記正孔注入層に用いられる正孔伝達化合
物は、電界を与えられた2個の電極間に配置されて陽極
から正孔が注入された場合、該正孔を適切に発光層へ伝
達しうる化合物であって、例えば104 〜106 V/c
mの電界印加時に、少なくとも10-6cm2 /(V・
秒)の正孔移動度をもつものが好適である。このような
正孔伝達化合物については、前記の好ましい性質を有す
るものであれば特に制限はなく、従来、光導電材料にお
いて、正孔の電荷輸送材として慣用されているものやE
L素子の正孔注入層に使用される公知のものの中から任
意のものを選択して用いることができる。The hole-transporting compound used in the hole-injection layer is disposed between two electrodes to which an electric field is applied, and when the hole is injected from the anode, the hole is appropriately emitted to the light-emitting layer. A transmissible compound, for example 10 4 to 10 6 V / c
When an electric field of m is applied, at least 10 −6 cm 2 / (V ·
Those having a hole mobility of (sec) are preferable. There is no particular limitation on the hole-transporting compound as long as it has the above-mentioned preferable properties, and a compound conventionally used as a hole charge-transporting material in photoconductive materials and E can be used.
Any known material used for the hole injection layer of the L element can be selected and used.
【0044】該電荷輸送材としては、例えばトリアゾー
ル誘導体(米国特許第3,112,197号明細書などに記
載のもの)、オキサジアゾール誘導体(米国特許第3,1
89,447号明細書などに記載のもの)、イミダゾール
誘導体(特公昭37−16096号公報などに記載のも
の)、ポリアリールアルカン誘導体(米国特許第3,61
5,402 号明細書,同3,820,989 号明細書,同3,5
42,544 号明細書,特公昭45−555号公報,同5
1−10983号公報,特開昭51−93224号公
報,同55−17105号公報,同56−4148号公
報,同55−108667号公報,同55−15695
3号公報,同56−36656号公報などに記載のも
の)、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体(米国特
許第3,180,729 号明細書,同4,278,746 号明細
書,特開昭55−88064号公報,同55−8806
5号公報,同49−105537号公報,同55−51
086号公報,同56−80051号公報,同56−8
8141号公報,同57−45545号公報,同54−
112637号公報,同55−74546号公報などに
記載のもの)、フェニレンジアミン誘導体(米国特許第
3,615,404 号明細書,特公昭51−10105号公
報,同46−3712号公報,同47−25336号公
報,特開昭54−53435号公報,同54−1105
36号公報,同54−119925号公報などに記載の
もの)、アリールアミン誘導体(米国特許第3,567,4
50 号明細書,同3,180,703号明細書,同3,240,
597 号明細書,同3,658,520 号明細書,同4,23
2,103 号明細書,同4,175,961 号明細書,同4,0
12,376号明細書,特公昭49−35702号公報,
同39−27577号公報,特開昭55−144250
号公報,同56−119132号公報,同56−224
37号公報,西独特許第1,110,518 号明細書などに
記載のもの)、アミノ置換カルコン誘導体(米国特許第
3,526,501 号明細書などに記載のもの)、オキサゾ
ール誘導体(米国特許第3,257,203 号明細書などに
記載のもの)、スチリルアントラセン誘導体(特開昭5
6−46234号公報などに記載のもの)、フルオレノ
ン誘導体(特開昭54−110837号公報などに記載
のもの)、ヒドラゾン誘導体(米国特許第3,717,46
2 号明細書,特開昭54−59143号公報,同55−
52063号公報,同55−52064号公報,同55
−46760号公報,同55−85495号公報,同5
7−11350号公報,同57−148749号公報な
どに記載されているもの)、スチルベル誘導体(特開昭
61−210363号公報,同61−228451号公
報,同61−14642号公報,同61−72255号
公報,同62−47646号公報,同62−36674
号公報,同62−10652号公報,同62−3025
5号公報,同60−93445号公報,同60−944
62号公報,同60−174749号公報,同60−1
75052号公報などに記載のもの)などを挙げること
ができる。Examples of the charge transport material include triazole derivatives (described in US Pat. No. 3,112,197), oxadiazole derivatives (US Pat. No. 3,1).
89,447, etc.), imidazole derivatives (described in Japanese Patent Publication No. 37-16096, etc.), polyarylalkane derivatives (US Pat. No. 3,61).
5,402, 3,820,989, 3,5
42,544, Japanese Patent Publication No. 45-555, 5
1-10983, JP-A-51-93224, JP-A-55-17105, JP-A-56-4148, JP-A-55-108667, and JP-A-55-15695.
No. 3, JP-A-56-36656, etc.), pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives (US Pat. Nos. 3,180,729, 4,278,746 and JP-A-55-55). No. 88064, 55-8806.
5 gazette, the same 49-105537 gazette, the same 55-51.
086, 56-80051, 56-8
No. 8141, No. 57-45545, No. 54-
No. 112637, No. 55-74546, etc.), phenylenediamine derivatives (U.S. Pat. No. 3,615,044, Japanese Patent Publication Nos. 51-10105, 46-3712, 47). No. 25336, JP-A No. 54-53435, and No. 54-1105.
No. 36, No. 54-119925, etc.), arylamine derivatives (US Pat. No. 3,567,4).
No. 50, No. 3,180,703, No. 3,240,
No. 597, No. 3,658,520, No. 4,23
No. 2,103, No. 4,175,961 and No. 4,0
12,376, Japanese Patent Publication No. 49-35702,
39-27577, JP-A-55-144250.
No. 56-119132 and No. 56-224.
37, those described in West German Patent 1,110,518, etc.), amino-substituted chalcone derivatives (described in US Pat. No. 3,526,501, etc.), oxazole derivatives (US Patent) Nos. 3,257,203, etc.) and styrylanthracene derivatives (Japanese Patent Application Laid-Open No. S5-5187).
6-46234), fluorenone derivatives (described in JP-A-54-110837), hydrazone derivatives (US Pat. No. 3,717,46).
No. 2 specification, JP-A-54-59143 and JP-A-55-59143
No. 52063, No. 55-52064, No. 55
-46760 gazette, the same 55-85495 gazette, the same 5
Nos. 7-11350 and 57-148749) and stilber derivatives (Japanese Patent Laid-Open Nos. 61-210363, 61-228451, 61-14642 and 61-41). No. 72255, No. 62-47646, No. 62-36674.
No. 62-10652, No. 62-3025.
5, gazette 60-93445 gazette, gazette 60-944.
62, 60-174749 and 60-1.
75052) and the like).
【0045】これらの化合物を正孔伝達化合物として使
用することができるが、次に示すポルフィリン化合物
(特開昭63−295695号公報などに記載のもの)
及び芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合
物(米国特許第4,127,412号明細書,特開昭53−
27033号公報,同54−58445号公報,同54
−149634号公報,同54−64299号公報,同
55−79450号公報,同55−144250号公
報,同56−119132号公報,同61−29555
8号公報,同61−98353号公報,同63−295
695号公報などに記載のもの)、特に該芳香族第三級
アミン化合物を用いることが好ましい。該ポルフィリン
化合物の代表例としては、ポルフィリン;1,10,1
5,20−テトラフェニル−21H,23H−ポルフィ
リン銅(II);1,10,15,20−テトラフェニル
−21H,23H−ポルフィリン亜鉛(II);5,1
0,15,20−テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)−21H,23H−ポルフィリン;シリコンフタロ
シアニンオキシド;アルミニウムフタロシアニンクロリ
ド;フタロシアニン(無金属);ジリチウムフタロシア
ニン;銅テトラメチルフタロシアニン;銅フタロシアニ
ン;クロムフタロシアニン;亜鉛フタロシアニン;鉛フ
タロシアニン;チタニウムフタロシアニンオキシド;マ
グネシウムフタロシアニン;銅オクタメチルフタロシア
ニンなどが挙げられる。また該芳香族第三級化合物及び
スチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,
N’,N’−テトラフェニル−(1,1’−ビフェニ
ル)−4,4’−ジアミン;N,N’−ビス(3−メチ
ルフェニル)−N,N’−ジフェニル−〔1,1’−ビ
フェニル〕−4,4’−ジアミン;2,2−ビス(4−
ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビ
ス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサ
ン;N,N,N’,N’−テトラ−p−トリル−(1,
1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン;1,1−ビ
ス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニ
ルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メ
チルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−ト
リルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N’−ジフ
ェニル−N,N’−ジ(4−メトキシフェニル)−
(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン;N,
N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテル;4,4’−ビス(ジフェニルアミ
ノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリ
ル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミン)−4’−
〔4(ジ−p−トリルアミン)スチリル〕スチルベン;
4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニ
ル)ベンゼン;3−メトキシ−4’−N,N−ジフェニ
ルアミノスチルベン;N−フェニルカルバゾールなどが
挙げられる。These compounds can be used as a hole transfer compound, and the porphyrin compounds shown below (those described in JP-A-63-295695)
And aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds (U.S. Pat. No. 4,127,412, JP-A-53-53)
27033, 54-58445, 54.
No. 149634, No. 54-64299, No. 55-79450, No. 55-144250, No. 56-119132, No. 61-29555.
8 gazette, the same 61-98353 gazette, the same 63-295.
No. 695, etc.), and it is particularly preferable to use the aromatic tertiary amine compound. Typical examples of the porphyrin compound include porphyrin; 1,10,1
5,20-Tetraphenyl-21H, 23H-porphyrin copper (II); 1,10,15,20-Tetraphenyl-21H, 23H-porphyrin zinc (II); 5,1
0,15,20-Tetrakis (pentafluorophenyl) -21H, 23H-porphyrin; Silicon phthalocyanine oxide; Aluminum phthalocyanine chloride; Phthalocyanine (metal free); Dilithium phthalocyanine; Copper tetramethylphthalocyanine; Copper phthalocyanine; Chromium phthalocyanine; Zinc phthalocyanine Lead phthalocyanine; titanium phthalocyanine oxide; magnesium phthalocyanine; copper octamethylphthalocyanine and the like. Further, as typical examples of the aromatic tertiary compound and the styrylamine compound, N, N,
N ', N'-tetraphenyl- (1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine; N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- [1,1' -Biphenyl] -4,4'-diamine; 2,2-bis (4-
Di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl- (1,
1'-biphenyl) -4,4'-diamine; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N'-di (4-methoxyphenyl)-
(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine; N,
N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- ( Di-p-tolylamine) -4'-
[4 (di-p-tolylamine) styryl] stilbene;
4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbene; N-phenylcarbazole and the like.
【0046】上記EL素子における該正孔注入層は、こ
れらの正孔伝達化合物一種又は二種以上からなる一層で
構成されてもよいし、あるいは、前記層とは別種の化合
物からなる正孔注入層を積層したものであってもよい。
一方、前記(3)の構成のEL素子における電子注入層
(電子注入輸送層)は、電子伝達化合物からなるもので
あって、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機
能を有している。このような電子伝達化合物について特
に制限はなく、従来公知の化合物の中から任意のものを
選択して用いることができる。該電子伝達化合物の好ま
しい例としては、The hole injecting layer in the EL device may be composed of a single layer containing one or more of these hole transporting compounds, or a hole injecting layer containing a compound different from the above layer. It may be a stack of layers.
On the other hand, the electron injecting layer (electron injecting and transporting layer) in the EL device having the above-mentioned configuration (3) is made of an electron transfer compound and has a function of transferring the electrons injected from the cathode to the light emitting layer. There is. There is no particular limitation on such an electron transfer compound, and any compound can be selected and used from conventionally known compounds. Preferred examples of the electron transfer compound include:
【0047】[0047]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0048】などのニトロ置換フルオレノン誘導体、Nitro-substituted fluorenone derivatives such as
【0049】[0049]
【化27】 [Chemical 27]
【0050】などのチオピランジオキシド誘導体,Thiopyran dioxide derivatives such as
【0051】[0051]
【化28】 [Chemical 28]
【0052】などのジフェニルキノン誘導体〔「ポリマ
ー・プレプリント( Polymer Preprints),ジャパン」第
37巻,第3号,第681ページ(1988年)などに
記載のもの〕、あるいはDiphenylquinone derivatives such as those described in "Polymer Preprints, Japan", Vol. 37, No. 3, page 681 (1988), or the like.
【0053】[0053]
【化29】 [Chemical 29]
【0054】などの化合物〔「ジャーナル・オブ・アプ
ライド・フィジックス(J.Apply.Phys.)」第27巻,
第269頁(1988年)などに記載のもの〕や、アン
トラキノジメタン誘導体(特開昭57−149259号
公報,同58−55450号公報,同61−22515
1号公報,同61−233750号公報,同63−10
4061号公報などに記載のもの)、フレオレニリデン
メタン誘導体(特開昭60−69657号公報,同61
−143764号公報,同61−148159号公報な
どに記載のもの)、アントロン誘導体(特開昭61−2
25151号公報,同61−233750号公報などに
記載のもの)Compounds such as [Journal of Applied Physics, Vol. 27,
Those described on page 269 (1988), etc., and anthraquinodimethane derivatives (JP-A-57-149259, JP-A-58-55450, JP-A-61-22515).
No. 1, gazette 61-233750, gazette 63-10.
4061) and fluorenylidene methane derivatives (JP-A-60-69657 and 61).
Those described in JP-A-143764, JP-A-61-148159, etc.) and anthrone derivatives (JP-A-61-2).
No. 25151, No. 61-233750, etc.)
【0055】[0055]
【化30】 [Chemical 30]
【0056】(式中、t−Buはターシャリブチル基を
示す。)「Appl.Phys.Lett. 」第55巻、第1489ペ
ージ(1989年)に開示されているオキサジアゾール
誘導体などを挙げることができる。なお、正孔注入層及
び電子注入層は電化の注入性,輸送性,障壁性のいずれ
かを有する層であり、上記した有機材料の他にSi系,
SiC系,CdS系などの結晶性ないし非結晶性材料な
どの無機材料を用いることもできる。有機材料を用いた
正孔注入層及び電子注入層は発光層と同様にして形成す
ることができ、無機材料を用いた正孔注入層及び電子注
入層は真空蒸着法やスパッタリングなどにより形成でき
るが、有機及び無機のいずれの材料を用いた場合でも発
光層のときと同様の理由から真空蒸着法により形成する
ことが好ましい。(In the formula, t-Bu represents a tert-butyl group.) Examples include oxadiazole derivatives disclosed in "Appl. Phys. Lett." Vol. 55, page 1489 (1989). be able to. Note that the hole-injection layer and the electron-injection layer are layers having any of an injection property of electric charge, a transport property, and a barrier property.
It is also possible to use an inorganic material such as a crystalline or non-crystalline material such as SiC-based or CdS-based. The hole injection layer and the electron injection layer using an organic material can be formed in the same manner as the light emitting layer, and the hole injection layer and the electron injection layer using an inorganic material can be formed by a vacuum vapor deposition method or sputtering. It is preferable to use the vacuum vapor deposition method regardless of whether organic or inorganic materials are used for the same reason as in the case of the light emitting layer.
【0057】次に、本発明の化合物を用いたEL素子を
作製する好適な方法の例を、各構成の素子それぞれにつ
いて説明する。前記の陽極/発光層/陰極からなるEL
素子の作製法について説明すると、まず適当な基板上
に、所望の電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜
を、1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の
膜厚になるように、蒸着やスパッタリングなどの方法に
より形成させ、陽極を作製したのち、この上に発光材料
である一般式(I)で表される化合物の薄膜を形成さ
せ、発光層を設ける。該発光材料の薄膜化の方法として
は、例えばスピンコート法,キャスト法,蒸着法などが
あるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生
成しにくいなどの点から、蒸着法が好ましい。該発光材
料の薄膜化に、この蒸着法を採用する場合、その蒸着条
件は、使用する発光層に用いる有機化合物の種類,分子
堆積膜の目的とする結晶構造,会合構造などにより異な
るが、一般にボート加熱温度50〜400℃,真空度1
0-5〜10-3Pa,蒸着速度0.01〜50nm/se
c,基板温度−50〜+300℃,膜厚5nmないし5
μmの範囲で適宜選ぶことが望ましい。次にこの発光層
の形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、1μm
以下、好ましくは50〜200nmの範囲の膜厚になる
ように、例えば蒸着やスパッタリングなどの方法により
形成させ、陰極を設けることにより、所望のEL素子が
得られる。なお、このEL素子の作製においては、作製
順序を逆にして、陰極,発光層,陽極の順に作製するこ
とも可能である。Next, an example of a suitable method for producing an EL device using the compound of the present invention will be described for each device of each constitution. EL consisting of the above-mentioned anode / light-emitting layer / cathode
Explaining the method of manufacturing the device, first, a thin film made of a desired electrode material, for example, a material for an anode, is vapor-deposited or sputtered on a suitable substrate so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably 10 to 200 nm. After forming a positive electrode by a method such as the above, a thin film of a compound represented by the general formula (I), which is a light emitting material, is formed on this to form a light emitting layer. As a method for thinning the light emitting material, there are, for example, a spin coating method, a casting method, a vapor deposition method and the like, but the vapor deposition method is preferable from the viewpoint that a uniform film is easily obtained and pinholes are not easily generated. . When this vapor deposition method is used for thinning the light emitting material, the vapor deposition conditions generally differ depending on the type of organic compound used in the light emitting layer used, the target crystal structure of the molecular deposited film, the association structure, etc. Boat heating temperature 50-400 ℃, vacuum degree 1
0 -5 to 10 -3 Pa, vapor deposition rate 0.01 to 50 nm / se
c, substrate temperature −50 to + 300 ° C., film thickness 5 nm to 5
It is desirable to select it appropriately in the range of μm. Next, after forming this light-emitting layer, a thin film of a cathode material is formed thereon to a thickness of 1 μm.
Hereinafter, a desired EL element can be obtained by forming a film having a thickness of preferably 50 to 200 nm by a method such as vapor deposition or sputtering and providing a cathode. In the production of this EL element, it is possible to reverse the production order and produce the cathode, the light emitting layer and the anode in this order.
【0058】次に、陽極/正孔注入層/発光層/陰極か
らなるEL素子の作製法について説明すると、まず、陽
極を前記のEL素子の場合と同様にして形成したのち、
その上に、正孔伝達化合物からなる薄膜を蒸着法などに
より形成し、正孔注入層を設ける。この際の蒸着条件
は、前記発光材料の薄膜形成の蒸着条件に準じればよ
い。次に、この正孔注入層の上に、順次発光層及び陰極
を、前記EL素子の作製の場合と同様にして設けること
により、所望のEL素子が得られる。なお、このEL素
子の作製においても、作製順序を逆にして、陰極,発光
層,正孔注入層,陽極の順に作製することも可能であ
る。Next, a method of manufacturing an EL element composed of anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode will be described. First, an anode is formed in the same manner as in the case of the EL element, and then,
A thin film made of a hole transfer compound is formed thereon by a vapor deposition method or the like to provide a hole injection layer. The vapor deposition conditions at this time may conform to the vapor deposition conditions for forming the thin film of the light emitting material. Next, a desired EL element is obtained by sequentially providing a light emitting layer and a cathode on the hole injecting layer in the same manner as in the case of manufacturing the EL element. Also in the fabrication of this EL element, the fabrication order can be reversed to fabricate the cathode, the light emitting layer, the hole injection layer, and the anode in this order.
【0059】さらに、陽極/正孔注入層/発光層/電子
注入層/陰極からなるEL素子の作製法について説明す
ると、まず、前記のEL素子の作製の場合と同様にし
て、陽極,正孔注入層,発光層を順次設けたのち、この
発光層の上に、電子伝達化合物からなる薄膜を蒸着法な
どにより形成し、電子注入層を設け、次いでこの上に、
陰極を前記EL素子の作製の場合と同様にして設けるこ
とにより、所望のEL素子が得られる。なお、このEL
素子の作製においても、作製順序を逆にして、陰極,電
子注入層,発光層,正孔注入層,陽極の順に作製しても
よい。さらに、陽極/発光層/電子注入層/陰極からな
るEL素子の作製法について説明すると、まず、前記の
EL素子の作製の場合と同様にして、陽極,発光層を順
次設けたのち、この発光層の上に、電子伝達化合物から
なる薄膜を蒸着法などにより形成し、電子注入層を設
け、次いでこの上に、陰極を前記EL素子の作製の場合
と同様にして設けることにより、所望のEL素子が得ら
れる。なお、このEL素子の作製においても、作製順序
を逆にして、陰極,電子注入層,発光層,陽極の順に作
製してもよい。Further, a method of manufacturing an EL element consisting of anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode will be described. First, in the same manner as in the case of manufacturing the EL element, an anode and a hole are formed. After sequentially providing an injection layer and a light emitting layer, a thin film made of an electron transfer compound is formed on the light emitting layer by a vapor deposition method or the like, and an electron injection layer is provided, and then, a thin film is formed.
A desired EL element can be obtained by providing the cathode in the same manner as in the case of manufacturing the EL element. In addition, this EL
Also in the fabrication of the device, the fabrication order may be reversed, and the cathode, the electron injection layer, the light emitting layer, the hole injection layer, and the anode may be fabricated in this order. Further, a method of manufacturing an EL element composed of anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode will be described. First, similarly to the case of manufacturing the EL element, an anode and a light emitting layer are sequentially provided, and then this light emission is performed. A thin film made of an electron transfer compound is formed on the layer by a vapor deposition method or the like to provide an electron injection layer, and then a cathode is provided thereon in the same manner as in the case of manufacturing the EL element to obtain a desired EL. The device is obtained. Also in the fabrication of this EL element, the fabrication order may be reversed to fabricate the cathode, the electron injection layer, the light emitting layer, and the anode in this order.
【0060】このようにして得られたEL素子に、直流
電圧を印加する場合には、陽極を+,陰極を−の極性と
して電圧5〜40V程度を印加すると、発光が透明又は
半透明の電極側より観測できる。また、逆の極性で電圧
を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。さら
に、交流電圧を印加する場合には、陽極が+,陰極が−
の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流
の波形は任意でよい。次に、該EL素子の発光メカニズ
ムについて、陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極の構
成の場合を例に挙げて説明する。前記陽極を+、陰極を
−の極性として電圧を印加すると、正孔が該陽極より正
孔注入層内に電界により注入される。この注入された正
孔は、該正孔注入輸送層内を発光層との界面に向けて輸
送され、この界面から発光機能が発現される領域(例え
ば発光層)に注入又は輸送される。一方、電子は、陰極
から発光層内に電界により注入され、さらに輸送され、
正孔のいる領域、すなわち、発光機能が発現される領域
で正孔と再結合する(この意味で、前記領域は再結合領
域といってもよい)。この再結合が行われると、分子、
その会合体又は結晶などの励起状態が形成され、これが
光に変換される。なお、再結合領域は、正孔注入輸送層
と発光層との界面でもよいし、発光層と陰極との界面で
もよく、あるいは両界面より離れた発光層中央部であっ
てもよい。これは使用する化合物の種類、その会合や結
晶構造により変わる。When a direct current voltage is applied to the EL device thus obtained, a voltage of about 5 to 40 V is applied with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. It can be observed from the side. Moreover, even if a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. Furthermore, when an AC voltage is applied, the anode is + and the cathode is-.
The light is emitted only when the state becomes. The waveform of the alternating current applied may be arbitrary. Next, the light emitting mechanism of the EL device will be described by taking the case of the structure of anode / hole injecting and transporting layer / light emitting layer / cathode as an example. When a voltage is applied with the anode having a positive polarity and the cathode having a negative polarity, holes are injected from the anode into the hole injection layer by an electric field. The injected holes are transported inside the hole injecting and transporting layer toward the interface with the light emitting layer, and are injected or transported from the interface to a region where the light emitting function is exhibited (for example, the light emitting layer). On the other hand, electrons are injected from the cathode into the light emitting layer by an electric field and further transported,
It recombines with holes in a region where holes are present, that is, a region where a light emitting function is exhibited (in this sense, the region may be called a recombination region). When this recombination takes place, the molecule,
An excited state such as an associated body or a crystal is formed, and this is converted into light. The recombination region may be at the interface between the hole injecting and transporting layer and the light emitting layer, at the interface between the light emitting layer and the cathode, or at the center of the light emitting layer distant from both interfaces. This depends on the type of compound used, its association and crystal structure.
【0061】[0061]
【実施例】次に本発明を実施例に基いてさらに詳しく説
明する。実施例1 (1)アリーレン基含有リン化合物の製造 2,5−ビス(クロロメチル)キシレン25gと亜リン
酸トリエチル49gを、アルゴン気流下オイルバスで、
温度150℃で7時間加熱攪拌を行った。その後、過剰
の亜リン酸トリエチル及び副生した塩化エチルを減圧留
去した。一晩放置後、生成した白色粉末をn−ヘキサン
で再結晶した結果、白色結晶46.5g(収率93%)を
得た。得られた生成物の融点は61.5〜63.5℃であっ
た。また、 1H−NMR分析は以下の通りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=6.9ppm (s;2H,中心キシレン環−H) δ=3.9ppm (q;8H,エトキシ基メチレン−CH2) δ=3.1ppm (d;4H,J=20Hz( 31P− 1Hカ
ップリング)P−CH2) δ=2.2ppm (s;6H,キシレン環−CH3 ) δ=1.1ppm (t;12H,エトキシ基メチル−CH3) 以上の結果から、上述の生成物は、下記式で表されるア
リーレン基含有リン化合物(ホスホネート)であること
が確認された。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail based on examples. Example 1 (1) Production of arylene group-containing phosphorus compound 25 g of 2,5-bis (chloromethyl) xylene and 49 g of triethyl phosphite were placed in an oil bath under an argon stream in an oil bath.
The mixture was heated and stirred at a temperature of 150 ° C. for 7 hours. Then, excess triethyl phosphite and by-produced ethyl chloride were distilled off under reduced pressure. After standing overnight, the produced white powder was recrystallized from n-hexane to obtain 46.5 g of white crystals (yield 93%). The melting point of the obtained product was 61.5-63.5 ° C. The 1 H-NMR analysis is as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 6.9 ppm (s; 2H, central xylene ring-H) δ = 3.9 ppm (q; 8H, methylene-CH 2 ethoxy group) δ = 3.1 ppm (d; 4H , J = 20Hz (31 P- 1 H coupling) P-CH 2) δ = 2.2ppm (s; 6H, xylene ring -CH 3) δ = 1.1ppm (t ; 12H, ethoxy group methyl -CH 3 From the above results, it was confirmed that the above product was an arylene group-containing phosphorus compound (phosphonate) represented by the following formula.
【0062】[0062]
【化31】 [Chemical 31]
【0063】(2)スチリル化合物の製造 上記(1)で得られたホスホネート2.4gとp−シアノ
ベンゾフェノン2.7gを、ジメチルスルホキシド100
ミリリットルに溶解し、これにカリウム−t−ブトキシ
ド1.4gを加え、アルゴン気流下室温で6時間攪拌した
後、一晩放置した。 得られた混合物にメタノール30
0ミリリットルを加え、析出した結晶を濾過した。次い
で、濾過生成物をカラム精製(展開溶媒にクロロホルム
を用いたシリカゲルカラム)を行った結果、淡黄色粉末
0.5gを得た(収率17%)。このものの融点は253
〜256℃であった。またこの粉末の 1H−NMR分析
は以下の通りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=7.5〜6.9ppm (m;20H,芳香環) δ=6.5ppm (s;2H,メチリディン−CH=C=) δ=2.0ppm (s;6H,キシレン環−CH3 ) さらに元素分析結果は、組成式C38H28N2 として以下
の通りである。なお括弧内は理論値である。 C:89.21%(89.03%) H: 5.40%(5.51%) N: 5.27%(5.46%) また、赤外線(IR)吸収スペクトル(KBr錠剤法)
は、以下の通りである。(2) Preparation of styryl compound 2.4 g of the phosphonate obtained in the above (1) and 2.7 g of p-cyanobenzophenone were mixed with dimethyl sulfoxide 100
It was dissolved in milliliter, potassium-t-butoxide (1.4 g) was added thereto, and the mixture was stirred under an argon stream at room temperature for 6 hours and then left overnight. Methanol 30 was added to the obtained mixture.
0 ml was added and the precipitated crystals were filtered. Then, the filtered product was subjected to column purification (silica gel column using chloroform as a developing solvent), which resulted in a pale yellow powder.
0.5 g was obtained (17% yield). The melting point of this product is 253.
Was ~ 256 ° C. The 1 H-NMR analysis of this powder is as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 7.5 to 6.9 ppm (m; 20H, aromatic ring) δ = 6.5 ppm (s; 2H, methylidin-CH = C =) δ = 2.0 ppm (s; 6H, xylene ring -CH 3) further the elemental analysis results are as follows as the composition formula C 38 H 28 N 2. The values in parentheses are theoretical values. C: 89.21% (89.03%) H: 5.40% (5.51%) N: 5.27% (5.46%) Also, infrared (IR) absorption spectrum (KBr tablet method)
Is as follows.
【0064】[0064]
【化32】 [Chemical 32]
【0065】また、マススペクトルより、目的物の主な
分子イオンピークはm/Z=512であった。以上のこ
とより、上記生成物である淡黄色粉末は、下記式From the mass spectrum, the main molecular ion peak of the target substance was m / Z = 512. From the above, the light yellow powder which is the above product has the following formula:
【0066】[0066]
【化33】 [Chemical 33]
【0067】で表される2,5−ビス〔2−(4−シア
ノフェニル)−2−フェニルビニル〕キシレンであるこ
とが確認された。It was confirmed to be 2,5-bis [2- (4-cyanophenyl) -2-phenylvinyl] xylene represented by:
【0068】実施例2 (1)アリーレン基含有リン化合物の製造 4,4’−ビス(ブロモメチル)ビフェニル9.0gと亜
リン酸トリエチル11gを、アルゴン気流下オイルバス
で、温度140℃で6時間加熱攪拌を行った。その後、
過剰の亜リン酸トリエチル及び副生した臭化エチルを減
圧留去した。一晩放置後、白色結晶9.5g( 収率80%
)を得た。得られた生成物の融点は97.0〜100.0℃
であった。また、 1H−NMR分析結果は以下の通りで
ある。 1H−NMR(CDCl3) δ=7.0〜7.6ppm (m ;8H,ビフェニレン環−H) δ=4.0ppm (q; 8H,エトキシ基メチレン−CH2) δ=3.1ppm (d; 4H,J=20Hz(31P− 1Hカッ
プリング)P−CH2) δ=1.3ppm (t; 12H,エトキシ基メチル−CH3) 以上の結果から、上述の生成物は、下記式で表されるア
リーレン基含有リン化合物(ホスホネート)であること
が確認された。Example 2 (1) Production of arylene group-containing phosphorus compound 9.0 g of 4,4′-bis (bromomethyl) biphenyl and 11 g of triethyl phosphite were placed in an oil bath under an argon stream at a temperature of 140 ° C. for 6 hours. The mixture was heated and stirred. afterwards,
Excessive triethyl phosphite and by-produced ethyl bromide were distilled off under reduced pressure. After standing overnight, white crystals 9.5g (yield 80%
) Got. The melting point of the obtained product is 97.0-100.0 ° C.
Met. The results of 1 H-NMR analysis are as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 7.0 to 7.6 ppm (m; 8H, biphenylene ring-H) δ = 4.0 ppm (q; 8H, ethoxy group methylene-CH 2 ) δ = 3.1 ppm ( d; 4H, J = 20Hz ( 31 P- 1 H coupling) P-CH 2) δ = 1.3ppm (t; from 12H, ethoxy group methyl -CH 3) As a result, the product described above, the following It was confirmed to be an arylene group-containing phosphorus compound (phosphonate) represented by the formula.
【0069】[0069]
【化34】 [Chemical 34]
【0070】(2)スチリル化合物の製造 上記(1)で得られたホスホネート1.4gとp−シアノ
ベンゾフェノン1.4gを、ジメチルスルホキシド60ミ
リリットルに溶解し、カリウム−t−ブトキシド0.7g
を加え、アルゴン気流下、室温にて攪拌した後、一晩放
置した。得られた混合物の溶媒を留去した後、メタノー
ル200ミリリットルを加え、析出した結晶を濾過し
た。次いで、濾過生成物をカラム精製(展開溶媒にクロ
ロホルムを用いたシリカゲルカラム)を行った結果、淡
黄色粉末0.3gが得られた(収率18%)。得られた生
成物の融点は257〜261℃であった。またこの粉末
の 1H−NMR分析結果は以下の通りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=6.8〜7.5ppm (m ;28H,芳香環及びメチリデ
ィン−CH=C=) さらに元素分析結果は、組成式C42H28N2 として以下
の通りである。なお括弧内は理論値である。 C:89.74% (89.97%) H: 4.83% ( 5.03%) N: 4.77% ( 5.00%) また、赤外線(IR)吸収スペクトル(KBr 錠剤法)
は、以下の通りである。(2) Preparation of styryl compound 1.4 g of the phosphonate obtained in (1) above and 1.4 g of p-cyanobenzophenone were dissolved in 60 ml of dimethyl sulfoxide, and 0.7 g of potassium t-butoxide was dissolved.
Was added, and the mixture was stirred at room temperature under an argon stream and then left overnight. The solvent of the obtained mixture was distilled off, 200 ml of methanol was added, and the precipitated crystals were filtered. Then, the filtered product was subjected to column purification (silica gel column using chloroform as a developing solvent), and as a result, 0.3 g of a pale yellow powder was obtained (yield 18%). The melting point of the obtained product was 257 to 261 ° C. The results of 1 H-NMR analysis of this powder are as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 6.8 to 7.5 ppm (m; 28H, aromatic ring and methylidin-CH = C =) Further, the elemental analysis result is as follows as a composition formula C 42 H 28 N 2. Is. The values in parentheses are theoretical values. C: 89.74% (89.97%) H: 4.83% (5.03%) N: 4.77% (5.000%) Also, infrared (IR) absorption spectrum (KBr tablet method)
Is as follows.
【0071】[0071]
【化35】 [Chemical 35]
【0072】また、マススペクトルより、目的物の主な
分子イオンピークはm/Z=560であった。以上のこ
とより、上記生成物である淡黄色粉末は、下記式From the mass spectrum, the main molecular ion peak of the target substance was m / Z = 560. From the above, the light yellow powder which is the above product has the following formula:
【0073】[0073]
【化36】 [Chemical 36]
【0074】で表される4,4’−ビフェニレンジメチ
リディン誘導体であることが確認された。It was confirmed to be a 4,4'-biphenylene dimethylidene derivative represented by:
【0075】実施例3 実施例2の(2)において(1)で得られたホスホネー
トの代わりに、2,2’−ジメチルビフェニルのホスホ
ン酸エステルを用いた以外は、実施例2と同様に操作し
た。得られた混合物の溶媒を留去した後、メタノール2
00ミリリットルを加え、析出した結晶を濾過した。次
いで、濾過生成物をカラム精製(展開溶媒にクロロホル
ムを用いたシリカゲルカラム)を行った結果、白色粉末
0.6gが得られた(収率20%)。得られた生成物の融
点は193〜195℃であった。またこの粉末の 1H−
NMR分析結果は以下の通りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=7.0〜7.6ppm ( m ;24H,中心ビフェニレン及
び末端フェニル) δ=6.6ppm (s ;2H,ビニル) δ=1.8ppm (s ;6H,メチル基) さらに元素分析結果は、組成式C44H32N2 として以下
の通りである。なお括弧内は理論値である。 C:89.51% (89.76%) H: 5.53% ( 5.48%) N: 4.46% ( 4.76%) また、赤外線(IR)吸収スペクトル(KBr 錠剤法)
は、以下の通りである。Example 3 The procedure of Example 2 was repeated, except that the phosphonate obtained in (1) in (2) of Example 2 was replaced by a phosphonate ester of 2,2'-dimethylbiphenyl. did. After distilling off the solvent of the obtained mixture, methanol 2
00 ml was added, and the precipitated crystals were filtered. Then, the filtered product was subjected to column purification (silica gel column using chloroform as a developing solvent), and as a result, white powder
0.6 g was obtained (20% yield). The melting point of the obtained product was 193-195 ° C. Moreover, 1 H- of this powder
The NMR analysis results are as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 7.0 to 7.6 ppm (m; 24H, central biphenylene and terminal phenyl) δ = 6.6 ppm (s; 2H, vinyl) δ = 1.8 ppm (s; 6H, Methyl group) Furthermore, the elemental analysis results are as follows with the composition formula C 44 H 32 N 2 . The values in parentheses are theoretical values. C: 89.51% (89.76%) H: 5.53% (5.48%) N: 4.46% (4.76%) Also, infrared (IR) absorption spectrum (KBr tablet method)
Is as follows.
【0076】[0076]
【化37】 [Chemical 37]
【0077】また、マススペクトルより、目的物の主な
分子イオンピークはm/Z=588が検出された。以上
のことより、上記生成物である淡黄色粉末は、下記式From the mass spectrum, the main molecular ion peak of the target substance was detected at m / Z = 588. From the above, the light yellow powder which is the above product has the following formula:
【0078】[0078]
【化38】 [Chemical 38]
【0079】で表される2,2’−ジメチル−4,4’
−ビフェニレンジメチリディン誘導体であることが確認
された。2,2'-dimethyl-4,4 'represented by
-It was confirmed to be a biphenylene dimethylidene derivative.
【0080】実施例4Example 4
【0081】実施例2の(2)において(1)で得られ
たホスホネートの代わりに、2,2’,5,5’−テト
ラクロロビフェニルのホスホン酸エステルを用いた以外
は、実施例2と同様に操作した。得られた混合物の溶媒
を留去した後、メタノール200ミリリットルを加え、
析出した結晶を濾過した。次いで、濾過生成物をカラム
精製(展開溶媒にクロロホルムを用いたシリカゲルカラ
ム)を行った結果、白色粉末1.7gが得られた(収率6
2%)。得られた生成物の融点は210〜212℃であ
った。またこの粉末の 1H−NMR分析結果は以下の通
りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=7.0〜7.6ppm ( m ;22H,中心ビフェニレン及
び末端フェニル) δ=6.8ppm (s ;2H,ビニル) さらに元素分析結果は、組成式C42H24Cl4 N2 とし
て以下の通りである。なお括弧内は理論値である。 C:72.41% (72.22%) H: 3.59% ( 3.46%) N: 3.79% ( 4.01%) また、赤外線(IR)吸収スペクトル(KBr 錠剤法)
は、以下の通りである。Example 2 was repeated except that the phosphonate obtained in (1) in (2) of Example 2 was replaced by a phosphonate ester of 2,2 ', 5,5'-tetrachlorobiphenyl. The same operation was performed. After distilling off the solvent of the obtained mixture, 200 ml of methanol was added,
The precipitated crystals were filtered. Then, the filtered product was subjected to column purification (silica gel column using chloroform as a developing solvent), and as a result, 1.7 g of white powder was obtained (yield 6
2%). The melting point of the obtained product was 210 to 212 ° C. The results of 1 H-NMR analysis of this powder are as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 7.0 to 7.6 ppm (m; 22H, central biphenylene and terminal phenyl) δ = 6.8 ppm (s; 2H, vinyl) Further, the elemental analysis result is the composition formula C 42. it is as follows as H 24 Cl 4 N 2. The values in parentheses are theoretical values. C: 72.41% (72.22%) H: 3.59% (3.46%) N: 3.79% (4.01%) Also, infrared (IR) absorption spectrum (KBr tablet method)
Is as follows.
【0082】[0082]
【化39】 [Chemical Formula 39]
【0083】また、マススペクトルより、目的物の主な
分子イオンピークはm/Z=698が検出された。以上
のことより、上記生成物である淡黄色粉末は、下記式From the mass spectrum, the main molecular ion peak of the target substance was detected at m / Z = 698. From the above, the light yellow powder which is the above product has the following formula:
【0084】[0084]
【化40】 [Chemical 40]
【0085】で表される2,2’,5,5’−テトラク
ロロ−4,4’−ビフェニレンジメチリディン誘導体で
あることが確認された。It was confirmed to be a 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-biphenylene dimethylidene derivative represented by:
【0086】実施例5(スチリル化合物からなるEL素
子) 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上にITO
を蒸着法にて100nmの厚さで製膜したもの(HOY
A製)を透明支持基板とした。次いで、この透明支持基
板をプロピルアルコール中,純水中,イソプロピルアル
コール中の順に超音波洗浄を行い、その後、乾燥窒素を
吹きつけ基板表面から溶媒を除去した。さらに、上記洗
浄後の基板をUV/O3 ドライストリッパー(サムコイ
ンターナショナル製)で3分間処理し、基板表面の有機
物を除去した。この透明支持基板を市販の蒸着装置(日
本真空技術(株)製)の基板ホルダーに固定し、モリブ
テン製の抵抗加熱ボートにN,N’−ビス(3−メチル
フェニル)−N,N’−ビフェニル−〔1,1’−ビフ
ェニル〕−4,4’−ジアミン(TPD)を200mg
入れ、また別のモリブテン製ボートに実施例2で得られ
た4,4’−ビス〔2−(4−シアノフェニル)−2−
フェニルビニル〕ビフェニル(CPPVBi)を200
mg入れて真空槽を1×10-4Paまで減圧した。その
後TPD入りの前記ボートを、215〜220℃まで加
熱し、TPDを蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で透明支持
基板上に蒸着して、膜厚60nmの正孔注入層を製膜さ
せた。この時の基板温度は室温であった。次いで、これ
を真空槽より取り出すことなく、正孔注入層の上に、も
う一つのボートよりCPPVBiを発光層として80n
m積層蒸着した。蒸着条件は、ボート温度が330℃で
蒸着速度は0.2〜0.4nm/秒、基板温度は室温であっ
た。これを真空槽より取り出し、上記発光層の上にステ
ンレススチール製のマスクを設置し、再び基板ホルダー
に固定した。次にモリブテン製の抵抗加熱ボートにマグ
ネシウムリボン1gを入れ、また別のモリブテン製の抵
抗加熱ボートにインジウムを500mg装着した。その
後真空槽を2×10-4Paまで減圧してから、インジウ
ムを0.03〜0.08nm/秒の蒸着速度で、同時にもう
一方のボートよりマグネシウムを1.7〜2.8nm/秒の
蒸着速度で蒸着し始めた。ボートの温度はインジウム入
り,マグネシウム入りのボートそれぞれ800℃,50
0℃程度であった。上記条件でマグネシウムとインジウ
ムの混合金属電極を発光層の上に150nm積層蒸着し
て対向電極とし、素子を形成した。ITO電極を陽極、
マグネシウムとインジウムの混合金属電極を陰極とし
て、得られた素子に、直流電圧10Vを印加すると電流
が330mA/cm2 程度流れ、色度座標でYellowGree
n発光を得た。ピーク波長は分光測定より563nmで
あり、発光輝度は2000cd/cm2 以上であった。
また、得られたEL素子について定電流駆動(1.0mA
/cm2 )を窒素中で行い、初期輝度劣化の測定をおこ
なった。ITO電極を陽極、マグネシウムとインジウム
の混合金属電極を陰極として、得られた素子に電流を流
し一定時間毎に輝度及び印加電圧を測定した結果、1時
間で20%の減少があったものの、それ以降は安定した
発光が得られた(図1参照)。Example 5 (EL device made of styryl compound) ITO was formed on a glass substrate of 25 mm × 75 mm × 1.1 mm.
A film formed by vapor deposition to a thickness of 100 nm (HOY
A) was used as a transparent support substrate. Then, the transparent supporting substrate was ultrasonically cleaned in propyl alcohol, pure water, and isopropyl alcohol in this order, and then dry nitrogen was blown to remove the solvent from the substrate surface. Further, the cleaned substrate was treated with a UV / O 3 dry stripper (manufactured by Samco International) for 3 minutes to remove organic substances on the substrate surface. This transparent support substrate was fixed to a substrate holder of a commercially available vapor deposition device (manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.), and was placed on a resistance heating boat made of molybdenum in which N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-. 200 mg of biphenyl- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD)
4,4'-bis [2- (4-cyanophenyl) -2-obtained in Example 2 was placed in another molybden boat.
Phenylvinyl] biphenyl (CPPVBi) 200
After adding mg, the pressure in the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. After that, the boat containing TPD is heated to 215 to 220 ° C., TPD is vapor-deposited on the transparent support substrate at a vapor deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec to form a hole injection layer having a film thickness of 60 nm. Let The substrate temperature at this time was room temperature. Then, without taking this out from the vacuum chamber, 80n of CPPVBi was used as a light emitting layer from another boat on the hole injection layer.
m vapor deposition was performed. Regarding the vapor deposition conditions, the boat temperature was 330 ° C., the vapor deposition rate was 0.2 to 0.4 nm / sec, and the substrate temperature was room temperature. This was taken out of the vacuum chamber, a stainless steel mask was placed on the light emitting layer, and it was fixed again to the substrate holder. Next, 1 g of magnesium ribbon was put in a resistance heating boat made of molybden, and 500 mg of indium was attached to another resistance heating boat made of molybden. After that, the vacuum chamber was depressurized to 2 × 10 −4 Pa, and then indium was vapor-deposited at a deposition rate of 0.03 to 0.08 nm / sec, and at the same time magnesium of 1.7 to 2.8 nm / sec was supplied from the other boat. Deposition started at the deposition rate. The temperature of the boat is 800 ℃, 50 with indium and magnesium, respectively.
It was about 0 ° C. Under the above conditions, a mixed metal electrode of magnesium and indium was laminated and vapor-deposited on the light emitting layer in a thickness of 150 nm to form a counter electrode, thereby forming an element. ITO electrode as anode,
When a DC voltage of 10 V is applied to the obtained device with a mixed metal electrode of magnesium and indium as a cathode, a current of about 330 mA / cm 2 flows, and YellowGree in chromaticity coordinates
n emission was obtained. The peak wavelength was 563 nm by spectroscopic measurement, and the emission brightness was 2000 cd / cm 2 or more.
In addition, the obtained EL element was driven with constant current (1.0 mA
/ Cm 2 ) in nitrogen to measure the initial luminance deterioration. Using the ITO electrode as the anode and the mixed metal electrode of magnesium and indium as the cathode, a current was passed through the obtained device and the brightness and the applied voltage were measured at regular intervals. As a result, there was a 20% decrease in one hour. After that, stable light emission was obtained (see FIG. 1).
【0087】実施例6(スチリル化合物からなるEL素
子) 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上にITO
を蒸着法にて100nmの厚さで製膜したもの(HOY
A製)を透明支持基板とした。この透明支持基板をUV
オゾン処理装置(日本電池社製)にて2分間UVオゾン
洗浄を行った。次いで、市販の蒸着装置(日本真空技術
(株)製)の基板ホルダーに固定し、モリブテン製の抵
抗加熱ボートにTPDを200mg入れ、また別のモリ
ブテン製ボートに実施例1で得られた2,5−ビス〔2
−(4−シアノフェニル)−2−フェニルビニル〕キシ
レン(CPPVX)を200mg入れて真空槽を1×1
0-4Paまで減圧した。その後TPDの入った前記ボー
トを215〜220℃まで加熱し、TPDを蒸着速度0.
1〜0.3nm/秒で透明支持基板上に蒸着して、膜厚6
0nmの正孔注入層を製膜させた。この時の基板温度は
室温であった。次いで、これを真空槽より取り出すこと
なく、正孔注入層の上に、もう一つのボートよりCPP
VXを発光層として80nm積層蒸着した。蒸着条件
は、ボート温度が260℃で、蒸着速度は0.2〜0.4n
m/秒、基板温度は室温であった。これを真空槽より取
り出し、上記発光層の上にステンレススチール製のマス
クを設置し、再び基板ホルダーに固定した。次にモリブ
テン製の抵抗加熱ボートにマグネシウムリボン1gを入
れ、また別のモリブテン製の抵抗加熱ボートにインジウ
ム500mgを装着した。その後真空槽を2×10-4P
aまで減圧してから、インジウムを0.03〜0.08nm
/秒の蒸着速度で、同時にもう一方のボートよりマグネ
シウムを1.7〜2.8nm/秒の蒸着速度で蒸着し始め
た。ボートの温度はインジウム入り,マグネシウム入り
のボートそれぞれ800℃,500℃程度であった。上
記条件でマグネシウムとインジウムの混合金属電極を発
光層の上に150nm積層蒸着して対向電極とし、素子
を形成した。ITO電極を陽極、マグネシウムとインジ
ウムの混合金属電極を陰極として、得られた素子に、直
流電圧7.5Vを印加すると電流が12mA/cm2 程度
流れ、発光輝度135cd/cm2 、色度座標でYellow
ish Green 発光を得た。ピーク波長は分光測定より53
0nmであった。また、得られたEL素子について定電
流駆動(1.0mA/cm2 )を窒素中で行い、初期輝度
劣化の測定を行った。ITO電極を陽極、マグネシウム
とインジウムの混合金属電極を陰極として、得られた素
子に電流を流し一定時間毎に輝度及び印加電圧を測定し
た結果、1時間で25%の減少があったものの、それ以
降は安定した発光が得られた。Example 6 (EL device made of styryl compound) ITO was formed on a glass substrate of 25 mm × 75 mm × 1.1 mm.
A film formed by vapor deposition to a thickness of 100 nm (HOY
A) was used as a transparent support substrate. UV this transparent support substrate
UV ozone cleaning was performed for 2 minutes using an ozone treatment device (manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.). Then, it was fixed to a substrate holder of a commercially available vapor deposition apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.), 200 mg of TPD was put in a resistance heating boat made of molybdenum, and another molybdenum boat obtained in Example 1 was used. 5-bis [2
-(4-Cyanophenyl) -2-phenylvinyl] xylene (CPPVX) (200 mg) was added and the vacuum chamber was set to 1 × 1.
The pressure was reduced to 0 -4 Pa. After that, the boat containing TPD is heated to 215 to 220 ° C., and TPD is deposited at a deposition rate of 0.
A film thickness of 6 is obtained by vapor deposition on a transparent support substrate at 1 to 0.3 nm / sec.
A 0 nm hole injection layer was formed. The substrate temperature at this time was room temperature. Then, without removing this from the vacuum chamber, the CPP from another boat was placed on the hole injection layer.
80 nm of VX was vapor-deposited as a light emitting layer. The vapor deposition conditions are a boat temperature of 260 ° C. and a vapor deposition rate of 0.2 to 0.4n.
m / sec, the substrate temperature was room temperature. This was taken out of the vacuum chamber, a stainless steel mask was placed on the light emitting layer, and it was fixed again to the substrate holder. Next, 1 g of magnesium ribbon was put into a resistance heating boat made of molybden, and 500 mg of indium was attached to another resistance heating boat made of molybden. After that, set the vacuum chamber to 2 × 10 -4 P
After reducing the pressure to a, the indium content was reduced to 0.03 to 0.08 nm.
At the same time, the vapor deposition rate of 1.7 to 2.8 nm / sec was started from the other boat at the same time. The boat temperature was about 800 ° C. and 500 ° C., respectively, for boats containing indium and magnesium. Under the above conditions, a mixed metal electrode of magnesium and indium was laminated and vapor-deposited on the light emitting layer in a thickness of 150 nm to form a counter electrode, thereby forming an element. When a DC voltage of 7.5 V is applied to the obtained device with an ITO electrode as an anode and a mixed metal electrode of magnesium and indium as a cathode, a current flows at about 12 mA / cm 2 , emission luminance of 135 cd / cm 2 , and chromaticity coordinates. Yellow
I got ish Green luminescence. Peak wavelength is 53 from spectroscopic measurement
It was 0 nm. The EL device thus obtained was subjected to constant current driving (1.0 mA / cm 2 ) in nitrogen to measure deterioration of initial luminance. Using the ITO electrode as an anode and the mixed metal electrode of magnesium and indium as a cathode, a current was passed through the obtained device and the brightness and the applied voltage were measured at regular time intervals. As a result, there was a 25% decrease in one hour. After that, stable light emission was obtained.
【0088】実施例7 実施例2の(2)において(1)で得られたホスホネー
トの代わりに、2,2’−ジメチルビフェニルのホスホ
ン酸エステルを用い、p−シアノベンゾフェノンの代わ
りに、4,4’−ジシアノベンゾフェノンを用いた以外
は、実施例2と同様に操作した。得られた混合物の溶媒
を留去した後、メタノール200ミリリットルを加え、
析出した結晶を濾過した。次いで、濾過生成物をカラム
精製(展開溶媒に塩化メチレンを用いたシリカゲルカラ
ム)を行った結果、白色粉末0.5gが得られた(収率1
9%)。得られた生成物の融点は206.0〜207.0℃
であった。またこの粉末の 1H−NMR分析結果は以下
の通りである。 1 H−NMR(CDCl3) δ=6.8〜7.6ppm ( m ;22H,中心ビフェニレン及
び末端フェニル) δ=6.5ppm (s ;2H,ビニル) δ=1.8ppm (s ;6H,メチル基) さらに元素分析結果は、組成式C46H30N4 として以下
の通りである。なお括弧内は理論値である。 C:86.27% (86.50%) H: 5.01% ( 4.73%) N: 8.54% ( 8.77%) また、赤外線(IR)吸収スペクトル(KBr 錠剤法)
は、以下の通りである。Example 7 A phosphonate ester of 2,2′-dimethylbiphenyl was used in place of the phosphonate obtained in (1) in (2) of Example 2 and 4, 4 was used in place of p-cyanobenzophenone. The same operation as in Example 2 was carried out except that 4′-dicyanobenzophenone was used. After distilling off the solvent of the obtained mixture, 200 ml of methanol was added,
The precipitated crystals were filtered. Then, the filtered product was subjected to column purification (silica gel column using methylene chloride as a developing solvent), and as a result, 0.5 g of a white powder was obtained (yield 1
9%). The melting point of the obtained product is 206.0 to 207.0 ° C.
Met. The results of 1 H-NMR analysis of this powder are as follows. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ = 6.8 to 7.6 ppm (m; 22H, central biphenylene and terminal phenyl) δ = 6.5 ppm (s; 2H, vinyl) δ = 1.8 ppm (s; 6H, Methyl group) Furthermore, the elemental analysis results are as follows with the composition formula C 46 H 30 N 4 . The values in parentheses are theoretical values. C: 86.27% (86.50%) H: 5.01% (4.73%) N: 8.54% (8.77%) Also, infrared (IR) absorption spectrum (KBr tablet method)
Is as follows.
【0089】[0089]
【化41】 [Chemical 41]
【0090】また、マススペクトルより、目的物の主な
分子イオンピークはm/Z=638が検出された。以上
のことより、上記生成物である白色粉末は、下記式From the mass spectrum, the main molecular ion peak of the target substance was detected at m / Z = 638. From the above, the white powder which is the above product has the following formula:
【0091】[0091]
【化42】 で表される2,2’−ジメチル−4,4’−ビフェニレ
ンジメチリディン誘導体であることが確認された。[Chemical 42] It was confirmed that the derivative was a 2,2′-dimethyl-4,4′-biphenylene dimethylidene derivative represented by
【0092】比較例1 CPPVBiの代わに、下記スチリル化合物(A)Comparative Example 1 The following styryl compound (A) was used instead of CPPVBi.
【0093】[0093]
【化43】 [Chemical 43]
【0094】を用いた以外は実施例5と同様の操作を行
いEL素子を作製した。また、得られたEL素子につい
て実施例5と同様な方法で初期輝度劣化の測定を行っ
た。その結果、1時間で80%の減少があり初期輝度の
劣化が著しかった(図1参照)。An EL device was prepared in the same manner as in Example 5 except that was used. The initial luminance deterioration of the obtained EL device was measured by the same method as in Example 5. As a result, there was a decrease of 80% in 1 hour, and the initial luminance was significantly deteriorated (see FIG. 1).
【0095】[0095]
【発明の効果】本発明のスチリル化合物は、新規な化合
物であり、シアノ基を有することから熱安定性に優れて
いる。そのため、該スチリル化合物からなるEL素子
は、初期輝度劣化を20%程度に抑えられ、その後は安
定した発光を維持することができる。したがって、本発
明のスチリル化合物は、有機ELの発光材料を始め、各
種発光材料として、有効な利用が期待できる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The styryl compound of the present invention is a novel compound, and since it has a cyano group, it has excellent thermal stability. Therefore, the EL device made of the styryl compound can suppress the initial luminance deterioration to about 20% and maintain stable light emission thereafter. Therefore, the styryl compound of the present invention can be expected to be effectively used as various light emitting materials including a light emitting material for organic EL.
【図1】発光の相対輝度の経時変化を表したグラフであ
る。FIG. 1 is a graph showing changes in relative luminance of light emission with time.
1 実施例5で作製したEL素子の発光の経時変化を示
す。 2 比較例1で作製したEL素子の発光の経時変化を示
す。1 shows changes with time of light emission of the EL device manufactured in Example 5. 2 shows the time-dependent change in the light emission of the EL element manufactured in Comparative Example 1.
Claims (5)
す。但し、k,l,m,nがいずれも0の場合は除く。
Arは、 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜6のアルキル基又はハロゲン
を示し、R2 ,R3 はそれぞれ水素,炭素数1〜6のア
ルキル基又はハロゲンを示す。また、pは1〜4の整
数、q,rはそれぞれ0〜4の整数を示す。但し、p,
q,rが複数のときはR1 ,R2 ,R3 はそれぞれ同じ
でも異なっていてもよい。)を示す。〕で表されるスチ
リル化合物。1. A compound represented by the general formula (I): [In formula, k, l, m, and n show the integer of 0-5, respectively. However, the case where k, l, m, and n are all 0 is excluded.
Ar is the following (In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or halogen, R 2 and R 3 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or halogen, and p is 1 to 4; Integers, q and r each represent an integer of 0 to 4, provided that p and
When q and r are plural, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different. ) Is shown. ] The styryl compound represented by these.
を示し、Arは前記と同様である。〕で表されるアリー
レン基含有リン化合物を、一般式(III) 【化4】 〔式中、s,tはそれぞれ0〜5の整数を示す。但し、
s,tがいずれも0の場合は除く。〕で表されるケトン
と縮合させることを特徴とする請求項1記載のスチリル
化合物の製造方法。2. A compound represented by the general formula (II): [In formula, R shows a C1-C4 alkyl group or a phenyl group, and Ar is the same as the above. ] The arylene group-containing phosphorus compound represented by the general formula (III) [In the formula, s and t each represent an integer of 0 to 5. However,
The case where both s and t are 0 is excluded. ] It is condensed with the ketone represented by these, The manufacturing method of the styryl compound of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
リン化合物を、一般式(V) 【化6】 OHC−Ar−CHO …(v) 〔式中、Arは前記と同様である。〕で表されるジアル
デヒドと縮合させることを特徴とする請求項1記載のス
チリル化合物の製造方法。3. A compound represented by the general formula (IV): [In the formula, R, s, and t are the same as described above. A phosphorus compound represented by the following general formula (V): embedded image OHC—Ar—CHO (v) [wherein, Ar is as defined above]. ] It is condensed with the dialdehyde represented by these, The manufacturing method of the styryl compound of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
されるアリーレン基含有リン化合物を、一般式(VII) 【化8】 〔式中、l,nは前記と同様である。〕で表されるケト
ンと縮合させることを特徴とする請求項1記載のスチリ
ル化合物の製造方法。4. A compound represented by the general formula (VI): [In the formula, R, k, m and Ar are the same as described above. ] The arylene group-containing phosphorus compound represented by the general formula (VII) [In formula, l and n are the same as the above. ] It is condensed with the ketone represented by these, The manufacturing method of the styryl compound of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
料とするエレクトロルミネッセンス素子。5. An electroluminescent device comprising the styryl compound according to claim 1 as a light emitting material.
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| JP3057714A JPH0798787B2 (en) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | Styryl compound, method for producing the same, and electroluminescence device comprising the same |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04275268A (en) | 1992-09-30 |
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