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KR100248866B1 - High voltage generating circuit of a non-volatile semiconductor memory - Google Patents

High voltage generating circuit of a non-volatile semiconductor memory Download PDF

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KR100248866B1
KR100248866B1 KR1019960066820A KR19960066820A KR100248866B1 KR 100248866 B1 KR100248866 B1 KR 100248866B1 KR 1019960066820 A KR1019960066820 A KR 1019960066820A KR 19960066820 A KR19960066820 A KR 19960066820A KR 100248866 B1 KR100248866 B1 KR 100248866B1
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윤종용
삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 단일전원인 외부 전원전압이 변화하더라도 승압되는 고전압을 일정하게 유지하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 관한 것이다. 상기 고전압 발생회로는 제 1 및 제 2 클럭 신호들에 응답해서 전원전압보다 높은 레벨의 고전압을 발생하는 챠지펌핑부 그리고 상기 챠지펌핑부에 연결된 제 1 및 제 2 검출부들을 포함한다. 상기 챠지펌핑부는 상기 전원전압을 받아들이는 전원단자와 제 1 노드 사이에 연결되는 로드 트랜지스터와; 상기 제 1 노드와 상기 고전압을 출력하기 위한 출력 단자 사이에 직렬 연결되어 있되, 각각의 게이트 단자의 드레인 단자가 전기적으로 연결된 펌핑용 NMOS 트랜지스터들과; 각각이 대응하는 NMOS 트랜지스터의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드에 연결된 일단자 및, 상기 제 1 및 제 2 클럭 신호들을 받아들이는 제 1 및 제 2 입력 단자들에 번갈아 연결된 타 단자를 갖는 커패시터들을 갖는다. 상기 제 1 검출부는 상기 NMOS 트랜지스터들의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 i번째 접속 노드에 연결되며, 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 낮은 제 1 구간에 존재하는지의 여부를 검출하여 그 검출결과에 따라 상기 i번째 접속 노드를 상기 전원단자에 연결한다. 상기 제 2 검출부는 상기 NMOS 트랜지스터들의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 (i+j)번째 접속 노드에 연결되며, 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 높은 제 2 구간에 존재하는 지의 여부를 검출하여 그 검출 결과에따라 상기 (i+j)번재 접속 노드를 상기 전원단자에 연결한다.The present invention relates to a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for maintaining a constant high voltage even when an external power supply voltage as a single power source changes. The high voltage generation circuit includes a charge pump unit generating a high voltage higher than a power supply voltage in response to the first and second clock signals, and first and second detectors connected to the charge pump unit. The charge pumping unit includes a load transistor connected between a power supply terminal receiving the power supply voltage and a first node; Pumping NMOS transistors connected in series between the first node and an output terminal for outputting the high voltage, the drain terminals of each gate terminal being electrically connected to each other; Each having capacitors having one end connected to a connection node of a gate terminal and a drain terminal of a corresponding NMOS transistor, and the other terminal alternately connected to first and second input terminals receiving the first and second clock signals; . The first detector is connected to an i-th connection node of the connection terminals of the gate terminal and the drain terminal of the NMOS transistors, and detects whether the power supply voltage exists in a first section lower than a predetermined level, and detects the detected result. The i-th connection node is connected to the power terminal accordingly. The second detector is connected to an (i + j) th node of the connection nodes of the gate terminal and the drain terminal of the NMOS transistors, and detects whether the power supply voltage is present in a second section higher than a preset level. Then, according to the detection result, the (i + j) th connection node is connected to the power terminal.

Description

불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로. (a circuit of generating a high voltage of non volatile semiconductor memory device)A high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device. (a circuit of generating a high voltage of non volatile semiconductor memory device)

본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 단일전원인 외부 전원전압이 변화하더라도 승압되는 고전압을 일정하게 유지하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 관한 것이다.The present invention relates to a high voltage generating circuit of a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a high voltage generating circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for maintaining a constant high voltage stepped up even when an external power supply voltage as a single power source changes. .

EEPROM의 메모리 셀은 크게 나누어 FLOTOX(Floating Gate Tunnel Oxide)형과 NMOS(Metal Nitride Oxide Semiconductor)형이 있다. 상기 FLOTOX형 EEPROM 셀은 주위와 전기적으로 절연된 플로팅게이트를 가지며, 상기 플로팅게이트에 전자를 주입하거나 방출함으로써 "1" 또는 "0" 레벨의 데이터를 기억시킬 수 있다. 통상적으로, EEPROM 셀은, 도면에는 도시되지 않았지만, P형 반도체 기판과 상기 반도체 기판에 채널을 사이에 두고 N형 불순물의 소오스 및 드레인 영역이 형성되어 있다. 그리고, 상기 채널 상부에 게이트 산화막, 플로팅 게이트, ONO막, 그리고 제어 게이트가 순차적으로 상기 소오스 및 드레인 영역의 상부에 일부분 걸쳐 형성되어 있다.The memory cells of the EEPROM are largely divided into a Floating Gate Tunnel Oxide (FLOTOX) type and a Metal Nitride Oxide Semiconductor (NMOS) type. The FLOTOX type EEPROM cell has a floating gate that is electrically insulated from the surroundings, and can store "1" or "0" level data by injecting or emitting electrons into the floating gate. Usually, although not shown in the figure, the source and drain regions of N-type impurities are formed in the EEPROM cell with a channel between the P-type semiconductor substrate and the semiconductor substrate. A gate oxide film, a floating gate, an ONO film, and a control gate are sequentially formed over a portion of the source and drain regions over the channel.

통상적인 플래쉬 메모리의 동작에 의하면, 상기 플래쉬 메모리 셀은 상기 드레인 영역과 인접한 채널영역에서 상기 플로팅 게이트로 전자들이 주입되는 핫 일렉트론 인젝션(hot electron injection) 방식에 의해 프로그램된다. 일반적인 상기 인젝션 방법은 상기 소오스 영역과 P형 반도체기판 영역을 접지하고, 상기 제어 게이트에는 높은 고전압(예를들면, +12볼트)을 인가한다. 그리고, 상기의 드레인 영역에는 핫 일렉트론 인젝션을 발생시키기 위해 적당한 양의 전압(예를들면, 6 - 7볼트)을 인가함으로써 이루어진다. 상기 프로그램 방법으로 음의 전하가 상기 플로팅 게이트에 충분하게 축적되며, 상기 부유게이트의 (-)전위는 일련의 독출동작이 수행되는 동안, 상기 메모리 셀의 문턱전압을 높이는 역할을 한다.In a conventional flash memory operation, the flash memory cell is programmed by a hot electron injection method in which electrons are injected into the floating gate in a channel region adjacent to the drain region. In general, the injection method grounds the source region and the P-type semiconductor substrate region, and applies a high high voltage (eg, +12 volts) to the control gate. The drain region is then applied by applying an appropriate amount of voltage (e.g., 6-7 volts) to generate hot electron injection. A negative charge is sufficiently accumulated in the floating gate by the program method, and the negative potential of the floating gate serves to increase the threshold voltage of the memory cell during a series of read operations.

주로, 독출 동작은 메모리 셀의 상기 드레인 영역에 1 - 2볼트를 인가하고, 상기 제어 게이트에는 일정한 전압 또는 전원전압(VCC)을 인가한다. 그리고, 상기 소오스 영역에는 0볼트를 인가함으로써 이루어진다. 상기한 바와같은 독출동작이 수행된다. 상기 프로그램 동작에 의해 문턱전압이 높아진 메모리 셀은 드레인 영역로부터 소오스 영역으로 전류가 주입되는 것을 방지하게 되며, 이때 상기 메모리 셀은 "오프"되었다고 한다. 또한, 플래쉬 메모리의 동작에 의하면, 소오스 영역에서 제어 게이트로의 F-N 터널링(Fowler-Nordheim tunneling)이 발생함으로써, 플래쉬 메모리 셀은 소거된다. 일반적인 상기 터널링 방법은 높은 고전압(예를들면, +12볼트)을 상기 소오스 영역에 인가하고, 상기 제어 게이트와 상기 반도체기판에는 0볼트를 인가함으로써 이루어진다. 이때, 상기 드레인 영역은 소거의 효과를 극대화시키기 위해 고임피던스 상태(예를들면, 플로팅 상태)로 되어 있다.Primarily, a read operation applies 1-2 volts to the drain region of a memory cell and applies a constant voltage or a power supply voltage VCC to the control gate. The source region is formed by applying zero volts. The read operation as described above is performed. The memory cell having a high threshold voltage by the program operation prevents current from being injected from the drain region to the source region, and the memory cell is said to be "off". In addition, according to the operation of the flash memory, F-N tunneling (Fowler-Nordheim tunneling) from the source region to the control gate occurs, the flash memory cell is erased. The general tunneling method is achieved by applying a high high voltage (eg, +12 volts) to the source region and applying 0 volts to the control gate and the semiconductor substrate. At this time, the drain region is in a high impedance state (eg, a floating state) in order to maximize the effect of erasing.

상기한 바와같은 소거 방법에 의해 상기 제어 게이트와 상기 소오스 영역 사이에는 강한 전계(electric field)가 형성되게 되고, 이로인해 상기 F-N 터널링이 발생하여 상기 플로팅 게이트 내의 음의 전하를 상기 소오스 영역으로 방출시킨다. 통상적으로 상기 F-N 터널링은 6-7MV/cm의 전계가 게이트 절연막 사이에 인가되었을 때 발생하게 된다. 이것은 상기 플로팅 게이트와 상기 소오스 영역 사이에는 100Å 이하의 얇은 게이트 절연막이 형성되어 있기 때문에 상기 F-N 터널링이 가능하다. 상기 소거 방법으로 음의 전하가 상기 플로팅 게이트로부터 상기 소오스 영역으로 방전되는데, 일련의 독출 동작이 수행되는 동안, 상기 메모리 셀의 문턱전압을 낮추는 역할을 한다. 일반적인 플래쉬 메모리 셀 어레이 구성에 있어서, 각각의 소오스 영역은 메모리의 고집적화를 위해 공통 연결된다. 이로인해, 상기 소거방법에 의해서는 복수개의 셀들이 동시에 소거되게 되며, 소거단위는 각각의 소오스 영역이 연결된 영역에 따라 결정하게 된다.As described above, a strong electric field is formed between the control gate and the source region, thereby causing the FN tunneling to release negative charge in the floating gate to the source region. . Typically, the F-N tunneling occurs when an electric field of 6-7 MV / cm is applied between the gate insulating layers. This is because F-N tunneling is possible between the floating gate and the source region because a thin gate insulating film of 100 kΩ or less is formed. Negative charge is discharged from the floating gate to the source region by the erase method, and serves to lower the threshold voltage of the memory cell during a series of read operations. In a typical flash memory cell array configuration, each source region is commonly connected for high integration of memory. As a result, a plurality of cells are simultaneously erased by the erasing method, and the erasing unit is determined according to a region to which each source region is connected.

EPROM 또는 EEPROM을 내장하고 있는 디바이스들은, 통상적으로, 5볼트의 단일 외부 전원전압을 사용하고 있다. 따라서, 상술한 바와같은 동작을 수행하기 위해서는 5볼트의 전원전압을 대략적으로 20볼트의 고전압으로 승합할 수 있는 고전압 발생회로를 내장하여야 한다. 상기 고전압 발생회로는, 일반적으로, MOSFET를 이용한 커패시터와 수 MHz의 펌핑용(또는 승압용) 클럭을 이용하여 만들어진다. 그러나, 외부 전원전압이 변화할 경우 승압되는(펌핑되는) 고전압 레벨이 전원전압에 영향을 받기 때문에 승압되는 전압이 조금씩 차이를 나타내게 된다. 이로인해, EEPROM 셀의 플로팅 게이트로 전자들이 주입되거나 또는 주입된 전자들을 방출되는 정도가 달라져 전원전압의 변동에 따른 EEPROM 셀의 특성이 변화되는 문제점이 생겼다.Devices incorporating EPROM or EEPROM typically use a single 5 volt external supply voltage. Therefore, in order to perform the above-described operation, a high voltage generation circuit capable of multiplying a power supply voltage of 5 volts to a high voltage of approximately 20 volts should be incorporated. The high voltage generator circuit is generally made using a capacitor using a MOSFET and a pump for pumping (or boosting) a few MHz. However, when the external power supply voltage changes, the boosted voltage is slightly different since the high voltage level boosted (pumped) is affected by the power supply voltage. As a result, electrons are injected into the floating gate of the EEPROM cell or the degree of injection of the injected electrons is changed, thereby causing a problem in that the characteristics of the EEPROM cell are changed due to a change in the power supply voltage.

따라서 본 발명의 목적은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 단일전원인 외부 전원전압이 변화하더라도 승압되는 고전압을 일정하게 유지하기 위한 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device for maintaining a constant high voltage even when an external power supply voltage as a single power source changes.

도 1은 본 발명에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로의 구성을 보여주는 블록도이다,1 is a block diagram showing a configuration of a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention;

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 챠지펌핑부200 : 제 1 검출부100: charge pumping unit 200: first detection unit

220 : 제 1 검출수단240 : 제 1 스위칭수단220: first detection means 240: first switching means

300 : 제 2 검출부320 : 제 2 검출수단300: second detection unit 320: second detection means

340 : 제 2 스위칭수단340: second switching means

상술한 바와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생 회로는 제 1 및 제 2 클럭 신호들에 응답해서 전원전압보다 높은 레벨의 고전압을 발생하는 챠지펌핑부를 포함한다. 상기 챠지펌핑부는 상기 전원전압을 받아들이는 전원단자와 제 1 노드 사이에 ;연결되는 로드 트랜지스터와; 상기 제 1 노드와 상기 고전압을 출력하기 위한 출력 단자 사이에 직렬 연결되어 있되, 각각의 게이트 단자와 드레인 단자가 전기적으로 연결된 펌핑용 NMOS 트랜지스터들에 각각 대응하며, 각각이 대응하는 NMOS 트랜지스터의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드에 연결된 일단자 및, 상기 제 1 및 제 2 클럭 신호들을 받아들이는 제 1 및 제 2 입력 단자들에 번갈아 연결된 타 단자를 갖는 커패시터들을 갖는다. 본 발명의 고전압 발생회로는 제 1 검출부와 제 2 검출부를 더 포함한다. 상기 제 1 검출부는 상기 NMOS 트랜지스터들의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 i번째 (i는 양의 정수) 접속 노드에 연결되며, 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 낮은 제 1 구간에 존재하는 지의 여부를 검출하여 그 검출결과에 따라 상기 i번째 접속 노드를 상기 전원단자에 연결한다. 여기서, 상기 i번재 접속 노드가 상기 제 1 검출부를 통해 상기 전원단자에 연결될 때 상기 로드 트랜지스터와 상기 i번재 접속 노드 사이에 연결되는 NMOS 트랜지스터들 및 그에 대응하는 커패시터들에 의해서 펌핑된 전압은 상기 전원단자로 방전된다. 상기 제 2 검출부는 상기 NMOS 트랜지스터들의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 (i+j)번째 (j는 양의 정수) 접속 노드에 연결되며, 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 높은 제 2 구간에 존재하는지의 여부를 검출하여 그 검출 결과에 따라 상기 (i+j)번째 접속 노드를 상기 전원 단자에 연결한다. 여기서 상기 (i+j)번째 접속 노드가 상기 제 2 검출부를 통해 상기 전원단자에 연결될 때 상기 로드 트랜지스터와 상기 (N+M)번째 접속 노드 사이에 연결되는 NMOS 트랜지스터들 및 커패시터들에 의해서 펌핑된 전압은 상기 전원단자로 방전된다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, a charge pump for generating a high voltage of a higher level than the power supply voltage in response to the first and second clock signals of the high voltage generation circuit of the nonvolatile semiconductor memory device Contains wealth. The charge pumping unit is connected between a power supply terminal receiving the power supply voltage and a first node; A series connection between the first node and an output terminal for outputting the high voltage, respectively corresponding to pumping NMOS transistors electrically connected to respective gate terminals and drain terminals, each of which corresponds to a gate terminal of the corresponding NMOS transistor And capacitors having one terminal connected to the connection node of the drain terminal and the other terminal alternately connected to the first and second input terminals receiving the first and second clock signals. The high voltage generation circuit of the present invention further includes a first detector and a second detector. The first detector is connected to an i-th (i is a positive integer) connection node of the connection terminals of the gate terminal and the drain terminal of the NMOS transistors, and determines whether the power supply voltage is present in a first section lower than a preset level. The i-th connection node is connected to the power terminal according to the detection result. Here, the voltage pumped by the NMOS transistors and the corresponding capacitors connected between the load transistor and the i-th connection node when the i-th connection node is connected to the power terminal through the first detection unit is the power supply. Discharged to the terminal. The second detector is connected to a (i + j) th (j is a positive integer) connection node of the connection nodes of the gate terminal and the drain terminal of the NMOS transistors, and a second period in which the power supply voltage is higher than a preset level. Is detected, and the (i + j) th connection node is connected to the power supply terminal according to the detection result. Where the (i + j) th connection node is pumped by NMOS transistors and capacitors connected between the load transistor and the (N + M) th connection node when the (i + j) th connection node is connected to the power terminal through the second detector. Voltage is discharged to the power supply terminal.

이 실시예에 있어서, 상기 제 1 검출부는 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 낮은 지의 여부를 검출하여 그 검출결과로서 검출 신호를 발생하는 검출 수단 및; 상기 전원단자와 상기 i번재 접속 노드 사이에 연결되며, 상기 검출 신호에 따라 스위치 온/오프되는In this embodiment, the first detecting unit detects whether or not the power supply voltage is lower than a predetermined level and generates detection signals as a detection result; Connected between the power supply terminal and the ith connection node and switched on / off according to the detection signal;

트랜지스터를 포함한다.It includes a transistor.

이 실시예에 있어서, 상기 제 2 검출부는 상기 전원전압이 미리 설정된 레벨보다 높은 지의 여부를 검출하여 그 검출결과로서 검출 신호를 발생하는 검출 수단 및; 상기 전원단자와 상기 (i+j)번째 접속 노드 사이에 연결되며, 상기 검출 신호에 따라 스위치 온/오프되는 NMOS 트랜지스터를 포함한다.In this embodiment, the second detecting unit comprises: detecting means for detecting whether the power supply voltage is higher than a predetermined level and generating a detection signal as a detection result; And an NMOS transistor connected between the power supply terminal and the (i + j) th connection node and switched on / off according to the detection signal.

이와같은 회로에 의해서, 단일전원인 외부 전원전압이 변화하더라도 승압되는 고전압을 일정하게 유지함으로써 상기 고전압이 인가되는 EEPROM 셀에 있어서 프로그램 및 소거 동작시 전자주입 및 전자방출의 정도를 일정하게 유지할 수 있게 되었다.By such a circuit, even when the external power supply voltage, which is a single power supply, is maintained, the high voltage boosted is kept constant so that the degree of electron injection and electron emission can be kept constant during program and erase operations in the EEPROM cell to which the high voltage is applied. It became.

이하 본 발명의 실시예에 따른 참조도면 도 1에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, reference will be made in detail with reference to FIG. 1.

도 1에 도시된 본 발명의 신규한 고전압 검출회로는 전원전압에 비해 낮은 전압레벨을 검출하기 위한 저전압(LOW VCC) 검출회로(200)와 상기 전원전압(Vcc)에 비해 낮은 전압레벨을 검출하기 위한 고전압(HIGH VCC) 검출회로(300)를 구현함으로써 전원전압(Vcc)의 변동에 관계없이 일정한 고전압(Vpp)을 얻기 위한 것이다. 즉, 상기 전원전압(Vcc)에 비해 낮은 레벨의 제 1 구간에 상기 전원전압(Vcc)이 존재할 경우 상기 저전압 검출회로(200)는 이를 검출하여 소정의 펌핑용 커패시터들이 추가로 직렬 연결되도록 함으로써 고전압(Vpp)을 소정 레벨 승압시켜준다. 그리고, 상기 전원전압(Vcc)에 비해 높은 레벨의 제 2 구간에 상기 전원전압(Vcc)이 존재할 경우, 상기 고전압 검출회로(300)는 이를 검출하여 펌핑용 커패시터들이 미리 설정된 수만큼 줄어들게 함으로써 상기 고전압이 오버 펌핑되는 것을 방지하여 준다. 이로써, 비록 전원전압(Vcc)이 변화되더라도, 고전압 발생회로로부터 출력되는 고전압(Vpp)의 레벨을 일정하게 유지할 수 있다.The novel high voltage detection circuit of the present invention shown in FIG. 1 detects a low voltage (LOW VCC) detection circuit 200 for detecting a voltage level lower than the power supply voltage and a voltage level lower than the power supply voltage (Vcc). The high voltage VCC detection circuit 300 is implemented to obtain a constant high voltage Vpp regardless of a change in the power supply voltage Vcc. That is, when the power supply voltage Vcc is present in the first section at a level lower than that of the power supply voltage Vcc, the low voltage detection circuit 200 detects it so that predetermined pumping capacitors are further connected in series. Boosts (Vpp) a predetermined level. In addition, when the power supply voltage Vcc is present in the second section at a higher level than the power supply voltage Vcc, the high voltage detection circuit 300 detects this and reduces the pumping capacitors by a predetermined number. This prevents over pumping. Thereby, even if the power supply voltage Vcc changes, the level of the high voltage Vpp output from the high voltage generation circuit can be kept constant.

도 1에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로의 구성을 보여주는 블록도가 도시되어 있다. 도 1을 참조하면, 고전압 발생회로에는, 챠지펌핑부(100), 제 1 검출부(또는 저전압 검출부)(200), 그리고 제 2 검출부(또는 고전압 검출부) (300)가 제공된다.1 is a block diagram illustrating a configuration of a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a charge pumping unit 100, a first detection unit (or low voltage detection unit) 200, and a second detection unit (or high voltage detection unit) 300 are provided in a high voltage generation circuit.

상기 챠지펌핑부(100)는 전원전압(Vcc)이 공급될 때 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)에 따라 펌핑 동작을 수행하며, 다이오드로 동작하는 로드 트랜지스터(LT), 각각이 게이트, 단자, 소오스 단자 및 드레인 단자를 갖는 복수개의 펌핑용 트랜지스터들(Tl-Tn)(n은 양의 정수), 그리고 상기 트랜지스터들(Tl-Tn), 그리고 상기 트랜지스터들(Tl-Tn)에 각각 대응하는 펌핑용 커패시터들 수단들(Cl-Cn)로 구성된다. 상기 로드 트랜지스터(LT)의 채널은 전원단자(1)와 노드 1(N1) 사이에 형성되며, 상기 트랜지스터(LT)의 게이트 단자는 전원단자(1)에 연결된다. 상기 트랜지스터들(Tl-Tn)의 채널들은 노드 1(N1)와 고전압(Vpp)을 출력하기 위한 단자(4) 사이에 직렬 연결되며, 각 트랜지스터(Tl-Tn)의 게이트 단자는 자신의 드레인 단자에 연결된다. 상기 각 커패시터(Cl-Cn)의 일 단자는 대응하는 펌핑용 트랜지스터의 드레인 단자에 연결되고, 타 단자는 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)을 받아들이는 입력 단자들(2, 3)에 번갈아 연결된다.The charge pumping unit 100 performs a pumping operation according to the first and second clock signals CLK and CLK when the power supply voltage Vcc is supplied, and each of the load transistors LT operating as a diode, A plurality of pumping transistors Tl-Tn (n is a positive integer) having a gate, a terminal, a source terminal and a drain terminal, and the transistors Tl-Tn and the transistors Tl-Tn Each of the pumping capacitors means Cl-Cn. The channel of the load transistor LT is formed between the power supply terminal 1 and the node 1 N1, and the gate terminal of the transistor LT is connected to the power supply terminal 1. The channels of the transistors Tl-Tn are connected in series between the node 1 N1 and the terminal 4 for outputting the high voltage Vpp, and the gate terminal of each transistor Tl-Tn has its own drain terminal. Is connected to. One terminal of each capacitor Cl-Cn is connected to a drain terminal of a corresponding pumping transistor, and the other terminal is input terminals 2 and 3 which receive the first and second clock signals CLK and CLK. Are alternately connected).

계속해서 도 1을 참조하면, 제 1 검출부(또는 저전압 검출부) (200)는 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 전압 레벨보다 낮은 지의 여부를 검출하여 그 검출 결과로서 제 1 신호(A)를 출력한다. 상기 제 1 검출부(200)는 제 1 검출수단(220)과 스위치 수단(240)으로 동작하는 NMOS 트랜지스터(10)로 구성된다. 상기 제 1 검출수단(220)은 전원저ㅕㄴ압(Vcc)이 미리 설정된 전압 레벨보다 낮은 지의 여부를 검출하며, 그 검출 결과로서 제 1 검출신호(Dl)를 출력한다. 상기 제 2 검출부(또는 고전압 검출부) (300)는 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 전압 레벨보다 높은지의 여부를 검출하여 그 검출 결과로서 제 2 신호(B)를 출력한다. 상기 제 2 검출부(300)는 제 2 검출수단(320)과 스위치 수단(340)으로 동작하는 NMOS 트랜지스터(20)로 구성된다. 상기 제 2 검출수단(320)은 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 전압 레벨보다 높은 지의 여부를 검출하며, 그 검출 결과로서 제 2 검출신호(Dl)를 출력한다.1, the first detector (or low voltage detector) 200 detects whether the power supply voltage Vcc is lower than a preset voltage level and outputs the first signal A as a detection result. . The first detector 200 includes an NMOS transistor 10 that operates as the first detector 220 and the switch 240. The first detecting means 220 detects whether or not the power low voltage Vcc is lower than a preset voltage level, and outputs the first detection signal Dl as a detection result. The second detector (or high voltage detector) 300 detects whether the power supply voltage Vcc is higher than a preset voltage level and outputs a second signal B as a detection result. The second detector 300 includes an NMOS transistor 20 that operates as the second detector 320 and the switch 340. The second detecting means 320 detects whether or not the power supply voltage Vcc is higher than a preset voltage level, and outputs the second detection signal Dl as a detection result.

이하 본 발명에 따른 고전압 발생회로의 동작이 도 1을 참조하여 상세히 설명된다. 본 발명에 따른 고전압 발생회로는 전원전압(Vcc)의 변화에 따라 펌핑 커패시터 수단들의 수를 조절함으로써 일정한 레벨의 고전압(Vpp)을 발생하기 위한 것이다.Hereinafter, the operation of the high voltage generation circuit according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. The high voltage generation circuit according to the present invention is for generating a high level of high voltage Vpp by adjusting the number of pumping capacitor means in accordance with the change of the power supply voltage Vcc.

먼저, 전원전압(Vcc)이 미리 설절된 전압 레벨의 구간에 존재할 때, 상기 제 1 검출부(200)로부터 출력되는 제 1 신호(A)는 로직 하이 레벨(logic high level)로 유지된다. 구체적으로는, 전원전압(Vcc)이 미리 설절된 전압 레벨의 구간에 존재할 때, 상기 제 1 검출부(200)의 제 1 검출수단(220)은 이를 검출하여 로직 하이레벨의 제 1 검출신호(Dl)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(10)가 턴온되게 한다. 그리고 상기 제 2 검출부(300)의 제 2 검출수단(320)은 이를 검출하여 로직 로우 레벨(logic low level)의 제 2 검출신호(D2)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(20)가 턴오프 되게 한다. 결과적으로, 챠지펌핑부(100)의 노드 2(N2)는 상기 턴온된 NMOS 트랜지스터(10)를 통해 전원단자(1)에 연결되는 반면에, 상기 챠지펌핑부(100)의 노드 3(N3)은 전원단자(1)에 연결되지 않는다.First, when the power supply voltage Vcc is present in a section of a pre-set voltage level, the first signal A output from the first detector 200 is maintained at a logic high level. Specifically, when the power supply voltage Vcc is present in the section of the pre-set voltage level, the first detection unit 220 of the first detection unit 200 detects the first detection signal Dl having a logic high level. ), Which causes the NMOS transistor 10 to turn on. The second detection unit 320 of the second detection unit 300 detects this and outputs a second detection signal D2 having a logic low level, which causes the NMOS transistor 20 to be turned off. do. As a result, node 2 N2 of the charge pumping unit 100 is connected to the power supply terminal 1 through the turned-on NMOS transistor 10, while node 3 N3 of the charge pumping unit 100 is connected. Is not connected to the power supply terminal 1.

이러한 조건하에서, 노드 2(N2)가 제 1 검출부(200)의 NMOS 트랜지스터(10)를 통해 전원단자(1)에 연결되어 있기 때문에, 트랜지스터들(T1, T2) 및 커패시터들 (C1, C2)에 의해서 펌핑되는 전압은 NMOS 트랜지스터(10)를 통해 전원단자(1)로 방전된다. 그러므로, 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)이 인가될 때, 챠지펌핑부(100)의 펌핑용 NMOS 트랜지스터(T3)는 로드 트랜지스터로서 동작하고, 트랜지스터(T4-Tn) 및 대응하는 커패시터들(C3-Cn)만이 챠지펌핑부(100)의 펌핑 동작에 관여한다.Under these conditions, since the node 2 (N2) is connected to the power supply terminal 1 through the NMOS transistor 10 of the first detector 200, the transistors T1 and T2 and the capacitors C1 and C2. The voltage pumped by is discharged to the power supply terminal 1 through the NMOS transistor 10. Therefore, when the first and second clock signals CLK and CLK are applied, the pumping NMOS transistor T3 of the charge pumping unit 100 operates as a load transistor, and the transistors T4-Tn and corresponding ones. Only capacitors C3-Cn are involved in the pumping operation of the charge pumping unit 100.

그 다음에, 전원전압(Vcc)이 미리 설절된 전압 레벨보다 낟은 제 1 구간에 존재할 때, 상기 제 1 검출부(200)의 제 1 검출수단(220)은 이를 검출하여 로직 로우 레벨의 제 1 검출신호(D1)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(10)가 톤오프 되게 한다. 마찬가지로, 상기 제 2 검출부(300)의 제 2 검출수단(320)은 이를 검출하여 로직 로우 레벨의 제 2 검출부신호(D2)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(20)가 턴오프 되게 한다. 결과적으로 챠지펌핑부(100)의 노드 2(N2) 및 노드 3(N3)은 상기 NMOS 트랜지스터들(10, 20)이 턴오프 되어 있기 때문에 전원단자(1)에 연결되지 않는다.Next, when the power supply voltage Vcc is present in the first section lower than the previously set voltage level, the first detection unit 220 of the first detection unit 200 detects the first voltage of the logic low level. The detection signal D1 is output, which causes the NMOS transistor 10 to be turned off. Similarly, the second detection unit 320 of the second detection unit 300 detects this and outputs the second detection unit signal D2 having a logic low level, which causes the NMOS transistor 20 to be turned off. As a result, nodes 2 (N2) and node 3 (N3) of the charge pumping unit 100 are not connected to the power supply terminal 1 because the NMOS transistors 10 and 20 are turned off.

이러한 조건하에서, 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)이 인가될 때, 챠지펌핑부(100)에 제공되는 로드 트랜지스터(LT), 펌핑용 NMOS 트랜지스터들(T1-Tn) 및 대응하는 커패시터들(C1-Cn) 모드 펌핑 동작에 관여한다. 그러므로, 전원전압(Vcc)이 낮아짐에 따라 감소되는 고전압(Vpp)의 전압 레벨이 트랜지스터들(T1, T2) 및 대응하는 커패시터들(C1, C2)에 의해서 펌핑되는 전압 레벨만큼 증가 될 것이다.Under these conditions, when the first and second clock signals CLK and CLK are applied, the load transistor LT provided to the charge pumping unit 100, the pumping NMOS transistors T1 -Tn, and the corresponding Capacitors (C1-Cn) are involved in the mode pumping operation. Therefore, the voltage level of the high voltage Vpp, which decreases as the power supply voltage Vcc is lowered, will be increased by the voltage level pumped by the transistors T1, T2 and the corresponding capacitors C1, C2.

요약하면, 전원전압(Vcc)이 낮아질 때 출력되는 고전압(Vpp)의 레벨은 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 구간에 존재할 때 출력되는 고전압(Vpp)의 레벨보다 낮아진다. 이러한 문제를 해결하기 위한 본 발명에 따르면, 챠지펌핑부(100)에 제공되는 모든 펌핑용 NMOS 트랜지스터들(T1-Tn) 및 대응하는 커패시터들(C1-Cn)이 펌핑동작에 이용되도록 함으로써, 낮아진 고전압을 요구되는 레벨로 유지할 수 있다.In summary, the level of the high voltage Vpp output when the power supply voltage Vcc is lower is lower than the level of the high voltage Vpp output when the power supply voltage Vcc is present in a predetermined section. According to the present invention for solving this problem, all the pumping NMOS transistors (T1-Tn) and the corresponding capacitors (C1-Cn) provided in the charge pumping unit 100 is lowered by the pumping operation, The high voltage can be maintained at the required level.

마지막으로, 전원전압(Vcc)이 미리 설절된 전압 레벨보다 높은 제 2 구간에 존재할 때, 상기 제 1 검출부(200)의 제 1 검출수단(220)은 이를 검출하여 로직 하이 레벨의 제 1 검출신호(D1)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(10)가 턴온 되게 한다. 이대, 상기 제 2 검출부(300)의 제 2 검출수단(320)은 이를 검출하여 로직 하이 레벨의 제 2 검출신호(D2)를 출력하며, 이는 NMOS 트랜지스터(20)가 턴온 되게 한다. 결과적으로, 챠지펌핑부(100)의 노드 2(N2) 및 노드 3(N3)은 상기 턴온된 NMOS 트랜지스터들(10, 20)을 통해 전원단자(1)에 각각 연결된다.Finally, when the power supply voltage Vcc is present in the second section higher than the previously set voltage level, the first detection unit 220 of the first detection unit 200 detects the first detection signal having a logic high level. Outputs D1, which causes the NMOS transistor 10 to be turned on. The second detection means 320 of the second detection unit 300 detects this and outputs the second detection signal D2 having a logic high level, which causes the NMOS transistor 20 to be turned on. As a result, nodes 2 (N2) and 3 (N3) of the charge pumping unit 100 are connected to the power supply terminal 1 through the turned-on NMOS transistors 10 and 20, respectively.

이러한 조건하에서, 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)이 인가될 때, 펌핑용 NMOS 트랜지스터(T5)는 로드 트랜지스터로 동작하고, 펌핑용 NMOS 트랜지스터들(T6-Tn) 및 대응하는 커패시터들(C5-Cn)만이 챠지펌핑부(100)의 펌핑 동작에 관여한다. 그러므로, 전원전압(Vcc)이 높아짐에 따라 고전압(Vpp)의 전압 레벨은 트랜지스터들(T1-T4) 및 대응하는 커패시터들(C1, C4)에 의해서 펌핑되는 전압 레벨만큼 낮아질 것이다. 트랜지스터들(T1-T4) 및 대응하는 커패시터들(C1, C4)이 펌핑 동작에 영향을 미치지 못하는 이유는 턴온된 NMOS 트랜지스터들(10, 20)을 통해 트랜지스터들(T1-T4) 및 드응하는 커패시터들(C1, C4)에 의해서 펌핑되는 전압이 방전되기 때문이다.Under these conditions, when the first and second clock signals CLK and CLK are applied, the pumping NMOS transistor T5 operates as a load transistor, and the pumping NMOS transistors T6-Tn and corresponding capacitors. Only C5-Cn is involved in the pumping operation of the charge pumping unit 100. Therefore, as the power supply voltage Vcc increases, the voltage level of the high voltage Vpp will be lowered by the voltage level pumped by the transistors T1-T4 and the corresponding capacitors C1, C4. The reason that the transistors T1-T4 and the corresponding capacitors C1, C4 do not affect the pumping operation is that the transistors T1-T4 and the corresponding capacitors are turned on through the turned on NMOS transistors 10, 20. This is because the voltage pumped by the fields C1 and C4 is discharged.

요약하면, 전원전압(Vcc)이 높아질 대 출력되는 고전압(Vpp)의 레벨은 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 구간에 존재할 때 출력되는 고전압(Vpp)의 레벨보다 높아진다. 이러한 문제를 해결하기 위한 본 발명에 따르면, 펌핑용 NMOS 트랜지스터들(T1-T4)및 대응하는 커패시터들(C1-C4)이 펌핑 동작에 영향을 미치지 못하게 함으로써, 오버 펌핑(over pumping)되는 고전압을 요구되는 레벨로 유지할 수 있다.In summary, the level of the high voltage Vpp that is output when the power supply voltage Vcc is high becomes higher than the level of the high voltage Vpp that is output when the power supply voltage Vcc is present in a predetermined section. According to the present invention to solve this problem, the pumping NMOS transistors (T1-T4) and the corresponding capacitors (C1-C4) do not affect the pumping operation, thereby over-pumping the high voltage It can be maintained at the required level.

상기한 바와같이, 전원전압의 레벨을 검출한 결과에 따라 펌핑 동작에 영향을 미치는 NMOS 트랜지스터들 및 대응하는 커패시터들의 수를 조절함으로써, 전원전압이 변화될 때 생긴,ㄴ 고전압 레벨의 변화를 방지할 수 있다.As described above, by adjusting the number of NMOS transistors and corresponding capacitors that affect the pumping operation according to the result of detecting the level of the power supply voltage, it is possible to prevent the change of the high voltage level caused when the power supply voltage is changed. Can be.

Claims (3)

제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)에 응답해서 전원전압(Vcc)보다 높은 레벨의 고전압(Vpp)을 발생하며, 상기 전원전압(Vcc)을 받아들이는 전원단자(1)와 제 1 노드(N1) 사이에 연결되는 로드 트랜지스터(LT)와; 상기 제 1 노드(N1)와 상기 고전압(Vpp)을 출력하기 위한 출력 단자(4) 사이에 직렬 연결되어 있되, 각각의 게이트 단자와 드레인 단자가 전기적으로 연결되 펌핑용 NMOS 트랜지스터들(T1-Tn)과, 상기 NMOS 트랜지스터들(T1-Tn)에 각각 대응하며, 각각이 대응하는 NMOS 트랜지스터의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드에 연결된 일 단자 및, 상기 제 1 및 제 2 클럭 신호들(CLK, CLK)을 받아들이는 제 1 및 제 2 입력 단자들에 번갈아 연결된 타 단자를 갖는 커패시터들(C1-Cn)을 갖는 챠지펌핑부(100)를 포함하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 있어서: 상기 NMOS 트랜지스터들(T1-Tn)의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 i번재 (i는 양의 정수) 접속 노드(N2)에 연결되며, 상기 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 레벨보다 낮은 제 1 구간에 존재하는 지의 여부를 검출하여 그 검출결과에 따라 상기 i번재 접속 노드(N2)를 상기 전원단자(1)에 연결하는 제 1 검출부(200) 및; 상기 i번째 접속 노드(N2)가 상기 제 1 검출부(200)를 통해 상기 전원단자(1)에 연결될 때 상기 로드 트랜지스터(LT)와 상기 i번재 접속 노드(N2) 사이에 연결되는 NMOS 트랜지스터들 및 그에 대응하는 커패시터들에 의해서 펌핑된 전압은 상기 전원단자(1)로 방전되며; 상기 NMOS 트랜지스터들의 게이트 단자 및 드레인 단자의 접속 노드들 중 (i+j)번째 (j는 양의 정수) 접속 노드(N3)에 연결되며, 상기 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 레벨보다 높은 제 2 구간에 존재하는 지의 여부를 검출하여 그 검출 결과에 따라 상기 (i+j)번째 접속 노드(N3)를 상기 전원단자(1_에 연결하는 제 2 검출부(300)를 포함하며, 상기 (i+j)번째 접속 노드(N3)가 상기 제 2 검출부(300)를 통해 상기 전원단자(1)에 연결될 때 상기 로드 트랜지스터(LT)와 상기 (N+M)번째 접속 노드(N3) 사이에 연결되는 NMOS 트랜지스터들 및 커패시터들에 의해서 펌핑된 전압은 상기 전원단자(1)로 방전되는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생 회로.In response to the first and second clock signals CLK and CLK, a high voltage Vpp having a level higher than the power supply voltage Vcc is generated and the power supply terminal 1 and the first receiving the power supply voltage Vcc are provided. A load transistor LT connected between the nodes N1; Pumping NMOS transistors T1-Tn connected in series between the first node N1 and an output terminal 4 for outputting the high voltage Vpp, and each gate terminal and a drain terminal are electrically connected. ), A terminal corresponding to each of the NMOS transistors T1 -Tn, respectively, connected to a connection node of a gate terminal and a drain terminal of a corresponding NMOS transistor, and the first and second clock signals CLK, In a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device including a charge pumping unit (100) having capacitors (C1-Cn) having other terminals alternately connected to first and second input terminals receiving CLK): One of the connection nodes of the gate and drain terminals of the NMOS transistors T1 -Tn is connected to an i (i is a positive integer) connection node N2, and the power supply voltage Vcc is lower than a preset level. Present in the first section The detection of whether or not according to the detection result of the first detection unit (200) coupled to the power supply terminal (1) for the i beonjae connection node (N2) and; NMOS transistors connected between the load transistor LT and the i-th connection node N2 when the i-th connection node N2 is connected to the power supply terminal 1 through the first detection unit 200; The voltage pumped by the corresponding capacitors is discharged to the power supply terminal 1; A second (i + j) th (j is a positive integer) connection node N3 among the connection nodes of the gate terminal and the drain terminal of the NMOS transistors, and the second power supply voltage Vcc is higher than a preset level; A second detection unit 300 which detects whether or not present in the section and connects the (i + j) th connection node N3 to the power terminal 1_ according to the detection result, and the (i + j) the connection node N3 is connected between the load transistor LT and the (N + M) th connection node N3 when the second connection node N3 is connected to the power supply terminal 1 through the second detection unit 300. A voltage pumped by NMOS transistors and capacitors is discharged to the power supply terminal (1). 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 검출부(200)는 상기 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 레벨보다 낮은지의 여부를 검출하여 그 검출결과로서 검출 신호(D1)를 발생하는 검출 수단(220)및; 상기 전원단자(1)와 상기 i번째 접속 노드(N2) 사이에 연결되며, 상기 검출 신호(D1)에 따라 스위치 온/오프되는 NMOS 트랜지스터(10)를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생 회로.2. The apparatus of claim 1, wherein the first detection unit (200) comprises: detection means (220) for detecting whether the power supply voltage (Vcc) is lower than a predetermined level and generating a detection signal (D1) as a detection result thereof; And a NMOS transistor 10 connected between the power supply terminal 1 and the i-th connection node N2 and switched on / off according to the detection signal D1. High voltage generator circuit. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 검출부(300)는 상기 전원전압(Vcc)이 미리 설정된 레벨보다 높은지의 여부를 검출하여 그 검출결과로서 검출 신호(D2)를 발생하는 검출 수단(320)및; 상기 전원단자(1)와 상기 (i+j)번째 접속 노드(N3) 사이에 연결되며, 상기 검출 신호(D2)에 따라 스위치 온/오프되는 NMOS 트랜지스터(20)를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생 회로.2. The apparatus of claim 1, wherein the second detector (300) comprises: detection means (320) for detecting whether the power supply voltage (Vcc) is higher than a predetermined level and generating a detection signal (D2) as a detection result thereof; And an NMOS transistor 20 connected between the power supply terminal 1 and the (i + j) th connection node N3 and switched on / off according to the detection signal D2. A high voltage generation circuit of a volatile semiconductor memory device.
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