JPH03286549A - Holding device for plate-shaped object - Google Patents
Holding device for plate-shaped objectInfo
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- JPH03286549A JPH03286549A JP2088792A JP8879290A JPH03286549A JP H03286549 A JPH03286549 A JP H03286549A JP 2088792 A JP2088792 A JP 2088792A JP 8879290 A JP8879290 A JP 8879290A JP H03286549 A JPH03286549 A JP H03286549A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は板状体を保持するための技術、特に、ウェハな
どの板状体を真空吸引して保持するために用いて効果の
ある技術に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a technique for holding a plate-like object, particularly a technique that is effective when used to hold a plate-like object such as a wafer by vacuum suction. It is related to.
例えば、半導体製造工程におけるホトレジスト処理たど
の際には、板状体であるウェハをチャックに固定して水
平回転させている。そして、ウェハを保持させる手段と
して、ウェハの背面を真空吸引することにより行ってい
る。For example, during photoresist processing in a semiconductor manufacturing process, a plate-shaped wafer is fixed to a chuck and rotated horizontally. The wafer is held by vacuum suction on the back surface of the wafer.
ところで、本発明者は、チャッキングに伴うウェハの裏
面(保持面)への異物の付着について検討した。By the way, the present inventor has studied the attachment of foreign matter to the back surface (holding surface) of a wafer during chucking.
以下は本発明者によって検討された技術であり、その概
要は次の通りである。The following are the techniques studied by the present inventor, and the outline thereof is as follows.
すなわち、ウェハを保持するに際しては、レジスト膜厚
を高精度に形成するために、ウェハの裏面に平均的に真
空吸着力が付与され、ウェハに変形などを生じさせるこ
となく保持される必要がある。In other words, when holding a wafer, in order to form a resist film with high precision, it is necessary to apply an average vacuum suction force to the back surface of the wafer and to hold the wafer without deforming the wafer. .
そこで、従来においては、特開平1−134945号公
報に示されるように、チャックの上面に多孔質部材を配
設し、ウェハの背面全体を多孔質部材で保持しながら真
空吸引による負圧がウェハ背面全域に付与されるように
していた。Therefore, in the past, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-134945, a porous member is provided on the top surface of the chuck, and the negative pressure caused by vacuum suction is applied to the wafer while the entire back surface of the wafer is held by the porous member. It was set to be applied to the entire back area.
ところが、前記の如く多孔質部材をチャック表面に配設
した保持装置においては、板状体の裏面全域に保持部材
である多孔質部材が接触するため、板状体の裏面に異物
が付着しやすく、製品歩留まりを低下させていた。However, in the holding device in which the porous member is disposed on the chuck surface as described above, the porous member serving as the holding member comes into contact with the entire back surface of the plate-like object, so foreign matter is likely to adhere to the back surface of the plate-like object. , which lowered product yield.
そこで、本発明の目的は、回転体を均一に保持しながら
異物の付着を低減することができる技術を提供すること
にある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a technique that can reduce the adhesion of foreign substances while maintaining a rotating body uniformly.
本発明の前記目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び
添付図面から明らかになるであろう。The above objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、以下の通りである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、板状体の裏面を真空吸着により回転可能な回
転体に保持する保持装置であって、前記板状体の裏面に
点状に接触する複数の凸部を前記回転体の保持面に配設
するようにしている。That is, this is a holding device that holds the back surface of a plate-like body on a rotatable body by vacuum suction, and a plurality of convex portions that contact the back surface of the plate-like body in a dotted manner are arranged on the holding surface of the rotary body. I am trying to set it up.
上記した手段によれば、吸着面に設けた複数の凸部先端
のみが板状体に平均的に接触する。したがって、板状体
の裏面と保持面との接触面積をきわめて少なくでき、板
状体の裏面に付着する異物を低減することができると共
に、平坦度を損なうことなく板状体を保持することがで
きる。According to the above-described means, only the tips of the plurality of convex portions provided on the suction surface come into contact with the plate-like body evenly. Therefore, the contact area between the back surface of the plate-like object and the holding surface can be extremely reduced, reducing the amount of foreign matter adhering to the back surface of the plate-like object, and also making it possible to hold the plate-like object without impairing its flatness. can.
〔実施例1〕
第1図は本発明による板状体の保持装置の一実施例を示
す断面図であり、第2図は第1図の実施例の保持面の構
成の詳細を示す部分拡大平面図である。[Example 1] Fig. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the plate-shaped object holding device according to the present invention, and Fig. 2 is a partially enlarged view showing details of the structure of the holding surface of the embodiment of Fig. 1. FIG.
上部が円板状に加工され、その中心部に回転軸を有する
ように形成された回転体1は、保持面である上面にオペ
リスク形の凸部2が網目状に形成され、吸着面3を構成
している。回転体1の材料には、加工性、耐薬品性及び
耐変形に優れるPEEK(ポリエーテルエーテルケトン
)材、加工性及び耐薬品性に優れるポリアセタール材な
どを用いることができる。The rotating body 1 has a disc-shaped upper part and a rotating shaft in the center thereof, and has an operisk-shaped convex part 2 formed in a mesh shape on the upper face which is a holding surface, and a suction surface 3. It consists of As the material of the rotating body 1, PEEK (polyetheretherketone) material having excellent workability, chemical resistance, and deformation resistance, polyacetal material having excellent workability and chemical resistance, etc. can be used.
なお、板状体が半導体製造に用いられるウェハである場
合、金属汚染を避けるために、その材料を金属以外のも
のにし、あるいは表面に特殊加工を施して金属が露出し
ないようにする必要がある。Additionally, if the plate is a wafer used in semiconductor manufacturing, in order to avoid metal contamination, the material must be made of something other than metal, or the surface must be specially processed to prevent the metal from being exposed. .
回転体1の回転軸の中心の上部には真空孔4が形成され
、その下部には、真空孔4に連通させてスピンモータシ
ャフト挿入部5が設けられている。A vacuum hole 4 is formed above the center of the rotating shaft of the rotating body 1, and a spin motor shaft insertion portion 5 is provided below the vacuum hole 4 in communication with the vacuum hole 4.
このスピンモータシャフト挿入部5には、不図示のモー
タの回転軸が嵌入される。A rotating shaft of a motor (not shown) is inserted into the spin motor shaft insertion portion 5 .
回転体1の円板状の外周には、板状体の裏面に面接触す
る真空リーク防止凸部6がリング状に形成され、その内
側に凸部2の加工時の工具の逃げ場を作るためのバイト
逃げ凹部7が環状に形成されている。On the disk-shaped outer periphery of the rotary body 1, a vacuum leak prevention convex part 6 is formed in the form of a ring, which is in surface contact with the back surface of the plate-like body, and inside the convex part 6, there is provided a place for a tool to escape when machining the convex part 2. A cutting tool escape recess 7 is formed in an annular shape.
第2図に示すように、凸部2は各々四角錐を戊して縦方
向及び横方向に連続して配列され、その頂部は平坦にさ
れ、この平坦面が板状体に対する接触面8になる。As shown in FIG. 2, the convex portions 2 are each shaped like a square pyramid and are arranged continuously in the vertical and horizontal directions. Become.
上記のような保持装置を製作するに際しては、フライス
盤が用いられ、これに用いるバイトの刃先は所定の角度
を有するようにV字形にされている。このバイトによる
吸着面3への加工に際しては、第2図に示した接触面8
がバイトの移動のみで形成されるように、その加工深さ
及び間隔を決定する。When manufacturing the holding device as described above, a milling machine is used, and the cutting edge of the cutting tool used therein is V-shaped so as to have a predetermined angle. When machining the suction surface 3 with this cutting tool, the contact surface 8 shown in FIG.
The machining depth and spacing are determined so that it is formed only by the movement of the cutting tool.
例えば、第2図に示す凹部2を形成する場合、まず、横
方向に示される実線位置にバイトの先端が位置するよう
にし、バイト逃げ凹部7からはみ出ないようにしながら
順次一定間隔(例えば、2關間隔〉をおいて移動させる
。ついで、この移動加工に対し90°の角度を持たせて
上記と同一間隔により順次バイトを垂直方向へ移動させ
る。これにより、例えば、接触面8が0.2u四方に形
成される。For example, when forming the recess 2 shown in FIG. Then, the cutting tool is moved in the vertical direction at an angle of 90° with respect to this moving process at the same intervals as above.As a result, for example, the contact surface 8 becomes 0.2 u. Formed on all sides.
このように凸部2をオペリスク形状にすることにより、
凸部2に対する表面加工を不要にしながら、板状体を平
坦に保持することが可能になる。By making the convex part 2 into an operisk shape in this way,
It becomes possible to hold the plate-shaped body flat while eliminating the need for surface processing of the convex portions 2.
すなわち、凸部2の頂部を鋭角にした場合には、板状体
の裏面に対する接触面積を最小にでき、異物付着量を最
小にすることが可能ではあるが、すべての凸部2の高さ
を同一にすることは困難であるため、平坦度を出すため
の表面高さを均一にする研磨処理などが必要になる。し
かも、この加工を先端の破損を生じさせずに加工するこ
とは難しい。これに対し、本実施例によれば、後加工を
不要にすることができる。In other words, if the tops of the protrusions 2 are made at acute angles, the contact area with the back surface of the plate-like object can be minimized, and the amount of foreign matter adhering can be minimized, but the height of all the protrusions 2 Since it is difficult to make the surfaces the same, a polishing process or the like is required to make the surface height uniform in order to achieve flatness. Moreover, it is difficult to carry out this process without causing damage to the tip. In contrast, according to this embodiment, post-processing can be made unnecessary.
以上のような加工により、吸着面3には多数の凸部2が
第2図のように形成される。そして、バイト逃げ凹部7
が設けられているために、バイトが真空リーク防止凸部
6の近傍に来ても、真空リーク防止凸部6を疵つけるこ
とがなく、綺麗に仕上げることができる。By the above processing, a large number of convex portions 2 are formed on the suction surface 3 as shown in FIG. 2. And the bite escape recess 7
Since this is provided, even if the cutting tool comes close to the vacuum leak prevention projection 6, the vacuum leak prevention projection 6 will not be damaged and a clean finish can be achieved.
このようにして作られた保持装置に板状体(例えばウェ
ハ)を保持させるには、不図示の搬送装置(ハンドラー
など)によって搬送されてきた板状体を吸着面3に載せ
、ついで不図示の真空ポンプを稼働させて真空孔4に負
圧を生じさせる。これにより、ウェハの背面は吸着面3
側へ吸引され、ウェハの背面に凸部2の接触面8が圧接
した状態でウェハは回転体1に固定される。In order to hold a plate-like object (for example, a wafer) on the holding device made in this way, the plate-like object transported by a transport device (such as a handler, not shown) is placed on the suction surface 3, and then The vacuum pump is operated to generate negative pressure in the vacuum hole 4. As a result, the back side of the wafer is attached to the suction surface 3.
The wafer is fixed to the rotating body 1 with the contact surface 8 of the convex portion 2 in pressure contact with the back surface of the wafer.
このとき、接触面8の周囲には空間が形成され、この空
間が真空孔4に連通しているため、ウェハの裏面には均
一に真空吸引力が付与される。そして、凸部2の先端(
頂点)の表面積が小さいため、ウェハに対する全体の接
触面積は、例えば従来の1/8に低減でき、異物付着量
も1/8に低減することができた。At this time, a space is formed around the contact surface 8, and since this space communicates with the vacuum hole 4, a vacuum suction force is uniformly applied to the back surface of the wafer. Then, the tip of the convex portion 2 (
Since the surface area of the apex is small, the total contact area with the wafer can be reduced to, for example, 1/8 of that of the conventional method, and the amount of foreign matter attached can also be reduced to 1/8.
〔実施例2〕
第3図は本発明による板状体の保持装置の第2実施例を
示す断面図である。本実施例においては、前記実施例と
同一であるものには同一の引用数字を用いたので、以下
においては重複する説明を省略する。[Embodiment 2] FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment of the plate-shaped body holding device according to the present invention. In this embodiment, the same reference numerals are used for the same components as in the previous embodiment, and therefore, redundant explanation will be omitted below.
本実施例は、板状体が静電気によって帯電するのを防止
するようにしたものである。保持装置が半導体製造工程
で用いられる場合、ウェハに対する金属汚染が問題とな
り、回転体lに金属部分を露出させた状態で用いること
ができない。In this embodiment, the plate-shaped body is prevented from being charged by static electricity. When the holding device is used in a semiconductor manufacturing process, metal contamination of the wafer becomes a problem, and the holding device cannot be used with the metal portion exposed on the rotating body l.
このため、ウェハに帯電が生じても、この帯電電荷をグ
ランドに放電することができない。ウェハが帯電すると
、電気集塵機と同様の原理で雰囲気中の浮遊物を吸着し
易くなり、製品の歩留まり低下の原因になる。Therefore, even if the wafer is electrically charged, this electrical charge cannot be discharged to the ground. When a wafer is charged, it tends to attract floating substances in the atmosphere using the same principle as an electrostatic precipitator, which causes a decrease in product yield.
そこで、本実施例では、回転体1の主体にアルミニウム
材を用い、この表面に表面処理9 (例えばタフラム処
理)を施した後、有機溶剤に溶けないフッ素樹脂IOで
吸着面3を被覆する構成にしている。フッ素樹脂10は
、例えば、300μm〜700μmの厚さにする。Therefore, in this embodiment, an aluminum material is used as the main body of the rotating body 1, and after surface treatment 9 (for example, Taflam treatment) is applied to the surface, the adsorption surface 3 is coated with a fluororesin IO that is insoluble in organic solvents. I have to. The fluororesin 10 has a thickness of, for example, 300 μm to 700 μm.
このように、回転体1に金属を用いることにより、回転
体1を接地することが可能になり、ウェハの帯電電荷を
放電させることが可能になる。この結果、ウェハ表面へ
の異物付着を低減することが可能になる。In this way, by using metal for the rotating body 1, it becomes possible to ground the rotating body 1, and it becomes possible to discharge the electrical charges on the wafer. As a result, it becomes possible to reduce the adhesion of foreign matter to the wafer surface.
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることは言うまでもない。Above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. stomach.
例えば、上記実施例においては、凸W!I2をオペリス
ク形状にするものとしたが、傾斜面を有しない方形であ
ってもよい。For example, in the above embodiment, convex W! Although I2 is assumed to have an operisk shape, it may be rectangular without an inclined surface.
また、以上の説明では、主として本発明者によってなさ
れた発明をその利用分野であるウェハの保持に適用する
例を示したが、例えば、磁気ディスクの保持に適用する
ことも可能である。Further, in the above description, an example was mainly shown in which the invention made by the present inventor is applied to the field of application, which is holding a wafer, but it is also possible to apply it to holding a magnetic disk, for example.
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。Among the inventions disclosed in this application, the effects obtained by typical ones are as follows.
すなわち、板状体の裏面を真空吸着により回転可能な回
転体に保持する保持装置であって、前記板状体の裏面に
点状に接触する複数の凸部を前記回転体の保持面に配設
するようにしたので、板状体の裏面に付着する異物を低
減することができると共に、板状体を平坦度を損なうこ
となく保持することができる。That is, this is a holding device that holds the back surface of a plate-like body on a rotatable body by vacuum suction, and a plurality of convex portions that contact the back surface of the plate-like body in a dotted manner are arranged on the holding surface of the rotary body. With this arrangement, it is possible to reduce the amount of foreign matter adhering to the back surface of the plate-shaped body, and it is also possible to hold the plate-shaped body without impairing its flatness.
第11!Iは本発明による板状体の保持装置の一実施例
を示す断面図、
第2図は′!J1図の実施例の保持面の構成の詳細を示
す平面図、
第3図は本発明による板状体の保持装置の第2実施例を
示す断面図である。
1・・・回転体、2・・・凸部、3・・・吸着面、4・
・・真空孔、5・・・スピンモータシャフト挿入部、6
・・・真空リーク防止凸部、7・・・バイト逃げ凹部、
8・・・接触面、9・・・表面処理、10・・・フッ素
樹脂。11th! I is a cross-sectional view showing one embodiment of the plate-like object holding device according to the present invention, and FIG. 2 is '! FIG. 3 is a plan view showing the details of the configuration of the holding surface of the embodiment shown in FIG. J1, and FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment of the plate-shaped object holding device according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Rotating body, 2... Convex part, 3... Adsorption surface, 4...
...Vacuum hole, 5...Spin motor shaft insertion part, 6
...Vacuum leak prevention convex part, 7...Bite relief concave part,
8... Contact surface, 9... Surface treatment, 10... Fluororesin.
Claims (1)
保持する保持装置であって、前記板状体の裏面に点状に
接触する複数の凸部を前記回転体の保持面に配設したこ
とを特徴とする板状体の保持装置。 2、前記凸部は、オべリスク形状を有していることを特
徴とする請求項1記載の板状体の保持装置。 3、前記板状体の裏面に接触するリング状の凸部を前記
回転体の外周縁に設けると共に、前記リング状凸部の内
側にリング状の凹部を設けたことを特徴とする請求項1
記載の板状体の保持装置。 4、前記回転体を金属で構成し、その吸着面を樹脂材で
被覆することを特徴とする請求項1記載の板状体の保持
装置。[Scope of Claims] 1. A holding device for holding the back surface of a plate-like body on a rotatable rotating body by vacuum suction, the holding device comprising a plurality of convex portions contacting the back face of the plate-like body in a dotted manner by the rotation. A holding device for a plate-shaped body, characterized in that it is disposed on a holding surface of a body. 2. The plate-shaped body holding device according to claim 1, wherein the convex portion has an obelisk shape. 3. Claim 1, characterized in that a ring-shaped protrusion that contacts the back surface of the plate-shaped body is provided on the outer peripheral edge of the rotating body, and a ring-shaped recess is provided inside the ring-shaped protrusion.
A holding device for the plate-shaped body described above. 4. The plate-shaped body holding device according to claim 1, wherein the rotary body is made of metal, and its suction surface is covered with a resin material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2088792A JPH03286549A (en) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | Holding device for plate-shaped object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2088792A JPH03286549A (en) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | Holding device for plate-shaped object |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03286549A true JPH03286549A (en) | 1991-12-17 |
Family
ID=13952700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2088792A Pending JPH03286549A (en) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | Holding device for plate-shaped object |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03286549A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6966560B2 (en) * | 2002-08-02 | 2005-11-22 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Device for fixing thin and flexible substrates |
| WO2016017485A1 (en) * | 2014-07-29 | 2016-02-04 | シャープ株式会社 | Substrate processing device |
| JP2024097306A (en) * | 2023-01-05 | 2024-07-18 | ミコ セラミックス リミテッド | Ceramic Susceptor |
-
1990
- 1990-04-03 JP JP2088792A patent/JPH03286549A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2016017485A1 (en) * | 2014-07-29 | 2016-02-04 | シャープ株式会社 | Substrate processing device |
| JPWO2016017485A1 (en) * | 2014-07-29 | 2017-06-01 | シャープ株式会社 | Substrate processing equipment |
| JP2024097306A (en) * | 2023-01-05 | 2024-07-18 | ミコ セラミックス リミテッド | Ceramic Susceptor |
| US12283513B2 (en) | 2023-01-05 | 2025-04-22 | Mico Ceramics Ltd. | Ceramic susceptor |
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