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JPH08249880A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH08249880A
JPH08249880A JP7045509A JP4550995A JPH08249880A JP H08249880 A JPH08249880 A JP H08249880A JP 7045509 A JP7045509 A JP 7045509A JP 4550995 A JP4550995 A JP 4550995A JP H08249880 A JPH08249880 A JP H08249880A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
supply voltage
circuit
internal power
input buffer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7045509A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Fukuda
達哉 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7045509A priority Critical patent/JPH08249880A/en
Publication of JPH08249880A publication Critical patent/JPH08249880A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 /WE信号が誤ってローレベルに検出される
ことを防止することができ、メモリセルへのデータの誤
書き込みが生じない半導体記憶装置を提供する。 【構成】 外部電源電圧Vextを、それよりも低い内
部電源電圧Vintに変換する電源電圧変換回路1を備
え、電源電圧変換回路1の出力端子と、少なくともライ
トイネーブル信号/WEのための入力バッファ回路11
の内部電源電圧印加端子との間に、積分回路21を挿入
した。また、センスアンプ31のための電源電圧変換回
路1aと、少なくともライトイネーブル信号/WEの入
力バッファ回路11と周辺回路32のための電源電圧変
換回路1bとを備え、電源電圧変換回路1bの出力端子
と、入力バッファ回路11の内部電源電圧印加端子との
間に、積分回路21を挿入した。
(57) [Summary] (Modified) [Purpose] / Providing a semiconductor memory device capable of preventing the / WE signal from being erroneously detected at a low level and preventing erroneous writing of data to a memory cell. . A power supply voltage conversion circuit 1 for converting an external power supply voltage Vext to an internal power supply voltage Vint lower than the external power supply voltage Vext is provided, and an output terminal of the power supply voltage conversion circuit 1 and an input buffer circuit for at least a write enable signal / WE. 11
The integrating circuit 21 was inserted between the internal power supply voltage applying terminal and the internal power supply voltage applying terminal. The power supply voltage conversion circuit 1a for the sense amplifier 31, the input buffer circuit 11 for at least the write enable signal / WE, and the power supply voltage conversion circuit 1b for the peripheral circuit 32 are provided, and the output terminal of the power supply voltage conversion circuit 1b. The integrating circuit 21 was inserted between the input buffer circuit 11 and the internal power supply voltage applying terminal of the input buffer circuit 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電源電圧変換回路を備
えた半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a power supply voltage conversion circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば5Vの外部電源電圧Vex
tを、メモリ内部で用いるより低い例えば3.3Vの内
部電源電圧Vintに変換するための電源電圧変換回路
(以下、VDCという。)が、例えばDRAMなどの半
導体記憶装置に設けられている(例えば、特開平3−2
46961号公報参照。)。このVDCの一例を図5に
示す。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, an external power supply voltage Vex of 5V
A power supply voltage conversion circuit (hereinafter, referred to as VDC) for converting t into an internal power supply voltage Vint of 3.3V, which is lower than that used inside the memory, is provided in a semiconductor memory device such as a DRAM (for example, referred to as VDC). Japanese Patent Laid-Open No. 3-2
See Japanese Patent No. 46961. ). An example of this VDC is shown in FIG.

【0003】図5において、外部電源電圧Vextの端
子は、pチャンネルMOSFET(以下、MOSFET
をFETという。)41のソース及びドレイン、nチャ
ンネルFET43のドレイン及びソース、並びに、nチ
ャンネルFET45のドレイン及びソースを介して接地
される一方、pチャンネルFET42のソース及びドレ
イン、nチャンネルFET44のドレイン及びソース、
並びに、FET45のドレイン及びソースを介して接地
される。また、外部電源電圧Vextの端子は、pチャ
ンネルFET46のドレイン及びソースを介して内部電
源電圧Vint出力端子に接続される。さらに、FET
41とFET42の各ゲートがともに接続されてFET
42のドレインに接続され、FET41,43の各ドレ
インはFET46のゲートに接続され、FET44のゲ
ートは内部電源電圧Vint出力端子に接続される。
In FIG. 5, the terminal of the external power supply voltage Vext is a p-channel MOSFET (hereinafter, MOSFET).
Is called FET. ) 41 source and drain, n-channel FET 43 drain and source, and n-channel FET 45 drain and source while being grounded, while p-channel FET 42 source and drain, n-channel FET 44 drain and source,
It is also grounded via the drain and source of the FET 45. The terminal of the external power supply voltage Vext is connected to the internal power supply voltage Vint output terminal via the drain and source of the p-channel FET 46. In addition, FET
41 and FET 42 are connected together to form an FET
42, the drains of the FETs 41 and 43 are connected to the gate of the FET 46, and the gate of the FET 44 is connected to the internal power supply voltage Vint output terminal.

【0004】以上のように構成されたVDCにおいて、
ハイレベルのVDCイネーブル信号がFET45のゲー
トに印加されたとき、当該FET45がオンとなって、
当該VDCが動作を開始する。例えば3.3Vである基
準電圧VrefがFET43のゲートに印加されると、
VDCは、一定の基準電圧Vrefと、FET46のソ
ースの電圧、すなわち変換後の内部電源電圧Vintと
が等しくなるように、FET46のドレイン・ソース間
のコンダクタンスをフィードバック回路動作で調整し、
内部電源電圧Vintを一定に保持しようと動作する。
In the VDC constructed as described above,
When a high level VDC enable signal is applied to the gate of the FET 45, the FET 45 turns on,
The VDC starts operating. For example, when a reference voltage Vref of 3.3V is applied to the gate of the FET 43,
VDC adjusts the conductance between the drain and the source of the FET 46 by the feedback circuit operation so that the constant reference voltage Vref and the voltage of the source of the FET 46, that is, the converted internal power supply voltage Vint become equal to each other.
It operates to keep the internal power supply voltage Vint constant.

【0005】上記VDCを用いた従来例1と2の半導体
記憶装置のための電源回路をそれぞれ図7及び図8に示
す。図7の電源回路では、外部電源電圧VextはVD
C1によって内部電源電圧Vintに変換された後、当
該半導体記憶装置内のセンスアンプ31と、例えばロー
デコーダ、コラムデコーダ、入力信号のための入力バッ
ファ回路などを含む周辺回路32aとに分配供給され
る。また、図8の電源回路では、外部電源電圧Vext
はVDC1aによって内部電源電圧Vintに変換され
た後、当該半導体記憶装置内のセンスアンプ31に供給
されるとともに、VDC1bによって内部電源電圧Vi
ntに変換された後、当該半導体記憶装置内の周辺回路
32aに供給される。
Power supply circuits for the semiconductor memory devices of the conventional examples 1 and 2 using the above VDC are shown in FIGS. 7 and 8, respectively. In the power supply circuit of FIG. 7, the external power supply voltage Vext is VD
After being converted into the internal power supply voltage Vint by C1, it is distributed and supplied to the sense amplifier 31 in the semiconductor memory device and the peripheral circuit 32a including, for example, a row decoder, a column decoder, an input buffer circuit for an input signal, and the like. . Further, in the power supply circuit of FIG. 8, the external power supply voltage Vext
Is supplied to the sense amplifier 31 in the semiconductor memory device after being converted to the internal power supply voltage Vint by VDC1a, and is also supplied to the internal power supply voltage Vi by VDC1b.
After being converted to nt, it is supplied to the peripheral circuit 32a in the semiconductor memory device.

【0006】さらに、図6に、周辺回路32aにおいて
含まれる入力バッファ回路のブロック図を示す。図6に
おいて、内部電源電圧Vintの端子は、pチャンネル
FET51のソース及びドレイン、nチャンネルFET
のドレイン及びソースを介して接地される。また、FE
T51とFET52の各ゲートはともに接続されて入力
端子60に接続される一方、FET51とFET52の
各ドレインはともに接続されてメモリ側端子70に接続
される。
Further, FIG. 6 shows a block diagram of an input buffer circuit included in the peripheral circuit 32a. In FIG. 6, the terminal of the internal power supply voltage Vint is the source and drain of the p-channel FET 51, and the n-channel FET.
Is grounded through the drain and the source. Also, FE
The gates of T51 and FET52 are connected together and connected to the input terminal 60, while the drains of FET51 and FET52 are connected together and connected to the memory side terminal 70.

【0007】以上のように構成された入力バッファ回路
は公知のCMOSインバータ回路であって、入力端子6
0に入力される信号が所定のハイレベル検出しきい値電
圧VIHmin以上のとき、FET52がオンとなる一方、
FET51がオフとされ、ローレベル信号がメモリ側端
子70から出力される。一方、入力端子60に入力され
る信号が、上記しきい値電圧VIHminよりも低い所定の
ローレベル検出しきい値電圧VILmax以下のとき、FE
T51がオンとなる一方、FET52がオフとされ、ハ
イレベル信号がメモリ側端子70から出力される。例え
ば、内部電源電圧Vintが所定値から高くなったと
き、上記しきい値電圧VIHmin及びVILmaxがともに高く
なる。
The input buffer circuit configured as described above is a known CMOS inverter circuit, and the input terminal 6
When the signal input to 0 is equal to or higher than a predetermined high level detection threshold voltage V IHmin , the FET 52 is turned on,
The FET 51 is turned off, and a low level signal is output from the memory side terminal 70. On the other hand, when the signal input to the input terminal 60 is equal to or lower than the predetermined low level detection threshold voltage V ILmax lower than the threshold voltage V IHmin , the FE
While T51 is turned on, the FET 52 is turned off and a high level signal is output from the memory side terminal 70. For example, when the internal power supply voltage Vint becomes higher than a predetermined value, both the threshold voltages V IHmin and V ILmax become high.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】図9は、従来例のDR
AMにおけるリード・モディファイ・ライト動作を示す
各信号のタイミングチャートである。このリード・モデ
ィファイ・ライト動作は、1サイクル中において、一度
メモリセルからデータを読み取り、そのデータを修正し
て書き込む動作である。図9において、RASのバー
(上線)(以下、当該明細書において/RASと記す。
その他の記号についても同様に/を用いる。)はローア
ドレスセレクト信号(以下、/RAS信号という。)で
ある。なお、バーはローレベルで活性化される信号を示
す。また、/CASはコラムアドレスセレクト信号(以
下、/CAS信号という。)であり、/WEはライトイ
ネーブル信号(以下、/WE信号という。)であり、/
OEはアウトプットイネーブル信号(以下、/OE信号
という。)である。
FIG. 9 shows a conventional DR.
7 is a timing chart of each signal showing a read-modify-write operation in AM. This read-modify-write operation is an operation in which data is read from the memory cell once, and the data is modified and written in one cycle. In FIG. 9, the RAS bar (upper line) (hereinafter referred to as / RAS in this specification).
Similarly, / is used for other symbols. ) Is a row address select signal (hereinafter referred to as / RAS signal). The bar indicates a signal activated at a low level. Further, / CAS is a column address select signal (hereinafter referred to as / CAS signal), / WE is a write enable signal (hereinafter referred to as / WE signal), and /.
OE is an output enable signal (hereinafter referred to as / OE signal).

【0009】図9に示すように、/RAS信号がローレ
ベルとなってローアドレスがイネーブルされた後に、/
CAS信号がローレベルとなってコラムアドレスがイネ
ーブルされたとき、センスアンプ31や周辺回路32a
がイネーブルされ、非常に大きな電源電流がセンスアン
プ31や周辺回路32aに流れ、このとき、図5のFE
T46のコンダクタンスに対するVDC1の制御が追い
つかず、一時的に内部電源電圧Vintが低下するの
で、100で示すようにアンダーシュートが生じる。次
いで、VDC1が上記フィードバック回路動作により内
部電源電圧Vintを基準電圧Vrefに一致させるよ
うに制御するので、このとき、この制御動作により10
1に示すようにオーバーシュートが生じる。例えば時刻
t1においては、内部電源電圧Vintは所定値より高
くなり、これにより、上記ハイレベル検出しきい値電圧
IHminは高くなる。従って、このとき、ハイレベルで
あるはずの/WE信号が、200で示すように、入力バ
ッファ回路によりローレベルであると検出される場合が
ある。この時刻t1において、書き込むデータが入力さ
れていないので、誤ったデータをDRAMのメモリセル
に書き込む場合があるという問題点があった。
As shown in FIG. 9, after the / RAS signal becomes low level and the row address is enabled,
When the CAS signal goes low and the column address is enabled, the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32a are
Is enabled, a very large power supply current flows to the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32a. At this time, the FE of FIG.
Since the control of VDC1 with respect to the conductance of T46 cannot catch up and the internal power supply voltage Vint drops temporarily, an undershoot occurs as indicated by 100. Next, VDC1 controls the internal power supply voltage Vint to match the reference voltage Vref by the above feedback circuit operation.
As shown in 1, overshoot occurs. For example, at time t1, the internal power supply voltage Vint becomes higher than a predetermined value, which causes the high level detection threshold voltage V IHmin to become high. Therefore, at this time, the / WE signal, which should have been at the high level, may be detected by the input buffer circuit to be at the low level, as indicated by 200. At this time t1, since the data to be written has not been input, there is a problem that erroneous data may be written to the memory cell of the DRAM.

【0010】図10は、従来例のDRAMにおけるディ
レイド・ライト動作を示す各信号のタイミングチャート
である。ライトサイクルで所定の時間よりも遅れて/W
E信号を立ち下げた場合、出力状態はハイインピーダン
ス状態ではなくなるが、この場合にもデータの書き込み
動作が可能である。この動作がディレイド・ライト動作
であり、この動作においても、同様に、アンダーシュー
ト100とオーバーシュート101とが生じ、特に、オ
ーバーシュート101が生じるときに、/WE信号が2
00に示すようにローレベルになって、誤ったデータを
DRAMのメモリセルに書き込む場合があるという問題
点があった。
FIG. 10 is a timing chart of each signal showing the delayed write operation in the conventional DRAM. In write cycle, delay later than predetermined time / W
When the E signal falls, the output state is not in the high impedance state, but the data write operation is possible in this case as well. This operation is a delayed write operation, and also in this operation, an undershoot 100 and an overshoot 101 occur, and in particular, when the overshoot 101 occurs, the / WE signal becomes 2
As shown in 00, there is a problem that it becomes low level and erroneous data may be written in the memory cell of the DRAM.

【0011】本発明の目的は以上の問題点を解決し、特
に/WE信号が誤ってローレベルに検出されることを防
止することができ、メモリセルへのデータの誤書き込み
が生じない半導体記憶装置を提供することにある。
The object of the present invention is to solve the above problems and, in particular, to prevent the / WE signal from being erroneously detected at a low level, and to prevent semiconductor memory data from being erroneously written to a memory cell. To provide a device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の半導
体記憶装置は、外部電源電圧を、上記外部電源電圧より
も低い内部電源電圧に変換する電源電圧変換回路を備え
た半導体記憶装置において、上記電源電圧変換回路の出
力端子と、少なくともライトイネーブル信号のための入
力バッファ回路の内部電源電圧印加端子との間に、積分
回路を挿入したことを特徴とする。
A first semiconductor memory device according to the present invention is a semiconductor memory device provided with a power supply voltage conversion circuit for converting an external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage. An integration circuit is inserted between the output terminal of the power supply voltage conversion circuit and at least the internal power supply voltage application terminal of the input buffer circuit for the write enable signal.

【0013】また、本発明に係る第2の半導体記憶装置
は、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部
電源電圧に変換してセンスアンプに出力する第1の電源
電圧変換回路と、上記外部電源電圧を、上記外部電源電
圧よりも低い内部電源電圧に変換して、少なくともライ
トイネーブル信号のための入力バッファ回路と周辺回路
とに出力する第2の電源電圧変換回路とを備え、上記第
2の電源電圧変換回路の出力端子と、上記入力バッファ
回路の内部電源電圧印加端子との間に、積分回路を挿入
したことを特徴とする。
A second semiconductor memory device according to the present invention includes a first power supply voltage conversion circuit which converts an external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to a sense amplifier. A second power supply voltage conversion circuit for converting the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to at least an input buffer circuit for a write enable signal and a peripheral circuit; An integration circuit is inserted between the output terminal of the second power supply voltage conversion circuit and the internal power supply voltage application terminal of the input buffer circuit.

【0014】さらに、本発明に係る第3の半導体記憶装
置は、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内
部電源電圧に変換してセンスアンプと周辺回路とに出力
する第1の電源電圧変換回路と、上記外部電源電圧を、
上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換して、
少なくともライトイネーブル信号のための入力バッファ
回路に出力する第2の電源電圧変換回路とを備えたこと
を特徴とする。
Further, in the third semiconductor memory device according to the present invention, the first power supply voltage for converting the external power supply voltage into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to the sense amplifier and the peripheral circuit. The conversion circuit and the external power supply voltage
Converted to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage,
At least a second power supply voltage conversion circuit for outputting to the input buffer circuit for the write enable signal is provided.

【0015】またさらに、本発明に係る第4の半導体記
憶装置は、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低
い内部電源電圧に変換してセンスアンプに出力する第1
の電源電圧変換回路と、上記外部電源電圧を、上記外部
電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換して周辺回路に
出力する第2の電源電圧変換回路と、上記外部電源電圧
を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換し
て、少なくともライトイネーブル信号のための入力バッ
ファ回路に出力する第3の電源電圧変換回路とを備えた
ことを特徴とする。
Furthermore, in a fourth semiconductor memory device according to the present invention, the external power supply voltage is converted into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and output to the sense amplifier.
Power supply voltage conversion circuit, a second power supply voltage conversion circuit that converts the external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to peripheral circuits, and the external power supply voltage to the external power supply. And a third power supply voltage conversion circuit for converting the internal power supply voltage lower than the voltage and outputting to the input buffer circuit for at least the write enable signal.

【0016】[0016]

【作用】以上のように構成された第1の半導体記憶装置
においては、上記電源電圧変換回路は、外部電源電圧
を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換し
て、上記積分回路を介して少なくともライトイネーブル
信号のための入力バッファ回路に出力する。上記積分回
路は、例えば図9及び図10に示すような内部電源電圧
Vintのアンダーシュート100やオーバーシュート
101等の変動を吸収し、見かけ上、上記入力バッファ
回路におけるハイレベル検出しきい値電圧VIHminのマ
ージンを向上させることができ、従来例で示した「デー
タの誤書き込み」のような誤動作を防止することができ
る。
In the first semiconductor memory device configured as described above, the power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage, and the integration circuit is operated. Via an input buffer circuit for at least the write enable signal. The integrator circuit absorbs fluctuations in the undershoot 100 and overshoot 101 of the internal power supply voltage Vint as shown in FIGS. 9 and 10, and apparently detects the high level detection threshold voltage V in the input buffer circuit. It is possible to improve the margin of IHmin and prevent a malfunction such as "wrong writing of data" shown in the conventional example.

【0017】また、上記第2の半導体記憶装置において
は、上記第1の電源電圧変換回路は、外部電源電圧を、
上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換してセ
ンスアンプに出力する一方、上記第2の電源電圧変換回
路は、上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低
い内部電源電圧に変換して、上記周辺回路に出力すると
ともに、上記積分回路を介して少なくともライトイネー
ブル信号のための入力バッファ回路と周辺回路とに出力
する。従って、比較的大きな消費電流を消費するセンス
アンプに対して、上記入力バッファ回路のための第2の
電源電圧変換回路とは別の第1の電源電圧変換回路によ
り内部電源電圧を供給している。これにより、上記第1
の半導体記憶装置に比較して、上記センスアンプの消費
電流による入力バッファ回路と周辺回路への内部電源電
圧の変動の影響を無くしている。また、上記積分回路
は、上記第1の半導体記憶装置と同様に、上記入力バッ
ファ回路への内部電源電圧のアンダーシュートやオーバ
ーシュート等の変動を吸収し、見かけ上、上記入力バッ
ファ回路のハイレベル検出しきい値電圧VIHminのマー
ジンを向上させることができ、従来例で示した「データ
の誤書き込み」のような誤動作を防止することができ
る。
In the second semiconductor memory device, the first power supply voltage conversion circuit supplies the external power supply voltage to the external power supply voltage.
The second power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to the sense amplifier. And outputs to the peripheral circuit and at least the input buffer circuit for the write enable signal and the peripheral circuit via the integrating circuit. Therefore, the internal power supply voltage is supplied to the sense amplifier that consumes a relatively large current consumption by the first power supply voltage conversion circuit different from the second power supply voltage conversion circuit for the input buffer circuit. . Thereby, the first
Compared to the semiconductor memory device of No. 1, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit and the peripheral circuit due to the current consumption of the sense amplifier is eliminated. Further, the integrator circuit absorbs fluctuations of the internal power supply voltage to the input buffer circuit, such as undershoot and overshoot, similar to the first semiconductor memory device, and apparently the high level of the input buffer circuit. It is possible to improve the margin of the detection threshold voltage V IHmin and prevent malfunction such as “wrong writing of data” shown in the conventional example.

【0018】さらに、上記第3の半導体記憶装置におい
ては、上記第1の電源電圧変換回路は、外部電源電圧
を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換し
てセンスアンプと周辺回路とに出力する一方、上記第2
の電源電圧変換回路は、上記外部電源電圧を、上記外部
電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換して、少なくと
もライトイネーブル信号のための入力バッファ回路に出
力する。従って、比較的大きな消費電流を消費するセン
スアンプ及び周辺回路に対して、上記入力バッファ回路
のための第2の電源電圧変換回路とは別の第1の電源電
圧変換回路により内部電源電圧を供給している。これに
より、上記センスアンプや上記周辺回路の消費電流によ
る上記入力バッファ回路への内部電源電圧の変動の影響
を無くしている。従って、従来例に比較して、上記入力
バッファ回路への内部電源電圧のアンダーシュートやオ
ーバーシュートを小さくすることができ、見かけ上、上
記入力バッファ回路におけるハイレベル検出しきい値電
圧VIHminのマージンを向上させることができ、従来例
で示した「データの誤書き込み」のような誤動作を防止
することができる。
Further, in the third semiconductor memory device, the first power supply voltage conversion circuit converts an external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage to form a sense amplifier and peripheral circuits. Output to the second
The power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to at least an input buffer circuit for a write enable signal. Therefore, the internal power supply voltage is supplied to the sense amplifier and the peripheral circuit which consume relatively large current consumption by the first power supply voltage conversion circuit different from the second power supply voltage conversion circuit for the input buffer circuit. are doing. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit due to the current consumption of the sense amplifier and the peripheral circuit is eliminated. Therefore, compared to the conventional example, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage to the input buffer circuit can be reduced, and apparently the margin of the high level detection threshold voltage V IHmin in the input buffer circuit is small . Therefore, it is possible to prevent malfunctions such as “erroneous writing of data” shown in the conventional example.

【0019】またさらに、上記第4の半導体記憶装置に
おいては、上記第1の電源電圧変換回路は、外部電源電
圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換
してセンスアンプに出力する。また、上記第2の電源電
圧変換回路は、上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧
よりも低い内部電源電圧に変換して周辺回路に出力す
る。さらに、上記第3の電源電圧変換回路は、上記外部
電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧
に変換して、少なくともライトイネーブル信号のための
入力バッファ回路に出力する。従って、比較的大きな消
費電流を消費する上記センスアンプ及び上記周辺回路に
対して、上記入力バッファ回路のための第3の電源電圧
変換回路とは別のそれぞれ専用の第1と第2の電源電圧
変換回路により内部電源電圧を供給している。これによ
り、上記センスアンプや上記周辺回路の消費電流による
上記入力バッファ回路への内部電源電圧の変動の影響を
無くしている。従って、従来例に比較して、上記入力バ
ッファ回路への内部電源電圧のアンダーシュートやオー
バーシュートを小さくすることができ、見かけ上、上記
入力バッファ回路におけるハイレベル検出しきい値電圧
IHminのマージンを向上させることができ、従来例で
示した「データの誤書き込み」のような誤動作を防止す
ることができる。
Furthermore, in the fourth semiconductor memory device, the first power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to the sense amplifier. . Further, the second power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to a peripheral circuit. Further, the third power supply voltage conversion circuit converts the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to at least an input buffer circuit for a write enable signal. Therefore, for the sense amplifier and the peripheral circuit that consume relatively large current consumption, first and second power supply voltages dedicated to the input buffer circuit and different from the third power supply voltage conversion circuit. The conversion circuit supplies the internal power supply voltage. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit due to the current consumption of the sense amplifier and the peripheral circuit is eliminated. Therefore, compared to the conventional example, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage to the input buffer circuit can be reduced, and apparently the margin of the high level detection threshold voltage V IHmin in the input buffer circuit is small . Therefore, it is possible to prevent malfunctions such as “erroneous writing of data” shown in the conventional example.

【0020】[0020]

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る実施例に
ついて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】実施例1.図1は、本発明に係る実施例1
である半導体記憶装置の電源回路を示すブロック図であ
る。図1において、図7及び図8と同一のものについて
は同一の符号を付している。この実施例1の電源回路
は、1個のVDC1を備え、VDC1の出力端子と、各
入力バッファ回路11乃至14の内部電源電圧Vint
印加端子との間に、それぞれ抵抗RとキヤパシタCから
なる積分回路21乃至24を挿入したことを特徴とす
る。
Example 1. FIG. 1 shows a first embodiment according to the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing a power supply circuit of the semiconductor memory device. In FIG. 1, the same components as those in FIGS. 7 and 8 are designated by the same reference numerals. The power supply circuit according to the first embodiment includes one VDC1, the output terminal of VDC1 and the internal power supply voltage Vint of each of the input buffer circuits 11 to 14.
It is characterized in that integrating circuits 21 to 24 each composed of a resistor R and a capacitor C are inserted between the applying terminal and the applying terminal.

【0022】図1に示すように、例えば5Vである外部
電源電圧Vextは、図5で示された回路構成を有する
VDC1によって、外部電源電圧Vextよりも低い例
えば3.3Vである所定の内部電源電圧Vintに変換
された後、センスアンプ31と、周辺回路32とに分配
供給されるとともに、積分回路21乃至24を介して入
力バッファ回路11乃至14に分配供給される。各積分
回路21乃至24はそれぞれ、その回路の入出力端子間
に直列に接続される抵抗Rと、その回路の出力端子とア
ースとの間に接続されるキヤパシタCとから構成され
る。
As shown in FIG. 1, an external power supply voltage Vext of, for example, 5V is lower than the external power supply voltage Vext by a predetermined internal power supply of 3.3V by VDC1 having the circuit configuration shown in FIG. After being converted into the voltage Vint, it is distributed and supplied to the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32, and also distributed and supplied to the input buffer circuits 11 to 14 through the integrating circuits 21 to 24. Each of the integrating circuits 21 to 24 is composed of a resistor R connected in series between the input and output terminals of the circuit, and a capacitor C connected between the output terminal of the circuit and the ground.

【0023】周辺回路32は、例えばDRAMのための
周辺回路であって、例えばローデコーダ、コラムデコー
ダなどの回路を含むが、入力信号のための入力バッファ
回路を含まない。各入力バッファ回路11乃至14はそ
れぞれ、図6で示されたCMOSの回路構成を有する。
ここで、入力バッファ回路11は、/WE信号のための
入力バッファ回路であって、入力端子61とメモリ側端
子71とを有する。また、入力バッファ回路12は、/
OE信号のための入力バッファ回路であって、入力端子
62とメモリ側端子72とを有する。さらに、入力バッ
ファ回路13は、/RAS信号のための入力バッファ回
路であって、入力端子63とメモリ側端子73とを有す
る。またさらに、入力バッファ回路14は、/CAS信
号のための入力バッファ回路であって、入力端子64と
メモリ側端子74とを有する。
The peripheral circuit 32 is, for example, a peripheral circuit for a DRAM and includes circuits such as a row decoder and a column decoder, but does not include an input buffer circuit for an input signal. Each of the input buffer circuits 11 to 14 has the CMOS circuit configuration shown in FIG.
Here, the input buffer circuit 11 is an input buffer circuit for the / WE signal, and has an input terminal 61 and a memory side terminal 71. In addition, the input buffer circuit 12 is /
It is an input buffer circuit for the OE signal and has an input terminal 62 and a memory side terminal 72. Further, the input buffer circuit 13 is an input buffer circuit for the / RAS signal, and has an input terminal 63 and a memory side terminal 73. Furthermore, the input buffer circuit 14 is an input buffer circuit for the / CAS signal, and has an input terminal 64 and a memory side terminal 74.

【0024】本実施例において、積分回路21乃至24
は、少なくとも/WE信号のための入力バッファ回路1
1の内部電源電圧Vint印加端子の前段に設けること
が好ましい。さらに、図1において、例えばアドレスピ
ンやI/Oピンなどの入力信号の入力バッファ回路(図
示せず。)の内部電源電圧Vint印加端子と、VDC
1の出力端子との間に、好ましくは、積分回路(図示せ
ず。)を挿入してもよい。なお、抵抗Rの抵抗値とキヤ
パシタCの静電容量値との積は、公知の通り積分回路2
1乃至24の時定数であって、内部電源電圧Vintに
おけるアンダーシュートとオーバーシュートとが小さい
値になるように設定される。
In this embodiment, the integrating circuits 21 to 24 are used.
Is an input buffer circuit 1 for at least the / WE signal
It is preferable to provide the internal power supply voltage Vint 1 in the preceding stage. Further, in FIG. 1, for example, an internal power supply voltage Vint application terminal of an input buffer circuit (not shown) for input signals such as address pins and I / O pins, and VDC.
An integrating circuit (not shown) may preferably be inserted between the output terminal 1 and the output terminal 1. The product of the resistance value of the resistor R and the capacitance value of the capacitor C is, as is well known, the integrating circuit 2
The time constant is 1 to 24, and is set such that the undershoot and overshoot at the internal power supply voltage Vint are small values.

【0025】以上のように構成された実施例1の電源回
路においては、入力バッファ回路11乃至14の内部電
源電圧Vint印加端子の前段にそれぞれ、積分回路2
1乃至24を設けたので、例えば図9及び図10に示す
ような内部電源電圧Vintのアンダーシュート100
やオーバーシュート101等の変動を吸収し、見かけ
上、各入力バッファ回路11乃至14のハイレベル検出
しきい値電圧VIHminのマージンを向上させることがで
き、従来例で示した「データの誤書き込み」のような誤
動作を防止することができる。
In the power supply circuit of the first embodiment configured as described above, the integrating circuit 2 is provided in each of the input buffer circuits 11 to 14 before the internal power supply voltage Vint application terminal.
1 to 24 are provided, the undershoot 100 of the internal power supply voltage Vint as shown in FIGS. 9 and 10, for example.
It is possible to absorb the fluctuation of the overshoot 101 and the like, and apparently improve the margin of the high level detection threshold voltage V IHmin of each of the input buffer circuits 11 to 14. It is possible to prevent a malfunction such as "."

【0026】実施例2.図2は、本発明に係る実施例2
である半導体記憶装置の電源回路を示すブロック図であ
る。図2において、図1、図7及び図8と同一のものに
ついては同一の符号を付している。この実施例2の電源
回路は、2個のVDC1a,1bを備え、VDC1bの
出力端子と、各入力バッファ回路11乃至14の内部電
源電圧Vint印加端子との間に、それぞれ抵抗Rとキ
ヤパシタCからなる積分回路21乃至24を挿入したこ
とを特徴とする。以下、実施例1との相違点について詳
細に説明する。
Example 2. FIG. 2 shows a second embodiment according to the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing a power supply circuit of the semiconductor memory device. 2, the same components as those in FIGS. 1, 7 and 8 are designated by the same reference numerals. The power supply circuit according to the second embodiment includes two VDCs 1a and 1b, and a resistor R and a capacitor C are provided between the output terminal of VDC 1b and the internal power supply voltage Vint application terminals of the input buffer circuits 11 to 14, respectively. Integrating circuits 21 to 24 are inserted. Hereinafter, differences from the first embodiment will be described in detail.

【0027】図2に示すように、外部電源電圧Vext
は、図5で示された回路構成を有するVDC1aによっ
て内部電源電圧Vintに変換された後、センスアンプ
31に供給される。また、外部電源電圧Vextは、図
5で示された回路構成を有するVDC1bによって内部
電源電圧Vintに変換された後、周辺回路32に供給
されるとともに、積分回路21乃至24を介して入力バ
ッファ回路11乃至14に分配供給される。
As shown in FIG. 2, the external power supply voltage Vext
Is converted into internal power supply voltage Vint by VDC 1a having the circuit configuration shown in FIG. 5, and then supplied to sense amplifier 31. Further, external power supply voltage Vext is converted to internal power supply voltage Vint by VDC 1b having the circuit configuration shown in FIG. 5, and then supplied to peripheral circuit 32 and input buffer circuit via integrating circuits 21 to 24. 11 to 14 are distributed and supplied.

【0028】本実施例において、積分回路21乃至24
は、少なくとも/WE信号のための入力バッファ回路1
1の内部電源電圧Vint印加端子の前段に設けること
が好ましい。さらに、図2において、例えばアドレスピ
ンやI/Oピンなどの入力信号の入力バッファ回路(図
示せず。)の内部電源電圧Vint印加端子と、VDC
1bの出力端子との間に、好ましくは、積分回路(図示
せず。)を挿入してもよい。
In this embodiment, the integrating circuits 21 to 24 are used.
Is an input buffer circuit 1 for at least the / WE signal
It is preferable to provide the internal power supply voltage Vint 1 in the preceding stage. Further, in FIG. 2, for example, an internal power supply voltage Vint application terminal of an input buffer circuit (not shown) for input signals such as address pins and I / O pins, and VDC.
An integrating circuit (not shown) may preferably be inserted between the output terminal of 1b.

【0029】以上のように構成された電源回路において
は、比較的大きな消費電流を消費するセンスアンプ31
に対して、入力バッファ回路11乃至14のためのVD
C1bとは別のVDC1aにより内部電源電圧Vint
を供給している。これにより、実施例1に比較して、セ
ンスアンプ31の消費電流による入力バッファ回路11
乃至14と周辺回路32への内部電源電圧Vintの変
動の影響を無くしている。また、本実施例の電源回路
は、積分回路21乃至24を設けたので、実施例1と同
様に、入力バッファ回路11乃至14への内部電源電圧
Vintのアンダーシュートやオーバーシュート等の変
動を吸収し、見かけ上、各入力バッファ回路11乃至1
4のハイレベル検出しきい値電圧VIHminのマージンを
向上させることができ、従来例で示した「データの誤書
き込み」のような誤動作を防止することができる。
In the power supply circuit configured as described above, the sense amplifier 31 consuming a relatively large current consumption.
VD for the input buffer circuits 11 to 14
Internal power supply voltage Vint is generated by VDC1a which is different from C1b.
Is being supplied. As a result, as compared with the first embodiment, the input buffer circuit 11 based on the current consumption of the sense amplifier 31 is used.
To 14 and the peripheral circuit 32, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage Vint is eliminated. Further, since the power supply circuit of this embodiment is provided with the integrating circuits 21 to 24, like the first embodiment, it absorbs fluctuations such as undershoot and overshoot of the internal power supply voltage Vint to the input buffer circuits 11 to 14. However, apparently, each of the input buffer circuits 11 to 1
It is possible to improve the margin of the high level detection threshold voltage V IHmin of No. 4 and prevent the malfunction such as the “wrong writing of data” shown in the conventional example.

【0030】実施例3.図3は、本発明に係る実施例3
である半導体記憶装置の電源回路を示すブロック図であ
る。図3において、図1及び図2、並びに図7及び図8
と同一のものについては同一の符号を付している。この
実施例3の電源回路は、2個のVDC1a,1bを備
え、VDC1bを各入力バッファ回路11乃至14のた
めの専用のVDCとしたことを特徴としている。以下、
実施例1及び2との相違点について詳細に説明する。
Example 3. FIG. 3 shows a third embodiment according to the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing a power supply circuit of the semiconductor memory device. 3, FIG. 1 and FIG. 2, and FIG. 7 and FIG.
The same symbols are attached to the same components. The power supply circuit according to the third embodiment is characterized by including two VDCs 1a and 1b, and the VDC 1b is a dedicated VDC for each of the input buffer circuits 11 to 14. Less than,
Differences from the first and second embodiments will be described in detail.

【0031】図3に示すように、外部電源電圧Vext
は、図5で示された回路構成を有するVDC1aによっ
て内部電源電圧Vintに変換された後、センスアンプ
31及び周辺回路32に供給されるとともに、図5で示
された回路構成を有するVDC1bによって内部電源電
圧Vintに変換された後、積分回路を介さず直接に入
力バッファ回路11乃至14に分配供給される。
As shown in FIG. 3, the external power supply voltage Vext
Is supplied to the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32 after being converted into the internal power supply voltage Vint by the VDC 1a having the circuit configuration shown in FIG. 5, and internally by the VDC 1b having the circuit configuration shown in FIG. After being converted into the power supply voltage Vint, it is directly distributed and supplied to the input buffer circuits 11 to 14 without passing through the integrating circuit.

【0032】本実施例において、VDC1bは、少なく
とも/WE信号のための入力バッファ回路11の内部電
源電圧Vint印加端子の前段に設けることが好まし
い。さらに、図3において、例えばアドレスピンやI/
Oピンなどの入力信号の入力バッファ回路(図示せ
ず。)をVDC1bの出力端子に接続するようにしても
よい。
In this embodiment, VDC1b is preferably provided at least before the internal power supply voltage Vint application terminal of the input buffer circuit 11 for the / WE signal. Further, in FIG. 3, for example, address pins and I /
An input buffer circuit (not shown) for an input signal such as an O pin may be connected to the output terminal of VDC 1b.

【0033】以上のように構成された電源回路において
は、比較的大きな消費電流を消費するセンスアンプ31
及び周辺回路32に対して、入力バッファ回路11乃至
14のためのVDC1bとは別のVDC1aにより内部
電源電圧Vintを供給している。これにより、センス
アンプ31や周辺回路32の消費電流による入力バッフ
ァ回路11乃至14への内部電源電圧Vintの変動の
影響を無くしている。従って、従来例に比較して、入力
バッファ回路11乃至14への内部電源電圧Vintの
アンダーシュートやオーバーシュートを小さくすること
ができ、見かけ上、各入力バッファ回路11乃至14の
ハイレベル検出しきい値電圧VIHminのマージンを向上
させることができ、従来例で示した「データの誤書き込
み」のような誤動作を防止することができる。
In the power supply circuit configured as described above, the sense amplifier 31 that consumes a relatively large current consumption.
Also, the internal power supply voltage Vint is supplied to the peripheral circuit 32 by a VDC 1a different from the VDC 1b for the input buffer circuits 11 to 14. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage Vint on the input buffer circuits 11 to 14 due to the current consumption of the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32 is eliminated. Therefore, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage Vint to the input buffer circuits 11 to 14 can be reduced as compared with the conventional example, and the high level detection threshold of each of the input buffer circuits 11 to 14 is apparently detected. It is possible to improve the margin of the value voltage V IHmin and prevent malfunction such as “wrong writing of data” shown in the conventional example.

【0034】実施例4.図4は、本発明に係る実施例4
である半導体記憶装置の電源回路を示すブロック図であ
る。図4において、図1乃至図3、並びに図7及び図8
と同一のものについては同一の符号を付している。この
実施例4の電源回路は、実施例3に比較して、センスア
ンプ31と周辺回路32のそれぞれに、互いに独立のV
DC1a,1bを設けたことを特徴としている。以下、
実施例3との相違点について詳細に説明する。
Embodiment 4 FIG. FIG. 4 shows a fourth embodiment according to the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing a power supply circuit of the semiconductor memory device. 4, FIG. 1 to FIG. 3, and FIG. 7 and FIG.
The same symbols are attached to the same components. The power supply circuit according to the fourth embodiment is different from the power supply circuit according to the third embodiment in that the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32 have V independent of each other.
The feature is that DCs 1a and 1b are provided. Less than,
Differences from the third embodiment will be described in detail.

【0035】図4に示すように、外部電源電圧Vext
は、図5で示された回路構成を有するVDC1aによっ
て内部電源電圧Vintに変換された後、センスアンプ
31供給されるとともに、図5で示された回路構成を有
するVDC1bによって内部電源電圧Vintに変換さ
れた後、周辺回路32に供給される。また、外部電源電
圧Vextは、図5で示された回路構成を有するVDC
1cによって内部電源電圧Vintに変換された後、入
力バッファ回路11乃至14に分配供給される。
As shown in FIG. 4, the external power supply voltage Vext
Is converted into an internal power supply voltage Vint by VDC1a having the circuit configuration shown in FIG. 5, then supplied to sense amplifier 31, and converted to internal power supply voltage Vint by VDC1b having the circuit configuration shown in FIG. Then, it is supplied to the peripheral circuit 32. Further, the external power supply voltage Vext is VDC which has the circuit configuration shown in FIG.
After being converted to the internal power supply voltage Vint by 1c, it is distributed and supplied to the input buffer circuits 11 to 14.

【0036】本実施例において、VDC1cは、少なく
とも/WE信号のための入力バッファ回路11の内部電
源電圧Vint印加端子の前段に設けることが好まし
い。さらに、図4において、例えばアドレスピンやI/
Oピンなどの入力信号の入力バッファ回路(図示せ
ず。)をVDC1cの出力端子に接続するようにしても
よい。
In the present embodiment, VDC 1c is preferably provided at least before the internal power supply voltage Vint application terminal of the input buffer circuit 11 for the / WE signal. Further, in FIG. 4, for example, address pins and I /
An input buffer circuit (not shown) for an input signal such as an O pin may be connected to the output terminal of VDC 1c.

【0037】以上のように構成された電源回路において
は、比較的大きな消費電流を消費するセンスアンプ31
及び周辺回路32に対して、入力バッファ回路11乃至
14のためのVDC1cとは別のそれぞれ専用のVDC
1a,1bにより内部電源電圧Vintを供給してい
る。これにより、センスアンプ31や周辺回路32の消
費電流による入力バッファ回路11乃至14への内部電
源電圧Vintの変動の影響を無くしている。従って、
従来例に比較して、入力バッファ回路11乃至14への
内部電源電圧Vintのアンダーシュートやオーバーシ
ュートを小さくすることができ、見かけ上、各入力バッ
ファ回路11乃至14のハイレベル検出しきい値電圧V
IHminのマージンを向上させることができ、従来例で示
した「データの誤書き込み」のような誤動作を防止する
ことができる。
In the power supply circuit configured as described above, the sense amplifier 31 which consumes a relatively large current consumption.
And the peripheral circuit 32, a dedicated VDC different from the VDC 1c for the input buffer circuits 11 to 14
The internal power supply voltage Vint is supplied by 1a and 1b. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage Vint on the input buffer circuits 11 to 14 due to the current consumption of the sense amplifier 31 and the peripheral circuit 32 is eliminated. Therefore,
Compared with the conventional example, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage Vint to the input buffer circuits 11 to 14 can be reduced, and the high level detection threshold voltage of each of the input buffer circuits 11 to 14 is apparently seen. V
It is possible to improve the margin of IHmin and prevent a malfunction such as "wrong writing of data" shown in the conventional example.

【0038】なお、本発明に係る半導体記憶装置は、D
RAMに限らず、SRAM、EPROM、EEPROM
などの半導体記憶装置に適用することができる。
The semiconductor memory device according to the present invention has a D
Not limited to RAM, SRAM, EPROM, EEPROM
Can be applied to semiconductor memory devices such as.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る第1の
半導体記憶装置によれば、外部電源電圧を、上記外部電
源電圧よりも低い内部電源電圧に変換する電源電圧変換
回路を備えた半導体記憶装置において、上記電源電圧変
換回路の出力端子と、少なくともライトイネーブル信号
のための入力バッファ回路の内部電源電圧印加端子との
間に、積分回路を挿入したことを特徴とする。従って、
上記積分回路は、例えば図9及び図10に示すような内
部電源電圧Vintのアンダーシュート100やオーバ
ーシュート101等の変動を吸収し、見かけ上、上記入
力バッファ回路におけるハイレベル検出しきい値電圧V
IHminのマージンを向上させることができ、従来例で示
した「データの誤書き込み」のような誤動作を防止する
ことができる。
As described above in detail, according to the first semiconductor memory device of the present invention, it is provided with the power supply voltage conversion circuit for converting the external power supply voltage into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage. In the semiconductor memory device, an integrating circuit is inserted between the output terminal of the power supply voltage conversion circuit and at least the internal power supply voltage applying terminal of the input buffer circuit for the write enable signal. Therefore,
The integrator circuit absorbs fluctuations in the undershoot 100 and overshoot 101 of the internal power supply voltage Vint as shown in FIGS. 9 and 10, and apparently detects the high level detection threshold voltage V in the input buffer circuit.
It is possible to improve the margin of IHmin and prevent a malfunction such as "wrong writing of data" shown in the conventional example.

【0040】また、本発明に係る第2の半導体記憶装置
によれば、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低
い内部電源電圧に変換してセンスアンプに出力する第1
の電源電圧変換回路と、上記外部電源電圧を、上記外部
電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換して、少なくと
もライトイネーブル信号のための入力バッファ回路と周
辺回路とに出力する第2の電源電圧変換回路とを備え、
上記第2の電源電圧変換回路の出力端子と、上記入力バ
ッファ回路の内部電源電圧印加端子との間に、積分回路
を挿入したことを特徴とする。従って、比較的大きな消
費電流を消費するセンスアンプに対して、上記入力バッ
ファ回路のための第2の電源電圧変換回路とは別の第1
の電源電圧変換回路により内部電源電圧を供給してい
る。これにより、上記第1の半導体記憶装置に比較し
て、上記センスアンプの消費電流による入力バッファ回
路と周辺回路への内部電源電圧の変動の影響を無くして
いる。また、上記積分回路は、上記第1の半導体記憶装
置と同様に、上記入力バッファ回路への内部電源電圧の
アンダーシュートやオーバーシュート等の変動を吸収
し、見かけ上、上記入力バッファ回路のハイレベル検出
しきい値電圧VIHminのマージンを向上させることがで
き、従来例で示した「データの誤書き込み」のような誤
動作を防止することができる。
Further, according to the second semiconductor memory device of the present invention, the external power supply voltage is converted into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and is output to the sense amplifier.
And a second power supply voltage for converting the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to at least the input buffer circuit for the write enable signal and the peripheral circuit. And a conversion circuit,
An integration circuit is inserted between the output terminal of the second power supply voltage conversion circuit and the internal power supply voltage application terminal of the input buffer circuit. Therefore, for a sense amplifier that consumes a relatively large current consumption, a first power supply voltage conversion circuit that is different from the second power supply voltage conversion circuit for the input buffer circuit is used.
The internal power supply voltage is supplied by the power supply voltage conversion circuit. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit and the peripheral circuit due to the current consumption of the sense amplifier is eliminated as compared with the first semiconductor memory device. Further, the integrator circuit absorbs fluctuations of the internal power supply voltage to the input buffer circuit, such as undershoot and overshoot, similar to the first semiconductor memory device, and apparently the high level of the input buffer circuit. It is possible to improve the margin of the detection threshold voltage V IHmin and prevent malfunction such as “wrong writing of data” shown in the conventional example.

【0041】さらに、本発明に係る第3の半導体記憶装
置によれば、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも
低い内部電源電圧に変換してセンスアンプと周辺回路と
に出力する第1の電源電圧変換回路と、上記外部電源電
圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換
して、少なくともライトイネーブル信号のための入力バ
ッファ回路に出力する第2の電源電圧変換回路とを備え
たことを特徴とする。従って、比較的大きな消費電流を
消費するセンスアンプ及び周辺回路に対して、上記入力
バッファ回路のための第2の電源電圧変換回路とは別の
第1の電源電圧変換回路により内部電源電圧を供給して
いる。これにより、上記センスアンプや上記周辺回路の
消費電流による上記入力バッファ回路への内部電源電圧
の変動の影響を無くしている。従って、従来例に比較し
て、上記入力バッファ回路への内部電源電圧のアンダー
シュートやオーバーシュートを小さくすることができ、
見かけ上、上記入力バッファ回路におけるハイレベル検
出しきい値電圧VIHminのマージンを向上させることが
でき、従来例で示した「データの誤書き込み」のような
誤動作を防止することができる。
Further, according to the third semiconductor memory device of the present invention, the external power supply voltage is converted into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and output to the sense amplifier and the peripheral circuit. And a second power supply voltage conversion circuit for converting the external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to an input buffer circuit for at least a write enable signal. It is characterized by that. Therefore, the internal power supply voltage is supplied to the sense amplifier and the peripheral circuit which consume relatively large current consumption by the first power supply voltage conversion circuit different from the second power supply voltage conversion circuit for the input buffer circuit. are doing. As a result, the influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit due to the current consumption of the sense amplifier and the peripheral circuit is eliminated. Therefore, compared to the conventional example, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage to the input buffer circuit can be reduced,
Apparently, the margin of the high level detection threshold voltage V IHmin in the input buffer circuit can be improved, and malfunctions such as “erroneous writing of data” shown in the conventional example can be prevented.

【0042】またさらに、本発明に係る第4の半導体記
憶装置によれば、外部電源電圧を、上記外部電源電圧よ
りも低い内部電源電圧に変換してセンスアンプに出力す
る第1の電源電圧変換回路と、上記外部電源電圧を、上
記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に変換して周辺
回路に出力する第2の電源電圧変換回路と、上記外部電
源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部電源電圧に
変換して、少なくともライトイネーブル信号のための入
力バッファ回路に出力する第3の電源電圧変換回路とを
備えたことを特徴とする。従って、比較的大きな消費電
流を消費する上記センスアンプ及び上記周辺回路に対し
て、上記入力バッファ回路のための第3の電源電圧変換
回路とは別のそれぞれ専用の第1と第2の電源電圧変換
回路により内部電源電圧を供給している。これにより、
上記センスアンプや上記周辺回路の消費電流による上記
入力バッファ回路への内部電源電圧の変動の影響を無く
している。従って、従来例に比較して、上記入力バッフ
ァ回路への内部電源電圧のアンダーシュートやオーバー
シュートを小さくすることができ、見かけ上、上記入力
バッファ回路におけるハイレベル検出しきい値電圧V
IHminのマージンを向上させることができ、従来例で示
した「データの誤書き込み」のような誤動作を防止する
ことができる。
Further, according to the fourth semiconductor memory device of the present invention, the first power supply voltage conversion for converting the external power supply voltage into the internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting it to the sense amplifier. A circuit, a second power supply voltage conversion circuit for converting the external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to a peripheral circuit, and the external power supply voltage lower than the external power supply voltage. And a third power supply voltage conversion circuit for converting the internal power supply voltage and outputting it to an input buffer circuit for at least a write enable signal. Therefore, for the sense amplifier and the peripheral circuit that consume relatively large current consumption, first and second power supply voltages dedicated to the input buffer circuit and different from the third power supply voltage conversion circuit. The conversion circuit supplies the internal power supply voltage. This allows
The influence of the fluctuation of the internal power supply voltage on the input buffer circuit due to the current consumption of the sense amplifier and the peripheral circuit is eliminated. Therefore, as compared with the conventional example, the undershoot and overshoot of the internal power supply voltage to the input buffer circuit can be reduced, and apparently the high level detection threshold voltage V in the input buffer circuit can be reduced.
It is possible to improve the margin of IHmin and prevent a malfunction such as "wrong writing of data" shown in the conventional example.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に係る実施例1である半導体記憶装置
の電源回路を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明に係る実施例2である半導体記憶装置
の電源回路を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device that is Embodiment 2 of the present invention.

【図3】 本発明に係る実施例3である半導体記憶装置
の電源回路を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明に係る実施例4である半導体記憶装置
の電源回路を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 実施例及び従来例で用いられる電源電圧変換
回路(VDC)のブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram of a power supply voltage conversion circuit (VDC) used in the embodiment and the conventional example.

【図6】 実施例及び従来例で用いられる入力バッファ
回路のブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram of an input buffer circuit used in the embodiment and the conventional example.

【図7】 従来例1である半導体記憶装置の電源回路を
示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device of Conventional Example 1.

【図8】 従来例2である半導体記憶装置の電源回路を
示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a power supply circuit of a semiconductor memory device of Conventional Example 2.

【図9】 従来例のDRAMにおけるリード・モディフ
ァイ・ライト動作を示す各信号のタイミングチャートで
ある。
FIG. 9 is a timing chart of each signal showing a read-modify-write operation in the conventional DRAM.

【図10】 従来例のDRAMにおけるディレイド・ラ
イト動作を示す各信号のタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart of each signal showing a delayed write operation in a conventional DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1a、1b、1c 電源電圧変換回路(VDC)、
11乃至14 入力バッファ回路、21乃至24 積分
回路、31 センスアンプ、32 周辺回路、41乃至
46、51、52 FET、60、61乃至64 入力
端子、70、71乃至74 メモリ側端子。
1, 1a, 1b, 1c power supply voltage conversion circuit (VDC),
11 to 14 input buffer circuits, 21 to 24 integrating circuits, 31 sense amplifiers, 32 peripheral circuits, 41 to 46, 51, 52 FETs, 60, 61 to 64 input terminals, 70, 71 to 74 memory side terminals.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部電源電圧を、上記外部電源電圧より
も低い内部電源電圧に変換する電源電圧変換回路を備え
た半導体記憶装置において、 上記電源電圧変換回路の出力端子と、少なくともライト
イネーブル信号のための入力バッファ回路の内部電源電
圧印加端子との間に、積分回路を挿入したことを特徴と
する半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a power supply voltage conversion circuit for converting an external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage, wherein an output terminal of the power supply voltage conversion circuit and at least a write enable signal are provided. A semiconductor memory device characterized in that an integrating circuit is inserted between the input buffer circuit and an internal power supply voltage applying terminal for the purpose.
【請求項2】 外部電源電圧を、上記外部電源電圧より
も低い内部電源電圧に変換してセンスアンプに出力する
第1の電源電圧変換回路と、 上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部
電源電圧に変換して、少なくともライトイネーブル信号
のための入力バッファ回路と周辺回路とに出力する第2
の電源電圧変換回路とを備え、 上記第2の電源電圧変換回路の出力端子と、上記入力バ
ッファ回路の内部電源電圧印加端子との間に、積分回路
を挿入したことを特徴とする半導体記憶装置。
2. A first power supply voltage conversion circuit which converts an external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to a sense amplifier, and the external power supply voltage is higher than the external power supply voltage. A second internal power supply voltage which is converted into a low internal power supply voltage and is output to at least an input buffer circuit for a write enable signal and a peripheral circuit;
And a power supply voltage conversion circuit, wherein an integration circuit is inserted between the output terminal of the second power supply voltage conversion circuit and the internal power supply voltage application terminal of the input buffer circuit. .
【請求項3】 外部電源電圧を、上記外部電源電圧より
も低い内部電源電圧に変換してセンスアンプと周辺回路
とに出力する第1の電源電圧変換回路と、 上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部
電源電圧に変換して、少なくともライトイネーブル信号
のための入力バッファ回路に出力する第2の電源電圧変
換回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
3. A first power supply voltage conversion circuit for converting an external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputting the internal power supply voltage to a sense amplifier and a peripheral circuit; A semiconductor memory device comprising: a second power supply voltage conversion circuit which converts an internal power supply voltage lower than a power supply voltage and outputs the converted power supply voltage to an input buffer circuit for at least a write enable signal.
【請求項4】 外部電源電圧を、上記外部電源電圧より
も低い内部電源電圧に変換してセンスアンプに出力する
第1の電源電圧変換回路と、 上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部
電源電圧に変換して周辺回路に出力する第2の電源電圧
変換回路と、 上記外部電源電圧を、上記外部電源電圧よりも低い内部
電源電圧に変換して、少なくともライトイネーブル信号
のための入力バッファ回路に出力する第3の電源電圧変
換回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
4. A first power supply voltage conversion circuit that converts an external power supply voltage into an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage and outputs the internal power supply voltage to a sense amplifier, and the external power supply voltage is higher than the external power supply voltage. A second power supply voltage conversion circuit for converting the internal power supply voltage to a low internal power supply voltage and outputting the same to a peripheral circuit; and converting the external power supply voltage to an internal power supply voltage lower than the external power supply voltage for at least a write enable signal. A semiconductor memory device comprising a third power supply voltage conversion circuit for outputting to an input buffer circuit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012099199A (en) * 2010-11-05 2012-05-24 Elpida Memory Inc Semiconductor device and method for controlling the same

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