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JPH02121349A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JPH02121349A
JPH02121349A JP63272970A JP27297088A JPH02121349A JP H02121349 A JPH02121349 A JP H02121349A JP 63272970 A JP63272970 A JP 63272970A JP 27297088 A JP27297088 A JP 27297088A JP H02121349 A JPH02121349 A JP H02121349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
clock
wiring
cells
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63272970A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2834156B2 (en
Inventor
Toshio Doi
俊雄 土井
Takehisa Hayashi
剛久 林
Kenichi Ishibashi
賢一 石橋
Mitsuo Asai
浅井 光男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63272970A priority Critical patent/JP2834156B2/en
Priority to KR1019890015696A priority patent/KR0150778B1/en
Publication of JPH02121349A publication Critical patent/JPH02121349A/en
Priority to US07/793,296 priority patent/US5223733A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2834156B2 publication Critical patent/JP2834156B2/en
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    • G11INFORMATION STORAGE
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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  • Logic Circuits (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路に係り、特にダイナミック回路
を用いた高速の大規模集積回路(LSI)を短期間に設
計可能な半導体集積回路及びその設計方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and in particular to a semiconductor integrated circuit that can design a high-speed large-scale integrated circuit (LSI) using a dynamic circuit in a short period of time, and its use. Regarding design methods.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、ダイナミック回路を用いた高速論*r、s■1こ
関しては、アイ・ニス・ニス・シー・シーダイジェスト
 オン テクニカルペーパーズ、1987年、第62頁
(T S S CCDigest ofTechnic
al papers、 1987. p、62)におい
て論じられている。また、プリチャージ回路による高速
化に関しては、シンポジウム オン ヴイエルエスアイ
 テクノロジー、ダイジェスト オン テクニカル ペ
ーパーズ年、第93頁(Symposium onVL
SI Technology、 Digest of 
Technial Pagers。
Conventionally, regarding high-speed theory *r, s■1 using dynamic circuits, see I Niss Niss C Digest on Technical Papers, 1987, p. 62 (T S S CC Digest of Technic
al papers, 1987. Discussed on p. 62). In addition, regarding speeding up using precharge circuits, see Symposium on VLSI Technology, Digest on Technical Papers, p. 93 (Symposium on VLSI Technology, Digest on Technical Papers, p. 93).
SI Technology, Digest of
Technical Pagers.

pp、93. (1,987) )及び特開昭62−9
8827において論じられている。さらに自動設計シス
テムによる設計期間の短縮に関しては、プロシーデイン
ゲス オン アイ・シー・シー・シー 1982年、第
512頁から第515頁(Proceedings o
fICCC,198z、Pp、512−515) 4m
おイテ論じられテイル。
pp, 93. (1,987)) and JP-A-62-9
8827. Furthermore, regarding shortening the design period using automatic design systems, see Proceedings on I.C.C., 1982, pp. 512-515.
fICCC, 198z, Pp, 512-515) 4m
It's a well-argued tale.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術のプリチャージ回路により複雑な論理能力
を持つ回路の高速化を図ることができるが、この回路を
用いたLSIを設計する際には、下記の点に留意する必
要がある。
Although the above-mentioned conventional precharge circuit can increase the speed of a circuit with complex logic capabilities, the following points must be kept in mind when designing an LSI using this circuit.

(1)回路内部のダイナミック・ノードとその近傍の信
号配線間に容量結合があると、回路動作中の配線の電位
変動によってダイナミック・ノードが影響を受けて電位
が変化し、回路の動作マージン低下、ひいては誤動作を
引き起こす場合である。このためセルのレイアウトに際
し、セル内部の配線とダイナミック・ノード間の静電容
量に注意を払う必要がある。
(1) If there is capacitive coupling between a dynamic node inside a circuit and a signal wiring in its vicinity, the dynamic node will be affected by potential fluctuations in the wiring during circuit operation, causing the potential to change, reducing the circuit's operating margin. , and may even cause malfunctions. Therefore, when designing a cell layout, it is necessary to pay attention to the capacitance between the wiring inside the cell and the dynamic node.

(2)上記と同じ理由でプリチャージ回路を用いたセル
の上空には信号配線を通すことができない。
(2) For the same reason as above, signal wiring cannot be passed above cells using precharge circuits.

(3)プリチャージ回路を用いたセルすべてに同位相の
クロック信号を供給する必要がある。
(3) It is necessary to supply clock signals of the same phase to all cells using precharge circuits.

まず(1)に関しては、LSIの設計に必要な多種多様
のセルをレイアウト設計する際に、各セル毎に上記の点
に注意しながら作業を進めなければならないため自動化
がむずかしく、非常に時間を要した。また、レイアウト
ルール、プロセス等が変更された場合のセル修正に要す
る作業呈も膨大であった。次に、この様にして設計され
たセルを配置し、セル間の配線を行ってLSIを完成さ
せる工程では、上記(2)がDA核技術よる自動配置配
線の大きな障害となっていた。更に(3)に関しては、
LSIチップ全体にわたってクロック信号給電系を注意
深く設計する必要があり、DA化は困離であった。
First, regarding (1), when designing the layout of the various cells required for LSI design, the work must be done while paying attention to the above points for each cell, which makes automation difficult and extremely time-consuming. It took. Furthermore, the amount of work required to modify cells when layout rules, processes, etc. are changed is enormous. Next, in the step of arranging the thus designed cells and wiring between the cells to complete the LSI, the above (2) has been a major obstacle to automatic placement and wiring using the DA core technology. Furthermore, regarding (3),
The clock signal power supply system had to be carefully designed throughout the LSI chip, making it difficult to convert it into a DA.

本発明の目的は、プリチャージ回路を用いたLSIにお
いて、DA核技術適用可能とすることにより、高速のL
SIを短期間で設計可能とすることにある。
An object of the present invention is to enable high-speed LSI technology to be applied to LSIs using precharge circuits.
The objective is to be able to design SI in a short period of time.

本発明の他の目的は、LSIに要求される性能及びコス
トに応じて、−組の設計データから論理機能は同一で性
能、コスト等が異なる複数のLSIを設計可能とするこ
とにある。
Another object of the present invention is to make it possible to design a plurality of LSIs with the same logical function but different performance, cost, etc. from the set of design data, depending on the performance and cost required for the LSI.

本発明の他の目的は、LSI設計の基本単位であるセル
の設計工数を低減し、レイアウトルール等の変更に対し
迅速に対応可能なセル、ライブラリを構築可能とするこ
とにある。
Another object of the present invention is to reduce the number of design steps for cells, which are the basic unit of LSI design, and to make it possible to construct cells and libraries that can quickly respond to changes in layout rules and the like.

本発明の他の目的は、複数個のプリチャージ回路が縦続
接続されて成る部分を含む論理回路に於て回路段数を削
減することにある。
Another object of the present invention is to reduce the number of circuit stages in a logic circuit including a portion in which a plurality of precharge circuits are connected in cascade.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、DA核技術適用のためにはプリチャージ型回
路を用いたセルに於て、セル内の高インピーダンス・ノ
ードを電源配線層で覆うとともに、セル列に埋め込める
クロックバッファを設け、セル列に沿ってクロック信号
チャネルを設けたものである。
In order to apply DA nuclear technology, the present invention covers high impedance nodes within the cell with a power supply wiring layer in a cell using a precharge type circuit, and provides a clock buffer that can be embedded in the cell column. Clock signal channels are provided along the columns.

また1組の設計データから特性の異なるLSIを設計す
るためには、機能は同じでプロセス・回路の異なる複数
のセルライブラリを設けたものである。
Furthermore, in order to design LSIs with different characteristics from one set of design data, a plurality of cell libraries with the same function but different processes and circuits are provided.

またセルの設計工数低減のためには、数種の基本セルと
各セル毎のセル内配線の情報からセルライブラリを作成
することとしたものである。
In addition, in order to reduce the number of steps required for cell design, a cell library was created from several types of basic cells and information on the intra-cell wiring for each cell.

さらに、論理回路の段数削減のために2種類のプリチャ
ージ型回路の組合せて用いたものである。
Furthermore, two types of precharge type circuits are used in combination to reduce the number of logic circuit stages.

〔作用〕[Effect]

セル内の高インピーダンス・ノードが電源配線層でシー
ルドされるので、その上を配線が通過できる。またセル
列に埋め込めるクロックバッファとクロック信号チャネ
ルを設けることにより、クロックバッファの配置に制限
がない。これらにより、プリチャージ型回路を用いたL
SIをDA核技術よる自動配置配線によって設計可能と
なる。
High impedance nodes within the cell are shielded by the power wiring layer, allowing wiring to pass over it. Further, by providing a clock buffer and a clock signal channel that can be embedded in a cell column, there are no restrictions on the arrangement of the clock buffer. With these, L
SI can be designed by automatic placement and routing using DA nuclear technology.

また使用セルとして複数のセルライブラリの中から最適
なものを選択することにより、要求性能、コスト等に応
じた設計を行うことができる。
Furthermore, by selecting the optimal cell to use from among a plurality of cell libraries, it is possible to design according to required performance, cost, etc.

またセルのレイアウト作業が、基本セルと配線情報から
シンボリツクに行えるので、セルライブラリ構築に要す
る時間を大幅に短縮できる。
Furthermore, since cell layout work can be performed symbolically from basic cells and wiring information, the time required to construct a cell library can be significantly reduced.

さらに2種のプリチャージ回路を組合せて用いることに
より、従来例において必要であった入力信号制御用回路
を取り除くことができる。
Furthermore, by using two types of precharge circuits in combination, it is possible to eliminate the input signal control circuit required in the conventional example.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の詳細な説明する。 The present invention will be explained in detail below.

第1図は本発明を実施したセルの例を示し、同図(a)
はセルの回路図、同図(b)は同図(a)の回路のレイ
アウトの概略図、同図(C)及び(d)は他の回路形式
によるセル回路図を示した妃のである。
FIG. 1 shows an example of a cell implementing the present invention, and FIG.
is a circuit diagram of a cell, (b) is a schematic diagram of the layout of the circuit in (a), and (C) and (d) are cell circuit diagrams of other circuit formats.

図において、101,103,104はプリチャージ回
路による3人力ANDセル、102はCMOSスタティ
ック回路によるインバータセル。
In the figure, 101, 103, and 104 are three-man-powered AND cells using a precharge circuit, and 102 is an inverter cell using a CMOS static circuit.

Cl0L、ClO2はクロック信号配線、1101〜1
103は入力信号配線、vDDは電源配線、GNDはグ
ランド配線、0101はANDセル101の出力信号配
線、0102はインバータセル102の出力信号配線、
0103は103の出力信号配線、0104は104の
出力信号配線、PIOI〜P115はPMO3FET、
Nl0I〜N115はNMO8FET、1,2はNMO
8FET、3.4はゲート、5,6゜8は拡散層接続用
コンタクトホール、7はセル間配線接続用スルーホール
、9〜11はダイナミック・ノード、20はクロック信
号給電用端子である。また第2図は第1図のX−X断面
を示したものである。201はシリコン基板、202は
ウェル、203は酸化膜、204,205,206は眉
間絶縁膜である。なお本図ではjlo】より上層の配線
層、層間絶縁膜、パッシベーション膜は省略されている
。この実施例では 1、第1図に示した様にプリチャージ回路を用いたセル
101に於て電源およびグランド配線の配置、セルの外
形および高さ、入出力端子の位置等のレイアウトに関す
る仕様がCMOSスタティック回路のスタンダードセル
102と同じに設定されているため、セルの配置に関し
てはスタンダードセルと同様のDA核技術用いて行うこ
とができる。
Cl0L, ClO2 are clock signal wiring, 1101-1
103 is an input signal wiring, vDD is a power supply wiring, GND is a ground wiring, 0101 is an output signal wiring of the AND cell 101, 0102 is an output signal wiring of the inverter cell 102,
0103 is the output signal wiring of 103, 0104 is the output signal wiring of 104, PIOI~P115 is PMO3FET,
Nl0I~N115 are NMO8FETs, 1 and 2 are NMO
8FET, 3.4 is a gate, 5, 6.8 is a contact hole for connecting a diffusion layer, 7 is a through hole for interconnection between cells, 9 to 11 are dynamic nodes, and 20 is a clock signal power supply terminal. Further, FIG. 2 shows a cross section taken along line XX in FIG. 1. 201 is a silicon substrate, 202 is a well, 203 is an oxide film, and 204, 205, and 206 are glabella insulating films. Note that in this figure, the wiring layer, interlayer insulating film, and passivation film located above [jlo] are omitted. In this example, 1. As shown in FIG. 1, in the cell 101 using a precharge circuit, specifications regarding the layout such as the arrangement of power supply and ground wiring, the outer shape and height of the cell, and the position of input/output terminals are specified. Since the setting is the same as that of the standard cell 102 of the CMOS static circuit, the cell can be arranged using the same DA core technology as the standard cell.

2、セル内のダイナミック・ノード9〜11の上空は電
位が固定している電源配線VDD及びグランド配線GN
Dでほぼ覆われているため。
2. Above the dynamic nodes 9 to 11 in the cell are the power supply wiring VDD and ground wiring GN, which have a fixed potential.
Because it is almost covered by D.

セル上空を通過している信号配線1101とダイナミッ
ク・ノード間の静電容量を充分小さく抑えられるので、
セル上空の8Il!線に制限がない。これによりスタン
ダードセルと同様に、セル間の接続配線を自動化するこ
とができる。
Since the capacitance between the signal wiring 1101 passing above the cell and the dynamic node can be kept sufficiently small,
8Il above Cell! There are no limits to the line. This makes it possible to automate the connection wiring between cells, similar to standard cells.

3、クロック信号配線C101をセル列に沿って、セル
の上端に隣接して設けた八め、(1)クロック信号を必
要とするセルは、クロック信号給電用端子20を設ける
ことにより自動的に0101に接続される。(2)DA
により自動配置配線を行う際にクロック信号配線を行う
必要がない。
3. The clock signal wiring C101 is provided along the cell row and adjacent to the upper end of the cell. (1) Cells that require a clock signal are automatically connected by providing the clock signal power supply terminal 20. Connected to 0101. (2) D.A.
Therefore, there is no need to perform clock signal wiring when performing automatic placement and wiring.

以上述べた1〜3により、本発明を適用することによっ
てプリチャージ回路を用いたセルを含むLSIのスタン
ダードセルと同様のDA核技術よる自動設計が可能とな
る。なおりロック信号配線C101はセル列に最も近い
チャネルに設けることにより、他の信号配線の障害とな
るのを防止することができる。またクロック信号配線に
接続されるFETの数は他の信号線より多いため、負荷
容量が大きく従って動作時に配線上を流れる電流も大き
いため配線抵抗による電位降下並びに延遅時間増加及び
マイグレーションに対する条件が他の信号配線より厳し
くなる。これを緩和するには第1図に示した様にC10
1の線幅を他の信号線より広くすればよい。
According to 1 to 3 described above, by applying the present invention, automatic design using DA core technology similar to standard LSI cells including cells using a precharge circuit becomes possible. By providing the lock signal wiring C101 in the channel closest to the cell column, it is possible to prevent it from interfering with other signal wiring. Furthermore, since the number of FETs connected to the clock signal wiring is larger than that of other signal lines, the load capacity is large, and the current flowing through the wiring during operation is also large, so there are conditions for potential drop due to wiring resistance, increase in delay time, and migration. It is more difficult than other signal wiring. To alleviate this problem, as shown in Figure 1, C10
The line width of signal line 1 may be made wider than that of the other signal lines.

以上の実施例では回路としてCMO8を用いたが、更に
高速化を図る方法の一つとして以下に述べる様に、バイ
ポーラ・トラジスタを併用したBi−CMO5回路があ
る。第3図(a)はBjCMOSプリチャージ回路の回
路図、第3図(b)はB1CMOSインバータ回路の回
路図を示したものである。C301はクロック信号配線
、1301〜1304は入力信号配線、0301゜03
02は出力信号配線、P301〜P303はPMO5F
ET、N301〜N310はNMO8FET、Q301
〜Q304はNPN型バイポーラトランジスタである。
In the above embodiment, CMO8 was used as the circuit, but as a method for further increasing the speed, there is a Bi-CMO5 circuit using a bipolar transistor in combination, as described below. FIG. 3(a) shows a circuit diagram of a BjCMOS precharge circuit, and FIG. 3(b) shows a circuit diagram of a B1CMOS inverter circuit. C301 is clock signal wiring, 1301 to 1304 are input signal wiring, 0301゜03
02 is output signal wiring, P301 to P303 are PMO5F
ET, N301 to N310 are NMO8FET, Q301
~Q304 is an NPN type bipolar transistor.

また第4図(a)。Also, FIG. 4(a).

(b)は第3図(、)とは異なる回路形式によるB1C
MOSプリチャージ回路の回路図を示したものであり、
C401,C402はクロック信号配線。
(b) is a B1C with a different circuit type from that in Figure 3 (,).
It shows a circuit diagram of a MOS precharge circuit,
C401 and C402 are clock signal wiring.

1401〜1405は人力信号配線、0401゜C41
1は出力信号配線、P2O3〜P404及びP411〜
P415はPMO3FET、N401〜N408及びN
411〜N419はNMO3FET、C401及びC4
11はNPN型バイポーラトランジスタである。dらに
第5図は第4図(b)の回路のレイアウト例の概略を示
したものである。第1図(b)と同様に本発明を適用す
ることによってDA核技術よる自動設計が可能となる。
1401-1405 are human signal wiring, 0401°C41
1 is output signal wiring, P2O3~P404 and P411~
P415 is PMO3FET, N401 to N408 and N
411-N419 are NMO3FET, C401 and C4
11 is an NPN type bipolar transistor. FIG. 5 schematically shows an example of the layout of the circuit shown in FIG. 4(b). By applying the present invention in the same manner as in FIG. 1(b), automatic design using DA nuclear technology becomes possible.

また第4図(b)の回路ではC401とC402の2本
のクロック信号配線が必要であるため、第5図に示した
様にセル列の上下に隣接して配置している。
Furthermore, since the circuit of FIG. 4(b) requires two clock signal wires C401 and C402, they are arranged adjacent to each other above and below the cell column as shown in FIG.

この様にBiCMO3回路を用いたセルが実現可能とな
ることにより 1、C,MO5回路によるセルとBiCMO8回路によ
るセルがDA核技術よる自動設計の面からは同等に取り
扱えるため、LSIの論理設計者がDAシステムに入力
した一組の論理設計データを用いてCMO8回路による
LSIとBiCMO3回路によるLSIの両方を自動設
計できる。一般にBiCMO5回路を用いるとCMO8
回路を用いた場合に比べて高速のLSIを実現できる一
方プロセスが複雑なためコストは高くなる。従って設計
対象のLSIに要求される性能、コスト等に論理設計を
変更することなしに対応することができる。
In this way, by making it possible to realize cells using BiCMO3 circuits, cells using 1, C, MO5 circuits and cells using BiCMO8 circuits can be treated equally from the point of view of automatic design using DA nuclear technology, allowing LSI logic designers to Using a set of logic design data input into the DA system, it is possible to automatically design both an LSI using 8 CMO circuits and an LSI using 3 BiCMO circuits. Generally, when using BiCMO5 circuit, CMO8
Although it is possible to realize a high-speed LSI compared to the case using circuits, the process is complicated and the cost is high. Therefore, the performance, cost, etc. required for the LSI to be designed can be met without changing the logical design.

2、一般にDAにより自動設計を行った場合、人手で設
計した場合と比較してセル間の配線長が増加するととも
に、そのばらつきも増大する。これは回路の負荷容量の
増加とそのばらつきの増大、更に回路の遅延時間の増加
とそのばらつきの増大の原因となる。前者は回路性能の
低下を招き後者もばらつきによる性能変化分をマージン
として予め見込んでおく必要があるため性能低下と等価
である。ここでBiCMO8回路を用いると、その電流
即動能力の大きさ故にCMO3回路に比して回路性能の
負荷容量依存性が小さいため上記の要因による性能低下
を低減できるので、自動設計によるLSIに好適である
2. Generally, when automatic design is performed by DA, the wiring length between cells increases and the variation thereof increases compared to when designing is done manually. This causes an increase in the load capacity of the circuit and an increase in its dispersion, as well as an increase in the delay time of the circuit and an increase in its dispersion. The former causes a decrease in circuit performance, and the latter is also equivalent to a decrease in performance because it is necessary to estimate in advance the performance change due to variations as a margin. If a BiCMO8 circuit is used here, the dependence of the circuit performance on the load capacitance is smaller than that of the CMO3 circuit due to its large current-immediate-acting capability, which can reduce performance deterioration due to the above factors, making it suitable for automatically designed LSIs. It is.

等が可能となり、その効果は大である。etc., and the effect is great.

次に本発明を適用したセルライブラリの構築方法につい
て述べる。一般に、スタンダードセル方式により自動設
計を行う場合、種々の請理機能を有するセルから成るセ
ルライブラリが必要である。
Next, a method of constructing a cell library to which the present invention is applied will be described. Generally, when performing automatic design using the standard cell method, a cell library consisting of cells having various request functions is required.

セルライブラリの構築には数十種類のセルが必要であり
、しかも従来はこれらを人手でレイアウトしていたため
、その工数は膨大なものであった。
Building a cell library requires dozens of types of cells, and in the past, these had to be laid out manually, resulting in an enormous amount of man-hours.

従来の方法によりプリチャージ回路を含むセルのレイア
ウトを行うと、ダイナミック・ノードに関して前述の点
に留意しなければならないため工数は一段と増加する。
When a cell including a precharge circuit is laid out using the conventional method, the number of steps increases further because the above-mentioned points regarding the dynamic node must be taken into consideration.

本発明はこの問題を解決するものである。The present invention solves this problem.

第6図(a)、(b)、(c)はセルライブラリに含ま
れるセルの回路図の例を示したものである。
FIGS. 6(a), (b), and (c) show examples of circuit diagrams of cells included in the cell library.

これらは高速性を要求される加算器に対して一般的に用
いられる桁上げ先見発生回路を構成するのに必要なセル
である。なお桁上げ先見発生回路に関しては例えば、田
丸啓吉著「論理回路の基礎」第227頁において論じら
れている。
These cells are necessary for constructing a carry lookahead generation circuit that is generally used for adders that require high speed performance. The carry lookahead generation circuit is discussed, for example, in Keikichi Tamaru's ``Fundamentals of Logic Circuits'', page 227.

本発明を適用したセルは、セル内のMOS  FET、
バイポーラトランジスタ、抵抗等のデバイス及び電源配
線に関するレイアウト情報のみを有する数種類のセル(
以下基本セルと呼ぶ)とセル内配線層、コンタクトホー
ル、スルーホール等及び必要な基本セルの配置に関する
レイアウト情報のみを有する各セルに固有のセル(以下
配線セルと呼ぶ)とを合成することにより作成する。第
7図(a)、(b)は基本セルの例を示したものであり
、P2O3〜P703はPMO8FET、N701−N
704はNMO5FET、Vooは電源配線、GNDは
グランド配線である。なお第6図に示した様な回路で直
列に接続されたN、MOSFETのゲート幅をグランド
に近い順に大きく設計することにより高速化を図ること
ができることが、プロシーディングスオブアイ・シー・
シー・シー、1982年、第112頁がら第115頁(
Proceedings of the 1982 I
CCC,1982゜pp、112−115)において論
じられているが、第7図に示した基本セルは種々のゲー
ト幅のMOSFETを含むことによりこの様な設計を容
易に実現できる。第8図は基本セルと配線セルを合成す
ることによりセルのレイアウトを完成した結果列の概略
を示したものである。第8図(いは第6図(a)に、第
8図(b)は第6図(b)に、第8図(c)は第6図(
c)にそれぞれ対応する。第8図(a)。
A cell to which the present invention is applied has a MOS FET in the cell,
Several types of cells (with only layout information regarding devices such as bipolar transistors and resistors and power wiring)
By synthesizing a cell (hereinafter referred to as a basic cell) and a cell unique to each cell (hereinafter referred to as a wiring cell) that has only layout information regarding internal wiring layers, contact holes, through holes, etc. and the necessary arrangement of basic cells. create. Figures 7(a) and (b) show examples of basic cells, where P2O3 to P703 are PMO8FETs, N701-N
704 is an NMO5FET, Voo is a power supply wiring, and GND is a ground wiring. It is noted in the Proceedings of the I.C.C.
C.C., 1982, pp. 112-115 (
Proceedings of the 1982 I
CCC, 1982, pp. 112-115), the basic cell shown in FIG. 7 can easily implement such a design by including MOSFETs of various gate widths. FIG. 8 schematically shows the resultant array of completed cell layouts by combining basic cells and wiring cells. Figure 8 (or Figure 6 (a), Figure 8 (b) Figure 6 (b), Figure 8 (c) Figure 6 (
c) respectively. Figure 8(a).

(b)のセルは第7図(a)に示した基本セルと、それ
ぞれのセルに固有の配線セルとを合成することによって
作成している。また第8図(C)のセルは第7図(a)
及び(b)の基本セルを隣接して配置し、これらと配線
セルとを合成することにより作成する。更に、基本セル
のレイアウトは従来のセルレイアウトと同様の方法で行
うが、配線セルのレイアウトは、設計者がコンタクトホ
ール、スルーホールの位置及びセル内配線をシンボリッ
クに人力するのみで、実際のパターンへの変更作業はD
Aで行う。以上述べたセル生成方式によりa、従来数十
種必要であったセルのレイアウト作業が基本セルの数種
のみに削減可能である。
The cell shown in FIG. 7(b) is created by combining the basic cell shown in FIG. 7(a) and a wiring cell specific to each cell. Also, the cell in FIG. 8(C) is as shown in FIG. 7(a).
It is created by arranging the basic cells of and (b) adjacent to each other and composing these and a wiring cell. Furthermore, the basic cell layout is performed in the same way as conventional cell layout, but the wiring cell layout is done only by the designer manually inputting the positions of contact holes, through holes, and wiring within the cell; The change work to D
Do it with A. With the cell generation method described above, a) the cell layout work, which conventionally required several dozen types, can be reduced to only a few types of basic cells.

b、基本セル設計時にダイナミック・ノードの取扱いを
検討しておくことにより、その基本セルを用いてセルを
合成する限りはセル毎に再検討する必要がない。
b. By considering the handling of dynamic nodes at the time of basic cell design, there is no need to reconsider each cell as long as cells are synthesized using the basic cell.

C1配線セルがシンポリンクにレイアウト可能なため、
セルの論理変更や新規セルの追加等を迅速に行える。
Since the C1 wiring cell can be laid out in sympolink,
You can quickly change cell logic, add new cells, etc.

d、レイアウトルールの変更等に伴ってセルのレイアウ
トを修正する必要がある場合、基本セルの修正と配線セ
ルのシンボリックデータをパターンに変更するDAのパ
ラメータの変更のみでよいため、従来全セルの修正が必
要であったのと比炉して作業量を著しく低減できる。
d. If it is necessary to modify the cell layout due to a change in layout rules, etc., all you need to do is modify the basic cell and change the DA parameters that change the symbolic data of the wiring cell into a pattern. The amount of work can be significantly reduced compared to the amount of modification that would otherwise have been required.

等の効果が得られ、セルライブラリの構築、修正に要す
る期間を短縮できる。
Effects such as these can be obtained, and the period required for building and modifying a cell library can be shortened.

以上述べた方法により生成したセルをDAにより自動配
置、自動配線を行ってLSIの設計を完了させる方式に
ついて以下に述べる。
A method for completing the LSI design by automatically arranging and automatically wiring the cells generated by the method described above using DA will be described below.

LSIを設計する際、ある論理的まとまりを持ったブロ
ックをセルの配置、配線を行うことによって設計し、次
にブロックについて配置、配線を行うという様に階層的
に設計を進めるのが一般的である。第9図は本発明を適
用してセルの配置、配線を行って構成したブロックの例
を稜式的に示したものである。901は電源幹線、90
2はグランド幹線、910〜924はプリチャージ回路
を用いたセル、B901〜B904はクロックバッファ
セル、C901〜C905はクロック信号線配線、TH
901〜TH903はスルーホール、930〜936は
セル間配線、937はクロック幹線である。プリチャー
ジ回路を用いてLSIを設計する場合、同回路を用いた
すべてのセルに位相の合ったクロックを供給する必要が
あり、そのためにはセルにクロシフ信号を給電するクロ
ックバッファセルの負荷を等しくし、遅延時間の相違に
より生ずるスキューを防ぐ必要がある。第9図は、これ
を実施した例であり、最上段のセル列ではクロックを必
要とする3個のセル910゜911.912に対して1
個のクロックバッファセルB901及び1本のクロック
信号配線C901が設けられている。これに対して二段
目のセル列ではクロックを必要とするセルが多いため2
個のクロックバッファセルB902.B9.03と2本
のクロック信号配線C902,C903を設け、セル列
を2分割してクロックを供給している。更に三段目と四
段目ではクロックを必要とするセルが少ないためクロッ
クバッファセルB904を両方の段で共通に用い、クロ
ック信号配線C904゜C905を介してクロックを供
給している。この様に各クロックバッファセルの負荷が
略等しくなる様に、その数を変化させる必要があるが、
本発明を適用したセルライブラリでは下記の理由により
この作業の自動化が可能である。
When designing an LSI, it is common to design a block with a certain logical group by placing and wiring cells, and then proceeding with the design in a hierarchical manner, such as placing and wiring the blocks. be. FIG. 9 schematically shows an example of a block constructed by arranging and wiring cells according to the present invention. 901 is the power main line, 90
2 is a ground main line, 910 to 924 are cells using a precharge circuit, B901 to B904 are clock buffer cells, C901 to C905 are clock signal line wiring, TH
901 to TH903 are through holes, 930 to 936 are intercell wiring lines, and 937 is a clock main line. When designing an LSI using a precharge circuit, it is necessary to supply in-phase clocks to all cells using the same circuit, and in order to do this, the loads on the clock buffer cells that feed crossshift signals to the cells must be equalized. However, it is necessary to prevent skew caused by differences in delay times. Figure 9 shows an example of this. In the top row of cells, 1 cell for 3 cells 910°911.
Clock buffer cells B901 and one clock signal wiring C901 are provided. On the other hand, in the second row of cells, there are many cells that require clocks, so
clock buffer cells B902. B9.03 and two clock signal wirings C902 and C903 are provided to divide the cell column into two and supply clocks. Furthermore, since there are fewer cells in the third and fourth stages that require clocks, the clock buffer cell B904 is commonly used in both stages, and clocks are supplied via clock signal lines C904 and C905. In this way, it is necessary to change the number of clock buffer cells so that the load on each clock buffer cell is approximately equal.
In the cell library to which the present invention is applied, this work can be automated for the following reasons.

1、クロックバッファセルがプリチャージ回路を用いた
セル等と同じセル等と同じセルライブラリに在り、DA
から同等に扱える。
1. The clock buffer cell is in the same cell library as a cell using a precharge circuit, etc., and the DA
can be treated equally from

2、セル列に沿ってクロック信号配線用のチャネルが設
けられている。
2. Channels for clock signal wiring are provided along the cell rows.

第10図はブロックの自動配置、自動配線を行うための
フローチャートの例を示したものである。
FIG. 10 shows an example of a flowchart for automatic block placement and automatic wiring.

まずステップ1001で論理設計者が対象となるブロッ
クの設計データを入力するが、この際プリチャージ回路
を用いたセルへのクロック供給系に関しては自動設計を
行うので入力の8謔はない。
First, in step 1001, the logic designer inputs the design data of the target block. At this time, the clock supply system to the cells using the precharge circuit is automatically designed, so there is no need for input.

次にステップ1002では入力された設計データに基づ
きセルを自動的に仮配置する。次のステップ1003で
は仮配置の結果による各セル列のクロックバッファセル
の負荷を計算する。続くステップ1004では各クロッ
クバッファセルの負荷が略等しくなる様に必要な個数の
クロックバッファセルをセル列に挿入する。このステッ
プに於て、クロックを必要とするセルを多く含むセル例
では多くのクロックバッファセルが挿入され、その結果
セル列の長さが他のセル列と著しく異なるものとなる場
合等が生ずるため、ステップ1005でこれを調べ不適
当な場合はステップ1010で仮配置を変更する。問題
がない場合はステップ106でクロック供電系の配線を
行うが本発明を適用したセルではクロック信号配線用の
チャネルが設けられているので、このステップは容易に
行うことができる。次のステップ1007でセル間の自
動配線を行う。ステップ1008では必要とする配線が
完了したかどうかを調べ、完了していない場合は仮装置
を変更し、完了した場合は空いているチャネル領域を詰
める等のコンパクションを行いブロックの自動設計が終
了する。
Next, in step 1002, cells are automatically temporarily placed based on the input design data. In the next step 1003, the load on the clock buffer cells of each cell column is calculated as a result of the temporary placement. In the following step 1004, a necessary number of clock buffer cells are inserted into the cell column so that the loads on each clock buffer cell are approximately equal. In this step, in a cell example that includes many cells that require clocks, many clock buffer cells are inserted, and as a result, the length of the cell string may be significantly different from other cell strings. This is checked in step 1005, and if it is inappropriate, the temporary arrangement is changed in step 1010. If there is no problem, wiring of the clock power supply system is performed in step 106, but since the cell to which the present invention is applied has a channel for clock signal wiring, this step can be easily performed. In the next step 1007, automatic wiring between cells is performed. In step 1008, it is checked whether the required wiring has been completed, and if it has not been completed, the temporary device is changed, and if it has been completed, compaction such as filling up empty channel areas is performed, and the automatic block design ends. .

次に上記の方法により設計したブロックに対して自動配
置、自動配線を行う方法について述べる。
Next, a method for automatically placing and routing blocks designed using the above method will be described.

第11図は本発明に依りLSIのタロツク給電系を設計
した結果の一例であり、1100はLSIチップ、B1
101〜B1105はブロック。
FIG. 11 shows an example of the result of designing a tallock power supply system for an LSI according to the present invention, where 1100 is an LSI chip, B1
101 to B1105 are blocks.

1101はクロックブロック、CPAはクロック入力パ
ッド、iCBはクロック入力バッファ、CBはクロック
バッファ、CDはクロックドライバLIIOI〜L11
03.Li2O2はブロック間’)Oッ’)配線、El
lol 〜E1105゜B1112はクロック入力端子
である。なおりロシクバソファCBは第9図のB901
〜B904のクロックバッファセルに相当する。なおL
SIのクロック結電系については例えばアイ・ニス・シ
ー・シー・シー、ダイジェスト オフ テクイカルペー
パーズ、1987年、第86頁(ISSCCDiges
t of Technical papers、 19
87. pp、86)において論じられている。
1101 is a clock block, CPA is a clock input pad, iCB is a clock input buffer, CB is a clock buffer, CD is a clock driver LIIOI~L11
03. Li2O2 is the inter-block ')O') wiring, El
lol~E1105°B1112 is a clock input terminal. Naori Roshikuba Sofa CB is B901 in Figure 9.
This corresponds to the clock buffer cell of ~B904. Furthermore, L
Regarding the clock coupling system of SI, for example, I.N.C.C., Digest Off Technical Papers, 1987, p. 86 (ISSCCDiges
to of Technical papers, 19
87. pp. 86).

ブロック間のクロック配線に於ても前述のブロック内と
同様に各クロックドライバCDの負荷を略等しくするこ
とが必要である。第11図の例に於てはブロックB11
o1及びB1105についてそれぞれクロックドライバ
とブロック間クロック配線を各1個ずつ割当てているの
に対し、クロックバッファCBを多数含むブロックB1
102には2個のクロックドライバとブロック間クロッ
ク配線を割当てている。またクロックバッファの少ない
ブーロックB1103、B1104には1個のクロック
ドライバとブロック間クロック配線を共有する様にして
いる。第12図は第11図の様なりロック給電系を自動
設計するためのフローチャートの一例を示したものであ
る。まずステップ1201で論理設計者がブロック及び
ブロック間の接続に関するデータを入力するが、この際
プリチャージ回路のクロック給電系については入力の必
要はない。次にステップ1202で各ブロックのクロッ
ク入力端子数を決める。なお、この決定方法については
後述する。続いてステップ1204では各ブロックの端
子数の和だけの数のクロックドライバから成るクロック
ブロックを構成し、これをチップ中央に配置する。ステ
ップ1205ではブロック間のり′ロック配線を行う。
In the clock wiring between blocks, it is necessary to make the loads on each clock driver CD approximately equal, as in the case within the blocks described above. In the example of FIG. 11, block B11
o1 and B1105 are each assigned one clock driver and one interblock clock wiring, whereas block B1, which includes a large number of clock buffers CB,
Two clock drivers and inter-block clock wiring are assigned to 102. Furthermore, block B1103 and block B1104 with few clock buffers share one clock driver and inter-block clock wiring. FIG. 12 shows an example of a flowchart for automatically designing a lock power supply system as shown in FIG. 11. First, in step 1201, the logic designer inputs data regarding blocks and connections between blocks, but at this time there is no need to input data regarding the clock power supply system of the precharge circuit. Next, in step 1202, the number of clock input terminals for each block is determined. Note that this determination method will be described later. Subsequently, in step 1204, a clock block consisting of the same number of clock drivers as the sum of the number of terminals of each block is constructed and placed at the center of the chip. In step 1205, lock wiring between blocks is performed.

ステップ1206ではステップ1205の結果が適当か
どうかを調べるがステップ1203ではクロックドライ
バの負荷として推定値を用いているため、実際に自動配
線を行った結果が不適当なものとなる場合があり得る。
In step 1206, it is checked whether the result of step 1205 is appropriate, but since step 1203 uses an estimated value as the load of the clock driver, the result of actual automatic wiring may be inappropriate.

ステップ1206でクロックドライバの負荷が適当と判
断された場合はステップ1207でクロック配線以外の
ブロック間配線を行い、配線が完了したかどうかをステ
ップ1207で調べ完了していればLSIの自動設計を
終了する。
If the clock driver load is determined to be appropriate in step 1206, inter-block wiring other than clock wiring is performed in step 1207, and whether or not the wiring is completed is checked in step 1207. If it is completed, automatic LSI design ends. do.

次に第13図は第12図のステップ1203を行うため
にクロックドライバの負荷を推定する方法の一例を示し
たものである。81301〜B1305はブロック、1
301はチップの中心点、1304はブロックB130
4の中心点、CinはクロックバッファCBの入力容量
である。
Next, FIG. 13 shows an example of a method for estimating the load of the clock driver in order to perform step 1203 in FIG. 12. 81301 to B1305 are blocks, 1
301 is the center point of the chip, 1304 is block B130
4, the center point Cin is the input capacitance of the clock buffer CB.

クロックブロック内のクロックドライバの負荷は配線容
量とクロックバッファの入力容量の合計であるが、前者
はLSIの設計が終了するまで正確には算出できないた
め推定値を用いる必要がある。
The load of the clock driver in the clock block is the sum of the wiring capacitance and the input capacitance of the clock buffer, but since the former cannot be accurately calculated until the LSI design is completed, it is necessary to use an estimated value.

一般にクロックブロック及び他のブロックは共にチップ
全体の面積に比較すると充分小さく、またチップ内の配
線は仮想的な格子上のチャネルを用いて行われるため、
配線長はチップの中心点1301とブロックの中心点1
304とのマンハッタン距離L X +L yと近似で
きる。従って、ブロック内のグロックバッファの数をn
、単位長当りの平均配線容量をC1とするとクロックド
ライバの負荷の推定値CLOADは cLOAD= Cm ・(Lx+ Ly)+ n−C1
nとなる。
In general, both the clock block and other blocks are sufficiently small compared to the overall area of the chip, and wiring within the chip is done using channels on a virtual grid.
The wiring length is between the chip center point 1301 and the block center point 1
304 can be approximated by the Manhattan distance L x +L y. Therefore, let the number of glock buffers in a block be n
, the average wiring capacitance per unit length is C1, then the estimated clock driver load CLOAD is cLOAD=Cm ・(Lx+Ly)+n-C1
It becomes n.

次に第14図は上記等の方法で得られたC LOADの
値を用いて、各ブロックの端子数を決定する方法のフロ
ーチャートの一例を示したものである。
Next, FIG. 14 shows an example of a flowchart of a method for determining the number of terminals of each block using the value of C_LOAD obtained by the method described above.

ここでブロック相互間のグロックスキューに関する仕様
を満足するためのCLOADの上限値をCM^X、下限
値をCs I Nとする。これらを実現するには第14
図に従い各ブロックについて、まずCLO^DがC)I
AX以下であるかどうかを調べる。これを満足していな
い場合はステップ1401でクロック入力端子の数を増
やすことによりCLOADを小さくする。これは第11
図のブロックB1101の例に相当する。CM^Xに関
する条件を満足したら次にCLOADがCMIN以上で
あるかどうかを調べる。これを満足していない場合はス
テップ1402で近似例のブロックとクロックドライバ
を共用することによりCLOADを大きくする。これは
第11図のブロックB1103及びB1104の例に相
当する。なお、この際Lx、Lyの値としては例えば両
ブロックの内で大きい方の値を用いればよい。すべての
ブロックについてCMIN<CLO八〇へ、CM^Xが
満足されれば第12図のステップ1203は終了する。
Here, it is assumed that the upper limit value of CLOAD to satisfy the specifications regarding the clock skew between blocks is CM^X, and the lower limit value is Cs I N. To achieve these, the 14th
According to the diagram, for each block, first CLO^D is C)I
Check whether it is less than or equal to AX. If this is not satisfied, CLOAD is decreased by increasing the number of clock input terminals in step 1401. This is the 11th
This corresponds to the example of block B1101 in the figure. When the conditions regarding CM^X are satisfied, it is next checked whether CLOAD is greater than or equal to CMIN. If this is not satisfied, CLOAD is increased in step 1402 by sharing the clock driver with the approximate example block. This corresponds to the example of blocks B1103 and B1104 in FIG. Note that at this time, as the values of Lx and Ly, for example, the larger value of both blocks may be used. If CMIN<CLO80 and CM^X are satisfied for all blocks, step 1203 in FIG. 12 ends.

以上述べた様に本発明を適用することによす、ブロック
内及びブロック間のクロック給電系について論理設計者
が明示することなしに自動設計が可能となる。
As described above, by applying the present invention, it becomes possible to automatically design clock power supply systems within blocks and between blocks without the logic designer explicitly specifying them.

次に第15図はプリチャージ回路を複数段、直列に接続
した例を示した図であり、また第16図はその入力信号
の例を示した図であり、1501〜1506はプリチャ
ージ回路、φはタロツク信号、11501〜11503
は入力信号、○1501は1501の出力信号、AND
はアンド回路、N1501.N1504はNMO5FE
Tである。例えば説開昭62−98827で論じられて
いる様に、プリチャージ回路には1501の様に信号が
入力されるFETN1501のソースが直接地されてい
るものと1504の様にクロック信号が入力されるFE
TN1504が挿入されているものの2種がある。
Next, FIG. 15 is a diagram showing an example in which multiple stages of precharge circuits are connected in series, and FIG. 16 is a diagram showing an example of the input signals, and 1501 to 1506 are precharge circuits, φ is tarok signal, 11501 to 11503
is the input signal, ○1501 is the output signal of 1501, AND
is an AND circuit, N1501. N1504 is NMO5FE
It is T. For example, as discussed in 1988-98827, the source of the FETN 1501 to which a signal is inputted like 1501 is directly grounded, and the clock signal is inputted like 1504 to the precharge circuit. FE
There are two types with TN1504 inserted.

前者は後者に比べより高速に動作するが、プリチャージ
動作中はソースが接地されたFET  N1501をオ
フ状態とする必要があった。このため第16図の例の様
に11502がプリチャージ期間中にハイレベルとなり
得る場合には第15図(a)の様にANDを挿入し、同
期間中はi 1503を強制的にローレベルとする必要
があった。この結果11502の入力に対しては回路段
数の増加ひいては遅延時間の増加を招いた。これに対し
第15図(b)では15o1を1504に差し換えるこ
とにより、ANDを不要としている。1504は150
1に比べ低速があるが、ANDが不要となることから直
列に接続された回路列全体で比較すると第15図(b)
は同図(a)より遅延時間を短縮可能である。しかしな
がら、これら2種の回路の使い分けをすべてのパスにつ
いて論理設計者がDAに指示するのは、非常に煩雑な作
業となり誤りを生ずる可能性がある。それに対し本発明
では(1)1501と1504の組合せの様に同じ論理
機能を持つ回路の異なる2セルを共にセルライブラリに
含む(2)論理設計者は論理機能のみを入力し、それに
対してどちらの回路を割当てるかはDAで選択するの2
点により上記の問題を避けることができる。
Although the former operates faster than the latter, it is necessary to turn off the FET N1501 whose source is grounded during the precharge operation. Therefore, if 11502 can be at high level during the precharge period as in the example in Fig. 16, an AND is inserted as shown in Fig. 15(a), and i 1503 is forced to be at low level during the same period. It was necessary to do so. As a result, for the input 11502, the number of circuit stages increases and the delay time increases. On the other hand, in FIG. 15(b), 15o1 is replaced with 1504, thereby eliminating the need for AND. 1504 is 150
Although it is slower than 1, since AND is not required, a comparison of the entire series-connected circuit arrays is shown in Figure 15 (b).
The delay time can be shortened from that shown in FIG. However, for a logic designer to instruct the DA to use these two types of circuits for all paths, this would be a very complicated task and could lead to errors. In contrast, in the present invention, (1) the cell library includes two different cells of circuits with the same logic function, such as the combination of 1501 and 1504, and (2) the logic designer inputs only the logic function, and 2. Use DA to select which circuit to allocate.
The above problem can be avoided by this point.

第17図はセルを選択するフローチャートの例を示した
ものである。まず対象とするセルをすへて1501と同
型式の信号を入力するFETのソースが接地されたプリ
チャージ回路とする。次にステップ1701でソースが
接地されたFETの入力信号がすべてプリチャージ回路
の出力信号からどうかを調べる。次に、この条件を満た
さない入力信号がある場合はステップ1702で、アン
ド回路やオア回路の入力の様に入れ換えても論理機能が
等価な入力について、入れ換えにより上記条件を満たす
ことができるかどうかを調べる。これでも条件を満足で
きない場合は、ステップ1703で、このセルを入れ換
える。この様な手順でセルを選択することにより、15
01と同型式の回路を主に用い、必要な箇所にのみ15
04と同型式の回路を用いることによって高速の組合せ
を選択できる。なお第18図は上記2種とは異なる型式
のプリチャージ回路であり、11801゜i 1802
は入力信号端子、01801は出力信号端子である。こ
の回路を1501の回路に代えて使用することもでき、
この場合も同様に高速の論理回路を形成できる。
FIG. 17 shows an example of a flowchart for selecting cells. First, the target cell is made into a precharge circuit in which the source of the FET inputting the same type of signal as 1501 is grounded. Next, in step 1701, it is checked whether all the input signals of the FETs whose sources are grounded are the output signals of the precharge circuit. Next, if there is an input signal that does not satisfy this condition, in step 1702, check whether the above condition can be satisfied by swapping the inputs, such as the inputs of AND circuits and OR circuits, whose logical functions are equivalent even if they are swapped. Find out. If the condition is still not satisfied, this cell is replaced in step 1703. By selecting cells in this way, 15
The same type of circuit as 01 is mainly used, and 15 is installed only where necessary.
By using the same type of circuit as 04, high-speed combinations can be selected. Note that FIG. 18 shows a precharge circuit of a different type from the above two types, 11801°i 1802
01801 is an input signal terminal, and 01801 is an output signal terminal. This circuit can also be used in place of the 1501 circuit,
In this case as well, a high-speed logic circuit can be formed.

以上述べた様に本発明を適用することによりプリチャー
ジ回路を用いたセルライブラリを短期間で構築、修正可
能であるとともに、これを用いたLSIの自動設計を可
能とし、高速LSIの設計工数を著しく削減することが
できる。
As described above, by applying the present invention, it is possible to construct and modify cell libraries using precharge circuits in a short period of time, and it is also possible to automatically design LSIs using this, reducing the number of man-hours required for designing high-speed LSIs. can be significantly reduced.

以上の実施例では、CMO8及びBiCMO3回路によ
る数種のプリチャージ回路を例にとったが、本発明はそ
の他の型式のダイナミック回路にもそのまま適用できる
ものである。
In the above embodiments, several types of precharge circuits using CMO8 and BiCMO3 circuits have been taken as examples, but the present invention can be applied as is to other types of dynamic circuits.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、以上説明した様に構成されているので以下に
記載される様な効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it produces the effects described below.

1、内部にダイナミックな動作をするノードを含む回路
を用いたセルに於て、セルを電源配線層及びグランド配
線層で覆うことによりその上空に配線を通すことができ
る。
1. In a cell using a circuit including a node that operates dynamically inside, wiring can be passed above the cell by covering the cell with a power wiring layer and a ground wiring layer.

2、上記セルの外形、端子位置等のレイアウトに関する
仕様を他の回路型式によるセルと統一してセルライブラ
リを構築し、こ°のライブラリはクロックバッファセル
を含み、更にセル列に沿ってクロック信号配線を設ける
ことによりプリチャージ回路を用いたセルとその他の回
路を用いたセルの混在したブロックの自動設計を行える
2. Construct a cell library by unifying the layout specifications such as the external shape and terminal position of the above cell with those of cells of other circuit types, and this library includes clock buffer cells, and further transmits clock signals along the cell rows. By providing wiring, it is possible to automatically design a block in which cells using a precharge circuit and cells using other circuits are mixed.

3、上記ブロックをLSIチップ領域内に配置しチップ
中央にクロックブロックを配置し。
3. Place the above blocks within the LSI chip area, and place a clock block in the center of the chip.

後者の設計及び両者間の結線を自動化することにより設
計期間を短縮できる。
By automating the latter design and the wiring between the two, the design period can be shortened.

4、セルを基本セルと配線セルの合成で作成することに
より、セルライブラリの新規作成、追加、修正等に要す
る期間を短縮できる。
4. By creating cells by combining basic cells and wiring cells, the time required for creating, adding, modifying, etc. a cell library can be shortened.

5、プリチャージ回路を直列に接続して成る信号パスに
於て、最適な回路の組合せを自動釣に選択することによ
りLSIの高速化を図ることができる。
5. In a signal path formed by connecting precharge circuits in series, the LSI can be made faster by automatically selecting the optimum combination of circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の回路図及びセルレイアウト
図、第2図は第1図のx −x RfA断面図、第3図
及び第4図は本発明の他の実施例の回路図、第5図は第
4図(b)の回路のセルレイアウト図、第6図はセルの
回路図、第7図は本発明の一実施例の基本セル、第8図
は本発明の一実施例のセルレイアウト図、第9図は本発
明の一実施例のブロックレイアウト図、第10図はブロ
ック自動レイアウトのフローチャート、第11図は本発
明の一実施例のチンプレイアウト図、第12図はチップ
自動レイアウトのフローチャート、第13図はクロック
バッファの負荷推定方法を示す図、第14図はクロック
バッファ数の決定方法のフローチャート、第15図はプ
リチャージ回路による信号パスの一例を示す図、第16
図は第15図の入力信号波形を示す図、第17図は最適
なセル組合せ決定のフローチャート、第18図は他の回
路型式によるプリチャージ回路の回路図である。 符号の説明 101.103,104・・・3人力ANDセル。 102・・・インバータセル、Cl0L、ClO2゜C
301,C401,C901,C902゜C903,C
904,C905=・クロ7り信号配線、1lo1〜1
103,1301〜i 304゜1401〜1405・
・・入力信号配線、 VDn・・電源配線、GND・・
・グランド配線。 0101〜0104,0301,0302゜0401.
0411・・・出力信号配線、PIOI〜pH5,P2
O3〜P304.P401〜P404.P411〜P4
15.P701〜P703−PMOS  FET、Nl
0I−N115.N301〜N310.N401〜N4
08.N411〜N419.N701〜N704−NM
O8FET、Q301〜Q304.Q401.Q411
・・・NPN型バイポーラトランジスタ、910〜92
4.1501〜1506・・・プリチャージ回路を用い
たセル、B901〜B904・・・グロックバッファセ
ル、B11o1〜B1105・・・ブロック、1101
−・・クロックブロック、1100・・LSIチップ、
CBI、CB2・・・クロックバッファ、AND・・・
アにド回路、φ・・・クロック信号。 第を図 第 回 茅1図 (0ン (Dン 第4図 (α) (b) 3λ力ANDtrし 第9図 第C図 (α〕 第C図 第 図 第9回 (b) 第 1g 図 第12図 第11図 11(/l) 卒13図 乙’tOAo=(:t−(L:c十りり+wc=第14
図 寡15回 (↓) 第16回 1間
FIG. 1 is a circuit diagram and cell layout diagram of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an x-x RfA sectional view of FIG. 1, and FIGS. 3 and 4 are circuit diagrams of other embodiments of the present invention. 5 is a cell layout diagram of the circuit of FIG. 4(b), FIG. 6 is a cell circuit diagram, FIG. 7 is a basic cell of an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cell layout diagram of the circuit of FIG. 4(b). FIG. 9 is a block layout diagram of an embodiment of the present invention; FIG. 10 is a flowchart of automatic block layout; FIG. 11 is a chim layout diagram of an embodiment of the present invention; FIG. 12 is a diagram of a cell layout of an embodiment of the present invention; is a flowchart of chip automatic layout, FIG. 13 is a diagram showing a clock buffer load estimation method, FIG. 14 is a flowchart of a method of determining the number of clock buffers, and FIG. 15 is a diagram showing an example of a signal path by a precharge circuit. 16th
15 is a diagram showing the input signal waveform of FIG. 15, FIG. 17 is a flowchart for determining an optimal cell combination, and FIG. 18 is a circuit diagram of a precharge circuit using another circuit type. Explanation of symbols 101, 103, 104... 3-man power AND cell. 102...Inverter cell, Cl0L, ClO2°C
301, C401, C901, C902° C903, C
904, C905=・Black 7 signal wiring, 1lo1~1
103,1301~i 304°1401~1405・
...Input signal wiring, VDn...Power supply wiring, GND...
・Ground wiring. 0101~0104,0301,0302゜0401.
0411...Output signal wiring, PIOI~pH5, P2
O3~P304. P401-P404. P411-P4
15. P701~P703-PMOS FET, Nl
0I-N115. N301-N310. N401~N4
08. N411-N419. N701~N704-NM
O8FET, Q301-Q304. Q401. Q411
...NPN type bipolar transistor, 910-92
4.1501-1506...Cell using a precharge circuit, B901-B904...Glock buffer cell, B11o1-B1105...Block, 1101
-... Clock block, 1100... LSI chip,
CBI, CB2...clock buffer, AND...
Ani-do circuit, φ...clock signal. Figure 9 Figure C (α) Figure C Figure 9 (b) Figure 1g Fig. 12 Fig. 11 Fig. 11 (/l) Graduation 13
Zuho 15th (↓) 16th 1st period

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結線
が成されるユニットセルを有し、該セル内に論理演算動
作時にフローティング状態となり得るノードが少なくと
も1個存在するダイナミック回路を含み、該セル内の素
子間の結線を行う配線層が少なくとも1層あり、該配線
層の上層に電位が固定されかつセル内の該ノードを覆う
シールド層が少なくとも1層あるとともに該シールド層
の上層にセル間の結線を成す配線層を少なくとも1層配
したことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、前記シールド層が電源配線及び/又はグランド配線
を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体集
積回路装置。 3、半導体基板上に配線用の層を少なくとも4層有し、
最下層から1層目及び2層目をセル内の素子間の結線を
行う配線層とし、3層目をシールド層とし、3層目以降
をセル間の結線を成す配線層とし、4層目以降をシール
ド層の上空に配することを特徴とする請求項2に記載の
半導体集積回路装置。 4、FETのゲート電極用金属層を前記配線層として用
いることを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路
装置。 5、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結線
が成されるユニットセルのセルライブラリがダイナミッ
ク回路を含むセル及びスタティック回路を含むセルの両
者を含み、かつ両者を隣接し各セルの境界間に間隙を生
ぜずに配置可能なことを特徴とする半導体集積回路装置
。 6、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結線
が成されるユニットセルのセルライブラリがダイナミッ
ク回路を含むセルと、スタティック回路を含むセルとを
含み、かつ、セルライブラリ内の2セルが隣接して配置
される際の各セルの境界間の間隙は無いか或いは一定量
か或いは一定量でかつ間隙に上記2セル以外のセルが挿
入されるかのいずれかであり、かつこの選択が隣接する
2セルの組合せにより決定されることを特徴とする半導
体集積回路装置。 7、半導体基板上に所定のピッチを以って縦横に延在す
る相互配線層によってユニットセル間を接続して成す半
導体集積回路装置に於て、該ユニットセルはダイナミッ
ク回路によるセルを含みかつ該ユニットセルを一次元的
に配列して成したセル列と平行でかつ該セル列との距離
が該ユニットセルにより決定される一定量である該ダイ
ナミック回路用のクロック信号配線を設けかつダイナミ
ック回路によるセルに該クロック信号配線への接続用端
子を設けたことを特許とする半導体集積回路装置。 8、前記クロック信号配線の線幅を他のセル相互配線よ
り広く設定したことを特徴とする請求項7に記載の半導
体集積回路装置。 9、前記セル列を互いに平行に配置しセル列間の領域を
相互配線用領域とし、前記クロック信号配線を他の相互
配線とともに該領域内に置き、かつ該クロック信号配線
を他の相互配線に比べセル列に近い位置に設けたことを
特徴とする請求項7に記載の半導体集積回路装置。 10、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結
線が成されるユニットセルのセルライブラリが、同じ論
理的能力を持ちかつ遅延時間、回路型式、使用素子の内
の少なくとも一項目が異なる複数のセルを含むことを特
徴とする半導体集積回路装置。 11、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結
線が成されるユニットセルのセルライブラリが、内部に
バイポーラトランジスタを持つセルと該セルと同じ論理
的能力を持ちかつ内部にバイポーラトランジスタを持た
ないセルとを含むことを特徴とする半導体回路装置。 12、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結
線が成されるユニットセルの少なくとも1個が、セル内
の素子間の結線に関するレイアウト情報のみを有する第
1のサブセルとセル内の素子のレイアウト情報のみを有
する第2のサブセルとの合成から成ることを特徴とする
半導体集積回路。 13、ダイナミック回路を用いた前記ユニットセルを少
なくとも1個含むことを特徴とする請求項12に記載の
半導体集積回路装置。 14、前記第2のサブセルが2種以上のユニットセルに
共通に用いられることを特徴とする請求項12に記載の
半導体集積回路装置。 15、前記第1のサブセルがセル内のコンタクトホール
の位置とスルーホールの位置とこれらを接続する配線の
位置の情報を有することを特徴とする請求項12に記載
の半導体集積回路装置。 16、前記第1のサブセルが内部に仮想的な格子を有し
、前記コンタクトホール及び前記スルーホールを該格子
の格子点上に設け、前記配線を該格子上に設けたことを
特徴とする請求項15に記載の半導体集積回路装置。 17、前記第2のサブセルがMOSFETとバイポーラ
トランジスタのいずれか一方かまたは両方を含むことを
特徴とする請求項12に記載の半導体集積回路装置。 18、前記第2のサブセルが導電型が同じでかつゲート
幅の異なる2種以上のMOSFETを含むことを特徴と
する請求項12に記載の半導体集積回路装置。 19、ゲートに信号が入力されかつソースが接地された
MOSFETのゲート幅が、ゲートに信号が入力されか
つソースが接地されていないMOSFETのゲート幅よ
り大きいことを特徴とする請求項17に記載の半導体集
積回路装置。 20、スタンダードセル方式により配置及び相互間の結
線が成されるユニットセルのセルライブラリが、ダイナ
ミック回路を用いたセルを少なくとも1種類含みかつ該
ダイナミック回路に入力されるクロック信号を出力する
セルを少なくとも1種類含むことを特徴とする半導体集
積回路装置。 21、半導体基板上に所定のピッチを以って縦横に延在
する相互配線層によってユニットセル間を接続して成す
半導体集積回路装置に於て、該ユニットセルがダイナミ
ック回路を用いたセルを含みかつ該ユニットセルを一次
元的に配列することによって成したセル列を互いに平行
に配置してブロックを構成し、ダイナミック回路を用い
たセルのクロック入力端子をグループに分割し、同一グ
ループ内の全端子を互いに接続したクロック配線を有し
かつ該クロック配線に付随する負荷容量を略等しくし、
各グループ毎に該クロック配線を出力端子に接続したク
ロックバッファセルを同数ずつ設けたことを特徴とする
半導体集積回路装置。 22、前記セル列に平行に敷設した配線層を分割及び互
いに接続することにより前記クロック配線を成したこと
を特徴とする請求項21に記載の半導体集積回路装置。 23、前記クロックバッファセルをセル列に設け、かつ
各グループに1個ずつ設けたことを特徴とする請求項2
1に記載の半導体集積回路装置。 24、半導体基板上に所定のピッチを以って縦横に延在
する相互配線層によってユニットセル間を接続し、該ユ
ニットセルがクロック信号を必要とするダイナミック回
路を用いたセルを含む半導体集積回路装置の設計方法で
あって、該クロック信号給電用の回路及び配線から成る
クロック信号給電系を含まない設計情報に基づいて、該
クロック信号給電系を設計し、他のユニットセルと共に
配置及び配線することを特徴とする設計方法。 25、前記設計情報に基づいてユニットセルをスタンダ
ードセル方式により仮配置し、ダイナミック回路を用い
たセルを含むセル列には各セル列毎にセル列に平行にク
ロック信号給電用配線を敷設し、該セル列内のダイナミ
ック回路を用いたセルのクロック信号入力端子を該給電
用配線に接続し、各給電用配線の負荷容量が略等しくな
るべく給電用配線を分割あるいは結合し、各給電用配線
毎に同数ずつのクロックドライバセルを割当て、該クロ
ックドライバセルをセル列に挿入して本配置とし、これ
に基づいてセル間の結線を配線することを特徴とする請
求項24に記載の設計方法。 26、前記給電用配線毎に1個のクロックドライバセル
を割当てることを特徴とする請求項25に記載の設計方
法。 27、半導体基板上に、少なくとも1個のダイナミック
回路を用いた論理回路と該回路にクロック信号を供給す
る少なくとも1個のクロックバッファとを含む論理ブロ
ックと、該クロックバッファハにクロック信号を供給す
る少なくとも1個のクロックドライバを含むクロックブ
ロックとを配置したLSIチップに於て、該チップ上の
全クロックバッファをグループに分割し、各グループ内
のクロックバッファの入力端子に1個のクロックドライ
バの出力端子を結線するとともに、各クロックドライバ
の負荷容量を略等しく設定したことを特徴とする半導体
集積回路装置。 28、少なくとも1個の、ダイナミック回路を用いた論
理回路と、該回路にクロック信号を供給する少なくとも
1個のクロックバッファとを含む論理ブロックを含む半
導体集積回路装置の設計方法であって、該クロックバッ
ファへのクロック信号給電用のクロックブロック及び両
ブロック間の結線に関する情報を含まない設計情報に基
づいて該クロックブロックを設計し、該論理ブロックと
共に配置及び配線することを特徴とする設計方法。 29、前記設計情報に基づいて論理ブロックをLSIチ
ップ領域内に仮配置し、各論理ブロック毎にチップの中
心点と論理ブロックの中心点とのマンハッタン距離をク
ロックブロックと論理ブロック間の配線長推定値とし、
該推定値から算出した配線容量値と論理ブロック内のク
ロックバッファの入力容量との和が略等しくなるべく全
クロックバッファをグループに分割し、該グループ数と
同数のクロックドライバを配置して成るクロックブロッ
クを構成し、該クロックブロックをLSIチップの略中
心に配置して本配置とし、これに基づいてブロック間の
結線を配線することを特徴とする請求項28に記載の設
計方法。 30、論理入力信号とクロック入力信号が入力され、演
算出力信号を出力し、プリチャージ動作と演算動作とを
クロック入力信号に従って交互に行い、内部にFET及
び演算動作時にフローティング状態となり得るノードを
含む論理回路網と、該論理回路網の演算出力信号が入力
され、これに応じた外部出力信号を出力するバッファ回
路とから成る論理回路に於て、ゲートに論理入力信号が
印加され、ソースが固定電位に接続されたFETを少な
くとも1個該論理回路網内に含む第1の型式の論理回路
と、該FETを含まずかつゲートに論理入力信号が印加
される第1のFETと、ゲートにクロック入力信号が印
加され、ソースが固定電位に接続され、ドレインが第1
のFETのソースに接続され、プリチャージ動作時に非
導通状態となる第2のFETとを少なくとも1組論理回
路網内に含む第2の型式の論理回路との両型式の論理回
路を同一LSIチップ内に含むことを特徴とする半導体
集積回路装置。 31、前記第1及び第2の型式の論理回路を含み前者の
論理回路網内の、ソースが固定電位に接続されたFET
のゲートに印加される論理入力信号は前記2種のいずれ
かの論理回路の出力信号であることを特徴とする請求項
30に記載の半導体集積回路装置。 32、前記プリチャージ動作時に論理回路網内のFET
が導通状態となる前記第2の型式の論理回路を少なくと
も1個含むことを特徴とする請求項30に記載の半導体
集積回路装置。
[Claims] 1. A dynamic circuit having unit cells arranged and interconnected using a standard cell method, and in which there is at least one node that can be in a floating state during a logic operation. There is at least one wiring layer that connects the elements in the cell, and there is at least one shield layer having a fixed potential above the wiring layer and covering the node in the cell. 1. A semiconductor integrated circuit device comprising at least one wiring layer disposed in an upper layer to form connections between cells. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the shield layer forms a power supply wiring and/or a ground wiring. 3. Having at least four wiring layers on the semiconductor substrate,
The first and second layers from the bottom layer are wiring layers for connecting between elements within a cell, the third layer is a shield layer, the third and subsequent layers are wiring layers for connecting between cells, and the fourth layer is 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein the semiconductor integrated circuit device is arranged above the shield layer. 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein a metal layer for a gate electrode of an FET is used as the wiring layer. 5. A cell library of unit cells arranged and interconnected using the standard cell method includes both cells containing dynamic circuits and cells containing static circuits, and the cells are placed adjacent to each other with a gap between the boundaries of each cell. A semiconductor integrated circuit device characterized in that it can be arranged without causing. 6. A cell library of unit cells arranged and interconnected using the standard cell method includes a cell containing a dynamic circuit and a cell containing a static circuit, and two cells in the cell library are adjacent to each other. When placed, the gap between the boundaries of each cell is either no, a constant amount, or a constant amount and a cell other than the above two cells is inserted into the gap, and this selection is between the adjacent two cells. A semiconductor integrated circuit device characterized by being determined by a combination of cells. 7. In a semiconductor integrated circuit device in which unit cells are connected by mutual wiring layers extending vertically and horizontally at a predetermined pitch on a semiconductor substrate, the unit cells include cells based on dynamic circuits and A clock signal wiring for the dynamic circuit is provided which is parallel to a cell row formed by one-dimensionally arranging unit cells and whose distance from the cell row is a certain amount determined by the unit cell, and A semiconductor integrated circuit device patented in that a cell is provided with a terminal for connection to the clock signal wiring. 8. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein the line width of the clock signal wiring is set wider than that of other cell interconnections. 9. The cell rows are arranged parallel to each other, the area between the cell rows is used as an area for mutual wiring, the clock signal wiring is placed in the area together with other mutual wiring, and the clock signal wiring is connected to the other mutual wiring. 8. The semiconductor integrated circuit device according to claim 7, wherein the semiconductor integrated circuit device is provided at a position closer to the cell row. 10. A cell library of unit cells arranged and interconnected using the standard cell method contains multiple cells that have the same logical capability but differ in at least one of the following: delay time, circuit type, and elements used. A semiconductor integrated circuit device comprising: 11. A cell library of unit cells arranged and interconnected using the standard cell method includes cells that have internal bipolar transistors and cells that have the same logical capability as the cells but do not have internal bipolar transistors. A semiconductor circuit device comprising: 12. At least one of the unit cells arranged and interconnected by the standard cell method has only layout information regarding the first subcell and the interconnections between the elements within the cell, and only the layout information about the elements within the cell. 1. A semiconductor integrated circuit characterized in that the semiconductor integrated circuit is composed of a second subcell having a second subcell. 13. The semiconductor integrated circuit device according to claim 12, wherein the semiconductor integrated circuit device includes at least one of the unit cells using a dynamic circuit. 14. The semiconductor integrated circuit device according to claim 12, wherein the second subcell is commonly used for two or more types of unit cells. 15. The semiconductor integrated circuit device according to claim 12, wherein the first subcell has information on the position of a contact hole in the cell, the position of a through hole, and the position of a wiring connecting these. 16. Claim characterized in that the first subcell has a virtual lattice inside, the contact hole and the through hole are provided on the lattice points of the lattice, and the wiring is provided on the lattice. 16. The semiconductor integrated circuit device according to item 15. 17. The semiconductor integrated circuit device according to claim 12, wherein the second subcell includes one or both of a MOSFET and a bipolar transistor. 18. The semiconductor integrated circuit device according to claim 12, wherein the second subcell includes two or more types of MOSFETs having the same conductivity type and different gate widths. 19. The gate width of the MOSFET whose gate is input with a signal and whose source is grounded is larger than the gate width of a MOSFET whose gate is input with a signal and whose source is not grounded. Semiconductor integrated circuit device. 20. A cell library of unit cells arranged and interconnected using the standard cell method includes at least one type of cell using a dynamic circuit and at least a cell that outputs a clock signal input to the dynamic circuit. A semiconductor integrated circuit device comprising one type. 21. In a semiconductor integrated circuit device formed by connecting unit cells by mutual wiring layers extending vertically and horizontally at a predetermined pitch on a semiconductor substrate, the unit cells include cells using a dynamic circuit. Then, cell rows formed by arranging the unit cells one-dimensionally are arranged parallel to each other to form a block, and the clock input terminals of cells using dynamic circuits are divided into groups, and all cells in the same group are It has clock wires whose terminals are connected to each other, and the load capacitances attached to the clock wires are approximately equal,
A semiconductor integrated circuit device characterized in that each group is provided with the same number of clock buffer cells each having the clock wiring connected to an output terminal. 22. The semiconductor integrated circuit device according to claim 21, wherein the clock wiring is formed by dividing wiring layers laid parallel to the cell rows and connecting them to each other. 23. Claim 2, wherein the clock buffer cells are provided in cell columns, and one clock buffer cell is provided in each group.
1. The semiconductor integrated circuit device according to 1. 24. A semiconductor integrated circuit including a cell using a dynamic circuit in which unit cells are connected by mutual wiring layers extending vertically and horizontally at a predetermined pitch on a semiconductor substrate, and the unit cells require a clock signal. A method for designing a device, the clock signal power supply system being designed based on design information that does not include the clock signal power supply system consisting of circuits and wiring for the clock signal power supply, and arranged and wired together with other unit cells. A design method characterized by: 25. Based on the design information, unit cells are temporarily arranged using the standard cell method, and clock signal power supply wiring is laid in parallel to the cell rows for each cell row including cells using dynamic circuits; The clock signal input terminal of the cell using the dynamic circuit in the cell row is connected to the power supply wiring, and the power supply wiring is divided or combined so that the load capacitance of each power supply wiring is approximately equal. 25. The design method according to claim 24, further comprising allocating the same number of clock driver cells to each cell, inserting the clock driver cells into a cell column to obtain the main arrangement, and wiring connections between the cells based on this arrangement. 26. The design method according to claim 25, characterized in that one clock driver cell is allocated to each of the power supply wirings. 27. On a semiconductor substrate, a logic block including a logic circuit using at least one dynamic circuit and at least one clock buffer that supplies a clock signal to the circuit, and a logic block that supplies a clock signal to the clock buffer. In an LSI chip in which a clock block including at least one clock driver is arranged, all clock buffers on the chip are divided into groups, and the output of one clock driver is sent to the input terminal of the clock buffer in each group. 1. A semiconductor integrated circuit device characterized in that terminals are connected and the load capacitance of each clock driver is set to be substantially equal. 28. A method for designing a semiconductor integrated circuit device including a logic block including at least one logic circuit using a dynamic circuit and at least one clock buffer supplying a clock signal to the circuit, the method comprising: A design method characterized in that the clock block is designed based on design information that does not include information regarding a clock block for supplying clock signal power to a buffer and information regarding connections between both blocks, and is arranged and wired together with the logic block. 29. Temporarily place logic blocks in the LSI chip area based on the design information, and estimate the wiring length between the clock block and the logic block by calculating the Manhattan distance between the center point of the chip and the center point of the logic block for each logic block. value,
A clock block in which all clock buffers are divided into groups so that the sum of the wiring capacitance value calculated from the estimated value and the input capacitance of the clock buffer in the logic block is approximately equal, and the same number of clock drivers as the number of groups are arranged. 29. The design method according to claim 28, wherein the clock block is arranged approximately at the center of the LSI chip to obtain the main arrangement, and connections between the blocks are routed based on this arrangement. 30. A logic input signal and a clock input signal are input, a calculation output signal is output, a precharge operation and a calculation operation are performed alternately according to the clock input signal, and the device includes an internal FET and a node that can be in a floating state during the calculation operation. In a logic circuit consisting of a logic circuit network and a buffer circuit that receives an arithmetic output signal of the logic network and outputs an external output signal in accordance with the input signal, a logic input signal is applied to the gate and the source is fixed. a first type of logic circuit including at least one FET in the logic network connected to a potential; a first FET that does not include the FET and has a logic input signal applied to its gate; An input signal is applied, the source is connected to a fixed potential, and the drain is connected to the first
A second type of logic circuit that includes at least one set of logic circuit networks, a second FET that is connected to the source of the FET and becomes non-conductive during precharge operation, and both types of logic circuits are integrated on the same LSI chip. 1. A semiconductor integrated circuit device comprising: 31. A FET in the former logic network including the first and second types of logic circuits, the source of which is connected to a fixed potential;
31. The semiconductor integrated circuit device according to claim 30, wherein the logic input signal applied to the gate of is an output signal of one of the two logic circuits. 32. FET in the logic circuit network during the precharge operation
31. The semiconductor integrated circuit device according to claim 30, further comprising at least one logic circuit of the second type which is in a conductive state.
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