JPS6373946A - 磁気共鳴イメ−ジング装置 - Google Patents
磁気共鳴イメ−ジング装置Info
- Publication number
- JPS6373946A JPS6373946A JP61218009A JP21800986A JPS6373946A JP S6373946 A JPS6373946 A JP S6373946A JP 61218009 A JP61218009 A JP 61218009A JP 21800986 A JP21800986 A JP 21800986A JP S6373946 A JPS6373946 A JP S6373946A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- magnetic resonance
- resonance imaging
- shim
- superconducting magnet
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は、超伝導磁石方式により静!i場を形成し、か
つ、この磁場強度を可変とする磁気共鳴イメージング装
置に関する。
つ、この磁場強度を可変とする磁気共鳴イメージング装
置に関する。
(従来の技術)
超伝導磁石とは、超伝導線材を巻き付けたコイルを摂氏
マイナス269度の極低温の液体ヘリウムに浸すことに
より、電気抵抗が零になるという超伝導状態に設定し、
この超伝導状態でコイルに電流を流すことにより安定な
高磁界を発生できる磁石である。
マイナス269度の極低温の液体ヘリウムに浸すことに
より、電気抵抗が零になるという超伝導状態に設定し、
この超伝導状態でコイルに電流を流すことにより安定な
高磁界を発生できる磁石である。
近年、磁気共鳴イメージング(以下、MRIと称する)
装置にこの超伝導磁石を採用して静磁場を形成すること
が行なわれている。
装置にこの超伝導磁石を採用して静磁場を形成すること
が行なわれている。
このような超伝導磁石を採用することにより安定した高
磁場が得られるため、従来0.35〜0゜5T(テスラ
)の磁場強度で18(プロント)イメージによる診断を
行なっていたのに対し、1゜5〜2.0T(7)i’a
jJ3強[テ多mT! (13G、 31P 。
磁場が得られるため、従来0.35〜0゜5T(テスラ
)の磁場強度で18(プロント)イメージによる診断を
行なっていたのに対し、1゜5〜2.0T(7)i’a
jJ3強[テ多mT! (13G、 31P 。
19F等)スペクトロコピイの臨床研究をも可能となっ
ている。
ている。
ところで、MRI装置自体は極めて高価な装置でおるた
め、上記のプロトンイメージによる診断と多核種スペク
トロコピイによる臨床とを一台の装置で行なえることが
切望されている。このためには、磁場強度を可変するこ
とが不可欠でおる。
め、上記のプロトンイメージによる診断と多核種スペク
トロコピイによる臨床とを一台の装置で行なえることが
切望されている。このためには、磁場強度を可変するこ
とが不可欠でおる。
そして、従来より1場強度可変型と称した製品も提供さ
れていた。
れていた。
(発明が解決しようとする問題点)
従来より提供されていた磁場強度可変型のMR1装置の
最大の欠点は、ユーザレベルで磁場強度を可変すること
ができず、かつ、サービスマンによる磁場強度の可変作
業にも多大な時間を要することであった。
最大の欠点は、ユーザレベルで磁場強度を可変すること
ができず、かつ、サービスマンによる磁場強度の可変作
業にも多大な時間を要することであった。
即ち、従来の磁場強度可変型MRI装置に必っては、超
伝導磁石内に挿入されているカレントリード(起動のた
めに電流を供給するリード)を、磁場強度を可変する度
に手作業で出し入れしなければならないからである。
伝導磁石内に挿入されているカレントリード(起動のた
めに電流を供給するリード)を、磁場強度を可変する度
に手作業で出し入れしなければならないからである。
また、上記のプロトンイメージングにおいての磁場の均
一性は、φ400dsv (球面内)にて50 D I
BM程度であるのに対し、スペクトロコピイにおける磁
場均一性はO,H)DMオーダが要求されるため(この
ため、倣形領域はφ100程度に制限を受ける)、両モ
ードにおいて同一の磁場調整を行なったのでは、両モー
ドに対応した磁場均一性を確保し得ない。
一性は、φ400dsv (球面内)にて50 D I
BM程度であるのに対し、スペクトロコピイにおける磁
場均一性はO,H)DMオーダが要求されるため(この
ため、倣形領域はφ100程度に制限を受ける)、両モ
ードにおいて同一の磁場調整を行なったのでは、両モー
ドに対応した磁場均一性を確保し得ない。
そこで、本発明の目的とするところはユーザレベルで短
時間に磁場強度を可変して、プロトンイメージング及び
スペクトロコビイの両モードを一台の装置で実現するこ
とのできる実用性の高い磁気共鳴イメージング装置を提
供することにある。
時間に磁場強度を可変して、プロトンイメージング及び
スペクトロコビイの両モードを一台の装置で実現するこ
とのできる実用性の高い磁気共鳴イメージング装置を提
供することにある。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
本発明は、超伝導磁石を収納した円筒状容器の内部又は
外部に配置されて局所的に磁場分布を変えることにより
静磁場の不均一性を補正する磁性体より成るシムと、前
記円筒状容器の内部で被検体の体軸方向に沿って複数配
置されたシムコイルと、低静磁楊モード時にはOFF、
高静磁場モード時にはONされて前記各シムコイルへの
通電を制御するスイッチと、このスイッチがONされた
際に前記複数のシムコイルにより高均一磁場が形成され
るように各シムコイルへ通電制御する制御部とを設けて
磁気共鳴イメージング装置を構成している。
外部に配置されて局所的に磁場分布を変えることにより
静磁場の不均一性を補正する磁性体より成るシムと、前
記円筒状容器の内部で被検体の体軸方向に沿って複数配
置されたシムコイルと、低静磁楊モード時にはOFF、
高静磁場モード時にはONされて前記各シムコイルへの
通電を制御するスイッチと、このスイッチがONされた
際に前記複数のシムコイルにより高均一磁場が形成され
るように各シムコイルへ通電制御する制御部とを設けて
磁気共鳴イメージング装置を構成している。
(作 用)
プロトンイメージの場合には、磁場強度は0゜35乃至
0.57(テスラ)程度の低磁場モードであるため、こ
の磁場強度は超伝導磁石によって実現し、かつ、シムコ
イルへの通電をスイッチによって遮断してパッシブシム
補正により’11 ’Rの均一性を確保する。この際、
磁場の均一性はφ400dsvにて501) pMで足
りるため上記補正で充分である。
0.57(テスラ)程度の低磁場モードであるため、こ
の磁場強度は超伝導磁石によって実現し、かつ、シムコ
イルへの通電をスイッチによって遮断してパッシブシム
補正により’11 ’Rの均一性を確保する。この際、
磁場の均一性はφ400dsvにて501) pMで足
りるため上記補正で充分である。
一方、スペクトロコピイの場合は、磁場強度は1.5乃
至2.0T程度要求されるため、シムコイルへ通電して
磁場強度を増大すると共に、アクティブシム補正によっ
てφ100dsvにてO0’+ppMオーダの高均一磁
場を確保する。
至2.0T程度要求されるため、シムコイルへ通電して
磁場強度を増大すると共に、アクティブシム補正によっ
てφ100dsvにてO0’+ppMオーダの高均一磁
場を確保する。
このような磁場調整は、スイッチのON、OFFによっ
て実現できるため、ユーザレベルで容易に磁場強度を可
変することができる。
て実現できるため、ユーザレベルで容易に磁場強度を可
変することができる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本実施例に係るMRI装置を示すもので、円筒
状容器1内には上述した超伝導磁石3が収納され、該容
器1の空胴部2内で体軸Z方向に静磁場を形成するよう
になっている。
状容器1内には上述した超伝導磁石3が収納され、該容
器1の空胴部2内で体軸Z方向に静磁場を形成するよう
になっている。
4は、前記空胴部2内で体軸方向の所定位置に複数設け
られたシムコイルである。このシムコイル4は、第2図
に示すように通電回路を形成する閉ループの一部にスイ
ッチ5を有し、また、このシムコイル4への通電量を決
定する制御部の一例として、複数のシムコイル3へ供給
すべき電流値を記憶する記憶部6を設けている。そして
、前記スイッチ5がONされた場合にのみ、前記記憶部
6に予めセットされた徂の電流が各シムコイル4に通電
されるようになっている。尚、記憶部6にセットされる
電流値は、この複数のシムコイル4によって高均一磁場
が得られるように各シムコイル4毎に予め設定されるよ
うになっている。
られたシムコイルである。このシムコイル4は、第2図
に示すように通電回路を形成する閉ループの一部にスイ
ッチ5を有し、また、このシムコイル4への通電量を決
定する制御部の一例として、複数のシムコイル3へ供給
すべき電流値を記憶する記憶部6を設けている。そして
、前記スイッチ5がONされた場合にのみ、前記記憶部
6に予めセットされた徂の電流が各シムコイル4に通電
されるようになっている。尚、記憶部6にセットされる
電流値は、この複数のシムコイル4によって高均一磁場
が得られるように各シムコイル4毎に予め設定されるよ
うになっている。
また、第1図において7で示すものは、前記円筒状容器
1の空胴部2内に配置された磁性体例えば鉄等から成る
シムでめる。このシム7は、前記超伝導磁石3により形
成される静磁場の局所的な磁場分布を磁性体によって変
化することにより、静磁場の不均一性を補正するように
なっている。
1の空胴部2内に配置された磁性体例えば鉄等から成る
シムでめる。このシム7は、前記超伝導磁石3により形
成される静磁場の局所的な磁場分布を磁性体によって変
化することにより、静磁場の不均一性を補正するように
なっている。
尚、図示してはいないが、本実施例では超伝導磁石に起
動電流を供給するカレン1〜リードは、磁場強度の可変
時にも磁石内に挿入されたままとなっている。そして、
このカレントリードを通しての発熱により液体ヘリウム
の蒸発(ボイルオフ)が促進される恐れがおるため、こ
の超伝導磁石3を冷却する冷凍殿が具備されている。尚
、この冷凍殿内のモータ等により静磁場の均一性が阻害
される場合には、この冷凍機自体を磁気シールドするこ
とにより静磁場の均一性を確保することができる。
動電流を供給するカレン1〜リードは、磁場強度の可変
時にも磁石内に挿入されたままとなっている。そして、
このカレントリードを通しての発熱により液体ヘリウム
の蒸発(ボイルオフ)が促進される恐れがおるため、こ
の超伝導磁石3を冷却する冷凍殿が具備されている。尚
、この冷凍殿内のモータ等により静磁場の均一性が阻害
される場合には、この冷凍機自体を磁気シールドするこ
とにより静磁場の均一性を確保することができる。
次に、上記のように構成されたMRI装置の作用につい
て説明する。
て説明する。
プロトンイメージによる診断を行う場合には、磁場強度
は0.35乃至0.5T程度でおり、かつ、磁場の均一
性はφ400dsvで50ppMで足りる。
は0.35乃至0.5T程度でおり、かつ、磁場の均一
性はφ400dsvで50ppMで足りる。
そこで、プロトンイメージングモード(低静磁場モード
)の場合には、磁場強度は超伝導磁石4によって設定し
、シムコイル4には通電されないようにスイッチ5を0
FFbておく。シムコイル4はオープンループとなるの
でアクティブシム補正は実行されず、シム7によるパッ
シブシム補正によって磁場の均一性が確保される。ここ
で、プロトンイメージングにおいては良好な画質並びに
スライス特性を得るためにはパッシブシム補正が有効で
おり、パッシブシム補正で充分な磁場の均一性を確保で
きる。また、このとぎシムコイル4はオープンループと
なっているので、DiOpeとcupp I i ng
(シムコイルと傾斜磁場コイルとの磁気結合)とを減ら
して艮好なプロトン画像を得ることが可能となる。
)の場合には、磁場強度は超伝導磁石4によって設定し
、シムコイル4には通電されないようにスイッチ5を0
FFbておく。シムコイル4はオープンループとなるの
でアクティブシム補正は実行されず、シム7によるパッ
シブシム補正によって磁場の均一性が確保される。ここ
で、プロトンイメージングにおいては良好な画質並びに
スライス特性を得るためにはパッシブシム補正が有効で
おり、パッシブシム補正で充分な磁場の均一性を確保で
きる。また、このとぎシムコイル4はオープンループと
なっているので、DiOpeとcupp I i ng
(シムコイルと傾斜磁場コイルとの磁気結合)とを減ら
して艮好なプロトン画像を得ることが可能となる。
一方、多核種スペクトロコピイにより臨床を行う場合に
は、静磁場の磁場強度は1.5乃至2゜OTもの高磁場
が必要であり、かつ、ra揚の均一性もφ]0OdS■
で0.1CIMオーダが要求される。
は、静磁場の磁場強度は1.5乃至2゜OTもの高磁場
が必要であり、かつ、ra揚の均一性もφ]0OdS■
で0.1CIMオーダが要求される。
そこで、スペクトロコピイモード(高磁場モード)の場
合には、スイッチ5をONとしてシムコイル4に所定値
の電流を通電する。この結果、静磁場の磁場強度が増大
すると共に、アクティブシム補正により、局所的な高均
一磁場が確保できる。
合には、スイッチ5をONとしてシムコイル4に所定値
の電流を通電する。この結果、静磁場の磁場強度が増大
すると共に、アクティブシム補正により、局所的な高均
一磁場が確保できる。
このように、本実施例によれば静磁場の磁場強度を変え
たい場合には、スイッチ5をON又はOFFする操作の
みで足り、ユーザレベルで容易にla磁場強度可変する
ことができる。即ち、従来のように磁場強度の可変の度
にカレントリードを手作業で挿脱する負担の大きい作業
を要せず、ユーザレベルでra磁場強度可変する実用性
の高いMRI装置を実現できる。尚、シムコイルへの通
電伍は急激に上げられにいため、磁場強度の切換えに0
.51−1乃至1日程度の時間を要するが、従来のMR
I=I置が要していた切換時間に比べればこの時間も大
幅に短縮できたことになる。
たい場合には、スイッチ5をON又はOFFする操作の
みで足り、ユーザレベルで容易にla磁場強度可変する
ことができる。即ち、従来のように磁場強度の可変の度
にカレントリードを手作業で挿脱する負担の大きい作業
を要せず、ユーザレベルでra磁場強度可変する実用性
の高いMRI装置を実現できる。尚、シムコイルへの通
電伍は急激に上げられにいため、磁場強度の切換えに0
.51−1乃至1日程度の時間を要するが、従来のMR
I=I置が要していた切換時間に比べればこの時間も大
幅に短縮できたことになる。
ところで、上)ボしたスベクトロコピイ用の高均一磁場
領域はφ100程度であるので、患者の診断部位を上記
の蹟影領域に設定する必要がある。
領域はφ100程度であるので、患者の診断部位を上記
の蹟影領域に設定する必要がある。
この際、寝台上での患者載置位置を変えてももちろん対
処できるが、第3図に示すように従来の寝台8が体軸方
向Zと高さ方向Yとの移動が可能であったものに付加し
て、患者の体幅方向Xにも寝台8を移動可能としておく
ことが好ましい。このような溝成により、患者に負担を
かけずに診断部位を容易に昭影領域内に設定することが
できる。
処できるが、第3図に示すように従来の寝台8が体軸方
向Zと高さ方向Yとの移動が可能であったものに付加し
て、患者の体幅方向Xにも寝台8を移動可能としておく
ことが好ましい。このような溝成により、患者に負担を
かけずに診断部位を容易に昭影領域内に設定することが
できる。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、磁場強度を可変する手段として、超伝導磁石に
供給する電流値をも併わぜで変更してもよい。この場合
、カレントリードをいちいち手作業で挿JARするので
はユーザレベルでの操作で実現できないので、リモート
コントロールによってカレン1〜リードを挿脱する前溝
を付加してもよい。
供給する電流値をも併わぜで変更してもよい。この場合
、カレントリードをいちいち手作業で挿JARするので
はユーザレベルでの操作で実現できないので、リモート
コントロールによってカレン1〜リードを挿脱する前溝
を付加してもよい。
また、スペクトロコピイモードでφ100程度の小躍影
領域に診断部位を設定する手法としては、寝台の移動に
より実現するものの他、シムコイル4への通電制御等に
よって磁場領域を診断部位に合わせて設定するようにし
てもよい。
領域に診断部位を設定する手法としては、寝台の移動に
より実現するものの他、シムコイル4への通電制御等に
よって磁場領域を診断部位に合わせて設定するようにし
てもよい。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば静磁場の磁場強度
をユーザレベルで容易に可変することができ、診断時と
臨床時とにそれぞれ要求される異なる静磁場を一台の装
置で実現することができる。
をユーザレベルで容易に可変することができ、診断時と
臨床時とにそれぞれ要求される異なる静磁場を一台の装
置で実現することができる。
従って、実用性が高く経済的な磁場強度可変型のMRI
装置を提供することができる。
装置を提供することができる。
第1図は本発明に係るMRI装置の断面図、第2図はシ
ムコイルの概略説明図、第3図は本発明を好適に実施す
るための寝台を示す説明図である。 1・・・円筒状容器、 2・・・空胴、3・・・超伝導
磁石、 4・・・シムコイル、5・・・スイッチ、 6
・・・記・民部、 7・・・シム、8・・・寝台。
ムコイルの概略説明図、第3図は本発明を好適に実施す
るための寝台を示す説明図である。 1・・・円筒状容器、 2・・・空胴、3・・・超伝導
磁石、 4・・・シムコイル、5・・・スイッチ、 6
・・・記・民部、 7・・・シム、8・・・寝台。
Claims (6)
- (1)超伝導磁石を収納した円筒状容器を有し、この円
筒状容器の空胴部に形成された静磁場内に被検体を配置
することにより磁気共鳴現象を生じさせ、被検体断面の
画像化を行う磁気共鳴イメージング装置において、前記
円筒状容器の内部又は外部に配置されて局所的に磁場分
布を変えることにより前記静磁場の不均一性を補正する
磁性体より成るシムと、前記円筒状容器の内部で被検体
の体軸方向に沿つて複数配置されたシムコイルと、低静
磁場モード時にはOFF、高静磁場モード時にはONさ
れて前記各シムコイルへの通電を制御するスイッチと、
このスイッチがONされた際に前記複数のシムコイルに
より高均一磁場が形成されるように各シムコイルへ通電
制御する制御部とを設けたことを特徴とする磁気共鳴イ
メージング装置。 - (2)制御部は、複数のシムコイルに通電すべき電流値
を記憶する記憶部を具備した特許請求の範囲第1項記載
の磁気共鳴イメージング装置。 - (3)前記超伝導磁石に電流を供給するカレントリード
は、磁場強度の可変時にも前記磁石に挿入したままとし
、かつ、このカレントリードを通しての発熱による液体
ヘリウムの蒸発を防止するための冷凍機を備えた特許請
求の範囲第1項又は第2項記載の磁気共鳴イメージング
装置。 - (4)冷凍機は、磁気シールドされて超伝導磁石自体に
備え付けられたものである特許請求の範囲第3項記載の
磁気共鳴イメージング装置。 - (5)前記超伝導磁石に電流を供給するカレントリード
はリモートコントロールにより磁石に挿脱自在とし、超
伝導磁石に流す電流値を可変とした特許請求の範囲第1
項又は第2項記載の磁気共鳴イメージング装置。 - (6)前記円筒状容器の空胴部に被検体を配置する寝台
は、被検体の体幅方向にも移動自在とした特許請求の範
囲第1項乃至第5項のいずれか1項記載の磁気共鳴イメ
ージング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61218009A JPS6373946A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 磁気共鳴イメ−ジング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61218009A JPS6373946A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 磁気共鳴イメ−ジング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6373946A true JPS6373946A (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=16713196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61218009A Pending JPS6373946A (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 磁気共鳴イメ−ジング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6373946A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05205936A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Taku Yoshizawa | 変動高磁場環境発生装置 |
| JP2021136300A (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-13 | 株式会社東芝 | 超電導コイル装置 |
| US11404353B2 (en) | 2017-02-20 | 2022-08-02 | Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. | Electronic device, connection body, and manufacturing method for electronic device |
-
1986
- 1986-09-18 JP JP61218009A patent/JPS6373946A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05205936A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Taku Yoshizawa | 変動高磁場環境発生装置 |
| US11404353B2 (en) | 2017-02-20 | 2022-08-02 | Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. | Electronic device, connection body, and manufacturing method for electronic device |
| JP2021136300A (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-13 | 株式会社東芝 | 超電導コイル装置 |
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