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JPH0352189A - Dynamic random access memory - Google Patents

Dynamic random access memory

Info

Publication number
JPH0352189A
JPH0352189A JP1184816A JP18481689A JPH0352189A JP H0352189 A JPH0352189 A JP H0352189A JP 1184816 A JP1184816 A JP 1184816A JP 18481689 A JP18481689 A JP 18481689A JP H0352189 A JPH0352189 A JP H0352189A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
dummy
dummy cell
cell
capacitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1184816A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Kimura
亨 木村
Toru Furuyama
古山 透
Takashi Osawa
隆 大沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP1184816A priority Critical patent/JPH0352189A/en
Publication of JPH0352189A publication Critical patent/JPH0352189A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体メモリに係り、特にダイナミック型ラ
ンダムアクセスメモリ(以下、DRAMと略記する)に
おけるワード線・ダミーワード線駆動系およびダミーセ
ルプリチャージ手段に関する。
Detailed Description of the Invention [Objective of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to semiconductor memory, and particularly to word line/dummy word line driving in dynamic random access memory (hereinafter abbreviated as DRAM). system and dummy cell precharge means.

(従来の技術) 第3図は従来のDRAMにおけるワード線・ダミーワー
ド線駆動系に注目して一部を示しており、BL1および
BL2はDRAMのメモリセルアレイにおける各カラム
のビット線対、SAはビット線センスアンプ、MCi(
i−os+  ・・・n)は各ビット線(BL, 、B
L2 )にそれぞれ複数個づつ接続された正規のダイナ
ミック型メモリセルであるが、説明の簡単化のためにビ
ット線BL,側のみを示している。これらの正規のメモ
リセルMCjは、絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(
MOSトランジスタ)からなる電荷転送トランジスタT
MとキャパシタCsとが直列に接続されている。WLf
(f−ost、・・・n)はメモリセルMCiの電荷転
送トランジスタTMのゲートに接続されているワード線
、RDはワード線WLiを選択駆動するロウデコーダで
ある。
(Prior Art) Fig. 3 shows a part of a word line/dummy word line drive system in a conventional DRAM, in which BL1 and BL2 are bit line pairs in each column in a DRAM memory cell array, and SA is a bit line pair in each column in a DRAM memory cell array. Bit line sense amplifier, MCi (
i-os+...n) is connected to each bit line (BL, ,B
A plurality of regular dynamic memory cells are connected to each of the bit lines BL and BL, respectively, but only the bit line BL side is shown for the sake of simplification of explanation. These regular memory cells MCj are insulated gate field effect transistors (
A charge transfer transistor T consisting of a MOS transistor
M and a capacitor Cs are connected in series. WLf
(f-ost, . . . n) is a word line connected to the gate of the charge transfer transistor TM of the memory cell MCi, and RD is a row decoder that selectively drives the word line WLi.

DCは各ビット線(BL1、BL2 )にそれぞれ1個
づつ接続されたダミーセルであるが、説明の簡単化のた
めにビット線BL2側のみを示している。これらのダミ
ーセルDCは、電荷転送トランジスタTMとキャパシタ
Cdとが直列に接続されている。DWLはダミーセルD
Cの電荷転送トランジスタTMのゲートに接続されたダ
ミーワード線、30はダミーワード線DWLを選択駆動
するダミーワード線駆動回路である。31はロウアドレ
スおよびロウアドレスストローブ信号RASが入力する
ロウ系駆動回路、32はvCC電源電圧を昇圧した電圧
をロウ系駆動回路31の出力に基すいてロウデコーダR
Dおよびダミーワード線躯動回路30の駆動入力として
供給する昇圧回路である。この昇圧回路32は、メモリ
セルMCiおよびダミーセルDCに対する書込みに際し
てfU1荷転送トランジスタTMのゲート閾値電圧Vt
nの電圧低下が生じるので、これを捕償するために設け
ており、Vcc+Vtn以上に昇圧した電圧を出力する
ように構成されている。
DC is a dummy cell connected to each bit line (BL1, BL2), but only the bit line BL2 side is shown to simplify the explanation. These dummy cells DC include a charge transfer transistor TM and a capacitor Cd connected in series. DWL is dummy cell D
A dummy word line 30 is connected to the gate of the charge transfer transistor TM of C, and a dummy word line drive circuit 30 selectively drives the dummy word line DWL. 31 is a row system drive circuit to which the row address and row address strobe signal RAS are input; 32 is a row decoder R that applies a boosted voltage of the vCC power supply voltage to the output of the row system drive circuit 31;
This is a booster circuit that is supplied as a drive input for D and dummy word line moving circuits 30. This booster circuit 32 controls the gate threshold voltage Vt of the fU1 load transfer transistor TM during writing to the memory cell MCi and the dummy cell DC.
Since a voltage drop of n occurs, it is provided to compensate for this, and is configured to output a voltage boosted to Vcc+Vtn or higher.

このメモリセルMCiおよびダ.ミーセルDCに対する
書込みに際して、ダミーセルDCの書込み電荷量がメモ
リセルMCiの書込み電荷量の1/2となるように、ダ
ミーセルDCのキャパシタCdの容量はメモリセルMC
iのキャパシタCsの容量の1/2に設定されている。
These memory cells MCi and D. When writing to the memory cell DC, the capacitance of the capacitor Cd of the dummy cell DC is equal to the memory cell MC so that the amount of charge written to the dummy cell DC is 1/2 of the amount of charge written to the memory cell MCi.
It is set to 1/2 of the capacitance of capacitor Cs of i.

これにより、メモリセルMCiおよびダミーセルDCか
らの読出しに際して、メモリセルMCi側の一方のビッ
ト線の電位はメモリセルMCiのデータに応じて“H2
レベルまたは“L2レベルになり、ダミーセル側の他方
のビット線の電位は上記“H゜レベルと“L″レベルと
の中間電位になるので、センスアンプSAのセンス動作
が可能になる。
As a result, when reading from memory cell MCi and dummy cell DC, the potential of one bit line on the memory cell MCi side is set to "H2" according to the data of memory cell MCi.
level or "L2 level", and the potential of the other bit line on the dummy cell side becomes an intermediate potential between the "H" level and "L" level, so that the sense amplifier SA can perform the sensing operation.

なお、センスアンプSAのセンス出力による再書込み終
了後に各ビット線対(BL+ ,BL2 )を電源電圧
VCCの1/2にプリチャージおよびイコライズするた
めのビット線プリチャージ・イコライズ回路(図示せず
)が設けられている。
Note that a bit line precharge/equalization circuit (not shown) is used to precharge and equalize each bit line pair (BL+, BL2) to 1/2 of the power supply voltage VCC after the rewriting is completed using the sense output of the sense amplifier SA. is provided.

次に、上記DRAMのビット線対(BL,BL2)のう
ちの一方、例えば第1のビット線BL,側に接続されて
いるあるメモリセルMCoにOV(“L2レベル)の電
位が書込まれている場合における読出し・再書込みの動
作について説明する。
Next, a potential of OV ("L2 level") is written to a certain memory cell MCo connected to one of the bit line pair (BL, BL2) of the DRAM, for example, the first bit line BL side. The read/rewrite operations in the case where the

このDRAMは、電源電位VCCが例えば5vであり、
ビット線対をVcc/2なる電圧にプリチャージする方
式を採用しているので、ワード線が選択されるまでの期
間は各ビット線(BL1BL2)は等し(Vec/2に
保たれている。アドレス入力としてロウアドレスおよび
カラムアドレスが順次入力し、ロウアドレス入力後にR
AS信号が活性化し、ロウ系駆動回路31によりロウア
ドレスがデコードされ、第1のビットIIBL,側の選
択ワード腺WLoに昇圧電圧が与えられて選択メモリセ
ルMCOの電荷転送トランジスタTMがオンになり、こ
のメモリセルMCoのキャパシタCsから“L”レベル
が読出され、第1のビット線BL,の電位はVcc/2
から僅かに下がる。
In this DRAM, the power supply potential VCC is, for example, 5V,
Since a method is adopted in which the bit line pair is precharged to a voltage of Vcc/2, each bit line (BL1BL2) is maintained at the same voltage (Vec/2) until a word line is selected. Row address and column address are input sequentially as address input, and R
The AS signal is activated, the row address is decoded by the row-related drive circuit 31, a boosted voltage is applied to the selected word gland WLo on the side of the first bit IIBL, and the charge transfer transistor TM of the selected memory cell MCO is turned on. , the "L" level is read from the capacitor Cs of this memory cell MCo, and the potential of the first bit line BL is Vcc/2.
decreases slightly from

一方、上記第1のビット線BLI側のワード線WLoか
選択されると同時に第2のビット線BL2側のダミーワ
ード線DWLに昇圧電圧が与えられ、ダミーセルDCの
電荷転送トランジスタTMがオンになる。ここで、ダミ
ーセルDCにはVcc/2なる電位が予め書込まれてい
るので、電荷転送トランジスタTMがオンになってダミ
ーセルDCのキャパシタCdと第2のビット線BL2と
が短絡しても、両者は同電位であるので第2のビット線
BL2の電位はVcc/2のまま変化しない。
On the other hand, at the same time as the word line WLo on the first bit line BLI side is selected, a boosted voltage is applied to the dummy word line DWL on the second bit line BL2 side, and the charge transfer transistor TM of the dummy cell DC is turned on. . Here, since the potential Vcc/2 is written in advance in the dummy cell DC, even if the charge transfer transistor TM is turned on and the capacitor Cd of the dummy cell DC and the second bit line BL2 are short-circuited, both are at the same potential, so the potential of the second bit line BL2 remains unchanged at Vcc/2.

この後、第1のビット線BL1の電位と第2のビット線
BL2の電位とに微少な電位差が生じた後、センスセン
スアンプSAが活性化し、ビット線対の微少な電位差が
センス増幅される。
After this, after a slight potential difference occurs between the potential of the first bit line BL1 and the potential of the second bit line BL2, the sense amplifier SA is activated and the slight potential difference between the bit line pair is sense-amplified. .

この後、カラムアドレスストローブ信号が活性化してカ
ラムアドレスがデコードされ、カラムデコード信号にま
りカラム選択トランジスタ対(図示せず)がオンになる
と、センスアンプSAの出力電位がデータ線を経てデー
タバッファ(図示せず)により再増幅されてデータパス
に出力される。
Thereafter, when the column address strobe signal is activated and the column address is decoded, and the column selection transistor pair (not shown) is turned on by the column decode signal, the output potential of the sense amplifier SA is passed through the data line to the data buffer ( (not shown) and output to the data path.

また、センスアンプSAの出力電位により、選択メモリ
セルMC.およびダミーセルDCに再書込みが行われる
。この後、ワード線WL.およびダミーワード線DWL
が非選択状態に戻る。この再書込み動作が終了した後、
ビット線対(BL,BL2)がプリチャージされる。
Furthermore, the selected memory cell MC. Then, rewriting is performed to the dummy cell DC. After this, word line WL. and dummy word line DWL
returns to unselected state. After this rewrite operation is finished,
The bit line pair (BL, BL2) is precharged.

しかし、上記DRAMにおいては、昇圧同路32は、ロ
ウデコーダRDおよびダミーワード線駆動回路30に昇
圧電圧を供給する必要があるので、その負担が大きくな
る。従って、昇圧回路32に強力な昇圧能力を持たせな
いと、昇圧時間が余計にかかってDRAMの動作速度が
遅くなり、最悪の場合には完全に昇圧できなくなり、強
力な昇圧能力を持たせようとすると、その回路面積か大
きくなる。
However, in the above DRAM, the boosting circuit 32 needs to supply a boosted voltage to the row decoder RD and the dummy word line drive circuit 30, which increases its burden. Therefore, if the booster circuit 32 is not provided with a strong boosting ability, the boosting time will be increased and the operating speed of the DRAM will be slowed down, and in the worst case, the voltage will not be able to be boosted completely. If so, the circuit area will increase.

(発明が解決しようとする課題) 上記したように従来の大容量のDRAMは、ワード線昇
圧・ダミーワード線昇圧用の昇圧回路の負担が大きくな
り、昇圧時間が余計にかかってDRAMの動作速度が遅
くなり、あるいは、昇圧回路の回路面積が大きくなると
いう問題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in conventional large-capacity DRAMs, the load on the booster circuits for boosting word lines and dummy word lines is heavy, and the boosting time is increased, which reduces the operating speed of the DRAM. There are problems in that the speed becomes slow or the circuit area of the booster circuit becomes large.

本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、そ
の目的は、ワード線駆動系の昇圧回路の負担を軽減し、
昇圧回路の回路面積を抑制し得ると共に動作速度の高速
化を図り得るダイナミック型ランダムアクセスメモリを
提供することにある.[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明のダイナミック型ランダムアクセスメモリは、昇
圧回路の昇圧電圧出力をワード線駆動回路には供給する
がダミーワード線駆動回路には供給しないことによって
、正規のメモリセルの選択時にワード線駆動回路からは
昇圧されたワード線信号を出力させるがダミーセルの選
択時にダミーワード線駆動回路からは昇圧されないダミ
ーワード線信号を出力させ、ダミーセルに対するプリチ
ャージに際しては、ダミーワード線を駆動することなく
ダミーセルプリチャージトランジスタを介してダミーセ
ルのキャパシタにプリチャージするダミーセルプリチャ
ージ回路を具備することを特徴とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to reduce the burden on the booster circuit of the word line drive system,
The object of this invention is to provide a dynamic random access memory that can reduce the circuit area of a booster circuit and increase the operating speed. [Structure of the Invention] (Means for Solving the Problem) The dynamic random access memory of the present invention supplies the boosted voltage output of the booster circuit to the word line drive circuit, but not to the dummy word line drive circuit. When a regular memory cell is selected, the word line drive circuit outputs a boosted word line signal, but when a dummy cell is selected, the dummy word line drive circuit outputs a dummy word line signal that is not boosted, thereby precharging the dummy cell. The present invention is characterized in that it includes a dummy cell precharge circuit that precharges the capacitor of the dummy cell via the dummy cell precharge transistor without driving the dummy word line.

(作用) ダミーワード線を駆動することなくダミーセルのキャパ
シタに対してプリチャージするダミーセルプリチャージ
回路が設けられているので、ダミーワード線駆動回路か
ら昇圧されたダミーワード線信号を出力する必要がなく
なり、昇圧回路からダミーワード線駆動回路に昇圧電圧
を供給する必要がなくなる。従って、ワード線駆動系の
昇圧回路の負担を軽減し、昇圧回路の回路面積を抑制す
ると共にDRAMの動作速度の高速化を図ることが可能
になる。
(Function) Since a dummy cell precharge circuit is provided that precharges the capacitor of the dummy cell without driving the dummy word line, there is no need to output a boosted dummy word line signal from the dummy word line drive circuit. , there is no need to supply a boosted voltage from the booster circuit to the dummy word line drive circuit. Therefore, it is possible to reduce the burden on the booster circuit of the word line drive system, suppress the circuit area of the booster circuit, and increase the operating speed of the DRAM.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明のDRAMの一実施例を示しており、
第3図を参照して前述したような従来のDRAMと比べ
て、(a)昇圧回路10の出力はロウデコーダRDには
供給されているがダミーワード線駆動回路11には供給
されず、ダミーワード線駆動回路11にはロウ系駆動回
路12の出力が昇圧回路10を経ないで入力する点、(
b)ダミーセルDCのキャパシタCdの容量値は正規の
メモリセルMCiのキャパシタCsの容量値と同等であ
る点、(C)ダミーワード線D W Lを駆動すること
なくダミーセルDCのキャパシタCdに対して電源電圧
の1/2の電位にプリチャージするダミーセルプリチャ
ージ回路13が付加されている点が異なり、その他の部
分は同じであるので第3図中と同一符号を付している。
FIG. 1 shows an embodiment of the DRAM of the present invention,
Compared to the conventional DRAM as described above with reference to FIG. The output of the row-related drive circuit 12 is input to the word line drive circuit 11 without passing through the booster circuit 10;
b) The capacitance value of the capacitor Cd of the dummy cell DC is equivalent to the capacitance value of the capacitor Cs of the regular memory cell MCi. The difference is that a dummy cell precharge circuit 13 for precharging to a potential of 1/2 of the power supply voltage is added, and other parts are the same and are designated by the same reference numerals as in FIG. 3.

即ち、BL,およびBL2はDRAMのメモリセルアレ
イにおける各カラムのビット線対、SAはビット線セン
スアンプ、M C iは上記各ビットtm (BL, 
、BL2)にそれぞれ複数個づつ接続された正規のダイ
ナミック型メモリセルであり、それぞれ電荷転送トラン
ジスタTMとキャパシタCsとが直列に接続されている
。WLiはメモリセルMCiの電荷転送トランジスタT
Mのゲー}・に接続されているワード線、RDはワード
線WLiを選択駆動するロウデコーダ(ワード線駆動回
路)である。DCは各ビット線(BLl,BL2)にそ
れぞれ1個づつ接続されたダミーセルであり、それぞれ
電荷転送トランジスタTMとキャパシタCdとが直列に
接続されている。
That is, BL and BL2 are the bit line pairs of each column in the DRAM memory cell array, SA is the bit line sense amplifier, and M C i is the bit line pair tm (BL,
, BL2), each of which has a charge transfer transistor TM and a capacitor Cs connected in series. WLi is the charge transfer transistor T of the memory cell MCi
The word line RD connected to the gate M is a row decoder (word line drive circuit) that selectively drives the word line WLi. DC is a dummy cell connected to each bit line (BLl, BL2), and each has a charge transfer transistor TM and a capacitor Cd connected in series.

DWLはダミーセルDCの電荷転送トランジスタTMの
ゲートに接続されたダミーワード線、11はダミーワー
ド線DWLを選択駆動するダミーワード線駆動回路であ
る。12はロウアドレスおよびロウアドレスストローブ
信号RASが人力するロウ系駆動回路、10はVec電
Fi.′rjX圧をVcc+Vtn以上に昇圧した電圧
を上記ロウ系駆動回路12の出力に基すいてロウデコー
ダRDの駆動入力として供給する昇圧回路である。
DWL is a dummy word line connected to the gate of the charge transfer transistor TM of the dummy cell DC, and 11 is a dummy word line drive circuit that selectively drives the dummy word line DWL. 12 is a row system drive circuit which manually generates a row address and a row address strobe signal RAS; 10 is a Vec electric field Fi. This booster circuit supplies a voltage obtained by boosting the 'rjX voltage to Vcc+Vtn or more as a drive input to the row decoder RD based on the output of the row system drive circuit 12.

また、ダミーセルプリチャージ回路13は、ダミーセル
DCの電荷転送トランジスタTMとキャパシタCdとの
接続点にダミーセルプリチャージ用のMOSトランジス
タDPを介してダミーセルプリチャージ電源Vdcが接
続され、このダミーセルプリチャージ用のMOS}ラン
ジスタDPのゲートにビット線プリチャージ・イコライ
ズ信号EQが与えられるように構威されている。ここで
、ダミーセルプリチャージ電源Vdcは電源電圧Vec
の1/2の電位に設定されているが、前記したようにダ
ミーセルDCのキャパシタCdの容量値は正規のメモリ
セルMCiのキャパシタCsの容量値と同等であるので
、ダミーセルプリチャージ用トランジスタDPがオンに
なると、ダミーセルDCのキャパシタCdをVec/2
の電位にプリチャージすることが可能になる。なお、ダ
ミーセルDCのキャパシタCdの容量値は正規のメモリ
セルMCiのキャパシタCsの容量値と同等であるので
、プロセス上有利である。
Further, in the dummy cell precharge circuit 13, a dummy cell precharge power supply Vdc is connected to a connection point between the charge transfer transistor TM and the capacitor Cd of the dummy cell DC via a dummy cell precharge MOS transistor DP, A bit line precharge/equalization signal EQ is applied to the gate of transistor DP (MOS). Here, the dummy cell precharge power supply Vdc is the power supply voltage Vec
However, as mentioned above, the capacitance value of the capacitor Cd of the dummy cell DC is equal to the capacitance value of the capacitor Cs of the regular memory cell MCi, so the dummy cell precharge transistor DP is When turned on, the capacitor Cd of the dummy cell DC becomes Vec/2.
It becomes possible to precharge to the potential of Note that the capacitance value of the capacitor Cd of the dummy cell DC is equal to the capacitance value of the capacitor Cs of the regular memory cell MCi, which is advantageous in terms of the process.

次に、上記DRAMの動作について第2図に示す波形を
参照して説明する。このDRAMの動作動作は第3図を
参照して前述したような従来のDRAMと基本的に同様
であるのでその詳述は省略するが、以下の点が異なる゛
Next, the operation of the DRAM will be explained with reference to the waveforms shown in FIG. The operation of this DRAM is basically the same as that of the conventional DRAM as described above with reference to FIG. 3, so a detailed description thereof will be omitted, but the following points are different.

即ち、上記DRAMにおいては、読出し・再書込み動作
または書込み動作の終了後にビット線プリチャージ・イ
コライズ信号EQが活性化すると、図示しないビット線
プリチャージ・イコライズ回路がビット線対(BL1、
BL2 )をVcc/2の電位にプリチャージすると共
に、ダミーセルプリチャージ回路13がダミーセルDC
のキャパシタCdをVcc/2の電位にプリチャージす
る。従って、次のサイクルの動作に際して、ロウデコー
ダRDから出力した昇圧されたワード線信号により、一
方のビット線BL,側の選択メモリセルのトランジスタ
TMが選択され、ダミーワード線駆動回路11から出力
した昇圧されないダミーワード線信号により、他方のビ
ット線BL2側の選択ダミーセルのトランジスタTMが
選択される。
That is, in the above DRAM, when the bit line precharge/equalize signal EQ is activated after the read/rewrite operation or the write operation, the bit line precharge/equalize circuit (not shown) activates the bit line pair (BL1,
At the same time, the dummy cell precharge circuit 13 precharges the dummy cell DC
The capacitor Cd of is precharged to a potential of Vcc/2. Therefore, in the operation of the next cycle, the boosted word line signal output from the row decoder RD selects the transistor TM of the selected memory cell on one bit line BL, and the boosted word line signal output from the dummy word line drive circuit 11 is selected. The transistor TM of the selected dummy cell on the other bit line BL2 side is selected by the dummy word line signal that is not boosted.

なお、ダミーセルDCのキャパシタCdがVcc/2の
電位にプリチャージされているので、メモリセルMCi
およびダミーセルDCからの読出しに際して、ダミーセ
ルDCのデータが読出された他方のビット線BL2の電
位は、メモリセルMCiのデータが読出された一方のビ
ット線BL,の電位に対する中間電位が得られる。
Note that since the capacitor Cd of the dummy cell DC is precharged to the potential of Vcc/2, the memory cell MCi
When data is read from the dummy cell DC, the potential of the other bit line BL2 from which the data of the dummy cell DC is read is an intermediate potential with respect to the potential of the one bit line BL from which the data of the memory cell MCi is read.

なお、上記実施例では、ダミーセルプリチャージ回路1
3によりダミーセルDCのキャパシタCdをVcc/2
の電位にプリチャージし、ビット線プリチャージ回路に
より一対のビット線(BL,  BL2)をV cc/
 2の電位にブリチャ一ジする例を示したが、これに限
らず、ダミーセルプリチャージ回路13によりダミーセ
ルDCのキャパシタCdをVcc/2の電位にプリチャ
ージするが、ビット線プリチャージ回路により一対のビ
ット線(BL,  BL2)を電源電圧Vecまたは接
地電位VSSにプリチャージするようにしてもよい。
Note that in the above embodiment, the dummy cell precharge circuit 1
3, the capacitor Cd of the dummy cell DC is set to Vcc/2.
The pair of bit lines (BL, BL2) are precharged to the potential of Vcc/ by the bit line precharge circuit.
Although the example in which the bit line precharge circuit 13 precharges the capacitor Cd of the dummy cell DC to the potential Vcc/2 is shown, the present invention is not limited to this. The bit lines (BL, BL2) may be precharged to the power supply voltage Vec or the ground potential VSS.

また、本発明は、センスアンプSAの動作時に一対のセ
ンスノード(SN,  SN2)からビット線対( B
 L 1B L 2 )の容量を完全に切り離してセン
スノード(SNI  SN2 )の負荷を軽減すること
により高速にセンス増幅するために、センスアンプSA
とビット線対(BLI  BL2)との間、または、セ
ンスアンプSAを構成するNチャネルセンスアンプとP
チャネルセンスアンプとの間に電荷転送トランジスタを
挿入したDRAMにも適用可能である。
Further, in the present invention, when the sense amplifier SA operates, the bit line pair (B
The sense amplifier SA
and the bit line pair (BLI BL2), or between the N channel sense amplifier and P that constitute the sense amplifier SA.
It is also applicable to a DRAM in which a charge transfer transistor is inserted between a channel sense amplifier.

[発明の効果] 上述したように本発明のDRAMによれば、ダミーワー
ド線を駆動することなくダミーセルのキャパシタに対し
てプリチャージするダミーセルプリチャージ回路を設け
たので、ダミーワード線を昇圧する必要がなくなり、ワ
ード線駆動系の竹圧回路の負担を軽減でき、昇圧電圧の
回路面積を抑制することができる。また、正規のワード
線を選択する時にダミーワード線の選択は昇圧回路を経
由しないで行うので、正規のワード線が選択されるより
早くダミーワード線が選択されるようになり、ダミーワ
ード線の選択により回路動作が時間的に律速されなくな
り、実質的に動作速度か高速になる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the DRAM of the present invention, the dummy cell precharge circuit that precharges the capacitor of the dummy cell without driving the dummy word line is provided, so there is no need to boost the voltage of the dummy word line. This eliminates the burden on the bamboo pressure circuit of the word line drive system, and reduces the circuit area of the boosted voltage. In addition, when selecting a regular word line, the dummy word line is selected without going through the booster circuit, so the dummy word line is selected earlier than the regular word line, and the dummy word line is selected faster than the regular word line. By selection, the circuit operation is no longer time-limited, and the operation speed is substantially increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係るDRAMの一部を示す
回路図、第2図は第1図のDRAMにおける昇圧された
ワード線信号および昇圧されないダミーワード線信号の
波形例を示す図、第3図は従来のDRAMの一部を示す
回路図である。 BL,,BL2・・・ビット線、MCi・・・メモリセ
ル、WLi・・・ワード線、DC・・・ダミーセル、D
WL・・・ダミーワード線、SA・・・ビット線センス
アンプ、RD・・・ロウデコーダ、1o・・・昇圧回路
、11・・・ダミーワード線駆動回路、12・・・ロウ
系駆動回路、13・・・ダミーセルプリチャージ回路。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a part of a DRAM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing waveform examples of a boosted word line signal and a non-boosted dummy word line signal in the DRAM of FIG. 1. , FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of a conventional DRAM. BL,,BL2...bit line, MCi...memory cell, WLi...word line, DC...dummy cell, D
WL... dummy word line, SA... bit line sense amplifier, RD... row decoder, 1o... booster circuit, 11... dummy word line drive circuit, 12... row system drive circuit, 13...Dummy cell precharge circuit.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ダイナミック型ランダムアクセスメモリにおいて
、 昇圧回路の昇圧電圧出力をワード線駆動回路には供給す
るがダミーワード線駆動回路には供給しないことによっ
て、正規のメモリセルの選択時にワード線駆動回路から
は昇圧されたワード線信号を出力させるがダミーセルの
選択時にダミーワード線駆動回路からは昇圧されないダ
ミーワード線信号を出力させ、 ダミーセルに対するプリチャージに際しては、ダミーワ
ード線を駆動することなくダミーセルプリチャージトラ
ンジスタを介してダミーセルのキャパシタにプリチャー
ジするダミーセルプリチャージ回路を具備することを特
徴とするダイナミック型ランダムアクセスメモリ。
(1) In a dynamic random access memory, by supplying the boosted voltage output from the booster circuit to the word line drive circuit but not to the dummy word line drive circuit, the output from the word line drive circuit is removed when a regular memory cell is selected. outputs a boosted word line signal, but when a dummy cell is selected, the dummy word line drive circuit outputs a dummy word line signal that is not boosted, and when precharging a dummy cell, the dummy cell precharge is performed without driving the dummy word line. A dynamic random access memory comprising a dummy cell precharge circuit that precharges a capacitor of a dummy cell via a transistor.
(2)前記ダミーセルのキャパシタの容量値は正規のメ
モリセルのキャパシタの容量値と同等であることを特徴
とする請求項1記載のダイナミック型ランダムアクセス
メモリ。
(2) The dynamic random access memory according to claim 1, wherein the capacitance value of the capacitor of the dummy cell is equal to the capacitance value of the capacitor of the regular memory cell.
(3)前記ダミーセルプリチャージ回路によりダミーセ
ルのキャパシタを電源電圧の1/2の電位にプリチャー
ジし、さらに、ビット線プリチャージ回路により前記正
規のメモリセルおよびダミーセルに接続されている相補
的な一対のビット線を電源電圧の1/2の電位にプリチ
ャージすることを特徴とする請求項1または2記載のダ
イナミック型ランダムアクセスメモリ。
(3) The dummy cell precharge circuit precharges the capacitor of the dummy cell to a potential of 1/2 of the power supply voltage, and the bit line precharge circuit further connects a complementary pair to the regular memory cell and the dummy cell. 3. The dynamic random access memory according to claim 1, wherein the bit line of the dynamic random access memory is precharged to a potential half of the power supply voltage.
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