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JPH01285039A - Production of substrate for optical disk - Google Patents

Production of substrate for optical disk

Info

Publication number
JPH01285039A
JPH01285039A JP11423488A JP11423488A JPH01285039A JP H01285039 A JPH01285039 A JP H01285039A JP 11423488 A JP11423488 A JP 11423488A JP 11423488 A JP11423488 A JP 11423488A JP H01285039 A JPH01285039 A JP H01285039A
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JP
Japan
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stamper
substrate
release agent
optical disc
radiation
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JP11423488A
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Japanese (ja)
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Hideki Hirata
秀樹 平田
Masaru Takayama
勝 高山
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the camber of a stamper and to enable the transfer of the patterns possessed by the stamper with high accuracy by providing a release agent layer which is formed of a low mol.wt. release agent and has <=80Angstrom thickness on the surface of the stamper having the prescribed patterns. CONSTITUTION:The release agent layer 13 which is formed of the low mol.wt. release agent and has <=80Angstrom thickness is provided on the surface of the stamper 1. Lubricants such as stearic amide and barium stearate are used as the release agent. A substrate 3 for optical disks is then brought into pressurized contact with the top of the developed radiation curing type resin 2 and is irradiated with radiations such as UV rays from above by a radiation source 4 by which the substrate is adhered to the resin. The substrate 3 adhered with the resin 2 on the surface and the stamper 1 are then stripped and the substrate for optical disks transferred with the patterns on the surface of the stamper 1 on the surface is obtd. The generation of the camber in the stamper 1 is thereby substantially obviated and the transfer of the patterns possessed by the stamper with the high accuracy is enabled.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、レーザー光等の光を用いて情報の記録、再生
を行なう光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光デ
ィスク用の基板の製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a method of manufacturing a substrate for an optical disk such as an optical recording disk or a magneto-optical recording disk that records and reproduces information using light such as a laser beam. Regarding.

〈従来の技術〉 光ディスクは、通常、トラッキング制御・アドレス用等
のグループ・ビットを表面に有する透明基板上に、直接
あるいは間接的に記録膜・反射膜を設けて構成される。
<Prior Art> Optical discs are usually constructed by providing a recording film and a reflective film directly or indirectly on a transparent substrate having group bits for tracking control, addressing, etc. on the surface.

例えば、光磁気記録ディスクは、通常、希土類元素−遷
移金属の非晶質磁性薄膜を記録層として基板上に設け、
この記録層をレーザー光等の光の照射によりキュリー点
付近まで加熱しながら外部磁界を印加して、情報の記録
を行なう、 また、情報の再生は、記録層にレーザー光
等の光を照射して、カー回転角の変化を読み取ることに
より行なう。
For example, magneto-optical recording disks usually include an amorphous magnetic thin film of rare earth elements and transition metals as a recording layer on a substrate.
Information is recorded by applying an external magnetic field while heating this recording layer to near the Curie point by irradiating the recording layer with light such as a laser beam.In addition, information is reproduced by irradiating the recording layer with light such as a laser beam. This is done by reading the change in the Kerr rotation angle.

このような光磁気記録ディスクに用いられる基板には、
トラッキング制御用の溝あるいはビットや、アドレス用
のビットが形成される。
The substrate used for such magneto-optical recording disks includes
Grooves or bits for tracking control and bits for addressing are formed.

また、コンパクトディスク(CD)等の光ディスクは、
情報を担持するビットを形成した基板のビット側に反射
膜を設け、基板のビットが形成されている面と反対側の
面からレーザー光等の光を照射して、ビットの有無によ
る反射率の変化を読み取り、情報の再生を行なう。
In addition, optical discs such as compact discs (CDs)
A reflective film is provided on the bit side of the substrate on which bits carrying information are formed, and light such as a laser beam is irradiated from the opposite side of the substrate to the side on which the bits are formed. Read changes and reproduce information.

光記録媒体に用いられる基板にも、上記のような情報を
担持するビットの他、トラッキング制御用の溝あるいは
ビットや、アドレス用のビットが形成される。
In addition to bits carrying information as described above, grooves or bits for tracking control and bits for addressing are also formed on substrates used in optical recording media.

このような溝あるいはビットを基板の表面に設けるため
には、例えば、以下に述べるいわゆる2P法が用いられ
る。
In order to provide such grooves or bits on the surface of the substrate, for example, the so-called 2P method described below is used.

2P法では、まず、表面に所定のパターンを有するスタ
ンパの表面に放射線硬化型樹脂を展着し、この放射線硬
化型樹脂上に基板を圧接して、スタンパ表面のパターン
を樹脂に転写する。 次いで放射線の照射により樹脂を
硬化して樹脂と基板とを接着した後、樹脂層とスタンパ
とを剥離して、スタンパ表面のパターンが転写された光
ディスク用基板を得る。
In the 2P method, first, a radiation-curable resin is spread on the surface of a stamper having a predetermined pattern on the surface, and a substrate is pressed onto the radiation-curable resin to transfer the pattern on the stamper surface to the resin. Next, the resin is cured by irradiation with radiation to bond the resin and the substrate, and then the resin layer and the stamper are peeled off to obtain an optical disk substrate to which the pattern on the surface of the stamper has been transferred.

このような2P法において、スタンパと樹脂層との離型
性が悪い場合、樹脂表面への転写が不良となったり、ス
タンパにソリを生じ易い。
In such a 2P method, if the mold releasability between the stamper and the resin layer is poor, the transfer to the resin surface may be poor or the stamper may easily warp.

そこで、離型性を向上させるために、スタンパ表面に離
型剤の被膜をコートすることが行なわれている。 特開
昭62−293535号公報には、離型剤として高分子
樹脂(ポリエチレン)を用いることが提案されている。
Therefore, in order to improve the mold releasability, the surface of the stamper is coated with a film of a mold release agent. JP-A-62-293535 proposes the use of a polymer resin (polyethylene) as a mold release agent.

同公報では、ポリエチレン樹脂の溶液を調製し、この溶
液をスピンコードによりスタンパ表面に塗布し、熱処理
を行なうことによって厚さ0.01μm(100人)の
ポリエチレンフィルムを成膜している。
In this publication, a polyethylene resin solution is prepared, this solution is applied to the stamper surface using a spin cord, and heat treatment is performed to form a polyethylene film with a thickness of 0.01 μm (100 layers).

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、光ディスク用基板表面に転写されるパターンは
微細であるため、上記厚さの離型剤被膜を表面に有する
スタンパを用いると、基板表面へのパターンの転写が不
良となり、情報の再現性が低下する。
<Problems to be Solved by the Invention> However, since the pattern transferred to the surface of the substrate for an optical disk is minute, if a stamper having a release agent coating of the above thickness is used on the surface, it is difficult to transfer the pattern to the substrate surface. becomes defective, and the reproducibility of information decreases.

また、特開昭62−293535号公報に記載されてい
るように離型剤がポリエチレン等の高分子量物質から形
成される場合、熱処理あるいは紫外線・電子線等の照射
等の工程を必要とし、その際にスタンパに変形を生じや
すく高精度の表面を得にくい、 また、均一な薄膜を得
難い。
Furthermore, as described in JP-A No. 62-293535, when the mold release agent is formed from a high molecular weight substance such as polyethylene, a process such as heat treatment or irradiation with ultraviolet rays or electron beams is required. When using this method, the stamper tends to be deformed and it is difficult to obtain a highly accurate surface, and it is also difficult to obtain a uniform thin film.

本発明は、スタンパにソリが生じにくく、しかも、スタ
ンパの有するパターンが高い精度で転写された光ディス
ク用基板の製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical disc substrate in which warpage is less likely to occur in a stamper and a pattern of the stamper is transferred with high precision.

く課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記の本発明により達成される。Means to solve problems〉 Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち、本発明は、所定のパターンを有するスタンパ
の表面に放射線硬化型樹脂を展着し、展着された前記放
射線硬化型樹脂上に光ディスク用基板を圧接した後、放
射線を照射して前記放射線硬化型樹脂と前記光ディスク
用基板とを接着し、次いで、前記光ディスク用基板と前
記スタンパとを剥離して、前記スタンパ表面のパターン
が表面に転写された光ディスク用基板を得る光ディスク
用基板の製造方法において、前記スタンパ表面に、低分
子量離型剤から形成される厚さ80Å以下の離型剤層を
有することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法で
ある。
That is, the present invention spreads a radiation-curable resin on the surface of a stamper having a predetermined pattern, presses an optical disc substrate onto the spread radiation-curable resin, and then irradiates the radiation to remove the radiation. A method for manufacturing an optical disc substrate, in which a curable resin and the optical disc substrate are bonded, and then the optical disc substrate and the stamper are peeled off to obtain an optical disc substrate on which a pattern on the surface of the stamper is transferred to the surface. A method for manufacturing an optical disk substrate, characterized in that the stamper surface has a mold release agent layer made of a low molecular weight mold release agent and has a thickness of 80 Å or less.

以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の詳細な説明する断面図を、第1図に示す。A cross-sectional view illustrating the invention in detail is shown in FIG.

第1図において、スタンバ1は、通常、Ni等から形成
され、その形状は、円盤状等、目的に応じて種々のもの
とされる。 また、その寸法も、目的に応じて適当に定
められる。  また、その表面には、光ディスク用基板
に転写される情報を担持した溝やビット、あるいはアド
レス用のビットの母型パターンが形成されている。 ス
タンバ1は、通常、電解めっきにより形成される。 ま
た、その表面に形成されるパターンは、フォトエツチン
グ等により形成されたパターンを転写したものである。
In FIG. 1, a stand bar 1 is usually made of Ni or the like, and its shape can be various depending on the purpose, such as a disk shape. Further, its dimensions are also appropriately determined depending on the purpose. Further, on its surface, grooves and bits carrying information to be transferred to the optical disk substrate, or a matrix pattern of address bits are formed. The stand bar 1 is usually formed by electrolytic plating. Further, the pattern formed on the surface is a transfer of a pattern formed by photoetching or the like.

本発明では、このようなスタンバ1の表面に、低分子量
離型剤から形成される厚さ80Å以下の離型剤層13を
有する。
In the present invention, the surface of such a stand bar 1 is provided with a mold release agent layer 13 made of a low molecular weight mold release agent and having a thickness of 80 Å or less.

低分子量離型剤としては、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸バリウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸ブチ
ル、エチレンビスステアリルアミド等の滑剤が好ましい
6 これらのうち、特にステアリン酸アミド、ステアリ
ン酸亜鉛を用いることが好ましい、 離型剤層の厚さが
80人を超えると、パターンの転写不良が生じやすい、
 なお、離型剤層の厚さは10〜50人であると、さら
に好ましい結果を得る。
As the low molecular weight release agent, lubricants such as stearamide, barium stearate, zinc stearate, butyl stearate, and ethylene bisstearylamide are preferred.6 Among these, it is particularly preferable to use stearamide and zinc stearate. Preferably, if the thickness of the release agent layer exceeds 80 mm, poor pattern transfer is likely to occur.
In addition, more preferable results are obtained when the thickness of the mold release agent layer is 10 to 50.

このような離型剤層は、蒸着法あるいはラングミュア・
プロジェット法により設層されることが好ましい。 用
いる蒸着法、ラングミュア・プロジェット法に特に制限
はなく、設層条件は、用いる離型剤の種類により適当に
選択すればよい。
Such a release agent layer can be formed using a vapor deposition method or a Langmuir method.
Preferably, the layer is laid by the projector method. There are no particular restrictions on the vapor deposition method or Langmuir-Prodgett method used, and the layer formation conditions may be appropriately selected depending on the type of mold release agent used.

光ディスク用基板表面に上記母型パターンを転写する際
には、まず、スタンバ1の表面に設層された離型剤層1
3の表面に、放射線硬化型樹脂2を展着する。 放射線
硬化型樹脂を展着する方法としては、例えば、スタンバ
1を治具にセットし、この上に放射線硬化型樹脂を吐出
する方法を用いることが好ましいゆ 用いる放射線硬化
型樹脂は、通常の2P法に用いる樹脂であってよく、特
に制限はない。
When transferring the above-mentioned matrix pattern onto the surface of the optical disc substrate, first, the mold release agent layer 1 provided on the surface of the standber 1 is applied.
Radiation-curable resin 2 is spread on the surface of 3. As a method for spreading the radiation-curable resin, it is preferable to use a method of, for example, setting the stand bar 1 on a jig and discharging the radiation-curable resin onto it. The resin used in the method may be used, and there are no particular limitations.

次いで、展着された放射線硬化型樹脂2上に図示しない
加圧手段により光ディスク用基板3を圧接する。 圧接
された光ディスク用基板3の上から、放射線源4により
紫外線等の放射線を照射して放射線硬化型樹脂2を硬化
させ、放射線硬化型樹脂2と光ディスク用基板3とを接
着する。 次いで、表面に放射線硬化型樹脂2が接着さ
れた光ディスク用基板3とスタンバ1とを剥離して、ス
タンバ1表面のパターンが表面に転写された光ディスク
用基板を得る。
Next, the optical disc substrate 3 is pressed onto the spread radiation curable resin 2 by a pressure means (not shown). A radiation source 4 irradiates radiation such as ultraviolet rays from above the pressed optical disc substrate 3 to harden the radiation curable resin 2, thereby bonding the radiation curable resin 2 and the optical disc substrate 3. Next, the optical disc substrate 3 on whose surface the radiation-curable resin 2 is adhered and the stand bar 1 are separated to obtain an optical disc substrate on which the pattern on the surface of the stand bar 1 has been transferred.

なお、光ディスク用基板3は、放射線源4から照射され
る放射線と、情報の記録光および再生光に対して透明な
ものを用いる。 本発明では、ガラスあるいは樹脂製の
ものを用いることが好ましい、 樹脂としては、アクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリオ
レフィン樹脂等を用いることが好ましい。
Note that the optical disc substrate 3 is made of a material that is transparent to the radiation irradiated from the radiation source 4 and to the information recording light and reproduction light. In the present invention, it is preferable to use glass or resin. As the resin, it is preferable to use acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyolefin resin, etc.

光ディスク用基板3の厚さは通常0.5〜3mm程度と
され、外形形状は、円盤状あるいはその他目的に応じて
選定される。
The thickness of the optical disc substrate 3 is usually about 0.5 to 3 mm, and the external shape is selected depending on the purpose.

このようにして得られた光ディスク用基板は、希土類元
素−遷移金属の非晶質磁性薄膜を記録層として設層して
、光磁気記録媒体として用いることができる。 また、
このような基板表面にAl1等の反射膜を設層して、コ
ンパクトディスク等の光記録媒体として用いることがで
きる。
The optical disc substrate thus obtained can be used as a magneto-optical recording medium by providing an amorphous magnetic thin film of rare earth element-transition metal as a recording layer. Also,
A reflective film such as Al1 can be provided on the surface of such a substrate, and the substrate can be used as an optical recording medium such as a compact disk.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

直径150mm、厚さ0.3mmのNi製スクンバを、
電解めっきにより作製した。 母型パターンとしては、
1.6μmピッチ・0.8μm幅のグループを通常のマ
スクリング工程によりスタンバ表面に形成した。 この
スタンバ表面に、ステアリン酸アミドからなる離型剤層
を、真空蒸着により厚さ50人に形成し、本発明のスタ
ンパサンプル(サンプルNo、l)を得た。
A Ni sukumba with a diameter of 150 mm and a thickness of 0.3 mm,
Manufactured by electrolytic plating. As a matrix pattern,
Groups with a pitch of 1.6 μm and a width of 0.8 μm were formed on the surface of the stand bar by a normal mask ring process. A mold release agent layer made of stearic acid amide was formed on the surface of this stamper to a thickness of 50 mm by vacuum deposition to obtain a stamper sample of the present invention (sample No. 1).

また、サンプルNo、  lと同様にしてステアリン酸
アミドからなる厚さ100人の離型剤層を有するスタン
パ(サンプルNo、2)を作製した。 さらに、比較の
ために、離型剤層をスピンコードにより設層された厚さ
100人のポリエチレン層としたスタンパ(サンプルN
o、3)および離型剤層を設層しないスタンパ(サンプ
ルNo、4)を作製した。
In addition, a stamper (Sample No. 2) having a release agent layer made of stearic acid amide and having a thickness of 100 mm was produced in the same manner as Sample No. 1. Furthermore, for comparison, a stamper (sample N
Sample No. 3) and a stamper without a release agent layer (Sample No. 4) were prepared.

これらのスタンパをそれぞれ治具に入れ、その上に放射
線硬化型樹脂(紫外線硬化型アクリレート)を吐出した
後、この放射線硬化型樹脂上に、ビスフェノールA系の
光ディスクグレードポリカーボネート樹脂からなる直径
130mm、厚さ1.2mmの光ディスク用基板を圧接
した。 次に、光ディスク用基板側から水銀ランプによ
り紫外線を照射し、放射線硬化型樹脂と光ディスク用基
板とを接着した。
Each of these stampers is placed in a jig, and after discharging radiation-curable resin (ultraviolet-curable acrylate) onto the stamper, a 130 mm diameter, 130 mm thick plate made of bisphenol A-based optical disc grade polycarbonate resin is placed on top of the radiation-curable resin. An optical disk substrate with a diameter of 1.2 mm was pressed. Next, ultraviolet rays were irradiated from the optical disc substrate side using a mercury lamp to bond the radiation curing resin and the optical disc substrate.

次いで各スタンパから光ディスク用基板を剥離し、サン
プルNo、  1〜4からそれぞれ光ディスク用基板N
o、11〜14を得た。 光ディスク用基板No、11
は光ディスク用基板No、14とほぼ同レベルの信号を
与え、光ディスク用基板No、12は、やや欠陥は多い
が許容レベルの信号を与えた。 これらに対し、光ディ
スク用基板No、13は欠陥を多(発生し、また、信号
レベルも低かった。
Next, the optical disk substrate was peeled off from each stamper, and optical disk substrates N were obtained from samples No. 1 to 4, respectively.
o, 11-14 were obtained. Optical disc substrate No. 11
The optical disk substrate No. 14 gave a signal at almost the same level, and the optical disk substrate No. 12 had a few defects but gave a signal at an acceptable level. On the other hand, optical disc substrate No. 13 had many defects and also had a low signal level.

また、サンプルNo、  lおよび4を用いて転写を続
けたところ、サンプルNo、  lを用い転写された光
ディスク用基板は100回転写後も信号の乱れが発生し
なかったのに対し、サンプルNo、 4のを用いて作製
されたものは、10回転写後から外周部トラッキング信
号に乱れが生じた。
Furthermore, when transfer was continued using samples No. 1 and 4, no signal disturbance occurred on the optical disc substrate transferred using samples No. In the case manufactured using No. 4, disturbances occurred in the outer peripheral tracking signal after 10 transfers.

また、光ディスク用基板No、11〜14の表面に、ス
パッタ法により窒化シリコン膜およびTbz+Fetz
CC1y膜を成膜し、それぞれ光磁気記録ディスクNo
、21〜24を作製した。
In addition, a silicon nitride film and a Tbz+Fetz film were deposited on the surfaces of optical disc substrates Nos. 11 to 14 by sputtering.
A CC1y film was formed, and magneto-optical recording disk No.
, 21-24 were prepared.

これらについてトラッキング特性および記録・再生特性
を測定したところ、光磁気記録ディスクNo、21.2
2および24は正常に作動したが、光磁気記録ディスク
No、23はエラー・トラッキング外れが発生し易かっ
た。
When the tracking characteristics and recording/reproducing characteristics of these were measured, it was found that the magneto-optical recording disk No. 21.2
2 and 24 operated normally, but magneto-optical recording disk No. 23 was prone to errors and tracking loss.

以上の結果から、本発明の効果が明らかである。From the above results, the effects of the present invention are clear.

〈発明の作用効果〉 本発明では低分子量離型剤からなる厚さ80Å以下の離
型剤層を用いるため、本発明によれば、スタンパと光デ
ィスク用基板の離型性が良好でスタンパにソリが生じに
くく、しかも、スタンパの有するパターンが高い精度で
転写された光ディスク用基板が得られる。
<Operations and Effects of the Invention> Since the present invention uses a mold release agent layer with a thickness of 80 Å or less made of a low molecular weight mold release agent, according to the present invention, the mold releasability between the stamper and the optical disk substrate is good, and the stamper does not flex. It is possible to obtain an optical disc substrate in which the pattern of the stamper is transferred with high precision and which is less likely to occur.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の詳細な説明するための断面図である
。 符号の説明 ■・・・スタンパ。 13・・・離型剤層、 2・・・放射線硬化型樹脂、 3・・・光ディスク用基板、 4・・・放射線源
FIG. 1 is a sectional view for explaining the present invention in detail. Explanation of the symbol ■...Stamper. 13... Mold release agent layer, 2... Radiation curable resin, 3... Optical disc substrate, 4... Radiation source

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)所定のパターンを有するスタンパの表面に放射線
硬化型樹脂を展着し、展着された前記放射線硬化型樹脂
上に光ディスク用基板を圧接した後、放射線を照射して
前記放射線硬化型樹脂と前記光ディスク用基板とを接着
し、次いで、前記光ディスク用基板と前記スタンパとを
剥離して、前記スタンパ表面のパターンが表面に転写さ
れた光ディスク用基板を得る光ディスク用基板の製造方
法において、 前記スタンパ表面に、低分子量離型剤から形成される厚
さ80Å以下の離型剤層を有することを特徴とする光デ
ィスク用基板の製造方法。
(1) Spread a radiation-curable resin on the surface of a stamper having a predetermined pattern, press an optical disc substrate onto the spread radiation-curable resin, and then irradiate the radiation-curable resin with radiation. and the optical disc substrate, and then peeling off the optical disc substrate and the stamper to obtain an optical disc substrate having a pattern on the surface of the stamper transferred to the surface. 1. A method for manufacturing an optical disc substrate, comprising: a mold release agent layer formed from a low molecular weight mold release agent and having a thickness of 80 Å or less on the surface of a stamper.
(2)離型剤層が、蒸着法により設層される請求項1に
記載の光ディスク用基板の製造方法。
(2) The method for manufacturing an optical disk substrate according to claim 1, wherein the release agent layer is formed by a vapor deposition method.
(3)離型剤層が、ラングミュア・プロジェット法によ
り設層される請求項1に記載の光ディスク用基板の製造
方法。
(3) The method for manufacturing an optical disk substrate according to claim 1, wherein the mold release agent layer is formed by a Langmuir-Prodgett method.
JP11423488A 1988-05-11 1988-05-11 Method for manufacturing optical disk substrate Expired - Fee Related JP2540464B2 (en)

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