JPS61113649A - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、安定化された高分子材料組成物、詳しくは、
ヒンダードアミン系光安定剤及び特定のアルキリデンビ
ス（ベンゾトリアゾリルフェノール）化合物を含有し、
光安定性の改善された高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対して敏感であり、その
作用により色の悪化、機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐え得ないことが知られている。

これらの害作用を防止するために、これまでにベンゾエ
ート系、ベンゾフェノン系、ヘンシトリアゾール系、ピ
ペリジン系等の化合物が単独で用いられてきたが、これ
らの化合物は＋１脂に着色を与えるものが多く、またそ
の効果も不充分であり、更に改良が望まれていた。

これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物は非着色
性であり、また光安定化効果も比較的大きいので近年特
に注目されている。

しかしながら、ピペリジン系化合物に代表されるヒンダ
ードアミン化合物は比較的硬れた光安定剤であるが、単
独使用による効果は未だ不充分なものであワた。このた
め、とベリジン系化合物と紫外線吸収剤の中では比較的
硬れた光安定剤であるヘンシトリアゾール系化合物とｆ
＃用することが提案されているが、普通のベンゾトリア
ゾール系化合物との併用による効果は相加的なものに過
ぎず、実用上は満足し得るものではなかった。

一般に用いられているベンゾトリアゾール系化合物は、
一つの化合物中に１個のヒドロキシ基とｉｌｌのベンゾ
トリアゾリル基しか有しておらず、分子量も小さいこと
から、大きな併用効果を示さず満足し得るものではなか
った。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、斯る現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果
、ヒンダードアミン系光安定剤と特定のアルキリデンビ
ス（ペンジトリアゾリルツーノール）化合物を併用して
高分子材料に配合すると、それらをそれぞれ単独使用し
た場合よりもその効果が著しく優れていることを見い出
し、本発明に到達した。

皿ち、本発明は、高分子材料１００重景重量、ｔａｒヒ
ンダードアミン系光安定剤の少なくとも一種０．００１
〜５重量部及び（ｂ１次の一峻弐口）で表される化合物
の少なくとも一種０．００１〜５重優部を配合してなる
、耐光性の改善された高分子材料組成物を提供するもの
である。

（式中、Ｒ１は水素原子又はアルキル基を承し、々はア
ルキル基又はアラルキル基を示し、Ｘは水素原子、ハロ
ゲン、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アラルキルオキシ基又はアリール基を示
す、） 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられるヒンダードアミン余光安定具体的に
は次に示すようなものがあげられる。

−１４−ベンツ゛イＪレオキシ−２，２，６，６−チト
ラメチルビベリジン 魔２ｌ−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキンフ
ェニルプロピオニルオキシエチル）−４−（３，５−ジ
ー第３ブチル−４−ヒドロキンフエニルブロピオニルオ
キン）−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン 阻３４−（β−３°　、５°−ジー第３ブチル−４゛−
オキシフェニル−プロピオニルオキシ）−２，２，６，
６−チトラメチルピペリジン 階４　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セパセード −５ビス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジル）セパセード 黒６　ビス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−
ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジー第３ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート −７ビス（Ｉ−アクリロイル−２，２，６，６−子トラ
メチルー４−ピペリジル）−２゜２−ビス　（３，５−
シー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート 魚８　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テトラメ
チル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，５）
−３−ウンデンルメチル）メチルイミノジアセテート 陳９　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル−１−オキシル）セパセード嵐１０　　）リス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）シト
レート 隘〔１トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート階１２　　）リス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブ
タントリカルボキシレート １１ｋＬ１３トリス（２，２，６゜６−テトラメチル−
４−ピペリジル）　トリメリテート −１４テトラ　（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ピロメリテート 一隘１５　　テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，３−ビス（アミノメチル）シク
ロヘキサンテトラアセテートＮａ１６　　テトラ（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２
，３，４−ブタンテトラカルボキシレート Ｎ１１７　　）リス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）・モノ　（イソトリデシル）−１，２
，３，４−ブタンテトラカルボキシレート １ｌｈ１８　　テトラ（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメ
チルー４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテト
ラカルボキンレート 階１９　　トリス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジル）・モノ　（イソトリデシル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート 魔２０　　ビス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー
４−ピペリノル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボキンレート 臘２１　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）　・ジ（トリデシル）−１゜２．３．４−
ブタンテトラカルボキシレート 隠２２　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−
オキシル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート −２３モノ　（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４
−ピペリジル）・モノメチルセハケー階２４３．９−　
ビス〔【、ｌ−ジメチル−２−〔トリス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
ブチルカルボニルオキシフエチル）−２，４，８゜１０
−テトラオキサスピロ（５，５）　ラフデカン Ｎ１２５　３．　９−ビス〔１，１−ジメチル−２−［
トリス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペ
リジルオキン力ルボニル）プチルカルボニルオキン〕エ
チル］−２，４゜８．１０−テトラオキサスピロ（５，
５）ウンデカン 阻２６２．４．６−トリス　（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジルオキシ）−３−トリアジン 磁２７２−ジブチルアミノ−４，６−ビス（９−アザ−
８，８，１０，ｌ　Ｏｔｈう）ｆルー３−エチル−１，
５−ジオキサスピロ〔５，５）−３−ウンデノルメトキ
シ）　−ｓ−トリアジン 一２８Ｎ、Ｎ”−ビス（４，６−ピス＋９−／ツー８．
８．ｔｏ、１０−テトラメ千ルー・３−エチル−１，５
−ジオキサスピロ〔５゜５〕−３−ウンデシルメトキシ
）−ｓ−トリアジン−２−イルコピペラジン Ｎａ２９　１．５，８．１２−テトラキス（４，６−ビ
ス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ブチルアミノ）−１゜３．５−トリアジン−２−
イル）−１，５゜８．１２−テトラアザドデカン 階３０　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，
５）−３−ウンデシルメチル）カーボネート ぬ３１　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ［５，
５］−３−ウンデシルメチル）　・水添ビスフェノール
Ａ・ジヵーポ不一ト 階３２　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリンル）　・ペンタエリスリトール・ジホスファイ
ト 嵩３３　　ヒス（９−アザ−８，８，１０，ＩＱ−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，
５３−３−ウンデツルメチル）　・ペンタエリスリトー
ル・ジホスファイト 磁３４　　テトラ（２，２，６，６−テトラメチルー−
４−ピペリジル）・ビスフェノールＡ・ジホスファイト 隘３５３．５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシヘンシ
ル−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ホスホネート−３６１−（２−ヒドロキシエチル
−２，２，６゜６−テトラメチル−４−ピペリジツール
／コハク酸ツメチル重縮合物 隘３７２−第３オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ
　−トリアジン／Ｎ、Ｎ’−ビス　（２゜２．６．６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン市槁合物 隘３１３１．６−ビス（２，’２．６．　６−−１トフ
メチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロムエ
タン車縮合物 患３９　　ビス　（９−アザ−８，８，１０，１０−テ
トラメチル−３−ヒドロキンメチル−１゜５−ジオキサ
スピロ（５，５）−３−ウンデノルメチル）エーテル 隅４０３−プリンジル−８−メチル−７，７，９゜９−
テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］
デカン−２，４−ジオ７階４１　３−ドデンルー８−ア
セチル−７，７，９゜９−テトラメチル−１，３，８−
トリアザスピロ（４，５）デカン−２，４−ジオン漱４
２３−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−）リアザスピロ〔４゜５〕デカン−２，４−ジ
オン １’ｋＬ４３　２．　２．　４．　４−テトラメチル−
７−オキサ−３，２０−ノアザノスピロ（５，１゜１１
．２）ヘンエイコサン−２１−オンまた、本発明で用い
られる前記一般式（【）で表されるアルキリデンビス（
ヘンシトリアゾリルフェノール）化合物において、Ｒ，
で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル等があげられ、Ｒ
２で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第２ブチ
ル、第３ブチル、アミル、第３７ミル、ヘキシル、オク
チル、２−エチルヘキシル、イソオクチル、ｌ、ｌ、３
．３−テトラメチルブチル、ノニル、デシル、ドデシル
等があげられ、アラルキル基としては、ベンジル、α−
メチルヘンノル、クミル等があげられる。

Ｘで示されるハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素、
フッ素があげられ、アルキル基及びアラルキル基として
はＲ２で示したものと同一のものがあげられ、アルコキ
ソ基及びアラルキルオキン基としではこれらのアルキル
基及びアラルキル基からのアルコキソ基及びアラルキル
オキノ基があげられ、アリール基としてはフＬニル等が
あげられ、アリールオキシ基としてはフェノキノ等があ
げられる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（＋）で表され
るアルキリデンビス（ヘンシトリアゾリルフェノール）
化合物としては、例えば次に示す化合物があげられる。

ＢＢＰ−１２，２’−メチレンビス（４−メ＋ルー６−
ヘンゾトリアゾリルフエノ ール） ＢＢＰ−２２，２”−メチレンビス（４＝（Ｉ゜１．３
．３−テトラメチルブチル） −６−ベンゾトリアゾリルフェノー ル〕 ＢＢＰ−３２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−
ベンゾトリアゾリルフェノ ール） ＢＢＰ−４２，２°−オクチリデンビス〔４−メチル−
（５“−メチルベンゾトリ アゾリル）フェノール〕 ＢＢＰ−５２，２°−オクチリデンビス（４−メチル−
（５°−クロロヘンシトリ アゾリル〉フェノール） 本発明は、前記一般式（［）で表される化合物及び前記
ヒンダードアミン系光安定剤を高分子材料に添加してそ
の安定性を改善するものであり、その添加量は、通常、
高分子材料１００重量部に対し各々０．００１〜５重量
部、好ましくは０．０１〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ボリフフ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ボリフフ化ビニルデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共１＆体、塩化ビニ
ル−イソブナレノ共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元Ｉｎ体、塩化ビニル−スチレン−７クリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化とニル
−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三
元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体
、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化とニ
ル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の
含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリス
チレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイン
酸、ブタジェン、アクリロニトリル等）との共重合体、
アクリロニトリル−ブタンエン−スチレン共重合体、ア
クリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、メ
タクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、
ポリメチルメタクリレート等のメタクリレートＩＮ脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェ
ニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
アセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフェ
ノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エボキノ（封
脂、不飽和ポリエステル暑躬脂、シリコーン樹脂等をあ
げることができる。更に、イソプレンゴム、ブタンエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチ
レン−ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂
のブレンド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に史に周知のフェノール糸の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一層改善するこ
とができるにのフェノール系抗酸化剤としては例えば、
２．６−ノー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−ジ
フェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル−（
３，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシヘイジル）チオグ
リコレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキン−３゜
５−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステ
アリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキンヘン
シルホスホ名−ト、２，４．ら−トリス（３’　、５’
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシヘンノルチオ）１．
３．５．−）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ
−３−メチル−５−第３　メチル）ヘンシルマロ＊−ト
、２．ｚ゛−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、４．４”−メチレンビス（２，６−ジ
ー第３ブチルフエノール）、２．２°−メチレンビス〔
６−（ｌ−メチルンクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、
ビス［３，５−ビス（４−ヒトロキノー３−第３ブチル
フエニル）ブチリ７クアシド］グリコールエステル、４
．４゛−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾ
ール）、２．２゛−エチリデンビス（４，６−ジー第３
ブチルフエノール）、２．２’−エチリデンビス（４−
第２ブチル−６−ｇ４３ブチルフェノール）、１．１゜
３−トリス　（２−メチル−４−ヒドロキソ−５−第３
ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−
メチル−６−（２−ヒドロキン−３−第３ブチル−５−
メチルベンノル）フェニル〕テレフタレート、１．３．
５−トリス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−４−
第３ブチル）ベンジルイソシアヌレート、１，３．５−
）リス（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、テトラキス
〔メチレン−３−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネートコメタン、１．３．５
−トリス（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、１゜３．５−）リス（（３
，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキノフェニル）プロ
ピオニルオキノエナル〕イソンアヌレート、２−オクナ
ルナオ−４゜６−ジ（４−ヒドロキノ−３，５−ノーー
第、］ブチル）フェノキソー１．３．５−トリアノ／、
４゜４°−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール
）等のフェノール類及び４．４′−ブチリデンビス（２
−第３ブチル−５−メチルフェノール）の炭酸オリゴエ
ステル（例えば重合度２．３．４゜５．６．・７．’　
　８．９．１０等）の多価フェノール炭酸オリゴエステ
ル類があげられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル
−、シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチ
オジプロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリ
ル−、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多
価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル
（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロ
ビオネート）があげられる。

本発明の組成物に、更にホスファイト等の含リン化合物
を添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニル
ホスファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエニ
ル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
（ブトキンエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスファイト、ジステアリンペンタエリスリトー
ルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３
−）リス　（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ１２
〜１５混合アルキル）−４，４°−イソプロピリデンジ
フェニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフ
エノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー第３
ブナルー４−ヒト１ノギノフエニル）ホスファ１ト、ト
リス（モノ・ジ混合ノニルフ、７−−ル）ホスファイト
、水素化−４，４１−イソプロピリデンジフェノールポ
リホスファイト、ヒス（オフナルフェニル）　・ビス〔
４，４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール）〕　・１゜６−ヘキサンジオールジホス
ファイト、フェニル・４．４”−イソプロピリデンジフ
ェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２゜４−ノー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，ｂ−ジー第３フチルー
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−
第３ブチルフエノール）〕ホスファイト、フェニル・ジ
フェニルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイト、トリス（ｌ、３−ジ−ス
テアロイルオキシイソプロビル）ホスファイト、４，４
°−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフエノール
）・ン（ノニルフェニル）ホスファイト、９．１０−ノ
ー−ハイドロ＝（）−オキサ−ＩＯ−フォスファフヱナ
ンスレンー１０−オキサイド、テトラキス（２，４−ジ
ー第３ブチルフエニル）−４，４°−ビフエニレンジホ
スホナイト等があげられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ボキン化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、ｒｐＩ剤、加工助剤等を包含させることができる
。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型品として使用でき、また、塗料、ラフカー用結合剤、
接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用いる
ことができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　　１００　　宙ｉ部ステアリ
ン酸カルノウム　　　　０．２二ニルプロピオネート） 上記配合にて厚さ０．３１のブレスシートを作成し、こ
のシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性試験
を行った。その結果を表−１に示す。

表−１ 実施例２ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　市９部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３ルポキシレー
ト（Ｉｋ１６化合物） 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｍｍのシート
を作成した。このソートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、１化するまでの時間を測定した。その
結果を表−２に示す。

表−２ 実施例３ 〈配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００市量部ジオクチ
ルフタレート４８ エボキノ化大豆油　　　　　　　　　２トリスノニルフ
エニルホスフアイト　０．２Ｃａ−ステアレート　　　
　　　　　　１．ＱＺｎ−ステアレート０．１ ＢＢＰ−２化合物　　　　　　　　　０．１上記配合物
をロール上で混練し、厚さ１ＩＩＩ１１のノートを作成
した。このソートを用いウエザオフ−ター中での耐光性
試験を行った。その結果を表−３に示す。

実施例４ （配　合〉 ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１０　ｔ３　　重量部Ｂ
ＢＰ−２化合物　　　　　　　　０．１上記配合物をロ
ール練り後プレスして厚さ３１１１１のシートを作成し
た。このシートを用いウエザオメーターで８００時間照
射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−４に示す
。

表−４ 実施例５ く配　合〉 ポリウレタン樹脂　　　　　　　１００　　重量部（旭
電化ｉ！ｌ　Ｕ　−１００） ８ａ−ステアレート　　　　　　　　　０．７Ｚｎ−ス
テアレート　　　　　　　　　０．３２．６−ジー第３
ブチル−ｐ−クレゾール０．ＬＢＢＰ−２化合物　　　
　　　　　０．３上記配合物を７０℃で５分間ロール上
で混練し、１２０℃で５分間プレスして厚さ０．５ｓｕ
ｗのシートを作成した。このシートを用いフェードメー
ターにて５０時間照射後の伸び残率を測定した。その結
果を表−５に示す。

表−５ 実施例６ 本発明の安定剤成分は塗料用としても有用である０本実
施例においては金属顔料を含をするベースコート及び１
明なトップコートからなる二層金属光沢塗料についてそ
の効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ローブチル６
６ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキンエチル３０ｇ、メ
タクリル酸４ｇ、キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２
０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル２ｇ、ドデンルメル力ブタン０．５ｇ、
キンレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからなる溶液
を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌し、Ｉ
Ｈ脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキン化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ユーハン２０３Ｅ６０；樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル熔液）５０重量部、
アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペース
ト１１２３Ｎ）５．５化９部、キンリン１０車９部、酢
酸ブチル２０＊殿部及び銅フタロンアニンブルーｏ、２
ｔＪｊｔｉ１４Ｒをとリヘースコート塗料とした。

ｂ）トップコート領料 上記アクリル樹脂ｉ／１Ｌ４８重量部、ブトキシ化メチ
ロールメラミン１０重量部、キジ１フ１０重量部、ブチ
ルグリコールアセテート４重量部、ＢＢＰ−２化合物ｏ
、＋重量部及びヒンダードアミン系光安定剤（表−６参
照）０．０５重量部をとり、トップコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放置後トフ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−６に示す。

表−６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、（ａ）ヒンダードアミン系
   光安定剤の少なくとも一種０．００１〜５重量部及び（
   ｂ）次の一般式（ I ）で表される化合物の少なくとも
   一種０．００１〜５重量部を配合してなる、耐光性の改
   善された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ＿
   ２はアルキル基又はアラルキル基を示し、Ｘは水素原子
   、ハロゲン、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基
   、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基又はアリール
   基を示す。）