JPH09115672A - Organic optical element and manufacturing method thereof - Google Patents
Organic optical element and manufacturing method thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスク掛け機構等やその大掛かりな設備投資
が不要となり、簡略な装置によって微細な画素を位置精
度良く形成できる（特にマルチカラー表示が可能となる
ように発光色の異なる画素が隣合うように配置できる）
有機光学的素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ストライプ状に形成された穴17を有する
マスク16と、透明電極５の上に直交してストライプ状に
形成した絶縁層11を有する基板６とを真空蒸着装置21内
にセットし、一枚のマスク16により基板６上に発光色ご
とにホール輸送層４、電子輸送層２、電極１を同一平面
形状に順次形成する。
(57) Abstract: A masking mechanism or the like and a large capital investment are not required, and fine pixels can be formed with high positional accuracy by a simple device (especially, in order to enable multi-color display, the emission color Different pixels can be placed next to each other)
To provide an organic optical element and a manufacturing method thereof. A mask 16 having a hole 17 formed in a stripe shape and a substrate 6 having an insulating layer 11 formed in a stripe shape orthogonal to the transparent electrode 5 are set in a vacuum vapor deposition apparatus 21. The hole transporting layer 4, the electron transporting layer 2, and the electrode 1 are sequentially formed on the substrate 6 in the same plane shape on the substrate 6 by one mask 16.
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機光学的素子
（例えば自発光の平面型ディスプレイに利用され、その
発光物質として有機電界発光素子を用いるディスプレ
イ）及びその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic optical element (for example, a display which is used for a self-luminous flat panel display and uses an organic electroluminescent element as its light emitting material) and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】有機電界発光素子（以下、有機ＥＬ素子
と称することがある。）を用いた、複数の画素からなる
表示デバイスにおいては、素子に加えた電圧により陰極
から電子を注入しかつ陽極からホールを注入し、電子−
ホールの再結合により発光を生ぜしめている。この発光
は、有機電界発光材料層を挟んで陰極と陽極とが重なり
合う部分で起きる。2. Description of the Related Art In a display device including a plurality of pixels using an organic electroluminescence device (hereinafter, also referred to as an organic EL device), an electron is injected from a cathode and an anode is applied by a voltage applied to the device. Holes are injected from the
Light is emitted by recombination of holes. This light emission occurs at a portion where the cathode and the anode overlap with each other with the organic electroluminescent material layer interposed therebetween.
【０００３】図21には、従来の有機発光素子としての有
機ＥＬ素子10の一例を示す。このＥＬ素子10は、透明基
板（例えばガラス基板）６上に、ＩＴＯ（Indium tin o
xide）透明電極５、ホール輸送層４、発光層３、電子輸
送層２、陰極（例えばアルミニウム電極）１を例えば真
空蒸着法で順次製膜したものである。FIG. 21 shows an example of an organic EL element 10 as a conventional organic light emitting element. This EL element 10 is made of ITO (Indium tin oxide) on a transparent substrate (eg glass substrate) 6.
xide) A transparent electrode 5, a hole transport layer 4, a light emitting layer 3, an electron transport layer 2, and a cathode (for example, an aluminum electrode) 1 are sequentially formed by, for example, a vacuum vapor deposition method.
【０００４】そして、陽極である透明電極５と陰極１と
の間に直流電圧７を選択的に印加することによって、透
明電極５から注入されたホールがホール輸送層４を経
て、また陰極１から注入された電子が電子輸送層２を経
て、それぞれ発光層３に到達して電子−ホールの再結合
が生じ、ここから所定波長の発光８が生じ、透明基板６
の側から観察できる。By selectively applying a DC voltage 7 between the transparent electrode 5 which is an anode and the cathode 1, the holes injected from the transparent electrode 5 pass through the hole transport layer 4 and from the cathode 1. The injected electrons reach the light emitting layer 3 via the electron transport layer 2 and electron-hole recombination occurs, and light emission 8 of a predetermined wavelength is generated from this, and the transparent substrate 6
It can be observed from the side.
【０００５】また、図22は別の従来例を示し、図21の例
において発光層３を省略し、電子輸送層２とホール輸送
層４との界面から所定波長の発光18が生じるように構成
した有機ＥＬ素子20を示すものである。Further, FIG. 22 shows another conventional example, in which the light emitting layer 3 is omitted in the example of FIG. 21, and light emission 18 of a predetermined wavelength is generated from the interface between the electron transport layer 2 and the hole transport layer 4. The organic EL device 20 is shown.
【０００６】図23は、このように構成された有機ＥＬ素
子の具体例を示すものである。即ち、各有機層（ホール
輸送層４、発光層３又は電子輸送層２）の積層体を陰極
１と陽極５との間に配するが、これらの電極をマトリク
ス状に交差させてストライプ状に設け、シフトレジスタ
内蔵の制御回路40、輝度信号回路41によって時系列に信
号電圧を印加し、交差位置にて発光させるように構成し
ている。FIG. 23 shows a specific example of the organic EL element having such a structure. That is, a laminated body of each organic layer (hole transport layer 4, light emitting layer 3 or electron transport layer 2) is disposed between the cathode 1 and the anode 5, and these electrodes are crossed in a matrix to form a stripe shape. A control circuit 40 with a built-in shift register and a luminance signal circuit 41 are configured to apply a signal voltage in a time series and emit light at the crossing position.
【０００７】従って、このような構成により、ディスプ
レイとして勿論、画像再生装置としても使用可能とな
る。なお、上記のストライプパターンを赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の各色毎に配し、フルカラー又はマル
チカラー用として構成することができる。Therefore, with such a structure, it can be used not only as a display but also as an image reproducing apparatus. The above stripe pattern can be arranged for each color of red (R), green (G), and blue (B) to be configured for full color or multi-color.
【０００８】こうした有機ＥＬ素子においては、それぞ
れの電極（陰極及び陽極）の材料をそれぞれ成膜した
後、互いに交差し合うようにそれぞれストライプ状にエ
ッチングしたり、或いはマスクを掛けて各電極材料を成
膜して、各電極を形成している。そして、有機層は、パ
ターン整形（パターニング）せずに一様に成膜する場合
が多かった。In such an organic EL device, after the materials of the respective electrodes (cathode and anode) are formed, the respective electrodes are etched by stripes so as to cross each other or masked to remove the respective electrode materials. A film is formed to form each electrode. In many cases, the organic layer is uniformly formed without pattern shaping (patterning).
【０００９】しかし、このような素子では、特に真空蒸
着で有機層を形成する場合は、有機層を蒸着してから、
その上部にマスクを配して（マスク掛けして）電極を形
成するか、或いはマスクを掛け替えて電極を形成する必
要がある。However, in such a device, particularly when the organic layer is formed by vacuum vapor deposition, after the organic layer is vapor-deposited,
It is necessary to dispose a mask on it (to mask it) to form an electrode, or to re-mask to form an electrode.
【００１０】一般に、真空蒸着法で成膜する電界発光有
機層は、その形成後に一旦大気に曝してから電極を真空
蒸着すると、性能が大きく劣化することが知られてい
る。従って、真空蒸着のまま成膜用のマスクを掛ける必
要があるが、このためには、真空中でマスクを掛ける或
いは掛け替える機構を導入することが必要であり、膨大
な設備投資を要することになる。It is generally known that the performance of an electroluminescent organic layer formed by a vacuum vapor deposition method is greatly deteriorated when the electrode is vacuum vapor deposited after being exposed to the atmosphere after the formation. Therefore, it is necessary to apply a mask for film formation as it is in vacuum deposition, but for this purpose, it is necessary to introduce a mechanism for applying or changing the mask in vacuum, which requires a huge capital investment. Become.
【００１１】また、上記のような有機ＥＬ素子の構造で
は、電極を形成した後に保護膜を形成すると、広い領域
に亘り、保護膜は有機層を介して透明基板に接すること
になる。Further, in the structure of the organic EL element as described above, when the protective film is formed after the electrodes are formed, the protective film contacts the transparent substrate through the organic layer over a wide area.
【００１２】しかし、有機層はそれ自身の膜強度が弱
く、更に、基板や電極などの無機薄膜又は無機物質との
付着力も弱い。従って、保護層が有機層を介して基板に
接していると、保護層が強力な保護機能を有していて
も、有機層に破断が生じ、保護層としての機能を果たさ
なくなることがある。However, the organic layer itself has a weak film strength, and also has a weak adhesion to an inorganic thin film such as a substrate or an electrode or an inorganic substance. Therefore, when the protective layer is in contact with the substrate via the organic layer, the organic layer may be broken and may not function as the protective layer even if the protective layer has a strong protective function.
【００１３】上記のように、有機層と電極層とを異なる
形状に形成しようとすると、特に複数の画素からなるデ
ィスプレイを作成する場合には、様々な困難な問題が発
生する。即ち、微細な画素を位置精度良く形成するため
には、非常に大掛かりなマスク移動機構を真空装置内に
設置しなければならない。As described above, when the organic layer and the electrode layer are formed in different shapes, various difficult problems occur, especially when a display including a plurality of pixels is produced. That is, in order to form fine pixels with high positional accuracy, a very large mask moving mechanism must be installed in the vacuum device.
【００１４】[0014]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、上
述したようなマスク掛け機構等やその大掛かりな設備投
資が不要となり、簡略な装置によって微細な画素を位置
精度良く形成できる（特にマルチカラー表示が可能とな
るように発光色の異なる画素が隣合うように配置でき
る）有機光学的素子及びその製造方法を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to eliminate the above-described masking mechanism and the like and large-scale capital investment thereof. To provide an organic optical element capable of forming fine pixels with high positional accuracy by a simple device (particularly, pixels having different emission colors can be arranged adjacent to each other so as to enable multi-color display), and a method for manufacturing the same. is there.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するために、長期に亘って鋭意検討を重ねた結
果、有機層とその上に積層する金属電極層とを、同一の
マスクを使用して同じ形状に形成することによって、真
空装置内におけるマスクの相対的な移動を最小限にし、
極めて単純な移動機構を真空装置内に設けるのみで微細
な画素パターンが実現できることを見出し、本発明に至
ったものである。In order to achieve the above-mentioned object, the present inventor has conducted extensive studies over a long period of time, and as a result, the organic layer and the metal electrode layer to be laminated thereon have the same structure. By using the mask to form the same shape, the relative movement of the mask in the vacuum device is minimized,
The present inventors have found that a fine pixel pattern can be realized only by providing an extremely simple moving mechanism in a vacuum device, and have accomplished the present invention.
【００１６】即ち、本発明は、第１の電極（例えば後述
の陽極としての透明電極５：以下、同様）上に有機層
（例えば後述の有機層４、２や３：以下、同様）と前記
第１の電極に対向した第２の電極（例えば後述の陰極と
しての金属電極１）とが設けられ、前記有機層と前記第
２の電極とが実質的に同一の平面形状で積層されている
有機光学的素子に係るものである。That is, according to the present invention, an organic layer (for example, organic layers 4, 2 and 3, which will be described later: the same) and an organic layer are provided on a first electrode (for example, a transparent electrode 5 as an anode, which will be described later; A second electrode (for example, a metal electrode 1 as a cathode described later) facing the first electrode is provided, and the organic layer and the second electrode are laminated in substantially the same planar shape. It relates to an organic optical element.
【００１７】また、本発明は、第１の電極上に有機層と
前記第１の電極に対向した第２の電極とが設けられ、前
記有機層と前記第２の電極とが実質的に同一の平面形状
で積層されている有機光学的素子を製造するに際し、共
通のマスクを使用して前記有機層と前記第２の電極とを
順次積層する、有機光学的素子の製造方法も提供するも
のである。Further, according to the present invention, an organic layer and a second electrode facing the first electrode are provided on the first electrode, and the organic layer and the second electrode are substantially the same. Also provided is a method for manufacturing an organic optical element, which comprises sequentially stacking the organic layer and the second electrode using a common mask when manufacturing the organic optical element stacked in the planar shape Is.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】本発明に基づく有機光学的素子に
おいて、基体（例えば後述の透明基板６：以下、同様）
上に並列に配設されたストライプ状の複数の第１の電極
上に、これらの第１の電極に交差して並列に配列された
少なくとも一層のストライプ状の複数の有機層と、前記
第１の電極に交差して並列に配設されたストライプ状の
複数の第２の電極とが実質的に同一の平面形状で積層さ
れていることが望ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In an organic optical element according to the present invention, a substrate (for example, a transparent substrate 6 described below: the same applies hereinafter)
A plurality of stripe-shaped first electrodes that are arranged in parallel above, and at least one stripe-shaped plurality of organic layers that are arranged in parallel so as to intersect these first electrodes; It is preferable that a plurality of stripe-shaped second electrodes that are arranged in parallel and intersect the electrodes of (1) are laminated in substantially the same planar shape.
【００１９】また、有機層の幅方向の端部において、こ
の有機層と第１の電極との間にこの第１の電極と第２の
電極とを絶縁するための絶縁層（例えば後述のＳｉＯ2
絶縁層11：以下、同様）が設けられていることが望まし
い。In addition, at the widthwise end of the organic layer, an insulating layer (for example, SiO described later) for insulating the first electrode and the second electrode is provided between the organic layer and the first electrode. 2
It is desirable that the insulating layer 11: the same applies hereinafter).
【００２０】この場合、絶縁層によって発光領域（例え
ば後述の領域41）の幅が第２の電極の幅よりも狭くなっ
ていることが望ましい。In this case, it is desirable that the width of the light emitting region (for example, a region 41 described later) is narrower than the width of the second electrode by the insulating layer.
【００２１】また、本発明に基づく有機光学的素子にお
いて、少なくとも赤、緑及び青様の色をそれぞれ発色さ
せる隣接した少なくとも３本のストライプ状の電界発光
有機層の組が配列され、そしてこの場合、少なくとも
赤、緑及び青様の色をそれぞれ発色する各電界発光有機
層のストライプ形状が互いに実質的に同じであることが
望ましい。Also, in the organic optical element according to the present invention, a set of at least three adjacent electroluminescent organic layers in the form of stripes for arranging at least red, green and blue-like colors respectively is arranged, and in this case, It is desirable that the stripe shapes of the electroluminescent organic layers that emit at least red, green and blue colors are substantially the same.
【００２２】また、第２の電極の端部が外部端子（例え
ば後述の外部電極端子13）に接続され、この接続箇所で
は前記第２の電極が基体に直接付着していることが望ま
しい。Further, it is desirable that the end portion of the second electrode is connected to an external terminal (for example, an external electrode terminal 13 described later), and the second electrode is directly attached to the base body at this connection point.
【００２３】また、第２の電極上を含むほぼ全面に保護
膜（例えば後述の保護膜12）が被着されていることが望
ましい。Further, it is desirable that a protective film (for example, a protective film 12 described later) is deposited on almost the entire surface including the second electrode.
【００２４】更に、第１の電極が、透明電極部（例えば
後述の透明電極５）とこの透明電極部の一部に一体に形
成された金属部（例えば後述の金属電極９）とからなる
ように形成することが望ましい。Furthermore, the first electrode is composed of a transparent electrode portion (for example, a transparent electrode 5 described later) and a metal portion (for example, a metal electrode 9 described later) integrally formed with a part of the transparent electrode portion. It is desirable to form it.
【００２５】また、本発明に基づく有機光学的素子の製
造方法において、基体上にストライプ状の複数の第１の
電極を形成する工程と、共通のマスク（例えば後述のマ
スク16：以下、同様）を使用し、前記マスクの非マスク
部分（例えば後述の開口部18：以下、同様）を通して前
記複数の第１の電極上にストライプ状の複数の有機層を
それぞれ形成する工程と、前記マスクをそのまま使用
し、前記非マスク部分を通して前記有機層上にストライ
プ状の複数の第２の電極をそれぞれ形成する工程とを有
することが望ましい。Further, in the method of manufacturing an organic optical element according to the present invention, a mask common to the step of forming a plurality of stripe-shaped first electrodes on a substrate (for example, mask 16 described later: the same hereinafter) And forming a plurality of stripe-shaped organic layers on the plurality of first electrodes through a non-mask portion of the mask (for example, an opening 18 described below: the same applies hereinafter), and the mask is used as it is. And forming a plurality of stripe-shaped second electrodes on the organic layer through the non-mask portion.
【００２６】また、有機層と第２の電極とからなる第１
の積層体（例えば赤色発光用）を形成した後、基体とマ
スクとを相対的に移動させ、有機層と第２の電極とから
なる第２の積層体（例えば緑色発光用）を形成すること
が望ましい。The first layer composed of the organic layer and the second electrode
Forming a second stacked body (for example, for red light emission) by moving the substrate and the mask relative to each other after forming the second stacked body (for, for example, red light emission). Is desirable.
【００２７】また、有機層の幅方向の端部において、こ
の有機層と第１の電極との間にこの第１の電極と第２の
電極とを絶縁するための絶縁層が設けられている有機光
学的素子を製造するに際し、前記絶縁層を形成した後、
この絶縁層がマスクの非マスク部分の端部に位置するよ
うに前記マスクに対し位置合わせして有機層を形成する
ことが望ましい。Further, an insulating layer for insulating the first electrode and the second electrode is provided between the organic layer and the first electrode at the end portion in the width direction of the organic layer. In manufacturing the organic optical element, after forming the insulating layer,
It is desirable to form the organic layer by aligning with the mask so that the insulating layer is located at the end of the non-mask portion of the mask.
【００２８】また、少なくとも赤、緑及び青様の色をそ
れぞれ発色させる隣接した少なくとも３本のストライプ
状の電界発光有機層の組を配列するのがよく、そしてこ
の場合、少なくとも赤、緑及び青様の色をそれぞれ発色
する各電界発光有機層のストライプ形状を互いに実質的
に同じにするのがよい。It is also preferable to arrange at least three stripe-shaped electroluminescent organic layers adjacent to each other which emit at least red, green and blue-like colors, and in this case, at least red, green and blue. It is preferable that the striped shapes of the electroluminescent organic layers that emit different colors are substantially the same.
【００２９】また、第２の電極と外部端子との接続箇所
を遮蔽手段（例えば後述のシャッタ33）で覆った状態で
有機層を形成し、前記遮蔽手段を除去して前記有機層上
に前記第２の電極を形成することが望ましい。Further, an organic layer is formed in a state in which a connecting portion between the second electrode and the external terminal is covered with a shielding means (for example, a shutter 33 described later), the shielding means is removed, and the organic layer is formed on the organic layer. It is desirable to form the second electrode.
【００３０】また、少なくとも有機層及び第２の電極を
物理蒸着（例えば真空蒸着法、スパッタ法）によって形
成することが望ましい。It is desirable that at least the organic layer and the second electrode are formed by physical vapor deposition (eg, vacuum vapor deposition method, sputtering method).
【００３１】更に、複数の蒸着源（例えば後述の蒸着源
24）をマスクの非マスク部分の長さ方向に沿って配置す
ることが望ましい。Further, a plurality of vapor deposition sources (for example, vapor deposition sources described later)
24) should be placed along the length of the unmasked portion of the mask.
【００３２】[0032]
【実施例】以下、本発明を実施例について更に詳しく説
明するが、本発明が以下の実施例に限定されるものでな
いことは勿論である。EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to the following examples.
【００３３】図１は、本実施例による有機ＥＬ素子の一
部分を示した平面図である。この有機ＥＬ素子15によれ
ば、例えば 100mm×150mm のサイズのガラス等の透明基
板６の一方の面には、例えば 71.98mm×91.55mm のサイ
ズの素子領域44が配されている。この素子領域には、Ｉ
ＴＯ（Indium tin oxide）からなる透明電極５が陽極と
して幅Ｗ1 280μｍ、厚さ 150nm、ピッチＰ1 300μｍ
で 240本分、平行に（ストライプ状に）形成されてい
る。そして、この透明電極５のシート抵抗は20Ω/cm2で
あるが、これでは抵抗が高すぎるので、幅Ｗ2 30μｍ、
厚さ２μｍのアルミニウム又は金からなる金属電極９が
各透明電極５の中央部に接して基板６側に埋設（図３参
照）される状態で併設されている。FIG. 1 is a plan view showing a part of the organic EL device according to this embodiment. According to this organic EL element 15, an element region 44 having a size of, for example, 71.98 mm × 91.55 mm is arranged on one surface of the transparent substrate 6 such as glass having a size of, for example, 100 mm × 150 mm. In this element region, I
A transparent electrode 5 made of TO (Indium tin oxide) as an anode has a width W 1 280 μm, a thickness 150 nm, and a pitch P 1 300 μm.
240 lines are formed in parallel (in stripes). The sheet resistance of the transparent electrode 5 is 20 Ω / cm 2 , but since the resistance is too high, the width W 2 is 30 μm,
A metal electrode 9 made of aluminum or gold having a thickness of 2 μm is provided in contact with the central portion of each transparent electrode 5 so as to be embedded (see FIG. 3) on the substrate 6 side.
【００３４】そして、基板６に設けた透明電極５の上に
は、この透明電極５と直交するようにＳｉＯ2 絶縁層11
が、幅Ｗ3 30μｍ、厚さ 150nm、ピッチＰ2 100μｍで
916本分、平行に（ストライプ状に）形成されている。
この絶縁層11は、その後に基板６上に形成する電界発光
有機層及び電極（陰極）の幅方向の端縁部を通って電流
がリークするのを防ぐためである。なお、図１では保護
層は図示省略した。On the transparent electrode 5 provided on the substrate 6, a SiO 2 insulating layer 11 is formed so as to be orthogonal to the transparent electrode 5.
However, the width W 3 is 30 μm, the thickness is 150 nm, and the pitch is P 2 100 μm.
916 pieces are formed in parallel (in stripes).
This insulating layer 11 is for preventing current from leaking through the widthwise edges of the electroluminescent organic layer and the electrode (cathode) which are subsequently formed on the substrate 6. The protective layer is omitted in FIG.
【００３５】図２は、図１のII−II線断面図である。図
示の如く、基板６上には、ホール輸送層４と、発光材料
が混合されている電子輸送層２とがそれぞれ有機層とし
て、更に電極１が陰極としてこの順にほぼ同一の平面形
状にストライプ状に積層されている。この積層体からな
る赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各発光色のものを１
組40としてこれを多数並列配置しており、この上をＳｉ
Ｎ又はＡｌＮ保護層12で被覆している。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. As shown in the figure, on the substrate 6, the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2 in which the light emitting material is mixed are organic layers, respectively, and the electrode 1 is a cathode in the order of stripes in substantially the same plane shape. Are stacked on. 1 for each of the red (R), green (G), and blue (B) emission colors of this laminated body
A large number of these are arranged in parallel as a set 40, and on top of this Si
It is covered with an N or AlN protective layer 12.
【００３６】ホール輸送層４、電子輸送層２及び電極１
からなる積層体は基板６の透明電極５に対して直交して
設けられているが、ホール輸送層４の幅方向の両端部に
おいて上記の絶縁層11がホール輸送層４と電極５との間
に位置し、上記した電流リークの発生を防止している。
また、この絶縁層11の領域分だけ発光領域41の幅が陰極
１の幅よりも狭くなる。Hole transport layer 4, electron transport layer 2 and electrode 1
The laminate made of is provided orthogonal to the transparent electrode 5 of the substrate 6, but the insulating layer 11 is provided between the hole transport layer 4 and the electrode 5 at both ends in the width direction of the hole transport layer 4. Is located at the position to prevent the above-mentioned current leakage from occurring.
Further, the width of the light emitting region 41 is narrower than the width of the cathode 1 by the region of the insulating layer 11.
【００３７】図３に示すように、電極１の長さ方向の一
方の端部においては、ホール輸送層４及び電子輸送層２
が形成されない部分42が存在しており、従って、この部
分では電極１の一方の端部１ａが基板６に直接密着する
ように形成されている。As shown in FIG. 3, at one end of the electrode 1 in the longitudinal direction, the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2 are formed.
There is a portion 42 in which is not formed. Therefore, in this portion, one end 1a of the electrode 1 is formed so as to be in direct contact with the substrate 6.
【００３８】図３は、図１の III−III 線断面図を示す
ものであるが、仮想線で示すように、外部電極端子13が
この部分42の電極層１ａに接続される。FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III of FIG. 1, but the external electrode terminal 13 is connected to the electrode layer 1a of this portion 42 as shown by a virtual line.
【００３９】図４及び図５は、この有機ＥＬ素子15の電
極１と外部電極端子13との接続部を明示するものであ
る。図４（平面図）及び図５（Ａ）（図４のＡ−Ａ線断
面図）、図５（Ｂ）（同Ｂ−Ｂ線断面図）に示すよう
に、外部電極端子板43は、樹脂シート14の一方の面に多
数の外部電極端子13を有し、これらのそれぞれは電極１
の端部１ａと個々に接続される。4 and 5 clearly show the connection between the electrode 1 of the organic EL element 15 and the external electrode terminal 13. As shown in FIG. 4 (plan view), FIG. 5 (A) (cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 4), and FIG. 5 (B) (cross-sectional view taken along the line BB), the external electrode terminal plate 43 is A large number of external electrode terminals 13 are provided on one surface of the resin sheet 14, and each of these has an electrode 1
Are individually connected to the end 1a of the.
【００４０】このように、外部電極端子との接続領域に
おいて電極１の下部に有機層２、４を設けないことによ
り、電極１と基板６との密着性を高めて、電極１が外部
端子13との接続の信頼性を向上させるようにしている。
しかも、有機層２、４はストライプ状に設けているの
で、各有機層の積層体間にはＳｉＯ2 層11が存在してい
てこのＳｉＯ2 層が基板６と保護層12との間の接着性を
高め、また素子周辺部では有機層が存在しておらず、保
護層12が直接に基板６と強固に密着しているので、有機
層の破断等による保護膜の機能低下の問題は生じない。As described above, since the organic layers 2 and 4 are not provided below the electrode 1 in the connection region with the external electrode terminal, the adhesion between the electrode 1 and the substrate 6 is enhanced, and the electrode 1 is connected to the external terminal 13. I try to improve the reliability of the connection with.
Moreover, since the organic layers 2 and 4 are arranged in stripes, the adhesion between the SiO 2 layer between the laminate of the organic layer not exist SiO 2 layer 11 and the substrate 6 and the protective layer 12 In addition, since the organic layer does not exist in the peripheral portion of the element and the protective layer 12 is directly and firmly adhered to the substrate 6, there is a problem that the protective film has a reduced function due to breakage of the organic layer. Absent.
【００４１】本実施例の如き有機ＥＬ素子においては、
一つの画素ＰＸ（図１参照）が過電流により破壊される
場合がある。このような場合には電極１も破壊され、破
壊された部分が絶縁性となり、電極１を通して電流が流
れない（即ち、断線する）ことが多い。図４において破
壊部分Ｄを網状に示しているが、本実施例の構造は、そ
うした破壊が生じても実質的に問題とはならない。In the organic EL device of this example,
One pixel PX (see FIG. 1) may be destroyed due to overcurrent. In such a case, the electrode 1 is also destroyed, the destroyed portion becomes insulating, and a current often does not flow through the electrode 1 (that is, disconnection). Although the broken portion D is shown as a mesh in FIG. 4, the structure of this embodiment does not substantially pose a problem even if such breaking occurs.
【００４２】即ち、透明電極５から注入される電流は、
絶縁層11の存在によって、積層体として形成されている
電極１の幅よりも狭い領域41（絶縁層11と絶縁層11との
間で基板の垂直方向に電極１へ流れるため、絶縁層11に
遮られていない電極１の中央部分が破壊されても絶縁層
11で遮られている電極１の幅方向の両端縁部は破壊され
ないで残ることになる。従って、この残った両端縁部が
電極１として機能し、図４において、破壊部分Ｄの両側
の非破壊部分を通して電流が矢印47のように流れ、上述
した外部端子へと導かれ、この逆方向において川下側へ
電子が供給されてそこの画素を正常に発光させることが
できる。That is, the current injected from the transparent electrode 5 is
Due to the presence of the insulating layer 11, a region 41 narrower than the width of the electrode 1 formed as a laminated body (flows to the electrode 1 in the vertical direction of the substrate between the insulating layers 11 and 11, so that the insulating layer 11 is formed). Insulating layer even if the central part of the unshielded electrode 1 is destroyed
Both widthwise edges of the electrode 1 blocked by 11 are not destroyed but remain. Therefore, the remaining both edge portions function as the electrode 1, and the current flows through the non-destructive portions on both sides of the destruction portion D in FIG. At, the electrons are supplied to the downstream side, and the pixels there can be normally made to emit light.
【００４３】次に、上記のように構成された有機ＥＬ素
子の製造プロセス及び製造装置を図６〜図20について詳
細に説明する。Next, the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the organic EL element configured as described above will be described in detail with reference to FIGS.
【００４４】図６は、基板６の一方の面上に透明電極５
を所定のサイズ及び数で上述したストライプ状パターン
に平行に形成した領域45と、この上に、透明電極５と直
交するように絶縁層11を所定のサイズ及び数で上述した
ストライプ状パターンに平行に形成した領域46とからな
る表示領域44の概略レイアウトを示している。In FIG. 6, the transparent electrode 5 is formed on one surface of the substrate 6.
A region 45 having a predetermined size and number formed in parallel with the stripe pattern described above, and an insulating layer 11 having a predetermined size and number formed parallel to the stripe pattern described above so as to be orthogonal to the transparent electrode 5. 3 shows a schematic layout of a display area 44 including an area 46 formed in the above.
【００４５】図７は、図６のＡ部を拡大して示したもの
であり、また、図８は図７のVIII−VIII線断面図であ
る。図７で示されている透明電極５に接して併設した金
属電極９は、図８で示すように基板６に埋設されてい
る。FIG. 7 is an enlarged view of the portion A of FIG. 6, and FIG. 8 is a sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. The metal electrode 9 provided in contact with the transparent electrode 5 shown in FIG. 7 is embedded in the substrate 6 as shown in FIG.
【００４６】そして、図１及び図２で示した赤、緑及び
青色に発光するホール輸送層４と電子輸送層２とからな
る有機層、及び電極１は、一枚のマスクを共通に使用し
て以下の如くにして形成する。図９はそのマスク16を概
略的に示し、図10は図９のＢ部の拡大図、図11は図10の
XI−XI線断面図である。The organic layer composed of the hole transporting layer 4 and the electron transporting layer 2 which emits red, green and blue light shown in FIGS. 1 and 2 and the electrode 1 use a single mask in common. And formed as follows. FIG. 9 schematically shows the mask 16, FIG. 10 is an enlarged view of part B in FIG. 9, and FIG. 11 is FIG.
It is a XI-XI line sectional view.
【００４７】このマスク16には、厚さＴ1 が 100μｍ、
ピッチＰ3 が 300μｍ、幅Ｗ4 が85μｍのスリット状の
穴17が 305本平行に形成されている。そして、マスク16
の穴17は図11に示すように、断面が一方の側の小幅のス
リット状開口18Ａから概ね45度の傾斜で拡大され、反対
側に幅広の開口部18Ｂを形成している。このような断面
形状のマスクは、両面からエッチングを行うことによ
り、容易に作製でき、例えばソニー社製のトリニトロン
方式のカラーテレビジョン受像機に組み込まれたアパー
チャグリルとして多用されているものと同様であってよ
い。The mask 16 has a thickness T 1 of 100 μm,
305 slit-like holes 17 having a pitch P 3 of 300 μm and a width W 4 of 85 μm are formed in parallel. And mask 16
As shown in FIG. 11, the hole 17 has a cross section enlarged from a narrow slit-shaped opening 18A on one side at an inclination of about 45 degrees, and forms a wide opening 18B on the opposite side. A mask having such a cross-sectional shape can be easily manufactured by performing etching from both sides, and is similar to, for example, one that is often used as an aperture grill incorporated in a Sony trinitron type color television receiver. You can
【００４８】図12は、このマスク16を用いて有機層及び
電極（陰極）を実質的に同一の平面形状に積層する際
に、スパッタリング及びパターニングによって基板６の
透明電極５を直交して形成された絶縁膜11とマスク16と
の位置関係を示すものである。即ち、特定の発光色を得
るため、マスク16の穴17（具体的には小幅の開口部18
Ａ）は、隣接する絶縁層11−11間の領域ａ1 、ａ2 、ａ
3 …ａn 及び各絶縁層11の一部にオーバーラップして位
置している。In FIG. 12, when the organic layer and the electrode (cathode) are laminated in substantially the same plane shape using this mask 16, the transparent electrode 5 of the substrate 6 is formed orthogonally by sputtering and patterning. 3 shows the positional relationship between the insulating film 11 and the mask 16. That is, in order to obtain a specific emission color, the hole 17 of the mask 16 (specifically, the narrow opening 18
A) indicates regions a 1 , a 2 , a between adjacent insulating layers 11-11.
3 ... An and a part of each insulating layer 11 are overlapped and located.
【００４９】即ち、ａ1 〜ａn の領域において、例えば
赤色の発光を生じる有機層と電極の積層体を真空蒸着で
形成した後、次に、ａ1 〜ａn に隣接する領域ｂ1 、ｂ
2 、ｂ3 …ｂn にマスク穴17を位置合わせするようにマ
スク16を平行移動させ、例えば緑色の発光色を生じる別
の有機層と電極を真空蒸着で積層する。そして、これが
終われば、更にｃ1 〜ｃn の領域にマスク穴17を位置合
わせするようにマスク16を平行移動させ、例えば青色の
発光色を生じる別の有機層と電極を積層する。このよう
にして、本実施例によれば、１枚の共通のマスク16を用
いて有機層及び電極層をほぼ同一パターンに真空蒸着で
積層していることは注目すべき特徴である。That is, in a region of a 1 to a n , for example, after a stack of an organic layer and an electrode which emits red light is formed by vacuum vapor deposition, next, a region b 1 adjacent to a 1 to a n , b
2 , the mask 16 is moved in parallel so that the mask hole 17 is aligned with b 3, ..., B n , and another organic layer which produces a green emission color and an electrode are laminated by vacuum evaporation. Then, if this After completion, further to translate the mask 16 so as to align the mask holes 17 in the region of c 1 to c n, laminating another organic layer and the electrode, for example resulting blue emission color. In this way, according to this embodiment, it is a remarkable feature that the organic layer and the electrode layer are laminated in almost the same pattern by vacuum vapor deposition using one common mask 16.
【００５０】このような一枚のマスク16により有機層及
び電極層を積層するには、基板６を固定し、マスク16を
移動させる移動機構を有する図13に示すような真空蒸着
装置21を使用する。In order to stack the organic layer and the electrode layer with such one mask 16, a vacuum deposition apparatus 21 as shown in FIG. 13 having a moving mechanism for fixing the substrate 6 and moving the mask 16 is used. To do.
【００５１】図13はその概略図であり、アーム22に設け
た支持手段23により基板６及びマスク16が支持され、下
方に蒸着源24が所定個数配置された状態を示している。
蒸着源は電源25による抵抗加熱方式で加熱されるが、必
要に応じてＥＢ（電子ビーム加熱）法、その他の手段を
用いることもできる。FIG. 13 is a schematic view showing the state in which the substrate 6 and the mask 16 are supported by the supporting means 23 provided on the arm 22 and a predetermined number of vapor deposition sources 24 are arranged below.
The vapor deposition source is heated by a resistance heating method using a power source 25, but an EB (electron beam heating) method or other means can be used if necessary.
【００５２】この真空蒸着装置21には、少なくとも５種
類の蒸着源24Ａ、24Ｂ、24Ｃ、24Ｄ、24Ｅを配置する。
この配置は、マスク16の穴17の長さ方向に沿って一列状
にするのが望ましい。At least five kinds of vapor deposition sources 24A, 24B, 24C, 24D and 24E are arranged in the vacuum vapor deposition apparatus 21.
This arrangement is preferably arranged in a line along the length direction of the holes 17 of the mask 16.
【００５３】蒸着源24Ａには、ホール輸送材料として、
例えば下記のトリフェニルジアミン誘導体（ＴＰＤ）
（Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）１，１’−ビ
フェニル−４，４’−ジアミン）等を入れる。As the hole transport material, the vapor deposition source 24A
For example, the following triphenyldiamine derivative (TPD)
(N, N'-bis (3-methylphenyl) 1,1'-biphenyl-4,4'-diamine) and the like are added.
【００５４】[0054]
【化１】 Embedded image
【００５５】また、蒸着源24Ｂには、赤色発光材料とし
て、例えばレーザー色素である下記のＤＣＭ（４−ジシ
アノメチレン−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−
２−メチル−４Ｈ−ピラン）、又はＤＣＭと下記のＡｌ
ｑ3 （トリス−（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウ
ム）との混合物を入れる。In the vapor deposition source 24B, a red light emitting material such as DCM (4-dicyanomethylene-6- (p-dimethylaminostyryl)-
2-methyl-4H-pyran), or DCM and the following Al
q 3 - add a mixture of (tris (8-hydroxyquinoline) aluminum).
【００５６】[0056]
【化２】 Embedded image
【００５７】また、蒸着源24Ｃには、緑色発光材料とし
て、例えば上記したＡｌｑ3 （トリス−（８−ヒドロキ
シキノリン）アルミニウム）などを入れる。Further, the above-mentioned Alq 3 (tris- (8-hydroxyquinoline) aluminum) or the like is put in the vapor deposition source 24C as a green light emitting material.
【００５８】また、蒸着源24Ｄには、青色発光材料とし
て、例えば下記の亜鉛Ｚｎ（ｏｘｚ）2 （２−（ｏ−ヒ
ドロキシフェニル）−ベンズオキサゾールの亜鉛錯体）
などを入れる。In the vapor deposition source 24D, as a blue light emitting material, for example, zinc Zn (oxz) 2 (zinc complex of 2- (o-hydroxyphenyl) -benzoxazole) described below is used.
And so on.
【００５９】[0059]
【化３】 Embedded image
【００６０】なお、それぞれの発光色純度を良くするた
めに、それぞれの色用のドープ材料を入れた別の蒸着源
を用意しておくとよい。In order to improve the emission color purity of each color, it is advisable to prepare another vapor deposition source containing a doping material for each color.
【００６１】更に、蒸着源24Ｅには、電極（陰極）用と
して、例えばＡｌ、Ａｌ−Ｌｉ−Ｍｇ−Ｃｕ合金、Ａｌ
−Ｌｉ合金又はＩｎ−Ｍｇ合金等を入れる。Further, the vapor deposition source 24E includes, for example, Al, Al-Li-Mg-Cu alloy, Al for the electrode (cathode).
-Li alloy or In-Mg alloy is put.
【００６２】この電極についても、更に別の各種金属の
蒸着源を用意して、複数種類の金属を共蒸着或いは多層
蒸着してもよい。With respect to this electrode as well, a vapor deposition source for various other metals may be prepared to co-evaporate or multi-layer vapor-deposit a plurality of metals.
【００６３】上記した複数の蒸着源24Ａ〜24Ｄ等の配置
方法としては、蒸着マスクのライン方向（即ち、穴17の
長さ方向）に平行して一列に並べた方がよい。このよう
に並べることにより、蒸着源からみた視差が蒸着マスク
のラインの幅方向にはみ出ないようにでき、ライン毎に
高精度の蒸着が可能となるからである。図13において
は、蒸着マスクのライン方向は図面の左右方向になって
おり、この方向に蒸着源24Ａ〜24Ｄが並置されている。As a method of arranging the plurality of vapor deposition sources 24A to 24D, etc., it is preferable to arrange them in a line in parallel with the line direction of the vapor deposition mask (that is, the length direction of the hole 17). By arranging in this manner, the parallax seen from the vapor deposition source can be prevented from protruding in the width direction of the line of the vapor deposition mask, and highly accurate vapor deposition can be performed for each line. In FIG. 13, the line direction of the vapor deposition mask is the left-right direction of the drawing, and the vapor deposition sources 24A to 24D are juxtaposed in this direction.
【００６４】蒸着源の個数が多くなって基板６からの距
離が大きくなる蒸着源が存在するときは、その蒸着源の
方向へマスク16を比較的粗く移動させ得る機構を導入し
てもよい。また、基板６と蒸着源24との距離は、基板全
体に概ね一様に蒸着されるように、基板サイズの５倍程
度に保たれることが望ましい。When there is an evaporation source in which the number of the evaporation sources increases and the distance from the substrate 6 increases, a mechanism that can relatively coarsely move the mask 16 in the direction of the evaporation source may be introduced. Further, it is desirable that the distance between the substrate 6 and the vapor deposition source 24 is kept at about 5 times the substrate size so that the substrate is vapor-deposited substantially uniformly.
【００６５】真空蒸着装置21の内部には、図14〜図17に
示す基板保持及びマスク移動のための機構26が設けられ
ている。図14はこの内部機構の平面図、図15はその左側
面図、図16はその右側面図、そして図17はその正面図で
ある。Inside the vacuum vapor deposition device 21, a mechanism 26 for holding the substrate and moving the mask shown in FIGS. 14 to 17 is provided. 14 is a plan view of this internal mechanism, FIG. 15 is a left side view thereof, FIG. 16 is a right side view thereof, and FIG. 17 is a front view thereof.
【００６６】図14において、マスク16は基台30の中央部
に設けたマスクステージ34にセットされるが、この場
合、スリット（穴）17のラインを図面左右方向に配置す
る。基台30の中央部には開口29が形成され、この開口29
は上部から下部にかけて図16のように拡大されていてそ
の内壁面は斜面に形成されている。そして、マスク16
は、穴17の群がこの開口29に面するように配置される。In FIG. 14, the mask 16 is set on the mask stage 34 provided at the center of the base 30, and in this case, the lines of the slits (holes) 17 are arranged in the horizontal direction in the drawing. An opening 29 is formed in the center of the base 30.
Is enlarged from the upper part to the lower part as shown in FIG. 16, and its inner wall surface is formed into a slope. And mask 16
Are arranged such that the group of holes 17 faces this opening 29.
【００６７】マスク16は極めて薄いので、張力をかけて
マスク16を直線的に張る機構52がマスクステージ34に設
けられている。Since the mask 16 is extremely thin, a mechanism 52 for applying tension to stretch the mask 16 linearly is provided on the mask stage 34.
【００６８】そして、マスクステージ34はマスク16を微
妙に平行移動させるために、真空用リニアアクチュエー
タ27に連結され、送りねじ方式によって 0.1μｍ程度の
精度で最大12mm、図14に示した矢印50方向へ移動できる
ようになっている。この機構により、図12で説明したマ
スク16の移動が各発光色に対応して行われるが、これに
ついては後述する。The mask stage 34 is connected to the linear actuator 27 for vacuum in order to move the mask 16 in parallel in a subtle manner, and the feed screw system has a precision of about 0.1 μm and a maximum of 12 mm, and the direction of the arrow 50 shown in FIG. You can move to. By this mechanism, the movement of the mask 16 described in FIG. 12 is performed corresponding to each emission color, which will be described later.
【００６９】基台30の側方にはロータリアクチュエータ
31が設けられ、図15及び図17に示すように変速機構35及
びシャフト36を介してロータリアクチュエータ31に結合
されたドラム32にシャッタ33が設けられている。従っ
て、このシャッタ33は、ロータリアクチュエータ31の作
動に伴って図17に矢印51で示す方向に回動可能になって
いる。A rotary actuator is provided on the side of the base 30.
31 is provided, and as shown in FIGS. 15 and 17, the shutter 33 is provided on the drum 32 coupled to the rotary actuator 31 via the transmission mechanism 35 and the shaft 36. Therefore, the shutter 33 can be rotated in the direction shown by the arrow 51 in FIG. 17 according to the operation of the rotary actuator 31.
【００７０】即ち、図４及び図５において既に説明した
ように、外部端子13に接続される電極１の端部１ａを基
板６上に直接形成するために、シャッタ33がマスク16の
穴17の長さ方向におけるマスク16の一端部又は両端部
（この例では、一端部）を５mm程度に亘って選択的に遮
蔽し、この遮蔽領域には有機層が蒸着されず、電極１の
みが蒸着されるようにしている。That is, as already described with reference to FIGS. 4 and 5, the shutter 33 is formed in the hole 17 of the mask 16 in order to directly form the end portion 1a of the electrode 1 connected to the external terminal 13 on the substrate 6. One end or both ends (in this example, one end) of the mask 16 in the length direction is selectively shielded for about 5 mm, and an organic layer is not deposited on this shielded region, and only the electrode 1 is deposited. I am trying to do it.
【００７１】基板６は、被蒸着面を下向きにしてマスク
ステージ34上の基板ステージ28に載置するが、この際、
絶縁層11の長さ方向をマスク16のスリット（穴）17の長
さ方向に合わせると共に、２本の絶縁層11−11間に穴７
を位置させる（図12参照）。基板６の両側はガイドによ
りほぼ自動的に位置決めされ、その前後方向（図14の矢
印50方向）の位置もほぼ自動的に固定具37によって決め
られる。この固定具は90度回すことにより、基板６の縁
部に対して着脱可能になっている。The substrate 6 is placed on the substrate stage 28 on the mask stage 34 with the surface to be vapor-deposited facing down.
The length direction of the insulating layer 11 is aligned with the length direction of the slit (hole) 17 of the mask 16, and a hole 7 is formed between the two insulating layers 11-11.
Position (see Figure 12). Both sides of the substrate 6 are positioned almost automatically by the guides, and their positions in the front-rear direction (direction of arrow 50 in FIG. 14) are also determined almost automatically by the fixture 37. This fixture can be attached to and detached from the edge portion of the substrate 6 by turning 90 degrees.
【００７２】固定具37には、基板６の位置の微調整を行
うための調節機構が設けられ、この調節機構により、基
板６の絶縁層11−11間にマスク16の穴17を正確に位置さ
せかつ絶縁層11とマスク穴17を平行に配置できる。そし
て、基板６とマスク16との間隔は例えば20μｍの一定間
隔となるように、機械的精度が保たれている。The fixture 37 is provided with an adjusting mechanism for finely adjusting the position of the substrate 6, and by this adjusting mechanism, the hole 17 of the mask 16 is accurately positioned between the insulating layers 11-11 of the substrate 6. The insulating layer 11 and the mask hole 17 can be arranged in parallel. The mechanical accuracy is maintained such that the distance between the substrate 6 and the mask 16 is a constant distance of 20 μm, for example.
【００７３】このように基板６及びマスク16を位置決め
するまでの作業は大気中で行うが、マスク16と基板６と
の相対的位置を確認してから、上記機構26を図13に示し
たように真空蒸着装置21内の蒸着源24の真上に設置す
る。Although the work for positioning the substrate 6 and the mask 16 is performed in the atmosphere as described above, after confirming the relative position between the mask 16 and the substrate 6, the mechanism 26 is operated as shown in FIG. It is installed right above the vapor deposition source 24 in the vacuum vapor deposition device 21.
【００７４】図18は、真空蒸着装置21内における基板６
とマスク16のみを拡大して図示したものである。このマ
スク16は蒸着時に図14〜図17に示した機構により移動さ
せ、また蒸着の要領は図12及び図13に示した通りであ
る。FIG. 18 shows the substrate 6 in the vacuum evaporation system 21.
2 and the mask 16 are enlarged. This mask 16 is moved by the mechanism shown in FIGS. 14 to 17 during vapor deposition, and the vapor deposition procedure is as shown in FIGS. 12 and 13.
【００７５】図18は、例えば赤色発光用の積層体を形成
するために、領域ａ1 ……ａn において絶縁層11−11間
に上記ＴＰＤを主体とするホール輸送層４を一層目とし
て蒸着する状態を示している。この場合、ＴＰＤの蒸気
24Ａはマスク16の開口18Ｂから18Ａを通して基板６上に
堆積する（以下、同様）。[0075] Figure 18 is deposited, for example to form a laminate for red light emission, a first layer of the hole transport layer 4 consisting mainly of the TPD between the insulating layer 11-11 in the region a 1 ...... a n It shows the state to do. In this case, TPD vapor
24A is deposited on the substrate 6 through the openings 18B to 18A of the mask 16 (hereinafter the same).
【００７６】そして、マスク16はそのままにして、ａ1
〜ａn 領域において上記のＡｌｑ3とＤＣＭを主体とす
る電子輸送層２及びアルミニウムの電極１をこの順にホ
ール輸送層４に続けて蒸着し、赤色発光用の積層体を形
成する。Then, with the mask 16 as it is, a 1
~a in n region an electron transporting layer 2 and the electrodes 1 of aluminum composed mainly of Alq 3 and DCM in the deposited following the hole-transporting layer 4 in this order, to form a laminate for red emission.
【００７７】こうして領域ａ1 ……ａn に１色目の積層
体を形成した後、マスク16を矢印50の方向へ例えば 100
μｍ移動させて、図19のように、領域ａ1 ……ａn に隣
接する領域ｂ1 ……ｂn にマスク16の開口18Ａを位置さ
せる。そして、上記ＴＰＤを主体とするホール輸送層４
の蒸着に続いて領域ａ1 ……ａn と同じ要領により上記
Ａｌｑ3 を主体とする電子輸送層及びＡｌ電極を蒸着
し、緑色発光用の積層体を形成する。After the first-color laminated body is formed in the regions a 1 ... A n in this manner, the mask 16 is moved in the direction of arrow 50, for example, 100
by μm moved, as shown in FIG. 19, to position the opening 18A of the mask 16 in the area b 1 ...... b n adjacent to the region a 1 ...... a n. And the hole transport layer 4 mainly composed of the above TPD
Subsequent to the vapor deposition, the electron transport layer mainly composed of Alq 3 and the Al electrode are vapor deposited in the same manner as in the regions a 1 ... A n to form a laminated body for green light emission.
【００７８】更に、上記と同様にマスク16を移動させて
領域ｃ1 ……ｃn に、上記ＴＰＤを主体とするホール輸
送層、上記Ｚｎ（ｏｘｚ）2 を主体とする電子輸送層及
びＡｌ電極を蒸着し、青色発光用の積層体を形成する。
これによって、図１及び図２に示した如き構造を作製す
る。Further, by moving the mask 16 in the same manner as described above, in the regions c 1 ... C n , the hole transport layer mainly composed of the TPD, the electron transport layer mainly composed of the Zn (oxz) 2 and the Al electrode are formed. Is vapor-deposited to form a laminate for blue light emission.
As a result, the structure as shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured.
【００７９】上記した蒸着に際し、蒸着条件としては、
真空蒸着装置21内の真空度が２×10-4Ｐａ以下であり、
蒸着レートがホール輸送層４及び電子輸送層２等の有機
材料で0.01〜１nm/s、電極１の金属材料で１〜４nm/s程
度であってよい。また、膜厚は、ホール輸送層、電子輸
送層、発光層がそれぞれ20〜50nmであり、電極は 200nm
以上が望ましい。In the above vapor deposition, the vapor deposition conditions are as follows:
The degree of vacuum in the vacuum vapor deposition device 21 is 2 × 10 −4 Pa or less,
The deposition rate may be 0.01 to 1 nm / s for the organic material such as the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2, and about 1 to 4 nm / s for the metal material of the electrode 1. The thickness of the hole transport layer, electron transport layer, and light emitting layer is 20 to 50 nm, and the electrode thickness is 200 nm.
The above is desirable.
【００８０】これらの蒸着に際しては、図４及び図５で
述べたように、電極１の一端において外部端子13との接
続部を形成するが、その形成要領を図20により更に詳し
く説明する。In depositing these, as described with reference to FIGS. 4 and 5, a connection portion with the external terminal 13 is formed at one end of the electrode 1. The formation procedure will be described in more detail with reference to FIG.
【００８１】図20は、電極１と外部端子13との接続部を
形成する側における基板６の端部と遮蔽機構とを示す拡
大断面図である（但し、簡略化のためにマスク16は図示
省略）。図20において、実線で示した位置はシャッタ33
による遮蔽状態を示しており、この状態でホール輸送層
４及び電子輸送層２を上記要領により蒸着すれば、シャ
ッタ33に遮蔽されたｃ領域ではホール輸送層４と電子輸
送層２は基板６上に蒸着されない。FIG. 20 is an enlarged sectional view showing the end portion of the substrate 6 and the shielding mechanism on the side where the connection portion between the electrode 1 and the external terminal 13 is formed (however, the mask 16 is shown for simplification). Omitted). In FIG. 20, the position indicated by the solid line is the shutter 33.
In this state, if the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2 are vapor-deposited according to the above procedure, the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2 are on the substrate 6 in the area c shielded by the shutter 33. It is not deposited on.
【００８２】次に、シャッタ33を仮想線の位置へ回動さ
せてから、電極１の電極材料を蒸着すれば、電極１が仮
想線で示すようにｃ領域を含めて蒸着され、接続部１ａ
が形成される。Next, when the shutter 33 is rotated to the position of the imaginary line and the electrode material of the electrode 1 is vapor-deposited, the electrode 1 is vapor-deposited including the region c as shown by the phantom line, and the connecting portion 1a is formed.
Is formed.
【００８３】このようにして形成された接続部１ａには
有機層が存在せず、電極の接続部１ａが強固に直接に基
板６に付着しているので、外部端子13を接続したときに
破壊することなく強固な接続構造を実現できる。Since the connecting portion 1a thus formed has no organic layer and the connecting portion 1a of the electrode is firmly and directly attached to the substrate 6, it is destroyed when the external terminal 13 is connected. A strong connection structure can be realized without performing.
【００８４】外部端子13の接続後は、基板６の蒸着面上
には図２に示した保護膜12を蒸着する。これには、空気
や水分を通しにくく、絶縁性の高いセラミック膜が優れ
ている。特に窒化ケイ素（ＳｉＮ）や窒化アルミニウム
（ＡｌＮ）などは、ＥＣＲ（Electron Cyclotron Reson
ance）プラズマ化学的気相成長法（ＣＶＤ）で基板温度
が室温のままで容易にしかも短時間に形成できるので、
保護膜を形成するのに適している。After connecting the external terminals 13, the protective film 12 shown in FIG. 2 is deposited on the deposition surface of the substrate 6. For this, a ceramic film that is hard to let air and moisture through and has a high insulating property is excellent. In particular, silicon nitride (SiN) and aluminum nitride (AlN) are used for ECR (Electron Cyclotron Resonance).
ance) plasma chemical vapor deposition (CVD) can be easily and quickly formed with the substrate temperature kept at room temperature.
Suitable for forming a protective film.
【００８５】これらの窒化膜は、バリア性が高く、光磁
気記録ディスクの酸化保護膜に応用されている。この実
施例では、有機層は各コラム毎に（即ち、各外部端子13
と対になるように）分離して形成されているため、上記
保護膜12は、各コラム間で絶縁層11に或いは透明電極５
や基板６に直接接している（図２、図４参照）ので、接
着強度が高く、膜が破壊されにくい。その結果、有機層
を強固に保護することができる。These nitride films have high barrier properties and are used as an oxidation protection film for magneto-optical recording disks. In this embodiment, an organic layer is provided for each column (ie, each external terminal 13
The protective film 12 is formed on the insulating layer 11 or the transparent electrode 5 between the columns because it is formed separately.
Since it is in direct contact with the substrate 6 and the substrate 6 (see FIGS. 2 and 4), the adhesive strength is high and the film is not easily broken. As a result, the organic layer can be strongly protected.
【００８６】このようにして、 0.1mmピッチ程度の微細
な画素からなる単純マトリックス型の有機ＥＬ素子を、
極めて簡略な設備により製造することができる。In this way, a simple matrix type organic EL element consisting of fine pixels of about 0.1 mm pitch is
It can be manufactured with extremely simple equipment.
【００８７】上記のようにして作製した有機ＥＬ素子を
駆動回路（図示せず）に接続し、ＮＴＳＣ方式で画像を
表示した。そして、ＮＴＳＣテレビジョン信号を赤、緑
及び青色の輝度信号に分解し、１ラインの間、信号をホ
ールドする回路に通した後、電圧−電流変換回路を通し
て、電流制御型にして各コラム電極に与えた。The organic EL device manufactured as described above was connected to a drive circuit (not shown), and an image was displayed by the NTSC system. Then, the NTSC television signal is decomposed into red, green, and blue luminance signals, passed through a circuit for holding the signal for one line, and then passed through a voltage-current conversion circuit to be a current control type and to each column electrode. Gave.
【００８８】この場合、水平ラインの切り替えは、液晶
ディスプレイなどで一般的に使われているシフトレジス
タ素子を用いたラインスキャン方式で行った。印加電圧
は30〜40ボルトとし、１画素に流れる電流量を最大で 2
00μＡに設定した。ＮＴＳＣ信号でホワイト状態を表示
させたところ、50cd/m2 の明るさを得ることができ、テ
レビジョン画像を映し出すことができた。In this case, the horizontal lines are switched by a line scan method using a shift register element which is generally used in liquid crystal displays and the like. The applied voltage is 30-40V, and the maximum amount of current flowing in one pixel is 2
It was set to 00 μA. When the white state was displayed by the NTSC signal, a brightness of 50 cd / m 2 could be obtained and a television image could be displayed.
【００８９】上述したように、本実施例の有機ＥＬ素子
によれば、図１及び図２に示したように、陽極である透
明電極５上に有機層４及び２と陰極である金属電極１と
が実質的に同一の平面形状で積層されているので、図12
〜図19に示したように、共通のマスク16を使用して有機
層と電極とを蒸着で形成できる。これによって、真空蒸
着装置内に大掛かりなマスク掛け又はその移動機構を設
ける必要がなく、マスクの移動を最小限にし、極めて単
純な移動機構を設けるのみで微細な画素パターンを実現
できる。しかも、有機層及び電極の形成を共通のマスク
で行えるので、大気に曝すことなく、真空状態下でそれ
ぞれ形成できる。As described above, according to the organic EL device of this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the organic layers 4 and 2 and the metal electrode 1 serving as the cathode are formed on the transparent electrode 5 serving as the anode. Since and are stacked in substantially the same plane shape,
~ As shown in Figure 19, the common mask 16 can be used to form the organic layers and electrodes by vapor deposition. As a result, it is not necessary to provide a large-scale masking device or a moving mechanism for the mask in the vacuum vapor deposition apparatus, the movement of the mask can be minimized, and a fine pixel pattern can be realized only by providing an extremely simple moving mechanism. Moreover, since the organic layer and the electrodes can be formed using the same mask, they can be formed under vacuum without being exposed to the atmosphere.
【００９０】そして、透明電極５の長さ方向において、
隣接する画素間では有機層が存在しないでＳｉＯ2 絶縁
層11が保護膜12と直接接し、また、表示領域の周辺部で
は保護膜12が透明電極５や基板６に直接付着しているの
で、保護膜12の密着強度を向上させることができる。Then, in the length direction of the transparent electrode 5,
Since there is no organic layer between adjacent pixels, the SiO 2 insulating layer 11 is in direct contact with the protective film 12, and in the peripheral portion of the display area, the protective film 12 is directly attached to the transparent electrode 5 and the substrate 6, The adhesion strength of the protective film 12 can be improved.
【００９１】また、図４において説明したように、画素
が過電流により破壊された場合でも、ＳｉＯ2 絶縁層11
の両側端上において金属電極１を通して目的の画素へと
電流を流すことができ、正常に点灯させることができ
る。Further, as described with reference to FIG. 4, even when the pixel is destroyed by the overcurrent, the SiO 2 insulating layer 11
A current can be passed to the target pixel through the metal electrodes 1 on both side ends of, and normal lighting can be performed.
【００９２】また、ホール輸送層４及び電子輸送層２の
一方の端部が電極１より短く形成され、その部分は電極
１のみが基板６に直接接着しているので、外部端子を接
続し易く、電極１も破損しにくい。Further, since one end of the hole transport layer 4 and the electron transport layer 2 is formed shorter than the electrode 1 and only the electrode 1 is directly bonded to the substrate 6 at that portion, it is easy to connect an external terminal. The electrode 1 is also less likely to be damaged.
【００９３】以上、本発明の実施例について詳述した
が、上述の実施例は本発明の技術思想に基づいて各種の
変形が可能である。Although the embodiments of the present invention have been described above in detail, various modifications can be made to the above embodiments based on the technical idea of the present invention.
【００９４】例えば、上述のホール輸送層等の有機層及
び電極の積層パターン又はその平面形状はストライプ状
以外にも様々であってよいし、また、その層構成や組成
等も上述した例のものに限られることはなく、図21で示
したように電子輸送層とは別に発光層を有機層として追
加してもよい。上述の絶縁層11は必ずしも設けなくてよ
い。外部端子との接続部だけでなく、電極１の他端部側
でも有機層を形成しなくてよい（この場合は、更に電極
の接着が良くなる）。For example, the laminated pattern of the organic layer such as the hole transport layer and the electrode or the plane shape thereof may be various other than the stripe shape, and the layer constitution and composition thereof are those of the above-mentioned examples. However, the light emitting layer may be added as an organic layer separately from the electron transport layer as shown in FIG. The insulating layer 11 described above does not necessarily have to be provided. It is not necessary to form the organic layer not only on the connection portion with the external terminal but also on the other end portion side of the electrode 1 (in this case, the adhesion of the electrode is further improved).
【００９５】ホール輸送層又は電子輸送層には螢光物質
を含有させておいてもよい。また、亜鉛錯体や他の発光
物質であるアントラセン、ナフタリン、フェナントレ
ン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリ
ン、アクリジン、スチルベン等を併用してよい。こうし
た亜鉛錯体又は螢光物質等との混合物は、電子輸送層２
に含有させることができる。The hole transport layer or the electron transport layer may contain a fluorescent substance. Further, a zinc complex and other luminescent substances such as anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene, perylene, butadiene, coumarin, acridine, and stilbene may be used in combination. The mixture with such a zinc complex or a fluorescent substance is used as the electron transport layer 2
Can be included.
【００９６】また、電極、ホール輸送層、発光層、電子
輸送層のそれぞれの厚さは、素子の動作電圧を考慮して
決められるものであり、上記実施例に限定されるもので
はない。また、素子の各層の作製法も通常の真空蒸着
法、ラングミュアブロジェット（ＬＢ）蒸着法をはじ
め、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
真空蒸着法、有機分子線エピタキシ法（ＯＮＢＥ）等が
採用可能である。The thickness of each of the electrodes, the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer is determined in consideration of the operating voltage of the device, and is not limited to the above embodiment. In addition, as the method for producing each layer of the device, a usual vacuum vapor deposition method, Langmuir-Blodgett (LB) vapor deposition method, dip coating method, spin coating method,
A vacuum deposition method, an organic molecular beam epitaxy method (ONBE), etc. can be adopted.
【００９７】各層の成膜時に使用するマスク（例えば上
述のマスク16）は基板６に対して所定ピッチで移動させ
るようにしたが、その移動経路や移動機構も様々に変更
してよい。或いは、マスクは固定し、基板を移動させる
こともできる。Although the mask used for forming each layer (for example, the mask 16 described above) is moved at a predetermined pitch with respect to the substrate 6, its moving path and moving mechanism may be variously changed. Alternatively, the mask can be fixed and the substrate can be moved.
【００９８】また、上述の例ではマルチカラー又はフル
カラー用のディスプレイとしての有機ＥＬ素子を説明し
たが、モノカラー用のディスプレイにも適用することが
できる。In the above example, the organic EL element as a multi-color or full-color display has been described, but it can be applied to a mono-color display.
【００９９】また、ディスプレイ以外にも、例えば、文
字板などの光源として利用することも可能であり、この
場合、マトリックス状にする必要はない。また、色度を
調製するためのフィルタや、光起電装置（バッテリー
用）、光通信機器など、自発光素子としても応用は可能
である。或いはまた、入射光を電気信号に変換する場合
の応用として、撮像素子なども挙げられる。Besides the display, it can be used as a light source such as a dial, and in this case, it is not necessary to form a matrix. Further, it can be applied as a self-luminous element such as a filter for adjusting chromaticity, a photovoltaic device (for battery), an optical communication device, or the like. Alternatively, as an application in the case of converting incident light into an electric signal, an image sensor or the like can be given.
【０１００】[0100]
【発明の作用効果】本発明は、上述した如く、第１の電
極上に有機層と前記第１の電極に対向した第２の電極と
が設けられ、前記有機層と前記第２の電極とが実質的に
同一の平面形状で積層されているので、共通のマスクを
使用して有機層と電極とを形成できる。これによって、
真空装置内に大掛かりなマスク掛け又はその移動機構を
設ける必要がなく、マスクの相対的移動を最小限にし、
極めて単純な移動機構を設けるのみで微細な画素パター
ンを実現できる。しかも、有機層及び電極を共通のマス
クで形成できるので、大気に曝すことなしに真空状態下
でそれぞれを形成できる。As described above, according to the present invention, the organic layer and the second electrode facing the first electrode are provided on the first electrode, and the organic layer and the second electrode are provided. Are laminated in substantially the same plane shape, the organic layer and the electrode can be formed using a common mask. by this,
There is no need to provide a large-scale mask hook or its moving mechanism in the vacuum device, and minimize the relative movement of the mask.
A fine pixel pattern can be realized only by providing an extremely simple moving mechanism. Moreover, since the organic layer and the electrodes can be formed with a common mask, they can be formed in a vacuum state without being exposed to the atmosphere.
【０１０１】そして、隣接する画素間では有機層が存在
しないで保護膜が直接下地と接し、また、周辺部では保
護膜が電極や基体に直接付着しているので、保護膜の密
着強度を向上させることができる。Further, since the organic layer does not exist between the adjacent pixels and the protective film is in direct contact with the base, and in the peripheral portion, the protective film is directly attached to the electrode or the substrate, the adhesion strength of the protective film is improved. Can be made.
【図１】本発明の実施例による有機ＥＬ素子の要部を示
す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a main part of an organic EL device according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.
【図３】同 III−III 線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III.
【図４】同実施例の外部電極との接続部及び破壊した画
素を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a connection portion with an external electrode and a broken pixel of the embodiment.
【図５】（Ａ）は図４のＡ−Ａ線断面図、（Ｂ）は同Ｂ
−Ｂ線断面図である。5A is a sectional view taken along line AA in FIG. 4, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B.
【図６】同実施例における透明電極及び絶縁膜の領域の
レイアウトを概略的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing a layout of regions of a transparent electrode and an insulating film in the example.
【図７】図６のＡ部の拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of a portion A in FIG. 6;
【図８】同実施例において基板に透明電極及び金属配線
を設けた状態の要部の拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a main part in a state where a transparent electrode and a metal wiring are provided on a substrate in the example.
【図９】同実施例に用いる蒸着マスクの平面図である。FIG. 9 is a plan view of a vapor deposition mask used in the example.
【図10】図９のＢ部の拡大図である。FIG. 10 is an enlarged view of a B part in FIG. 9.
【図11】同マスクの要部拡大断面図である。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the mask.
【図12】同マスクと基板の位置関係を示した要部の拡大
断面図である。FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing the positional relationship between the mask and the substrate.
【図13】同実施例に用いる真空蒸着装置の概略図であ
る。FIG. 13 is a schematic view of a vacuum vapor deposition device used in the same example.
【図14】同真空蒸着装置内に設ける基板保持及びマスク
移動用の内部機構の平面図である。FIG. 14 is a plan view of an internal mechanism for holding a substrate and moving a mask, which is provided in the vacuum vapor deposition apparatus.
【図15】同内部機構の右側面図である。FIG. 15 is a right side view of the internal mechanism.
【図16】同内部機構の左側面図である。FIG. 16 is a left side view of the internal mechanism.
【図17】同内部機構の正面図である。FIG. 17 is a front view of the internal mechanism.
【図18】同真空蒸着装置での蒸着段階を示す要部の断面
図である。FIG. 18 is a cross-sectional view of a main part showing a vapor deposition step in the vacuum vapor deposition device.
【図19】次の蒸着段階を示す要部の断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view of an essential part showing a next vapor deposition step.
【図20】同実施例による外部端子との電極接続部を形成
するのに用いる遮蔽機構を示す拡大断面図である。FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view showing a shielding mechanism used to form an electrode connection portion with an external terminal according to the embodiment.
【図21】従来例による有機ＥＬ素子の概略断面図であ
る。FIG. 21 is a schematic cross-sectional view of an organic EL element according to a conventional example.
【図22】従来例による他の有機ＥＬ素子の概略断面図で
ある。FIG. 22 is a schematic cross-sectional view of another organic EL element according to a conventional example.
【図23】同有機ＥＬ素子の駆動系の概略図である。FIG. 23 is a schematic diagram of a drive system of the same organic EL element.
１・・・電極 ２・・・電子輸送層 ３・・・発光層 ４・・・ホール輸送層 ５・・・透明電極 ６・・・基板 ９・・・金属電極 11・・・絶縁層 12・・・保護膜 13・・・外部電極端子 14・・・樹脂板 15・・・有機光学的素子 16・・・マスク 17・・・穴 18Ａ、18Ｂ・・・開口部 21・・・真空蒸着装置 22・・・アーム 23・・・支持手段 24・・・蒸着源 25・・・電源 26・・・内部機構 27・・・リニアアクチュエータ 28・・・基板ステージ 29・・・ステージ開口部 30・・・基台 31・・・ロータリアクチュエータ 32・・・ドラム 33・・・シャッタ 34・・・マスクステージ 35・・・変速機構 36・・・シャフト 37・・・固定具 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electrode 2 ... Electron transport layer 3 ... Emitting layer 4 ... Hole transport layer 5 ... Transparent electrode 6 ... Substrate 9 ... Metal electrode 11 ... Insulating layer 12 ... ..Protective film 13 ... External electrode terminals 14 ... Resin plate 15 ... Organic optical element 16 ... Mask 17 ... Hole 18A, 18B ... Aperture 21 ... Vacuum deposition apparatus 22 ... Arm 23 ... Supporting means 24 ... Evaporation source 25 ... Power supply 26 ... Internal mechanism 27 ... Linear actuator 28 ... Substrate stage 29 ... Stage opening 30 ...・ Base 31 ・ ・ ・ Rotary actuator 32 ・ ・ ・ Drum 33 ・ ・ ・ Shutter 34 ・ ・ ・ Mask stage 35 ・ ・ ・ Transmission mechanism 36 ・ ・ ・ Shaft 37 ・ ・ ・ Fixing tool
Claims (18)
に対向した第２の電極とが設けられ、前記有機層と前記
第２の電極とが実質的に同一の平面形状で積層されてい
る有機光学的素子。1. An organic layer and a second electrode facing the first electrode are provided on the first electrode, and the organic layer and the second electrode have substantially the same planar shape. Stacked organic optical elements.
の複数の第１の電極上に、これらの第１の電極に交差し
て並列に配列された少なくとも一層のストライプ状の複
数の有機層と、前記第１の電極に交差して並列に配設さ
れたストライプ状の複数の第２の電極とが実質的に同一
の平面形状で積層されている、請求項１に記載した有機
光学的素子。2. At least one stripe-shaped plurality of organic electrodes arranged in parallel on a plurality of stripe-shaped first electrodes arranged in parallel on a substrate so as to intersect these first electrodes. 2. The organic optical device according to claim 1, wherein the layer and a plurality of stripe-shaped second electrodes that are arranged in parallel to intersect with the first electrode are laminated in substantially the same planar shape. Element.
機層と第１の電極との間にこの第１の電極と第２の電極
とを絶縁するための絶縁層が設けられている、請求項１
に記載した有機光学的素子。3. An insulating layer for insulating the first electrode and the second electrode is provided between the organic layer and the first electrode at an end portion in the width direction of the organic layer. , Claim 1
The organic optical element described in 1.
極の幅より狭くなっている、請求項３に記載した有機光
学的素子。4. The organic optical element according to claim 3, wherein the width of the light emitting region is narrower than the width of the second electrode by the insulating layer.
れ発色させる隣接した少なくとも３本のストライプ状の
電界発光有機層の組が配列されている、請求項１に記載
した有機光学的素子。5. The organic optical element according to claim 1, wherein a set of at least three adjacent electroluminescent organic layers each having a color of at least red, green and blue is arranged.
れ発色する各電界発光有機層のストライプ形状が互いに
実質的に同じである、請求項５に記載した有機光学的素
子。6. The organic optical element according to claim 5, wherein the stripe shapes of the respective electroluminescent organic layers which emit at least red, green and blue colors are substantially the same.
れ、この接続箇所では前記第２の電極が基体に直接付着
している、請求項１に記載した有機光学的素子。7. The organic optical element according to claim 1, wherein an end portion of the second electrode is connected to an external terminal, and at this connection point, the second electrode is directly attached to the substrate.
被着されている、請求項１に記載した有機光学的素子。8. The organic optical element according to claim 1, wherein a protective film is deposited on substantially the entire surface including the second electrode.
極部の一部に一体に形成された金属部とからなる、請求
項１に記載した有機光学的素子。9. The organic optical element according to claim 1, wherein the first electrode comprises a transparent electrode portion and a metal portion integrally formed with a part of the transparent electrode portion.
に対向した第２の電極とが設けられ、前記有機層と前記
第２の電極とが実質的に同一の平面形状で積層されてい
る有機光学的素子を製造するに際し、共通のマスクを使
用して前記有機層と前記第２の電極とを順次積層する、
有機光学的素子の製造方法。10. An organic layer and a second electrode facing the first electrode are provided on the first electrode, and the organic layer and the second electrode have substantially the same planar shape. When manufacturing the laminated organic optical element, the organic layer and the second electrode are sequentially laminated using a common mask,
Method for manufacturing organic optical element.
極を形成する工程と、共通のマスクを使用し、前記マス
クの非マスク部分を通して前記複数の第１の電極上にス
トライプ状の複数の有機層をそれぞれ形成する工程と、
前記マスクをそのまま使用し、前記非マスク部分を通し
て前記有機層上にストライプ状の複数の第２の電極をそ
れぞれ形成する工程とを有する、請求項10に記載した製
造方法。11. A step of forming a plurality of stripe-shaped first electrodes on a substrate, and a step of forming a plurality of stripe-shaped electrodes on the plurality of first electrodes through a non-masked portion of the mask using a common mask. And a step of forming respective organic layers,
11. The manufacturing method according to claim 10, further comprising the step of using the mask as it is and forming a plurality of stripe-shaped second electrodes on the organic layer through the non-mask portion.
層体を形成した後、基体とマスクとを相対的に移動さ
せ、有機層と第２の電極とからなる第２の積層体を形成
する、請求項11に記載した製造方法。12. A second stack including an organic layer and a second electrode, which is formed by forming a first stack including an organic layer and a second electrode, and then moving a substrate and a mask relative to each other. The manufacturing method according to claim 11, wherein a body is formed.
機層と第１の電極との間にこの第１の電極と第２の電極
とを絶縁するための絶縁層が設けられている有機光学的
素子を製造するに際し、前記絶縁層を形成した後、この
絶縁層がマスクの非マスク部分の端部に位置するように
前記マスクに対し位置合わせして有機層を形成する、請
求項10に記載した製造方法。13. An insulating layer for insulating the first electrode and the second electrode is provided between the organic layer and the first electrode at an end portion in the width direction of the organic layer. When manufacturing an organic optical element, after forming the insulating layer, the insulating layer is aligned with the mask so that the insulating layer is positioned at an end of an unmasked portion of the mask to form the organic layer. The manufacturing method described in 10.
れ発色させる隣接した少なくとも３本のストライプ状の
電界発光有機層の組を配列する、請求項10に記載した製
造方法。14. The manufacturing method according to claim 10, further comprising arranging a set of at least three adjacent electroluminescent organic layers in a stripe shape, each group emitting at least red, green and blue colors.
れ発色する各電界発光有機層のストライプ形状を互いに
実質的に同じにする、請求項14に記載した製造方法。15. The method according to claim 14, wherein the stripe shapes of the electroluminescent organic layers that emit at least red, green and blue colors are substantially the same.
蔽手段で覆った状態で有機層を形成し、前記遮蔽手段を
除去して前記有機材層上に前記第２の電極を形成する、
請求項10に記載した製造方法。16. An organic layer is formed in a state where a connection portion between a second electrode and an external terminal is covered with a shielding means, and the shielding means is removed to form the second electrode on the organic material layer. To do
The manufacturing method according to claim 10.
蒸着によって形成する、請求項10に記載した製造方法。17. The manufacturing method according to claim 10, wherein at least the organic layer and the second electrode are formed by physical vapor deposition.
長さ方向に沿って配置する、請求項17に記載した製造方
法。18. The manufacturing method according to claim 17, wherein a plurality of vapor deposition sources are arranged along the length direction of the non-mask portion of the mask.
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