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JPH03149663A - Graphic processing method - Google Patents

Graphic processing method

Info

Publication number
JPH03149663A
JPH03149663A JP1289119A JP28911989A JPH03149663A JP H03149663 A JPH03149663 A JP H03149663A JP 1289119 A JP1289119 A JP 1289119A JP 28911989 A JP28911989 A JP 28911989A JP H03149663 A JPH03149663 A JP H03149663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
graphic
line
line segment
processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1289119A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Morishita
和正 森下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP1289119A priority Critical patent/JPH03149663A/en
Publication of JPH03149663A publication Critical patent/JPH03149663A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To shorten a graphic processing time by moving the respective end points of a pair of segments connected to each other to a grid close to the outside of a pattern so that the segment pair is moved to the outside of the pattern. CONSTITUTION:The CPU 1 of a graphic processor consists of a system control part 2, a data input part 3 for inputting graphic data to be processed, a graphic processing part 4, and a plotted data output processing part 5 and forms a photomask graphic, a direct plotting graphic or the like. When a control command 6 for instructing graphic conversion processing is inputted, the system control part 2 starts a prescribed graphic processing program and inputs graphic data 7 to the input part 3. The control part 2 executes graphic processing by the graphic processing part 4 while using a working direct access device 8, outputs the processing process to a processing list 9 and outputs output data 10 such as a photomask graphic, a direct plotting graphic, etc., to a magnetic tape or the like. In this case, the end points of outline segments are moved to the grid close to the outside of the pattern so that the outline segments are moved to the outside of the pattern. Consequently, the processing time can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 図形処理方法に係り、詳しくはパターンの図形データに
基づいてフォトマスク図形、直接描画図形等を生成する
ための図形処理方法に関し、例えばパターンを参照する
場合において図形処理された図形間の接続部分に段差を
生じさせることがなく、又、±1の傾きの斜線分のみで
構成されたパターンを図形処理する場合においても±1
の斜線性以外の角度の発生がないようにパターンの頂点
の移動を行なうことができる図形処理方法を提供するこ
とを目的とし、 パターンの図形データに基づいて描画図形作成のための
図形処理を行なうに際し、前記パターンに対して走査線
を一方向に平行移動させ、その走査線と直角又は斜めに
交差する前記パターンの外形線分の端点を線分データと
し、前記走査線の各移動位置において同走査線上に端点
が存在する各外形線分の内、連結状態にある2つの外形
線分を求め、当該線分対が前記パターンの外部へ移動さ
れるように、当該線分対の各端点を描画図形作成のため
に最小間隔で配置されたグリッドの内、前記パターン外
部の最寄りのグリッド上に移動させるようにした。 又、パターンの図形データに基づいて描画図形作成のた
めの図形処理を行なうに際し、前記パターンに対して走
査線を一方向に平行移動させ、その走査線と直角又は斜
めに交差する前記パターンの外形線分の端点を線分デー
タとし、前記走査線の各移動位置において同走査線上に
端点が存在する各外形線分の内、連結状態にある2つの
外形線分を求め、当該線分対が前記パターンの内部へ移
動されるように、当該線分対の各端点を描画図形作成の
ために最小間隔で配置されたグリッドの内、前記パター
ン内部の最寄りのグリッド上に移動させるようにした。 [産業上の利用分野] 本発明は図形処理方法に係り、詳しくはパターンの図形
データに基づいてフォトマスク図形、直接描画図形等を
生成するための図形処理方法に関するものである。 近年のLSIの大規模化、高密度化に伴ってそれに要す
る図形の処理時間は増加する一方であり、LSI開発の
コスト増大にもつながっている。即ち、パターンのレイ
アウト時には所定のパターン数あるいは所定の機能を基
本セルとして定義し、基本セルと同一パターンをレイア
ウトする場合には前記基本セルの参照情報及びその配置
位置情報で定義される階層図形データを使用することに
より図形データを圧縮している。ところが、図形処理を
行なう段階には基本セルの参照情報及び配置位置情報に
基づいて基本セルと同一パターンを実際に配置する展開
処理を行なってから、各パターンにおける図形処理を行
なっているために図形数が増大し、その処理時間も増大
し、これがコスト増大を招いている。 このように、LSIの図形数は展開前と展開後とでは■
0〜100倍程度になるため、半導体メモリのような同
じ図形の基本セルを大量に参照するものにおいては、ま
ず階層図形(基本セル)に対する図形処理を行ない、そ
の図形処理された階層図形を参照するようにすることに
より、展開処理後に図形処理を行なう場合に比べて図形
処理を大幅に高速化することができる。 又、パターンは任意の角度の線分をもつことができるが
、コンピュータで処理する場合、できるだはその処理す
る線分の角度を限定したほうが効果的であるため、傾き
が±1の斜線分だけを扱うようなシステムの構成が一般
的である。 さらに、図形処理に使用するコンピュータは各種図形処
理において発生する誤差が少なくなるように、取り扱え
る情報量が多ビットとなっているが、フォトマスクや直
接ウェハに露光する露光装置に使用す8コンピュータで
は描画図形作成に使用されるのみであるため、その取り
扱える情報量は図形処理に使用するコンピュータが取り
扱えるビット数に比べて少なくなっている。そのため、
露光装置のコンピュータにおける数値用LSB(Lea
st Significant Bit :最も小さい
桁のBitの内容、即ちlのもつ値)は必要最小限の値
であり、図形処理に使用するコンピュータより大きな値
になっている。即ち、図形処理に使用するコンピュータ
の数値用LSBが(l O01μmに設定されていると
すると、露光装置に使用するコンピュータで扱う数値用
LSBは0.01μmあるいは0、1μmに設定されて
いることになる。 このようなことから、図形処理あるいは階層図形処理を
行ないフォトマスク図形、直接描画図形を作成する場合
、図形処理用コンピュータの数値用LSBの変換処理を
行なうことが必要不可欠となる。 [従来の技術] 従来、図形処理あるいは階層図形処理を行なってフォト
マスク図形、直接描画図形を作成する場合、図形処理用
コンピュータの数値用LSHの変換処理は、処理対象の
パターンの頂点に着目し、露光装置用コンピュータの数
値用LSBで表される値で定義されるグリッドのうち、
前記パターンの頂点からの距離が最小となるグリッド上
にその頂点が移動するように変換することにより行なわ
れる。 即ち、第13図に実線で示す配線のパターンAOでは、
頂点a1は右方のグリッドGalに、頂点a2は右方の
グリッドGa2に、頂点a3は右斜め前方のグリッドG
a3に、頂点a4は前方のグリッドGa4に、頂点a5
は前方のグリッドGa5に、頂点a6は右斜め前方のグ
リッドGa6にそれぞれ移動するように変換され、パタ
ーンAOは二点鎖線で示す図形BOに図形処理される。 又、第14図に実線で示す±1の傾きの線分のみからな
るパターンCでは、頂点clは上方のグリッドGelに
、頂点c2は右方のグリッドGc2に、頂点c3は右方
のグリッドGc3に、頂点c4は上方のグリッドGc4
に、頂点c5は右方のグリッドGc5に、頂点c6は右
方のグリッドQc6にそれぞれ移動するように変換され
、パターンCは二点鎖線で示す線分11−/6からなる
図形りに図形処理される。そして、この図形りにおいて
グリッドGc4.Gc5を結ぶ線分14及びグリッドG
c6.Gclを結ぶ線分16の傾きが±1でなくなる。   [発明が解決しようとする課題] しかしながら、第13図におけるパターンAOを90度
回転させて参照したパターンAIでは、頂点al(パタ
ーンAOの頂点a5に重なる)はグリッドGaフに、頂
点a2(パターンAOの頂点a4に重なる)はグリッド
Ga8に、頂点a3はグリッドGa9に、頂点a4はグ
リッドG a 11に、頂点a5はグリッドGallに
、頂点a6はグリッドGa12にそれぞれ移動するよう
に変換され、パターンA1は二点鎖線で示す図形Blに
図形処理されることとなる。 このため、図形BO,B1間に段差が生じてしまい接続
部分における線幅が狭くなる。このことは微細化された
半導体装置において、この線幅の狭くなった部分に電流
が集中し、電流密度の高い部分を生じさせることとなり
、この部分の耐久性を著しく低下させるという致命的な
欠陥となる。 又、第14図に示す図形りではグリッドGc4゜Gc5
を結ぶ線分14及びグリッドGc6.Gclを結ぶ線分
16及びの傾きが±1でなくなるため、線分14を+1
の斜線分に戻すために頂点C4をグリッドGc7に、又
は頂点C5をグリッドGc8に移動させると、線分13
又は15が−1の傾きの斜線分でなくなる。又、線分I
16を+1の傾きの斜線分に戻すために頂点c6をグリ
ッドGc9に、又は頂点clをグリッドGclOに移動
させると、線分15又はiFlの傾きがーlの斜線分で
なくなる。従って、図形を±1の斜線分だけの図形に戻
すことはできなくなる。 その結果、露光装置用コンピュータが±1の傾きの斜線
分のみを取り扱えるものである場合には正常な処理がで
きなくなるという問題点がある。 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
って、その目的は例えばパターンを参照した場合におい
て、図形処理された図形間の接続部分に段差を生じさせ
ることがなく、又、±1の傾きの斜線分のみで構成され
たパターンを図形処理する場合においても±lの斜線分
以外の角度の発生がないようにパターンの頂点の移動を
行なうことができる図形処理方法を提供することにある
。 [課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため、第1の発明は、パタ−ンに対
して走査線を一方向に平行移動させ、その走査線と直角
又は斜めに交差する前記パターンの外形線分の端点を線
分データとし、前記走査線の各移動位置において同走査
線上に端点が存在する各外形線分の内、連結状態にある
2つの外形線分を求め、当該線分対が前記パターンの外
部へ移動されるように、当該線分対の各端点を描画図形
作成のために最小間隔で配置されたグリッドの内、前記
パターン外部の最寄りのグリッド上に移動させるように
した。 又、第2の発明は、パターンに対して走査線を一方向に
平行移動させ、その走査線と直角又は斜めに交差する前
記パターンの外形線分の端点を線分データとし、前記走
査線の各移動位置において同走査線上に端点が存在する
各外形線分の内、連結状態にある2つの外形線分を求め
、当該線分対が前記パターンの内部へ移動されるように
、当該線分対の各端点を描画図形作成のために最小間隔
で配置されたグリッドの内、前記パターン内部の最寄り
のグリッド上に移動させるようにした。 【作用] 第1の発明ではパターンの外部へ外形線分が移動するよ
うに、その外形線分の端点がパターン外部の最寄りのグ
リッド上に移動されるので、例えば基本セルの参照情報
及びその配置位置情報で定義される階層図形データに対
して端点移動を行なえば、基本セルを回転して参照した
場合でも線分は同一方向(図形の外部方向)に移動して
いるため接続部分に段差を生じることはない。又、±1
の傾きの斜線分のみからなるパターンの図形処理を行な
う場合、連結状態にある線分対の各線分の端点のパター
ン外部の最寄りのグリッド上への移動がすべて終了した
時点では、各線分はそれぞれパターンの外部方向に移動
しているため、斜線分の傾きはすべて移動前と同様に±
1に保持される。 又、第2の発明ではパターンの内部へ外形線分が移動す
るように、−その外形線分の端点がパターン内部の最寄
りのグリッド上に移動されるので、例えば基本セルの参
照情報及びその配置位置情報で定義される階層図形デー
タに対して端点移動を行なえば、基本セルを回転して参
照した場合でも線分は同一方向(図形の外部方向)に移
動しているため接続部分に段差を生じることはない。又
、±1の傾きの斜線分のみからなるパターンの図形処理
を行なう場合、連結状態にある線分対の各線分の端点の
パターン内部の最寄りのグリッド上への移動がすべて終
了した時点では、各線分はそれぞれパターンの内部方向
に移動しているため、斜線分の傾きはすべて移動前と同
様に±1に保持される。 [実施例] 以下、本発明を具体化したー実施例を第1−12図に従
って説明する。 第1図に本発明を実施するための図形処理装置の電気的
な概略構成を示す。図形処理装置のCPUlはシステム
制御部2、被処理図形データ入力部3、図形処理部4、
描画データ出力処理部5からなり、フォトマスク図形、
直接描画図形等の作成を行なう。即ち、システム制御部
2は図形変換処理を指示する制御コマンド6が入力され
ると、所定の図形処理プログラムを起動させ、図形デー
タフを被処理図形データ入力部3に読み込む。そして、
システム制御部2は作業用直接アクセス装置8を用いて
図形処理部4で図形処理を実行し、処理経過を処理リス
ト9に出力させるとともに、フォトマスク図形、直接描
画図形等の出力データIOを磁気テープ等に出力させる
。 第2図は上記図形処理部4が実行する図形処理プログラ
ムの詳細を示すフローチャートである。 まず、ステップ11で被処理図形データ入力部3に入力
された図形データフを線分化する。即ち、例えば第4図
に示すパターンFでは、水平又は斜めの外形線分を取り
出し、第3図に示すようにその線分方向コード、左端点
X座標、左端点Y座標及び右端点X座標よりなる線分デ
ータを図形線分フォーマットとして内部記憶領域Mlに
記憶させる。従って、内部記憶領域MlにはX軸に平行
な線分LL−L3.L5.L6と斜線分L4の線分デー
タのみ人力される。 次にステップ12で左端点X座標をメイン・キーとする
とともに、左端点Y座標をサブ・キーとして前記ステッ
プ11で内部記憶領域Mlに記憶した各線分データを昇
順に分類する。即ち、第4図のパターンFでは線分Ll
−L6の順に分類されることになる。 次いで、ステップ13で図形処理部4の内部記憶領域M
2を第5図に示すように前記第3図に示す図形線分フォ
ーマットの記憶部20aとポインター20bとを備えた
ノード20で区切り、ポインター20bによって各ノー
ド20をすべて連結する。そして、連結された最後のノ
ード20のポー  インター20bと連結の最初を示す
ルートポインター21とを連結の終わりを認識するため
の値であるセンチネル(SenLinel)に設定し、
内部記憶領域M2をそのすべての領域を空き領域とした
作業連結領域(ワーク・リスト)として定義する。 次いで、ステップ14で第4図に破線で示すようにパタ
ーンFの各線分L1〜L6の端点を通過する走査線をス
イープ・ラインとし、スィーブ・ラインに対して前記内
部記憶領域Mlで最小のX座標値、即ち、線分Llの左
端点X座標値をセットすることによりスイープ・ライン
の初期設定を行なう。続くステップ15でワーク・リス
ト上のX座標値でスイープ・ラインより大きい値と内部
記憶領域Mlの先頭線分の左端点X座標値とのうち小さ
い方をスイープ・ライン値としてスイープ・ラインを設
定する。 次に、ステップ16でスイープ・ラインに接する線分を
ワーク・リストM2にY座標値の小さい線分から順に取
り込む。第6図は第4図のSlの位置にスイープライン
がきた時のワーク・リストの状態を示しており、線分L
l、L2の線分データが順次取り込まれる。以下、スイ
ープ・ラインが順次82〜S6の位置に来ると線分L3
〜L6の線分データが取り込まれる。ステップ17では
ワーク・リストM2内の線分データを下から順次たどり
図形線分の連結状態を探す。即ち、例えば、線分L6と
線分L5とでは、実際には連結していないが、線分L6
の右端点X座標値と線分L5の右端点X座標値とが一致
するため、連結状態にあると判断する。 そして、ステップ18では同図形処理部4の数値用LS
Bが露光装置の数値用LSBよりも小さな値に設定され
ているため、ステップ17で見つかった連結線分のスイ
ープ・ライン上の各端点に対して後記する数値用LSB
の変換処理を行なう。 そして、ステップ19に移行して内部記憶領域Mlある
いはワーク・リストM2中に線分データが残っているか
否かを判別し、残っていれば前記ステップ15に戻って
内部記憶領域Ml内の線分データとワーク・リストM2
内の線分データがなくなるまで上記ステップ15〜18
を繰り返す。 一方、線分が残っていなければそのまま処理を終える。 次に、前記ステップ18での数値用LSBの変換処理に
おける端点移動を第7〜10図に基づいて説明する。 −第7〜lO図において、白丸(O)、黒丸(・)は露
光装置の数値用LSBで表された描画図形作成のための
最小間隔のグリッドであり、矢印付きの太線は選出され
た線分を表す。そして、パターンは矢印付きの太線から
見て左側にあるため、端点がグリッドを結ぶ実線及び破
線で囲まれる領域内にある時、パターンが拡大するよう
に端点を黒丸のグリッドへ移動させる。なお、グリッド
を結ぶ実線上に端点がある場合には対象に含み、グリッ
ドを結ぶ破線上に端点がある場合には対象に含まない。 そして、第7図(a)〜(h)に示すように、±1の傾
きの線分αとβとが1点で交わるように選出された場合
、線分αの端点αlはグリッドGlに、線分βの端点β
lはグリッドG2に移動される。 第8図(a)〜(h)に示すように、±1の傾きの線分
αと水平垂直の線分βが1点で交わる場合、端点αl 
(=βl)はパターン外(線分方向において右側)のグ
リッドG3に移動される。ただし、垂直線分は実際には
前記ワーク・リストM2には登録されておらず、±1の
傾きの線分の上下に線分が存在していることを示す。上
下の線分の向きはどの方向でもよい。 さらに、第9図(a)〜(h)は第7,8図に該当しな
い線分で±1の傾きの線分αにおける端点αlの移動を
示すものであり、端点αlはパターン外(線分方向にお
いて右側)のグリッドG4に移動される。 又、第10図(a)〜(h)は水平線分αと垂直線分β
が1点で交わる場合における端点移動を示し、端点α1
 (=βl)はパターン外(線分方向において右側)の
グリッドG5に移動される。この場合にも第8図と同様
に垂直線分は実際には前記ワーク・リストM2には登録
されておらず、±1の傾きの線分の上下に線分が存在し
ていることを示すだけである。 従って、例えば、第11図に実線で示すパターンAOに
対して上記第7〜10図に示す端点移動を実施すると、
頂点alは第10図(g)によりグリッドGa13に移
動され、頂点a2は第10図(h)によりグリッドGa
14に移動される。又、頂点a3は第11図(e)によ
りグリッドGa15に移動され、頂点a4は第10図(
h)によりグリッドGa16に移動される。さらに、頂
点a5は第11図(b)によりグリッドGa17に移動
され、頂点a6は第11図(a)によりグリッドGa1
8に移動され、元のパターンAOは二点鎖線で示す図形
BOに拡大される。 又、第11図においてパターンAOを90度回転させて
参照したパターンAIでは、頂点al(パターンAOの
頂点a5に重なる)はグリッドGa17に、頂点a2(
パターンAOの頂点a4に重なる)はグリッドGa16
に、頂点a3はグリッドGa19に、頂点a4はグリッ
ドGa20に、頂点a5はグリッドGa21に、頂点a
6はグリッドGa22にそれぞれ移動するように変換さ
れ、パターンAIは二点鎖線で示す図形Blに図形処理
されることとなる。 このため、図形BO,Blはその接続部分に段差を生じ
ることなく接続されて所定の線幅が確保される。 従って、所定のパターン数あるいは所定の機能を基本セ
ルとして定義し、基本セルと同一パターンをレイアウト
する場合に基本セルの参照情報及びその配置位置情報で
定義される階層図形データを使用する階層図形処理を採
用する場合、従来は段差の発生のため止むを得ず同一パ
ターンを実際に配置する展開処理を行なってから展開後
図形処理をしていたが、本実施例ではパターンが拡大す
るように端点の移動を行なうようにしたので、接続部分
に段差を生じることないため、階層図形単位の図形処理
を可能にでき図形処理時間を飛躍的に短縮できる。 又、上記第7〜10図に示した端点移動を第12図に実
線で示す±1の傾きの線分のみからなるパターンCに対
して実施すると、頂点clは第7図(g)よりグリッド
Gcll、Gc12に移動され、頂点C2は第7図(C
)よりグリッドGc13.GcI4に移動される。又、
頂点c3は第9図(d)よりグリッドGc15に移動さ
れ、頂点c4は第7図(h)よりグリッドGc16.G
el?に移動される。 さらに、頂点c5は第9図(d)よりグリッドG c 
18に移動され、頂点C6は第7図(a)よりグリッド
Gc19.Gc20にそれぞれ移動され、パターンCは
水平垂直線分及び±1の傾きの斜線分のみからなる図形
りに図形処理される。 従って、露光装置用コンピュータが±1の傾きの斜線分
のみを取り扱えるものである場合、従来は±1の傾き以
外の線分が発生して止むを得ず図形を変更して処理をし
ていた不具合を解消することができ、LSI開発のスル
ープットを向上させることができる。 なお、本実施例では連結状態にある線分対がパターンの
外部へ移動されるように、当該線分対の各端点をパター
ン外部の最寄りのグリッド上に移動させるようにしたが
、連結状態にある線分対がパターンの内部へ移動される
ように、当該線分対の各端点をパターン内部の最寄りの
グリッド上に移動させるようにしても本実施例とほぼ同
様の作用・効果を得ることができる。 [発明の効果] 以上詳述したように、本発明によれば、例えば所定のパ
ターン数あるいは所定の機能を基本セルとして定義し、
基本セルと同一パターンをレイアウトする場合に基本セ
ルの参照情報及びその配置位置情報で定義される階層図
形データを使用する階層図形処理を採用する場合におい
て、図形処理された図形間の接続部分に段差を生じさせ
ることがなく、又、±1の傾きの斜線分のみで構成され
たパターンを図形処理する場合においても±1の斜線分
量外の角度の発生がないようにパターンの頂点の移動を
行なうことができるため、図形処理時間を飛躍的に短縮
できるとともに、LSI開発のスループットを向上させ
ることができる優れた効果がある。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a graphic processing method, more specifically, to a graphic processing method for generating a photomask graphic, a directly drawn graphic, etc. based on graphic data of a pattern, for example, when referring to a pattern. There is no difference in level between the connected parts of figures that have been subjected to figure processing, and even when figure processing is performed on a pattern consisting only of diagonal line segments with an inclination of ±1,
The purpose of this method is to provide a graphic processing method that can move the vertices of a pattern so that angles other than diagonal angles do not occur, and perform graphic processing for creating drawn figures based on the graphic data of the pattern. In this case, a scanning line is moved parallel to the pattern in one direction, and the end points of the outline line segment of the pattern that intersects the scanning line at right angles or obliquely are set as line segment data, and the same at each movement position of the scanning line is used. Among the outline segments whose endpoints are on the scanning line, find two connected outline segments, and move each endpoint of the pair of line segments so that the pair of line segments is moved outside the pattern. The object is moved to the nearest grid outside the pattern among the grids arranged at minimum intervals to create a drawn figure. Furthermore, when performing graphic processing for creating drawn figures based on graphic data of a pattern, a scanning line is moved parallel to the pattern in one direction, and an outline of the pattern that intersects the scanning line at right angles or obliquely is generated. Using the end points of the line segment as line segment data, at each moving position of the scanning line, two external line segments in a connected state are found among the external line segments whose end points are on the same scanning line, and the line segment pair is In order to be moved inside the pattern, each end point of the line segment pair is moved onto the nearest grid inside the pattern among the grids arranged at minimum intervals for creating a drawn figure. [Industrial Field of Application] The present invention relates to a graphic processing method, and more particularly, to a graphic processing method for generating photomask figures, directly drawn figures, etc. based on pattern graphic data. With the recent increase in the scale and density of LSIs, the processing time required for graphics continues to increase, leading to an increase in the cost of LSI development. That is, when laying out a pattern, a predetermined number of patterns or a predetermined function is defined as a basic cell, and when laying out the same pattern as a basic cell, hierarchical graphic data defined by the reference information of the basic cell and its arrangement position information is used. The graphic data is compressed by using . However, at the stage of graphic processing, a development process is performed to actually place the same pattern as the basic cell based on the reference information and placement position information of the basic cell, and then graphic processing for each pattern is performed, so the graphic As the number increases, so does the processing time, leading to increased costs. In this way, the number of LSI figures before and after deployment is
Since the number is about 0 to 100 times, in devices such as semiconductor memory that refer to a large number of basic cells of the same figure, first perform graphic processing on the hierarchical figure (basic cell), and then refer to the processed hierarchical figure. By doing so, graphic processing can be significantly sped up compared to the case where graphic processing is performed after expansion processing. Also, a pattern can have line segments with arbitrary angles, but when processing with a computer, it is more effective to limit the angle of the line segments to be processed, so diagonal line segments with a slope of ±1 It is common for a system to be configured to only handle Furthermore, computers used for graphic processing can handle a large amount of information in order to reduce errors that occur in various graphic processes, but the computers used for photomasks and exposure equipment that directly expose wafers do not. Since it is only used to create drawing figures, the amount of information that it can handle is smaller than the number of bits that can be handled by the computer used for graphic processing. Therefore,
Numeric value LSB (Lea) in the exposure equipment computer
st Significant Bit: The content of the smallest bit (ie, the value of l) is the minimum necessary value, and is larger than the value of the computer used for graphic processing. In other words, if the numerical value LSB of the computer used for graphic processing is set to (lO01 μm), the numerical value LSB handled by the computer used for the exposure device is set to 0.01 μm or 0.1 μm. For this reason, when performing graphic processing or hierarchical graphic processing to create photomask figures or direct drawing figures, it is essential to convert the numerical LSB of the figure processing computer. Conventionally, when performing graphic processing or hierarchical graphic processing to create photomask figures or direct drawing figures, the numerical LSH conversion process of the figure processing computer focuses on the vertices of the pattern to be processed and performs exposure. Of the grids defined by the values expressed by the numerical LSB of the device computer,
This is performed by converting the pattern so that the apex is moved onto the grid where the distance from the apex is the minimum. That is, in the wiring pattern AO shown by the solid line in FIG.
The apex a1 is connected to the right grid Gal, the apex a2 is connected to the right grid Ga2, and the apex a3 is connected to the right diagonally front grid G.
a3, apex a4 is in front of grid Ga4, apex a5 is
is converted to the front grid Ga5, the apex a6 is moved to the diagonally forward right grid Ga6, and the pattern AO is graphically processed into the figure BO shown by the two-dot chain line. In addition, in the pattern C consisting of only line segments with an inclination of ±1 shown by the solid line in FIG. 14, the vertex cl is connected to the upper grid Gel, the vertex c2 is connected to the right grid Gc2, and the vertex c3 is connected to the right grid Gc3. , the vertex c4 is the upper grid Gc4
, the vertex c5 is converted to move to the right grid Gc5, the vertex c6 to the right grid Qc6, and the pattern C is processed into a figure consisting of the line segment 11-/6 shown by the two-dot chain line. be done. In this figure, grid Gc4. Line segment 14 connecting Gc5 and grid G
c6. The slope of the line segment 16 connecting Gcl is no longer ±1. [Problems to be Solved by the Invention] However, in the pattern AI that is referred to by rotating the pattern AO in FIG. (overlapping apex a4 of AO) is converted to grid Ga8, apex a3 to grid Ga9, apex a4 to grid Ga11, a5 to grid Gall, a6 to grid Ga12, and the pattern A1 will be graphically processed into a graphic Bl indicated by a two-dot chain line. For this reason, a step is created between the figures BO and B1, and the line width at the connecting portion becomes narrower. This is a fatal flaw in miniaturized semiconductor devices, where current concentrates in the narrowed line width area, creating areas with high current density, which significantly reduces the durability of these areas. becomes. Moreover, in the figure shown in FIG. 14, the grid Gc4°Gc5
Line segment 14 and grid Gc6. Since the slope of line segment 16 connecting Gcl is no longer ±1, line segment 14 is +1
If you move vertex C4 to grid Gc7 or vertex C5 to grid Gc8 to return to the diagonal line segment of line segment 13,
Or 15 is no longer a diagonal line segment with a slope of -1. Also, line segment I
When vertex c6 is moved to grid Gc9 or vertex cl is moved to grid GclO in order to return line segment 16 to a diagonal line segment with a slope of +1, the slope of line segment 15 or iFl is no longer a diagonal line segment with a slope of -l. Therefore, it is no longer possible to return the figure to a figure with only the diagonal line of ±1. As a result, if the computer for the exposure apparatus can only handle diagonal line segments with an inclination of ±1, there is a problem that normal processing cannot be performed. The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is, for example, when referring to a pattern, to avoid creating a level difference in the connecting part between figures that have been subjected to figure processing, and to To provide a graphic processing method capable of moving the vertices of a pattern so that no angle other than the diagonal line segments of ±l occurs even when graphically processing a pattern composed only of diagonal line segments with an inclination of 1. It is in. [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a first invention provides a method for moving a scanning line parallel to a pattern in one direction, and moving the scanning line at right angles or obliquely to the pattern. Using the end points of the outline line segment as line segment data, at each movement position of the scanning line, two outline segments in a connected state are found among the outline segments whose end points are on the same scanning line, and the line segment is Each end point of the line segment pair is moved to the nearest grid outside the pattern among the grids arranged at minimum intervals for creating a drawn figure so that the pair is moved outside the pattern. did. Further, in a second invention, a scanning line is moved parallel to the pattern in one direction, and end points of the outline line segment of the pattern that intersect the scanning line at right angles or obliquely are set as line segment data, and the scanning line of the scanning line is Among the outline line segments whose end points are on the same scanning line at each movement position, two connected outline line segments are found, and the line segments are moved so that the pair of line segments is moved inside the pattern. Each end point of the pair is moved to the nearest grid inside the pattern among the grids arranged at minimum intervals for drawing figure creation. [Operation] In the first invention, in order to move the outline line segment to the outside of the pattern, the end point of the outline line segment is moved to the nearest grid outside the pattern. If you move the end points of hierarchical shape data defined by position information, even if you rotate the basic cell and refer to it, the line segments will still be moving in the same direction (towards the outside of the shape), so you will not be able to create a step at the connecting part. It will never occur. Also, ±1
When performing graphical processing on a pattern consisting only of diagonal line segments with a slope of Since the pattern is moving towards the outside, the slopes of all the diagonal lines are ±, the same as before the movement.
It is held at 1. Further, in the second invention, in order to move the outline line segment into the inside of the pattern, the end point of the outline line segment is moved to the nearest grid inside the pattern, so for example, the reference information of the basic cell and its arrangement If you move the end points of hierarchical shape data defined by position information, even if you rotate the basic cell and refer to it, the line segments will still be moving in the same direction (towards the outside of the shape), so you will not be able to create a step at the connecting part. It will never occur. In addition, when performing graphical processing on a pattern consisting only of diagonal line segments with a slope of ±1, when the end points of each line segment in a connected pair of line segments have all been moved onto the nearest grid within the pattern, Since each line segment moves inward of the pattern, the slopes of all oblique line segments are maintained at ±1 as before movement. [Example] Hereinafter, an example that embodies the present invention will be described with reference to FIGS. 1-12. FIG. 1 shows a schematic electrical configuration of a graphic processing device for implementing the present invention. The CPU 1 of the graphic processing device includes a system control section 2, a graphic data input section 3, a graphic processing section 4,
Consists of a drawing data output processing section 5, which outputs photomask figures,
Create direct drawing figures, etc. That is, when the system control section 2 receives the control command 6 instructing the graphic conversion process, it starts a predetermined graphic processing program and reads the graphic data into the graphic data input section 3 to be processed. and,
The system control unit 2 uses the work direct access device 8 to execute graphic processing in the graphic processing unit 4, outputs the processing progress to the processing list 9, and outputs output data IO such as photomask figures and directly drawn figures to a magnetic tape. output to etc. FIG. 2 is a flowchart showing details of the graphic processing program executed by the graphic processing section 4. As shown in FIG. First, in step 11, the graphic data input to the processed graphic data input section 3 is segmented into lines. That is, for example, in the pattern F shown in FIG. 4, a horizontal or diagonal outline line segment is taken out, and as shown in FIG. The line segment data is stored in the internal storage area Ml as a graphic line segment format. Therefore, the line segment LL-L3. which is parallel to the X-axis is stored in the internal storage area Ml. L5. Only the line segment data of L6 and diagonal line segment L4 are manually input. Next, in step 12, each line segment data stored in the internal storage area Ml in step 11 is classified in ascending order using the left end point X coordinate as a main key and the left end point Y coordinate as a sub key. That is, in pattern F in FIG.
- It will be classified in the order of L6. Next, in step 13, the internal storage area M of the graphic processing section 4 is
2 is divided into nodes 20 each having a storage section 20a and a pointer 20b in the graphic line segment format shown in FIG. 3, as shown in FIG. 5, and all the nodes 20 are connected by the pointer 20b. Then, the porter 20b of the last connected node 20 and the root pointer 21 indicating the beginning of the connection are set to SenLinel, which is a value for recognizing the end of the connection,
The internal storage area M2 is defined as a work concatenation area (work list) with all areas free. Next, in step 14, the scanning line passing through the end points of each line segment L1 to L6 of the pattern F is defined as a sweep line as shown by the broken line in FIG. The sweep line is initialized by setting the coordinate value, that is, the X coordinate value of the left end point of the line segment Ll. In the following step 15, a sweep line is set using the smaller of the X coordinate value on the work list that is larger than the sweep line and the X coordinate value of the left end point of the first line segment in the internal storage area Ml as the sweep line value. do. Next, in step 16, line segments that are in contact with the sweep line are imported into the work list M2 in order of line segments with smaller Y coordinate values. Figure 6 shows the state of the work list when the sweep line arrives at the position SL in Figure 4, and the line segment L
Line segment data of l and L2 are sequentially captured. Below, when the sweep line sequentially reaches positions 82 to S6, line segment L3
Line segment data of ~L6 is imported. In step 17, the line segment data in the work list M2 is sequentially traced from the bottom to find the connected state of graphic line segments. That is, for example, line segment L6 and line segment L5 are not actually connected, but line segment L6
Since the X coordinate value of the right end point of the line segment L5 matches the X coordinate value of the right end point of the line segment L5, it is determined that the line segment L5 is in a connected state. Then, in step 18, the numerical value LS of the graphic processing section 4 is
Since B is set to a smaller value than the numerical value LSB of the exposure device, the numerical value LSB described later for each end point on the sweep line of the connected line segment found in step 17.
Performs the conversion process. Then, the process proceeds to step 19, and it is determined whether or not line segment data remains in the internal storage area Ml or the work list M2. If it remains, the process returns to step 15, and the line segment data in the internal storage area Ml is determined. Data and work list M2
Repeat steps 15 to 18 until there is no line segment data within
repeat. On the other hand, if no line segments remain, the process ends. Next, the end point movement in the numerical LSB conversion process in step 18 will be explained based on FIGS. 7 to 10. - In Figures 7 to 1O, white circles (O) and black circles (.) are grids with minimum spacing for creating drawing figures expressed in numerical LSB of the exposure device, and thick lines with arrows are selected lines. represents minutes. Then, since the pattern is on the left side when viewed from the thick line with an arrow, when the end point is within the area surrounded by the solid line and broken line connecting the grids, the end point is moved to the grid of black circles so that the pattern is enlarged. Note that if an end point is on a solid line connecting the grids, it is included in the target, and if an end point is on a broken line connecting the grids, it is not included in the target. As shown in FIGS. 7(a) to (h), when line segments α and β with an inclination of ±1 are selected so as to intersect at one point, the end point αl of the line segment α is on the grid Gl. , end point β of line segment β
l is moved to grid G2. As shown in FIGS. 8(a) to (h), when a line segment α with an inclination of ±1 and a horizontal or vertical line segment β intersect at one point, the end point αl
(=βl) is moved to the grid G3 outside the pattern (on the right side in the line segment direction). However, the vertical line segment is not actually registered in the work list M2, but indicates that there are line segments above and below the line segment with an inclination of ±1. The upper and lower line segments may be in any direction. Furthermore, Figures 9(a) to (h) are line segments that do not correspond to Figures 7 and 8, and show the movement of the end point αl in the line segment α with an inclination of ±1, and the end point αl is outside the pattern (line (right side in the minute direction) to grid G4. Also, Figures 10 (a) to (h) show horizontal line segment α and vertical line segment β.
shows the movement of the end point when they intersect at one point, and the end point α1
(=βl) is moved to grid G5 outside the pattern (on the right side in the line segment direction). In this case as well, as in FIG. 8, the vertical line segment is not actually registered in the work list M2, but indicates that there are line segments above and below the line segment with an inclination of ±1. Only. Therefore, for example, if the end point movement shown in FIGS. 7 to 10 is performed on the pattern AO shown by the solid line in FIG. 11,
Vertex al is moved to grid Ga13 in FIG. 10(g), and vertex a2 is moved to grid Ga in FIG. 10(h).
Moved to 14. Also, the apex a3 is moved to the grid Ga15 in FIG. 11(e), and the apex a4 is moved to the grid Ga15 in FIG. 10(e).
h), it is moved to grid Ga16. Further, vertex a5 is moved to grid Ga17 as shown in FIG. 11(b), and vertex a6 is moved to grid Ga1 as shown in FIG. 11(a).
8, and the original pattern AO is enlarged to the figure BO shown by the two-dot chain line. In addition, in pattern AI, which is referred to by rotating pattern AO by 90 degrees in FIG.
(overlapping apex a4 of pattern AO) is grid Ga16
, apex a3 is connected to grid Ga19, apex a4 is connected to grid Ga20, apex a5 is connected to grid Ga21, and apex a
6 is converted to be moved to the grid Ga22, and the pattern AI is graphically processed into a graphic Bl shown by a two-dot chain line. For this reason, the figures BO and Bl are connected without creating a step in the connecting portion, and a predetermined line width is ensured. Therefore, when a predetermined number of patterns or a predetermined function is defined as a basic cell, and the same pattern as the basic cell is laid out, hierarchical graphic processing is performed using hierarchical graphic data defined by reference information of the basic cell and its placement position information. In the past, when employing the same pattern, due to the occurrence of steps, it was unavoidable to perform the unfolding process to actually arrange the same pattern and then perform the figure processing after unfolding, but in this embodiment, the end points are Since the movement is performed, there is no difference in level between the connected portions, so that graphic processing can be performed in hierarchical graphic units, and the graphic processing time can be dramatically shortened. Moreover, when the end point movement shown in FIGS. 7 to 10 above is performed on pattern C consisting of only line segments with an inclination of ±1 shown by the solid line in FIG. Gcll and Gc12, and the vertex C2 is moved to Fig. 7 (C
) from grid Gc13. Moved to GcI4. or,
Vertex c3 is moved to grid Gc15 from FIG. 9(d), and vertex c4 is moved to grid Gc16. from FIG. 7(h). G
El? will be moved to Furthermore, the vertex c5 is located on the grid G c from FIG. 9(d).
18, and the vertex C6 is moved to grid Gc19.18 from FIG. 7(a). Gc20, and pattern C is graphically processed into a shape consisting only of horizontal and vertical line segments and diagonal line segments with an inclination of ±1. Therefore, if the exposure equipment computer can only handle diagonal line segments with a slope of ±1, conventionally, line segments with a slope other than ±1 would occur and the figure would have to be changed to process them. Problems can be eliminated and the throughput of LSI development can be improved. In this example, each end point of the line segment pair in the connected state is moved to the nearest grid outside the pattern so that the line segment pair in the connected state is moved to the outside of the pattern. Even if each end point of a certain line segment pair is moved to the nearest grid inside the pattern so that the line segment pair is moved inside the pattern, almost the same operation and effect as in this embodiment can be obtained. Can be done. [Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, for example, a predetermined number of patterns or a predetermined function is defined as a basic cell,
When laying out the same pattern as the basic cell, when employing hierarchical figure processing that uses hierarchical figure data defined by the reference information of the basic cell and its placement position information, there may be a step in the connection between the figures that have been subjected to figure processing. The vertices of the pattern are moved in such a way that no angles outside the diagonal line portion of ±1 occur even when processing a pattern consisting only of diagonal line segments with an inclination of ±1. This has the excellent effect of dramatically shortening the graphic processing time and improving the throughput of LSI development.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1−12図は本発明の図形処理方法を具体化したー実
施例を示す図であり、 第1図は図形処理装置の電気的構成を示す概略図、 第2図は図形処理プログラムを示すフローチャート、 第3図は図形線分データを示す図、 第4図は線分の分類方法を説明する図、第5図はワーク
・リストの初期設定後の構造を示す図、 第6図はワーク・リストの線分登録後の構造を示す図、 第7図(a)〜(h)は±1の傾きの線分同士が1点で
交わった時の端点移動の例を示す図、 第8図(a)〜(h)は±1の傾きの線分と水平垂直線
分の接続の時の端点移動の例を示す図、第9図(a)〜
(h)は±lの傾きの線分の端点移動の例を示す図、 第10図(a)〜(h)は水平線分の端点移動の例を示
す図、 第11図は階層図形を参照する場合における作用説明図
、 第12図は傾きが±1の斜線分を処理する場合の作用説
明図である。 第13.14図は従来例の図形処理方法を示す問題点を
説明する図であり、 第13図は階層図形を参照する場合における階層間の接
続部分における不具合を説明する図、第14図は傾きが
±1の斜線分を処理する場合における不具合を説明する
図である。 図において、 1はCPU1 2はシステム制御部、 3は被処理図形データ入力部、 4は図形処理部、 5は描画データ出力処理部、 6は制御コマンド、 7は図形データ、 8は作業用直接アクセス装置、 9は処理リスト、 N 第2図 図形処理プログラ6奄示すフローチャート(スタート 
 )    7−一一一一、アノ12−〜[了]−i”
r”l  線分データ115−〜」スィーブ・ライン設
定I1118−−4  筒車eib   1    ゝ
−1′l     1@、へ、         10
\ ? / 第5図 ワーク・リストの初期設定螢のi遍を示す図第6図 ワーク・リストの綾分登W管のill造各示す図ト  
      居 、20a 土1の11ぎの線分同志が1点で交ね−〇   0  
    0  0 G1       G2 )k時の端点e勧の例杏示す図 61      G2 (81)  oti(81) 第11図 階層図形を参盟する鳩合における作用説明図・   會
 I ・   ・(・   ・\!   ・   ・ 
  ・   ・ ) ・   ・  會   ・・ミ↓
−−μ ・ : ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・第1
3図 朋 Li81   (3? 餉ぎが土1の斜線分を処理する鳩合の作用説明図へ  
 04、Z/′ @   書   ・   ―   ・   ・   ―
   \\―   ・/−1”    ・c2 餉ぎガ土1の斜線分をJl!!理する篇合2おける不具
合を説明する図°°16° °ンにぐ ° °°°°。 ●に/@●●●●●\)、−φ●● °  1  °  °  0 9  °  0\\ ”
/、/X @  ”・  ・  ・  ・  ・  ・
  ・  ・  ・Y(−・ (・  ・c2
1-12 are diagrams showing embodiments of the graphic processing method of the present invention, FIG. 1 is a schematic diagram showing the electrical configuration of a graphic processing device, and FIG. 2 is a diagram showing a graphic processing program. Flowchart, Figure 3 is a diagram showing figure line segment data, Figure 4 is a diagram explaining how to classify line segments, Figure 5 is a diagram showing the structure of the work list after initial setting, Figure 6 is a diagram showing the work list・A diagram showing the structure of the list after line segments are registered. Figures 7 (a) to (h) are diagrams showing examples of end point movement when line segments with a slope of ±1 intersect at one point. Figures (a) to (h) are diagrams showing examples of end point movement when connecting a line segment with an inclination of ±1 to a horizontal and vertical line segment, Figures 9 (a) to (h)
(h) is a diagram showing an example of moving the end point of a line segment with a slope of ±l. Figures 10 (a) to (h) are diagrams showing an example of moving the end point of a horizontal line segment. Figure 11 is a hierarchical figure. FIG. 12 is an explanatory diagram of the operation in the case of processing diagonal line segments with a slope of ±1. Figures 13 and 14 are diagrams for explaining problems in the conventional graphic processing method. FIG. 6 is a diagram illustrating a problem when processing diagonal line segments with a slope of ±1. In the figure, 1 is the CPU 1, 2 is the system control unit, 3 is the graphic data input unit to be processed, 4 is the graphic processing unit, 5 is the drawing data output processing unit, 6 is the control command, 7 is the graphic data, and 8 is the direct access for work. 9 is a processing list, N is a flowchart showing 6 graphic processing programs (start
) 7-1111, Anno 12-~[End]-i”
r"l Line segment data 115-~" Swive line setting I1118--4 Hour wheel eib 1 ゝ-1'l 1@, to, 10
\? / Fig. 5 Initial setting of work list Fig. 6 Illustrated diagram of work list Aya branch W pipe illumination
, 20a The 11th line segments of soil 1 intersect at one point -〇 0
0 0 G1 G2 ) Figure 61 shows an example of the end point e at the time of k.・ ・
・ ・ ) ・ ・ Meeting ... Mi↓
−−μ ・ : ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1st
Figure 3 Tomo Li81 (3? Go to the explanation diagram of the action of Hatoai, which handles the diagonal line of soil 1.
04, Z/′ @ book ・ ― ・ ・ ―
\\- ・/-1" ・c2 Diagram explaining the problem in the combination 2 that handles the diagonal line part of the clay 1.°°16° °nnigu ° °°°°. @●●●●●\), −φ●● ° 1 ° ° 0 9 ° 0\\”
/, /X @ ”・ ・ ・ ・ ・ ・
・ ・ ・Y(−・ (・ ・c2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、パターンの図形データに基づいて描画図形作成のた
めの図形処理を行なうに際し、 前記パターンに対して走査線を一方向に平行移動させ、
その走査線と直角又は斜めに交差する前記パターンの外
形線分の端点を線分データとし、前記走査線の各移動位
置において同走査線上に端点が存在する各外形線分の内
、連結状態にある2つの外形線分を求め、当該線分対が
前記パターンの外部へ移動されるように、当該線分対の
各端点を描画図形作成のために最小間隔で配置されたグ
リッドの内、前記パターン外部の最寄りのグリッド上に
移動させるようにしたことを特徴とする図形処理方法。 2、パターンの図形データに基づいて描画図形作成のた
めの図形処理を行なうに際し、 前記パターンに対して走査線を一方向に平行移動させ、
その走査線と直角又は斜めに交差する前記パターンの外
形線分の端点を線分データとし、前記走査線の各移動位
置において同走査線上に端点が存在する各外形線分の内
、連結状態にある2つの外形線分を求め、当該線分対が
前記パターンの内部へ移動されるように、当該線分対の
各端点を描画図形作成のために最小間隔で配置されたグ
リッドの内、前記パターン内部の最寄りのグリッド上に
移動させるようにしたことを特徴とする図形処理方法。
[Claims] 1. When performing graphic processing for creating a drawn figure based on graphic data of a pattern, a scanning line is moved parallel to the pattern in one direction,
The end points of the outline line segments of the pattern that intersect at right angles or obliquely with the scanning line are taken as line segment data, and among the outline line segments whose end points are on the same scanning line at each movement position of the scanning line, the connected state Two outline line segments are determined, and each end point of the line segment pair is moved to the outside of the pattern by selecting the end point of the line segment pair from among the grids arranged at minimum intervals to create a drawing figure. A figure processing method characterized by moving the figure to the nearest grid outside the pattern. 2. When performing graphic processing for creating a drawn figure based on the graphic data of the pattern, moving a scanning line parallel to the pattern in one direction,
The end points of the outline line segments of the pattern that intersect at right angles or obliquely with the scanning line are taken as line segment data, and among the outline line segments whose end points are on the same scanning line at each movement position of the scanning line, the connected state Two outline line segments are determined, and each end point of the line segment pair is moved to the inside of the pattern by selecting the end point of the line segment pair from among the grids arranged at the minimum interval to create a drawing figure. A figure processing method characterized by moving the figure onto the nearest grid inside the pattern.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007026159A (en) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujitsu Ltd Printed circuit board analysis model generation apparatus and program
WO2009139063A1 (en) * 2008-05-15 2009-11-19 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 Pattern generating method and pattern generating program

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007026159A (en) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujitsu Ltd Printed circuit board analysis model generation apparatus and program
WO2009139063A1 (en) * 2008-05-15 2009-11-19 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 Pattern generating method and pattern generating program
JP5077432B2 (en) * 2008-05-15 2012-11-21 富士通セミコンダクター株式会社 Pattern creation method and pattern creation program
US8713505B2 (en) 2008-05-15 2014-04-29 Fujitsu Semiconductor Limited Pattern generation method and pattern generation program

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