JPH08185820A - Discharge preventive method in energy particle generator, this discharge preventive structure and energy particle generator - Google Patents
Discharge preventive method in energy particle generator, this discharge preventive structure and energy particle generatorInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば電子銃等のエネ
ルギー粒子発生装置における放電防止方法、その放電防
止構造及び例えば電子ビームのようなエネルギー粒子発
生装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a discharge preventing method in an energetic particle generator such as an electron gun, its discharge preventing structure and an energetic particle generator such as an electron beam.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダにおいて
は、高密度記録化による画質の向上が進められており、
これに対応すべく、例えば8ミリVTR用の磁気記録媒
体として金属磁性薄膜を磁性層とする、所謂蒸着テープ
が実用化されている。2. Description of the Related Art For example, in a video tape recorder, image quality is being improved by high density recording.
In order to cope with this, for example, a so-called vapor deposition tape having a metal magnetic thin film as a magnetic layer has been put into practical use as a magnetic recording medium for 8 mm VTR.
【0003】蒸着テープは、これまで広く用いられてき
た塗布型の磁気テープに比べて磁気特性に優れ、また磁
性層の厚さも薄いことから、電磁変換特性の点で塗布型
の磁気テープを上回る性能を発揮するものと期待されて
いる。The vapor-deposited tape is superior in magnetic properties to the widely used coating type magnetic tapes and has a thin magnetic layer, so that it is superior to the coating type magnetic tapes in terms of electromagnetic conversion characteristics. It is expected to perform well.
【0004】こうした蒸着テープは、塗布型テープと異
なり、図13に示すように、真空装置内においてCo−N
i等の磁性金属物質を溶解し、その蒸気をテープ表面に
均質に付着させることにより製造される。Unlike the coating-type tape, such a vapor-deposited tape, as shown in FIG.
It is manufactured by dissolving a magnetic metal substance such as i and allowing its vapor to uniformly adhere to the tape surface.
【0005】即ち、真空槽1内においては、蒸発源6の
上方にクーリングロール4を配し、クーリングロール4
に非磁性ベースフィルム40を接触させながら冷却し、矢
印方向に搬送すると同時に、蒸発源6からの磁性金属の
蒸気をベースフィルム40上に付着させる。図13中、2は
ベースフィルム40を巻回した繰出しハブ、3は巻取りハ
ブ、17はベースフィルム案内用のガイドロール、15は蒸
発源6を収容する坩堝である。図13に示した蒸着法は斜
方蒸着と称されるものである。That is, in the vacuum chamber 1, the cooling roll 4 is arranged above the evaporation source 6, and the cooling roll 4
The non-magnetic base film 40 is cooled while being in contact with and is conveyed in the direction of the arrow, and at the same time, vapor of magnetic metal from the evaporation source 6 is attached onto the base film 40. In FIG. 13, 2 is a feeding hub around which the base film 40 is wound, 3 is a winding hub, 17 is a guide roll for guiding the base film, and 15 is a crucible for housing the evaporation source 6. The vapor deposition method shown in FIG. 13 is called oblique vapor deposition.
【0006】クーリングロール4の近傍には、蒸発金属
の入射角及び蒸着領域を規定しかつ真空槽内の蒸着させ
たくない領域への蒸発金属の飛翔を防止するために、窓
7aを有する防着板7が配される。図中、63は真空ポン
プである。In the vicinity of the cooling roll 4, a window 7a is provided to define the incident angle of vaporized metal and the vapor deposition region and to prevent the vaporized metal from flying to the region in the vacuum chamber where vapor deposition is not desired. A board 7 is arranged. In the figure, 63 is a vacuum pump.
【0007】前記磁性金属を蒸発させる手段としては、
真空槽1外に設けられた電子銃5から発せられる電子ビ
ームEが使用される。As means for evaporating the magnetic metal,
An electron beam E emitted from an electron gun 5 provided outside the vacuum chamber 1 is used.
【0008】この電子銃5は、図14に正面図で、図15に
断面図で示すように、カソード取付け部材24とアノード
取付け部材26とからなっている。カソード取付け部材24
は、円筒状の絶縁碍子20の基端から内部に配設されたコ
ア部材21Aにカソード支持筒21Bを設け、カソード支持
筒21Bの先端部にフィラメント22とカソード23とが設け
られて構成されている。アノード取付け部材26は、カソ
ード23に対向するアノード25を円筒体27に取付けた構造
としている。そして、カソード取付け部材24とアノード
取付け部材26とは、蝶番28を介して開閉可能に連結さ
れ、電子発生室29を構成している。This electron gun 5 comprises a cathode mounting member 24 and an anode mounting member 26 as shown in the front view of FIG. 14 and the sectional view of FIG. Cathode mounting member 24
Includes a cathode support cylinder 21B provided on a core member 21A disposed inside from a base end of a cylindrical insulator 20, and a filament 22 and a cathode 23 provided at a tip end portion of the cathode support cylinder 21B. There is. The anode attachment member 26 has a structure in which the anode 25 facing the cathode 23 is attached to the cylindrical body 27. The cathode attachment member 24 and the anode attachment member 26 are openably and closably connected via a hinge 28 to form an electron generation chamber 29.
【0009】アノード取付け部材26において、アノード
25の裏面に設けた筒体30には、電子ビームEの方向を規
制するためのコイル31が巻装されていると共に、先端に
は電子発生室29を開閉するバルブ32が設けてある。In the anode mounting member 26, the anode
A coil 30 for controlling the direction of the electron beam E is wound around a cylindrical body 30 provided on the back surface of 25, and a valve 32 for opening and closing the electron generating chamber 29 is provided at the tip.
【0010】更に、上記筒体30の先端側外周には、円周
面の一部にポンプ取付け用筒体33が突設された筒体34が
連結固定されている。このポンプ取付け用筒体33の先端
部に、第2真空ポンプ35が取り付けてある。また、カソ
ード取付け部材24側の円筒体27の円周面の一部に突設し
たポンプ取付け用筒体36に、第1真空ポンプ37が取り付
けてある。Further, a cylindrical body 34 having a pump mounting cylindrical body 33 projecting from a part of its circumferential surface is connected and fixed to the outer circumference of the distal end side of the cylindrical body 30. A second vacuum pump 35 is attached to the tip of the pump attachment cylinder 33. Further, a first vacuum pump 37 is attached to a pump attachment cylinder 36 projecting from a part of the circumferential surface of the cylinder 27 on the cathode attachment member 24 side.
【0011】なお、図中、38はフィラメント22の電源供
給部であり、39はアノード25内に配設された冷却水供給
用ジャケット部である。なお、カソード、アノードの電
源は図示省略してある。In the figure, 38 is a power supply part of the filament 22, and 39 is a cooling water supply jacket part provided in the anode 25. The cathode and anode power supplies are not shown.
【0012】この電子銃5の作動に当たっては、まず、
第1、第2の真空ポンプ37、35を駆動して電子銃5内を
真空にし、フィラメント22に電流を流してカソード23を
加熱する。次に、カソード23とアノード25との間に高電
圧を印加すると、カソード23からアノード25に向かって
電子が加速して放出され、電子ビームEとなる。電子銃
5の非使用時はバルブ32が閉じられ、電子発生室29は真
空に保たれている。In operating the electron gun 5, first,
The first and second vacuum pumps 37 and 35 are driven to make the inside of the electron gun 5 vacuum, and a current is passed through the filament 22 to heat the cathode 23. Next, when a high voltage is applied between the cathode 23 and the anode 25, electrons are accelerated and emitted from the cathode 23 toward the anode 25, and become an electron beam E. When the electron gun 5 is not used, the valve 32 is closed and the electron generating chamber 29 is kept in vacuum.
【0013】電子ビームEは、磁性金属の蒸発源を蒸発
させるためのものであるので、極めて大きなパワーであ
ることを要する。このため、フィラメント22及び電子放
出源であるカソード23は、使用を繰り返すうちに劣化す
るので、定期的に電子発生室29を開いて大気圧に戻し、
交換する。また、その際には、アノード25を清掃し、ア
セトン等の揮発性溶剤で仕上げ拭きする。The electron beam E is for evaporating the evaporation source of the magnetic metal, and therefore needs to have an extremely large power. For this reason, the filament 22 and the cathode 23 that is the electron emission source deteriorate with repeated use, so the electron generation chamber 29 is periodically opened to return to atmospheric pressure,
Exchange. At that time, the anode 25 is cleaned and finished with a volatile solvent such as acetone.
【0014】ところが、上記の電子発生室29を開いて大
気圧に戻した際に、大気中の水分やガス等の不純物質
が、フィラメント22、カソード23及びアノード25の表面
に吸着する。However, when the electron generating chamber 29 is opened and returned to atmospheric pressure, impurities such as moisture and gas in the atmosphere are adsorbed on the surfaces of the filament 22, cathode 23 and anode 25.
【0015】これらの吸着された不純物質のうち、フィ
ラメント22とカソード23に吸着された分は、再び電子銃
5の作動を開始すると、フィラメント22とカソード23は
電流によって高温に加熱されるため、その熱により早急
に脱ガスされ、真空ポンプ35、37により外部へ排出され
る。Of the adsorbed impurities, those adsorbed on the filament 22 and the cathode 23 are heated to a high temperature by the electric current when the operation of the electron gun 5 is started again. Due to the heat, the gas is quickly degassed and then discharged to the outside by the vacuum pumps 35 and 37.
【0016】しかしながら、アノード25はフィラメント
やカソード23ほどには高温化していないので、アノード
25に吸着された不純物質は早急には脱ガスされない。そ
のため、その後の電子銃作動中にアノード25から離脱し
た不純物質が電子発生室29内に浮遊し、これが電子銃5
内での異常放電の原因となる。However, since the temperature of the anode 25 is not as high as that of the filament or the cathode 23, the anode 25
Impurities adsorbed on 25 are not immediately degassed. Therefore, the impurities released from the anode 25 during the subsequent operation of the electron gun float in the electron generation chamber 29, and this is the electron gun 5.
It may cause abnormal discharge inside.
【0017】この異常放電が発生すると、電子銃5から
の電子ビームEは、異常放電に消費されたエネルギーの
分だけパワーダウンが起こるため、前記磁性金属蒸発源
からの蒸発量が減少し、ベースフィルム40上に付着する
磁性金属の膜厚が薄くなってしまうという問題があっ
た。これでは、この箇所で記録、再生が不確実になって
しまう。When this abnormal discharge occurs, the electron beam E from the electron gun 5 is powered down by the amount of energy consumed by the abnormal discharge, so that the evaporation amount from the magnetic metal evaporation source decreases and the base There was a problem that the film thickness of the magnetic metal adhered on the film 40 becomes thin. This makes recording and reproduction uncertain at this location.
【0018】[0018]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の実情
に鑑みてなされたものであって、アノード等の電極部か
ら早急かつ確実に不純物質を放出可能にし、異常放電等
のトラブルを防止するエネルギー粒子発生装置における
放電防止方法、その放電防止構造及びエネルギー粒子発
生装置を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and enables impurities to be promptly and surely released from an electrode portion such as an anode to prevent troubles such as abnormal discharge. An object of the present invention is to provide a method for preventing discharge in an energetic particle generator, a structure for preventing the discharge, and an energetic particle generator.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、次のような構成としている。The present invention has the following constitution in order to achieve the above object.
【0020】本発明は、エネルギー粒子を放出する第1
電極部(例えば、後述のカソード23)とこれに対向した
第2電極部(例えば、後述のアノード25)とを有するエ
ネルギー粒子発生装置(例えば、後述の電子銃5)にお
いて、少なくとも前記第2電極部を加熱することによっ
て、この被加熱部から不純物質(例えば、吸着ガス)を
放出する、エネルギー粒子発生装置における放電防止方
法に係る。The present invention is a first aspect of emitting energetic particles.
At least the second electrode in an energetic particle generator (eg, electron gun 5 described below) having an electrode part (eg cathode 23 described below) and a second electrode part (eg anode 25 described below) facing the electrode part The present invention relates to a discharge prevention method in an energetic particle generator, in which impurities (eg, adsorbed gas) are released from the heated portion by heating the portion.
【0021】本発明において、カソード取付け部材とア
ノード取付け部材とによって電子発生室が形成され、か
つ、前記カソード取付け部材が前記アノード取付け部材
に対して相対的に開閉されるように構成された電子銃に
おいて、前記アノードを加熱して脱ガスを行うことが好
ましい。According to the present invention, the electron gun is formed by the cathode mounting member and the anode mounting member, and the cathode mounting member is configured to be opened and closed relative to the anode mounting member. In, it is preferable that the anode is heated to perform degassing.
【0022】上記において、カソード取付け部材をアノ
ード取付け部材に対して開状態とし、前記カソードを交
換すると共に、前記アノードを加熱して脱ガスを行うこ
とができる。In the above, the cathode mounting member can be opened with respect to the anode mounting member, the cathode can be replaced, and the anode can be heated to perform degassing.
【0023】更に、上記において、カソード取付け部材
をアノード取付け部材に対して開状態として前記カソー
ドを交換し、しかる後に、前記カソード取付け部材を前
記アノード取付け部材に対して閉状態として前記アノー
ドを加熱し、脱ガスを行うこともできる。Further, in the above, the cathode attachment member is opened with respect to the anode attachment member to replace the cathode, and then the cathode attachment member is closed with respect to the anode attachment member to heat the anode. It is also possible to degas.
【0024】本発明において、アノードの加熱を温風の
吹付けによって行うことができる。In the present invention, the heating of the anode can be performed by blowing hot air.
【0025】また、本発明は、以上の方法を実施するた
めの放電防止構造をも提供するものである。The present invention also provides a discharge prevention structure for implementing the above method.
【0026】本発明に基づく放電防止構造において、電
子銃の内部及び/又は外部にアノードの加熱手段を有す
ることが好ましい。In the discharge prevention structure according to the present invention, it is preferable to have an anode heating means inside and / or outside the electron gun.
【0027】上記構造において、アノードの加熱手段を
温風器とすることができる。In the above structure, the heating means for the anode may be a hot air blower.
【0028】上記構造において、アノードの加熱手段を
ヒータとすることもできる。In the above structure, the heating means for the anode may be a heater.
【0029】上記において、ヒータが電子発生室の内部
及び/又は外部に配することが好ましい。In the above, it is preferable that the heater is arranged inside and / or outside the electron generating chamber.
【0030】上記において、ヒータをカソード側に取付
けることができる。In the above, the heater can be attached to the cathode side.
【0031】上記において、ヒータをアノード側に取付
けることもできる。In the above, the heater may be attached to the anode side.
【0032】上記において、アノードの加熱手段が熱水
供給手段であることが好ましい。In the above, it is preferable that the anode heating means is hot water supply means.
【0033】更に上記において、アノードの冷却のため
に冷水を供給する冷水供給手段を熱水供給手段として使
用することができる。Further, in the above, cold water supply means for supplying cold water for cooling the anode can be used as the hot water supply means.
【0034】更に、本発明は、以上の構造を有するエネ
ルギー粒子発生装置をも提供するものである。Furthermore, the present invention also provides an energetic particle generator having the above structure.
【0035】上記装置において、電子銃として構成され
たエネルギー粒子発生装置とすることができる。In the above device, an energetic particle generating device configured as an electron gun can be used.
【0036】[0036]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0037】図1〜図5は、第1の実施例を説明するも
のである。なお、図13〜図15と共通する部分には同じ符
号を付して表してあり、その説明は省略することがある
(後述の第2以降の実施例でも同じ)。1 to 5 illustrate the first embodiment. 13 to 15 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted (the same applies to the second and subsequent embodiments described later).
【0038】この例は、前述の蒸着テープ製造用真空蒸
着装置の電子銃に本発明を適用した例で、図5に蒸着テ
ープの構造を示す。即ち、非磁性ベースフィルム40の一
方の面上に金属磁性薄膜41が形成されている。そして、
ベースフィルムの他方の面上に、仮想線で示すバックコ
ート層42が形成されていることが好ましい。This example is an example in which the present invention is applied to the electron gun of the vacuum vapor deposition apparatus for manufacturing the vapor deposition tape described above, and the structure of the vapor deposition tape is shown in FIG. That is, the metal magnetic thin film 41 is formed on one surface of the non-magnetic base film 40. And
It is preferable that a back coat layer 42 shown by an imaginary line is formed on the other surface of the base film.
【0039】上記金属磁性薄膜41を形成する際に使用さ
れる強磁性金属材料としては、Fe、Co、Ni、Cr
等の金属の他に、Co−Ni合金、Co−Pt合金、C
o−Ni−Pt合金、Fe−Co合金、Fe−Ni合
金、Fe−Co−Ni合金、Fe−Co−B合金、Co
−Ni−Fe−B合金、Co−Cr合金或いはこれらに
Cr、Al等の金属が含有されたもの等が挙げられる。
特に、Co−Cr合金を使用した場合には、垂直磁化膜
が形成される。こうした金属磁性薄膜41の膜厚は、通
常、0.02〜1μmである。Ferromagnetic metal materials used for forming the metal magnetic thin film 41 are Fe, Co, Ni and Cr.
In addition to metals such as Co-Ni alloy, Co-Pt alloy, C
o-Ni-Pt alloy, Fe-Co alloy, Fe-Ni alloy, Fe-Co-Ni alloy, Fe-Co-B alloy, Co
-Ni-Fe-B alloy, Co-Cr alloy, or those containing metals such as Cr and Al in these alloys.
In particular, when a Co—Cr alloy is used, a perpendicular magnetization film is formed. The thickness of the metal magnetic thin film 41 is usually 0.02 to 1 μm.
【0040】バックコート層42の材料としては、pHが
6.0以上(特に 6.0〜10.0)でDBP吸油量が80cc/100
g 以下のカーボンブラックが、錆の発生を防ぐ上で好適
である。バックコート層の厚さは 0.4〜1.2 μmとする
のがよい。The material for the back coat layer 42 has a pH of
DBP oil absorption of 80cc / 100 at 6.0 or above (especially 6.0 to 10.0)
Carbon black of g or less is suitable for preventing the formation of rust. The thickness of the back coat layer is preferably 0.4 to 1.2 μm.
【0041】図3は真空蒸着装置の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of the vacuum vapor deposition device.
【0042】真空槽1内には、クーリングロール4及び
蒸発源(坩堝15に収容された金属、例えばCo−Ni合
金)6が配置され、クーリングロール4に近接してその
図3において右下側に防着板7が位置固定されている。
真空槽1内に、ベースフィルム40を巻回した繰出しハブ
2及びベースフィルム40の先端を取り付けた巻取りハブ
3が取付けられ、ハブ2、3間のベースフィルムは、巻
取りハブ3の回転により、クーリングロール4の外周面
の大部分に密着し、次いで巻取りハブ3に巻き取られ
る。Inside the vacuum chamber 1, a cooling roll 4 and an evaporation source (a metal housed in the crucible 15, for example, a Co-Ni alloy) 6 are arranged, and in the vicinity of the cooling roll 4, the lower right side in FIG. The deposition prevention plate 7 is fixed in position.
In the vacuum chamber 1, the feeding hub 2 wound with the base film 40 and the winding hub 3 having the tip of the base film 40 attached are attached. The base film between the hubs 2 and 3 is rotated by the rotation of the winding hub 3. , Is brought into close contact with most of the outer peripheral surface of the cooling roll 4, and then wound onto the winding hub 3.
【0043】ベースフィルム40は、繰出しハブ2及び巻
取りハブ3とクーリングロール4との間で多数のガイド
ロール17に案内され、かつ、適度の張力を付与され、繰
出しハブ2からクーリングロール4を経由して巻取りハ
ブ3へと走行する。The base film 40 is guided by a large number of guide rolls 17 between the feeding hub 2 and the take-up hub 3 and the cooling roll 4 and is given an appropriate tension so that the cooling roll 4 can be removed from the feeding hub 2. It travels to the winding hub 3 via.
【0044】防着板7には窓7a、7bが設けられてい
て、真空槽1外に設けられた電子銃5から発する電子ビ
ームEが、窓7bを通って蒸発源6を照射する。かくし
て、蒸発源6から蒸発金属が飛翔して窓7aを通り、ク
ーリングロール4上で走行するベースフィルム40に対し
て窓7aの領域で蒸発金属が付着し、これが堆積して図
5に示した金属薄膜41となる。The protection plate 7 is provided with windows 7a and 7b, and the electron beam E emitted from the electron gun 5 provided outside the vacuum chamber 1 irradiates the evaporation source 6 through the window 7b. Thus, the evaporated metal flies from the evaporation source 6, passes through the window 7a, and adheres to the base film 40 running on the cooling roll 4 in the area of the window 7a. It becomes the metal thin film 41.
【0045】電子銃5の基本構成は、前記した図14、図
15に示したと同一構成である。なお、電子銃5は、台車
43の上部に取り付けられ、真空槽1に対して着脱可能に
なっている。The basic structure of the electron gun 5 is shown in FIG. 14 and FIG.
It has the same configuration as shown in 15. The electron gun 5 is a dolly.
It is attached to the upper part of 43 and can be attached to and detached from the vacuum chamber 1.
【0046】この例にあって注目すべきことは、図1に
示すように、カソード23の交換のために電子発生室29を
開いた際に、温風器44の温風吹付けによってアノード25
を加熱することである。温風は 200〜600 ℃が好まし
く、またアノード25全体に吹付けるのが良い。バーナー
等によりアノード25の局部のみを高温に加熱する方法で
は、アノード25は、水冷ジャケット39によって水冷され
ているので、加熱終了後の冷却によって結露し、脱ガス
の効果は得られない。また、表面が酸化したりするので
好ましくない。In this example, it should be noted that, as shown in FIG. 1, when the electron generating chamber 29 is opened for replacing the cathode 23, the anode 25 is blown by the warm air blower 44.
Is to heat. The hot air is preferably 200 to 600 ° C., and is preferably blown over the entire anode 25. In the method of heating only the local portion of the anode 25 to a high temperature with a burner or the like, since the anode 25 is water-cooled by the water-cooling jacket 39, dew condensation occurs due to cooling after completion of heating, and the degassing effect cannot be obtained. Further, the surface is oxidized, which is not preferable.
【0047】図2は、電子発生室29が閉じられて電子銃
5が作動している状態を示している。アノード25は、上
記のように予め加熱され、大気中で吸着されていた水分
等の不純物が除去されているので、電子銃5内で以上放
電が起こることが少ない。従って、電子ビームが常に安
定して放出され、磁性金属薄膜の膜厚が安定して磁気テ
ープの品質が保証される。FIG. 2 shows a state in which the electron generating chamber 29 is closed and the electron gun 5 is operating. Since the anode 25 is preheated as described above to remove impurities such as moisture adsorbed in the atmosphere, the discharge is less likely to occur in the electron gun 5. Therefore, the electron beam is always emitted stably, the thickness of the magnetic metal thin film is stabilized, and the quality of the magnetic tape is guaranteed.
【0048】なお、温風器44は、例えば図4に示すよう
に、電源コード45を台車43に設けた電源部58に接続する
と共に、台車43に設けたフック46に着脱可能に吊り下げ
ること等により、電子銃5に付設させるのが便利であ
る。即ち、温風器44は、アノード加熱時にフック46から
外し、それ以外のときはフック46に吊り下げておく。As shown in FIG. 4, for example, the warm air blower 44 has a power cord 45 connected to a power supply section 58 provided on the carriage 43 and is detachably hung on a hook 46 provided on the carriage 43. For example, it is convenient to attach it to the electron gun 5. That is, the warm air blower 44 is removed from the hook 46 at the time of heating the anode, and is hung on the hook 46 at other times.
【0049】この例によれば、電子銃5に特別な加工を
施すことなく、アノード25の脱ガスを達成できるという
利点がある。According to this example, there is an advantage that the degassing of the anode 25 can be achieved without special processing of the electron gun 5.
【0050】次に、第2の実施例を図6、図7により説
明する。この例では、カソード23側、即ち、カソード支
持筒21Bの先端外周面に、アノード25の加熱手段として
のヒータ47を取付けている。ヒータ47は、加熱対象のア
ノードから離れているので、この状態で加熱効率の良好
な遠赤外線ヒータとするのが好適である。Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 6 and 7. In this example, a heater 47 as a heating means for the anode 25 is attached on the cathode 23 side, that is, on the outer peripheral surface of the tip of the cathode support cylinder 21B. Since the heater 47 is distant from the anode to be heated, it is preferable to use a far infrared heater having good heating efficiency in this state.
【0051】図6は、カソード23の交換のために電子銃
5を開いた際に、ヒータ47を作動させてアノード25を加
熱している状態を示している。なお、この場合、仮想線
で示す温風器44による加熱を併用してもよい。FIG. 6 shows a state in which the heater 47 is operated to heat the anode 25 when the electron gun 5 is opened to replace the cathode 23. In this case, heating by the warm air fan 44 shown by a virtual line may be used together.
【0052】図7は、カソード23の交換後、電子銃5を
閉じてヒータ47を作動させている状態を示す。この場
合、ヒータ47による加熱でアノード25から離脱した水分
等の不純物質は、真空ポンプ35、37により電子銃内が所
定の真空度に達する迄に電子銃外部に排出される。従っ
て、異常放電を起こすことがない。FIG. 7 shows a state in which the electron gun 5 is closed and the heater 47 is operated after the cathode 23 is replaced. In this case, the impurities such as the water separated from the anode 25 by the heating by the heater 47 are discharged to the outside of the electron gun by the vacuum pumps 35 and 37 until the inside of the electron gun reaches a predetermined vacuum degree. Therefore, abnormal discharge does not occur.
【0053】この例によれば、電子銃5にヒータ47が内
蔵されているので、特別の手間を要することなく、簡単
に脱ガスを行うことができる。なお、遠赤外線ヒータ
は、電子銃外部に設けても良く、電子銃の内部、外部の
双方に設けても良い。According to this example, since the heater 47 is built in the electron gun 5, degassing can be easily performed without requiring special labor. The far infrared heater may be provided outside the electron gun, or may be provided both inside and outside the electron gun.
【0054】なお、以下のいずれの実施例においても、
前記と同様に、アノード25の加熱手段は、上記と同様
に、電子銃5の開状態、閉状態のいずれでも使用可能で
ある。In any of the following examples,
Similarly to the above, the heating means of the anode 25 can be used in either the open state or the closed state of the electron gun 5, as described above.
【0055】次に、第3の実施例を図8により説明す
る。この実施例は、アノード25の裏面にPTC(Positi
ve Temperature Coefficient)素子48を配設したもので
ある。このPTC素子48は、チタン酸バリウム等のセラ
ミックスからなり、抵抗の温度係数が正のものであって
好都合である。その他は前記第2の実施例におけると同
様であり、同様の効果が奏せられる。Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. In this embodiment, the PTC (Positi
ve Temperature Coefficient) element 48 is arranged. This PTC element 48 is made of ceramics such as barium titanate, and has a positive temperature coefficient of resistance, which is convenient. Others are the same as those in the second embodiment, and similar effects can be obtained.
【0056】第4の実施例では、図9に示すようにアノ
ード25内に電熱線49を配設している。In the fourth embodiment, a heating wire 49 is arranged in the anode 25 as shown in FIG.
【0057】この例にあっても、前記第2の実施例にお
けると同様の効果が奏せられる。Also in this example, the same effect as in the second embodiment can be obtained.
【0058】次に、第5の実施例を図10により説明す
る。この例は、アノード25の加熱手段をアノード25の冷
却のために冷水を供給する既設の冷水供給手段の水冷ジ
ャケット39を利用して、熱水を供給するとしたものであ
る。即ち、上記ジャケット39に三方弁50を介して熱水用
パイプ51を接続し、これに接続する熱水槽52内には投込
みヒータ53を配設している。Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG. In this example, the heating means for the anode 25 is supplied with hot water by using the water cooling jacket 39 of the existing cold water supply means for supplying cold water for cooling the anode 25. That is, a hot water pipe 51 is connected to the jacket 39 via a three-way valve 50, and a throw-in heater 53 is arranged in a hot water tank 52 connected to the hot water pipe 51.
【0059】そして、アノード25を加熱する際には、三
方弁50を切り換えて、熱水槽52からの熱水をジャケット
39に供給する。その他は前記第2〜第4の実施例におけ
ると同様であり、同様の効果が奏せられる。When heating the anode 25, the three-way valve 50 is switched to jacket the hot water from the hot water tank 52.
Supply to 39. Others are the same as those in the second to fourth embodiments, and similar effects can be obtained.
【0060】第6の実施例では、図11に示すように前記
熱水槽52の代わりに、都市ガス等を熱源とする給湯器54
を設けている。その他は前記第5の実施例におけると同
様である。In the sixth embodiment, as shown in FIG. 11, a water heater 54 using city gas or the like as a heat source instead of the hot water tank 52 is used.
Is provided. Others are the same as those in the fifth embodiment.
【0061】以上の第5、第6の実施例によれば、既存
の水冷ジャケットをその儘利用するだけであるので、電
子銃5に加工を施す必要がなく、また操作も簡単であ
る。According to the fifth and sixth embodiments described above, since the existing water cooling jacket is simply used, it is not necessary to process the electron gun 5 and the operation is simple.
【0062】次に、第7の実施例を図12により説明す
る。この例では、カソード23を角度可変式に構成し(角
度変更機構は図示省略)、電子ビームE’を直接アノー
ド25に当てて加熱し、脱ガスするようにしたものであ
る。アノード加熱時の電子ビームE’のパワーは、蒸着
時の電子ビームEのパワーに較べて大幅に小さくするこ
とは言う迄もない。Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIG. In this example, the cathode 23 is configured to have a variable angle (an angle changing mechanism is not shown), and the electron beam E ′ is directly applied to the anode 25 to heat and degas. It goes without saying that the power of the electron beam E'when heating the anode is made to be significantly smaller than the power of the electron beam E at the time of vapor deposition.
【0063】また、第7の実施例の変形として、適宜の
手段により電子ビームE’を偏向させてアノード25に当
てるようにしてもよい。更に、この電子ビーム偏向と上
記角度可変式カソードとを組み合わせて構成してもよ
い。As a modification of the seventh embodiment, the electron beam E'may be deflected by appropriate means and applied to the anode 25. Further, the electron beam deflection and the angle variable cathode may be combined.
【0064】この例によれば、特別の手間を要すること
なく、簡単な操作で脱ガスを達成することができる。According to this example, degassing can be achieved by a simple operation without requiring special labor.
【0065】なお、前記の各実施例において、アノード
の加熱に際し、アノード以外の電子銃構成部分(例え
ば、電子発生室内壁面等)をも併せて加熱し、この部分
の脱ガスを行うようにして良いことは言う迄もない。In each of the above-described embodiments, when heating the anode, the electron gun constituent parts other than the anode (for example, the inner wall surface of the electron generation chamber) are also heated, and this part is degassed. Not to mention the good things.
【0066】本発明は、以上の真空蒸着装置用電子銃の
ほか、ブラウン管(CRT)、電子顕微鏡等の他の適宜
の装置に適用可能であり、更には、電子銃以外のエネル
ギー粒子発生装置にも同様に適用可能である。The present invention can be applied to other appropriate devices such as a cathode ray tube (CRT) and an electron microscope in addition to the above electron gun for a vacuum vapor deposition device, and further to an energy particle generator other than the electron gun. Is similarly applicable.
【0067】[0067]
【発明の作用効果】本発明は、エネルギー粒子を放出す
る第1電極部とこれに対向した第2電極部との少なくと
も第2電極部を加熱し、この被加熱部から不純物質を放
出するようにしているので、この不純物質に起因する放
電が防止される。その結果、第1電極部から放出された
エネルギー粒子は、放電による影響を受けることがな
く、エネルギー粒子発生装置から安定して供給される。According to the present invention, at least the second electrode portion of the first electrode portion emitting the energetic particles and the second electrode portion facing the first electrode portion is heated so that the impurities are emitted from the heated portion. Therefore, the discharge caused by the impurities is prevented. As a result, the energy particles emitted from the first electrode portion are not affected by the discharge and are stably supplied from the energy particle generator.
【図1】第1の実施例による電子銃の開状態での要部斜
視図である。FIG. 1 is a perspective view of an essential part of an electron gun according to a first embodiment in an open state.
【図2】同電子銃の閉状態での断面図である。FIG. 2 is a sectional view of the electron gun in a closed state.
【図3】同真空蒸着装置の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the vacuum vapor deposition device.
【図4】同電子銃に温風器を付設した例の真空蒸着装置
の部分正面図である。FIG. 4 is a partial front view of a vacuum vapor deposition device of an example in which a warm air fan is attached to the electron gun.
【図5】同蒸着磁気テープの断面図である。FIG. 5 is a sectional view of the vapor-deposited magnetic tape.
【図6】第2の実施例による電子銃の開状態での要部斜
視図である。FIG. 6 is a perspective view of an essential part of an electron gun according to a second embodiment in an open state.
【図7】同電子銃の閉状態での断面図である。FIG. 7 is a sectional view of the electron gun in a closed state.
【図8】第3の実施例による電子銃の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of an electron gun according to a third embodiment.
【図9】第4の実施例による電子銃の要部正面図であ
る。FIG. 9 is a front view of a main part of an electron gun according to a fourth embodiment.
【図10】第5の実施例による電子銃の要部正面図であ
る。FIG. 10 is a front view of a main part of an electron gun according to a fifth embodiment.
【図11】第6の実施例による電子銃の要部正面図であ
る。FIG. 11 is a front view of a main part of an electron gun according to a sixth embodiment.
【図12】第7の実施例による電子銃の要部拡大断面図で
ある。FIG. 12 is an enlarged sectional view of an essential part of an electron gun according to a seventh embodiment.
【図13】従来の真空蒸着装置の概略断面図である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of a conventional vacuum vapor deposition device.
【図14】同電子銃の要部正面図である。FIG. 14 is a front view of a main part of the electron gun.
【図15】同断面図である。FIG. 15 is a sectional view of the same.
5・・・電子銃 22・・・フィラメント 23・・・カソード 24・・・カソード取付け部材 25・・・アノード 26・・・アノード取付け部材 28・・・蝶番 29・・・電子発生室 35、37・・・真空ポンプ 39・・・水冷ジャケット部 40・・・ベースフィルム 41・・・金属磁性薄膜 44・・・温風器 47・・・遠赤外線ヒータ 48・・・PTC素子 49・・・電熱線 51・・・熱水供給用パイプ 52・・・熱水槽 53・・・投込みヒータ 54・・・給湯器 E、E’・・・電子ビーム 5 ... Electron gun 22 ... Filament 23 ... Cathode 24 ... Cathode mounting member 25 ... Anode 26 ... Anode mounting member 28 ... Hinge 29 ... Electron generation chamber 35, 37・ ・ ・ Vacuum pump 39 ・ ・ ・ Water cooling jacket 40 ・ ・ ・ Base film 41 ・ ・ ・ Metal magnetic thin film 44 ・ ・ ・ Air heater 47 ・ ・ ・ Far infrared heater 48 ・ ・ ・ PTC element 49 ・ ・ ・ Electricity Heat wire 51 ・ ・ ・ Hot water supply pipe 52 ・ ・ ・ Hot water tank 53 ・ ・ ・ Drop heater 54 ・ ・ ・ Hot water heater E, E '・ ・ ・ Electron beam
Claims (16)
これに対向した第2電極部とを有するエネルギー粒子発
生装置において、少なくとも前記第2電極部を加熱する
ことによって、この被加熱部から不純物質を放出する、
エネルギー粒子発生装置における放電防止方法。1. An energetic particle generator having a first electrode part for emitting energetic particles and a second electrode part facing the first electrode part, wherein at least the second electrode part is heated to remove impurities from the heated part. Release quality,
Discharge prevention method in energetic particle generator.
材とによって電子発生室が形成され、かつ、前記カソー
ド取付け部材が前記アノード取付け部材に対して相対的
に開閉されるように構成された電子銃において、前記ア
ノードを加熱して脱ガスを行う、請求項1に記載した方
法。2. An electron gun configured so that an electron generating chamber is formed by the cathode mounting member and the anode mounting member, and the cathode mounting member is opened and closed relative to the anode mounting member. The method of claim 1, wherein the anode is heated for degassing.
材に対して開状態とし、前記カソードを交換すると共
に、前記アノードを加熱して脱ガスを行う、請求項2に
記載した方法。3. The method according to claim 2, wherein the cathode mounting member is opened with respect to the anode mounting member, the cathode is replaced, and the anode is heated to perform degassing.
材に対して開状態として前記カソードを交換し、しかる
後に、前記カソード取付け部材を前記アノード取付け部
材に対して閉状態として前記アノードを加熱し、脱ガス
を行う、請求項2に記載した方法。4. The cathode mounting member is opened with respect to the anode mounting member to replace the cathode, and then the cathode mounting member is closed with respect to the anode mounting member to heat the anode to degas. The method according to claim 2, wherein
行う、請求項3に記載した方法。5. The method according to claim 3, wherein the heating of the anode is performed by blowing hot air.
放電防止方法を実施するための放電防止構造。6. A discharge prevention structure for implementing the discharge prevention method according to claim 1. Description:
の加熱手段を有する、請求項6に記載した構造。7. The structure according to claim 6, further comprising heating means for the anode inside and / or outside the electron gun.
求項7に記載した構造。8. The structure according to claim 7, wherein the heating means of the anode is a hot air blower.
求項7に記載した構造。9. The structure according to claim 7, wherein the heating means of the anode is a heater.
部に配された、請求項9に記載した構造。10. The structure according to claim 9, wherein the heater is arranged inside and / or outside the electron generating chamber.
る、請求項10に記載した構造。11. The structure according to claim 10, wherein the heater is attached to the cathode side.
る、請求項10に記載した構造。12. The structure according to claim 10, wherein the heater is attached to the anode side.
る、請求項7に記載した構造。13. The structure according to claim 7, wherein the heating means of the anode is a hot water supply means.
冷水供給手段が熱水供給手段としても使用される、請求
項13に記載した構造。14. The structure according to claim 13, wherein the cold water supply means for supplying cold water for cooling the anode is also used as the hot water supply means.
放電防止構造を有するエネルギー粒子発生装置。15. An energetic particle generator having the discharge prevention structure according to claim 6.
載した装置。16. The device according to claim 15, configured as an electron gun.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340082A JPH08185820A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Discharge preventive method in energy particle generator, this discharge preventive structure and energy particle generator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340082A JPH08185820A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Discharge preventive method in energy particle generator, this discharge preventive structure and energy particle generator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08185820A true JPH08185820A (en) | 1996-07-16 |
Family
ID=18333550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6340082A Pending JPH08185820A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Discharge preventive method in energy particle generator, this discharge preventive structure and energy particle generator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08185820A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522294A (en) * | 1999-08-04 | 2003-07-22 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | Electron beam physical vapor deposition coating apparatus and method |
| JP2004265807A (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Time of flight type mass spectrometer |
| US6946034B1 (en) * | 1999-08-04 | 2005-09-20 | General Electric Company | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP6340082A patent/JPH08185820A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522294A (en) * | 1999-08-04 | 2003-07-22 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | Electron beam physical vapor deposition coating apparatus and method |
| US6946034B1 (en) * | 1999-08-04 | 2005-09-20 | General Electric Company | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
| JP2004265807A (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Time of flight type mass spectrometer |
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