JPH03108750A - Semiconductor memory integrated circuit - Google Patents
Semiconductor memory integrated circuitInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は半導体記憶集積回路に関し、特に電気的に記憶
内容を変化することが可能な不揮発性半導体記憶装置を
含む半導体記憶集積回路に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory integrated circuit, and more particularly to a semiconductor memory integrated circuit including a nonvolatile semiconductor memory device whose storage contents can be changed electrically.
[従来の技術]
従来、この種の半導体記憶集積回路のXデコーグー30
1.Yデコーダー302.センスアンプ303.Yセレ
クター304.半導体記憶装置アレイ305の配置図を
第3図に示す。第5図は電気的に書き込み消去可能な半
導体記憶装置の読み出し、書き込み等の単位、通常ニブ
ル、バイト。[Prior art] Conventionally, this type of semiconductor memory integrated circuit has an X decoder 30.
1. Y decoder 302. Sense amplifier 303. Y selector 304. A layout diagram of the semiconductor memory device array 305 is shown in FIG. FIG. 5 shows units of reading and writing, usually nibbles and bytes, of an electrically writable and erasable semiconductor memory device.
ワード等のそのピット数によって呼はれ方が異なるが、
ここではその単位を4ピツトで表したものである。電気
的に書き込み消去可能な半導体記憶装置では、第5図に
示すように、半導体記憶装置は1ビットの情報を記憶で
きる半導体記憶装置503と、前記半導体記憶装置のド
レインを選択し、そのゲートがXデコーダー回路の出力
であるワード線に、そのドレインがデイジット線501
に接続されている半導体装置504と、4ビット分のゲ
ートを選択する半導体装置505より成っている。この
ように、ゲートを選択するための半導体装置505が必
要なので、4ビット分の半導体記憶装置は、半導体基板
上隣接して配置される。The way it is called differs depending on the number of pits in the word, etc.
Here, the unit is expressed as 4 pits. In an electrically writable and erasable semiconductor memory device, as shown in FIG. The word line which is the output of the X decoder circuit has its drain connected to the digit line 501.
It consists of a semiconductor device 504 connected to a semiconductor device 504, and a semiconductor device 505 that selects gates for 4 bits. As described above, since the semiconductor device 505 for selecting the gate is required, the semiconductor memory devices for 4 bits are arranged adjacently on the semiconductor substrate.
第3図の配置において、複数のデイジット線312のう
ち必要なデイジット線を選択するYセレクター304の
ゲートに接続されているXデコーダー302の出力の配
線は、Yセレクター304が一ケ所に配置されているに
も係わらず、半導体記憶装置のアレイの一端から他端ま
での幅とYデコーダーの出力の本数の高さ領域310を
占めていて、また配線領域の面積たけてなく、記憶容量
によりその配線寄生容量が変化するので、これより、X
デコーダー302の動作スピードと消費電力が変化する
。In the arrangement shown in FIG. 3, the wiring of the output of the However, the width from one end of the semiconductor memory device array to the other end and the height region 310 of the Y decoder outputs are the same, and the area of the wiring area is not large enough, and the wiring is limited due to the storage capacity. Since the parasitic capacitance changes, from this,
The operating speed and power consumption of the decoder 302 change.
また、第4図は別の従来例の配置図である。本配置図で
はXデコーダー402は半導体記憶装置のアレイ405
を挟んてYセレクター404と反対側に配置され、Xデ
コーダー402の出力の配線はデイジット線と平行にY
デコーダーの出力の数だけ存在し、410で示されてい
る領域を占め、この配線長は半導体記憶装置のアレイ4
05の記憶容量によりワード線の本数か変化し、これに
よりYデコーダーの配線長が変化し配線寄生容量が変化
する。即ち、記憶容量が大きくなれば、それだけYデコ
ーダーの出力の配線領域410は太きくなる。Further, FIG. 4 is a layout diagram of another conventional example. In this layout diagram, the X decoder 402 is an array 405 of semiconductor memory devices.
The output wiring of the X decoder 402 runs parallel to the Y selector 404 across the digit line.
There are as many wires as there are outputs of the decoder, occupying an area indicated by 410, and the length of this wire is equal to the number of outputs of the semiconductor memory device.
The number of word lines changes depending on the storage capacity of 05, which changes the wiring length of the Y decoder and changes the wiring parasitic capacitance. That is, as the storage capacity increases, the wiring area 410 for the output of the Y decoder becomes thicker.
第7図は電気的に書き込み可能から紫外線で消去可能な
不揮発性半導体記憶装置の従来例を示したものである。FIG. 7 shows a conventional example of a nonvolatile semiconductor memory device that is electrically writable and erasable with ultraviolet light.
電気的に書き込み可能かつ紫外線で消去可能な不揮発性
半導体記憶装置の場合は、第5図に示したように同時に
読み出したり書き込んだりする半導体記憶装置を隣接配
置するというような制約はなく、第7図の例では4ピツ
ト毎に同時に読み出したり書き込んだりする半導体記憶
装置が配置されている。In the case of nonvolatile semiconductor memory devices that are electrically writable and erasable with ultraviolet light, there is no restriction that semiconductor memory devices that can read and write simultaneously are placed adjacent to each other as shown in FIG. In the example shown in the figure, semiconductor memory devices that read and write simultaneously are arranged every four pits.
第7図の構成について説明する。半導体記憶装置アレイ
705の左辺に隣接してXデコーダー701が、上辺に
隣接してYセレクター704が、更にYセレクター70
4の上辺にYデコーダー出力配線領域708があり、配
線領域708の上辺に隣接してセンスアンプ703が配
置されている。The configuration shown in FIG. 7 will be explained. An X decoder 701 is adjacent to the left side of the semiconductor memory device array 705, a Y selector 704 is adjacent to the top side, and a Y selector 70 is located adjacent to the top side of the semiconductor memory device array 705.
There is a Y decoder output wiring area 708 on the upper side of the wiring area 708, and a sense amplifier 703 is arranged adjacent to the upper side of the wiring area 708.
Xデコーダー702はXデコーダー701の上部てセン
スアンプ703の左部に配置され、配線領域710によ
ってYセレクター704と接続されている。この時、X
デコーダー702はXデコーダー701と半導体記憶装
置アレイ705によって決まるX方向(図中の左右方向
)の大きさと、半導体記憶装置アレイ705.Yセレク
ター704、配線領域710とセンスアンプ703によ
って決まるY方向(図中の上下方向)の大きさの領域に
配線領域710が存在したり、あるいはセンスアンプ7
03.Xデコーダー701への電源線が配線の存在した
りという理由によりうまく配置できない。The X decoder 702 is arranged above the X decoder 701 and to the left of the sense amplifier 703, and is connected to the Y selector 704 through a wiring region 710. At this time,
The decoder 702 has a size in the X direction (horizontal direction in the figure) determined by the X decoder 701 and the semiconductor memory device array 705, and the semiconductor memory device array 705. The wiring area 710 exists in an area with a size in the Y direction (vertical direction in the figure) determined by the Y selector 704, the wiring area 710, and the sense amplifier 703, or the sense amplifier 7
03. The power supply line to the X decoder 701 cannot be arranged well due to the presence of wiring.
[発明が解決しようとする課題] 上述した従来の半導体記憶集積回路は、第3図。[Problem to be solved by the invention] The conventional semiconductor memory integrated circuit described above is shown in FIG.
第4図の例においては半導体記憶装置の記憶容量の大き
さによりYデコーダー出力の配線長が変化し、それによ
り配線寄生容量が変化し、それによりYデコーダーの動
作速度、消費電力が変化してしまい、選択すべきYセレ
クターのゲートとYデコーダーの出力を接続する配線領
域が必要であり、この配線領域は第3図の例では、半導
体記憶装置のプレイの幅とYデコーダーの出力線数、あ
るいは第4図の例では半導体記憶装置のアレイの高さと
Yデコーダーの出力線数によって決まる面積か必要であ
るという欠点を有する。また、第7図で示している電気
的書き込み可能かつ紫外線で消去可能な不揮発性半導体
記憶装置では、近年、前記不揮発性半導体記憶装置は、
マイクロコンピュータのプロプログラム格納用の記憶装
置として用いられ、マイクロコンピュータあるいは、マ
イクロコンピュータの周辺回路と共に同一半導体基板上
に形成され、−マイクロコンピュータのプロプログラム
を開発するためのツールとして用いられるようになって
きている。即ち、ユーザーが開発したマイクロコンピュ
ータのプロプログラムをユーザーが電気的書き込み可能
な不揮発性半導体記憶装置へ記憶させ、マイクロコンピ
ュータが期待通りに動作するようにプロプログラムを変
更していくプロプログラムのデパックの過程で使用され
ている。プロプログラムのデパックが終了した時点でユ
ーザーは従来のようにプロプログラムのコードを半導体
製造側へ送り、半導体の製造工程中てプロプログラムコ
ードを半導体基板へコーディングする読み出し専用半導
体記憶装置を内蔵したマイクロコンピュータを大量に安
価に製造し使用している。そのため、電気的に記憶内容
が変化可能な半導体記憶装置を内蔵したマイクロコンピ
ュータが多種多様に必要とされているが、特に電気的に
記憶内容を変更可能な半導体記憶装置では記憶内容を変
化させる際に通常の半導体集積回路によって使用される
電源電圧よりも高い電圧、例えば12.5Vまたは21
V等の電圧が半導体集積回路に印加されるために、プロ
セス的に複雑であるばかりでは設計上も種々の制約がレ
イアウト設計に課せられてレイアウト設計の複雑さが増
加し、設計の効率化を妨げているという欠点を有してい
る。In the example shown in Figure 4, the wiring length of the Y decoder output changes depending on the storage capacity of the semiconductor storage device, which changes the wiring parasitic capacitance, which changes the operating speed and power consumption of the Y decoder. Finally, a wiring area is required to connect the gate of the Y selector to be selected and the output of the Y decoder, and in the example of FIG. Alternatively, the example shown in FIG. 4 has the disadvantage that the area required is determined by the height of the array of the semiconductor memory device and the number of output lines of the Y decoder. Furthermore, in the electrically writable and ultraviolet erasable nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.
It is used as a storage device for storing professional programs for microcomputers, and is formed on the same semiconductor substrate as the microcomputer or the peripheral circuits of the microcomputer, and has come to be used as a tool for developing professional programs for microcomputers. It's coming. In other words, the professional program depacking process involves storing a professional program for a microcomputer developed by a user in an electrically writable non-volatile semiconductor storage device, and modifying the professional program so that the microcomputer operates as expected. used in the process. When the depacking of the pro program is completed, the user sends the pro program code to the semiconductor manufacturing side as before, and the microcomputer with a built-in read-only semiconductor memory device codes the pro program code onto the semiconductor substrate during the semiconductor manufacturing process. Computers are manufactured and used in large quantities at low cost. Therefore, there is a need for a wide variety of microcomputers with built-in semiconductor storage devices whose storage contents can be changed electrically.In particular, semiconductor storage devices whose storage contents can be changed electrically at a voltage higher than the power supply voltage used by normal semiconductor integrated circuits, e.g. 12.5V or 21V.
Voltages such as V are applied to semiconductor integrated circuits, which not only complicates the process, but also imposes various constraints on the layout design, increasing the complexity of the layout design and making it difficult to improve the efficiency of the design. It has the disadvantage of being a hindrance.
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、上記欠
点を合理的に解決した半導体記憶集積回路を提供するこ
とを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory integrated circuit that reasonably solves the above-mentioned drawbacks.
[発明の従来技術に対する相違点コ
上述した従来の半導体記憶集積回路に対して、本発明は
、Yデコーダーの出力線と、Yセレクターのゲートを接
続するための配線領域が少なくなり、半導体記憶装置の
記憶容量が変化しても配線の寄生効果による動作速度、
消費電力の変化が小さく、また半導体集積回路のレイア
ウト設計においても本発明の半導体記憶集積回路は半導
体記憶集積回路の形が園か記憶容量の大きさに関係なく
ほぼ長方形であるため、レイアウト設計の最初に行う、
半導体集積回路の相対配置を決めるフロアプラン設計も
容易に行うことができ、また上記各機能ブロックを相互
に配置するだけて半導体記憶集積回路部分のレイアウト
設計がほとんど終了してしまうので、高電圧を扱う際の
レイアウト設計上の制約を上記の機能ブロック内で受は
持つことができ、設計の複雑度が少なくなり設計の効率
かが可能であるという相違点を有する。[Differences between the invention and the prior art] Compared to the above-mentioned conventional semiconductor memory integrated circuit, the present invention requires less wiring area for connecting the output line of the Y decoder and the gate of the Y selector. Even if the storage capacity changes, the operating speed due to the parasitic effects of the wiring
The change in power consumption is small, and the semiconductor memory integrated circuit of the present invention has a substantially rectangular shape regardless of the size of the storage capacity, so it is easy to design the layout of the semiconductor integrated circuit. do it first,
Floor plan design that determines the relative placement of semiconductor integrated circuits can be easily performed, and the layout design of the semiconductor memory integrated circuit portion is almost completed simply by arranging the above-mentioned functional blocks mutually, so high voltage The difference is that layout design constraints can be handled within the above functional blocks, reducing design complexity and increasing design efficiency.
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成する本発明の半導体記憶集積回路は、電
気的に記憶内容を変化することが可能な不揮発性半導体
記憶装置、前記半導体記憶装置を1個以上まとめて選択
するようにした半導体記憶装置の集合体、前記半導体記
憶装置をアレイ状に配置した半導体記憶装置アレイ、前
記アレイの列方向の選択を行うYデコーダー回路、セン
スアンプ回路と前記Yデコーダー回路の出力により前記
半導体記憶装置の列方向線と前記センスアンプ回路の切
換を行うYセレクター回路からなり、前記Yセレクター
回路は前記アレイに隣接して配置され、前記センスアン
プ回路はYセレクター回路を挟み半導体記憶装置アレイ
と反対側の位置に配置されている構成にして、Yデコー
ダー回路をYセレクター回路あるいは、センスアンプ回
路の少なくとも一方に隣接する位置に配置することを特
徴とする。[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory integrated circuit of the present invention that achieves the above object includes a nonvolatile semiconductor memory device whose storage contents can be changed electrically, and one or more of the semiconductor memory devices described above. A semiconductor memory device array in which the semiconductor memory devices are arranged in an array, a Y decoder circuit for selecting in the column direction of the array, a sense amplifier circuit and the Y decoder circuit. It consists of a Y selector circuit that switches between the column direction line of the semiconductor memory device and the sense amplifier circuit by an output, the Y selector circuit is arranged adjacent to the array, and the sense amplifier circuit is connected to the semiconductor memory device with the Y selector circuit in between. The present invention is characterized in that the Y decoder circuit is arranged at a position opposite to the storage device array, and the Y decoder circuit is arranged at a position adjacent to at least one of the Y selector circuit or the sense amplifier circuit.
[実施例コ
第1図は本発明の一実施例の配置図である。本実施例の
半導体集積回路はXデコーダー101゜Yデコーダー1
02.センスアンプ103.Yセ9−
IO−
レフター104.半導体記憶装置アレイ105゜コント
ロールケート電圧供給線106.Yセレクターとセンス
アンプの配線領域107.Yアドレス入力線108.X
アドレス入力線109より成っている。第1図の配置図
は前記の各回路の半導体基板上の配置を示している。本
実施例においてはYデコーダー102はセンスアンプ1
03とYセレクター104の上にある配線領域の107
の間に配設されている。第1図に示されている位置にY
デコーダー102を配置することにより、配線領域10
7を横切ってYセレクター104のゲートへ配線するY
デコーダー102の出力線の配線のための領域をつくる
ことなく、また半導体記憶装置の記憶容量が変化しても
配線長はほとんど変化することはない。また、第1図は
センスアンプ103の出力が4ビツトの場合であるが8
ビツトでも16ビツトでも任意の出力ビツト数の場合に
実現される。尚、Yデコーダー12を本実施例のように
配設するとにより、Yセレクター104からセンスアン
プ103への配線が長くなるが、1
この増加分はもともとの配線領域107の部分に比へて
小さいので動作特性にはほとんど影響はない。Embodiment FIG. 1 is a layout diagram of an embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit of this embodiment has an X decoder 101 and a Y decoder 1.
02. Sense amplifier 103. YSe9-IO-Lefter104. Semiconductor storage device array 105° control gate voltage supply line 106. Y selector and sense amplifier wiring area 107. Y address input line 108. X
It consists of an address input line 109. The layout diagram in FIG. 1 shows the layout of each of the above-mentioned circuits on a semiconductor substrate. In this embodiment, the Y decoder 102 is the sense amplifier 1
03 and 107 in the wiring area above the Y selector 104
is placed between. Y in the position shown in Figure 1.
By arranging the decoder 102, the wiring area 10
Wire Y across 7 to the gate of Y selector 104
No area is created for the wiring of the output line of the decoder 102, and the wiring length hardly changes even if the storage capacity of the semiconductor memory device changes. Furthermore, although FIG. 1 shows the case where the output of the sense amplifier 103 is 4 bits, it is 8 bits.
This can be achieved with any number of output bits, whether bit or 16 bits. Note that by arranging the Y decoder 12 as in this embodiment, the wiring from the Y selector 104 to the sense amplifier 103 becomes longer; however, this increase is smaller than the original wiring area 107. There is almost no effect on operating characteristics.
Yデコーダー102の出力とYセレクター104のケー
トとの接続に必要な配線領域は従来技術のような各回路
の配置を取ったとすると、記憶容量の大容量化にともな
って大きな領域になる。本発明の実施例においては、Y
デコーダーとYセレクターのゲート間の専用の配線領域
は、従来例の第3図の領域310の部分が不用となり、
この部分の面積、 [(Yデコーダーの出力線の本数)
×(配線幅+配線間隔)]X[(ディジット線本数)×
(メモリーセル横方向の幅)]が縮小されることとなる
。If each circuit is arranged as in the prior art, the wiring area required for connecting the output of the Y decoder 102 and the gate of the Y selector 104 becomes large as the storage capacity increases. In an embodiment of the present invention, Y
As for the dedicated wiring area between the decoder and the gate of the Y selector, the area 310 in FIG. 3 of the conventional example is no longer needed.
The area of this part, [(number of output lines of Y decoder)
×(Wiring width + Wiring spacing)]X[(Number of digit lines)×
(the width of the memory cell in the lateral direction)] is reduced.
また、従来例の第4図では領域410が不用となりもこ
の部分の面積、 [(Yデコーダーの出力線の本数)×
(配線幅+配線間隔)]X[(ワード線の本数)×(メ
モリーセルの縦方向の幅)]が縮小されることとなる。In addition, in the conventional example shown in FIG. 4, the area 410 is unnecessary, but the area of this part is [(number of output lines of the Y decoder)×
(wiring width+wiring interval)]X[(number of word lines)×(vertical width of memory cell)] is reduced.
Yデコーダーの出力線の本数16本、配線幅212−
μm、配線間隔2μm、デイジット線の本数128本、
ワード線の本数128本、メモリーセル横方向の幅8μ
m、μm間の幅を16μmとすると、従来例の第3図の
場合、16X4X128X8=655361Lm2とな
り、約0. 26mn+2の正方形の面積外のチップサ
イズが縮小可能であり、また従来例の第4図の場合には
16X4X128X16=131072μm2となり、
約0.36μm2の正方形の面積外が縮小可能である。The number of output lines of the Y decoder is 16, the wiring width is 212-μm, the wiring spacing is 2μm, the number of digit lines is 128,
Number of word lines: 128, memory cell width in lateral direction: 8μ
If the width between m and μm is 16 μm, in the case of the conventional example shown in FIG. 3, it becomes 16X4X128X8=655361Lm2, which is about 0. The chip size outside the square area of 26mm+2 can be reduced, and in the case of the conventional example shown in FIG. 4, it becomes 16X4X128X16=131072μm2,
The area outside the square area of about 0.36 μm2 can be reduced.
また、第1図の実施例においては以下の機能ブロック、
Xデコーダー101.Yデコーダー102、センスアン
プ103.Yセレクター104゜半導体記憶装置アレイ
105および配線領域107をそれぞれ個々にレイアウ
トデータとして用意して各機能ブロックを配置すること
により半導体記憶集積回路のレイアウト設計が可能とな
る。従来例の第3図においては、Yデコーダー302の
配置やYデコーダー302と配線領域310の間の接続
領域は、記憶容量を変えようとした場合に手直しが必要
であったのが、本実施例においてはYテコ−ター102
まC含めて、機能フロックの配置たけて、半導体記憶集
積回路のレイアウトの設計の主な部分D)できてし・よ
うので、自動化設計にも十分に対応できる。In addition, in the embodiment shown in FIG. 1, the following functional blocks:
X decoder 101. Y decoder 102, sense amplifier 103. By preparing the Y selector 104.degree. semiconductor memory device array 105 and wiring area 107 as layout data individually and arranging each functional block, it is possible to design the layout of the semiconductor memory integrated circuit. In the conventional example shown in FIG. 3, the arrangement of the Y decoder 302 and the connection area between the Y decoder 302 and the wiring area 310 had to be modified when changing the storage capacity, but in this example In the case of Y Tecotor 102
Including C, the main part of the layout design of a semiconductor memory integrated circuit, including the arrangement of functional blocks D), can be completed, so it can be fully adapted to automated design.
また、大規模S積回路を設計する際には、多数のマクロ
セル(ある機能を有する回路フロックを設計したレイア
ラI・データをマクロセルと呼ぶ)を用意しておき、そ
れらのマクロセルの内必要なもののみ用い、それらのマ
クロセルの間の相互配線を行うことによって新たに大規
模集積回路を設計することか近年行われるようになり、
これらの場合、大規模集積回路の半導体チップの大きさ
はX方向、X方向にそれぞれ並ふマク[7セルの大きさ
と配線領域の和になる。上記のように、半導体記憶集積
回路をマクロセルとして利用する場合、マクロセル内の
配線領域の縮小効果たけてなく、多くの場合半導体チッ
プの面積の縮小にも寄与し、またマクロセルを長方形に
近く設計できることはマクロセルとマクロセル間の配線
領域の間に残される利用可能な半導体チップ上の部分を
少なくす13
4
ることにも寄与する。In addition, when designing a large-scale S product circuit, prepare a large number of macrocells (layer I/data that is designed as a circuit block with a certain function is called a macrocell), and select the necessary ones from among those macrocells. In recent years, it has become common practice to design new large-scale integrated circuits by using only macrocells and interconnecting those macrocells.
In these cases, the size of the semiconductor chip of the large-scale integrated circuit is the sum of the size of the cells arranged in the X direction and the wiring area. As mentioned above, when a semiconductor memory integrated circuit is used as a macro cell, the wiring area within the macro cell is greatly reduced, which in many cases also contributes to reducing the area of the semiconductor chip, and the macro cell can be designed to be nearly rectangular. This also contributes to reducing the usable portion of the semiconductor chip 13 4 left between the macrocells and the wiring area between the macrocells.
第2図の本発明の他の実施例の配置図である。FIG. 3 is a layout diagram of another embodiment of the invention of FIG. 2;
本実施例においては、Yデコーダ−202の位置はセン
スアンプ203を挟んでYセレクター204と反対側に
配置されている。第2図に示されている位置に、Xデコ
ーダー202を配置し、配線領域207を横切ってYセ
レクター204のゲートへ配線することにより、Xデコ
ーダー202の出力線の配線のための領域をつくること
なく、また半導体記憶装置の記憶容量が変化しても配線
長はほとんど変化することがない。第1図の実施例と同
様にセンスアンプの出力ビツト数に関係なく本実施例で
はYアドレスが2本てYデコーダーが4個、センスアン
プが4個の場合について説明したが、必ずしもYデコー
ダーの数とセンスアンプの数は同一でなくてもよい。セ
ンスアンプの数は同時に出力する情報の数で決まり、Y
デコーダー数はとれだけの記憶容量が必要かということ
により決まるので、両者の数は同一である必要はなく、
本発明は一般の場合にも実現できる。In this embodiment, the Y decoder 202 is located on the opposite side of the Y selector 204 with the sense amplifier 203 in between. By arranging the X decoder 202 at the position shown in FIG. 2 and wiring it across the wiring area 207 to the gate of the Y selector 204, a region for wiring the output line of the X decoder 202 is created. Moreover, even if the storage capacity of the semiconductor memory device changes, the wiring length hardly changes. Similar to the embodiment shown in FIG. 1, regardless of the number of output bits of the sense amplifier, this embodiment has been described for the case where there are two Y addresses, four Y decoders, and four sense amplifiers. The number of sense amplifiers may not be the same. The number of sense amplifiers is determined by the number of information output simultaneously, and Y
The number of decoders is determined by how much storage capacity is required, so the numbers do not need to be the same.
The present invention can also be implemented in general cases.
5−
また、第1図の実施例と同しように以下の機能ブロック
、Xデコーダ−201,Xデコーダー202、センスア
ンプ203.)”セレクター204゜半3に体記憶装置
アレイ205および配線領域207をそれぞれ個々にレ
イアウトデータとして用意することにより設計の効率化
にも対応できる。5- Also, as in the embodiment of FIG. 1, the following functional blocks: X decoder 201, X decoder 202, sense amplifier 203. )" By preparing the body memory device array 205 and the wiring area 207 individually as layout data for the selector 204° and half 3, it is possible to improve the efficiency of design.
第6図は本発明の更に他の実施例の配置図である。FIG. 6 is a layout diagram of still another embodiment of the present invention.
第1図と同様に第6図は前記第1図の各回路の半導体基
板上の配置を示している。本実施例においてはXデコー
ダー602の位置はセンスアンプ回路603と隣接して
、共にYセレクター604に面する位置に配置されてい
る。Xデコーダー602とセンスアンプ603は共にY
セレクター604に面しているので、Xデコーダー60
2からYセレクター604.への配線およびセンスアン
プ603からYセレクタ604への配線長は短く、かつ
半導体記憶装置の記憶容量により変化しない。Similar to FIG. 1, FIG. 6 shows the arrangement of each circuit shown in FIG. 1 on a semiconductor substrate. In this embodiment, the X decoder 602 is located adjacent to the sense amplifier circuit 603 and both face the Y selector 604. Both the X decoder 602 and the sense amplifier 603 are Y
Since it faces the selector 604, the X decoder 60
2 to Y selector 604. The wiring length from the sense amplifier 603 to the Y selector 604 is short and does not change depending on the storage capacity of the semiconductor memory device.
また上述した2つの実施例と同様、各機能ブロックのレ
イアウト用のデータを用意することによ16−
り設計の効率化が計れる。Further, as in the two embodiments described above, by preparing layout data for each functional block, design efficiency can be improved.
第9図は本発明を電気的に書き込み可能・紫外線消去不
揮発性半導体記憶集積回路へ、適用した実施例の配置図
である。第1図と同しように第9図も各回路の半導体基
板上の配置を示している。本実施例の構成について説明
する。Xデコーダー901はYセレクター904.半導
体記憶装置アレイ905に隣接配置され、センスアンプ
903はYセレクター904とYデコーダー出力配線領
域908をはさんで配置され、Xデコーダー902はセ
ンスアンプ903は接してYセレクター904とは反対
の側に配置されている。Xデコーダー901はXアドレ
ス入力線および制御信号907により動作し、Xデコー
ダー902はXアドレス入力線および制御信号906に
より動作するようになっている。デイジット線909に
は第8図に示した半導体記憶装置のデイジット線801
が必要な数接続される。Xデコーダー901の出力には
コントロールゲート線802が接続され、ソース線80
3はすべて半導体記憶装置共通にGND接続される。FIG. 9 is a layout diagram of an embodiment in which the present invention is applied to an electrically writable/ultraviolet erasable nonvolatile semiconductor memory integrated circuit. Like FIG. 1, FIG. 9 also shows the arrangement of each circuit on the semiconductor substrate. The configuration of this embodiment will be explained. The X decoder 901 has a Y selector 904. The sense amplifier 903 is arranged adjacent to the semiconductor memory device array 905, and the sense amplifier 903 is arranged across the Y selector 904 and the Y decoder output wiring area 908. It is located. The X decoder 901 is operated by an X address input line and a control signal 907, and the X decoder 902 is operated by an X address input line and a control signal 906. The digit line 909 is connected to the digit line 801 of the semiconductor memory device shown in FIG.
are connected as many times as required. A control gate line 802 is connected to the output of the X decoder 901, and a source line 80
3 are all connected to GND in common to the semiconductor memory devices.
第9図のような各機能ブロックの配置を行うことにより
、機能フロックを相互に配置するたけて、半導体記憶集
積回路のレイアウト設計がほぼ終了してしまうので設計
の効率化が可能であり、また記憶内容を変化させる際に
利用される高電圧のためのレイアウト設計上の制約も機
能ブロック内の設計で行うようにすることによりレイア
ウト設計が複雑になることを防ぐことができる。またX
デコーダー902からYセレクター904までの配線長
も一定であり、センスアンプ903内を通過することに
より短くすることが可能であり、従来例の第7図のよう
にXデコーダー702とYセレクター704の相対位置
により配線長が変化し、配線領域の増加を招くことがな
く、設計品質の揃ったレイアウト設計が可能となる。尚
、第9図においてXデコーダー902とセンスアンプ9
03の相対位置は第1図、第6図の様にすることも可能
である。By arranging each functional block as shown in FIG. 9, the layout design of the semiconductor memory integrated circuit is almost completed by arranging the functional blocks mutually, making it possible to improve the efficiency of the design. The layout design can be prevented from becoming complicated by making layout design constraints for the high voltage used when changing the memory contents in the design within the functional block. Also X
The wiring length from the decoder 902 to the Y selector 904 is also constant, and can be shortened by passing through the sense amplifier 903. The wiring length changes depending on the position, and the wiring area does not increase, making it possible to design a layout with uniform design quality. In addition, in FIG. 9, the X decoder 902 and the sense amplifier 9
The relative position of 03 can also be as shown in FIGS. 1 and 6.
17−
8
[発明の効果]
以上説明したよう己こ、Yデコーダーの配置する場所を
Yセレクターまたはセンスアンプに按するような位置(
こすることにより、従来技術に比べてYデコーダーの出
力の配線領域か縮小可能であるので、同一の特性の半導
体記憶集積回路をより小さい面積で実現できるという効
果がある。また、半導体記憶集積回路を構成する各機能
ブロックのレイアウト用データを用意し、各機能フロッ
クのレイアウトデータを指定されたピット数と出力数に
なるように隣接配置することにより、半導体記憶集積回
路のレイアウト設計が効率化できるという効果がある。17-8 [Effects of the Invention] As explained above, it is possible to arrange the Y decoder at a position similar to that of the Y selector or sense amplifier (
By rubbing, it is possible to reduce the wiring area for the output of the Y decoder compared to the conventional technology, so there is an effect that a semiconductor memory integrated circuit with the same characteristics can be realized in a smaller area. In addition, by preparing layout data for each functional block constituting a semiconductor memory integrated circuit and arranging the layout data of each functional block adjacently so that the specified number of pits and outputs are achieved, the semiconductor memory integrated circuit can be This has the effect of making layout design more efficient.
第1図は本発明の第1実施例の半導体記憶集積回路の各
回路の配置図、第2図は本発明の第2実施例の半導体記
憶集積回路の各回路の配置図、第3図は従来技術におけ
る半導体記憶集積回路の各回路の配置図、第4図は従来
技術における半導体−19=
記−1f集積回路の各回路の配置図、第5図は電気的に
書き込み消去可能な半導体記憶装置の集合体の回路図、
第6図は本発明の第3実施1クリの半導体記憶集積回路
の各回路の配置図、第7図は従来技術における半導体記
憶集積回路の配置図、第8図は電気的に書き込み紫外線
で消去可能な半導体記・1!装置の回路図、第9図は本
発明の第4実施例の半導体記憶集積回路の配置図である
。
101、 201
601.901・・・・・Xデコーダー102.202
゜
602.902・・・・・Yテコ−ター103、 20
3゜
603.903・・・・センスアンプ、104、 20
4゜
604.904・・・・Yセレクター
−2〇−
105,205゜
605.905・・・・半導体記憶装置アレイ、106
.206,606・・・・・コントロールゲート線、
107、 207゜
607.908・・・・・・・配線領域、108、 2
08゜
608.906・・・・・Yアドレス人力線、109、
209;
609.907・・・・・Xアドレス入力線、110.
210゜
610、 909・ ・ ・ ・ ・ディジ・ント線。FIG. 1 is a layout diagram of each circuit of a semiconductor memory integrated circuit according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a layout diagram of each circuit of a semiconductor memory integrated circuit according to a second embodiment of the present invention, and FIG. A layout diagram of each circuit of a semiconductor memory integrated circuit in the prior art, FIG. 4 is a layout diagram of each circuit of a semiconductor memory integrated circuit in the prior art, and FIG. 5 is a diagram of an electrically writable and erasable semiconductor memory. Schematic diagram of a collection of devices,
FIG. 6 is a layout diagram of each circuit of a semiconductor memory integrated circuit according to the third embodiment of the present invention, FIG. 7 is a layout diagram of a semiconductor memory integrated circuit according to the prior art, and FIG. 8 is an electrically written and erased with ultraviolet rays. Possible semiconductor record 1! The circuit diagram of the device, FIG. 9, is a layout diagram of a semiconductor memory integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention. 101, 201 601.901...X decoder 102.202
゜602.902...Y Tecotor 103, 20
3゜603.903...Sense amplifier, 104, 20
4゜604.904...Y selector-2〇- 105,205゜605.905...Semiconductor storage device array, 106
.. 206,606...Control gate line, 107, 207°607.908...Wiring area, 108, 2
08゜608.906...Y address human force line, 109,
209; 609.907...X address input line, 110.
210°610, 909・・・・・digit line.
Claims (3)
性半導体記憶装置、前記半導体記憶装置を1個以上まと
めて選択するようにした半導体記憶装置の集合体、前記
半導体記憶装置をアレイ状に配置した半導体記憶装置ア
レイ、前記アレイの列方向の選択を行うYデコーダー回
路、センスアンプ回路と前記Yデコーダー回路の出力に
より前記半導体記憶装置の列方向線と前記センスアンプ
回路の切換を行うYセレクター回路からなり、前記Yセ
レクター回路は前記アレイに隣接して配置され、前記セ
ンスアンプ回路はYセレクター回路を挟み半導体記憶装
置アレイと反対側の位置に配置されている構成にして、
Yデコーダー回路をYセレクター回路あるいは、センス
アンプ回路の少なくとも一方に隣接する位置に配置する
ことを特徴とする半導体記憶集積回路。(1) A nonvolatile semiconductor memory device whose storage contents can be changed electrically, an assembly of semiconductor memory devices in which one or more of the semiconductor memory devices are selected at once, and an array of the semiconductor memory devices. a Y decoder circuit that selects the column direction of the array, a sense amplifier circuit, and an output of the Y decoder circuit that switches between the column direction line of the semiconductor memory device and the sense amplifier circuit. comprising a selector circuit, the Y selector circuit is arranged adjacent to the array, and the sense amplifier circuit is arranged at a position opposite to the semiconductor memory device array with the Y selector circuit in between,
A semiconductor memory integrated circuit characterized in that a Y decoder circuit is arranged adjacent to at least one of a Y selector circuit or a sense amplifier circuit.
性半導体記憶装置が、電気的に書き込みかつ消去可能な
不揮発性半導体記憶装置であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体記憶集積回路。(2) Claim 1, characterized in that the nonvolatile semiconductor memory device whose storage contents can be electrically changed is an electrically writable and erasable nonvolatile semiconductor memory device. semiconductor memory integrated circuit.
性半導体記憶装置が、電気的に書き込みか紫外線で消去
可能な不揮発性半導体記憶装置であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶集積回路。(3) Claim 1, characterized in that the non-volatile semiconductor memory device whose memory content can be changed electrically is a non-volatile semiconductor memory device that can be written electrically or erased with ultraviolet light. The semiconductor memory integrated circuit described in Section 1.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/602,122 US5166900A (en) | 1989-10-27 | 1990-10-23 | Non-volatile semiconductor memory device with improved layout |
| DE69029703T DE69029703T2 (en) | 1989-10-27 | 1990-10-25 | Semiconductor memory arrangement with improved "layout" |
| EP90311696A EP0425284B1 (en) | 1989-10-27 | 1990-10-25 | Non-volatile semiconductor memory device with improved layout |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-163507 | 1989-06-26 | ||
| JP16350789 | 1989-06-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03108750A true JPH03108750A (en) | 1991-05-08 |
| JP2663651B2 JP2663651B2 (en) | 1997-10-15 |
Family
ID=15775180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28127189A Expired - Fee Related JP2663651B2 (en) | 1989-06-26 | 1989-10-27 | Semiconductor memory integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2663651B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04343258A (en) * | 1991-05-20 | 1992-11-30 | Toshiba Corp | multiplexer |
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| JP2011086956A (en) * | 2003-12-12 | 2011-04-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device |
| JP2012198975A (en) * | 2011-03-18 | 2012-10-18 | Soytec | Semiconductor memory having staggered sense amplifiers associated with local column decoder |
Citations (1)
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| JPS61269361A (en) * | 1985-05-24 | 1986-11-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
-
1989
- 1989-10-27 JP JP28127189A patent/JP2663651B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US9159400B2 (en) | 2011-03-18 | 2015-10-13 | Soitec | Semiconductor memory having staggered sense amplifiers associated with a local column decoder |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2663651B2 (en) | 1997-10-15 |
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