JPH11199382A - Silicon dissolution method - Google Patents
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- JPH11199382A JPH11199382A JP10003817A JP381798A JPH11199382A JP H11199382 A JPH11199382 A JP H11199382A JP 10003817 A JP10003817 A JP 10003817A JP 381798 A JP381798 A JP 381798A JP H11199382 A JPH11199382 A JP H11199382A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンの溶解方
法に係わり、とりわけ、電子ビームを加熱手段に用い、
太陽電池用シリコンの微粉原料を溶解する技術に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for melting silicon, and more particularly, to a method for using an electron beam as a heating means.
The present invention relates to a technique for dissolving fine powder raw materials for silicon for solar cells.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、エネルギー源の多様化要求から太
陽光発電が脚光を浴び、低価格発電の実用化に向けての
研究開発が盛んに行われている。このような状況の中
で、太陽電池用原料としてのシリコンは、最も汎用され
やすい材料であり、しかも、動力用電力供給に使われる
材料として、多結晶系シリコンが最も重要視されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, photovoltaic power generation has been in the spotlight due to demands for diversification of energy sources, and research and development for practical use of low-cost power generation have been actively conducted. Under such circumstances, silicon as a raw material for solar cells is the most commonly used material, and polycrystalline silicon is regarded as the most important material used for power supply for power.
【0003】太陽電池用原料として用いられるシリコン
としては、純度が99.9999%(6N)以上の高純
度が必要とされ、シリコン中に含有される不純物元素の
濃度は、ppmオーダー以下まで低減する必要がある。
従来、市販の金属シリコン(純度99.5%)から上記
した程度の高純度シリコンを製造する方法として、F
e、Ti、Al等の金属不純物元素は、固液分配係数の
小さいことを利用した一方向凝固精製により除去し、S
iCで含まれるCは、凝固の際に表面に析出させ、また
シリコンに固溶しているCは、COガスとして除去し、
また、Bは、H2O、CO2 あるいはO2 を添加したA
rプラズマ溶解により酸化除去する技術が提案されてい
る。さらに、Pは、蒸気圧の高いことを利用し、減圧下
で溶解して除去する方法が提案されている。従来、この
Pの減圧除去には、長時間を要するという問題があった
が、最近、電子ビーム溶解によりシリコン中のPが短時
間で除去可能なことが報告されており(ISIJ In
ternational,vol.32(1992).
No.5 p635−642)、脱P工程の短時間化が
期待されている。さらに、この電子ビーム溶解の利点と
して、P以外にも、Al、Caが同時に除去されること
が挙げられている。[0003] Silicon used as a raw material for solar cells must have a high purity of 99.9999% (6N) or more, and the concentration of impurity elements contained in silicon is reduced to the order of ppm or less. There is a need.
Conventionally, as a method for producing high-purity silicon of the above-mentioned degree from commercially available metallic silicon (purity 99.5%), F
e, Ti, Al and other metal impurity elements are removed by unidirectional solidification purification utilizing the small solid-liquid partition coefficient, and S
C contained in iC precipitates on the surface during solidification, and C dissolved in silicon is removed as CO gas,
Also, B is A to which H 2 O, CO 2 or O 2 is added.
A technique of oxidizing and removing by r-plasma dissolution has been proposed. Furthermore, a method has been proposed in which P is dissolved and removed under reduced pressure, utilizing the fact that P has a high vapor pressure. Conventionally, there has been a problem that it takes a long time to remove P under reduced pressure. Recently, however, it has been reported that P in silicon can be removed in a short time by electron beam melting (ISIJ In).
international, vol. 32 (1992).
No. 5 p635-642), which is expected to shorten the de-P step. Further, as an advantage of this electron beam melting, it is mentioned that, in addition to P, Al and Ca are simultaneously removed.
【0004】ところで、電子ビームを用いてシリコン粉
末を溶解する場合、該粉末の表面に付着している低温で
揮発する物質(例えば、水、有機物等)が、加熱開始時
に一気に蒸発する現象が起きる。その蒸発に原料のシリ
コン粉末の一部も巻き込まれ、容器から飛散してしま
い、シリコンの溶解歩留を著しく低下させる。また、蒸
発物の影響で、容器を囲む減圧室内の雰囲気圧力が上昇
し、電子ビームの発生が停止してしまうという問題もあ
った。そのため、電子ビーム溶解を行うシリコン粉末と
しては、飛散し難い粒径10〜25mm程度のものが好
ましいとされ、粒径1mm以下のものは溶解原料からカ
ットするようにしていた。これでは、シリコン製造の原
料コストが高くなり、微粉シリカの利用技術の開発も望
まれていた。[0004] When dissolving silicon powder using an electron beam, a phenomenon occurs in which substances (eg, water, organic substances, etc.) adhering to the surface of the powder at a low temperature evaporate at once at the start of heating. . A part of the raw material silicon powder is also involved in the evaporation and scatters from the container, which significantly lowers the dissolution yield of silicon. Further, there is also a problem that the atmospheric pressure in the decompression chamber surrounding the container increases due to the influence of the evaporant, and the generation of the electron beam stops. Therefore, it is considered that the silicon powder to be subjected to the electron beam melting preferably has a particle diameter of about 10 to 25 mm, which is difficult to be scattered, and a powder having a particle diameter of 1 mm or less is cut from the melting raw material. In this case, the raw material cost of silicon production becomes high, and the development of a utilization technology of finely divided silica has been desired.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
に鑑み、微粉シリコンを電子ビームで効率良く溶解する
シリコンの溶解方法を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for dissolving silicon in which fine silicon powder is efficiently dissolved by an electron beam.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的を達
成するため、電子ビーム溶解前にシリコン粉末を事前処
理することに着眼し、その具体化に鋭意努力した。そし
て、その成果を本発明として完成させた。すなわち、本
発明は、減圧室内に配置した容器に、1mm以下のシリ
コン粉末を装入し、電子ビームの照射で溶解するに際し
て、前記1mm以下のシリコン粉末を5mm以上に成形
した後、該成形物を前記減圧室内に設けたホッパ内に貯
蔵、乾燥させてから前記容器に装入することを特徴とす
るシリコンの溶解方法である。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the inventor focused on pretreatment of silicon powder before electron beam melting, and worked diligently to realize it. And the result was completed as the present invention. That is, according to the present invention, a silicon powder of 1 mm or less is charged into a container placed in a decompression chamber, and when the silicon powder is melted by irradiation with an electron beam, the silicon powder of 1 mm or less is molded into 5 mm or more, and then the molded product is molded. Is stored in a hopper provided in the decompression chamber, dried, and then charged into the container.
【0007】また、本発明は、前記シリコン粉末の成形
を、回転造粒1とすることを特徴とするすることを特徴
とするシリコンの溶解方法である。さらに、本発明は、
前記乾燥の加熱源に電熱ヒータを用いることを特徴とす
るシリコンの溶解方法でもある。本発明によれば、電子
ビームを用いてシリコン粉末を連続溶解しても、事前に
シリコン粉末は、5mm以上に成形されて飛散し難くな
っていると共に、加熱により水分等の易揮発性物質は除
去されるようにしたので、電子ビームの照射開始時の該
物質の蒸発やダストの飛散が低減するようになる。その
結果、シリコンの溶解歩留が向上するばかりでなく、現
在廃棄されている半導体製造工程で発生するシリコン粉
末、切削スクラップ等、安価なシリコン粉末の溶解が可
能になる。The present invention also provides a method for dissolving silicon, characterized in that the silicon powder is formed by rotary granulation 1. Further, the present invention provides
The present invention also provides a method for dissolving silicon, wherein an electric heater is used as a heating source for the drying. According to the present invention, even if the silicon powder is continuously melted using an electron beam, the silicon powder is formed in advance to have a size of 5 mm or more, so that it is difficult to be scattered. Since the material is removed, evaporation of the substance and scattering of dust at the start of electron beam irradiation are reduced. As a result, not only is the dissolution yield of silicon improved, but also inexpensive silicon powder such as silicon powder and cutting scrap generated in the currently discarded semiconductor manufacturing process can be dissolved.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。まず、溶解原料のシリコン粉末
の粒径拡大であるが、それは、粉状体の処理として公知
の手段を用いる。すなわち、回転するドラムあるいはタ
ライ状容器(いずれも図示せず)に、粒径1mm以下の
前記粉体を入れ、若干の水分を添加しながら粒子同士を
凝集させる所謂回転造粒、あるいは適当な容器(図示せ
ず)に粉体を充填し、上部より加圧して塊状化(ブリケ
ット)し、その後所望の大きさに破砕する所謂加圧成形
等の種々の粒径拡大技術が利用できる。本発明では、こ
れら技術のうちで、回転造粒の利用が好ましい。短時間
で多量の造粒が可能だからである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, there is an increase in the particle size of the silicon powder as a raw material for melting, which is performed by a known means for treating a powdery material. That is, a so-called rotary granulation in which the powder having a particle size of 1 mm or less is put into a rotating drum or a tara-like container (both not shown) and the particles are aggregated while adding a small amount of water, or an appropriate container. (Not shown), various particle size enlargement techniques, such as so-called pressure molding, in which powder is filled, pressurized from the upper portion to form a briquette, and then crushed to a desired size, can be used. In the present invention, among these techniques, the use of rotary granulation is preferred. This is because a large amount of granulation can be performed in a short time.
【0009】なお、本発明で、粒径を5mm以上とした
のは、5mm以上であれば電子ビームの照射でシリコン
粒子が飛散することはないからである。また、あえて上
限を定めなかったのは、大きくとも時間をかければ溶解
できるからである。しかし、実用上は、30mm程度を
上限とするのが好ましい。次に、乾燥であるが、それに
は、図1に示すように、シリコン粉末の溶解装置の一部
を利用する。In the present invention, the particle diameter is set to 5 mm or more because silicon particles are not scattered by electron beam irradiation if it is 5 mm or more. In addition, the reason why the upper limit is not set is that the dissolution can take place at most if it takes time. However, in practice, the upper limit is preferably about 30 mm. Next, as for drying, as shown in FIG. 1, a part of a dissolving device for silicon powder is used.
【0010】つまり、減圧室8の内部に、溶解したシリ
コン5を保持する容器1と加熱源の電子銃3を備えた装
置である。この減圧室8内に、前記造粒によって粒径の
拡大した溶解原料であるシリコン5の貯蔵兼乾燥用のホ
ッパ9を新設する。そして、該ホッパ9を介して、前記
容器1内にシリコン5を供給すると共に、上方に設けた
電子銃3からの電子ビーム4で加熱して溶解するのであ
る。That is, the apparatus is provided with a container 1 for holding dissolved silicon 5 and an electron gun 3 as a heating source inside a decompression chamber 8. In the decompression chamber 8, a hopper 9 for storing and drying the silicon 5, which is a molten raw material whose particle diameter has been expanded by the granulation, is newly provided. Then, the silicon 5 is supplied into the container 1 via the hopper 9, and is melted by heating with the electron beam 4 from the electron gun 3 provided above.
【0011】通常の金属級シリコン原料の場合、乾燥に
要する温度としては、ホッパ9内のシリコン5の温度で
100〜200℃あれば十分である。乾燥によって蒸発
させる物質が主として水だからである。なお、切削粉等
では油類も含むが、この場合、使用している油類の蒸発
温度により、乾燥温度を選定する必要がある。造粒時に
バインダを使用した場合も水と同様である。また、シリ
コン5のホッパ9内での滞留時間は、1時間以上と比較
的長いことに加え、炉体に付属する真空ポンプを有効に
利用し、減圧下で乾燥できるので、該ホッパ9に取り付
ける加熱源としては、大がかりなものは不要である。例
えば、電熱ヒータ10等の利用で良い。In the case of ordinary metal-grade silicon raw material, it is sufficient that the temperature required for drying is 100 to 200 ° C., which is the temperature of silicon 5 in hopper 9. The substance evaporated by drying is mainly water. It should be noted that cutting powders and the like include oils, but in this case, it is necessary to select a drying temperature according to the evaporation temperature of the oils used. The same applies to the case where a binder is used during granulation. In addition to the relatively long residence time of the silicon 5 in the hopper 9, which is one hour or more, the silicon 5 can be dried under reduced pressure by effectively using a vacuum pump attached to the furnace body. No large heating source is required. For example, the electric heater 10 or the like may be used.
【0012】[0012]
【実施例】〔従来例〕使用した装置を図2示す。それ
は、減圧室8内に容器1として黒鉛坩堝1を1個設置
し、最大出力150kW級の電子銃3を該黒鉛坩堝1の
上方に2台備えたものである。また、黒鉛坩堝1内で精
製されたシリコン5は、水冷銅鋳型6(受器)中で、凝
固精製するようになっている。ここで、黒鉛坩堝1の形
状は、溶湯表面で150×480mm、深さ60mmで
ある。FIG. 2 shows an apparatus used in the prior art. It is provided with one graphite crucible 1 as a container 1 in a decompression chamber 8 and two electron guns 3 with a maximum output of 150 kW above the graphite crucible 1. The silicon 5 refined in the graphite crucible 1 is solidified and refined in a water-cooled copper mold 6 (receiver). Here, the shape of the graphite crucible 1 is 150 × 480 mm and the depth is 60 mm on the surface of the molten metal.
【0013】まず、金属シリコン5(純度99.5%、
直径1mm以下の粉末状)を黒鉛坩堝1に5kg装入
し、電子銃3からの電子ビーム4で溶湯表面上を走査さ
せながら該金属シリコン5を30分間で溶解した。その
後、原料供給装置11から同じ金属シリコン5を所定速
度5kg/hrで、該黒鉛坩堝1内のシリコンインゴッ
トが約20kgとなるまで流入させた。なお、この場
合、減圧室8の真空度は、4×10-4Torrとし、黒
鉛坩堝1内の溶融シリコン5を照射した電子ビーム4の
密度は、0.12kW/cm2 とした。First, metal silicon 5 (purity 99.5%,
5 kg of a powder having a diameter of 1 mm or less was charged into the graphite crucible 1 and the metal silicon 5 was melted for 30 minutes while scanning the surface of the molten metal with the electron beam 4 from the electron gun 3. Thereafter, the same metallic silicon 5 was flowed from the raw material supply device 11 at a predetermined speed of 5 kg / hr until the silicon ingot in the graphite crucible 1 reached about 20 kg. In this case, the degree of vacuum in the decompression chamber 8 was 4 × 10 −4 Torr, and the density of the electron beam 4 irradiating the molten silicon 5 in the graphite crucible 1 was 0.12 kW / cm 2 .
【0014】その結果、合計約8hrで溶解が終了し
た。しかし、減圧室8の天井や黒鉛坩堝1の周辺には、
飛散したシリコンが多量に付着していた。黒鉛坩堝1へ
供給した金属シリコン5の粉末の全量約40kgに対し
て、該黒鉛坩堝1からオーバーフローさせ、前記鋳型6
に注入した溶融シリコンの量は、約20kgであった。
これは、シリコン5の溶解歩留として50%に相当し、
かなりの量が飛散したことになる。As a result, the dissolution was completed in about 8 hours in total. However, on the ceiling of the decompression chamber 8 and around the graphite crucible 1,
A large amount of scattered silicon was attached. About 40 kg of the total amount of the metal silicon 5 powder supplied to the graphite crucible 1 was overflowed from the graphite crucible 1,
Was about 20 kg.
This is equivalent to 50% as the dissolution yield of silicon 5,
A considerable amount has been scattered.
【0015】〔発明例〕本発明に係るホッパを備えた溶
解装置(図1参照)を用い、金属シリコン5(純度9
9.5%、直径1mm以下の粉末状)を溶解した。ただ
し、この場合は、該金属シリコン5を予めほぼ5重量%
の水分を加えて回転造粒し、その粒径を5mm〜25m
mに拡大してある。ここで、減圧室8の真空度、黒鉛坩
堝1の形状、電子ビーム4の密度及び電子銃3の最大出
力は、前記従来例と同じである。また、この粒径を調整
した金属シリコン5は、前記ホッパ9に蓄えられ、加熱
手段に電熱ヒータ10を用いて乾燥してある。[Inventive Example] Using a melting apparatus (see FIG. 1) equipped with a hopper according to the present invention, metal silicon 5 (purity 9) was used.
9.5%, powder having a diameter of 1 mm or less). However, in this case, approximately 5% by weight of the metal silicon 5
Of water and rotary granulation, the particle size of which is 5 mm to 25 m.
m. Here, the degree of vacuum in the decompression chamber 8, the shape of the graphite crucible 1, the density of the electron beam 4, and the maximum output of the electron gun 3 are the same as those in the conventional example. The metal silicon 5 having the adjusted particle size is stored in the hopper 9 and dried using an electric heater 10 as a heating unit.
【0016】まず、前記乾燥済みの金属シリコン5を黒
鉛坩堝1に5kg装入し、電子銃3からの電子ビーム4
で溶湯表面上を走査させながら該金属シリコン5を30
分間で溶解した。その後、該ホッパ9からシュートを介
して同じ乾燥済みの金属シリコン5を所定速度5kg/
hrで、該黒鉛坩堝内のシリコンインゴットが約20k
gとなるまで流入させた。First, 5 kg of the dried metal silicon 5 is charged into the graphite crucible 1 and the electron beam 4 from the electron gun 3 is charged.
While scanning the surface of the molten metal with
Dissolved in minutes. Thereafter, the same dried metal silicon 5 is supplied from the hopper 9 via a chute at a predetermined speed of 5 kg / kg.
hr, the silicon ingot in the graphite crucible is about 20k
g.
【0017】その結果、合計約4.5hrで溶解が終了
した。しかし、この場合は、従来例と異なり、減圧室8
の天井や黒鉛坩堝1の周辺に付着した飛散物は、非常に
少なかった。黒鉛坩堝1へ供給した金属シリコン5の粉
末の全量約22.5kgに対して、該黒鉛坩堝1からオ
ーバーフローさせ、前記鋳型6に注入した溶融シリコン
の量は、約20kgであった。これは、シリコン5の溶
解歩留として89%に相当し、従来例に比べると、かな
り改善されていることになる。As a result, the dissolution was completed in about 4.5 hours in total. However, in this case, unlike the conventional example, the decompression chamber 8
Scattered matter attached to the ceiling and the periphery of the graphite crucible 1 was very small. The amount of the molten silicon that overflowed from the graphite crucible 1 and was injected into the mold 6 was about 20 kg with respect to the total amount of the metal silicon 5 powder supplied to the graphite crucible 1 of about 22.5 kg. This is equivalent to 89% as the dissolution yield of silicon 5, which is considerably improved as compared with the conventional example.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、従来
生じていた電子ビーム溶解当初の易揮発性物質の蒸発、
あるいは原料シリコンの飛散が抑制されるようになっ
た。その結果、シリコンの溶解歩留が向上するばかりで
なく、現在廃棄されている半導体製造工程で発生するシ
リコン粉末、切削スクラップ等、安価なシリコン粉末の
溶解が可能になった。As described above, according to the present invention, the evaporation of easily volatile substances at the beginning of the electron beam melting, which has conventionally occurred,
Alternatively, the scattering of the raw material silicon has been suppressed. As a result, not only is the dissolution yield of silicon improved, but also inexpensive silicon powder, such as silicon powder and cutting scrap generated in the semiconductor manufacturing process that is currently discarded, can be melted.
【図1】本発明に係るシリコンの溶解方法を実施した装
置を示す図である。FIG. 1 is a view showing an apparatus in which a silicon melting method according to the present invention is performed.
【図2】従来のシリコンの溶解装置を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a conventional silicon melting apparatus.
【符号の説明】 1 容器(黒鉛坩堝) 2 オーバーフロー口 3 電子銃 4 電子ビーム 5 シリコン(金属シリコン、溶融シリコン) 6 水冷銅鋳型(受器) 7 蒸着物 8 減圧室 9 ホッパ 10電熱ヒータ 11原料供給装置[Description of Signs] 1 Container (graphite crucible) 2 Overflow port 3 Electron gun 4 Electron beam 5 Silicon (metallic silicon, molten silicon) 6 Water-cooled copper mold (receiver) 7 Deposit 8 Decompression chamber 9 Hopper 10 Electric heater 11 Raw material Supply device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 馬場 裕幸 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 中村 尚道 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 湯下 憲吉 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 加藤 嘉英 千葉県千葉市中央区川崎町1番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Hiroyuki Baba 1 Kawasaki-cho, Chuo-ku, Chiba City, Chiba Prefecture Inside the Technical Research Institute of Kawasaki Steel Co., Ltd. (72) Inventor Naomichi Nakamura 1 Kawasaki-cho, Chuo-ku, Chiba City, Chiba Prefecture Inside the Technical Research Institute of Iron and Steel Corporation (72) Inventor Kenkichi Yushita 1 at Kawasaki-cho, Chuo-ku, Chiba City, Chiba Prefecture Inside the Technical Research Center at Kawasaki Steel Corporation (72) Yoshihide Kato 1, Kawasaki-cho, Chuo-ku, Chiba City, Chiba Prefecture Kawasaki Steel Corp.
Claims (3)
のシリコン粉末を装入し、電子ビームの照射で溶解する
に際して、 前記1mm以下のシリコン粉末を5mm以上に成形した
後、該成形物を前記減圧室内に設けたホッパ内に貯蔵、
乾燥させてから前記容器に装入することを特徴とするシ
リコンの溶解方法。1. A silicon powder of 1 mm or less is charged into a container placed in a decompression chamber, and when the silicon powder is melted by irradiation with an electron beam, the silicon powder of 1 mm or less is formed into a size of 5 mm or more. Stored in a hopper provided in the decompression chamber,
A method for dissolving silicon, comprising drying and then charging the container.
することを特徴とするすることを特徴とする請求項1記
載のシリコン粉末の溶解方法。2. The method for dissolving silicon powder according to claim 1, wherein the molding of the silicon powder is performed by rotary granulation.
ことを特徴とする請求項1又は2記載のシリコンの溶解
方法。3. The method for dissolving silicon according to claim 1, wherein an electric heater is used as a heating source for the drying.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003817A JPH11199382A (en) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | Silicon dissolution method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003817A JPH11199382A (en) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | Silicon dissolution method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199382A true JPH11199382A (en) | 1999-07-27 |
Family
ID=11567750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10003817A Withdrawn JPH11199382A (en) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | Silicon dissolution method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199382A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7175685B1 (en) | 2002-04-15 | 2007-02-13 | Gt Solar Incorporated | Dry conversion of high purity ultrafine silicon powder to densified pellet form for silicon melting applications |
| US9067792B1 (en) | 2006-11-03 | 2015-06-30 | Semlux Technologies, Inc. | Laser conversion of high purity silicon powder to densified granular forms |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP10003817A patent/JPH11199382A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7175685B1 (en) | 2002-04-15 | 2007-02-13 | Gt Solar Incorporated | Dry conversion of high purity ultrafine silicon powder to densified pellet form for silicon melting applications |
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|---|---|---|---|
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