JPH01104066A - ベンゾジオキサンプロスタサイクリン類縁体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 星１」ぼり１１立野 本発明化合物は、医薬品の分野で抗潰瘍剤および抗血栓
剤として利用されうるベンゾジオキサンプロスタサイク
リン類縁体およびその中間体に関する。さらに詳しくは
、プロスタサイクリン［プロスタグランジン（以下ＰＧ
と略す）■、］様の抗１１１瘍作用および血小板凝集抑
制作用を有する一般式（Ｉ）で示される化合物またはそ
の塩およびその中間体に関する。

（以下余白） 一般式 ［式中ｊ　Ｒ１はアルキル、アルケニル、アルキニル、
シクロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノ
キシアルキルｉＲｍは水素、低級アルキルまたはアラル
キル；Ｒ１は水素または保護基；Ａはエチレンまたはビ
ニレン；波線はα配！！もしくはβ配置また□はそれら
の混合物を表わす］ｋ米五弦璽 消化性潰瘍は、胃粘膜の局所的栄養障害によって抵抗脆
弱部位を生じ、そこに胃液が作用して生じると考えられ
ている。しかし、消化性潰瘍の成因論は複雑で、機械的
刺激、化学的刺激、胃液消化、胃炎もしくは胃粘液分泌
障害などの種々の局所的要因またはストレス、自立神経
疾患、内分泌異常、全身栄養障害、アレルギーもしくは
体質異常などの全身的要因など複数の要因が関与してい
ると考えられている。このような考え方は、シャイ（Ｓ
ｈａｙ）らの防御因子と攻撃因子とのバランス説、すな
わち塩酸分泌亢進、ペプシン分泌亢進。

迷走神経緊張、ガストリン産生亢進、壁細胞総数ｉ１Ｄ
またはゾリンジャー−エリソン症候群（Ｚｏｌｌｉｎｇ
ｅｒ−Ｅｌｌｉｓｏｎ　ｓｙｎｄｒｏｍｅ）などの粘膜
攻撃因子と粘膜防壁、粘膜抵抗または十二指腸性胃液分
泌抑制などの粘膜防御因子とのアンバランスが潰瘍発症
に導くという説に集約されている。したがって、潰瘍治
療には、粘膜攻撃因子を助長し、攻撃因子から粘膜を保
護する手段がとられ、薬物療法として、（１）精神安定
剤、（２）副交感神経遮断剤、（３）制酸剤、（４）抗
ペプシン剤、（５）抗ガストリン剤、（６）ムチン製剤
などの胃粘膜保護剤または（７）胃組織再生促進剤など
のような薬物投与が行なわれてきた。

ロバート（Ｒｏｂｅｒｔ）らが、ＰＧＥ、やＰＧｌ、な
どに、酸分泌抑制作用および／または細胞保護作用（ｃ
ｙｔｏｐｒｏｔａｃｔｉｏｎ　）などがあることを発見
して以来、これらのＰＣまたはそれらの誘導体の投与が
、消化性潰瘍の治療に有用であると注目されてきている
。

抗潰瘍作用を有するＰＧＩａＭ縁体として、ニレプロス
ト（Ｎｉｌｅｐｒｏｓｔ）　（ＵＳ　４，２１９．４７
９）、Ｈｏｅ−８９２［ニス・ジエイ・コントレックら
（Ｓ、　Ｊ。

Ｋｏｎｔｕｒｅｋ　ｅｔ　ａ１，　）、プロスタグラン
ジン（Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ）、第２８巻、４
４３頁、１９８４年］、Ｕ−６８２１５［エイ・ロバー
ト（Ａ。

Ｒｏｂｅｒｔ　ｅｔ　ａｌ、　）、プロスタグランジン
（Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ）、第３０巻、６１９
頁、１９８５年］または特開昭５８−１６４５８５記載
の化合物などがある。

明が　決しようとする− ＰＧＩ１は、新たなアラキドン酸代謝物として発見され
て以来、胃粘膜保護作用（酸分泌抑制作用または細胞保
護作用）、血小板凝集抑制作用、血管拡張作用または気
管支平滑筋弛緩作用などさまざまな興味ある生物活性を
有することから注目されている。

ＰＣｌ、の酸分泌抑制作用または細胞保護作用（粘液産
生、分泌亢進、細胞膜安定化、ナトリウムポンプの維持
、重炭酸イオンの分泌、胃粘膜血流増加など）は、種々
の攻撃因子から胃腸粘膜を保護していると考えられる。

しかしながら、天然ＰＣ１，には、（１）代謝が早いた
めに経口投与で不活性であり、非経口的に投与したとき
に、作用持続時間が短いこと、（２）種々の薬理作用を
有すること、（３）化学的に不安定であることなどいく
つかの問題点があり、まだ十分に抗潰瘍剤として満足で
きるＰ　Ｇ　Ｉ　！類縁体は開発されていない。

課　を　　するための　段 本発明者らは、これらの問題点を解決する目的で研究を
行ない、−形式（１）で示されるベンゾジオキサンプロ
スタサイクリン類縁体またはその塩を合成した。

一般式 ｃ式中、Ｒ，はアルキ／Ｌ、アルケニル、アルキニル、
シクロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノ
キシアルキル；Ｒ２は水素、低級アルキルまたはアラル
キル；Ｒｓは水素または保護基；Ａはエチレンまたはビ
ニレン；波線はα配置もしくはβ配置またはそれらの混
合物を表わす］この新規化合物が、強い胃粘膜保護作用
を有し、かつ作用持続時間が長く化学的に安定な化合物
であることを見出し、本発明を完成した。

本明細書において、用いる語句の定義は、以下の通りで
ある。

「低級アルキル」とは、Ｃ４〜Ｃ１の直鎖状または分岐
状のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチルまたはヘキシルなどを挙げることがで
きる。

「アルキル、とは、Ｃ１〜Ｃ１゜の直鎖状または分岐状
のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、　ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチル、１−メチルペンチル、１．１−ジメ
チルペンデル、２−メチルペンデル、ヘキシル、１−メ
チルヘキシル、１．１−ジメチルへキシＪ呟２−メチル
ヘキシル、ペプチル、オクチル、ノニルまたはデシルな
どを挙げることができる。

「アルケニル」とは、Ｃ８〜Ｃ１，の直鎖状または分岐
状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、１−プロペ
ニル、２−プロペニル、２−プデルー２−プロペニル、
１−ブテニル、２−プテニル、２−ペンテニル、１−メ
チル−３−ペンテニル、３−へキシニル、２−メチル−
５−へキシニル、２．６−シメチルー５−へブテニル、
３−オクテニルまたは３−ノネニルなどを挙げることが
できる。

「アルキニル、とは、Ｃ１〜Ｃ８゜の直鎖状または分岐
状のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、１−プロ
ピニル、２−プロピニル、１−ブテニル、２−ブテニル
、２−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、３−
へキシニル、２−メチル−５−へブテニル、３−オクテ
ニルまたは３−ノニニルなどを挙げることができる。

「シクロアルキル」とは、Ｃ３〜Ｃ，のシクロアルキル
を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたは
シクロオクチルなどを挙げることができる。

「シクロアルキルアルキル− シクロアルキルによって置換されている低級アルキルを
意味し、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチル
メチル、シクロペンチルメチル、シクロペンチルエチル
、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、シク
ロへブチルメチルまたはシクロオクチルメチルなどを挙
げることができる。

「フェノキシアルキル」とは、フェノキシによって置換
されている低級アルキルを意味し、例えば、フェノキシ
メチル、フェノキシエチル、１−フェノキシプロピル、
２−フェノキシプロピル、１−フェノキシ−２−メチル
プロピル、１−フェノキシブチル、２−フェノキシブチ
ル、１−フェノキシペンチル、１−フェノキシヘキシル
、１−フェノキシヘプチルまたは１−フェノキシオクチ
ルなどを挙げることができる。

「アラルキル、とは、アリールで置換されている低級ア
ルキルを意味し、例えば、ベンジル、置換ヘンシル（２
，４．６−）リメチルベンジル、４−ブロモベンジル、
４−メトキシベンジルなト）、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチＬ。

ビス（２−ニトロフェニル）メチルまたは９−アントリ
ルメチルなどを挙げることができる。

一般式（１）において、より好ましいＲ，として、アル
キル、例えば、ペンデル、１−メチルペンチル、１．１
−ジメデルペンテルもしくは２−メチルヘキシルなど、
アルケニノ呟例えば、２。

６−シメチルー５−ヘプテニル、２−メチル−５−へキ
シニルもしくは２−ブチル−２−プロペニルなど、アル
キニル、例えば、１−メチル−３−ペンチニルもしくは
３−へキシニルなど、シクロアルキル、例えば、シクロ
ペンチルもしくはシクロヘキシルなど、シクロアルキル
アルキル、例えば、シクロヘキシルメチルなどまたはフ
ェノキシアルキル、例えば、フェノキシ−２−プロピル
、フェノキシ−２−メチルプロピルなどを挙げることが
できる。より好ましいＲ，として、水素、低級アルキル
、例えばメチルなどまたはアラルキル、例えば、９−ア
ントリルメチルなどを挙げることができる．より好まし
いＲ３としては、水素または保護基、例えば、トリメチ
ルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、ｔａｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリルなど通常用いられている水
酸基の保護基を挙げることができる．より好ましいＡと
して、エチレンまたはビニレン（トランス）を挙げるこ
とができる。

一般式ＣＩ）のＲ，が水素のときの塩としては、アルカ
リ金属塩、例えば、リブラム塩、ナトリウム塩もしくは
カリウム塩など、アルカリ土類金属塩、例えば、カルシ
ウム塩など、アンモニウム塩、有機塩基、例えば、トリ
エチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ジシクロヘキシ
ルアミン、ピリジンもしくはトリメチルアミンとの塩ま
たはアミノ酸塩、例えば、グリシン、バリンもしくはア
ラニンなどとの塩を挙げることができる。

本発明化合物は、一般式（１）で一方の立体配置が示さ
れているラセミ体または光学活性体であるが、本発明の
技術範囲には、一般式（１）で示される化合物のすべて
の立体異性体またはその混合物が含まれる。

本発明化合物は、以下に示す概要に従って製造すること
ができる。

（工程Ａ） 本工程は、アルデヒドエにグリニヤール試薬を付加的に
反応させて、本発明化合物−およびに−ａを得る工程で
ある。

反応は、グリニヤール反応の常法に従い、冷却下、エー
テル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの
溶媒中、数十分から数時間で行なうことができる０反応
に用いるグリニヤール試薬としては、縮合させたい側鎖
を有するマグネシウムハライド、例えばアルキルマグネ
シウムハライド（ｎ−ペンチルマグネシウムプロミド、
１−メチルペンチルマグネシウムプロミド、１．１−ジ
メチルペンチルマグネシウムクロリド、ｎ−ヘキシルマ
グネシウムプロミド、２−メチルヘキシルマグネシウム
プロミドなど）、アルケニルマグネシウムハライド（２
，６−シメチルー５−ペンチニルマグネシウムプロミド
など）、アルキニルマグネシウムハライド（３−へキシ
ニルマグネシウムプロミド、１−メチル−３−ペンチニ
ルマグネシウムプロミドなど）、シクロアルキルマグネ
シウムハライド（シクロベンチルマグネシウムブａミド
、シクロヘキシルマグネシウムプロミドなど）またはシ
クロアルキルアルキルマグネシウムハライド（シクロヘ
キシルメチルマグネシウムプロミドなど）を挙げること
ができる。

（工程Ｂ） 本工程は、エノン旦を不飽和アルコールＬａ−ａおよび
ｋ」に還元する工程である。

還元剤として、アルミニウムイソプロポキシド、ジイソ
ボルニルアルミニウムイソプロポキシド、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム、水素化トリー５ｅｃ−ブチルホウ素
カリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素ナトリウム
、水素化ホウ素ナトリウムと塩化セリウム（１）との組
合わせ、２，６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノキシドシイツブデルアルミニウム、水素化へキシル
リモニルホウ素リチウムまたはＢＩＮＡＬ−Ｈ［ビナフ
トール、水素化アルミニウムリチウム、エタノールより
調整（ジャーナル・才ブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティー、第１０６巻、６７０９頁、１９８４年）］な
どを用いることができる。

溶媒として、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、アルコール系のメタノール、エタノール、
芳香族炭化水素系のベンゼン、トルエンまたは塩素化炭
化水素系のジクロロメタン、クロロホルムなどを試薬の
性質に応じて、単独でまたは混合して用いるとよい０反
応は、冷却下または室温にて、数十分間で行なうことが
できる。

このようにして得られたアリルアルコールが、フェニル
セレニル基を含む場合には、酸化的に脱離してジェニル
アルコールとする。

フェニルセレニルアルコールをオゾン、過ヨウ素酸ナト
リウム、過酸化物（例えば、過酸化水素、過酢酸、ｍ−
クロ口過安息香＃）などで酸化してセレノキシドとし、
続いて、塩素化炭化水素系溶媒（例えば、四塩化炭素、
クロロホルム、ジクロロメタンなど）中で、必要に応じ
てジイソプロピルアミン存在下、還°流することにより
ジェニルアルコールを得ることができる。

本工程で得られるアルコールは、エピマーの混合物であ
る。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシが保護
されたものヒおよびＩｃ−ａが得られる。

（工程Ｃ） 本工程は、化合物ヒまたはＩｃ−ａのヒドロキシ保護基
を除去して、それぞれ化合物Ｉｂ−ａまたはｋ」を得る
工程である。

反応は、必要に応じて、酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸、フッ北本素とピリジン、フッ化テトラブチルア
ンモニウムなどの試薬を用い、溶媒としてアルコール系
のメタノール、エタノール、エーテル系のエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランまたはアセトニトリル、水など
を用い室温または加熱下数ｆ分から数時間で達成するこ
とができる０本工程で、カルボン酸メチルエステルが、
加水分解される場合があるので、必要に応じてジアゾメ
タンなどを用いてエステル化してもよい。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシ保護基
が除去された化合物膿または臘が得られる。

（工程Ｄ） 本工程は、化合物■コを接触還元して、化合物狂二コを
得る工程である。

触媒としてパラジウム、白金、ニッケルなどの金属とそ
れらの任意の担体（例えば、活性炭、アルミナ、硫酸バ
リウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムなど）と
の混合物またはホウ化ニッケルもしくはクロロトリス（
トリフェニルホスフィン）ロジウムに常圧または加圧子
水素を吸収させたものを用いるとよい。

溶媒として、アルコール系のメタノール、エタノール、
エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンまたはエステル系の酢酸エチルなどを単独あ
るいは混合して用いるとよい。反応は、室温で数時間か
ら数十時間で行なうことができる。

（工程Ｅ） 本工程は、化合物Ｉｅ　’−ａのヒドロキシ保護基を除
去して、化合物勘を得る工程である。

反応は、工程Ｃと同様に行なえばよい。

本工程により、本発明化合物のうちのヒドロキシ保護基
が除去された化合物勘が得られる。

（工程Ｆ） 本工程は、化合物Ｉｂ−ａ、Ｉｄ−ａまたは勘のカルボ
ン酸エステルを加水分解して、遊離のカルボン酸比」、
担」または■」をそれぞれ得る工程である。

反応は、加水分解反応の常法に従い行なうとよい。

本工程により、本発明化合物の遊離のカルボンＭ　Ｉｂ
−ｂ、臘または■」を得ることができる。

（工程Ｇ） 本工程は、遊離のカルボン酸比」をエステル化してカル
ボン酸のアラルキルエステルＩｂ−ａ　’を得る工程で
ある。

エステル化反応は、１）カルボン酸とアルコールによる
方法、２）酸クロリドとアルコールによる方法、３）カ
ルボン酸塩とハロゲン化物による方法または４）カルボ
ン酸とジアゾ化物による方法などを常法に従って行なう
とよい。

エステルヲ形成スるアルコール、ハロケン化物、ジアゾ
化物のアラルキルとして、例えばベンジル、置換ベンジ
ル（２，’４．６−　ｈリメチルベンジル、４−ブロモ
ベンジル、４−メトキシベンジル）、ジフェニルメチル
、トリフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メ
チルまたは９−アントリルメチルなどを挙げることがで
きる。

式中、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ３およびＡは、特に限定しない限
り前記と同義である。

波線は、αもしくはβ配置またはそれらの混合物を表わ
す。

原料化合物（ｎ）および（ＩＩＩ）は、例えば次の反応
工程式に示される方法により製造することができる。

（以下余白） 反応工程 （第１工程） 本工程は、アルコール１のヒドロキシを保護するために
、ハロゲン化アルキルを用いて塩基存在下アルキル化し
、エーテル？を得る工程である。

反応は、ハロゲン化アルキルとして、メトキシメチルク
ロリドまたはメトキシメチルプロミドなどを用い、溶媒
として、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホ
ルムまたはジメチルスルホキ°シト、ジメチルホルムア
ミドなどを用い冷却下ないしは室温にて数時間から数十
時間で行なうことができる。塩基として、例えばナトリ
ウムアミド、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、水酸化ナトリウム、酸化バリウ
ム、酸化銀または水素化ナトリウムなどを用いるとよい
。

（第２工程） 本工程は、スルフィド？をスルホキシド護こ酸化する工
程である。

反応は酸化剤として、過酸化物、例えば過酸化水素、ｔ
ｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過ギ酸、過酢酸、
過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、ハラニトロ過安息
香酸などを用い、アルコール系のメタノール、エタノー
ル、エーテル系ノジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンまたは塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホ
ルムなどの溶媒中、冷却下数十分から数時間で行なうこ
とがで、きる。

（第３工程） 本工程は、スルホキシド塁をスルフェン酸エステルに転
位させ、さらに得られたスルフェン酸エステルをエステ
ル交換して、化合物４を得る工程である。

スルホキシド亭とスルフェン酸エステルの間の平衡をス
ルフェン酸エステル側に移動させるために、トリフェニ
ルホスフィンなどのホスフィン類またはトリメチルホス
ファイト、トリエチルホスファイトなどのホスファイト
類を用いるとよい。

反応は、芳香族炭化水素系のベンゼン、トルエンなどお
よびアルコール系のメタノール、エタノールなどの混合
溶媒中、加熱下、数十時間で行なうことができる。

（第４工程） 本工程は、化合物迭の二重結合を酸化して化合物二を得
る工程である。

反応は酸化剤として、過酸化物、例えば過酸化水素、　
ｔａｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過ギ酸、過酢酸
、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、バラニトロ過安
息香酸などを用い、アルコール系のメタノール、エタノ
ール、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどまたは塩素化炭化水素系のジクロロメタン、ク
ロロホルムなどの溶媒中、冷却下数十分から数時間で行
なうことができる。

（第５工程） 本工程は、化合物旦のヒドロキシを保護する工程である
。

保護基を形成する化合物として、メタンスルホニルクロ
リ°ド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドなどを挙げる
ことができる。反応は、水素化ナトリウム、トリエチル
アミン、ピリジンなどの塩基存在下、エーテル系のジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、塩素化炭化水素系
のジクロロメタン、クロロホルムまたはジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミドなどを用い冷却下、数十
分から数時間で行なうことができる。

（第６エ程） 本工程は、化合物りのメチルを除去して、化合物鼾を得
る工程である。

反応は、三塩化ホウ素または三臭化ホウ素などを用い、
塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホルムなど
の溶媒中、冷却下数十分から数時間で行なうことができ
る。

別法として、メチルエーテルを三酸化クロム−酢酸によ
って酸化して相当するギ酸エステルに導いた後、これを
加水分解してフェノールを得る方法またはヨウ化水素酸
もしくは臭化水素酸と加熱する方法などがある。

（第７エ程） 本工程は、化合物りのヒドロキシを保護するために、ハ
ロゲン化アルキルを用いて、塩基存在下アルキル化し、
エーテルＬを得る工程である。

ハロゲン化アルキルとして、（２−トリメチルシリル）
エトキシメチルクロリドまたは（２−トリメチルシリル
）エトキシメチルプロミドなどを用いるとよい０反応は
、第１工程に従って行なうとよい。

（第８工程） 本工程ハ、スルホン酸エステルＬをフェノールリに変え
る工程である。

反応は求核試薬として、アルキルリチウム、例えばメチ
ルリチウム、エチルリチウム、イソプロピルリチウム、
ｎ−ブチルリチウムなどまたはアルキルマグネシウムハ
ライド（グリニヤール試薬）、例えばメチルマグネシウ
ムプロミド、エチルマグネシウムプロミド、インプロピ
ルマグネシウムプロミド、ｎ−ブチルマグネシウムプロ
ミドなどを用い、エーテル系のジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなどの溶媒中、冷却下、数十分から数時
間反応させ、金属付加物を得たのち、水で分解すること
により行なうことができる。

（第９工程） 本工程は、化合物坐と化合物すを縮合させる工程である
。

反応は化合物二を、例えばトリフェニルホスフィンとア
ゾジカルボン醜ジエチルとの存在下に、酸性物質である
化合物籾と冷却下または室温で数十分から数日間反応さ
せることにより行なわれる。溶媒として、芳香族炭化水
素系のベンゼン、塩素化度化水素系のジクロロメタン、
クロロホルムまたはエーテル系のジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなど無水の溶媒を用いるとよい。

（第１０工程） 本工程は、化合物Ｕのヒドロキシ保護基を除去し、化合
物■を得る工程である。

反応は、通常シリル保護基を除去するときに用いられる
方法によればよく、例えばフッ化水素−ピリジンまたは
フッ化テトラブチルアンモニウムなどの試薬を用いて、
エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフランな
どの溶媒中、室温または加熱下、数時間から数日で行な
うことができる。化合物Ｕは、ヒドロキシ保護基が除去
されると自動的に閉環して、化合物１２となる。

（第１１工程） 本工程は、化合物婬のヒドロキシをアリル化し仁、化合
物口を得る工程である。

本工程は、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
）、第４１巻、４０７９頁〜４０９４頁、１９８５年記
載の方法により行なうことができる。

まず、化合物Ｂを炭素ラジカルに対する前駆体、例えば
チオアシル誘導体に変え、次に、得られた前駆体をアリ
ルスズ、例えばアリル−トリーｎ−ブチルスズとともに
光照射すればよい。

アシル化反応は、クロルチオノ炭酸フェニル、チオノ炭
酸ジイミダゾールまたは二硫化次素−ヨウ化メチルなど
を用いて、エーテル系のジエチルエーテル、テトラヒド
ロフランなどの溶媒中で行なうことができる。必要に応
じて、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなどの塩基
物質存在下反応を行なえばよい。

光照射反応は、アルゴン気流下、バイレックスフィルタ
ーを用いて、４５０Ｗ高圧水銀灯で数時間から数十時間
光照射することにより行なわれる。溶媒として、芳香族
炭化水素系のベンゼン、トルエンまたはエステル系の酢
酸エチルなどを単独または混合して用いるとよい。

（第１２工程） 本工程は、メチルエーテル暴を脱メチル化して、化合物
見を得る工程である。

試薬として、チオールのリチウムまたはナトリウムなど
の金属塩、例えば、リチウムメチルチオラート、ナトリ
ウムニブルチオラート、リチウムｎ−プロピルチオラー
ト、リチウムｎ−ブチルチオラートなどを用いるとよい
０反応は、非プロトン性の極性溶媒、例えばジメチルホ
ルムアミド、リン酸へキサメチルトリアミドまたはジメ
チルスルホキシドなどを用いて、数十分から数時間で行
なうことができる。

（以下余白） （第１３工程） 本工程は、化合物長を、ハロゲン化アルキルを用いて、
塩基存在下アルキル化し、化合物朋゛を得る工程である
。

反応に用いるハロゲン化アルキルとしては、臭化酢酸メ
チルまたはヨウ化酢酸メチルなどを挙げることができる
。

本工程は、第１工程に従って行なうとよい。

（第１４工程） 本工程は、化合鉤止のヒドロキシ保護基を除去し、化合
鉤止を得る工程である。

試薬は、ルイス酸とスルフィドまたはチオールを組み合
わせて用′いるとよい、ルイス酸としては、三フッ化ホ
ウ素−ジエデルエーテル錯体、塩化アルミニウムまたは
臭化アルミニウムなどを挙げることかできる。スルフィ
ドとして、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィドま
たはジフェニルスルフィドなどを、チオールとして、メ
タンチオール、エタンチオール、ベンゼンチオールなど
　　　　　゛を挙げることができる。反応は、−１０℃
から室温で、必要に応じて塩素化炭化水素系のジクロロ
メタン、クロロホルムなど存在下行なえばよい。

また別法として、酸触媒（例えば、塩酸、酢酸など）を
用いた加水分解反応によっても行なうことができる。

（第１５工程） 本工程は、化合物１７’、のヒドロキシを、以後の反応
条件から保護するために保護基を導入する工程である。

反応は、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド、
ｔａｒｔ−ブチルジフェニルシリルクロライド、トリメ
チルシリルクロライドなどを用い、トリエチルアミン、
ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール
などの塩基存在下、室温または加温下にて数時間から数
日間で達成することができる。用いる溶媒としては、芳
香族炭化水素系のベンゼン、トルエン、塩化炭化水素系
のクロロホルム、ジクロロメタンまたはジメチルホルム
アミドなどを挙げることができる。あるいは反応は、ｐ
−トルエンスルホンＬｐ−トルエンスルホン酸・ピリジ
ニウム塩、アンバーリスト１５［ローム・アンド１１　
／”ｌ−ス社（Ｒｏｈｍ　＆　Ｈａａｓ　Ｃｏ、　）］
などの酸性触媒の存在下、ジヒドロビランと室温下に処
理して達成することができる。用いる溶媒としては、エ
ーテル系のジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、炭
化水素系のヘキサン、芳香族炭化水素系のベンゼン、ト
ルエンまたは塩化炭化水素系のクロロホルム、ジクロロ
メタンなどヲ挙ケることができる。

（第１６エ程） 本工程は、化合鉤止を二重結合の転位を伴うハロゲン化
反応に付し、化合拘止を得る工程である。

本工程は、テトラヘドロン・レターズ （１’ｅｔｒａｈｅｄｏｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　）、
第４４巻、３９０９頁〜３９１２頁、１９７７年記載の
方法に従って行なうとよい。

化合物１８’を、フェニルセレネニルクロライドまたは
ブロマイドと共に、四塩化炭素中で冷却下数十分間反応
させ、アンチーマルコフニコフ付加体（ａｎｔｉ−Ｍａ
ｒｋｏｖｎｉｋｏｖ　ａｄｄｕｃ１，ａ　）を得る。得
られた付加体をピリジンを含む過酸化水素水を用いて、
冷却下ないし室温にて、数時間酸化することにより化合
鉤止を得ることができる。

（第１７エ程） 本工程は、化合拘止に対しカルボン酸塩による置換反応
を行って化合物庄を得る工程である。

カルボン酸塩としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、クロ
ロ酢酸、メトキシ酢酸、フェノキシ酢酸または安息香酸
などのナトリウムまたはセシウム塩を挙げることができ
る。

反応は、非極性溶媒の芳香族炭化水素系のベンゼン、ト
ルエンまたは極性溶媒のジメチルホルムアミド、リン酸
へキサメチルトリアミドまたはジメチルスルホキシドな
どの溶媒中、数時間から数十時間加熱するとよい、非極
性溶媒を用いるときは、反応を促進させるために、クラ
ウンエーテル様の有機層−水層移動触媒、例えば１８−
クラウン−６を加えてもよい。

（第１８工程） 本工程は、エステル２０゛を加水分解してアルコール正
を得る工程である。

反応は、エステルの加水分解の常法に従って行なうとよ
い、必要に応じて触媒として、酸（例えば、塩徴、硫酸
など）または塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化バリウムなど）を用いてもよい、溶媒として、
アルコール系のメタノール、エタノール、塩素化炭化水
素系のジクロロメタン、クロロホルムまたは水などを必
要に応じて混合して用いるとよい。

加水分解反応で、メチルエステルが一部カルボン酸に加
水分解された場合には、ジアゾメタンなどを用いてエス
テル化するとよい。

（第１９工程） 本工程は、アルコール止をアルデヒドＬに酸化する工程
である。

反応は酸化剤として、クロム酸系の酸化剤、例えばコリ
ンズ試薬、ピリジニウム・クロロクロメートもしくはピ
リジニウム・ジクロメートなどを用いる方法、または酸
化剤としてジメチルスルホキシドと塩化オキサリノ呟塩
化スルフリルもしくはピリジン三酸化イオウをトリエチ
ルアミン、４−ジメデルアミノピリジンなどの塩基と共
に組み合わせる方法によればよい。反応は試薬の性質に
応じて、芳香族炭化水素系のベンゼン、塩素化炭化水素
系のクロロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のジエ
チルエーテルまたはアセトンなどの溶媒中で冷却から加
温下で数十分から数時間で達成できる。

（第２０工程） 本工程は、化合物庄を酸化して、グリコール生を得る工
程である。

酸化剤として、アルカリ性過マンガン酸カリウム水溶液
または四酸化オスミウムなどを用いるとよい。酸化剤に
アルカリ性過マンガン酸カリウム水溶液を用いる場合に
は、硫酸マグネシウムなどを加えるとよい。酸化剤に四
酸化オスミウムを用いる場合には、ピリジンなどのアミ
ン類を加えて環状オスミウムエステルの生成を促進させ
、これを亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウムなど
により処理するとよい。これらの反応に用いる溶媒とし
ては、アルコール系のメタノール、エタノール、プロパ
ツール、ｔｅｒｔ−ブタノールなど、エーテル系のジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、
芳香族炭化水素系のベンゼンなど、塩素化炭化水素系の
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素またはアセ
トン、酢酸エチルなどを試薬の性質に応じて用いるとよ
い。反応は、室温で数時間から数日間で行なうことがで
きる。

（第２１工程） 本工程は、グリフール１を開裂させてアルデヒド庄を得
る工程である。

酸化剤として、例えば過ヨウ素酸塩（過ヨウ素酸ナトリ
ウムまたは過ヨウ素酸カリウム）または四酢酸鉛などを
用いるとよい、酸化剤として、過ヨウ素酸塩を用いる場
合には、溶媒としてアルコール系のメタノール、エタノ
ールなどまたはエーテル系のジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどの有機溶媒と水との混合
溶媒を用いる。酸化剤として、四酢酸鉛を用いる場合に
は、芳香族炭化水素系のベンゼンなどの溶媒を用い、必
要に応じて、触媒としてトリクロロ酢酸などの酸を加え
るとよい。反応は室温で、数十分から数時間で行なうこ
とができる。

（第２２工程） 本工程は、アルデヒド２３’、をホスホン酸エステルと
反応させて不飽和ケトンｌを得る工程である。

反応は、塩基として、水素化ナトリウム、ナトリウムア
ミドなどの塩基を用い、１．２−ジメトキシエタンまた
はテトラヒドロフランなどの溶媒中、ホーナー−ワズワ
ースーエモンス （Ｈｏｒｎｅｒ−Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ−Ｅｍｍｏｎｓ　
）反応に従って行なうとよい。

本反応で用いるホスホン酸エステルとしては、縮合させ
たい側鎖を有するもの、即ち、２−オキソヘプチルホス
ホン酸ジメチル、２−才キソー３−メチルへブチルホス
ホン酸ジメチル、２−オキソ−３，３−ジメチルへブチ
ルホスホン酸ジメチル、２−オキソ−４−メチルオクチ
ルホスホン酸ジメデル、２−才キソー４．８−ジメチル
−７−ラネニルホスホン酸ジメチル、２−才キソー３−
メチル−５−へブチニルホスホン酸ジメチル、２−才キ
ソー５−オクチニルホスホン酸ジメチル、２−才キソー
２−シクロペンチルエチルホスホン酸ジメチルエステル
、２−才キソー２−シクロヘキシルエチルホスホン酸ジ
メチルエステル、２−才キソー３−シクロヘキシルプロ
ピルホスホン酸ジメデルエステル、２−オキソ−４−フ
ェノキシペンチルホスホン酸ジメチルエステル、（Ｓ）
−（−）−２−才キソー４−メチル−７−オタテニルホ
スホン酸ジメチルエステル、２−オキソ−４二（フェノ
キシメチＪし）ペンチルホスホン酸ジメチルエステルま
たは２−オキソ−４−（フェニルセレニルメチル）オク
チルホスホン酸ジメチルエステルなどを挙げることがで
きる。

例えば、２−オキソ−４−フェノキシペンチルホスホン
酸ジメチルは以下のように製造できる。

まず、１位のヒドロキシが保護されている１゜３−ブタ
ンジオールを、第９工程の方法に従ってフェノール、ト
リフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸ジエチル
と反応させ、対応する３−０−フェノールエステルにす
る。つぎに、１位のヒドロキシ保護基を除去し、得られ
たアルコールをり【Ｊム酸系酸化剤（例えば、ジョーン
ズ試薬）などでカルボン酸に酸化し、エステル化すると
よい。得られたエステルを、メチルホスホン酸ジメチル
と塩基物質より得られるアニオンと処理することにより
目的化合物を得ることができる。

２〜オキソ−４−メチル−７−オタテニルホスホン酸ジ
メチルは以下のように製造できる。

シトロネロールをクロル酸系酸化剤（例えば、ジョーン
ズ試薬）で酸化してカルボン酸とし、引き続いてエステ
ル化し、シトロネル酸エステルを得る。次に、二重結合
を第４工程記載の方法に従い、過酸化物を用いてエポキ
シ化し、さらに過ヨウ素酸塩で酸化的に開裂させアルデ
ヒドを得る。

このアルデヒドを、臭化トリメチルホスホニウムと塩基
物質を用いてウィツテイヒ反応に付し、オレフィンを得
る。このようにして得られた化合物を、塩基物質存在下
、メチルホスホン酸ジメチルと縮合させ目的化合物を得
ることができる。出発化合物として（Ｓ）−（−）−シ
トロネロールなどの光学活性体を用い、同様に反応を行
なうと、（Ｓ）−２−才キソー４−メチル−７−オタテ
ニルホスホン酸ジメチルなどの光学活性体を得ることが
できる。

２−オキジー４−（フェノキシメチル）ペンチルホスホ
ン酸ジメチルは、上記と同様の方法により、４−フェノ
キシ−３−メチルブタン酸とメチルホスホン酸ジメチル
とを、塩基物質存在下縮合させることにより得ることが
できる。

２−才キソー４−（フェニルセレニルメチル）オクチル
ホスホン酸ジメチルは以下のようにして得ることができ
る。

２（５Ｈ）−フラノンを塩化トリメチルシリル存在下ジ
ーｎ−ブチル銅リチウム（臭化第１銅−ジメチルスルフ
ィド錯体およびｎ−ブチルリチウムより調整）を用いて
アルキル化する０次に、ラクトン環を、ジフェニルセレ
ニドを乾燥ジメチルホルムアミド中水素化ホウ素ナトリ
ウムで還元することにより得られたフェニルセレン酸ナ
トリウムで開環し、カルボン酸を得、エステル化する。

得られたエステルを塩基存在下、メチルホスホン酸ジメ
チルと縮合させることにより目的化合物を得ることがで
きる。

反応工程式中、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ１およびＡは、特に限定
しない限り前記と同義である。

Ｒ４はメタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなど
の置換スルホニルを意味する。

Ｒ８は（メチルチオ）チオカルボニル、１−イミダゾリ
ルチオカルボニル、フェノキシチオカルボニルなどのチ
オアシルを意味する。

Ｒ６は、アセチル、トリフルオロアセチル、クロロアセ
チル、メトキシアセチル、フェノキシアセチルなどのア
ルカノイルまたはベンゾイルなどのアロイルを意味する
。

Ｈａｌは塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲンを意味
する。

ＳＥＭは（２−トリメチルシリル）エトキシメチル、Ｔ
ＭＳは２−トリメチルシリル、Ｐｈはフェニルをそれぞ
れ表わす。

以下に参考例、実施例および物理恒数を示し、さらに詳
し〈発明の態様を明らかにするが、本発明の範囲がこれ
らに限定されるものではない。

以下の参考例および実施例において、それぞれの化合物
は、それぞれの段階において、一方の鏡像異性体で表わ
されている。化合物の相対配置または絶対配置は、それ
ぞれ化合物名のＲ，ＳまたはＲ９、Ｓ８表示によって示
されている。

波線は、αもしくはβ配置またはそれらの混合物を表わ
す。

（以下余白） 参考例−１ ，（３旦“、４旦１）−４−メトキシメトキシ−３−フ
ェニルチオ−１−シクロペンテン主の製造アルコール１
　　Ｂ５．０［Ｃ（０，４４３モル）とジイソプロピル
エチルアミン　１０９ｍ１（０，６２６モル）を乾燥ジ
クロロメタン５００ｍ１に溶解し、水冷下、メトキンメ
チルクロリド３ｇ、０ｍ１（０，５００モル）のジクｏ
ｏメタン１００ｍ１溶液を滴下する。滴下終了後、室温
に戻し、更に２３時間攪拌する。反応液を、水冷したＩ
Ｎ塩酸１５０ｍ１にあけ、ジクロロメタンで２回抽出す
る。抽出液を、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で各１回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する０ｇ圧下溶媒を留去した後、減圧蒸留し、目的とす
る又を９１１Ｌ、６ｇ（収率９４．３％）油状物質とし
て得る。

・沸点９８〜１００℃（０，０３ｍｍＨｇ）・’Ｈ−Ｎ
ＭＲ：　８　（ＣＤＣ１，）　２．３３　（１Ｈ，ｍ）
、　２．６７　（１Ｈ。

ｍ）、　３．２３　（３１（、ｓ）、　４．１１〜４．
２３・（１Ｈ，ｍ）、　４．２３−４．４０（１Ｈ，ｍ
）、　４．５０　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ＞、　４．５
２　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ：９Ｈｚ）、　５．６４〜５．９３　（２Ｈ，ｍ）、
　７．１３〜７．５１　（５Ｈ，ｍ）ｐｐｍ・ −ＩＲ，νｍａｘ（ＣＨＣＩｓ）　３０６４．３００４
．２９５２．２ｇ２８゜１５８５、１４８２．１４３９
．１１４８．１０９８．１０３７゜！０５　ａｍ−’。

−ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　２３６、 参考例−２ （３Ｒ”、４Ｒ”）−４−メトキシメトキシ−３−フェ
ニルスルフェニル−１−シクロペンテン主　の製造 窒素気流下、スルフィド又（参考例−１）９８．６ｇ（
０，４１８モル）の乾燥ジクロロメタン１！溶液に、−
６０〜−７０°Ｃに於いて、８５％ｍ−クロロ過安息香
酸１０８ｇ（０，５０２モル）の乾燥ジクロロメタン１
．４に溶液を１．５時間かけて滴下する。滴下終了後、
同温にて更に２０分間攪拌する０反応液に、ジメチルス
ルフィド９．２ｍ１（０，１２５モル）を加え、反応を
停止する。反応液を濾過し、濾液は減圧下溶媒を留去す
る。残渣をエーテル１．２！に溶解し、ＩＮ−水酸化ナ
トリウム水溶液、水、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去して、目的とするスルホキシド　ユ　の粗生成
物を１０６ｇ油状物質として得る。このものは精製する
事なく次の反応に用いる。

（以下余白） 参考例−３ （ＩＲ”、４Ｒ”）−４−メトキシメトキシ−２−シク
ロペンテン−１−オール　４　の製造窒素気流下、スル
ホキシド且（参考例−２）の粗生成物１０６ｇ及びトリ
フェニルホスフィン１６５区（０，６２３モル）をトル
エン１り、メタノール３００ｍ１の混合溶媒に溶解し、
６０℃に於いて、４０時間攪拌する。減圧下溶媒を留去
した後、残渣をエーテル３００ｍ１に溶解し、水冷下ｎ
−ペンタン３００ｍ１を滴下する。析出した結晶を濾過
した後、濾液は、減圧上濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー精製（シリカゲル６　Ｑ　Ｑ　ｇｘ酢酸
エテル；ベンゼン−〇；１〜１：０）を行い、更に減圧
蒸留して、目的とするアルコール↓を　４８．３ｇ（２
工程通算収率ａ　ｏ　、　２９と）油状物質として得る
。

・沸点８０−８１℃（ｂｎｍＨｇ） −’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣＩｓ）　１．７０〜２．３
５　（３Ｈ９ｍ）、３．３５（３Ｈ，ｓ）、　４．６５
　（２Ｈ，ｓ）、　４．７７〜５．２０　（２Ｈ，ｍ＞
、　５．９４〜６．１３　（２Ｈ，ｍ＞　ｐｐｍ。

・ＩＲニジｍａｘ（ＣＨＣＩｓ　）　３６０８．３００
４．２９４４．２８９２゜１３６０、１１４８．１０９
７．１０３３．９１４　ｃｒｎ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　（Ｍ−１戸１４３゜参考例−４ （１旦“、２旦０．３互１．４旦”）−２，３−エポキ
シ−４−メトキシメトキシ−１−シクロペンタノール　
旦　の製造 オレフィンｉ（参考例−３）２７．０ｇ（０，１８８モ
ル）を乾燥ジクロロメタン４００ｍ１に溶解し、室温に
於いて、８０％ｍ−クロロ過安息香酸　４８．５ｇ（０
，２２５モル）を加え、終夜＃５Ｉ！坪を行う、ドライ
アイス−アセトン浴で冷却した反応液にジメチルスルフ
ィド４．１ｍ１（０，０５６モル）を加え、同温にて更
に１０分間攪拌する０反応液を濾過し、濾液は、アルミ
ナ（グレードＩｆ）１５０ｇで更に濾過する。アルミナ
をエーテル１．８１で洗浄し、濾液及び洗浄液を合わせ
、減圧下濃縮する。残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー精製（シリカゲル４５０ｇ１酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン寓１：２〜１：１）して、目的とするエポキ
シド互を２５．９ｇ（収率８６．３％）油状物質として
得る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤＣＩｓ）　１．４５　（
ＬＨ，ｄｄｄ、Ｊ＝６Ｈｚ。

８Ｈｚ、　１５Ｈｚ）、　２．０７　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ
＝８）１ｚ、　１５Ｈｚ＞、　２．２７（１Ｈ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ、−Ｏｊ％）、　３．３７　（３Ｈ，ｓ）、　
３．４９〜３．６０（２Ｈ，ｍ）、　４．２５　（１）
１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　４．３７〜４．６０　（１Ｈ
，ｍ）。

４．６４　（２Ｈ，ｓ）　ｐｌ）ｍ。

・ＩＲ：　Ｌ／ｍａＸ（ＣＨＣｌｍ）　３５ｇ８．３０
０４．２９５２．２８９６゜１３９７、１１５０．１１
０２．１０４２．９１５．８６９　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　（Ｍ−１）”　　１５９゜参考例
−５ ２−メタンスルホニルオキシ−１，３−ジメトキシベン
ゼン　ヱ　の製造 窒素気流下、６０％水素化ナトリウム２３．３ｇ（０，
５８３モル）のジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと
略す）４００ｍｌ懸濁液に、水冷下、２．６−シメトキ
シフエノール［アルドリッチ製（Ａｌｄｒｉｃｈ）］旦
、７５ｇ（０，４８６モル）のＤＭＦ１３０ｍｌ溶液を
、３０分間で滴下する０滴下終了後、２５分間攪拌を続
けた後、メタンスルホニルクロリド　５４．３ｍ１（０
，６８０モル）のＤＭＦ１３０ｎ＋１溶液を滴下し、更
に同温にて３０分間攪拌する。氷水１．８１に反応液を
あけ、ベンゼンで２回抽出する。抽出液は、ＩＮ水酸化
ナトリウム水溶液、水、飽和塩化アンモニウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶
媒を留去して、目的とするスルホン酸エステルヱの粗結
晶を、１１２ｇ得る。このものは精製することなく次の
反応に用いる。

参考例−６ ２−メタンスルホニルオキシ−３−メトキシフェノール
　互　の製造 窒素気流下、メチルエーテルヱ（参考例−５）の粗結晶
１１２ｇのジクロロメタン１り溶液に、−６０〜−７０
℃に於いて、三臭化ホウ素１２５ｇ（０，５００モル）
のジクロロメタン５００ｍ１溶液を滴下する０滴下終了
後、−４０℃まで昇温し、同温にて４０分間攪拌する１
反応液を水１．５２にあけ、ジクロロメタンで２回抽出
する。抽出液は、希炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留
去して、目的とするフェノール互の粗結晶を９４ｇ得る
。ベンゼンより再結晶し、融点１０５〜１０６℃の旦　
８０．Ｏｇ（２工程通算収率７５．５％）を得る。

・融点１０５〜１０６℃（ベンゼン） ・’Ｈ−ＮＭＲ：　８　（ＣＤＣＩｓ）　３．２６　（
３）１．ｓ）、　３．６４　（３Ｈ。

ｓ）、　５．９５　（１Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　６．５３　
（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝２Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．６４　（１１，ｄｄ、Ｊ＝２）１ｚ、　８Ｈｚ）、
　７．０９　（１Ｈ，１，Ｊ＝８Ｈｚ）ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＩＣ１，）　３５６８．３４７
２．１６０９．１４９７゜１４８３、１３７１．１３４
４．１１４６．１０９２．９７３．８６９　ａｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　２１ｇ。

（以下余白） 参考例−７ ２−メタンスルホニルオキシ−１−メトキシ−３−［［
（２−トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベンゼ
ン　且　の製造 窒素気流下、フェノール！（参考例−６）２５．０ｇ（
０，１１５モル）及びジイソプロピルエチルアミン２９
．３ｍ１（０，１７３モル）のジクロロメタン４００ｍ
１溶液に、水冷下、（２−トリメチルシリル）エトキシ
メチル　クロリド（ＳＥＭ−ＣＩ）２５．０ｍ１（０，
１４１モル）のジクロロメタン１２５ｍ１溶液を滴下す
る０滴下終了後、室温に戻し、３時間攪拌した後、乾燥
メタノール４５ｍ１（１、１１モル）を加え、更に終夜
攪拌する。反応液は、ＩＮ塩酸、水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。Ｗ＆圧下溶媒を留去して、目的とする
エーテル且の粗生成物を４４ｇ油状物質として得る。こ
のものは精製する事なく次の反応に用いる。

参考例−８ ２−メトキシ−６−［［（２−トリメチルシリル）エト
キシコメトキシ］フェノール−Ｌ」−の製造窒素気流下
、メタンスルホン酸エステル且（参考例−７）の粗生成
物４４ｇの乾燥エーテル７５０ｍ１溶液に、−６０〜−
７０℃に於いてｎ−ブチルリチウム（１，６Ｎ、ｎ−ヘ
キサン溶液）１３０ｍｌ（０，２０７モル）を滴下する
０滴下終了後、同温にて２０分間攪拌し、反応液を低温
の“まま、飽和塩化アンモニウム水溶液１．５Ｐに注ぎ
、反応を停止する。エーテルで２回抽出し、抽出液は水
、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下、溶媒を留去した残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー精製（シリカゲル　７００ｇ、酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン−１：　９）して、目的とするフ
ェノール−１０−を２９．７ｇ（２工程通算収率９５．
７％）油状物質として得る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　８　（ＣＤＣＩｇ）　０．０　（９
Ｈ，ｓ）、０．９４　（２Ｈ。

ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　９Ｈｚ）、　３．７８　（２Ｈ，
ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　９Ｈｚ＞。

３．７４　（３Ｈ，ｓ）、　５．２１　（２Ｈ，ｓ）、
　５．８３　（ＬＨ，ｂｒ、ｓ）。

６．５０〜６．８０　（３Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌｍ＞　３５４４．２９６
０．１６１９．１５０５゜１４８１、　１０７５．　１
００３．８６０，８３７　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　２７０゜参考例−９ １−［［：（ＩＲ”、２Ｓ”、３旦−１４互”）−２゜
３−エポキシ−４−メトキシメトキシ−１−シクロペン
チルコオキシ］−２−メトキシ−６−［（２−トリメチ
ルシリルエトキシ）メトキシ］ベンゼン　１１　の製造 （以下余白） Ｃし・ ＋ ンゾ□ Ｏ） し＼〆　旦 窒素気流下、フェノール１旦（参考例−８）３９．３ｇ
（０，１４６モル）、アルコール互（参考例−４）２５
．８ｇ（０，１６１モル）及びトリフェニルホスフィン
４９．ｓｇ（ｏ、ｔｓ９モル）の乾燥テトラヒドロフラ
ン（以下、ＴＨＦと略す。）７５０ｍｌ溶液に、水冷下
、アゾジカルボン酸ジエチル２５．２ｍ１（０，１６０
モル）を徐々に滴下する。滴下終了後室温に戻し、３日
間攪拌の後、トリフェニルホスフィン１１．４ｇ（０，
０４４モル）及びアゾジカルボン酸ジエチル６．９ｍ１
（０，０４４モル）を追加し、更に２日間攪拌する。減
圧下、溶媒を留去した反応液残渣に、エーテル５００ｍ
１を加え、ドライアイス−アセトン浴で冷却する。析出
した結晶を濾別し、濾液を、減圧濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー精製（シリカゲル　１．５ｋｇ
、酢酸エチル：ベンゼン−１；５０〜１　：　９）Ｌ、
て、目的とするエポキシエーテル１１を５１．８ｇ（収
率８６．２％、化合物−１０，より）油状物質として得
る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　ｆ；　（ＣＤＣ１，）　０．０　（
９Ｈ，ｓ）、　０．９２　（２Ｈ。

ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　９Ｈｚ＞、　１．７６〜２．３３
　（２Ｈ，ｍ）、　３．４１　（３Ｈ。

ｓ）、　３．８０　（３Ｈ，ｓ）、　３．６５〜３．９
０　（４Ｈ，ｍ）、　４．２６　（１８゜ｄ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、　４．５０　（１Ｈ，ｄＪ＝６Ｈｚ＞、　４．７
３　＜２Ｈ，ｓ）。

５．２０　　（２Ｈ，ｓ）、　　６゜５７　（ＬＨ，ｄ
ｄ、Ｊ：２Ｈｚ、　　８Ｈｚ）、　　６．７６（１Ｈ，
ｄｄ、に２Ｈｚ、　　８Ｈｚ）、　　６．９６　（１１
，１，Ｊ＝８Ｈｚ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　　νｍａｘ（ＣＨＣｌａ）３００４，２９６
０．２８９６，２８４０゜１５９８、　１４９０．　１
４７６、　１２４９．　１１０８．　１０７３．　１０
１２゜８５９、　８４７．　８３７　ａｍ−’。

ａ　ＭＳ：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　４１２゜参考例−１０ （１旦”、２Ｓ”、３ａ旦”、９　ａ　Ｓ”）　−５−
メトキシ−２−メトキシメトキシ−２，３，３ａ、９ａ
−テトラヒドロ−１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］
ベンゾジオキシン−１−オール　Ｕの製造 （以下余白） ン＼〆　　旦 窒素気流下、エポキシド上１（参考例−９）５１．８ｇ
（０，１２５モル）の乾燥ＴＨＦ１９０ｍｌ溶液に、フ
ッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（ＬＭ、Ｔｆ（Ｆ
溶液）２５１ｍｌ（０，２５０モル）を加え、５５℃で
３日間攪拌する６反応液を水にあけ、酢酸エチルで２回
抽出する。抽出液は、水、飽和塩化アンモニウム水溶液
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶
媒を留去した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー精製（シリカゲル７００ｇ、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン−１：２〜１：１）Ｌ、更にエーテル−ｎ−ヘキサ
ン混合溶媒より結晶化を行って、目的とするペンゾジオ
キシンエ１を３１．７ｇ（収率８９．６％）得る。

・融点６９．０〜７０．０℃（エーテル−ｎ−ヘキサン
）・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤＣＩｓ＞　２．１３　
（１Ｈ，ｄｄｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ。

６Ｈｚ、　１５Ｈｚ）、　２．６２　（１Ｈ，ｄｄｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ、　１ＯＨｚ、　１５Ｈｚ）。

３．３７　（３Ｈ，ｓ）、　３．８３　、（３Ｈ，ｓ）
、　３．５０〜３．９５　（２Ｈ，ｍ）。

４．０５〜４．４１　（３１１）、　４．６７　（２Ｈ
，ｓ）、　６．４７　（１）１．ｄｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　６．５７　（１Ｈ，ｄｄ、
Ｊ＝２Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　６．８０（ＬＨ，１，Ｊ＝
８Ｈｚ）　　ｐｐｍ、。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣＩｓ）　３４７６、３００
４．２９５２．２８９６゜２８４４、１６０３．１４９
９．１４７５．１２ｇ０．１１１０゜１０８２　ａｍ−
’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　２８２゜ （以下余白） 参考例−１１ （ＩＲ”、２Ｓ”、３ａＲ”、９ａＲ”）−５−メトキ
シ−２−メトキシメトキシ−１−［：［（フェノキシ）
チオカルボニル］オキシ］−２，３゜３ａ、９ａ−テト
ラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾ
ジオキシン　１３　の製造レヘヅ′　旦 窒素気流下、アルコール上１（参考例−１０）１５、Ｏ
ｇ（５３，２ミリモル）の乾燥ＴＨＦ１５０ｍｌ溶液に
、−６０〜−７０℃に於いて、ｎ−ブチルリチウム（１
，６Ｎｎ−ヘキサン溶液）３６．６ｍ１（５８，６ミリ
モル）を滴下する０滴下終了後、２０分間攪拌し、クロ
ロチオノ炭酸フェニル８．８２ｍ１（６３，９ミリモル
）を加え、同温にて更に２０分間攪拌する。３０分間か
けて０°Ｃまで昇温し、同温にて更に１時間攪拌した後
、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止する６
反応液を酢酸エチルで２回抽出し、抽出液は、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。

減圧下溶媒留去した残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー精製（シリカゲル４００ｇ、酢酸ニブル：ｎ
−ヘキサン麿１：５〜１：２）して、目的とするチオノ
羨厳エステル１３を２０゜４ｇ（収率９１．９％）結晶
として得る。

・融点１００〜１０２℃（ベンゼン−ｎ−ヘキサン）・
’Ｈ−ＮＭＲｓ　Ｓ　（ＣＤＣＩｇ）　２．１７　（１
Ｈ，ｄ１，Ｊ＝７Ｈｚ。

１５Ｈｚ）、　２．６６　（１）１．ｄｄｄ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ、　８Ｈｚ、　１５Ｈｚ）、　３．３３（３Ｈ，ｓ）
、　３．８５　（３Ｈ，ｓ）、　４．１４〜４．７５　
（５１（、ｍ）、　５．８２（１Ｈ，１，Ｊ＝４Ｈｚ＞
、　６．４３〜６．８８　（３Ｈ，ｍ）、　７．０３〜
７．５２（５Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ− −ＩＲ：しｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３００８．　２９５
６．　１６０３．　１５００゜１４９２．　１４７７、
　１２９０．　１１８９．　１１１１．　１０３９　ｃ
ｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　４１ｇ。

参考例−１２ （１旦”、２Ｓ”、３ａ旦１，９ａ互”）−５−メトキ
シ−２−メトキシメトキシ−１−（２−プロペニル）　
−２＋　３．３　ａ　＋　９　ａ−テトラヒドロ−１旦
−シクロペンタ［ｂ］［１，４１ベンゾジオキシン　↓
ま　の製造 チオノ炭酸エステル（参考例−１１）上ユ、ｚｏ、４４
ｇ（４ｇ、９ミリモル）と、アリル−トリーｎ−ブチル
錫４８．９ｇ（１４８ミリモル）を乾燥ベンゼン４００
ｍ１に溶解し、アルゴンを１時間通じ、完全に脱気を行
う、アルゴン気流下、バイレックスフィルターを通して
４５０Ｗ高圧水銀灯で１０時間光照射を行う。反応液を
、減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー精製［１）シリカゲル６００ｇ、酢酸エチル：Ｑ−
ヘキサン−１：５〜１：３．２）シリカゲル７００ｇ、
酢酸エチル：ジクロロメタン−１＋３：９７］ｕて、目
的とするオレフィン上１を１１　、２ｇ（収率７４．８
％）結晶として得る。

・融点４８．５〜４９．５℃（ｎ−ペンタン）　　　　
−−’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣＩｓ）　１．９３”２．
５７　（５１，ｍ）、　３．３３（３Ｈ，ｓ）、　３．
８５　（３Ｈ，ｓ）、　３．７２〜４．２３　（２Ｈ，
ｍ）、　４．２６〜４．４５　（１Ｈ，ｍ）、　４．５
９　（２Ｈ，ｍ）、　４．９８〜５．３０　（２Ｈ，ｍ
）。

５．６０〜６．１３　（１Ｈ，ｍ）、　６．４０〜６．
６５　（２Ｈ，ｍ）、　６．７８（ＬＨ，１，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣＩｓ）　３００８．２９４
８．２８４４．１６４２゜１６０３、　１４９９．１４
７７．１２８２．　１２５４．１１（１７，１０３７゜
９１８　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　３０６゜（以下余白） 参考例−１３ （Ｉ　Ｒ”、２　Ｓ”、３ａＲ”、９ａＳ”）−２−メ
トキシメトキシ−１−（２−プロペニル）−２。

３．３ａ、９ａ−テトラしドロー１Ｈ−シクロペンタ［
ｂ］［１，４１ベンゾジオキシン−５−オール　上１　
の製造 窒素気流下、ｎ−ブチルメルカプタン５．２５ｍ１（４
９ミリモル）のリン酸へキサメチルトリアミド（以下Ｈ
ＭＰＡと略す、）３０ｍｌ溶液に、水冷下、ｎ−ブチル
リチウム（１，５８Ｎｎ−ヘキサン溶液）３０ｍｌ（４
７ミリモル）を滴下する。

滴下終了後室温に戻し、減圧下ｎ−ヘキサンを留去する
０反応液に、メチルエーテル上ま（参考例−ｘ２）６．
ＯＯｇ（１９，６ミリモル）のＨＭＰＡ２０ｍｌ溶液を
加え、１００℃に於て、３０分間ＪＷ拌を行う０反応液
に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで
３回抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮した残渣を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（シリカゲル
１５０ｇ、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−１：３）Ｌ、て
、目的とするフェノール１５を５．６４ｇ（収率９８．
５％）油状物質として得る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤＣＩｓ）　１．９０＝２
．５６　（５Ｈ，ｍ）、３．３３（３１，ｓ）、　３．
７２〜４．３６　（３Ｈ，ｍ＞、　４．５７　（２Ｈ，
ｍ＞、　４．９６〜５．２６　　（２）１．ｍ）、　　
５．４３　　（１）１．ｂｒ、ｓ）、　　５．６２〜６
．１１　　（ｉｌｌ。

ｍ＞、　　６．３８〜６．５７　（２Ｈ，ｍ）、　　６
．７２　（ＬＨ，１，Ｊ＝８Ｈｚ＞　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３５５２．３００
８．２９４８．１６４２゜１６１０、１４９９．１４８
７．１２７２．１０９０．１０４０゜９１７　ｃｍ−’
。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　２９２゜ 参考例−１４ Ｃ（Ｉ　Ｒ”、２　Ｓ”、３　ａ旦８，９ａ旦８）−２
−メトキシメトキシ−１−（２−プロペニル）−２゜３
．３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ
］［１，４］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸
メチル　上玉　　の製造窒素気流下、６０％水素化ナト
リウム８５０ｍ＠（２１，２ミリモル）の乾燥ジメトキ
シエタン（以下ＤＭＥと略す−）５０ｍｌ懸ン１液に、
水冷下、フェノール上玉（参考例−ｔａ）ｓ、ｓ４ｇ（
１９，３ミリモル）のＤＭＥ４０ｍｌ溶液を滴下する０
滴下終了後室温に戻し、２０分間攪拌を行い、臭化酢酸
メチル３．６５ｍ１（３８，６ミリモル）を加えた後、
終夜攪拌する０反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、酢酸エチルで３回抽出する。抽出液は、水、飽和
食塩水で洗浄後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー精製（シリカゲル１５０ｇ、酢酸エ
チル二〇−ヘキサン−１７２）して、目的とするメチル
エステル上玉を６．３２ｇ（収率８９．９％）結晶とし
て得る。

・融点６５．０〜６６、０℃（エーテル−Ｑ　−ヘキサ
ン）・’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣＩｓ　）　１．９４〜
２．５６　（５Ｈ，ｍ）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、　３
．７６　（３Ｈ，ｓ）、　３．７５〜４．４６　（３Ｈ
，ｍ）、　４．５８（２Ｈ，ｓ）、　４．６７　（２Ｈ
，ｓ）、　４．９１１１〜５．２７　（２Ｈ，ｍ）、　
５．５９〜６．１４　　（１）１．ｍ）、　　６．３５
〜６．８５　　（３Ｈ，ｎ＋）　　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３０１２．２９６
０．１７６４．１７４２゜１６４３、１６００．１４９
９．１４７６、１４４１．１２８７．１１２５゜１０３
７、９１７　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　３６４、 （以下余白） 参考例−１５ ［（１旦”、２Ｓ”、３ａ旦”、９ａＳ”）　　２−ヒ
ドロキシ−１−（２−プロペニル）−２，３，３ａ、９
ａ−テトラヒドロ−１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４
］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル　よ
ヱ　の製造 窒素気流下、メトキシメチルエーテル上玉（参考例−１
４）６．３２ｇ（１７，４ミリモル）及び、ジメチルス
ルフィド６．３８ｍ１（８６，８ミリモを）のジクロロ
メタン９５ｍ１溶液に、水冷下、三フッ化ホウ素−ジエ
チルエーテル錯体１０．９ｍ１（８６，’８ミリモル）
を滴下し、同温にて２時間攪拌する０反応液に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液６００ｍ１を加え、３０分間激し
く攪拌する。反応液をジクロロメタンで３回抽出し、抽
出液は、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮し
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（シ
リカゲル１５０ｇ、酢酸エチル；ｎ−ヘキサン寓１：２
〜１：１）して、目的とするアルコールエヱを５．２０
ｇ（収率９３．６％）結晶として得る。

・融点１０１〜１０２℃（エーテル） ・’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣＩｓ　）　１．９１〜２．
６０　（６Ｈ，ｍ）、　３．７６（３Ｈ，ｓ）、　３．
８４〜４．２０　（２Ｈ，ｍ）、　４．２２〜４．４３
　（１Ｈ，ｍ）。

４．６７　（２Ｈ，ｓ）、　４．９９〜５．２８　（２
Ｈ，ｍ）、　５．６５−６．１０（１Ｈ，ｍ＞、　６．
３６＝６．８６　（３Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３５９２．３０１
２．２９６０．１７６３゜１７４４、１６４２．１６０
０．１４９８．１４７６、１２８７．１２７１゜１１２
５　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　３２０゜ （以下余白） 参考例−１６ ［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ°、９＠Ｒ”）−２−を−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−（２−プロペニル
）−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１旦−シクロ
ペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−５−イル］
オキシ酢酸メチル　−１８，の製造 アルコールエユ（参考例−１５）のＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（以下ＤＭＦと略す、）６０ｍｌ溶液に、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノピリジン３．９７８（３２，５ミ
リモル）及びｔ−プチルジフェニルシリルクロリ）’６
．３４ｍ１（２４，４ミリモル）を加え、３日間室温で
攪拌する０反応液を水にあけ、酢酸エチルで３回抽出し
、抽出液は、ＩＮ−塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減ＦＥａ縮した残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー精製（メルク社ローバーカラム、サイズ
Ｃ（２本）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−１：　５）し
て、目的とするシリルエーテル上互を８．８２ｇ（収率
９７．１％）油状物質きして得る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　８　（ＣＤＣＩｎ）　１．０５　（
９Ｈ，ｓ）、１．８４〜２．５３（５Ｈ，ｍ）、　３．
７７　（３Ｈ，ｓ）、　３．８３〜４．０３　（２Ｈ，
ａ＋）、　４．１３〜４．３５　（１Ｈ，ｍ＞、　４．
６８　（２Ｈ，ｓ）、　４．７５〜５．０１　（２Ｈ，
ｍ）。

５．４１〜５．８８　（１Ｈ，ｍ）、　６．４０〜６．
８７　（３８，ｍ）、　７．３０〜７．５０　（６Ｈ，
ｍ）、　７．５８〜７．７８　（４Ｈ，ｍ）　Ｉ）ｐｍ
。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌｍ）　３０７６、　２９
６０．　２９３６．２８６４゜１７６４、　１７４２．
　１６４２．　１６００．　１４９８．　１４７６、　
１４２９゜１２８７．１１１５．９２０，８２１，８１
２　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　５５８゜参考例−１７ ［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ”、９ａＲ”）−２−を−
ブチルジフェニルシリルオキシー１−［（Ｅ）−３−ク
ロロ−１−プロペニル］−２，３，３ａ、、　９　ｍ−
テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂＥＥｌ、４］ベ
ンゾジオキシン−５−イルコオキシ酢酸メチル　上１　
の製造 （以下余白） ’ＢｕＰｈ、ＳｉＯ ユ色 ユＬ 窒素気流下、オレフィン上互（参考例−１６）８．８２
ｇ（１５，８ミリモル）の四塩化炭素７０ｍ１溶液に、
水冷下、フェニルセレネニルクロリド３．３２ｇ（１７
，４ミリモル）の四塩化炭素５０ｍ１溶液を４５分間で
滴下する１滴下終了後更に１５分間攪拌し、同温に於て
、ピリジン１．６６ｍ１（２０，５ミリモル）及び３０
％過酸化水素水２０ｍ１を加えて２０分間攪拌する。室
温に戻し、１時間３０分撹拌した後、反応液を水にあけ
、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液は、ＩＮ−塩
酸、水、希炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（メル
ク社ローバーカラム、サイズＣ（２本）、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン−１：　４）して、目的とするアリルクロ
リド上互を７．２０ｇ（収率７７．０％）結晶として得
る。

・融点：１２７〜１３０℃（エーテル）・’Ｈ−ＮＭＲ
：　８　（ＣＤＣＩｓ＞　１．０３　（９Ｈ，ｓ）、　
２．０４〜２．２３（２８，ｍ）、　２．９１　（ＬＨ
，ｄ１，Ｊ＝７Ｈｚ、　９Ｈｚ）、　３．７７　（３Ｈ
。

ｓ）、　３．８７〜４．２８　（５Ｈ，ｍ＞、　４．７
０　（２Ｈ，ｓ）、　５．４６　（１１゜ｄｄ、Ｊニア
Ｈｚ、　１６Ｈｚ）、　５．６８　（１８，ｄｄ、Ｊ＝
６Ｈｚ、　１６Ｈｚ）。

６．３９〜６．８６　（３Ｈ，ｍ）、　７．３０〜７．
５０　（６Ｈ，ｍ）、　７．５６〜７．７５　（４Ｈ，
ｍ）　ｐｐｍ。

・ＬＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣＩｍ）　３０１２．２９６
Ｇ、　２９３６．２ｇ６４゜１７６４、１７４４．１６
０１．１４９８．１４７６、１４２９．１２８９゜１１
１４、９６８．１２２．６１３　ａｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　５９２．５９４゜参考例−
１８ ［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ°、９ａ旦”）−１−［（
Ｅ）−３−アセトキシ−１−プロペニル］−２−ｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシ−２，３゜３ａ、９ａ−テ
トラヒドロ−１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベン
ゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル　主１　の
製造 ’ＢｕＰｈ２Ｓｉ♂ ユｌ ’ＢｕＰｈ２ＳｉＯ 坦 窒素気流下、アリルクロリドよ１（参考例−１７）５．
１０ｇ（８，６０ミリモル）のトルエン１５０ｍ１溶液
に、酢酸セシウム４．９５ｇ（２５，８ミリモル）及び
１８−クラウン−６２，２７ｇ（ｇ、ａｏミリモル）を
加え、２４時間加熱還流する。室温に戻した反応液に、
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで２回
抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去して、目
的とする酢酸エステル２０の粗結晶を得る。このものを
、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より２回再結晶を
行って、融点１３２〜１３４℃の（Ｅ）−酢酸エステル
ｌ旦を４．２６ｇ（収率８０．４％）得る。

・融点＝１３２〜１３４℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
） 争　’Ｈ−ＮＭＲ：　　８　（ＣＤＣ１ｍ）　　１．０
３　　（９Ｈ，ｓ）　、　２．０３　　（３Ｈ１ｓ）、
　２．０Ｏ〜２．２５　（２Ｈ，ｍ）、　２．７７〜３
．０６　（ＬＨ，＋ｎ）、　３．７６（３Ｈ，ｓ）、　
３．７８＝４．２８　（３Ｈ，ｍ）、　４．４４　（２
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞。

４．７２　（２Ｈ，ｓ）、　５．３３〜５゜８２　（２
Ｈ，ｍ）、　６．４０−６．８７（３Ｈ，ｍ＞、　　７
．３０〜７．４８　　（６Ｈ，ｍ）、　　７．５９〜７
．８０　　（４Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。

・ＬＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣＩｇ＞　　３０１２．　２
９６０．　２９３６．　２８６４゜１７６３．１７３８
．１６００．１４９８，１４７８．１２４０．１１１４
゜９６８．８２２，６９５．６１２　ｃｍ−’。

−ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　６１６゜（以下余白） 参考例−１９ ［（１旦０，２旦９，３ａ互０．９ａ旦”）−２−ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−ヒ
ドロキシ−１−プロペニル］−２、３。

３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］
［１，４］ベンゾジオキシン−５−イルコオキシ酢酸メ
チル　２１　　の製造 ”ＢｕＰｈ、Ｓｉ６ ’ＢｕＰｈ、Ｓｉ♂ 酢酸エステル　２０（参考例−１８）６．１２ｇ（９，
９２ミリモル）のジクロロメタン４０ｍ１、及びメタノ
ール４０ｍ１溶液に、炭酸カリウム１．６５ｇ（１１，
９ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌する０反応液に
ＩＮ−塩酸２６ｍ１（２６ミリモル）を加え、減圧下、
有機溶媒を留去後、飽和食塩水を加えて酢酸エチルで３
回抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残
渣には、メチルエステルかけん化されたカルボン酸が一
部含まれるため、以下のようにジアゾメタンで処理し、
メチルエステルへ戻す、上記得られた反応物をメタノー
ル１００ｍ１に溶解し、氷冷下、ジアゾメタンのエーテ
ル溶液を反応液が黄色を呈するまで加える０反応液を減
圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー精製（メルク社ローパーカラム、サイズＣ（２
本）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−１：１）して、目的
とするアリルアルコール１１を得る。このものを、エー
テル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より結晶化して、５．３５
ｇ（収率９３．７％）の結晶を得る。

・融点：１０２．５〜１０３．５℃（エーテル−ｎ−ヘ
キサン） −’Ｈ−ＮＭＲ、δ（ＣＤＣＩｓ）　１．０３　（９Ｈ
，ｓ）、　１．５１　（ＬＨ。

ｓ、−０Ｈ）、　２．０８〜２．２７　（２Ｈ，ｍ＞、
　２．７５−３．０６　（１）１．ｍ）。

３．７７　（３Ｈ，ｓ）、　３．８７〜４．３０　（５
Ｈ，ｍ）、　４．７１　（２８，ｓ）。

５．３８　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　１６Ｈｚ）、
　５．６６　（１Ｈ，ｔｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

１６Ｈｚ）、　６．３９＝６．８５　（３Ｈ，ｍ）、　
７．２９”７．４８　（６Ｈ，ｍ）。

７．５８〜７．８０　（４Ｈ劃）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３６１６．３０１
２．２９６０．２９３６゜２ｇ６４．１７６４．１７４
３．１６００．１４９８．１４７６、１４２９゜１２８
８、１１１３．９７１．８２２．６９６．６１２　ｃｍ
−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　５７４゜ （以下余白） 参考例−２０ ［（１旦１，２旦”、３ａＳ”、９ａ旦”）−２−ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−［（Ｅ）−３−才
キソー１−プロペニル］−２，３゜３ａ、９ａ−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂコ［１，４］ベンゾジ
オキシン−５−イル］−オキシ酢酸メチル　エ　の製造 ｔＢｕＰｈ２Ｓｉ♂ アリルアルコール２１（参考例−１９）３．３５ｇ（５
，８３ミリモル）のジクロロメタン７０ｍ１溶液に、ピ
リジニウムクロロクロメイト（ＦＣＣ）２．５１ｇ（１
１，６ミリモル）を加え、室温で３時間攪拌する。反応
液にエーテル１６０ｍ１を加え、２分間攪拌した後、フ
ロリジル３４ｇを用いて反応液を濾過する。フロリジル
は、エーテル５００ｍ１で洗浄し、濾液と、洗液を合わ
せ、減圧下溶媒を留去する。残渣を、エーテル−ｎ−ヘ
キサン混合溶媒より結晶化して、目的とするアルデヒド
エを３．１９ｇ（収率９５．６％）結晶として得る。

・融点：１０３．５〜１０４．８℃（エーテル−ｎ−ヘ
キサン） ・’Ｈ−ＮＭＲ：　８　（ＣＤＣＩｓ）　１．０３　（
９Ｈ，ｓ）、　２．２０〜２．３７（２Ｈ，ｍ）、　２
．９８〜３．３６　（１Ｈ，ｍ）、　３．７８　（３Ｈ
，ｓ）、　４．ｏｏ〜４．３０　（３Ｈ，ｍ）、　４．
７１　（２Ｈ，ｓ）、　６．１５　＜ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝
７Ｈｚ。

１６Ｈ２）、　６．３３　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、
　１６Ｈｚ）、　６．４０〜６．８５（３Ｈ，ｍ＞、　
７．２８〜７．４７　（６Ｈ，ｍ＞、　７．５３〜７．
７２　（４Ｈ，ｍ）。

９．２３　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　ｌ／ｍａｘ（ＣＨＣＩｍ）　３０１２．　２
９６０．　２９３６．　２８６４゜１７６４．１７４３
，１６９２，１６０１．１４９９，１４７６．１４２９
゜１２９０、　１１１３．９７４，８２３，６９７．６
１２　ａｍ−’。

・ＭＳ：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　５７２゜ 実施例−１ ［（１旦１．２旦”、３ａＳ”、９ａ旦”）−２−ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ”、ＩＥ
）−３−ヒドロキシ−１−オクテニル］−２，３，３ａ
、９ａ−テトラヒト０−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１
，４］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル
　Ｉａａ−ａ　　及び［（Ｉ　Ｒ”、２　Ｒ”Ｔ３　ａ
　Ｓ”、９　ａ旦”）−２−ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−１−［（３Ｒ”、ＩＥ）−３−ヒドロキシ−
１−オクテニル］−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒトｔ
ｆｆ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオ
キシン−５−イルコオキシ酢酸メチル　１ｅａ−ａ　　
の製造 （以下余白） 窒素気流下、アルデヒド　↓（参考例−２０）９６２ｍ
ｇ（１，６８ミリモル）の乾燥ＴＨＦ２０ｍ１溶液に、
−７８℃に於いて、ｎ−ペンチルマグネシウムプロミド
（１，ＩＮ、ＴＨＦ溶液）１．８３ｍ１（２，０１ミリ
モル）を滴下する０滴下終了後、同温にて更に１５分間
攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、反応
を停止する。反応液は、酢酸エチルで３回抽出し、抽出
液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー精製（メルク社ローパーカラム
、サイズＢ（２本）、酢酸エチル：トルエン−１：１０
〜１：６）して、目的とするアリルアルコールのうち、
低極性異性体Ｉａａ−ａを５１７ｍｇ（収率４７．７％
）油状物質として、また、高極性異性体Ｉｃａ−ａを２
５２ｍｇ（収率２０．７％）結晶として得る。

Ｉａｅ−ａ ・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤＣＩｍ）　０．８７　（
３Ｈ１１，、Ｊ’６Ｈｚ）。

１．０３　（９Ｈ，ｓ）、　１．００〜１．９０　（９
Ｈ，ｍ）、　２．０５〜２．２５（２Ｈ，ｍ）、　　２
．７６〜３．０３　（ＬＨ，ｍ）、　　３．７９　　（
３Ｈ，ｓ）、　　３．８０−４．３０　（４Ｈ，ｍ＞、
　　４．７２　（２Ｈ，ｓ）、　　５．２２〜５．７０
　（２１，ｍ）。

６．４０〜６．８７　　（３Ｈ，ｍ）、　　７．３０〜
７．５０　　（’３Ｈ，ｍ）、　　７．６０〜７．８０
　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　しｍａｘ（ＣＨＣ１＋＞　３６０８．　３０
０８．２９６０．　２９３６゜２８６４、　１７６３．
　１７４３．　１６００．　１４９８．　１４７５．　
１４２９゜１２９２、　１１１４．　９７０．　８２１
．　６９７．　６１２　ｃｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　６４４゜ Ｉｃｄ−ａ ・融点７８３〜８４℃（エーテル−ｎ−ペンタン）−’
Ｈ−ＮＭＲ：ε（ＣＤＣＩｓ）　０．８７　（３Ｈ，１
，Ｊ＝６Ｈｚ＞。

１．０３　（９Ｈ，ｓ）、　１．００〜１．９０　（９
Ｈ，ｍ）、　２．０５〜２．２５（２Ｈ，ｍ）、　２．
７６〜３．０３　（ＬＨ，ｍ）、　３．７９　（３Ｈ，
ｓ）、　３．８０−４．３０　（４）１．ｍ）、　４．
７２　（２Ｈ，ｓ）、　５．２２〜５．７０　＜２Ｈ，
ｍ）。

６．４０〜６．８７　（３Ｈ，ｍ＞、　７．３０〜７．
５０　（６Ｈ，ｍ）、　７．６０〜７．８０　（４Ｈ，
ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３６０８．３００
８．２９６０．２９３６゜２８６４、１７６４．１７４
２．　Ｌ８０Ｑ、　１４９８．１４７６、１４２９゜１
２８９、１１１３．９８９．８２１．６９６．６１２　
ａｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　６４４゜ 実施例−２〜４ 実施例−１の方法に準じ、アリルアルコールＩａ−ａ％
　Ｉｃ−ａへ変換し、結果を表１に示す。実施例−４に
ついては、ラセミ体のグリニヤール試薬を用いて反応を
行い、４種のアリルアルコール１ａｄ−ａ、Ｉａｅ−ａ
及びＩｃｄ−ａＳ　Ｉｃｅ−ａを得る・ （以下余白） 参考例−２１ ［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ”、９ａＲ”）　−１−［
（１且、２且）−３−アセトキシ−１，２＝ジヒドロキ
シプロピル］−２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ
−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペ
ンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−５−イル］オ
キシ酢酸メチル１１　の製造 窒素気流下、オレフィン２０（参考例−１８）６、ＯＯ
ｇ（９，７２ミリモル）のアセトン１２０ｍ１懸濁液に
、トリメチルアミン−Ｎ−オキシト（ＩＮ水溶液）１９
．４ｍ１（１９，４ミリモル）及び、四酸化オスミウム
（０，２Ｎ、ＴＨＦｉｌ液）４．８６ｍ１（０，９７ミ
リモル）を加え、室温で３日間攪拌する１反応液に、５
％チオ硫酸ナトリウム水溶液１２０ｍ１を加え、減圧下
、アセトンを留去する０反応液に、飽和食塩水を加え、
酢酸エチルで３回抽出する。抽出液は、水、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。ｆｌ圧下
、溶媒を留去して、目的とするジオール主１の粗生成物
を６．６０ｇあわ状物質として得る。

このものは精製することな（次の反応に用いる。

（以下余白） 参考例−２２ ［（１旦０．２旦”、３ａＳ”、９ａ旦”）−２−ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−ホルミル−２，３
，３ａ、９ａ−テトラヒトｏ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ
］［１，４］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸
メチル　２３　　の製造窒素気流下、ジオール　２２（
参考例−２１）の粗生成物６．６０ｇをＤＭＥ１８０ａ
＋１、水６０ｍ１の混合溶媒に溶解し、室温に於いて、
過ヨウ素酸ナトリウム　ａ、ｔｓｇ（１９，４ミリモル
）を加え、２日間攪拌する０反応液に１０％チオ硫酸ナ
トリウム水溶液２００ｍ１を加え、酢酸エチルで３回抽
出する。抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する０ｇ圧下、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（メルク社
ローバーカラム、サイズＣ（２本）、酢酸エチル：トル
エン−１：２０）して、目的とするアルデビド１１を得
る。

このものを、エーテル−ｎ−ヘキサン混合溶媒より結晶
化し、３．３８ｇ（２工程通算収率、６３．６％）の結
晶を得る。

番融点：１１０．３〜１１１．０℃（エーテル−ｎ−ヘ
キサン） −’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣＩｓ）　１．０４　（９Ｈ
，ｓ）、２．２０　（２１゜１，Ｊ＝５Ｈｚ）、　３．
１９〜３．４４　（１Ｈ，ｍ）、　３．７６　（３Ｈ，
ｓ）。

４．１２＝４．３８　（１Ｈ，ｍ）、　４．４０〜４．
６０　（２１，ｍ）、　４．６９（２Ｈ，ｓ）、　　６
．４２〜６．９０　（３Ｈ，ｍ＞、　　７．３２〜７．
５０　（６Ｈ，ｍ）。

７．５６〜７．８０　　（４１，ｍ）、　　９．３１　
　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１．５Ｈｚ）　　ｐｐｒｎ。

・ＩＲ：　Ｖｍａｘ＜ＣＨＣＬｓ）　２９６０．　２９
３６．　２８６４．　１７６３゜１７２９．１６０１．
１４９９．１４７６．１４２９．１２９５．１１１４゜
８２１．６９４．　６１２　ａｍ−’。

”　ＭＳ　：　ｍ／Ｚ　Ｍ”　　５４６゜（以下余白） 参考例−２３ ［（１旦”、２旦“、３ａ五！、９ａ旦”）−２−ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ−１−４（Ｅ）−３−才
キソー１−オクテニル］−２，３゜３ａ、９ａ−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジ
オキシン−５−イルコオキシ酢酸メチル　１１ ！１ｒａ 窒素気流下、６０％水素化ナトリウム１５．２ｍｇ（０
，３８１ミリモル）の乾燥ＴＨＦ２ｍｌ懸濁液に、ジメ
チル（２−オキソヘプチル）ホスホネート９５ｍｇ（０
，４３０ミリモル）の乾燥ＴＨＦ１．５ｍｌ溶液を加え
、室温で１２分間撹拌する。

反応液に、アルデヒド主１１８１ωｇ（０、３３１ミリ
モル）（参考例−２２）の乾燥ＴＨＦ３ｍｌ溶液を加え
て３０分間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、反応を停止する０反応液を酢酸エチルで２回抽出
し、抽出液は水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。

減圧下溶媒を留去した残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー精製（メルク社ローパーカラム、サイズＢ
１酢酸エチル：トルエン−１：３０）して、目的とする
エノン１１を１９９ｍｇ（収率９３．５％）油状物質と
して得る。

−’Ｈ−ＮＭＲ：δ（ＣＤＣ１，＞　０．１１１９　（
３Ｈ，１，Ｊ＝７Ｈｚ＞。

１．０３　（９Ｈ，ｓ）、　１．０５〜１．８０　（６
Ｈ，ｍ）、　２．１０〜２．５０（４Ｈ，ｍ）、　２．
８６−３．２１　（１Ｈ，ｍ）、　３．７７　（３Ｈ，
ｓ）、　４．０２〜４．２６　（３Ｈ，ｍ）、　４．７
１　（２Ｈ，ｓ）、　６．０９　（１Ｈ，ｄ。

Ｊ＝１６Ｈｚ）、　　６．３！ＩＪ〜６．８８　（４Ｈ
，ｍ）、　　７．２９〜７．４８　（６Ｈ，ｍ）。

７．５３＝７．７３　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　Ｌ／ｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３００８．　２
９６０．　２９３６．　２８６４゜１７６３、　１７４
３．　１６９６．　１６７２．　１６３０．　１６０１
．　１４９８゜１４７５、　１４２９．　１１１４．　
９７７、　８２２．　６９５．　６１２　ａｍ−’。

・ＭＳ　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　　６４２゜参考例−２４〜
２９．３７〜４゜ 参考例−２３の方法に準じ、エノン旦へ変換し、結果を
表２に示す。参考例−２４，２６及び２９については、
ラセミ体のホスホネートを用いる。

参考例−３９に於ては、光学活性ホスホネート［（Ｓ）
−配置］を用いる。

（以下余白） 参考例３０ ０Ｈ 並 （１）１−ｔ−ブチルカルボニルオキシ−３−ブタノー
ル翻の製造 （±）−１，３−ブタンジオール２４１３．２ｍ１（０
、１５モル）とピリジン１７．８ｍ１（０，２３モル）
の乾燥ジクロロメタン２００ｍ１溶液に、水冷下、ピバ
ロイルクロリド２２．２ｍ１（０，１８ｍｏｌ）の乾燥
ジクロロメタン５０ｍ１溶液を、２０分間で滴下する。

滴下終了後、室温に戻しながら、更に３０分間攪拌する
０反応液に、氷水を加え、５分間攪拌した後、ＩＮ塩酸
を加え、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液を、水
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去
した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（
シリカゲル２５０ｇ、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン旙１：
９〜１　：　４）して、目的とするモノピバロイルエス
テル翻を油状物質として２０．４ｇ（収率７８．２％）
得る。

’Ｈ−ＮＭＲ：　ｌ；　（ＣＤＣ１，）　１．２１　（
９Ｈ，ｓ）　１．２３　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ：６Ｈｚ）　１．６０〜１．９５　（２Ｈ，ｍ）　２
．２７　（ＬＨ，ｂｒ、ｓ、−ＯＨ）３．７２〜４．４
７　（３Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

（２）１−ｔ−ブチルカルボニルオキシ−３−フェノキ
シブタン亜の製造 アルコール翻（参考例３０（１））、３．４７ｇ（１９
，９ミリモル）、フェノール２．８１ｇ（２９、９ミＩ
Ｊモル）及ヒ、トリフェニルホスフィン７．８８ｇ（２
９，９ミリモル）の乾燥ＴＨＦ１００ｍｌ溶液に、水冷
下、アゾジカルボン酸ジエチル４．６５ｍ１の乾燥ＴＨ
Ｆ４０ｍｌ溶液を滴下する。滴下終了後、２０分間同温
にて攪拌した後、室温に戻し、更に２時間中攪拌を続け
る。減圧上溶媒を留去した反応液残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー精製（シリカゲル２００　ｇ。

酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−１：　４９〜１：１９）し
て、目的のフェニルエーテル輩を油状物質として４．３
５ｇ（収率８７．４％）得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　：　Ｓ　（ＣＤＣ１ｍ
）　１．１０　（９Ｈ，ｓ）１．３４　（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）　１．８３＝２．１６　（２Ｈ，ｍ）　４．
１１〜４．３１（２Ｈ，ｍ）　４．４２〜４．６０　（
１Ｈ，ｍ’）　６．８５−６．９８　（３Ｈ，ｍ）７．
２１〜７．３２　（２Ｈ，ｍ）　ｐＰＩＩＩ。

（３）３−フェノキシ−１−ブタノールだの合成 ピバロイルエステル翻（参考例３０（２））４．３２ｇ
（１７，３ｍｍｏｌ）の乾燥メタノール９０ｍ１溶液に
、１Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液１７　、
３ｍ１（１７、３ｍｍｏｌ）を加え、５５°Ｃで９時間
攪拌する。室温に戻した反応液に、イオン交換樹脂ＩＲ
Ｃ−５０を３５ｇ加え、２０分間攪拌する。イオン交換
樹脂を濾別し、減圧上溶媒を留去して、目的とするアル
コールｐの粗生成物を、油状物質として３．１５ｇ得る
。このものは精製する事なく次の反応に用いる。

（４）３−フェノキシ酪醜エテル輩の製造アルコールだ
（参考例３０（３））の粗生成物３．１５ｇのアセトン
８０ｍ１溶液に、２０〜３０℃に於いて、８Ｎジヨ一ン
ズ試薬１０ｍ１を徐々に滴下する０滴下終了後、１０分
間攪拌した後、イソプロピルアルコール３ｍｌを加え、
更に１０分間攪拌する。減圧下、アセトンを留去した残
渣に、水を加え、酢酸エチルで２回抽出する。抽出した
酢酸エチル溶液を、水で洗浄した後、ＩＮ水酸化ナトリ
ウム水溶液でカルボン酸を抽出する。

抽出した水酸化ナトリウム水溶液を、塩酸でｐＨ２とし
、酢酸エチルで再び抽出する。抽出した酢酸エチル溶液
を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下、溶媒を留去した残渣を、エーテル５
０ｍ１で溶解し、０℃に於いて、ジアゾエタンのエーテ
ル溶液を、反応液が橙色を呈するまで加える。減圧上溶
媒を留去した反応液残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー精製（シリカゲル５０ｇ１酢酸エチル−ｎ−
ヘキサン−１：１９）ｕて、目的とするエチルエステル
踵を油状物質として２．３５ｇ（化合物輩より通算収率
　６７．０％）得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　：ｌ；　（ＣＤＣＩｓ
）　１．２４　（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ＞　１．３７　（３８，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞　
２．５３　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１５Ｈｚ。

６．５Ｈｚ＞　２．７９　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１５Ｈｚ
、　７Ｈｚ＞　４．１４　（２Ｈ，ｑ。

Ｊ＝７Ｈｚ＞　４．７５〜４．９２　（１Ｈ，ｍ）　６
．８８〜６．９８　（３Ｈ，ｍ）７．２２〜７．３３　
＜２Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

参考例３１ ！！（光学活性体） （１）（Ｓ）−（−）−シトロネル酸メチル並の製造 （Ｓ）−（−）−シトロネロール益（アルドリッチ社製
、９８％ｅ、ｅ、）１０．０ｇ（６４，１ミリモル）の
乾燥ＤＭＦ１５０ｍｌ溶液に、ピリジニウム・ジクロメ
ート（ＰＤＣ）８４．４ｇ（２２４ミリモル）を加え、
終夜攪拌する０反応液を、水１．５夕にあけ、トルエン
で２回抽出する。抽出したトルエン溶液を水で洗浄した
後、ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液で、カルボン酸を抽出
する。抽出した水酸化ナトリウム水溶液を、５Ｎ塩酸で
、ｐＨ２とし、酢酸エチルで再び抽出する。抽出した酢
酸エチル溶液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣を、
エーテル１００ｍ１に溶解し、ジアゾメタンのエーテル
溶液を、０℃に於いて、反応液が黄色を呈するまで加え
る０ｇ圧下溶媒を留去した反応液残渣を、減圧蒸留して
、目的とするメチルエステル四を油状物質として７．５
３’！（収率６３．９％）得る。

沸点ニア８〜８１℃（３ｍｍＨｇ） ［αＩＤ−７，４±０．１’　（Ｃ：５．１３．　ＣＨ
ＣＩｓ）’Ｈ−ＮＭＲｒ　Ｓ　（ＣＤＣＩｍ）　０．９
４　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　１．１０−１．４６　
（２Ｈ，ｍ）　１．６２　（３Ｈ，ｓ）　１．６８　（
３Ｈ，ｓ）　１．７（１〜２．５０　＜５Ｈ，ｍ）　３
．６６　（３Ｈ，ｓ）　４．９３〜５．２１　（１Ｈ，
ｍ）ｐｐｍ。

（２）（Ｓ）−３−メチル−６−オキソヘキサン酸メチ
ル旦の製造 ８０％ｍ−クロロ過安息香酸７．７６ｇ（３６ミルモル
）の乾燥ジクロロメタン２ＱＯｍｌ溶液に、（Ｓ）−シ
トロネル酸メチル和（参考例３１（１））６．００ｇ（
３２，６ミリモル）の乾燥ジクロロメタン５０ｍ１溶液
を加え、室温で１時間攪拌する。反応液に５％チオ硫酸
ナトリウム水溶液、及び希炭酸水素ナトウリム水溶液を
加え、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣
を、ＴＨＦ８０ｍｌに溶解し、０°Ｃに於いて、過ヨウ
素酸、２水和物８．９０ｇ（３９ミリモル）のＴＨＦ８
０ｍｌ溶液を加える。室温に戻しながら、２０分間攪拌
後、反応液に水を加え、エーテルで２回抽出する。抽出
液を、水、飽和炭酸水素ナトウリム水溶液、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、
溶媒を留去して、目的とするアルデヒド３１の粗生成物
を、油状物質として、５．２ｇ得る。

このものは、精製する事なく次の反応を用いる。

（３）（Ｓ）−（−）−３−メチル−６−ヘプテン酸メ
チル婬の製造 窒素気流下、臭化メチルトリフェニルホスホニウム２３
．３ｇ（６５，２ミリモル）の乾燥ＴＨＦ１２０ｍｌ懸
濁液に、水冷下、１．５９Ｎ。

ｎ−ブチルリチウム−ｎ−ヘキサン溶液３６．９ｍ１（
５８，７ミリモル）を滴下する０滴下終了後、同温にて
１０分間攪拌した後、−ｓｏ’ｃに冷却し、アルデヒド
３１　（参考例３１（２））の粗生成物５．２ｇの乾燥
ＴＨＦ８０ｍｌ溶液を滴下する。滴下終了後、同温にて
１０分間攪拌した後、１時間かけて室温に戻す０反応液
に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテルで２
回抽出する。抽出液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。常圧で溶媒を留去した残
渣に、ｎ−ペンタン４００ｍ１を加え、水冷下３０分間
攪拌する。析出した、トリフェニルホスフィンオキシト
を、シリカゲル１００ｇで濾過する。シリカゲルは、エ
ーテル二〇−ペンタン繻１：９混合溶媒５００ｍ１で洗
浄し、濾液と洗浄液を合わせ、常圧濃縮し、残渣を減圧
蒸留して、目的とするオレフィン婬を油状物質として２
．１９ｇ（化合物並より通算収率４３．１％）得る。

沸点：　８５〜８６℃（２３ｍｍＨｇ）［α］Ｄ−６．
６±０．２°（２３℃、　Ｃ＝２．０６．　ＣＨＣｌ５
）’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ＞　’　ｌ；　（ＣＤＣ
Ｉｓ）　０．９５　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞　０．９７〜１．５２　（２Ｈ，ｍ）　１
．８８−２．３８　（５Ｈ，ｍ）３．６７　（３Ｈ，ｓ
）　４．９０〜５゜０９　（２Ｈ，ｍ）　５．７０〜５
．９１　（１Ｈ。

ｍ）　ｐｐｍ。

ＩＲ：　ｖｍａｘ　（ＣＨＣＩｓ）　２９６０．１７３
４．１６４２．１４３９゜１１７２、　１００６．　９
１６　ａｍ−’。

（以下余白） 参考例３２ （１）４−ブチル［ジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン］
　ハの製造 窒素気流下、臭化第１銅、ジメチルスルフィド錯体６．
１７ｇ（３０ミリモル）の乾燥エーテル１００ｍ１懸濁
液に、−５０℃に於いて、１．５９Ｎｎ−ブチルリチウ
ム−ｎ−ヘキサン溶液３８ｍ１（６０ミリモル）を３０
分間かけて滴下する０滴下終了後、同温にて１５分間攪
拌した後、−７８℃に冷却し、塩化トリメチルシラン３
．８ｍｌ（３０ｍｍｏｌ）の乾燥エチルエーテル１０ｍ
１溶液を加える。引き続き、２（５Ｈ）−フラノン長１
．６８ｇ（２０ミリモル）の乾燥エーテル２０ｍ１溶液
を加え、同温にて３０分間攪拌した後、３０分間かけて
、−１０°Ｃまで昇温する０反応液に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、反応を停止し、空気を３０分間吹き
こんだ後、セライトで濾過する。濾液を、エーテルで２
回抽出し、抽出液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣
を、ＴＨＦ１５０ｍｌに溶解し、２Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液２０ｍ１を加え、室温で４０分間攪拌する０反応
液に、ＩＮ塩酸を加え、ｐＨ２とし、エーテルで２回抽
出する。抽出液を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣を
、無水ベンゼン３０ｍ１に溶解し、触媒量のｐ−１−ル
エンスルホン酸を加え、１５分間、加熱還流する。室温
に戻した反応液に、希炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
、酢酸エチルで２回抽出する。抽出液を、水、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下溶媒を留去した残渣を、減圧蒸留し、て、目的と
するラクトンハを油状物質として２．１９ｇ（収率７７
．１％）得る。

沸点：　９４〜９５℃（２ｍｍＨｇ　）’Ｈ−ＮＭＲ’
　ｌ；　（ＣＤＣ１ｍ＞　０．９１　（３Ｈ，１，Ｊ＝
７Ｈｚ）　１．１２−１．８０　（６Ｈ，ｍ＞　１．９
７〜２．８３　（３Ｈ，ｍ＞　３．９３　（１Ｈ，ｄｄ
。

Ｊ＝９Ｈｚ、　６Ｈｚ）　４．４３　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ
＝９Ｈｚ、　７Ｈｚ）　ｐｐｍ。

ｔす）’１−（フェニルセレニルメチル）へブタン＃廷
の製造 窒素気流下、ジフェニルジセレニド２．４０ｇ（７，６
９ミリモル）の乾燥ＤＭＦ３０ｍｌ溶液に、水冷下、水
素化ホウ素ナトリウムａ５５ｍｇ（１７，３ミリモル）
を徐々に加える。水素の発生が終了した後、反応液を１
００℃で２０分間攪拌する。同温で、ラクトン口（参考
例３２（１））１，ａａｇ（１ｘ、ｓミリモル）の乾燥
ＤＭＦ１０ｍｌ溶液を加え、１２０℃で２時間半攪拌す
る０反応液を、水冷し、１０％塩酸を徐々に滴下してｐ
Ｈ２とする１反応液を、エーテルで２回抽出し、抽出液
を、水、飽和°食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下溶媒を留去した残渣をエーテル３０
ｍ１に溶解し、ジアゾメタンのエーテル溶液を、０℃に
於いて、反応液が黄色を呈するまで加える。減圧下溶媒
を留去した反応液残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー精製（メルク社ローバーカラム、サイズＣ１酢
酸エチル−ｎ−ヘキサン麿１　：　１９）１，て目的と
するメチルエステル長を、油状物質として２．６４ｇ（
収率７１．５％）得る。

’Ｈ−ＮＭＲ；　Ｓ　（ＣＤＣ１ｍ）　０．８６　（３
Ｈ，１，Ｊ＝７Ｈｚ＞　１，ｏｓ−１，６３＜６Ｈ，ｍ
）　２．００〜２．７０　（３Ｈ，ｍ）　２．９８　（
２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）　３．６３　（３Ｈ，ｍ＞　７．１７＝７
．３３　（３Ｈ，ｍ＞　７．３２〜７．６２　（２Ｈ，
ｍ）　ｐｐｍ。

参考例３３ ２−才キソー４−（フェニルセレニルメチル）オクチル
リン酸ジメチル廷の製造 窒素気流下、メチルリン酸ジメチル１．３５ｍ１（１２
，５ミリモル）の乾燥ＴＨＦ２５ｍｌ溶液に、−７８℃
に於いて１．６４Ｎｎ−ブチルリチウム−ｎ−ヘキサン
溶液７．０ｍ１（１１，５ミリモル）を滴下する０滴下
終了後、同温にて１時間攪拌した後、メチルエステル廷
（参考例３２（２））１．５７ｇ（１０，０ミリモル）
の乾燥ＴＨＦ１０ｍｌ溶液を加える。更に３０分間攪拌
を続けた後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を
停止する。反応液を、酢ｍエチルで２回抽出し、抽出液
を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する０ｇ圧下溶媒を留去した残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー精製（メルク社ローバーカラム
、サイズＢアセトン：ベンゼン−１：　４）して、目的
とするホスホン酸エステル並を、油状物質として１．４
２ｇ（収率７０．０％）得る。

’）ｌ−ＮＭＲ；８　（ＣＤＣＩｎ＞　０．８６　（３
Ｈ，１，Ｊ＝７Ｈｚ＞　１．０２＝１．７０　（６Ｈ，
ｍ）　、１．９０＝３．０５　（５Ｈ，ｍ）　２．９５
　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝２２Ｈｚ）　　３．７７　　（６Ｈ，ｄ、に１１Ｈ
ｚ）　　７．１５−７．３２　＜３８．ｍ）７．４０〜
７．６２　（２Ｈ，ｍ）　ｐｐｌｌｌ。

参考例３４〜３６ 参考例３３に準じて反応を行い、エステル翻（参考例−
３０（４））、昇（参考例−３１（３））３６　　より
、ジメチルホスホン酸ニスデルと、　陳及びＯを得る。

但し、化合物ηは、ジーａニス・マークス（Ｇ、　Ｓ、
　Ｍａｒｋｓ　）らの文献（ジャーナル・才ブ・ケミカ
ル・ソサエティー　（Ｊ、　Ｃｈｅｆｆｌ、　Ｓｏｃ、
　）３８５１頁、（１９５５年）を参考に、ラセミ体を
製造する。

以下に、化合物３７　、３８、並の物性を示す。

化合物　Ｕ ’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　　’　　δ（ＣＤＣＩ
ｓ）　　１．３４　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ−６）１ｚ）　２．７８〜３．２９　（４Ｈ，ｍ＞　
３．７８　＜６Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１）１ｚ）ａ、８０〜４
．９６　（ＬＨ，ｍ）　６．８５−７．００　（３Ｈ，
ｍ＞　７．２２”７．３３（２Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

化合物　井 並 ［αコニ”　　　−５，５±０．５°　（Ｃ＝０．９８
．　　ＣＨＣｌ、）’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　：
　８　（ＣＤＣＩｍ）　０．９２　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　１．１６〜１．５０　（２Ｈ，ｍ）　１
．９７〜２．１９　（３８，ｍ＞２．４６　（ＬＨ，ｄ
ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ、　７Ｈｚ）　２．５９　（１Ｈ，ｄ
ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ；６Ｈｚ＞　３．０７　（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝２２Ｈｚ）　３．７９　（６Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ
）４．９０−５．０８　　（２１，ｍ）　　５．６１Ｊ
〜５．９０　　＜ＬＨ，ｍ）　　ｐｐｍ。

（以下余白） 化合物　並 一 ’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　’　８　（ＣＤＣ１ａ
）　１．０６　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞　２．４７〜２．６７　（２Ｈ，ｍ）　２
．８０〜２．９６　＜ＬＨ，ｍ）３．１２　（２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝２２Ｈｚ）　３．７７　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈ
ｚ＞　３．７８（３１，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）　３．７５
〜３．９２　（２Ｈ，ｍ）　６．８４〜６．９７（３Ｈ
，ｍ）　７．２２〜７．３３　（２Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

（以下余白） 実施例−５ ［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ”、９ａＲ”）−２−を−
ブチルジフェニルシリルオキジ−１−［（３５６、ｌ旦
）−３−ヒトａキシ−１−オクテニル］−２，３，３ａ
、９ａ−テトラヒトＣＩ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［
１，４］ベンゾジオキシン−５−イルコオキシ酢酸メチ
ル　Ｉａａ−ａ及び［（ＩＲ”、２Ｒ”、３ａＳ”、９
ａＲ”）−２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１
−［（３Ｒ”、１１）−３−ヒドロキシ−１−オクテニ
ル］−２゜３．３ａ、９ｇ−テトラヒドロ−１Ｈ−シク
ロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−５−イル
］オキシ酢酸メチル　Ｉｃａ−ａ　　の製造ａａ−ａ エノン　ｍａｃ参考例−２３）１２０ｍｇ（０，１８７
ミリモル）及び、三塩化セリウム・７水和物７０ｍｇ（
０，１８８ミリモル）のメタノール２ａ＋１溶液に、水
冷下、水素化ホウ素ナトリウム７．１ｍｇＣＤ、１８７
ミリモル）のメタノール０．７ｍｌ溶液を滴下する０滴
下終了後、同温にて２０分間攪拌した後、飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え反応を停止する０反応液を酢酸エ
チルで２回抽出し、抽出液は、水、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（
メルク社、ローバーカラム、サイズＡ（２本）、酢酸エ
チル：トルエン−１：１５〜１　：　１０）Ｌ、て、目
的とするアリルアルコールのうち、低極性異性体、Ｉａ
ａ−ａを８４ｍｇ（収率７０．０％）、また、高極性異
性体Ｉｃａ−ａを２７ｍｇ（収率２２．５％）得る．こ
こで得られたＩａａ−ａ，ｌｅａ−ａの物性は、実施例
−１で得られたＩａａ−ａ，ｌｅａ−ａと完全に一致す
る。

（以下余白） 実施例−６〜１３ 実施例−５の方法に準じ、アリルアルコールＩａ−ａ，
Ｉｃ−ａへ変換し、結果を表３に示す．実施例−１１に
ついては、４種のアリルアルコールＩａｋ−ａ、Ｉａｊ
２−ａ及びＩｃｋ−ａ。

Ｉｃｌ−ａが得られる．また、実施例−６、１。

については、−７８℃で反応を行う。

（以下余白） 実施例１４ ［（ＩＲ”、２旦”、３　ａｓ”、９　ａＲ”）−２−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−［（３旦”、
ＩＥ）−５−ブチル−３−ヒドロキシ−１，５−ヘキサ
ジエン−１−イル］−２，３゜３ａ、９ａ−テトラヒド
ロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキ
シン−５−イル］オキシ酢酸メチルＩａｔ−ａ及び、［
（１旦０゜２Ｒ”、３ａＳ”、９ａＲ”）−２−ｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシ−１−［（３Ｒ”、１旦）
−５−ブゲルー３−ヒドロキシ−１，５−へキサジエン
−１−イル］−２．３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１
旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−
５−イルコオキシ酢酸メチルＩｃｔ−ａの製造 （以下余白） 実施例−５の方法に準じ、エノン、里」（参考例４０）
８００ｍｇ（０，９６９ミリモル）を、対応するアリル
アルコールに還元する。この反応粗生成物を、精製する
事なく、ＤＭＥｌｏｍｌ、メタノール３０ｍ１、水５ｍ
ｌの混合溶媒に溶解し、炭酸水素ナトリウム８１．４ｍ
ｇ（０，９７ミリモル）を加える。この反応液に、室温
に於いて、過ヨウ素酸ナトリウム４ｉ５ｍｇ（１，９４
ミリモル）の水溶液３ｍｌを力ａえ、終夜攪拌する。反
応液に、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、ジクロ
ロメタンで３回抽出する。抽出液を、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する０ｇ圧下溶媒を留
去した反応物残渣を、四塩化炭素４０ｍ１に溶解し、ジ
インプロピルアミン０．４１ｍ１（２，９１ミリモル）
を加え、６０℃で１時間攪拌する。室温に戻した反応液
に、氷水を加え、ジクロロメタンで２回抽出する。抽出
液を、ＩＮ−塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下溶媒を留去した残渣を、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー精製（メルク社ローバーカラム、サイ
ズＢ、２本；酢酸エチル；トルエン−１’：　１５〜１
：１．０）して、目的とするジエンアルコールのうち、
低極性異性体Ｉａｔ−ａを３５０ｍｇ（収率５３．７％
）、また高極性異性体Ｉｃｔ−ａをｔ５５ｍｇ（収率２
３．８％）、それぞれ油状物質として得る。

化合物　Ｉａｔ−ａ ’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　：Ｓ　（ＣＤＣＩｎ＞
　０．９１　（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　１．０４　（９）１．ｓ）　１．２２７
１．５６　（５Ｈ，ｍ）　１．９６〜２．２０　（６Ｈ
，ｍ）　２．９０　（１Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　３．７
９　（３Ｈ，ｓ）３．９ｆｒ４．２３　（４Ｈ，ｍ）　
４．７３　（２１，ｓ）　４．８０　（１Ｈ，ｓ）４．
８７　（ＬＨ，ｓ）　　５．４５　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝
１６Ｈｚ、　　７Ｈｚ＞　　５．５５（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ
＝１６Ｈｚ、　　５Ｈｚ＞　６．４７　（ＬＨ，ｄｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ、　　２Ｈｚ）６．６０　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ、　　２Ｈｚ）　６．７７　（１Ｈ，ｔＪ＝８
Ｈｚ）７．２０〜７．４８　（６Ｈ，ｍ＞　７．６３〜
７．７３（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

ＩＲ：　　ｖｍａｘ　（ＣＨＣｌ、）３６０４．２９３
６，２８６４．１７６３゜１７４２、　１６４３．　１
６００．　１４９８．　１４７６、　１４２９．　１２
８８゜１１１４．９６９，９０４，８２２，６１２　ｃ
ｍ−’。

ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　８７０　（Ｍ”）。

化合物　Ｉｃｔ−ａ ’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　’　ｌ；　（ＣＤＣＩ
ｓ）　０．９２　（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　１．０４　（９Ｈ，ｓ）　１．２３〜１
．６０　（５Ｈ，ｍ＞　１．９７〜２．２０　（６Ｈ，
ｍ）　２．９０　＜ＬＨ，ｑ、Ｊ＝７１（ｚ）　３．８
０　（３Ｈ，ｓ）３．９５〜４．２４　（４Ｈ，ｍ）　
４．７３　（２Ｈ，ｓ）　４．８１　（１Ｈ，ｓ）４．
８７　（１Ｈ，ｓ＞　５．４６　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ：１
６Ｈｚ、　７Ｈｚ）　５．５４（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１６
Ｈｚ、　５Ｈｚ＞　６．４６　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ、　２Ｈｚ）６．６０　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、
　２Ｈｚ）　６．７６　（ＬＨ，１，Ｊ＝８Ｈｚ）７．
２０〜７．４７　（６Ｈ，ｙ＋）　７．６０〜７．７３
　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

ＩＲ：　Ｖｍａｘ　（ＣＨＣＩｓ）　３６０４．２９３
６．２８６４．１７６４゜１７４３、１６４２．１６０
０．１４９８．１４７６、１４２９．１２８７゜１１１
４、９６９．９０６．８２１．６１３　ｃｍ−’。

ＭＳ　　：　ｍ／ｚ　６７０　（Ｍ”）実施例−１５ ［（１旦、２旦、３ａ互、９ａ且）−２−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ、５Ｓ、１工）−
３−ヒドロキシ−５−メチル−１゜８−７ナジエンー１
−イル］−２，３，３ａ。

９ａ−テトラヒドロ−１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，
４］ベンゾジオキシン−５−イルコオキシ酢酸メチルＩ
ａｒ−ａ及び、その立体異性体上エエニ１、上！エニ１
、ｆａｒ−ａの製造（以下余白） 実施例−５の方法に準じ、エノンＬＬ（参考例３９）の
還元を行い、４種の立体異性体−り互」。

二１、ｆａｒ−ａ、１区」Ｌ１且、Ｉｃｒ−ａを得る。

化合物　上ｌユニ１（異性体１） 収率　３２．９％ Ｒｆ　：　０．３５（酢酸エテル：トルエン−１：６）
［αｌｏ　　　−ａ３．２±１．６＠（２４℃、　Ｃ＝
０．５３．　ＣＨＣｌ、）’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ
）　：ｌ；　（ＣＤＣＩｓ）　０．９０　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ＞　１．０４　（９Ｈ，ｓ＞　１．００−１
．７２　（６Ｈ，ｍ＞　１．９４〜２．２９　（４Ｈ，
ｍ）　２．８８　（ＬＨ，ｑ、ＪニアＨｚ）　３．８０
　（３Ｈ，ｓ）３．９５”４．０９　（３Ｈ，ｎ＋）　
４．１！ｒ４．２３　（ＬＨ，ｍ＞　４．７３　（２Ｈ
。

ｓ）　４．８８”５．０３　（２Ｈ，ｍ）　５．３５　
（１Ｈ，ｄｄＪ＝１６Ｈｚ。

８Ｈｚ）　５．５Ｌ　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ、　
６Ｈｚ）　５．７０−５．９１　（１１゜ｍ）　６．４
７　（１８，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　２Ｈｚ）　６．５９
　（１１（、ｄｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ、　２Ｈｚ＞　６．７６　（ＬＨ，１，Ｊ４
Ｈｚ）　７．３０＝７．５０　（６Ｈ。

ｍ）　７．６０〜７．７０　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐ＃ＩＲ
：　　ｖｍａｘ　（ＣＨＣＩｇ）　３６０４．　２９３
６．２８６４．　１７６３゜１７４２、１６４１．１６
００．１４９８．１４７６、１４２９．１２８８゜１１
１３．９７０，９０８，８２１．６１２　ａｍ”’。

ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　６７０　（Ｍ”）化合物　１ａ
ｒ−ａ（異性体２） 収率：ａ３．ｉ％ Ｒｆ　：　０．３２　（酢酸エチル：トルエン−１：６
）［α］二’　　＋４１．７±１．４°（Ｃ＝０．６０
．　ＣＨＣＩＡ）’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ＞　’　
Ｓ　（ＣＤＣＩｓ）　０．８７　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　１．０４　（９Ｈ，ｓ）　１．００〜１
．７３　（６Ｈ，ｍ）　１．９３〜２．３０　（４Ｈ，
ｍ）　２．８８　＜１Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　３．８０
　（３Ｈ，ｓ）３．９４〜４．０９　（３Ｈ，ｍ）　４
．１！ｒ４．２４　＜１Ｈ，ａ＋）　４．７３　（２Ｈ
。

ｓ）　４．８８−５．０６　（２Ｈ，ｍ）　５．３４　
（ＬＨ，ｄｄ、に１６Ｈｚ、　８Ｈｚ）５．４６　（Ｌ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ、　６Ｈｚ）　５．７０〜５．
９１　（１Ｈ，ｍ）６．４７　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ、　２Ｈｚ）　６．５８　（１Ｈ，ｄｄ、に８Ｈｚ。

２Ｈｚ）　６．７６　（１Ｈ，１，Ｊ＝８Ｈｚ）　７．
３０〜７．５０　（６Ｈ，ｍ）　７．６０〜７．７０　
（４Ｈ，ｍ）　ｐｐＨ１゜ＩＲ：　ｖｍａｘ　（ＣＨＣ
Ｉｓ）　３６０４．２９３６．２８６４．１７６４゜１
？４４．１６４１．１６００．１４９９．１４７６、１
４２９．１２９０゜１１１３、９７０．９０８．８２２
．６１２　ｃｍ−’。

ＭＳ　：　ｍ／ｚ　６７Ｇ（Ｍ”） 化合物　上！ユニ１（゛異性体３） 収率：１０．４％ Ｒｆ　；　０．２７　（酢酸ニブル：トルエン−１＝６
）［α］。　＋４５．０±１．６＠　（２４℃、　　Ｃ
＝０．５２．、　　ＣＨＣｌ、）’Ｈ−ＮＭＲ（２００
ＭＨｚ）　　：　　δ（ＣＤＣＩＩ）　０．９０　（３
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　　１．０４　　（９Ｈ，ｓ）　　１．０
０〜１．７５　（６Ｈ，ｍ＞　　１．９４〜２．２９　
（４Ｈ，ｍ）　２．８８　（１Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　
３．７９　（３Ｈ，ｓ）３．９４”４．０９　（３１，
ｍ）　４．１５〜４．２３　（ＬＨ，ｍ＞　４．７３　
（２Ｈ。

ｓ）　　４．８８〜５．３０　（２Ｈ，ｍ）　　５．３
６　（１Ｂ、ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ、　　８Ｈｚ＞５．５
３　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ、　　６Ｈｚ）　　５
．７０〜５．９１　　（ＬＨ，ｍ＞６．４７　＜１Ｈ，
ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、　　２Ｈｚ）　　６゜６０　（１Ｈ
，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ。

２）１ｚ）　　６．７６　（１Ｈ，１，Ｊ＝８Ｈｚ＞　
　７．３０〜７．５０　（６Ｈ，ｍ＞　　７．６０−７
．７０　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

ＩＲ：　　ｌ／ｍａＸ　（ＣＨＣＩｍ）　　３６０８．
　２９３６．　２８６４゜１７６４、　１７４３．　１
６４１．　１６００．　１４９８．　１４７６、　１４
２９゜１２９１．１１１４．９７０，９０８，８２１，
６１２　ａｍ−’。

ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　６７０　（Ｍ”）化合物　Ｉｃ
ｒ−ａ（異性体４） 収率：８．９％ Ｒｆ二Ｏ，２３（酢酸エチル：トルエン−１：　６）［
α］ｏ−４２，３±１．８°（２４℃、　Ｃ＝０．４５
．　ＣＨＣｌ５）’Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ）　’　
δ（ＣＤＣ１，＞　０．８８（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ）　　１．０４　　（９Ｈ，ｓ）　　１．０
５−１．７４　　（６１，ｍ）　　１．９５−２．２７
　（４Ｈ，ｍ）　　２．８８　（ＬＨ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ
）　　３．８０　（３Ｈ，ｓ）３．９５〜４．０９　（
３Ｈ，ｍ）　　４．１５〜４．２３　　（ＬＨ，ｍ）　
　５．３９　（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ、　　７Ｈｚ）　　５．５０　　（
ＬＨ，ｄｄＪ＝１６Ｈｚ、　　６Ｈｚ＞５．７０〜５．
８６　　（１Ｈ，ｍ）　　６．４７　　（１１（、ｄｄ
Ｊ：８Ｈｚ、　　２Ｈｚン６．６０　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ、　２Ｈｚ）　６．７７　（１Ｈ，１，、Ｃ３
Ｈｚ）７．３０〜７．５０　（６Ｈ，ｍ＞　７．６０〜
７．７０　（４Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

ＩＲ：　　ｖｍａｘ　（ＣＨＣＩｇ）３６０８．２９３
６，２８６４，１７６３゜１７４４、　１６４１．　１
６００．　１４９９．’　　１４７６、　１４２９．　
１２９３゜１１１４、　９７０．　９０９．　８２１．
　６１２　ａｍ−’ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　６７０　　
（Ｍ”）（以下余白） 実施例−１６ ［（１旦、２旦、３ａ互、９ａ旦）−２−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−１−［（３Ｓ。

５５．１呈）−３−ヒドロキシ−５−メチル−１−ノネ
ニルコー２．３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１旦−シ
クロペンタ［ｂ］［１，４］べ）′ゾジオキシンー５−
イル］オキシ酢酸メチル：Ｉａｕ−ａの製造 （光学活性体） 　ａｒ−１ （光学活性体） 　ａｕ−ａ 水素雰囲気下、ジエン　ｆａｒ−ａ（実施例−１５）１
５１ｍｇ（０，２２５ミリモル）の乾燥ベンゼン１０ｍ
１溶液に、５％パラジウム−炭素７．５ｍｇを加え、室
温で３時間攪拌する。反応液を濾過し、減圧下溶媒を留
去した残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー精
製（メルク社ローバーカラム、サイズＢ５酢酸エチル：
トルエン−１：　１５）して、目的とするオレフィンｔ
ａｕ−ａを油状物質として、９８ｍｇ（収率６４．９％
）得る。この光学活性体の’Ｈ−ＮＭＲ。

ＩＲ，ＭＳスペクトルは、ラセミ体Ｉａｅ−ａ（実施例
４）のそれらと完全に一致する。

［α］Ｄ　　”４０．４±０．８°（２４℃、　Ｃ＝１
．０４．　ＣｌＣ１，）（以下余白） 実施例−１７ ［（貝Ｖ、吐Ｓ”、３ａ旦“、９ａ互１）−２−ヒドロ
キシ−１−［（３Ｒ”、１工）−３−ヒドロキシ−１−
オクテニルコ−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１
旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−
５−イル］オキシ酢酸メチル　Ｉｂａ−ａ　　の製造 ’ＢｕＰｈ２Ｓｚ♂　　　６Ｈ ａｍ−ａ Ｈ♂　　　６Ｈ ！ｂａ−ａ シリルエーテルＩａａ−ａ（実施例−１及び５）５１７
ｍｇ（０，８０２ミリモル）のＴＨＦ６ｍｌ溶液に、フ
ン化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（ＬＭ、ＴＨＦ溶
液）１．６０ｍ１（１，６０ミリモル）を加え、室温で
終夜攪拌する０反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液と
ＩＮ塩酸２ｍ１（２ミリモル）を加え、酢酸エチルで２
回抽出する。抽出液を、水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。この残渣に
は、メチルエステルかけん化されたカルボン酸が一部存
在するので、下記のごとくジアゾメタン処理し、メチル
エステルへ戻す。反応混合物をメタノール６ｍｌに溶解
し、０℃に於いて、ジアゾメタンのエーテル溶液を反応
液が黄色を呈するまで加える６ｇ圧下溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（メルク
社ローパーカラム、サイズＢ１酢酸エテル：トルエン虐
２：１）して、目的とするメチルエステル を２８２ｍｇ得る．酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混合溶媒
より結晶化し、結晶のＩｂａ−ａを２６０ｆｆ１ｇ（収
率８０．０％）得る。

・融点；１２１〜１２３℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
） ・’Ｈ−ＮＭＲ　：ε（ＣＤＣ１ｓ＋ＣＤｓＯＤ）　０
．８８　（３Ｈ．ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．１０〜１．８０　（８１，ｍ）、
　１．９０＝２．２０　（１Ｈ．ｍ）。

２、３５〜２．８１　（２８，ｍ）、　３．８２　＜３
８．ｓ）、　３．８〜４．４　（４８。

ｍ）、　４．７０　（２Ｈ．ｓ）、　５．４３〜５．８
６　（２Ｈ，ｍ）、　６．３９〜６．８７（３１劃）　
ｐｐｍ。

・ＸＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ．＞　３６０８．　３０
０８．　２９６０．　２９４０。

２８６４、　１７６２．　１７４４，　１６００．　１
４９８．　１４７６、　１１２５。

９７０　ａｍ−’。

実施例−１８〜３４ 実施例−１７の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルＩｂ−ａを得る．結果を表４に示す。

（以下余白） 実施例−３５ ［（１旦０．２互“、３ａ旦１．９ａ互１）−２−ヒド
ロキシ−１−［（３Ｒ”、１工）−３−ヒドロキシ−１
−オクテニルコ−２，３，３ａ、９ａ　−テトラヒドロ
−１旦−シクロペンタ［ｂ］［１゜４］ベンゾジオキシ
ン−５−イル］オキシ酢酸Ｉｈａ−ｂの製造 ｂａ−ａ ｂａ−ｂ メチルエステルＩｂａ−ａ（実施例−１７）１００ｍｇ
（０，２４６ミリモル）のメタノール２ｍ１溶液に、Ｉ
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０．５０ｍ１（０，５０ミリ
モル）を加え、室温で２５分間攪拌する０反応液に、Ｉ
Ｎ塩ｍｌ　、　０ｍ１（１、０ミリモル）と飽和食塩水
を加え、クロロホルムで抽出する。抽出液を、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒を留去して、カルボン酸Ｉｂａ−ｂの粗結晶を７７
ｍｇ得る。このものを、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混合
溶媒より再結晶して、融点１５６−１５８℃の結晶１ｂ
ａ−ｂを６８ｍｇ（収率７０．４％）得る。

・融点＝１５６〜１５８℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
） ・’Ｈ−ＮＭＲ：　８　（ＣＤ、ＯＤ）　０．８９　（
３Ｈ，１，Ｊ＝６Ｈｚ）。

１．１０（，８０（８Ｈ，ｍ）、　１．８２−２．１０
　（１Ｈ，ｍ）、　２．３３〜２．７５　（２Ｈ，ｍ）
、　３．８ｆｒ４．３５　（４Ｈ，ｍ）、　４．６３　
（２Ｈ，ｓ＞。

５．４１〜５．８１　（２Ｈ，ｍ）、　６．４２〜６．
８３　（３Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　ｉｚｍａｘ（ＫＢｒ）　３４０４．２９６（
１，２９４０，２Ｂ６４゜１７４５、１７０９．１６１
５．１５９６．１５０１．１４７７、１４３４゜１１３
１．９８４．　９６８．　９０４．　７６０．　７１２
　ａｍ−’。

実施例−３６〜４６ 実施例−３５の方法に準じ、カルボン酸Ｉｂ二１へ変換
し、結果を表５に示す。

（以下余白） 実施例−４７ ［（Ｉ　Ｒ”、２　Ｓ”、３　ａ　Ｒ”、９　ａ旦＊）
−２−ヒドロキシ−１−［（３互８，１旦）−３−ヒド
ロキシ−１−オクテニル］−２，３，３ａ、９ａ−テト
ラしドロー１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾ
ジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル　Ｉｄａ−ａ
　　の製造 Ｉｄａ−ａ 実施例−１７の方法に準じて反応を行い、シリルエーテ
ル１ｅａ−ａ（実施例−１及び５）２５２ｍｇより、目
的とするメチルエステルを１１０ｍｇ（収率６９．２％
）結晶として得る。

・融点：９５〜９７°Ｃ（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）
・’Ｈ−ＮＭＲ　：　８　（ＣＤＣ１＊＋ＣＤｓＯＤ）
　０．８７　（３）１．ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞、　１．ｌＯ〜１．８０　（８Ｈ，ｍ）、
　１．９２〜２．２０　（１Ｈ，ｍ）。

２、３０〜２．８０　（２１，＋ｎ）、　３．８０　（
３Ｈ．ｓ）、　３．８〜４．３　（４Ｈ。

ｍ）、　４．６８　（２Ｈ．ｓ）、　５．５０−５．９
０　（２Ｈ．ｍ）、　６．３７〜６．８７（３Ｈ．ｍ＞
　ｐｐｍ。

一ＩＲニジｍａｘ＜ＣＨＣｌｓ）　３６０８．　３００
８．　２９６０．　２９３９。

２８６４、　１７６３．　１？４４．　１６００，　１
４９８．　１４７９，　１１２７。

９７０　ｃｍ−’。

実施例−４８〜６３ 実施例−１７の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルＩｄ−ａを得る．結果を表６に示す。

（以下余白） 実施例−６４ ［（ＩＲ”、２旦−，３ａＳ”、９　ａＲ”）−２−１
−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−［（互０）−３
−ヒドロキシオクチル］−２，３，３ａ、９ａ−テトラ
ヒドロ−１旦−シクロペンタ［ｂ］［ｘ、ａ］ベンゾジ
オキシン−５−イル］オキシ酢酸メチル　１ｅａ−ａ　
　の製造Ｉａａ−＊ ｅａ−ａ 水素雰囲気下、アリルアルコールＩａａ−ａ（実施例−
１及び５）１８８ｍｇ（０，２９１ミリモル）の乾燥エ
タノール７．５ｍｌ溶液に、５％パラジウム−炭素１９
ｍｇを加え、室温で終夜攪拌を行う、触媒を濾別し、減
圧下溶媒を留去した残渣を、カラムクロマトグラフィー
精製（メルク社ローバーカラム、サイズＡ１酢酸エチル
−トルエン諺１：２０〜１：１０）Ｌ、て、目的とする
飽和アルフールＩｅａ−ａを１５６ｍｇ（収率８２．７
％）油状物質として得る。

・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤＣＩｓ）　０．８８　（
３Ｈ，１，Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．０３　（９Ｈ，ｓ）、　０．８０〜１．７０　（１
３Ｈ，ｍ＞、　１．９９〜２．４０（３Ｈ，ｍ）、　３
．３（１〜３．６１　（１Ｈ，ｍ）、　３．７７　（３
Ｈ，ｓ）、　３．７４ｒ４．０６　（２Ｈ，ｍ）、　４
．１２〜４．３７　（１Ｈ，ｍ）、　４．７０　（２Ｈ
，ｍ）。

６．４０＝６．８９　（３）１．ｍ）、　７．３３〜７
．５０　（６Ｈ，ｍ）、　７．６０〜７．８０　（４Ｈ
，ｍ）　ｐｐｆｆｉｌ。

−ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣＩｍ）　３６１６．３００
８．２９３６．２８６４゜１７６３、１７４１．１６０
０．１４９８．１４２６．１２９Ｇ、　１１１０゜８２
２、６１１　ａｍ−’。

・１１５　：　ｍ／ｚ　Ｍ”　６４６゜実施例−６５〜
７０ 実施例−６４の方法に準じ、還元反応を行い、飽和アル
コールＩｅ−ａを得る。結果を表７に示す。

（以下余白） 実施例−７１ ［（ｌ　Ｒ”、２　Ｓ”、３　ａ　Ｒ”、９　ａ　Ｓ”
）　−２−ヒドロキシ−１−［（Ｒ”）−３−ヒドロキ
シオクデルコ−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１
旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−
５−イル］オキシ酢酸メチルＩｆ’ａ−ａの製造 ｅａ−ａ ａ−ａ 実施例−１７の方法に準じて反応を行い、シリルエーテ
ル１ｅａ−ａ（実施例−６４）　１８６ｍｇ（０，２８
７ミリモル）より、目的とするメチルエステルＩｆ’ａ
−ａを８０ｍｇ（収率６８．２％）結晶として得る。

・融点二６９〜７０℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）・
’Ｈ−ＮＭＲ：ε（ＣＤＣ１，＋ＣＤ、ＯＤ）　０．８
７　（３Ｈ，ｔ。

Ｊ−７Ｈｚ）、　１．１０〜２．１８　（１４Ｈ，ｍ）
、　２．２２〜２．５７　（ＬＨ，ｍ）。

３．４２〜３．６９　（１Ｈ，ｍ）、　３．７９　（３
Ｈ，ｓ）、　３．７３〜４．１７（２Ｈ，ｍ）、　４．
１９−４．３５　（１Ｈ，ｍ）、　４．６７　（２Ｈ，
ｓ）、　６．３４〜６．８７　（３Ｈ，ａｌ）　Ｔ；）
ｐｌｌｌ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＣＨＣｌ、）　３６１６．３００
８．２９３６．２ｇ６４゜１７６２、１？４３．１６０
０．１４９８．１４７６、１２８６゜１１２４　ａｍ−
’。

実施例−７２〜７７ 実施例−１７の方法に準じ、脱シリル化反応を行い、メ
チルエステルＩｆ’−ａを得る。結果を表８に示す。

（以下余白） 実施例−７８ ［（Ｉ　Ｒ−２Ｓ”、３　ａ　Ｒ”、９　ａ　Ｓ”）　
−２−ヒドロキシ−１−［（Ｒ”）−３−ヒドロキシオ
フデル］−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−１旦−
シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−５−
イル］オキシ酢酸Ｉｆ’ａ−ｂの製造Ｉｆ’ａ−ａ 実施例−３５の方法に準じて反応を行い、メチルエステ
ルＩｆ’ａ−ａ　　４５ｍｇ（０，１１０ミリモル）か
ら目的とするカルボン酸Ｉｆａ−ｂ３４ｍｇ（収率７８
．２％）を結晶として得る。

・融点＝１１１〜１１３℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
） ・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤｓＯＤ）　０．８９　（
３Ｈ，１，Ｊ：６Ｈｚ＞。

１．０８＝２．１６　（Ｌ４Ｈ，ｍ）、　２．２３”２
．６２　（ｌＨ，ｍ）、　３．３８〜３．６７　（１Ｈ
，ｍ）、　３．７３〜４．０Ｏ（ＬＨ，ｍ＞、　４．０
０−４．３２（２１，ｍ）、　４．６３　（２Ｈ，ｓ）
、　６．４０〜６．８５　（３Ｈ，ｍ）　ｐｐｍ。

−ＩＲニジｍａｘ（にＢｒ）　３５０４．３３６ｇ、　
２９２８．２８５６゜１７１６、１６１５．１５９８．
１５００．１４７６、１２７９．１１３４゜７５９、７
１３　ａｍ−’。

実施例−７９〜８２ 実施例−３５の方法に準じて反応を行い、カルボン酸Ｉ
ｆ’−ｂを得る。結果を表９に示す。

（以下余白） 実施例−８３ ［（１旦“、２旦”、３ａＲ”、９ａＳ”）−２−ヒド
ロキシ−１−［（３旦９，１亙）−３−ヒドロキシ−１
−オクテニル］−２，３，３ａ、９ａ−テトラヒドロ−
１旦−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン
−５−イル］オキシ酢酸［（９−アントリル）メチル］
Ｉｂａ−ａ’の製造Ｈ６６Ｈ Ｉｂａ−ｂ Ｈ６♂Ｈ Ｉｂａ−ａ゛ カルボン酸Ｉｂａ−ｂ（実施例−３５）　２５ｎ＠（０
，０６４ミリモル）のメタノール０　、５　ｍｌ溶液に
、室温に於て、（９−アントリル）ジアゾメタン（２％
、酢酸エチル溶液）１．５ｍ１（０，１３８ミリモル）
を滴下する１滴下終了後、４５分間攪拌して、析出する
結晶を濾取して粗製の（９−アントリル）メチルエステ
ルＩｂａ−ａ。

（２７ｍｇ）を得る。この粗結晶を、ピリジンに溶解し
、不溶物を除去した後、酢酸エチルより再結晶を行って
、融点１８５−１８８＠ＣのＩｂａ−ａ’の結晶を１９
ｍｇ（収率５１．２％）得る。

・融点＝１８５〜１８８℃（酢酸エチル）・’Ｈ−ＮＭ
Ｒ：　８　（重ピリジン）　０．８３　（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．０２〜１．９３　（８Ｈ，ｍ）、
　２．１２〜２．７０　（２Ｈ，ｍ）。

２．９７〜３．３１　（１Ｈ，ｍ）、　４．１０〜４．
５０　（４Ｈ，ｍ）、　４．９５（２Ｈ，ｓ）、　５．
８６〜６．３０　（２）１．ｍ）、　６．４１　（２Ｈ
，ｓ）、　６．５５〜６．８３　（３Ｈ，ｍ）、　７．
３８〜７．７０　（４Ｈ，ｍ）、　８．００〜Ｂ、Ｌ７
（２Ｈ，ｍ＞、　８．３５＝８．６６　（３Ｈ，ｍ）　
ｐｐｍ。

・ＩＲ，：　Ｌ＋ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５９２．３４２
８．２９２８．２８５６゜１７４１、１５９６．１４９
９．１４７５．１２０７．１１２４．９７３゜７２３　
ａｍ−’。

実施例−８４ ［（Ｉ　Ｒ”、２　Ｓ”、３　ａ　Ｒ”、９　ａ　Ｓ”
）　−２−ヒドロキシ−１−［（３互１．１旦）−３−
ヒドロキシ−１−オクテニル］−２，３，３ａ、９ａ−
テトラしドロー１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４コベ
ンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸Ｉｄａ−ｂ　　
の製造 ｄａ−ａ ｄａ−ｂ 実施例−３５の方法に準じて反応を行い、メチルエステ
ルＩｄａ−ａ（実施例−４７）１１０ｎＩｇより、目的
とするカルボン酸Ｉｄａ−ｂを８Ｏｎ＠（収率７５．５
％）結晶として得る。

・融点：　１０９．５−１１１．５℃（酢酸エチル−Ｑ
　−ヘキサン） ・’Ｈ−ＮＭＲ：　Ｓ　（ＣＤｓＯＤ）　０．８９　（
３Ｈ，１，Ｊ：６Ｈｚ＞。

１．１０〜１．７０　（８Ｈ，ｍ）、　１．８２〜２．
１２　（ＬＨ，ｍ）、　２．３０〜２．７７　（２１，
ｍ）、　３．８５＝４．４３　（４Ｈ，ｍ）、　４．６
５　（２Ｈ，ｓ）。

５．４７〜５．９３　（２Ｈ，ｍ）、　６．４３〜６．
８５　（３１，ｍ）　ｐｐｍ。

・ＩＲ：　νｍａｘ（ＫＢｒ）　３４９６．３２４１．
２９３２．２８５２゜１７０８、１６１７．１５９６．
１５０２．１４７６、１１２９．９７ｇ。

７５８、７０２　ａｍ−’。

実施例−８５，８６ 実施例−３５の方法に準じて反応を行い、カルボン酸Ｉ
ｄ−ｂを得る。結果を表１０に示す。

（以下余白） 光ｙ跋り雅釆 本発明化合物は、作用持続時間が長く化学的に安定なベ
ンゾジオキサンＰＣ１，類縁体である。

本発明化合物は、Ｐ　Ｇ　Ｉ　！と同様に、細胞保護作
用および／または血小板凝集抑制作用を有する。特に、
本発明化合物は、強い細胞保護作用を有しており、消化
性潰瘍に対して有用な治療薬になりうる。以下に、その
代表的な化合物について、塩酸−エタノール潰瘍に対す
る抗潰瘍作用の試験例を示す。

［塩酸−エタノール潰瘍に対する効果］２４時間絶食し
たＪＣＬ−８Ｄ系またはＣＲＪ−３Ｄ系雄性ラツト（体
重２２０〜２６０ｇ）に１５０ｍＭ塩酸−６０％エタノ
ール１ｍｌを経口投与し、１時間後に胃を摘出した。実
体顕微鏡下に胃粘膜損傷の長さを測定し、この総和を潰
瘍係数とした。ビークル（１−１０％エタノール）オよ
び被検化合物は、塩酸−エタノール投与前３０分に経口
投与し、ビークル投与群に対する被検化合物の抑制率を
算出した。結果を表１１に示す。

表１１−１　　（ＪＣＬ−５Ｄ系ラツト）比較対照化合
物　Ｈｏｅ−８９２ 投与量３００　Ｉｔ　ｇ／Ｋｇ抑制率２８　Ｘ表１１−
２　　（ＣＲＪ−５Ｄ系ラツト〉“化合物番号は実施例
中の化合物番号に対応する。

本発明化合物は、塩酸−エタノール潰瘍を強く抑制する
。

（以下余白） 本発明化合物は、ＰＣｌ、と同様に、細胞保護作用を有
しており、食道、胃、十二指腸または胃手術後の吻合部
などの潰瘍性病変、すなわち消化性潰瘍に対して有用な
治療薬として用いられるなどその薬理的効果の応用が期
待される化合物である。

本発明化合物は、経口的にまたは非経口的に投与するこ
とができる。経口的には、例えば錠剤、カプセル剤、乳
剤、顆粒剤、細粒剤、水剤、乳剤などの剤形にし、非経
口的には、坐剤、あるいは注射剤例えば、静脈内注射剤
、筋肉的注射剤または皮下注射剤などになしうる。製剤
化の際には、通常用いられる適当な担体もしくは賦形剤
を使用する。

本発明化合物は、経口投与では成人１日約０゜１〜１０
０ｍｇが投与される。

特許出願人　　塩野義製薬株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１はアルキル、アルケニル、アルキニル、
   シクロアルキル、シクロアルキルアルキルまたはフェノ
   キシアルキル；Ｒ＿２は水素、低級アルキルまたはアラ
   ルキル；Ｒ＿３は水素または保護基；Ａはエチレンまた
   はビニレン；波線はα配置もしくはβ配置またはそれら
   の混合物を表わ す］で示される化合物またはその塩。 ２、Ｒ＿２が水素または低級アルキル；Ｒ＿３が水素で
   ある請求項１記載の化合物またはその塩。 ３、Ｒ＿１がアルキル、アルケニルまたはシクロアルキ
   ル；Ｒ＿２が水素または低級アルキル；Ｒ＿３が水素で
   ある請求項１記載の化合物またはその塩。 ４、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５−メ
   チル−１−ノネニル）−２，３，３ａ，９ａ−テトラヒ
   ドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオ
   キシン−５−イル］オキシ酢酸メチルである請求項１記
   載の化合物。 ５、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５−メ
   チル−１，８−ノナジエニル）−２，３，３ａ，９ａ−
   テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベ
   ンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチルである請
   求項１記載の化合物。 ６、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５，９
   −ジメチル−１，８−デカジエニル）−２，３，３ａ，
   ９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，
   ４］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸メチルで
   ある請求項１記載の化合物。 ７、［２−ヒドロキシ−１−（３−シクロヘキシル−３
   −ヒドロキシプロピル）−２，３，３ａ，９ａ−テトラ
   ヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジ
   オキシン−５−イル］オキシ酢酸メチルである請求項１
   記載の化合物。 ８、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５−メ
   チルノニル）−２，３，３ａ，９ａ−テトラヒドロ−１
   Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオキシン−
   ５−イル］オキシ酢酸メチルである請求項１記載の化合
   物。 ９、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５−メ
   チル−１−ノネニル）−２，３，３ａ，９ａ−テトラヒ
   ドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１，４］ベンゾジオ
   キシン−５−イル］オキシ酢酸である請求項１記載の化
   合物。 １０、［２−ヒドロキシ−１−（３−ヒドロキシ−５，
   ９−ジメチル−１，８−デカジエニル）−２，３，３ａ
   ，９ａ−テトラヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］［１
   ，４］ベンゾジオキシン−５−イル］オキシ酢酸である
   請求項１記載の化合物。