JPH101659A

JPH101659A - 光ディスク用接着剤組成物、硬化物、物品及び接着方法

Info

Publication number: JPH101659A
Application number: JP17731196A
Authority: JP
Inventors: Kiyohisa Tokuda; 清久徳田; Kenji Yoshida; 謙司吉田; Kazuhiko Ishii; 一彦石井; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1996-06-18
Filing date: 1996-06-18
Publication date: 1998-01-06
Anticipated expiration: 2016-06-18
Also published as: JP3835857B2

Abstract

(57)【要約】【課題】接着性、記録膜の保護等に優れた物性を得るこ
とができる光ディスク用接着剤組成物及びその硬化物を
提供する。【解決手段】ポリエステルポリウレタン（メタ）アクリ
レート（Ａ）、（Ａ）成分以外の不飽和基含有化合物
（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴と
する光ディスク用接着剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用接着
剤組成物に関し、特に波長が２８０ｎｍ以上、３８０ｎ
ｍ以下のエネルギー線における最大全線透過率が４５％
以下である基材どうしを接着することができる紫外線に
よって硬化する光ディスク用接着材組成物およびその硬
化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、不透明な基材どうしの接着方法
は、熱による接着方法が採用されている。熱による接着
法には、エポキシ系、メラミン系、アルキッド系、ウレ
タン系及びアクリル系の樹脂と熱硬化剤によるものが多
く、ホットメルト系等も知られている。

【０００３】しかしながら、熱による接着方法では、基
材が熱により反る、あるいは変形するなどの問題があっ
たため基材の適用範囲に制限があった。また、ホットメ
ルト系では、熱安定性や耐候性が悪く高温の環境下で使
用することは困難であった。さらに、熱による接着方法
では数十分の硬化時間が必要なため生産性が劣るという
問題もあった。そのため不透明な基材における接着剤に
は、生産性において満足するものがいまだ提供されてい
ない状況にある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の熱による接
着法では、基材の反り、変形を生じ、生産性に問題があ
り、その解決が望まれている。特に、今後、更に高記録
密度化が要求される光ディスクの接着については接着
性、ディスクの反り、記録膜の保護及び変形に対してよ
り特性的に優れた接着剤を使用しなければならないとい
う課題が残っている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、不透明な基材で硬化
ができ、接着性、ディスクの反り、記録膜の腐食の防止
性及び変形等に優れた光ディスク用接着材組成物、硬化
物、物品及び接着方法を提供することに成功した。

【０００６】すなわち、本発明は、（１）ポリエステル
ジオール（ａ）と有機ポリイソシアネート（ｂ）は水酸
基含有（メタ）アクリレート（ｃ）の反応物であるポリ
エステルポリウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）、
（Ａ）成分以外の不飽和基含有化合物（Ｂ）及び光重合
開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする接着剤組成
物、特にディスク用接着剤組成物、（２）（１）の接着
剤組成物の硬化物、（３）（１）の接着剤組成物の硬化
物を接着層として有する物品、（４）物品がＤＶＤであ
る（３）の物品、（５）（１）の接着剤組成物を、２８
０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長におけるエネルギー線の最大
全線透過率が４５％以下である基材に塗布した後、他の
基材をこの塗布面に密着させ、次いで紫外線を照射する
ことを特徴とする基材の接着方法に関する。

【０００７】本発明では、ポリエステルジオール（ａ）
と有機ポリイソシアネート（ｂ）と水酸基含有（メタ）
アクリレート（ｃ）の反応物であるポリエステルポリウ
レタン（メタ）アクリレート（Ａ）を使用する。ポリエ
ステルポリウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）は、例
えば、ポリエステルジオール（ａ）と有機ポリイソシア
ネート（ｂ）を反応させ、次いで、水酸基含有（メタ）
アクリレート（ｃ）を反応させることにより得ることが
できる。ポリエステルジオール（ａ）の具体例として
は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオー
ル、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−
ノナンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレン
グリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ジメ
チロールベンゼン、１，４−ジメチロールシクロヘキサ
ン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール等のジオー
ル類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、ダイマー酸
等の二塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物、前
記、ジオール類とε−カプロラクトン付加物、前記、ジ
オール類と前記、二塩基酸又はこれらの酸無水物とε−
カプロラクトンとの反応物等を挙げることができる。有
機ポリイソシアネート（ｂ）の具体例としては、例え
ば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタ
ン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニル
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ
ート、２，２′，４−トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネート等をを挙げることができる。

【０００８】水酸基含有（メタ）アクリレート（ｃ）の
具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
とε−カプロラクトンの反応物、２−ヒドロキシ−３−
フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリト−ルトリ（メタ）アクリレート、グリセリン
ジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ポリ
エステルジオール（ａ）と有機ポリイソシアネート
（ｂ）との反応は、ポリエステルジオール（ａ）の水酸
基１当量に対して、有機ポリイソシアネート（ｂ）のイ
ソシアネート基１．１〜２．５当量を反応させるのが好
ましく、特に好ましくは１．３〜２．０当量である。反
応温度は、７０〜１００℃が好ましく、反応時間は、５
〜２０時間が好ましい。次にポリエステルジオール
（ａ）と有機ポリイソシアネート（ｂ）との反応物
（Ｉ）と水酸基含有（メタ）アクリレート（ｃ）を反応
させる。前記、反応物（Ｉ）のイソシアネート基１当量
に対して、水酸基含有（メタ）アクリレート（ｃ）の水
酸基０．９５〜１．５当量を反応させるのが好ましく、
特に好ましくは１．０〜１．１当量である。反応温度
は、６０〜１００℃が好ましく、反応時間は、５〜２０
時間である。反応中、重合を防止するために重合禁止剤
（例えば、ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキ
ノン等）や、反応を促進するための反応触媒（例えば、
ジ−ｎ−ブチルスズ等）を使用することもできる。

【０００９】本発明で使用するポリエステルポリウレタ
ン（メタ）アクリレート（Ａ）の使用量は、本発明の接
着剤組成物中、５〜４０重量％が好ましく、特に好まし
くは１０〜３０重量％である。

【００１０】本発明では、（Ａ）成分以外の不飽和基含
有化合物（Ｂ）を使用する。（Ｂ）成分の具体例として
は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチルオキシエ
チル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メ
タ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、
２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メ
タ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、トリシクロデガンジメチールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチ
ル〕イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス
〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート等の
（メタ）アクリレートモノマー類、２−ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエ
ーテル、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールジビニ
ルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル
等のビニルエーテル化合物類、エポキシ（メタ）アクリ
レート｛例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例
えば、油化シエルエポキシ（株）製、エピコート８２
８、エピコート１００１、エピコート１００４等）、ビ
スフェノールＦ型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と（メ
タ（アクリル酸とを反応することによって得られる｝等
のオリゴマー類等を挙げることができる。

【００１１】本発明で使用する（Ｂ）成分の使用量は、
本発明の接着剤組成物中、５９〜９４重量％が好まし
く、特に好ましくは、６９〜８９重量％である。

【００１２】本発明で使用する光重合開始剤（Ｃ）の具
体例としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレー
ト、ベンジルジメチルケタール、ミヒラーズケトン、２
−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリ
ノフェニル）ーブタノン−１、２−クロロチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピ
ルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメ
トキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチル
ホスフィンオキサイド等を挙げることができる。より好
ましい開始剤としては、３６０〜４５０ｎｍの波長にお
ける最大モル吸光係数が１０００以上の化合物、例え
ば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１，２−クロロチオキ
サントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ビス（２，６−ジメトキシベ
ンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィ
ンオキサイド等を挙げることができる。

【００１３】本発明ではアミン類等の光重合開始剤を併
用することもできる。アミン類等の光重合開始助剤とし
ては例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、Ｐ−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル
等を挙げられる。光重合開始剤の使用量は、通常、組成
物中に好ましくは０〜１５重量％、さらに好ましくは０
〜１０重量％程度である。

【００１４】本発明で使用する（Ｃ）成分の使用量は、
本発明の接着剤組成物中、０．５〜２０重量％が好まし
く、特に好ましくは１〜１５重量％である。

【００１５】本発明の接着組成物は、（Ａ）〜（Ｃ）の
各成分を混合、加熱、溶解、分散等を行なうことにより
調製することができる。本発明の接着剤組成物の硬化物
は、屈折率（２５℃）が約１．５０〜１．５８が好まし
い。本発明の接着剤組成物は、必要に応じ、高分子ポリ
マーとして例えば、ポリエステルエラストマー、ポリア
クリル系、ポリウレタン系、ポリカーボネート系樹脂等
を使用することもでき、さらに必要に応じ、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、表面潤滑剤、
消泡剤、光安定剤、酸化防止剤、可ソ剤、帯電防止剤、
充填剤等の添加剤も併用することができる。

【００１６】本発明の組成物の硬化物は常法により紫外
線、可視光レーザー等の光線を照射することにより得る
ことができる。本発明の接着剤組成物の紫外線等のエネ
ルギー線照射による硬化は、具体的には低圧または高圧
水銀灯、メタルハライドランプ，キセノン灯等を用いて
紫外線を照射して行う。特に、光源としては３５０〜４
５０ｎｍにエネルギー強度が強いランプが好ましい。

【００１７】本発明の組成物は、特に波長が２８０ｎｍ
以上、３８０ｎｍ以下における最大全線透過率が約４５
％以下である不透明基材どうしの接着剤として有用であ
る。一方が透明基材で他方が不透明基材である場合も適
用可能であることはもちろんである。特に適当な基材と
しては光ディスク用の基板が挙げられる。本発明の接着
剤組成物は、不透明基板上に、ロールコーター、スピン
コーター、スクリーン印刷法等の塗工装置を用いて乾燥
塗布膜厚が１〜５０μｍとなるように塗布し、紫外線を
不透明基材の上から、または透明基材の上から照射して
硬化することにより基材どうしを接着させることができ
る。尚、これらの方法において、本組成物の硬化は紫外
線の代わりに可視光レーザーによることもできる。

【００１８】上記不透明基材としては、光ディスク基板
（例えば、ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオ
レフィン系樹脂等）であって、これに無機スパッタ膜、
特に金属スパッタ膜を形成した基材、さらに、その無機
スパッタ膜、特に金属スパッタ膜上に紫外線硬化型保護
膜が形成された基材等が挙げられる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、実施例中の部は重量部である。実施例１〜３および比較例１、２表１の配合組成に従って接着剤組成物を調製し得られた
各組成物を用いて光ディスク基材（アルミ蒸着されたポ
リカーボネート基板で２８０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下
における最大全線透過率が０．０５％のもの）に塗布
し、次いで金のスパッタ膜の作製された光ディスク基板
（金スパッタされたポリカーボネート基板で２８０ｎｍ
以上、３８０ｎｍ以下における最大全線透過率が４０％
のもの）を金のスパッタ膜側を塗布面に膜厚が約１０μ
ｍになるように接着し、金のスパッタ膜の光ディスク基
板側から紫外線を照射し硬化させ試験片を得た。その
後、接着した基材を剥離し、その表面の状態を観察し
た。観察した結果を硬化性とし、表１に ○・・・・タックが認められない △・・・・少しタックが認められる ×・・・・全く硬化していない

【００２０】前記で得た試験片を用いてピール試験を行
ないピール値（ｇ／ｃｍ）を測定し、結果を表１に示し
た。

【００２１】

【表１】表１実施例比較例１２３１２アロニックスＭ−１２００＊１３０２０ＫＡＹＡＲＡＤＵＸ−４１０１＊２２０ＫＡＹＡＲＡＤＵＶ−６１０１＊３３０２０ＫＡＹＡＲＡＤＲ−１１４＊４４０４０４０アロニックスＭ−３１５＊５２０２０ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１０１＊６２０２０２０２０ＫＡＹＡＲＡＤＲ−５６１＊７２０２０２０アクリロイルモルホリン２０２０ＦＡ−５１３Ａ＊８５２０２０２０５イルガキュアー１８００＊９２２２２２イルガキュアー１８４＊１０５５５５５硬化性 ○ ○ ○ ○ ○ ピール値（ｇ／ｃｍ）１０１１１１１３

【００２２】注）＊１アロニックスＭ−１２
００：東亜合成化学（株）製、ポリエステルポリウレタ
ンアクリレート＊２ＫＡＹＡＲＡＤＵＸ−４１０１：日本化薬
（株）製、ポリカプロラクトンポリウレタンアクリレー
ト＊３ＫＡＹＡＲＡＤＵＸ−６１０１：日本化薬
（株）製、ポリエーテルポリウレタンアクリレート＊４ＫＡＹＡＲＡＤＲ−１１４：日本化薬
（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート＊５アロニックスＭ−３１５：東亜合成化学
（株）製、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレ
ート＊６ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１０１：日本化薬
（株）製、テトラヒドロフルスリルアクリレート＊７ＫＡＹＡＲＡＤＲ−５６１：日本化薬
（株）製、フェノキシエチルアクリレート＊８ＦＡ−５１３Ａ：日立化成（株）製、トリシ
クロデカンモノアクリレート＊９イルガキュアー１８００：チバ・ガイギー社
製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビ
ス（２，６−ジメトキシベンゾイル）２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキサイド混合物、光重合開
始剤＊１０イルガキュアー１８４：チバ・ガイギー社
製、１−ヒドロキシクロヘキシルフェニルケトン、光重
合開始剤

【００２３】表１から明らかなように、実施例１〜３の
組成物は、比較例１、２の組成物に比し接着性に優れて
いる。

【００２４】本発明の光ディスク用接着剤組成物は、接
着性、記録膜の保護等に優れた物性の硬化物を与える。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリエステルジオール（ａ）と有機ポリイ
ソシアネート（ｂ）と水酸基含有（メタ）アクリレート
（ｃ）の反応物であるポリエステルポリウレタン（メ
タ）アクリレート（Ａ）、（Ａ）成分以外の不飽和基含
有化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有すること
を特徴とする接着剤組成物。
【請求項２】上記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含有する
光ディスク用接着剤組成物
【請求項３】請求項１，２に記載の接着剤組成物の硬化
物。
【請求項４】請求項１，２記載の接着剤組成物の硬化物
を接着層として有する物品。
【請求項５】物品がＤＶＤ（デジタルビデオディスク）
である請求項４の物品。
【請求項６】請求項１，２記載の接着剤組成物を、２８
０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長におけるエネルギー線の最大
全線透過率が４５％以下である基材に塗布した後、他の
基材をこの塗布面に密着させ、次いで紫外線を照射する
ことを特徴とする基材の接着方法。