JPH02160543A - Double layer coating - Google Patents
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は各種基材上に形成される被膜であってとくに表
面硬度、反射防止性、透明性、耐久性、耐衝撃性の改良
された複層被膜に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a coating formed on various substrates, which has particularly improved surface hardness, antireflection properties, transparency, durability, and impact resistance. It relates to multilayer coatings.
[従来技術]
各種基材の保護、外観品質向上、表面機能付与に関し、
各種の被覆材を基材上にコーティングすることにより問
題を解決しようとする方法がこれまで広く行われており
その材料、コーティング方法に関し種々の提案がある。[Prior art] Regarding protection of various base materials, improvement of appearance quality, and imparting surface functions,
Methods of solving the problem by coating a substrate with various coating materials have been widely used, and various proposals have been made regarding the materials and coating methods.
一方かかる被覆材が静電気を帯電し、しばしば不都合を
生じる。例えばほこりが付着することによる汚れ易さ、
低湿度時における人体接触時の不快な電気火花、とくに
帯電による計器類、電子機器などにおける故障原因が挙
げられる。On the other hand, such coating materials are charged with static electricity, which often causes inconvenience. For example, the ease with which it gets dirty due to the adhesion of dust,
Disturbing electric sparks caused by contact with human bodies in low humidity conditions can cause malfunctions in instruments, electronic equipment, etc., especially due to electrostatic charge.
これらの解決法と1.では、これまで各種の提案がなさ
れてきた。例えば界面活性剤などの制電性物質の被覆材
への添加、被覆材への塗布があるが、これらの帯電防止
性は一時的でありとくに被覆材へ添加した場合は被覆材
の耐水性を低下させるなどの悪影響がある。その他帯電
防止性を有する塗膜で高硬度のものなどの提案(特開昭
54−109084号)もあるがこれらは最外層に主と
して帯電防止性を付与するためにその他の性能とのバラ
ンスの選択が困難である。These solutions and 1. Various proposals have been made so far. For example, antistatic substances such as surfactants are added to the coating material or applied to the coating material, but the antistatic properties of these substances are temporary, and if they are added to the coating material, they may affect the water resistance of the coating material. There are negative effects such as deterioration. There are other proposals for high hardness coatings with antistatic properties (Japanese Patent Application Laid-Open No. 109084/1984), but these are based on a balance with other properties in order to primarily impart antistatic properties to the outermost layer. is difficult.
また、シリカゾルを被膜成分として含有せしめたハード
コート組成物についても特開昭53−111336号公
報に開示されている。しかし、これでは充分な反射防止
性が得られなかった。Further, a hard coat composition containing silica sol as a coating component is also disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 111336/1983. However, this did not provide sufficient antireflection properties.
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は各種の表面特性を有する被膜を広範囲に
選択することができ、とくに表面硬度、反射防止性、耐
久性、透明性、耐衝撃性などに優れ、さらに好ましくは
帯電防止性にも優れた複層被膜を提供することにある。[Problems to be Solved by the Invention] The purpose of the present invention is to enable a wide range of selection of coatings having various surface properties, with particular excellence in surface hardness, antireflection, durability, transparency, impact resistance, etc. More preferably, the present invention aims to provide a multilayer coating having excellent antistatic properties.
[課題を解決するための手段]
本発明は下層被膜が下記成分Aを含有する組成物の硬化
によって得られるものであり、上層被膜が厚さ0.01
μm〜10μmの被膜であることを特徴とする複層被膜
をその構成とするものである。[Means for Solving the Problems] In the present invention, the lower layer film is obtained by curing a composition containing the following component A, and the upper layer film has a thickness of 0.01.
Its structure is a multilayer coating characterized by a coating of μm to 10 μm.
A、平均粒子径1〜200mμのシリカゾル。A, silica sol with an average particle diameter of 1 to 200 mμ.
および。and.
一般式R2R3bS i (OR’ )4−i−b4
−れる有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物
。General formula R2R3bS i (OR')4-i-b4
-Organosilicon compounds and/or hydrolysates thereof.
ここでR2、R3は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有す
る炭化水素基、R4は炭素数が1〜8のアルキル基、ア
リル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aお
よびbは0または1であり、かつa+bは1または2で
ある。Here, R2 and R3 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group, and R4 is a carbon group having 1 to 8 carbon atoms. It is an alkyl group, allyl group, alkoxyalkyl group, or acyl group, a and b are 0 or 1, and a+b is 1 or 2.
ここで本発明でいう成分Aとして示された平均粒子径1
〜200mμのシリカゾルは、周知の方法で製造市販さ
れており、平均粒子径1〜200mμのシリカを用いる
ことが必要であり、とくに5〜80mμのシリカが好ま
しく用いられる。とくに上層との接着性、硬度あるいは
耐久性の向上に有効であり、一般に高分子量無水ケイ酸
を水またはアルコールなどの親水性溶媒に分散させたコ
ロイド溶液として用いられるものである。Here, the average particle diameter 1 indicated as component A in the present invention
Silica sol of ~200 mμ is manufactured by a well-known method and is commercially available, and it is necessary to use silica with an average particle diameter of 1 to 200 mμ, with silica of 5 to 80 mμ being particularly preferably used. It is particularly effective in improving adhesion with the upper layer, hardness, or durability, and is generally used as a colloidal solution in which high molecular weight silicic acid anhydride is dispersed in a hydrophilic solvent such as water or alcohol.
また成分Aには、上記シリカゾルとともに一般式R2R
3Si (OR4) 4−れるa b
4−a−b
有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物が含有
される。In addition to the above-mentioned silica sol, component A includes the general formula R2R.
3Si (OR4) 4-re a b
4-a-b Contains an organosilicon compound and/or a hydrolyzate thereof.
ここでR2、R3は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有す
る炭化水素基、R4は炭素数が1〜8のアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アシル基であり、aおよびbはO
または1であり、かつa+bは1または2である。Here, R2 and R3 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group, and R4 is a carbon group having 1 to 8 carbon atoms. an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, and a and b are O
or 1, and a+b is 1 or 2.
かかる化合物の例としては、メチルトリメトキシシラン
、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシ
ラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、3.3.3−4−リフロロプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチル
トリエトキシシラン、メチルトリフエノキシシラン、ク
ロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエト
キシシラン、グリシトキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプ
ロボキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシ
シラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
ブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン
、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,
4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラ
ン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3
,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシ
シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリプトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシエトキシシラン、β−(
3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフエノキ
シシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プ
ロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、β−(3
,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチル
トリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリ
アジルオキシシランまたはトリフエノキシシラン類また
はその加水分解物およびジメチルジメトキシシラン、フ
ェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシ
ラン、フェニルメチルジェトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメ
チルジェトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジェトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジェトキシシラン、メチルビニルジメトキシシ
ラン、メチルビニルジェトキシシラン、グリシドキシメ
チルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ
ルジェトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジ
メトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジェト
キシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン
、α−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β
−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルメチルジアセトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルフエニルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルフエニルジエトキシシランなどジアルコキ
シシランまたはジアシルオキシシラン類がその例である
。Examples of such compounds include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-
Chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3.3.3-4-lifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Trimethoxysilane, γ
-Aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxyethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-
Aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, methyltriphenoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, glycitoxymethyltrimethoxysilane,
Glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α- glycidoxypropyltrimethoxysilane,
α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriproboxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, α-glycidoxybutyltri methoxysilane,
α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,
4-Epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)methyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane Ethoxysilane, β-(3
, 4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriptoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxyethoxysilane, β-(
3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltriethoxysilane, β-(3
, 4-epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)butyltriethoxysilane, triazyloxysilane or triphenoxysilanes or their hydrolysates, and dimethyldimethoxysilane. , phenylmethyldimethoxysilane, dimethyljethoxysilane, phenylmethyljethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyljethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane,
γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane,
γ-methacryloxypropylmethyljethoxysilane,
γ-Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyljethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyljethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyljethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyljethoxy Silane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, α-glycidoxypropyl Methyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyljethoxysilane,
β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β
-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-
Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxy Silane, γ-
Glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-
Glycidoxypropylmethyldiacetoxysilane, γ-
Glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane Examples are dialkoxysilanes or diacyloxysilanes such as , γ-glycidoxypropylphenyldiethoxysilane.
かかる下層被膜形成性組成物は基材に塗布され、加熱硬
化される。膜厚は10mμ〜4μmの間が好ましく、そ
れより厚いと被膜にクラックが発生するなどの問題が生
じ、また薄いと制電性の発現が不十分である。また下層
被膜のみでは爪などによる摩擦で容易に傷が発生しやす
いなどの問題があり、著しく耐久性に乏しいものである
。Such a lower film-forming composition is applied to a substrate and cured by heating. The film thickness is preferably between 10 mμ and 4 μm; if it is thicker than this, problems such as cracks will occur in the film, and if it is thinner, the antistatic properties will be insufficient. Furthermore, if only the lower layer coating is used, there is a problem that it is easily scratched by friction caused by fingernails, etc., and the durability is extremely poor.
下層被膜の上に塗布される上層被膜としては0゜01μ
m〜10μmの膜厚で所期の塗膜性能を発現する物質で
あれば良いのであるが各種アクリル樹脂、ウレタン樹脂
、エポキシ樹脂などが耐久性、美観、着色性などの観点
から好ましく、表面硬度を付与する目的には、一般式
%式%
(ただし、lは1〜3、R5は炭素数1〜6のアルキル
基、アルコキシアルキル基、またはアリル基、Reはエ
ポキシ基を有する炭素数10以下の有機基、R7は炭素
数1〜6のアルキル基、ビニール基、またはアリール基
である)で示される有機ケイ素化合物の加水分解物が好
ましい。これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表例と
しては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリ
シドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシ
エチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポ
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシシラ
ン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシ
ラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ
−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4−
エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、
(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキ
シシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシエトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフエノキシシ
ラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピ
ルトリメトキシシラン、γ−(3゜4−エポキシシクロ
ヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン
、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリ
エトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシ
シラン、グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン、
α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−
グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシド
キシエチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシ
プロビルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピ
ルメチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジプトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチル
ジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
メチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
エチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエ
チルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニ
ルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニル
ジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフエニル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフエニル
ジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチル
モノメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルジメチ
ルモノエトキシシランなどが挙げられる。The upper layer coating applied on the lower layer coating is 0゜01μ.
Any material may be used as long as it exhibits the desired coating performance at a film thickness of m to 10 μm, but various acrylic resins, urethane resins, epoxy resins, etc. are preferable from the viewpoints of durability, aesthetics, colorability, etc., and surface hardness. For the purpose of imparting the general formula % formula % (where l is 1 to 3, R5 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an allyl group, and Re is an epoxy group having 10 or less carbon atoms). and R7 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, or an aryl group. Specific representative examples of these organosilicon compounds include glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-
Glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- Glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α−
Glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ- Glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ
-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4-
epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane,
(3,4-epoxycyclohexyl)methyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane
-Epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxyethoxysilane, β-(3,
4-Epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3゜4-epoxycyclohexyl)propyltriethoxysilane, δ-(3,4
-Epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilane, δ-(3,4-epoxycyclohexyl)butyltriethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyljethoxysilane,
α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-
Glycidoxyethylmethyljethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyljethoxy Silane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Methyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiptoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropyl ethyldimethoxysilane , γ-glycidoxypropylethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Examples include phenyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyldimethylmonomethoxysilane, γ-glycidoxypropyldimethylmonoethoxysilane, and the like.
これらの中でγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グシリ
ドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、β−(3
,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリエートキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン
、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
ットキシエトキシシランのエポキシ基含有有機ケイ素化
合物の加水分解物が本発明にとくに有効である。Among these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane,
γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxy Silane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane, β-(3
,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane
Hydrolyzates of epoxy group-containing organosilicon compounds such as -epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilane and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltritoxyethoxysilane are particularly effective in the present invention.
これらの有機ケイ素化合物はキュア温度を下げ、硬化を
より進行させるために加水分解して使用する。加水分解
は純水または塩酸、酢酸あるいは硫酸などの酸性水溶液
を添加、撹拌することによって製造される。さらに純水
、あるいは酸性水溶液の添加量を調節することによって
加水分解の度合をコントロールすることも容易に可能で
ある。加水分解に際しては、アルコキシ基と等モル以上
、3倍モル以下の純水または酸性水溶液の添加が硬化促
進の点で特に好ましい。These organosilicon compounds are used after being hydrolyzed in order to lower the curing temperature and further promote curing. Hydrolysis is produced by adding and stirring pure water or an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid, acetic acid, or sulfuric acid. Furthermore, the degree of hydrolysis can be easily controlled by adjusting the amount of pure water or acidic aqueous solution added. During hydrolysis, it is particularly preferable to add pure water or an acidic aqueous solution in an amount equal to or more than 3 times the mole of the alkoxy group, from the viewpoint of accelerating curing.
加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解を
さらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を混
合した後、加水分解を行うことも可能である。また目的
に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および/また
は減圧下に適当量除去して使用することも可能であるし
、その後に適当な溶媒を添加することも可能である。こ
れらの溶媒としてはアルコール、エステル、エーテル、
ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。また
これらの溶媒は必要の応じて2種以上の混合溶媒として
使用することも可能である。また、目的に応じて加水分
解反応を促進し、さらに予備縮合等の反応を進めるため
に室温以上に加熱することも可能であるし、予備縮合を
抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行うこと
も可能であることは言うまでもない。During hydrolysis, alcohol and other substances are produced, so it is possible to hydrolyze without a solvent, but in order to make the hydrolysis more even, it is possible to mix the organosilicon compound and a solvent before hydrolysis. is also possible. Depending on the purpose, it is also possible to remove an appropriate amount of the hydrolyzed alcohol etc. under heating and/or reduced pressure before use, and it is also possible to add an appropriate solvent afterwards. These solvents include alcohols, esters, ethers,
Examples include solvents such as ketones, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Moreover, these solvents can also be used as a mixed solvent of two or more types as required. Furthermore, depending on the purpose, it is possible to accelerate the hydrolysis reaction and further advance reactions such as precondensation by heating above room temperature, or to suppress precondensation, the hydrolysis temperature can be lowered to below room temperature. Needless to say, it is possible to do so.
また同様の目的で硬化触媒、硬化促進剤、架橋剤等の添
加も可能であり、これらの例としてはアルミニウムアル
コキシド、アルミニウムアセチルアセトネートなどのア
ルミニウム化合物、その他の金属錯化合物、イミダゾー
ル、有機酸無水物、各種アミン化合物などのエポキシ樹
脂硬化剤などが使用可能である。It is also possible to add curing catalysts, curing accelerators, crosslinking agents, etc. for the same purpose. Examples of these include aluminum compounds such as aluminum alkoxide and aluminum acetylacetonate, other metal complex compounds, imidazole, and organic acid anhydrides. Epoxy resin curing agents such as various compounds and various amine compounds can be used.
さらに本発明において帯電防止性を高からしめる目的に
好適な例としては各種ケイ素のテトラアルコキシドおよ
びその縮重合物の加水分解物が挙げられる。具体的な例
としてはメチルシリケート、エチルシリケート、n−プ
ロピルシリケート、i−プロピルシリケート、n−ブチ
ルシリケート、t−ブチルシリケート、i−ブチルシリ
ケートなどがある。Further, in the present invention, hydrolysates of various silicon tetraalkoxides and condensation products thereof are suitable as examples for the purpose of enhancing antistatic properties. Specific examples include methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, i-propyl silicate, n-butyl silicate, t-butyl silicate, and i-butyl silicate.
またこれらの上層被膜を形成するコーティング組成物は
、その目的に応じて二種以上混合して使用することも可
能である。Furthermore, two or more types of coating compositions for forming these upper layer films can be used in combination depending on the purpose.
本発明は上記例にあるような上層被膜形成性組成物を適
当な溶剤に溶解または分散し、コーティング組成物とし
て成分Aからなる下履被膜上に塗布して用いられる。被
膜の厚みは0.01μm〜10μm1好ましくは0.0
2μm〜5μmとすることが適当である。すなわち、こ
れより厚くなると帯電防止性の向上が認められなくなる
。また薄いと十分な表面硬度が得られなくなるなどの問
題が生じる傾向にある。上層被膜は上記の条件を満たす
場合は2層以上から成ることもできる。The present invention is used by dissolving or dispersing the upper layer film-forming composition as in the above example in a suitable solvent and applying it as a coating composition onto the underfoot film made of component A. The thickness of the coating is 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.0 μm.
A suitable range is 2 μm to 5 μm. That is, if it becomes thicker than this, no improvement in antistatic properties will be observed. In addition, if it is thin, problems such as insufficient surface hardness tend to occur. The upper layer coating can also consist of two or more layers if the above conditions are met.
また本発明の方法に於いて、成分Aを含有する複層被膜
およびその上にコーティングする上層被膜の厚み、材質
を適当に選択することによって、表面硬度、耐久性等の
向上の他に、基材の反射防止のみならず、反射増加の機
能を付与することも可能である。塗布された各種のコー
ティング組成物は段階的に加熱硬化および/または乾燥
することもできるし、下層の塗膜を予備硬化および/ま
たは乾燥した後、上層をコーティングし、加熱硬化およ
び/または乾燥することも可能である。加熱方法として
は熱風、赤外線などで行うことが可能である。また加熱
温度は適用される基材および使用されるコーティング組
成物によって決定されるべきであるが、通常は50〜2
50℃、より好ましくは60〜200℃が使用される。In addition, in the method of the present invention, by appropriately selecting the thickness and material of the multilayer film containing component A and the upper layer film coated thereon, in addition to improving surface hardness, durability, etc. It is possible to provide not only the function of preventing reflection of materials but also the function of increasing reflection. The applied various coating compositions can be heat-cured and/or dried in stages, or after the lower layer is pre-cured and/or dried, the upper layer is coated, heat-cured and/or dried. It is also possible. As a heating method, hot air, infrared rays, etc. can be used. The heating temperature should also be determined by the substrate to be applied and the coating composition used, but is usually 50 to 2
50°C, more preferably 60-200°C is used.
下層塗膜での場合これより低温では硬化または乾燥が不
十分であり、またこれより高温になると熱分解などが起
って黄変などの問題点を生ずる。In the case of a lower coating film, curing or drying is insufficient at lower temperatures, and thermal decomposition occurs at higher temperatures, resulting in problems such as yellowing.
上層被膜にあっては硬化性官能基、例えば重合、もしく
はプレポリマー中の2重結合などを利用して紫外線、電
子線、γ線などの放射線を用いて硬化させることもでき
る。The upper coating can also be cured by utilizing curable functional groups, such as polymerization or double bonds in prepolymers, using radiation such as ultraviolet rays, electron beams, and gamma rays.
また、本発明の成分Aには下記一般式
%式%()
で示される化合物、その加水分解物および/またはこれ
らの縮重合したオリゴマないしポリマを添加することが
可能である。Further, it is possible to add to component A of the present invention a compound represented by the following general formula % (), a hydrolyzate thereof, and/or an oligomer or polymer obtained by condensation polymerization thereof.
ここでMはTi (IV)、Si (IV)、Zr (
TV)、m+nは1〜4の整数、m、nは各々0.1.
2.3または4、RおよびR′は炭素数1〜10のアル
キル基、アルコキシアルキル基、またはアシル基、Xは
M ’ COCH2COM 2およびM3C0CH2C
00M’からなる群から選ばれた化合物から生ずる配位
子(ここでM’ 、M2 、M3およびM4は炭素数6
以下のアルキル基)である。Here, M is Ti (IV), Si (IV), Zr (
TV), m+n is an integer from 1 to 4, m and n are each 0.1.
2.3 or 4, R and R' are alkyl groups, alkoxyalkyl groups, or acyl groups having 1 to 10 carbon atoms, and X is M' COCH2COM 2 and M3C0CH2C
00M' (where M', M2, M3 and M4 have 6 carbon atoms)
The following alkyl group).
かかるチタニウム、ケイ素およびジルコニウムの化合物
はこれらのアルコキシド、カルボン酸塩および/または
キレート化合物であって、これらの化合物は下層被膜形
成組成物中に被膜形成成分中にM 02に換算して10
.0重量%以上含有するに必要な置台まれていることが
好ましい。(ここでMは先に定義した4価の元素を示す
)。Such titanium, silicon, and zirconium compounds are alkoxides, carboxylates, and/or chelates of these compounds, and these compounds are present in the film-forming component in the lower film-forming composition in an amount of 10% in terms of M02.
.. It is preferable that the necessary amount is provided to contain 0% by weight or more. (Here, M represents the previously defined tetravalent element).
これらの量を含有することにより、充分な帯電防止性を
示すことが可能となる。By containing these amounts, it becomes possible to exhibit sufficient antistatic properties.
前記一般式で示される化合物の具体例としては例えば、
チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキ
シド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ
−n−ブトキシド、チタンテトラ−5ee−ブトキシド
、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリーミープロポキシド
、アルミニウムトリブトキシド、ジルコニウムテトラエ
トキシド、ジルコニウムテトラ−i−プロポキシド、ジ
ルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテ
トラ−n−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−5ee−
ブトキシド、ジルコニウムテトラ−1er1−ブトキシ
ド、メチルシリケート、エチルシリケート、n−プロピ
ルシリケート、i−プロピルシリケート、n−ブチルシ
リケート、5ec−ブチルシリケートおよびt−ブチル
シリケートなどのアルコレート化合物、ジ−イソプロポ
キシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジブトキシ
チタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチ
タニウムビスアセチルアセトネート、トリーn−ブトキ
シジルコニウムモノエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムモノブトキシトリスアセチルアセトネート、ジルコ
ニウムジブトキシビスアセチルアセトネート、ジルコニ
ウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウム
モノブトキシトリスエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムブトキシビスエチルアセトアセテートなどのキレー
ト化合物などが挙げられる。Specific examples of the compound represented by the above general formula include:
Titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-5ee-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum treaty Propoxide, aluminum tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-5ee-
Alcoholate compounds such as butoxide, zirconium tetra-1er1-butoxide, methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, i-propyl silicate, n-butyl silicate, 5ec-butyl silicate and t-butyl silicate, di-isopropoxy titanium Bisacetylacetonate, dibutoxytitanium bisacetylacetonate, di-ethoxytitanium bisacetylacetonate, tri-n-butoxyzirconium monoethylacetoacetate, zirconium monobutoxytrisacetylacetonate, zirconium dibutoxybisacetylacetonate, zirconium tri- Examples include chelate compounds such as butoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxytrisethylacetoacetate, and zirconium butoxybisethylacetoacetate.
本発明の基材としては、特に限定されるものではないが
、液状コーティングの観点から、ガラス、プラスチック
材料がと(に有効な結果を与える。The base material of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of liquid coating, glass and plastic materials give effective results.
上記のプラスチック材料としてはポリメチルメタクリレ
ートおよびその共重合体、ポリカーボネート、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート(CR−39)、
ポリエステルとくにポリエチレンテレフタレート、およ
び不飽和ポリエステル、アクリロニトリル−スチレン共
重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂など
が好ましい。The above plastic materials include polymethyl methacrylate and its copolymers, polycarbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39),
Polyesters, particularly polyethylene terephthalate, unsaturated polyesters, acrylonitrile-styrene copolymers, vinyl chloride, polyurethanes, epoxy resins, and the like are preferred.
また、ガラスにも好ましく用いることができる。Moreover, it can also be preferably used for glass.
さらに被覆材料で被覆された上記のプラスチック、ガラ
スなどの基材にも好ましく適用できる。Furthermore, it can be preferably applied to base materials such as the above-mentioned plastics and glass coated with coating materials.
とくに本発明の下層被膜のさらに下層にある被膜材料に
よって付着性、硬度、耐薬品性、耐久性、発色性などの
諸物性を向上させることができる。In particular, various physical properties such as adhesion, hardness, chemical resistance, durability, and color development can be improved by the coating material further below the lower layer coating of the present invention.
さらにこれらのコーティング組成物中には塗布作業性を
向上させるための平滑性、消泡剤、被膜改良剤としての
紫外線吸収剤、酸化防止剤の他、防曇性を付与する意味
で各種の界面活性剤などの添加剤を用いることができる
。また塗布作業にあたっではこれらの組成物は通常揮発
性溶媒に希釈して塗布される。溶媒°として用いられる
ものは、とくに限定されないが、使用にあたっては組成
物の安定性、基材に対する濡れ性、揮発性などを考慮し
て決められるべきである。また溶媒は1種のみならず2
種以上の混合物として用いることも可能である。In addition, these coating compositions contain various interfaces to improve smoothness, antifoaming agents, ultraviolet absorbers as film improvers, and antioxidants to improve coating workability, as well as antioxidants to provide antifogging properties. Additives such as activators can be used. Furthermore, during coating operations, these compositions are usually diluted with a volatile solvent before being applied. The solvent to be used is not particularly limited, but should be determined in consideration of the stability of the composition, wettability to the substrate, volatility, etc. In addition, there are not only one type of solvent but also two types of solvents.
It is also possible to use a mixture of more than one species.
これらの溶剤の中には、とくに下層被膜形成性のコーテ
ィング組成物の安定化に有用なものもあり、例えば炭素
数8以下のアルコール類、エチレングリコールないしは
ジエチレングリコールのモノアルキルエーテル類、アセ
チルアセトンなどのジケトン類、アセト酢酸エチルなど
のケトエステル類などがとくにチタン、ジルコニウムな
どのアルコキシド、キレート化合物に対して有効である
。Some of these solvents are particularly useful for stabilizing the underlying film-forming coating composition, such as alcohols having 8 or less carbon atoms, monoalkyl ethers of ethylene glycol or diethylene glycol, and diketones such as acetylacetone. and ketoesters such as ethyl acetoacetate are particularly effective against alkoxides and chelate compounds such as titanium and zirconium.
ここでコーティング組成物とは通常の塗布作業が適用で
きる範囲の粘度を有する組成物であって適用温度で10
ポイズ以下、好ましくは1ポイズ以下のものが用いられ
る。すなわち、これより高い粘度を有するコーティング
組成物は、均一な被膜を得ることが困難である。塗布方
法としては通常のコーティング作業で用いられる方法が
可能であるが薄膜の膜厚コントロールの観点からはカー
テンフロー塗装、浸漬塗装、スピン塗装などが好ましい
、。Here, the coating composition is a composition having a viscosity within a range that can be applied in normal coating operations, and which has a viscosity of 10% at the application temperature.
Poise or less, preferably 1 poise or less is used. That is, it is difficult to obtain a uniform coating with a coating composition having a viscosity higher than this. As a coating method, methods used in normal coating operations are possible, but from the viewpoint of controlling the thickness of the thin film, curtain flow coating, dip coating, spin coating, etc. are preferable.
これらの材料は、眼鏡、カメラなどの光学用レンズ、各
種表示装置用カバーとくにCRT用前面前面板装鉄板な
どにその効果を発揮する。These materials exhibit their effects in optical lenses for glasses, cameras, etc., covers for various display devices, and especially iron plates for front panels for CRTs.
また各種の塗布にあたっては各種の化学処理、たとえば
熱水浸漬、溶媒浸漬、酸化還元剤処理、酸、アルカリ処
理など、物理処理、例えば低温プラズマ処理、コロナ放
電処理、紫外線照射などを各々と接する層に適用するこ
とで付着性、ぬれ性を向上させることもできる。In addition, for various coatings, various chemical treatments, such as hot water immersion, solvent immersion, redox agent treatment, acid and alkali treatments, and physical treatments, such as low temperature plasma treatment, corona discharge treatment, and ultraviolet irradiation, are applied to the layers in contact with each other. It is also possible to improve adhesion and wettability by applying it to.
[実施例]
以下実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。[Examples] The present invention will be explained in detail below using Examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1
(1)下層コーティング組成物の調製
(a) γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシ
シラン加水分解物の調製
γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン50
gを撹拌下で液温を10℃にコントロールしながら0.
05規定塩酸水溶液7.3gを滴下混合して、加水分解
物を得た。Example 1 (1) Preparation of lower layer coating composition (a) Preparation of γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane hydrolyzate γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane 50
g while stirring and controlling the liquid temperature to 10°C.
7.3 g of 0.05N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise and mixed to obtain a hydrolyzate.
(b) コーティング組成物の調製
前記(1)、 (a)で調製した加水分解物を1゜6
g1メタ−ノール分散コロイド状シリカ5g1メチルイ
ソブチルケトン182.5gおよびアルミニウムアセチ
ルアセトネート0.13gを添加し、均一になるまで撹
拌する。その後、撹拌下でテトラ−n−ブチルチタネー
ト10.8gを添加してコーティング組成物を得た。(b) Preparation of coating composition The hydrolyzate prepared in (1) and (a) above was mixed at 1°6
g1 5 g of methanol-dispersed colloidal silica.1 182.5 g of methyl isobutyl ketone and 0.13 g of aluminum acetylacetonate are added and stirred until homogeneous. Thereafter, 10.8 g of tetra-n-butyl titanate was added under stirring to obtain a coating composition.
■ 上層コーティング組成物の調製 前記(1)(a)で調製した加水分解物29.4g。■ Preparation of upper layer coating composition 29.4 g of the hydrolyzate prepared in (1) (a) above.
シリコーン系界面活性剤0.23g、n−プロピルアル
コール419.5gおよびアルミニウムアセチルアセト
ネー)0.9gを添加し、均一になるまで十分撹拌して
コーティング組成物を得た。0.23 g of silicone surfactant, 419.5 g of n-propyl alcohol, and 0.9 g of aluminum acetylacetonate were added, and the mixture was thoroughly stirred until uniform, to obtain a coating composition.
■) 塗布およびキュア
まず前項(1)で調製したコーティング組成物を用いて
、カセイソーダ水溶液に浸漬後、洗浄したジエチレング
リコールビスアリルカーボネート重合体レンズ(直径7
5閲、厚み2. 1mm、 CR−39プラルンズ)に
浸漬法で塗布した。塗布条件は引き上げ速度10cm/
分であり、塗布したレンズは80℃の熱風乾燥機で1時
間加熱キュアした。■) Coating and curing First, using the coating composition prepared in the previous section (1), a diethylene glycol bisallyl carbonate polymer lens (diameter 7
5 reviews, thickness 2. 1 mm, CR-39 Praluns) by dipping method. The coating conditions are a pulling speed of 10cm/
The coated lenses were heated and cured for 1 hour in a hot air dryer at 80°C.
この後前項■で調製したコーティング組成物を用いて、
下層と同様にして、下層上にコーティングした。塗布し
たレンズは80℃で2時間加熱キュアした。After this, using the coating composition prepared in the previous section (■),
It was coated on top of the bottom layer in the same manner as the bottom layer. The coated lenses were heat cured at 80° C. for 2 hours.
(4) 試験結果
得られた複層被膜を有するレンズの性能は、下記の方法
に従って試験を行った。結果は、第1表に示す。(4) Test Results The performance of the obtained lenses with multilayer coatings was tested according to the following method. The results are shown in Table 1.
(イ)外観
肉眼にてその透明性、着色性、クラックの有無を観察し
た。(b) Appearance The transparency, coloration, and presence or absence of cracks were observed with the naked eye.
(ロ)全光線透過率
5M−3カラーコンピユーター(スガ試験機社製)を用
いて測定した。(b) Total light transmittance was measured using a 5M-3 color computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
(ハ)硬度
#0000のスチールウールを用い複数被膜上をこすり
、傷付き具合を判定した、判定基準は、
A・・・強くこするとわずかに傷が発生するB・・・弱
いこすりで容易に傷が発生する。(c) Using steel wool with a hardness of #0000, multiple coatings were rubbed and the degree of scratching was judged.The criteria were: A...Slight scratches occur when rubbed hard.B...Slight scratches occur when rubbed lightly. A wound occurs.
仁)密着性
複層被膜上に1mm間隔のCR−39プラルンズに達す
るゴバン目を100個入れて、セロハン粘着テープ(商
品名“セロテープ”ニチバン社製)を強く貼りつけ、9
0度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べた。3) Place 100 goblets reaching CR-39 prairons at 1 mm intervals on the adhesive multilayer film, and firmly stick cellophane adhesive tape (trade name "Cello Tape" manufactured by Nichiban Co., Ltd.).
It was rapidly peeled off in the 0 degree direction and the presence or absence of paint film peeling was examined.
(ホ)染色性
赤、青、黄からなる分散染料を用い、93℃15分の条
件で染色を行った。染色性としては(ロ)と同様の装置
を用いて測定した。(e) Dyeing properties Dyeing was carried out at 93°C for 15 minutes using disperse dyes consisting of red, blue, and yellow. The stainability was measured using the same device as in (b).
(へ)帯電防止性
20℃65%RHの条件下に1晩放置後、複層被膜上に
鹿皮でこすり灰の付着具合で判定した。(f) Antistatic property After being left overnight at 20° C. and 65% RH, the multilayer film was rubbed with deerskin and judged by the degree of adhesion of ash.
A・・・灰が付着しない
B・・・灰が付着する
[発明の効果]
本発明によって、各種の表面特性を有する被膜を広範囲
に選択することができ、”とくに表面硬度、反射防止性
、耐久性、透明性、耐衝撃性など、さらに好ましくは帯
電防止性にすぐれた複層被膜を提供することができる。A: Ash does not adhere B: Ash adheres [Effects of the Invention] The present invention makes it possible to select from a wide range of coatings having various surface properties, especially surface hardness, antireflection properties, It is possible to provide a multilayer coating that is excellent in durability, transparency, impact resistance, and more preferably in antistatic properties.
特許出願人 東 し 株 式 会 社Patent applicant Higashi Shikikai Co., Ltd.
Claims (1)
膜が下記成分Aを含有する組成物の硬化によって得られ
るものであり、上層被膜が厚さ0.01μm〜10μm
の被膜であることを特徴とする複層被膜。 A、平均粒子径1〜200mμのシリカゾル、および、 一般式R^2_aR^3_bSi(OR^4)_4_−
_a_−_bで表される有機ケイ素化合物および/また
はその加水分解物。 ここでR^2、R^3は各々アルキル基、アルケニル基
、アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基
、メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を
有する炭化水素基、R^4は炭素数が1〜8のアルキル
基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aおよび
bは0または1であり、かつa+bは1または2である
。(1) A multilayer coating applied to the surface of a substrate, in which the lower layer coating is obtained by curing a composition containing the following component A, and the upper layer coating has a thickness of 0.01 μm to 10 μm.
A multilayer film characterized by being a film of. A, silica sol with an average particle diameter of 1 to 200 mμ, and general formula R^2_aR^3_bSi(OR^4)_4_-
An organosilicon compound represented by _a_-_b and/or a hydrolyzate thereof. Here, R^2 and R^3 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group, and R^4 is a carbon group. It is an alkyl group, an alkoxyalkyl group, or an acyl group having 1 to 8 in number, a and b are 0 or 1, and a+b is 1 or 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29816989A JPH02160543A (en) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | Double layer coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29816989A JPH02160543A (en) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | Double layer coating |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58034643A Division JPS59161466A (en) | 1983-03-04 | 1983-03-04 | Multi-layered coating film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02160543A true JPH02160543A (en) | 1990-06-20 |
Family
ID=17856094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29816989A Pending JPH02160543A (en) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | Double layer coating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02160543A (en) |
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1989
- 1989-11-16 JP JP29816989A patent/JPH02160543A/en active Pending
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