JPH08267808A - Thermal head - Google Patents
Thermal headInfo
- Publication number
- JPH08267808A JPH08267808A JP7622695A JP7622695A JPH08267808A JP H08267808 A JPH08267808 A JP H08267808A JP 7622695 A JP7622695 A JP 7622695A JP 7622695 A JP7622695 A JP 7622695A JP H08267808 A JPH08267808 A JP H08267808A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat storage
- storage layer
- heat
- thermal head
- content ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】長期にわたり良好に機能させることが可能な高
熱効率のサーマルヘッドを提供する。
【構成】セラミック基板1上に蓄熱層2を被着するとと
もに、該蓄熱層2上に発熱抵抗体3および一対の電極4
を被着して成るサーマルヘッドにおいて、前記蓄熱層2
を樹脂材と無機物の複合材料で形成し、且つ、該蓄熱層
2の上部及び下部の無機物含有比率を80%以上、中間部
の無機物含有比率を50%以下とする。これにより蓄熱層
2の耐熱性を低下させることなく、蓄熱層2の蓄熱特性
を良好にして熱効率を向上させることができる。
(57) [Summary] [Purpose] To provide a thermal head with high thermal efficiency that can function well for a long period of time. A heat storage layer 2 is deposited on a ceramic substrate 1, and a heating resistor 3 and a pair of electrodes 4 are formed on the heat storage layer 2.
In the thermal head formed by depositing the
Is made of a composite material of a resin material and an inorganic material, and the content ratio of the inorganic material in the upper part and the lower part of the heat storage layer 2 is 80% or more, and the content ratio of the inorganic material in the middle part is 50% or less. This makes it possible to improve the heat storage characteristics of the heat storage layer 2 and improve the thermal efficiency without lowering the heat resistance of the heat storage layer 2.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ワードプロセッサやフ
ァクシミリ等のプリンタ機構として組み込まれるサーマ
ルヘッドの改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of a thermal head incorporated as a printer mechanism for a word processor, a facsimile or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ワードプロセッサ等のプリンタ機
構として組み込まれるサーマルヘッドは、図3に示す如
く、アルミナセラミックス等から成るセラミック基板1
1上に、ホウ珪酸ガラスから成る蓄熱層12を被着させ
るとともに、該蓄熱層12上に、窒化タンタル等からな
る発熱抵抗体13と、アルミニウム等からなる一対の電
極14と、保護膜15とを順次、被着させた構造を有し
ており、前記一対の電極14間に外部からの印字信号に
基づいて所定の電力を印加し、発熱抵抗体13を選択的
にジュール発熱させるとともに、該発熱した熱を感熱紙
等の記録媒体に伝導させ、記録媒体に所定の印字画像を
形成することによってサーマルヘッドとして機能する。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 3, a thermal head incorporated as a printer mechanism of a word processor or the like has a ceramic substrate 1 made of alumina ceramics or the like.
A heat storage layer 12 made of borosilicate glass is deposited on the heat storage layer 12, and a heating resistor 13 made of tantalum nitride or the like, a pair of electrodes 14 made of aluminum or the like, and a protective film 15 are formed on the heat storage layer 12. And a predetermined power is applied between the pair of electrodes 14 based on a print signal from the outside to selectively cause the heating resistor 13 to generate Joule heat. The generated heat is conducted to a recording medium such as thermal paper to form a predetermined print image on the recording medium, thereby functioning as a thermal head.
【0003】尚、前記保護膜15は窒化珪素等の緻密性
に優れた材料から成っており、発熱抵抗体13や一対の
電極14をこの保護膜15で被覆しておくことにより発
熱抵抗体13等を記録媒体の摺接による摩耗や大気中に
含まれる水分等の接触による酸化腐食から保護するよう
にしている。The protective film 15 is made of a highly dense material such as silicon nitride. By covering the heating resistor 13 and the pair of electrodes 14 with the protective film 15, the heating resistor 13 is formed. Etc. are protected from abrasion due to sliding contact of the recording medium and oxidative corrosion due to contact with moisture contained in the atmosphere.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のサーマルヘッドにおいては、蓄熱層12が熱伝導性
の比較的高いホウ珪酸ガラス(熱伝導率:約2×10-3ca
l/cm・℃)により形成されていることから、発熱抵抗体
13の発した熱の多くが蓄熱層12を介してセラミック
基板11に吸収されてしまい、発熱抵抗体13からの熱
を効率良く印字に寄与させることができない。この結
果、サーマルヘッドの熱効率が悪くなる欠点を有してい
た。However, in this conventional thermal head, the heat storage layer 12 has a relatively high thermal conductivity of borosilicate glass (thermal conductivity: about 2 × 10 −3 ca).
(1 / cm · ° C.), most of the heat generated by the heating resistor 13 is absorbed by the ceramic substrate 11 via the heat storage layer 12, and the heat from the heating resistor 13 can be efficiently transferred. It cannot contribute to printing. As a result, the thermal efficiency of the thermal head is poor.
【0005】そこで上記欠点を解消するために前記蓄熱
層12をエポキシ樹脂などの樹脂材によって形成するこ
とが提案されており、かかる樹脂材はホウ珪酸ガラスに
比し熱伝導率が小さいことから、発熱抵抗体13の発し
た熱を良好に蓄積してサーマルヘッドの熱効率を向上さ
せることができる。In order to solve the above drawbacks, it has been proposed to form the heat storage layer 12 with a resin material such as epoxy resin. Since such a resin material has a smaller thermal conductivity than borosilicate glass, It is possible to satisfactorily accumulate the heat generated by the heating resistor 13 and improve the thermal efficiency of the thermal head.
【0006】しかしながら、蓄熱層12をエポキシ樹脂
等の樹脂材によって形成した場合、発熱抵抗体13を30
0 〜400 ℃の温度にジュール発熱させて印字を行うと、
蓄熱層12を形成するエポキシ樹脂が発熱抵抗体13と
の界面近傍で熱分解し、これに伴ってガスが発生した
り、或いは、樹脂材が変質し所定の蓄熱特性が得られな
くなる等の欠点が誘発される。However, when the heat storage layer 12 is formed of a resin material such as epoxy resin, the heat generating resistor 13 is 30
When printing with Joule heat generation at a temperature of 0 to 400 ℃,
The epoxy resin forming the heat storage layer 12 is thermally decomposed in the vicinity of the interface with the heating resistor 13, gas is generated in association therewith, or the resin material is deteriorated so that predetermined heat storage characteristics cannot be obtained. Is triggered.
【0007】また前記蓄熱層12を形成するエポキシ樹
脂等とセラミック基板11を形成するアルミナセラミッ
クスの熱膨張率が大きく相違することから、高い印字率
で繰り返し印字するような場合、蓄熱層12とセラミッ
ク基板11との間に大きな熱応力が発生し、両者の接合
部が破壊される危険性を有していた。Further, since the thermal expansion coefficient of the epoxy resin or the like which forms the heat storage layer 12 and the alumina ceramics which forms the ceramic substrate 11 are greatly different from each other, when repeatedly printing at a high printing rate, the heat storage layer 12 and the ceramic are formed. There is a risk that a large thermal stress is generated between the substrate 11 and the joint between the two and the substrate 11 is destroyed.
【0008】[0008]
【発明の目的】本発明は上記欠点に鑑み案出されたもの
で、その目的は、長期にわたり良好に機能させることが
可能な高熱効率のサーマルヘッドを提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to provide a thermal head having a high thermal efficiency and capable of functioning well for a long period of time.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明のサーマルヘッド
は、セラミック基板上に蓄熱層を被着するとともに、該
蓄熱層上に発熱抵抗体および一対の電極を被着して成る
サーマルヘッドにおいて、前記蓄熱層を樹脂材と無機物
の複合材料で形成し、且つ、該蓄熱層の上部及び下部の
無機物含有比率を80%以上、中間部の無機物含有比率を
50%以下としたことを特徴とする。A thermal head of the present invention is a thermal head comprising a ceramic substrate, a heat storage layer deposited on the ceramic substrate, and a heating resistor and a pair of electrodes deposited on the heat storage layer. The heat storage layer is formed of a composite material of a resin material and an inorganic material, and the inorganic content ratio of the upper and lower parts of the heat storage layer is 80% or more, and the inorganic content ratio of the middle part is
It is characterized by being 50% or less.
【0010】また本発明のサーマルヘッドは、上記蓄熱
層の上部及び下部の無機物含有比率に濃度勾配を設けた
ことを特徴とする。Further, the thermal head of the present invention is characterized in that a concentration gradient is provided in the content ratio of the inorganic substances above and below the heat storage layer.
【0011】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳細に説明する。図1は本発明のサーマルヘッドの一実
施例を示す断面図であり、1はセラミック基板、2は蓄
熱層、3は発熱抵抗体、4は一対の電極、5は保護層で
ある。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a thermal head of the present invention, in which 1 is a ceramic substrate, 2 is a heat storage layer, 3 is a heating resistor, 4 is a pair of electrodes, and 5 is a protective layer.
【0012】前記セラミック基板1はアルミナセラミッ
クス等のセラミック材料から成り、その上面で蓄熱層2
や発熱抵抗体3等を支持する作用を為す。The ceramic substrate 1 is made of a ceramic material such as alumina ceramics and has a heat storage layer 2 on the upper surface thereof.
It also functions to support the heating resistor 3 and the like.
【0013】前記セラミック基板1は、アルミナ、シリ
カ、マグネシア等のセラミックス原料粉末に適当な有機
溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状と成すとともにこれを
従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等
を採用することによってセラミックグリーンシートを形
成し、しかる後、前記セラミックグリーンシートを所定
形状に打ち抜き加工するとともに高温で焼成することに
よって製作される。The ceramic substrate 1 is formed into a sludge form by adding and mixing an appropriate organic solvent and solvent to ceramic raw material powder such as alumina, silica, magnesia and the like, and is formed by a conventionally known doctor blade method or calender roll method. A ceramic green sheet is formed by adopting it, and thereafter, the ceramic green sheet is punched into a predetermined shape and fired at a high temperature.
【0014】また前記セラミック基板1の上面には蓄熱
層2が約50μmの厚みに被着形成されている。A heat storage layer 2 is formed on the upper surface of the ceramic substrate 1 to a thickness of about 50 μm.
【0015】前記蓄熱層2は、酸化珪素、窒化珪素等の
無機物とエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂材とが
分子レベルでほぼ均一に混在された複合材料により形成
されており、このため、蓄熱層2の熱伝導率を低く(例
えば、9×10-4cal/cm・℃)して蓄熱層2の蓄熱特性を
向上させることができる。この結果、サーマルヘッドの
熱効率が向上される。The heat storage layer 2 is formed of a composite material in which an inorganic substance such as silicon oxide or silicon nitride and a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin are mixed substantially uniformly at the molecular level. The thermal conductivity of the layer 2 can be lowered (for example, 9 × 10 −4 cal / cm · ° C.) to improve the thermal storage characteristics of the thermal storage layer 2. As a result, the thermal efficiency of the thermal head is improved.
【0016】また前記蓄熱層2は、無機物の含有比率
が、蓄熱層2の上部及び下部で80%以上、中間部で50%
以下になしてある。The heat storage layer 2 has an inorganic content of 80% or more in the upper and lower portions of the heat storage layer 2 and 50% in the middle portion.
The following is done.
【0017】図2は、厚み50μmの蓄熱層2中に含有さ
れている無機物(酸化珪素)の比率を示すグラフであ
り、蓄熱層2中に含有されている無機物の比率は、セラ
ミック基板1との界面近傍である0〜5μm(下部)
と、発熱抵抗体3との界面近傍である45〜50μm(上
部)で80〜100 %、19μm〜30μmで20%になってい
る。尚、蓄熱層2の上部及び下部と、厚み19μm〜30μ
mの領域との間では無機物の含有比率に濃度勾配が設け
られており、蓄熱層2中に含有される樹脂材の比率が全
体の50%となるようにしてある。FIG. 2 is a graph showing the ratio of the inorganic substance (silicon oxide) contained in the heat storage layer 2 having a thickness of 50 μm. The ratio of the inorganic substance contained in the heat storage layer 2 is the same as that of the ceramic substrate 1. 0 to 5 μm near the interface of (lower part)
In the vicinity of the interface with the heating resistor 3, 45 to 50 μm (upper part), 80 to 100%, and 19 μm to 30 μm, 20%. The upper and lower parts of the heat storage layer 2 and the thickness of 19 μm to 30 μm
A concentration gradient is provided in the content ratio of the inorganic substance between the region m and the region m, so that the ratio of the resin material contained in the heat storage layer 2 is 50% of the whole.
【0018】このように前記蓄熱層2は無機物の含有比
率が、蓄熱層2の上部で80%以上になしてあることか
ら、印字時、発熱抵抗体3がジュール発熱を起こして
も、発熱抵抗体3近傍の蓄熱層2が熱によって分解され
てしまうことは一切なく、蓄熱層2の分解によってガス
が発生したり、或いは、蓄熱層2中の樹脂材が変質した
りするのが有効に防止される。これにより、蓄熱層2の
蓄熱特性を所定のものに保つことができる。Since the content ratio of the inorganic substances in the heat storage layer 2 is 80% or more in the upper portion of the heat storage layer 2 as described above, even if the heat generating resistor 3 generates Joule heat during printing, The heat storage layer 2 in the vicinity of the body 3 is never decomposed by heat, and the decomposition of the heat storage layer 2 effectively prevents generation of gas or deterioration of the resin material in the heat storage layer 2. To be done. Thereby, the heat storage characteristics of the heat storage layer 2 can be maintained at a predetermined value.
【0019】尚、無機物の含有比率が、蓄熱層2の上部
で80%よりも小さくなると、発熱抵抗体3近傍の蓄熱層
2に樹脂材が多量に含まれることにより発熱抵抗体3近
傍の蓄熱層2が熱によって分解される危険性がある。よ
って無機物の含有比率は、蓄熱層2の上部で80%以上と
なしておく必要がある。When the content ratio of the inorganic substance is smaller than 80% in the upper part of the heat storage layer 2, a large amount of resin material is contained in the heat storage layer 2 near the heat generating resistor 3, so that the heat storage near the heat generating resistor 3 is accumulated. There is a risk that the layer 2 will be decomposed by heat. Therefore, the content ratio of the inorganic substance needs to be 80% or more in the upper portion of the heat storage layer 2.
【0020】また前記蓄熱層2は無機物の含有比率が、
蓄熱層2の下部で80%以上になしてあることから、セラ
ミック基板1近傍の蓄熱層2とセラミック基板1との熱
膨張率が近く、両者の密着性が極めて良好になる。この
ため、印字に際して発熱抵抗体3をジュール発熱させて
も、蓄熱層2とセラミック基板1との間に大きな熱応力
が印加されることはなく、蓄熱層2とセラミック基板1
とを良好に接合させておくことができる。In the heat storage layer 2, the content ratio of the inorganic substances is
Since it is 80% or more in the lower portion of the heat storage layer 2, the coefficient of thermal expansion of the heat storage layer 2 near the ceramic substrate 1 and the ceramic substrate 1 are close to each other, and the adhesion between them is extremely good. Therefore, even if Joule heat is generated in the heating resistor 3 during printing, no large thermal stress is applied between the heat storage layer 2 and the ceramic substrate 1, and the heat storage layer 2 and the ceramic substrate 1 are not applied.
And can be well bonded.
【0021】このとき、無機物の含有比率が、蓄熱層2
の下部で80%よりも小さいと、セラミック基板1近傍の
蓄熱層2とセラミック基板1との熱膨張率が大きく相違
することによって蓄熱層2とセラミック基板1との密着
性が悪くなる危険性を有している。よって無機物の含有
比率は、蓄熱層2の下部で80%以上となしておく必要が
ある。At this time, the content ratio of the inorganic substances is such that the heat storage layer 2
If it is less than 80% in the lower part of the, the thermal expansion coefficient between the heat storage layer 2 near the ceramic substrate 1 and the ceramic substrate 1 is greatly different, and the risk of the adhesion between the heat storage layer 2 and the ceramic substrate 1 being deteriorated. Have Therefore, the content ratio of the inorganic substance needs to be 80% or more in the lower portion of the heat storage layer 2.
【0022】更に前記蓄熱層2を形成する複合材料は、
その中に含有されている無機物の含有比率を蓄熱層全体
の20%以上になしておけば、蓄熱層2の剛性を十分な大
きさに確保することができ、印字時、記録媒体の摺接等
によって蓄熱層2に外力が印加されても、蓄熱層2が容
易に破壊されることはなく、蓄熱層2を所定形状に保つ
ことができる。従って蓄熱層2を形成する複合材料は、
その中に含有されている無機物の含有比率を蓄熱層全体
の20%以上になしておくことが好ましい。Further, the composite material forming the heat storage layer 2 is
By setting the content ratio of the inorganic substances contained therein to 20% or more of the entire heat storage layer, the rigidity of the heat storage layer 2 can be secured to a sufficient level, and the sliding contact of the recording medium during printing can be achieved. Even if an external force is applied to the heat storage layer 2 due to, for example, the heat storage layer 2 is not easily broken, and the heat storage layer 2 can be maintained in a predetermined shape. Therefore, the composite material forming the heat storage layer 2 is
It is preferable that the content ratio of the inorganic substances contained therein be 20% or more of the entire heat storage layer.
【0023】かかる蓄熱層2は、従来周知のスパッタリ
ング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD
法等を採用することによって形成され、例えば、スパッ
タリング法を採用する場合は、スパッタリング装置の成
膜室に設けた2つのカソード電極上に酸化珪素製のスパ
ッタリングターゲットとエポキシ樹脂製のスパッタリン
グターゲットとをセラミック基板1と対向させてそれぞ
れ配置し、しかる後、前記成膜室内にアルゴンガスを充
填し、前述した2つのカソード電極に断続的に所定の電
力を印加して各ターゲットからの無機物粒子、樹脂材を
セラミック基板1の表面に堆積させることによって無機
物粒子と樹脂材とが分子レベルで混在されるようにして
形成される。このとき、各カソード電極に印加する電力
の大きさを可変することによって蓄熱層2を形成する複
合材料の無機物と樹脂材の比率を調整することができ、
これによって所定の熱伝導率(5×10-4cal/cm・℃〜2
×10-3cal/cm・℃)をもった蓄熱層2が形成される。The heat storage layer 2 is formed by a conventionally known sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, CVD method.
When a sputtering method is adopted, a sputtering target made of silicon oxide and a sputtering target made of epoxy resin are provided on two cathode electrodes provided in a film forming chamber of the sputtering apparatus. The ceramic substrate 1 is arranged so as to face each other, and then the film formation chamber is filled with argon gas, and predetermined electric power is intermittently applied to the above-mentioned two cathode electrodes to apply inorganic particles and resin from each target. By depositing the material on the surface of the ceramic substrate 1, the inorganic particles and the resin material are mixed at the molecular level. At this time, the ratio of the inorganic material to the resin material of the composite material forming the heat storage layer 2 can be adjusted by changing the magnitude of the electric power applied to each cathode electrode.
As a result, the specified thermal conductivity (5 × 10 -4 cal / cm ・ ° C ~ 2
A heat storage layer 2 having a density of × 10 -3 cal / cm · ° C) is formed.
【0024】また前記蓄熱層2の上面には、窒化タンタ
ル等から成る複数個の発熱抵抗体3が被着配列されてお
り、該各発熱抵抗体3の両端には一対の電極4が接続さ
れている。A plurality of heating resistors 3 made of tantalum nitride or the like are deposited and arranged on the upper surface of the heat storage layer 2, and a pair of electrodes 4 are connected to both ends of each heating resistor 3. ing.
【0025】前記発熱抵抗体3は例えば窒化タンタル等
から成っており、それ自体が所定の電気抵抗率を有して
いるため、一対の電極4を介して電力が印加されるとジ
ュール発熱を起こし、記録媒体に印字画像を形成するの
に必要な所定温度、例えば300 ℃〜400 ℃の温度にジュ
ール発熱する。The heat generating resistor 3 is made of, for example, tantalum nitride or the like, and has a predetermined electric resistivity, so that Joule heat is generated when electric power is applied through the pair of electrodes 4. , Joule heat is generated at a predetermined temperature necessary for forming a printed image on a recording medium, for example, a temperature of 300 ° C to 400 ° C.
【0026】また前記発熱抵抗体3の両端に接続される
一対の電極4はアルミニウム等の金属材料から成ってお
り、該一対の電極4は発熱抵抗体3にジュール発熱を起
こさせるために必要な所定の電力を印加する作用を為
す。The pair of electrodes 4 connected to both ends of the heating resistor 3 are made of a metal material such as aluminum, and the pair of electrodes 4 are necessary for causing the heating resistor 3 to generate Joule heat. It acts to apply a predetermined electric power.
【0027】前記複数個の発熱抵抗体3及び一対の電極
4は、従来周知のスパッタリング法及びフォトリソグラ
フィー技術を採用することによって蓄熱層2の上面に所
定パターン、所定厚み(発熱抵抗体2は0.01〜0.5 μm
の厚み、一対の電極3は0.5〜2.0 μmの厚み)をもっ
て被着される。The plurality of heat generating resistors 3 and the pair of electrodes 4 are formed on the upper surface of the heat storage layer 2 in a predetermined pattern and a predetermined thickness (0.01% for the heat generating resistor 2) by adopting the conventionally known sputtering method and photolithography technique. ~ 0.5 μm
The thickness of the pair of electrodes 3 is 0.5 to 2.0 μm).
【0028】前記発熱抵抗体3及び一対の電極4の上面
にはまた、保護膜5が被着されている。A protective film 5 is also deposited on the upper surfaces of the heating resistor 3 and the pair of electrodes 4.
【0029】前記保護膜5は窒化珪素等から成ってお
り、発熱抵抗体3や一対の電極4を大気中に含まれてい
る水分等の接触による腐食や記録媒体の摺接による摩耗
から保護する作用を為す。The protective film 5 is made of silicon nitride or the like, and protects the heat generating resistor 3 and the pair of electrodes 4 from corrosion due to contact of moisture contained in the atmosphere and abrasion due to sliding contact of the recording medium. To act.
【0030】尚、前記保護膜5は、従来周知のスパッタ
リング法等により所定の厚みをもって被着形成される。The protective film 5 is formed with a predetermined thickness by a conventionally known sputtering method or the like.
【0031】かくして上述したサーマルヘッドは、一対
の電極4間に印字信号に基づいて所定の電力を印加し、
発熱抵抗体3を選択的にジュール発熱させるとともに、
該発熱した熱を記録媒体に伝導させ、記録媒体に所定の
印字画像を形成することによってサーマルヘッドとして
機能する。Thus, the above-mentioned thermal head applies a predetermined electric power between the pair of electrodes 4 based on the print signal,
While selectively heating the heating resistor 3 by Joule,
The generated heat is conducted to the recording medium to form a predetermined print image on the recording medium, thereby functioning as a thermal head.
【0032】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々
の変更、改良等が可能である。The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.
【0033】[0033]
【発明の効果】本発明のサーマルヘッドによれば、蓄熱
層を樹脂材と無機物の複合材料で形成し、且つ、該蓄熱
層の上部及び下部の無機物含有比率を80%以上、中間部
の無機物含有比率を50%以下としたことから、蓄熱層の
耐熱性を低下させることなく、蓄熱層の蓄熱特性を良好
にして熱効率を向上することができる。According to the thermal head of the present invention, the heat storage layer is formed of a composite material of a resin material and an inorganic material, and the content ratio of the inorganic material in the upper part and the lower part of the heat storage layer is 80% or more, and the inorganic material in the middle part. Since the content ratio is 50% or less, it is possible to improve the heat storage characteristics of the heat storage layer and improve the thermal efficiency without lowering the heat resistance of the heat storage layer.
【0034】また本発明のサーマルヘッドによれば、印
字に際して発熱抵抗体をジュール発熱させても、発熱抵
抗体近傍の蓄熱層が熱によって分解されてしまうことは
一切なく、蓄熱層の分解によってガスが発生したり、或
いは、蓄熱層中の樹脂材が変質したりするのが有効に防
止されるようになる。これにより、蓄熱層を所定の蓄熱
特性に保つことができる。According to the thermal head of the present invention, even if the heating resistor is heated by Joule heat during printing, the heat storage layer in the vicinity of the heating resistor is never decomposed by heat, and the decomposition of the heat storage layer causes gas And the resin material in the heat storage layer is effectively prevented from being deteriorated. Thereby, the heat storage layer can be kept to have a predetermined heat storage characteristic.
【0035】更に本発明のサーマルヘッドによれば、蓄
熱層とセラミック基板との密着性が極めて良好であるこ
とから、印字に際して発熱抵抗体をジュール発熱させて
も、蓄熱層とセラミック基板との間に大きな熱応力が印
加されることは無く、蓄熱層とセラミック基板とを強固
に接合させておくことができる。Further, according to the thermal head of the present invention, the adhesion between the heat storage layer and the ceramic substrate is extremely good. No large thermal stress is applied to the heat storage layer, and the heat storage layer and the ceramic substrate can be firmly bonded to each other.
【図1】本発明のサーマルヘッドの一実施例を示す断面
図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a thermal head of the present invention.
【図2】蓄熱層中に含有されている無機物の含有比率を
示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a content ratio of an inorganic substance contained in the heat storage layer.
【図3】従来のサーマルヘッドの断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional thermal head.
1・・・セラミック基板 2・・・蓄熱層 3・・・発熱抵抗体 4・・・一対の電極 5・・・保護膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ceramic substrate 2 ... Heat storage layer 3 ... Heating resistor 4 ... A pair of electrodes 5 ... Protective film
Claims (2)
もに、該蓄熱層上に発熱抵抗体および一対の電極を被着
して成るサーマルヘッドにおいて、 前記蓄熱層を樹脂材と無機物の複合材料で形成し、且
つ、該蓄熱層の上部及び下部の無機物含有比率を80%以
上、中間部の無機物含有比率を50%以下としたことを特
徴とするサーマルヘッド。1. A thermal head comprising a ceramic substrate on which a heat storage layer is deposited, and a heat generating resistor and a pair of electrodes deposited on the heat storage layer, wherein the heat storage layer is a composite material of a resin material and an inorganic material. And a content ratio of the inorganic material in the upper part and the lower part of the heat storage layer is 80% or more and a content ratio of the inorganic material in the middle part is 50% or less.
率に濃度勾配を設けたことを特徴とする請求項1に記載
のサーマルヘッド。2. The thermal head according to claim 1, wherein a concentration gradient is provided in the content ratio of the inorganic substances above and below the heat storage layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7622695A JPH08267808A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Thermal head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7622695A JPH08267808A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Thermal head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08267808A true JPH08267808A (en) | 1996-10-15 |
Family
ID=13599268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7622695A Pending JPH08267808A (en) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Thermal head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08267808A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100799825B1 (en) * | 2000-09-26 | 2008-01-31 | 바이엘 크롭사이언스 게엠베하 | Water Dispersible Granules Containing Deltamethrin |
| CN116442655A (en) * | 2023-04-13 | 2023-07-18 | 山东华菱电子股份有限公司 | Preparation method of thermal printing head and thermal printing head |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7622695A patent/JPH08267808A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100799825B1 (en) * | 2000-09-26 | 2008-01-31 | 바이엘 크롭사이언스 게엠베하 | Water Dispersible Granules Containing Deltamethrin |
| CN116442655A (en) * | 2023-04-13 | 2023-07-18 | 山东华菱电子股份有限公司 | Preparation method of thermal printing head and thermal printing head |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08267808A (en) | Thermal head | |
| JP3546006B2 (en) | Thermal head | |
| JP4157391B2 (en) | Thermal head | |
| JP3545959B2 (en) | Thermal head | |
| JPH08267806A (en) | Thermal head | |
| JP3488368B2 (en) | Thermal head | |
| JP3476938B2 (en) | Thermal head | |
| JP3004093B2 (en) | Thermal head | |
| JP4157392B2 (en) | Thermal head | |
| JP2000246929A (en) | Manufacturing method of thermal head | |
| JP4283943B2 (en) | Thermal head | |
| JPH0647940A (en) | Thermal head | |
| JP4721570B2 (en) | Thermal head and thermal printer using the same | |
| JP2003103820A (en) | Thermal head | |
| JP3329970B2 (en) | Thermal head | |
| JP4280095B2 (en) | Manufacturing method of thermal head | |
| JPH0624022A (en) | Manufacture of thermal head | |
| JP2004195947A (en) | Thermal head and thermal printer using the same | |
| JP2592160Y2 (en) | Thermal head | |
| JP3472478B2 (en) | Thermal head | |
| JPH07186421A (en) | Thermal head | |
| JPH07186420A (en) | Method of manufacturing thermal head | |
| JP2000340345A (en) | Heating body | |
| JPH0911517A (en) | Thermal head | |
| JP3004095B2 (en) | Manufacturing method of thermal head |