JPH11290801A - Cleaning tank - Google Patents
Cleaning tankInfo
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- JPH11290801A JPH11290801A JP9900398A JP9900398A JPH11290801A JP H11290801 A JPH11290801 A JP H11290801A JP 9900398 A JP9900398 A JP 9900398A JP 9900398 A JP9900398 A JP 9900398A JP H11290801 A JPH11290801 A JP H11290801A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、槽本体内で洗浄液
を噴射し、槽本体内に収容したウェーハや基板等の被洗
浄物を洗浄する乱流式の洗浄槽に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a turbulent cleaning tank for spraying a cleaning liquid in a tank main body to clean an object to be cleaned such as a wafer or a substrate housed in the tank main body.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5及び図6は、従来の乱流式の洗浄槽
の一例を示す正面の断面図であり、それぞれ薬液循環型
及び水洗型を示す。洗浄槽10、10Aにおいて、槽本
体11の内部下方の両側には、洗浄液1を吐出するため
の吐出パイプ12が設けられており、この吐出パイプ1
2には、管路13によってポンプ14及びフィルタ15
(図5)又はDIW17(図6)が連結されている。2. Description of the Related Art FIGS. 5 and 6 are front sectional views showing one example of a conventional turbulent washing tank, which shows a chemical circulation type and a water washing type, respectively. In the cleaning tanks 10 and 10A, a discharge pipe 12 for discharging the cleaning liquid 1 is provided on both lower sides inside the tank main body 11, and this discharge pipe 1
2 includes a pump 13 and a filter 15 through a pipe 13.
(FIG. 5) or DIW 17 (FIG. 6).
【0003】槽本体11内に被洗浄物2を収容するとと
もに、ポンプ14又はDIW17で洗浄液1(薬液又は
水)を吐出パイプ12から噴射して被洗浄物2を洗浄す
る。被洗浄物2は、シリコンウェーハや液晶ディスプレ
イのガラス基板等であり、槽本体11の内部底面に設置
された受け台(図示せず)により支持されている。な
お、図5の例では、槽本体11の開口面からあふれ出た
洗浄液1は、槽本体11の外周に設けられた貯留槽16
に流れ込み、再度ポンプ14によって槽本体11内に供
給される。The object 2 to be cleaned is accommodated in a tank body 11, and the object 2 to be cleaned is washed by ejecting a cleaning liquid 1 (chemical solution or water) from a discharge pipe 12 by a pump 14 or DIW 17. The object 2 to be cleaned is a silicon wafer, a glass substrate of a liquid crystal display, or the like, and is supported by a receiving table (not shown) installed on the inner bottom surface of the tank body 11. In the example of FIG. 5, the cleaning liquid 1 overflowing from the opening surface of the tank body 11 is supplied to the storage tank 16 provided on the outer periphery of the tank body 11.
And is again supplied into the tank body 11 by the pump 14.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来の
洗浄槽10、10Aでは、吐出パイプ12からの洗浄液
1の吐出量が不十分であると、槽本体11内で洗浄液1
が十分に循環することができないので、槽本体11内で
洗浄液1の停滞部が増加し、被洗浄物2の表面に付着し
ているパーティクルを十分に除去できずに残存する場合
があるという問題があった。ここで、吐出パイプ12か
らの洗浄液1の吐出量をさらに増加させることが考えら
れるが、洗浄液1の供給量を増加させなければならず、
コストアップになるという問題がある。However, in the conventional cleaning tanks 10 and 10A described above, if the discharge amount of the cleaning liquid 1 from the discharge pipe 12 is insufficient, the cleaning liquid 1
Cannot sufficiently circulate, so that the stagnation portion of the cleaning liquid 1 in the tank body 11 increases, and particles adhering to the surface of the cleaning target 2 may not be sufficiently removed and may remain. was there. Here, it is conceivable to further increase the discharge amount of the cleaning liquid 1 from the discharge pipe 12, but it is necessary to increase the supply amount of the cleaning liquid 1,
There is a problem that the cost increases.
【0005】したがって、本発明が解決しようとする課
題は、従来と同等の洗浄液の吐出量で、槽本体内の洗浄
液の循環量を増加させることである。[0005] Therefore, an object of the present invention is to increase the circulation amount of the cleaning liquid in the tank body with the same discharge amount of the cleaning liquid as before.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、請求項1の発明は、被洗浄物を内部に収容し、供
給される洗浄液により前記被洗浄物を洗浄するための槽
本体と、前記槽本体の内部下方に配置され、洗浄液を吐
出するための吐出孔を長手方向に沿って形成した吐出パ
イプと、前記吐出パイプの外周面と所定の間隔を介して
前記吐出パイプの前記吐出孔側の外周面を囲むととも
に、前記吐出孔近傍の一定範囲を開口させた一対のガイ
ド板とを備えることを特徴とする。請求項2の発明は、
請求項1に記載の洗浄槽において、前記ガイド板の前記
吐出孔近傍の先端部は、前記吐出パイプと反対方向に突
出することを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a tank body for accommodating an object to be cleaned and cleaning the object with a supplied cleaning liquid. And a discharge pipe which is disposed below the inside of the tank body and has a discharge hole for discharging a cleaning liquid formed in a longitudinal direction, and the discharge pipe having a predetermined interval from an outer peripheral surface of the discharge pipe. A pair of guide plates is provided, which surrounds the outer peripheral surface on the side of the discharge hole and opens a certain range near the discharge hole. The invention of claim 2 is
The cleaning tank according to claim 1, wherein a tip portion of the guide plate near the discharge hole projects in a direction opposite to the discharge pipe.
【0007】[0007]
【作用】本発明においては、吐出パイプの吐出孔から噴
射された洗浄液は、一対のガイド板により形成される開
口部分を通過する。このときに、洗浄液の流速が速くな
った部分が負圧となるので、吐出パイプの外周面側とガ
イド板の内周面側との間に存在する洗浄液が同時に吐出
されるので、吐出量が増加する。したがって、槽本体内
の洗浄液の循環量が増加する。In the present invention, the cleaning liquid sprayed from the discharge hole of the discharge pipe passes through the opening formed by the pair of guide plates. At this time, since the portion where the flow rate of the cleaning liquid is increased becomes a negative pressure, the cleaning liquid existing between the outer peripheral surface side of the discharge pipe and the inner peripheral surface side of the guide plate is discharged at the same time. To increase. Therefore, the circulation amount of the cleaning liquid in the tank body increases.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の一実施形態について説明する。以下の実施形態では、
従来例と同様の部分には同一符号を付している。図1
は、本発明による洗浄槽の一実施形態を示す正面の断面
図である。この洗浄槽20は、乱流式の薬液循環型のも
のである。図1において、槽本体11の内部下方の両側
には、ポンプ14とフィルタ15を介して管路13で連
結された筒状体(中空円筒状体)の吐出パイプ12が設
けられている。図2に示すように、吐出パイプ12には
吐出孔12aが設けられている。吐出孔12aは、吐出
パイプ12の円周方向の一定位置において、吐出パイプ
12の長手方向(中心軸方向)に所定間隔で複数形成さ
れている。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiment,
The same parts as those in the conventional example are denoted by the same reference numerals. FIG.
1 is a front sectional view showing one embodiment of a cleaning tank according to the present invention. The washing tank 20 is of a turbulent flow type chemical liquid circulation type. In FIG. 1, a tubular (hollow cylindrical) discharge pipe 12 connected to a pump 14 and a filter 15 via a pipe 13 is provided on both lower sides inside the tank body 11. As shown in FIG. 2, the discharge pipe 12 is provided with a discharge hole 12a. The discharge holes 12a are formed at predetermined positions in the circumferential direction of the discharge pipe 12 at predetermined positions in the longitudinal direction (central axis direction) of the discharge pipe 12.
【0009】また、吐出パイプ12の外側近傍には、一
対のガイド板21が設けられている。図3及び図4は、
吐出パイプ12とガイド板21との位置関係を示す斜視
図及び正面の断面図である。各ガイド板21は、板状体
を折り曲げて形成した円弧状部21aと平面部21bと
から構成されており、吐出パイプ21の外周面と一定間
隔を介して吐出パイプ12の吐出孔12a側の外周面を
囲むように配置されている。このときに、吐出パイプ1
2の外周とガイド板21の円弧状部21aとは、略同心
円となるように配置される。A pair of guide plates 21 is provided near the outside of the discharge pipe 12. FIG. 3 and FIG.
It is the perspective view and front sectional drawing which show the positional relationship between the discharge pipe 12 and the guide plate 21. Each guide plate 21 includes an arc-shaped portion 21a formed by bending a plate-like body and a flat portion 21b. It is arranged so as to surround the outer peripheral surface. At this time, the discharge pipe 1
2 and the arcuate portion 21a of the guide plate 21 are arranged so as to be substantially concentric.
【0010】さらに、一対のガイド板21の各平面部2
1b間には、一定の開口部分Sが形成されるように配置
される。さらに、この開口部分Sが吐出パイプ12の吐
出孔12aと同一方向を向くようにガイド板21が配置
される。したがって、一対のガイド板21の平面部21
bにより、吐出パイプ12の吐出孔12a近傍の一定範
囲が開口され、ガイド板21の平面部21bは、吐出パ
イプ12と反対方向に突出する。Furthermore, each flat portion 2 of the pair of guide plates 21
1b, they are arranged so that a fixed opening S is formed. Further, the guide plate 21 is arranged such that the opening S faces in the same direction as the discharge hole 12a of the discharge pipe 12. Therefore, the flat portions 21 of the pair of guide plates 21
By b, a certain range near the discharge hole 12a of the discharge pipe 12 is opened, and the flat portion 21b of the guide plate 21 protrudes in a direction opposite to the discharge pipe 12.
【0011】以上の構成からなる洗浄槽20において
は、槽本体11内に被洗浄物2が収容されるとともに、
ポンプ14が駆動されると、洗浄液(薬液)1は、フィ
ルタ15を介して管路13から吐出パイプ12に供給さ
れ、吐出孔12aから高圧となって吐出する。吐出され
た洗浄液1は、一対のガイド板21により形成される開
口部分Sを通過して、被洗浄物2側に向かい、槽本体1
1内の洗浄液1が循環する。In the cleaning tank 20 having the above structure, the object 2 to be cleaned is accommodated in the tank body 11 and
When the pump 14 is driven, the cleaning liquid (chemical liquid) 1 is supplied from the conduit 13 to the discharge pipe 12 via the filter 15, and is discharged at a high pressure from the discharge hole 12a. The discharged cleaning liquid 1 passes through the opening S formed by the pair of guide plates 21 and moves toward the object 2 to be cleaned.
1 circulates the cleaning liquid 1.
【0012】ここで、吐出パイプ12の吐出孔12aか
ら洗浄液1が噴射されると、吐出孔12aとガイド板2
1の開口部分Sとの間の洗浄液1の流速は、非常に速く
なるので、この部分では負圧となる。したがって、吐出
パイプ12の外周面側とガイド板21の内周面側との間
に存在する洗浄液1が同時にガイド板21の開口部分S
側に流出するので(図4中、矢印方向)、吐出量が増加
する。これにより、ポンプ14からの洗浄液1の供給量
が従来と同様であっても(ポンプ14からの洗浄液1の
供給量を増加させることなく)、吐出量を増加させて槽
本体11内の洗浄液1の循環量を増加させることができ
る。When the cleaning liquid 1 is ejected from the discharge holes 12a of the discharge pipe 12, the discharge holes 12a and the guide plate 2
Since the flow rate of the cleaning liquid 1 between the first opening S and the opening S becomes extremely high, a negative pressure is generated in this part. Therefore, the cleaning liquid 1 existing between the outer peripheral surface side of the discharge pipe 12 and the inner peripheral surface side of the guide plate 21 simultaneously causes the opening S
4 (in the direction of the arrow in FIG. 4), the discharge amount increases. Thereby, even if the supply amount of the cleaning liquid 1 from the pump 14 is the same as the conventional one (without increasing the supply amount of the cleaning liquid 1 from the pump 14), the discharge amount is increased and the cleaning liquid 1 in the tank body 11 is increased. Circulation amount can be increased.
【0013】よって、コストアップとならずに槽本体1
1内での洗浄液1及びパーティクルの停滞を少なくし、
被洗浄物2の表面に付着しているパーティクルの除去効
果を高めることができる。また、槽本体11の上面側か
らあふれ出た洗浄液1は、貯留槽16によって回収さ
れ、再度管路13を通ってポンプ14から槽本体11内
に供給される。なお、以上の実施形態では、従来例の図
5に相当する薬液循環型のものを示したが、従来例の図
6に相当する水洗型であっても、本発明を同様に適用で
きる。Therefore, the tank body 1 can be manufactured without increasing the cost.
1 to reduce stagnation of the cleaning liquid 1 and particles,
The effect of removing particles adhering to the surface of the cleaning target 2 can be enhanced. Further, the cleaning liquid 1 that has overflowed from the upper surface side of the tank body 11 is collected by the storage tank 16, and is again supplied from the pump 14 into the tank body 11 through the pipe 13. In the above embodiment, the chemical circulation type shown in FIG. 5 of the conventional example is shown. However, the present invention can be similarly applied to a washing type shown in FIG. 6 of the conventional example.
【0014】[0014]
【発明の効果】本発明によれば、洗浄液の供給量を増加
することなく、吐出量を増加させて槽本体内の洗浄液の
循環量を増加させることができる。これにより、コスト
アップとならずに槽本体内での洗浄液及びパーティクル
の停滞を少なくし、被洗浄物の表面に付着しているパー
ティクルの除去効果を高めることができる。According to the present invention, it is possible to increase the discharge amount and increase the circulation amount of the cleaning liquid in the tank body without increasing the supply amount of the cleaning liquid. Thereby, the stagnation of the cleaning liquid and the particles in the tank body can be reduced without increasing the cost, and the effect of removing the particles adhering to the surface of the object to be cleaned can be enhanced.
【図1】本発明による洗浄槽の一実施形態を示す正面の
断面図であり、薬液循環型を示す。FIG. 1 is a front sectional view showing an embodiment of a cleaning tank according to the present invention, showing a chemical circulation type.
【図2】図1の吐出パイプを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the discharge pipe of FIG.
【図3】図1のガイド板及び吐出パイプを示す斜視図で
ある。FIG. 3 is a perspective view showing a guide plate and a discharge pipe of FIG. 1;
【図4】図1のガイド板及び吐出パイプを詳細に示す正
面の断面図である。FIG. 4 is a front sectional view showing a guide plate and a discharge pipe of FIG. 1 in detail;
【図5】従来の乱流式の洗浄槽の一例を示す正面の断面
図であり、薬液循環型を示す。FIG. 5 is a front sectional view showing an example of a conventional turbulent cleaning tank, and shows a chemical circulation type.
【図6】従来の乱流式の洗浄槽の一例を示す正面の断面
図であり、水洗型をす。FIG. 6 is a front sectional view showing an example of a conventional turbulent washing tank, which is a washing type.
1 洗浄液 2 被洗浄物 11 槽本体 12 吐出パイプ 12a 吐出孔 13 管路 14 ポンプ 15 フィルタ 16 貯留槽 20 洗浄槽 21 ガイド板 21a 円弧状部 21b 平面部 S 開口部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning liquid 2 Object to be cleaned 11 Tank body 12 Discharge pipe 12a Discharge hole 13 Pipeline 14 Pump 15 Filter 16 Storage tank 20 Cleaning tank 21 Guide plate 21a Arc-shaped part 21b Flat part S Opening part
Claims (2)
浄液により前記被洗浄物を洗浄するための槽本体と、 前記槽本体の内部下方に配置され、洗浄液を吐出するた
めの吐出孔を長手方向に沿って形成した吐出パイプと、 前記吐出パイプの外周面と所定の間隔を介して前記吐出
パイプの前記吐出孔側の外周面を囲むとともに、前記吐
出孔近傍の一定範囲を開口させた一対のガイド板とを備
えることを特徴とする洗浄槽。1. A tank body for accommodating an object to be cleaned therein and cleaning the object to be cleaned with a supplied cleaning liquid, and a discharge hole disposed below the inside of the tank body and discharging a cleaning liquid. A discharge pipe formed along the longitudinal direction, and surrounding the outer peripheral surface on the discharge hole side of the discharge pipe with a predetermined interval from the outer peripheral surface of the discharge pipe, and opening a certain range near the discharge hole. A cleaning tank comprising: a pair of guide plates;
イプと反対方向に突出することを特徴とする洗浄槽。2. The cleaning tank according to claim 1, wherein a tip portion of the guide plate near the discharge hole projects in a direction opposite to the discharge pipe.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9900398A JPH11290801A (en) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | Cleaning tank |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9900398A JPH11290801A (en) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | Cleaning tank |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11290801A true JPH11290801A (en) | 1999-10-26 |
Family
ID=14234841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9900398A Pending JPH11290801A (en) | 1998-04-10 | 1998-04-10 | Cleaning tank |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11290801A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021141208A (en) * | 2020-03-05 | 2021-09-16 | キオクシア株式会社 | Semiconductor manufacturing equipment and manufacturing method of semiconductor equipment |
| CN115739792A (en) * | 2021-09-02 | 2023-03-07 | 长鑫存储技术有限公司 | Cleaning device and cleaning method for semiconductor structure |
-
1998
- 1998-04-10 JP JP9900398A patent/JPH11290801A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021141208A (en) * | 2020-03-05 | 2021-09-16 | キオクシア株式会社 | Semiconductor manufacturing equipment and manufacturing method of semiconductor equipment |
| US11610789B2 (en) | 2020-03-05 | 2023-03-21 | Kioxia Corporation | Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
| CN115739792A (en) * | 2021-09-02 | 2023-03-07 | 长鑫存储技术有限公司 | Cleaning device and cleaning method for semiconductor structure |
| WO2023029203A1 (en) * | 2021-09-02 | 2023-03-09 | 长鑫存储技术有限公司 | Semiconductor structure cleaning device and cleaning method |
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