JPH1172749A - 液晶分子配向基板の照射光学系 - Google Patents
液晶分子配向基板の照射光学系Info
- Publication number
- JPH1172749A JPH1172749A JP24761197A JP24761197A JPH1172749A JP H1172749 A JPH1172749 A JP H1172749A JP 24761197 A JP24761197 A JP 24761197A JP 24761197 A JP24761197 A JP 24761197A JP H1172749 A JPH1172749 A JP H1172749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- liquid crystal
- optical system
- substrate
- irradiation optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Planar Illumination Modules (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】照射強度が強く、広い面積を短い光路長で照射
でき、かつ低コストでありながら液晶分子に配向とプレ
ティルト角を与えられる照射光学系を提供すること。 【解決手段】光源１０と、光平行化手段２０と、平面鏡
３０から成り、光平行化手段２０から液晶分子配向基板
４０へ斜めから光を照射するとともに、液晶分子配向基
板４０から反射した光に対し平面鏡３０を垂直に配置す
る。
でき、かつ低コストでありながら液晶分子に配向とプレ
ティルト角を与えられる照射光学系を提供すること。 【解決手段】光源１０と、光平行化手段２０と、平面鏡
３０から成り、光平行化手段２０から液晶分子配向基板
４０へ斜めから光を照射するとともに、液晶分子配向基
板４０から反射した光に対し平面鏡３０を垂直に配置す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶分子の配向技術
に関し、特に光（紫外光を含む。以下同じ。）を用いた
配向に用いられる光の照射装置に関する。
に関し、特に光（紫外光を含む。以下同じ。）を用いた
配向に用いられる光の照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶分子を基板表面に平行に配向させる
方法として、現在は基板を布で一方向に機械的に擦るい
わゆるラビング法が多用されている。しかし、ラビング
による配向処理は一般に布を使用するので布切れがゴミ
として発生する上、静電気も発生するという問題があ
る。そこで光を用いて液晶分子を配向させる方法、いわ
ゆる光配向法が近年注目されている。ところで、液晶を
表示素子として利用する場合、各液晶分子にプレティル
ト角を与えておかなければ、リバースティルトによるデ
ィスクリネイションが発生し、光の漏れや散乱による液
晶表示素子のコントラストの低下が生じる。このため従
来の光配向法では、ポリイミドを塗布したガラス基板に
対して斜めから偏光を照射することによって配向膜を形
成していた。これに用いられる照射光学系は図３のよう
な構成になっている。すなわち、光源１０と、光平行化
手段２０と、偏光素子５０から成り、光平行化手段２０
から液晶分子配向基板４０へ斜めから偏光を照射するよ
うになっている。
方法として、現在は基板を布で一方向に機械的に擦るい
わゆるラビング法が多用されている。しかし、ラビング
による配向処理は一般に布を使用するので布切れがゴミ
として発生する上、静電気も発生するという問題があ
る。そこで光を用いて液晶分子を配向させる方法、いわ
ゆる光配向法が近年注目されている。ところで、液晶を
表示素子として利用する場合、各液晶分子にプレティル
ト角を与えておかなければ、リバースティルトによるデ
ィスクリネイションが発生し、光の漏れや散乱による液
晶表示素子のコントラストの低下が生じる。このため従
来の光配向法では、ポリイミドを塗布したガラス基板に
対して斜めから偏光を照射することによって配向膜を形
成していた。これに用いられる照射光学系は図３のよう
な構成になっている。すなわち、光源１０と、光平行化
手段２０と、偏光素子５０から成り、光平行化手段２０
から液晶分子配向基板４０へ斜めから偏光を照射するよ
うになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の照射光
学系には以下の欠点があった。第１の欠点は光の照射強
度が弱い点である。偏光素子の透過率は半分以下しかな
いため従来の照射光学系は照射強度が弱かった。第２の
欠点は照射面積を大きくすることができないことであ
る。大面積の偏光素子は制作が極めて困難だからであ
る。第３の欠点は光路長が長い点である。偏光素子は光
の入射角が指定されているものが多く、必要な面積の偏
光素子を設置するには照射光学系の光路長がかなり長く
なる場合が多かった。第４の欠点はコストが高いことで
ある。ポリイミドは紫外光で照射する必要があるが、紫
外領域で使用できる偏光素子は極めて高価なため、従来
の照射光学系はコストを下げることができなかった。そ
こで、本発明は照射強度が強く、広い面積を短い光路長
で照射でき、かつ低コストでありながら液晶分子に配向
とプレティルト角を与えられる照射光学系を提供するこ
とを目的とする。
学系には以下の欠点があった。第１の欠点は光の照射強
度が弱い点である。偏光素子の透過率は半分以下しかな
いため従来の照射光学系は照射強度が弱かった。第２の
欠点は照射面積を大きくすることができないことであ
る。大面積の偏光素子は制作が極めて困難だからであ
る。第３の欠点は光路長が長い点である。偏光素子は光
の入射角が指定されているものが多く、必要な面積の偏
光素子を設置するには照射光学系の光路長がかなり長く
なる場合が多かった。第４の欠点はコストが高いことで
ある。ポリイミドは紫外光で照射する必要があるが、紫
外領域で使用できる偏光素子は極めて高価なため、従来
の照射光学系はコストを下げることができなかった。そ
こで、本発明は照射強度が強く、広い面積を短い光路長
で照射でき、かつ低コストでありながら液晶分子に配向
とプレティルト角を与えられる照射光学系を提供するこ
とを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】光源１０と、光平行化手
段２０と、平面鏡３０から成り、光平行化手段２０から
液晶分子配向基板４０へ斜めから光を照射するととも
に、液晶分子配向基板４０から反射した光に対し平面鏡
３０を垂直に配置する。
段２０と、平面鏡３０から成り、光平行化手段２０から
液晶分子配向基板４０へ斜めから光を照射するととも
に、液晶分子配向基板４０から反射した光に対し平面鏡
３０を垂直に配置する。
【０００５】
【発明の実施の形態】図１に本発明の実施の形態を示
す。１０は光源、２０は光平行化手段、３０は平面鏡で
ある。また、４０はガラスの上にポリイミドを塗布した
液晶分子配向基板（以下基板という）である。光源１０
は、超高圧水銀灯１１、楕円鏡１２、ロッド１３、レン
ズ１４、から成り、２次光源１５を形成する。光平行化
手段２０は、焦点を２次光源１５に合致させた凹面鏡で
あり、平行光を作成する。光平行化手段２０には凹面鏡
のほかコンデンサーレンズやフレネルレンズも適用でき
る。
す。１０は光源、２０は光平行化手段、３０は平面鏡で
ある。また、４０はガラスの上にポリイミドを塗布した
液晶分子配向基板（以下基板という）である。光源１０
は、超高圧水銀灯１１、楕円鏡１２、ロッド１３、レン
ズ１４、から成り、２次光源１５を形成する。光平行化
手段２０は、焦点を２次光源１５に合致させた凹面鏡で
あり、平行光を作成する。光平行化手段２０には凹面鏡
のほかコンデンサーレンズやフレネルレンズも適用でき
る。
【０００６】平行光は基板４０をＡ方向から斜めに照射
し、一部の光は基板４０で反射する。平面鏡３０はこの
反射光に対して垂直に配置されているため、反射光は元
の光路を逆進し、Ｂ方向から再度基板４０を照射する。
このため、基板４０は左右両方（図１のＡ方向及びＢ方
向）から光が照射されることになる。ところで、基板に
斜めから光を照射したとき、照射光のＳ波は液晶分子の
配向に寄与し、Ｐ波はプレティルト角の形成に寄与す
る。
し、一部の光は基板４０で反射する。平面鏡３０はこの
反射光に対して垂直に配置されているため、反射光は元
の光路を逆進し、Ｂ方向から再度基板４０を照射する。
このため、基板４０は左右両方（図１のＡ方向及びＢ方
向）から光が照射されることになる。ところで、基板に
斜めから光を照射したとき、照射光のＳ波は液晶分子の
配向に寄与し、Ｐ波はプレティルト角の形成に寄与す
る。
【０００７】ここで、液晶分子の配向は基板と平行方向
なので、図１のＡ方向、Ｂ方向のどちらから光が照射さ
れてもともに同方向の配向に寄与する。従ってＳ波はＡ
方向、Ｂ方向のどちらから照射してもかまわない。一
方、プレティルト角は基板と非平行な方向に形成される
ため、図１のＡ方向、Ｂ方向のどちらから光が照射され
るかによってプレティルト角の形成方向が逆になる。従
って、Ｐ波はＡ方向、Ｂ方向の片方からのみ照射されな
ければならない。
なので、図１のＡ方向、Ｂ方向のどちらから光が照射さ
れてもともに同方向の配向に寄与する。従ってＳ波はＡ
方向、Ｂ方向のどちらから照射してもかまわない。一
方、プレティルト角は基板と非平行な方向に形成される
ため、図１のＡ方向、Ｂ方向のどちらから光が照射され
るかによってプレティルト角の形成方向が逆になる。従
って、Ｐ波はＡ方向、Ｂ方向の片方からのみ照射されな
ければならない。
【０００８】ところで、光が物体に対して斜めから入射
した場合、そのフレネル反射率は一般に図２のようにな
る。すなわち、Ｐ波は光の入射角がブリュースター角に
なったときに反射率が０になるなど、比較的反射率が低
いのに対し、Ｓ波は入射角が大きくなると反射率が単調
増加しており、あらゆる入射角でＳ波の反射率はＰ波の
反射率を上回る。つまり、斜入射した光が反射した後、
光はＳ方向に強く偏光する。
した場合、そのフレネル反射率は一般に図２のようにな
る。すなわち、Ｐ波は光の入射角がブリュースター角に
なったときに反射率が０になるなど、比較的反射率が低
いのに対し、Ｓ波は入射角が大きくなると反射率が単調
増加しており、あらゆる入射角でＳ波の反射率はＰ波の
反射率を上回る。つまり、斜入射した光が反射した後、
光はＳ方向に強く偏光する。
【０００９】すなわち、本光学系において基板４０で反
射した光はＳ方向に強く偏光しており、平面鏡３０で反
射してＢ方向から基板４０を照射する光も同様にＳ方向
に偏光していることになる。結局、本照射光学系でＡ方
向から照射する光はほぼＳ波とＰ波の強度が等しいのに
対し、Ｂ方向から照射する光は強くＳ方向に偏光してい
る。このため、Ｐ波はほぼＡ方向からのみ照射されるこ
とになり、プレティルト角の形成は阻害されない。ま
た、Ｓ波はＡ方向のみならずＢ方向からも照射され、液
晶分子の配向に寄与する。
射した光はＳ方向に強く偏光しており、平面鏡３０で反
射してＢ方向から基板４０を照射する光も同様にＳ方向
に偏光していることになる。結局、本照射光学系でＡ方
向から照射する光はほぼＳ波とＰ波の強度が等しいのに
対し、Ｂ方向から照射する光は強くＳ方向に偏光してい
る。このため、Ｐ波はほぼＡ方向からのみ照射されるこ
とになり、プレティルト角の形成は阻害されない。ま
た、Ｓ波はＡ方向のみならずＢ方向からも照射され、液
晶分子の配向に寄与する。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば照射強度が強く、広い面
積を短い光路長で照射でき、かつ低コストでありながら
液晶分子に配向とプレティルト角を与えられる照射光学
系を提供できる。
積を短い光路長で照射でき、かつ低コストでありながら
液晶分子に配向とプレティルト角を与えられる照射光学
系を提供できる。
【図１】本発明にかかる照射光学系の全体構成図であ
る。
る。
【図２】入射角に対し、Ｓ波とＰ波の反射率を表すグラ
フである。
フである。
【図３】従来の照射光学系の全体構成図である。
１０ 光源 ２０ 光平行化手段 ３０ 平面鏡 ４０ 液晶分子配向基板 ５０ 偏光素子
Claims (1)
- 【請求項１】光源１０と、光平行化手段２０と、平面鏡
３０から成り、光平行化手段２０から液晶分子配向基板
４０へ斜めから光を照射するとともに、液晶分子配向基
板４０から反射した光に対し平面鏡３０を垂直に配置し
たことを特徴とする液晶分子配向基板の照射光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24761197A JPH1172749A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 液晶分子配向基板の照射光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24761197A JPH1172749A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 液晶分子配向基板の照射光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1172749A true JPH1172749A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=17166089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24761197A Pending JPH1172749A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 液晶分子配向基板の照射光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1172749A (ja) |
-
1997
- 1997-08-29 JP JP24761197A patent/JPH1172749A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3075917B2 (ja) | 液晶表示装置、その製造方法およびその製造装置 | |
| US6307609B1 (en) | Polarized light exposure systems for aligning liquid crystals | |
| US5934780A (en) | Polarized light irradiation device for purposes of optical alignment of an alignment layer of a liquid crystal cell element | |
| US6407789B1 (en) | Processes for aligning an optical alignment layer and alignment of liquid crystal medium | |
| TW200403717A (en) | Apparatus and method for irradiating a substrate | |
| JPH10505435A (ja) | 偏光素子 | |
| JP3603758B2 (ja) | 液晶配向膜の光配向用偏光光照射装置の偏光素子 | |
| US6724530B2 (en) | Polarized light illuminator with a polarized light beam splitter | |
| JP3384346B2 (ja) | 液晶表示素子の光配向用偏光光照射装置 | |
| JP3784118B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP3936086B2 (ja) | 光照射装置 | |
| CN117321335A (zh) | 照明装置、车辆用灯具系统 | |
| JPH1172749A (ja) | 液晶分子配向基板の照射光学系 | |
| JP4135557B2 (ja) | 光配向用偏光光照射装置 | |
| JP3087164B2 (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
| TWI262336B (en) | Manufacturing method of LCD apparatus and device thereof | |
| KR20020051826A (ko) | 광 배향용 편광광 조사 장치 | |
| US12297973B2 (en) | Lighting apparatus, and vehicle lamp system | |
| KR20200035045A (ko) | 광배향용 노광 장치 | |
| TW201007351A (en) | Photomask and photo alignment process using the same | |
| KR19980065953A (ko) | 광배향용 광조사장치 및 그의 조사방법 | |
| US20190294009A1 (en) | Polarized light radiation device and polarized light radiation method | |
| WO2007074533A1 (ja) | 光配向用偏光照射方法及びその装置 | |
| KR0134854Y1 (ko) | 배향막 제조장치 | |
| KR20070062108A (ko) | 편광시스템, 그를 이용한 ｕｖ조사장치, 및 그를 이용한액정표시소자의 제조방법 |