KR100292708B1

KR100292708B1 - 콘디쇼닝샴푸조성물

Info

Publication number: KR100292708B1
Application number: KR1019980702764A
Authority: KR
Inventors: 히로다카 유키야마; 죤 그레고리 슈로더; 요시나리 오쿠야마
Original assignee: 데이비드 엠 모이어; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1995-10-16
Filing date: 1996-10-16
Publication date: 2001-10-26
Anticipated expiration: 2016-10-16
Also published as: EP0859583A1; BR9611006A; ES2160261T3; US5876705A; JPH11513687A; AU7435596A; ATE204738T1; CA2234851A1; DE69614870D1; KR19990064273A; MX9802978A; WO1997014396A1; CA2234851C; EP0859583B1

Abstract

본 발명은 한 제품으로 모발을 세정 및 콘디쇼닝하는 콘디쇼닝 샴푸 조성물에 관한 것이다. 이들 조성물은 세정 계면활성제; 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 지방 화합물; 비휘발성의 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온성 중합체성 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 모발 콘디쇼닝제; 및 물을 포함한다. 본 발명은 또한 모발의 세정 및 콘디쇼닝하는 방법에 관한 것이다.

Description

콘디쇼닝 샴푸 조성물

인간의 모발은 주변 환경과의 접촉 및 두피로부터 분비되는 피지로 인해 오염된다. 모발의 오염은 지저분한 느낌과 매력적이지 못한 외모를 주게되며, 이러한 모발의 오염은 빈번하고 규칙적인 모발 세정을 필요로 한다.

샴푸는 과잉의 때와 피지를 제거함으로써 모발을 세정한다. 그러나, 이러한 샴푸후에 모발은 젖은채로 엉키고 일반적으로 손질하기 힘든 상태로 된다. 일단 모발을 건조시키고 나면, 모발은 모발의 천연 오일 및 다른 천연적인 콘디쇼닝 및 습윤 성분들이 제거되어 종종 건조하고, 거칠며 광택을 잃거나 곱슬거리게 된다. 모발은 또한 건조시 정전기가 증가하게 되며, 이는 빗질을 방해하여 통상적으로 "바람에 나부끼는 모발"이라 칭하는 상태가 된다.

이러한 샴푸 후 문제점들을 경감시키려는 다양한 시도들이 있어왔다. 이들 시도들은 모발중에 남거나 헹구어지는 제품과 같은 모발 콘디쇼닝제의 샴푸 후 적용에서부터 모발을 하나의 제품으로 세정하고 콘디쇼닝하는 모발 콘디쇼닝 샴푸에까지 이른다. 모발 콘디쇼너는 전형적으로 샴푸후에 별도의 단계로 적용된다. 모발 콘디쇼닝제는 사용되는 제품의 유형에 따라 헹구어지거나 모발중에 남게된다. 그러나, 모발 콘디쇼닝제는 별도의 불편한 처리 단계를 요하는 단점을 갖는다. 콘디쇼닝 샴푸, 즉 모발의 세정과 콘디쇼닝을 모두 수행하는 샴푸가 소비자들이 사용하기에 편리하기 때문에 매우 바람직한 제품이다.

세정 샴푸 베이스에 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하기 위해서, 매우 다양한 콘디쇼닝 작용들이 제시되었다. 그러나, 이들 작용의 대다수는 오염되거나 코팅된 모발 느낌을 주거나, 샴푸의 세정 효능을 방해하거나, 불충분한 저장 안정성을 갖는 샴푸를 제공하는 단점을 갖는다.

놀랍게도 본 발명에 이르러 모발이 오염되거나 코팅된 느낌없이 양호한 세정 및 콘디쇼닝 능력을 갖는 안정한 샴푸 조성물을 수득할 수 있음이 밝혀졌다. 이러한 조성물은 통상적인 콘디쇼닝 샴푸에 비해 윤활성 및 빗질의 용이성과 같은 개선된 습윤 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공한다. 또한 이들 조성물은 모발에 부드럽고, 매끄러우며 촉촉한 모발 느낌과 같은 개선된 건조 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공한다. 이러한 건조 모발 잇점은 모발을 또한 윤기있는 모발로 보이게한다. 이러한 조성물은 세정 계면활성제; 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 화합물; 비휘발성의 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온 중합체 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 모발 콘디쇼닝제를 배합시켜 얻어진다. 바람직한 실시태양은 폴리알킬렌 글리콜을 추가로 포함하는 조성물을 포함한다.

따라서, 본 발명의 목적은 콘디쇼닝 샴푸 조성물, 즉 모발을 하나의 제품으로 세정 및 콘디쇼닝하는 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 코팅되거나, 무겁거나 오염된 모발 느낌을 생성시키지 않는 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 또다른 목적은 윤활성 및 빗질의 용이성과 같은 개선된 습윤 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하는 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 모발 느낌을 부드럽고 매끄러우며 윤기있게 하는 개선된 건조 모발 콘디쇼닝 잇점을 제공하는 것이다.

본 발명의 또다른 목적은 하나의 조성물을 사용하여 모발을 세정하고 콘디쇼닝하는 방법을 제공하는 것이다.

이들 및 기타의 목적들은 하기 상세한 설명으로부터 쉽게 명백해질 것이다.

발명의 요약

본 발명은

(a) 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹중에서 선택된 세정 계면활성제 약 5 내지 약 50 중량%;

(b) 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 지방 화합물 약 0.01 내지 약 10 중량%;

(c) 비휘발성의 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온 중합체 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 모발 콘디쇼닝제 약 0.05 내지 약 20 중량%; 및

(d) 물 약 20 내지 약 94.94 중량%를 포함하는 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물에 관한 것이다.

본 발명은 또한 이들 조성물을 사용하여 모발을 세정 및 콘디쇼닝하는 방법에 관한 것이다.

달리 나타내지 않는한, 본원에 사용된 모든 퍼센트 및 비율은 전체 조성물의 중량을 기준으로 하며, 모든 측정은 25℃또는 실온에서 수행한다.

본 발명은 본원에 개시된 발명의 필수 요소 및 제한뿐만 아니라, 임의의 추가의 성분들, 구성성분들 또는 제한을 포함하거나, 이들로 이루어지거나 또는 이들로 필수적으로 이루어질 수 있다. 본원에 언급된 모든 문헌들은 그 내용 전체가 본 발명에 참고로 인용된다.

본 발명은 모발의 세정과 콘디쇼닝을 모두 수행하는 콘디쇼닝 샴푸 조성물에 관한 것이다. 이러한 조성물은 세정 계면활성제; 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 지방 화합물; 비휘발성의 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온성 중합체성 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 모발 콘디쇼닝제; 및 물을 포함한다. 본 발명은 또한 모발의 세정 및 콘디쇼닝 방법에 관한 것이다.

본 발명의 조성물은 하기의 필수 성분 뿐만아니라 선택 성분들을 포함한다.

세정 계면활성제

본 발명의 조성물은 하나이상의 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹중에서 선택된 세정 계면활성제를 포함한다. 세정 계면활성제의 목적은 조성물에 세정 성능을 제공하는 것이다. 본원에 사용된 세정 계면활성제라는 용어는 1차적인 유화 계면활성제, 즉 유화 잇점을 제공하고 세정 성능은 낮은 계면활성제와, 본 발명의 세정 계면활성제와 구별된다. 대부분의 계면활성제는 세정성과 유화성을 모두 갖는것으로 인식된다. 본 발명으로부터 유화 계면활성제를 제외하고자 하지는 않지만, 계면활성제는 본 발명에 유용한 충분한 세정성을 또한 가져야 한다.

세정 계면활성제는 일반적으로 조성물의 약 5 내지 약 50 중량%, 바람직하게는 약 8 내지 약 30 중량%, 보다 바람직하게는 약 10 내지 약 25 중량%를 차지한다.

음이온성 계면활성제

본 발명에 유용한 음이온성 계면활성제는 알킬 및 알킬 에테르 설페이트를 포함한다. 이러한 물질은 각각 화학식 ROSO₃M 및 RO(C₂H₄O)_XSO₃M[여기에서 R은 탄소수 약 8 내지 약 30의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 약 10이고, M은 수소, 또는 암모늄, 알칸올암모늄(예: 트리에탄올암모늄), 1가 금속 양이온(예: 나트륨 및 칼륨) 또는 다가 금속 양이온(예: 마그네슘 및 칼슘)과 같은 양이온이다]을 갖는다. 바람직하게, M은 음이온성 계면활성제 성분이 수용성이도록 선택해야 한다. 음이온성 계면활성제 또는 계면활성제들은 크라프트 온도가 약 15℃이하, 바람직하게 약 10℃이하, 보다 바람직하게 약 0℃이하이도록 선택해야 한다. 또한 음이온성 계면활성제는 본 발명의 조성물에 가용성인 것이 바람직하다.

크라프트 온도는 이온성 계면활성제의 용해도가 결정 격자 에너지 및 수화열에 의해 측정되는 온도를 지칭하며, 용해도가 온도의 증가에 따라 급격하고 불연속적으로 증가하는 온도에 해당한다. 계면활성제의 각 유형들은 각자 고유의 특징적인 크라프트 온도를 가질것이다. 이온성 계면활성제에 대한 크라프트 온도는 일반적으로 당해분야에 널리 공지되어 있으며 이해되어 있다. 예를들어 문헌[Myers, Drew, Surfactant Science and Technology, pp. 82-85, VCH Publishers, Inc.(New York, New York, USA), 1988(ISBN 0-89573-399-0)](본 발명에 참고로 인용된다)을 참조하시오.

상술한 알킬 및 알킬 에테르 설페이트에서, 바람직하게 R은 알킬과 알킬 에테르 설페이트 모두에서 탄소수 약 12 내지 약 18을 갖는다. 알킬 에테르 설페이트는 전형적으로 에틸렌 옥시드와 탄소수 약 8 내지 약 24의 1가 알콜의 축합 생성물로서 제조된다. 알콜은 지방, 예를들어 코코넛 오일, 팜오일, 탈로우 등으로부터 유도되거나, 또는 합성될 수 있다. 코코넛 오일 및 팜오일로부터 유도된 라우릴 알콜 및 직쇄 알콜이 본 발명에 바람직하다. 이러한 알콜을 1 내지 약 10, 특히 약 3 몰 비의 에틸렌 옥시드와 반응시키고, 예를들어 알콜 1 몰당 평균 3 몰의 에틸렌 옥시드를 갖는 분자종들의 생성된 혼합물을 황산화시키고 중화시킨다.

본 발명에 사용할 수 있는 알킬 에테르 설페이트의 구체적인 예로는 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트; 탈로우 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트 및 탈로우 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트의 나트륨 및 암모늄 염이 있다. 매우 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 개별적인 화합물들의 혼합물을 포함하는 것들로, 상기 혼합물은 평균 탄소수 약 12 내지 약 16의 알킬 쇄 길이 및 1 내지 약 4 몰의 에틸렌 옥시드의 평균 에톡실화도를 갖는다. 이러한 혼합물은 또한 0 내지 약 20 중량%의 C₁₂-C₁₃화합물; 약 60 내지 약 100 중량%의 C_14-15-16화합물; 0 내지 약 20 중량%의 C_17-18-19화합물; 약 3 내지 약 30 중량%의 0의 에톡실화도를 갖는 화합물; 약 45 내지 약 90 중량%의 1 내지 약 4의 에톡실화도를 갖는 화합물; 약 10 내지 약 25 중량%의 약 4 내지 약 8의 에톡실화도를 갖는 화합물; 및 약 0.1 내지 약 15 중량%의 약 8 이상의 에톡실화도를 갖는 화합물을 포함한다.

다른 적합한 음이온성 계면활성제는 화학식 [R₁-SO₃-M](여기에서 R₁은 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게 약 10 내지 약 18의 직쇄 또는 분지쇄의 포화 지방족 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되고; M은 상기 정의한 바와 같다)의 유기 황산 반응 생성물의 수용성 염이다. 이러한 계면활성제의 예로는 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게 약 12 내지 약 18의, 이소-, 네오- 및 n-파리핀을 포함한 메탄계 탄화수소와 공지된 설폰화 방법, 예를들어 표백 및 가수분해에 따라 수득된 설폰화제, 예를들어 SO₃, H₂SO₄의 유기 황산 반응 생성물의 염이 있다. 바람직한 것은 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화된 C_10-18n-파라핀이다.

더욱 다른 적합한 음이온성 계면활성제는 이세티온산으로 에스테르화된 지방산과 수산화 나트륨으로 중화된 지방산(이때 지방산은 예를들어 코코넛 오일 또는 팜오일로부터 유도된다)의 반응 생성물이거나; 또는 지방산이 예를들어 코코넛 오일로부터 유도된 메틸 타우라이드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨 염이다. 다른 유사한 음이온성 계면활성제들이 미국 특허 제 2,486,921; 2,486,922; 및 2,396, 278호(본 발명에 참고로 인용된다)에 개시되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다른 음이온성 계면활성제는 숙시네이트이다. 이들의 예로는 이나트륨-N-옥타데실설포숙시네이트; 이나트륨 라우릴 설포숙시네이트; 디암모늄 라우릴 설포숙시네이트; 테트라 나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포숙시네이트; 나트륨 설포숙신산의 디아밀 에스테르; 나트륨 설포숙신산의 디헥실 에스테르 및 나트륨 설포숙신산의 디옥틸 에스테르가 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다른 음이온성 계면활성제는 아미노산으로부터 유도된 것들이다. 이러한 계면활성제의 비제한적인 예로 N-아실-L-클루타메이트, N-아실-N-메틸-β-알라네이트, N-아실사르코시네이트 및 이들의 염이 있다.

더욱 또다른 유용한 계면활성제는 타우린(2-아미노에탄설폰산으로도 알려져 있다)으로부터 유도된 것들이다. 이러한 산의 예로는 N-아실-N-메틸 타우레이트가 있다.

다른 적합한 음이온성 계면활성제는 탄소수 약 10 내지 약 24의 올레핀 설포네이트이다. 본 발명에 사용된 "올레핀 설포네이트"란 용어는 알파-올레핀을 비착화된 삼산화황을 사용하여 설폰화시킨 다음 반응중에 형성된 임의의 설폰이 가수분해되어 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트를 형성하도록 하는 조건하에서 산 반응 혼합물을 중화시켜 제조할 수 있는 화합물을 의미한다. 삼산화황은 액체이거나 기체일수 있으며, 대개, 반드시는 아니지만, 불활성 희석제에 의해, 예를들어 액체 SO₂, 염소화된 탄화수소 등(액체 형대로 사용되는 경우)에 의해, 또는 공기, 질소, 기상 SO₂등(기체 형대로 사용되는 경우)에 의해 희석시킬 수 있다.

올레핀 설포네이트가 유도되는 알파-올레핀은 탄소수 약 12 내지 약 24, 바람직하게 약 14 내지 약 16의 모노-올레핀이다. 바람직하게, 이들은 직쇄 올레핀이다.

순수한 알켄 설포네이트 및 일부 하이드록시-알칸설포네이트이외에, 올레핀 설포네이트는 반응 조건, 반응물의 비율, 출발 올레핀의 성질 및 올레핀 원료중의 불순물, 및 설폰화 공정중의 부반응들에 따라 소량의 다른 물질, 예를들어 알켄 디설포네이트를 함유할 수 있다. 상기 유형의 구체적인 알파-올레핀 설포네이트 혼합물이 1967년 7월 25일자로 허여된 플라우머(Pflaumer)와 케슬러(Kessler)의 미국 특허 제 3,332,880 호(본 발명에 그 내용 전체가 참고로 인용된다)에 개시되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 음이온성 계면활성제의 또다른 부류로 베타-알킬옥시 알칸 설포네이트가 있다. 이러한 화합물은 하기 화학식을 갖는다:

상기식에서, R¹은 탄소수 약 6 내지 약 20의 직쇄 알킬 그룹이고, R2는 탄소수 약 1, 바람직하게 약 3의 저급 알킬 그룹이고, M은 상기 정의한 바와 같다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 다수의 다른 음이온성 계면활성제가 문헌 [McCutcheon's, Emulsifiers and Detergents, 1989 Annual](M.C. Publishing Co. 에 의해 발행) 및 미국 특허 제 3,929,678호(본 발명에 그 내용 전체가 참고로 인용된다)에 개시되어 있다. 샴푸 조성물에 사용하기에 바람직한 음이온성 계면활성제로는 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우르산 모노글리세라이드 나트륨 설페이트, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레트 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 칼륨 라우레트 설페이트, 나트륨 라우릴 사르코시네이트이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트, 라우릴 사르코신, 코코일 사르코신, 암모늄 코코일 설페이트, 암모늄 라우로일 설페이트, 나트륨 코코일 설페이트, 나트륨 라우로일 설페이트, 칼륨 코코일 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코코일 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 설포네이트, 및 나트륨 도데실 벤젠 설포네이트, 나트륨 N-라우로일-L-글루타메이트, 트리에탄올 N-라우로일-L-글루타메이트, 나트륨 N-라우로일-N-메틸 라우레이트, 나트륨 N-라우로일-N--메틸-β-아미노프로피오네이트 및 이들의 혼합물이 있다.

양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제

샴푸 조성물은 양쪽성 및/또는 쯔비터이온성 계면활성제를 포함할 수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 양쪽성 계면활성제에는 지방족 라디칼이 직쇄 또는 분지쇄인 지방족 2급 및 3급 아민의 유도체를 포함하며, 지방족 치환체중 하나는 탄소수 약 8 내지 약 18을 함유하고, 하나는 비이온성 수용해성 그룹, 예를들어 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 함유한다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 쯔비터이온성 계면활성제로는 지방족 4급 암모늄, 포스포늄 및 설포늄 화합물의 유도체가 있으며, 이때 지방족 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄이고, 지방족 치환체들중 하나는 탄소수 약 8 내지 약 18을 함유하고, 하나는 비이온성 그룹, 예를들어 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 함유한다. 이들 화합물의 화학식은 하기와 같다:

상기 식에서, R²는 약 8 내지 약 18개의 탄소원자, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥시드 잔기 및 0 내지 약 하나의 글리세릴 잔기를 갖는 알킬, 알케닐 또는 하이드록시 알킬 라디칼을 함유하고; Y는 질소, 인 및 황 원자로 이루어진 그룹중에서 선택되고; R³는 탄소수 1 내지 약 3의 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이고; X는 Y가 황 원자일때 1이고, Y가 질소 또는 인 원자일때는 2이며; R⁴는 탄소수 1 내지 약 4의 알킬렌 또는 하이드록시알킬렌이고; Z는 카복실레이트, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 및 포스포네이트 그룹으로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이다.

양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제의 예로는 또한 설테인 및 아미도설테인이 있다. 아미도설테인을 포함한 설테인의 예로는 코코디메틸프로필설테인, 스테아릴디메틸프로필설테인, 라우릴-비스-(2-하이드록시에틸)프로필설테인 등; 및 아미도설테인, 예를들어 코코아미도디메틸프로필설테인, 스테아릴아미도도디메틸프로필설테인, 라우릴아미도비스-(2-하이드록시에틸)프로필설테인 등이 있다. 바람직한 것은 아미도하이드록시설테인, 예를들어 C_12-18하이드로카빌 아미도 프로필 하이드록시설테인, 특히 C_12-14하이드로카빌 아미도프로필 하이드록시설테인, 예를들어 라우릴아미도프로필 하이드록시설테인 및 코코아미도프로필 하이드록시설테인이다. 다른 설테인들이 미국 특허 제 3,950,417 호(본 발명에 참고로 인용된다)에 개시되어 있다.

다른 적합한 양쪽성 계면활성제는 화학식 R-NH(CH₂)_nCOOM의 아미노알카노에이트, 화학식 R-N[(CH₂)_mCOOM₂의 이미노디알카노에이트 및 이들의 혼합물이 있으며, 이때 n 및 m은 1 내지 약 4의 수이고, R은 탄소수 8 내지 22의 알킬 또는 알케닐이고, M은 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 알칸올암모늄이다.

적합한 아미노알카노에이트의 예로는 n-알킬아미노-프로피오네이트 및 n-알킬이미노디프로피오네이트가 있으며, 이들의 구체적인 예에는 N-라우릴-베타-아미노 프로피온산 또는 그의 염, 및 N-라우릴-베타-이미노-디프로피온산 또는 그의 염, 및 이들의 혼합물이 포함된다.

다른 적합한 양쪽성 계면활성제에는 하기 화학식의 것들이 포함된다:

상기식에서, R¹은 탄소수 8 내지 22, 바람직하게 12 내지 16의 알킬 또는 알케닐이고, R²및 R³는 독립적으로 수소, CH₂CO₂M, CH₂CH₂OH, CH₂CH₂OCH₂CH₂COOM 및 (CH₂CH₂O)_mH로 이루어진 그룹중에서 선택되며, 이때 m은 1 내지 약 25의 정수이고, R⁴는 수소, CH₂CH₂OH 및 CH₂CH₂OCH₂CH₂COOM으로 이루어진 그룹중에서 선택되고, Z는 CO₂M 또는 CH₂CO₂M이고, n은 2 또는 3, 바람직하게 2이고, M은 수소 또는 양이온, 예를들어 알칼리 금속(예: 리튬, 나트륨, 칼륨), 알칼리 토금속(베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨)또는 암모늄이다.

이러한 유형의 계면활성제는 때때로 이미다졸린-유형의 양쪽성 계면활성제로서 분류되지만, 이들이 반드시 이미다졸린 중간체를 통해 직접 또는 간접적으로 유도되어야 하는 것은 아님을 알아야 한다. 이러한 유형의 적합한 물질들은 상표명 MIRANOL로 시판되며, 여러종들의 복잡한 혼합물을 포함하는 것으로 이해되고, R²에 수소를 가질 수 있는 종들에 대해 pH에 따라 양자화된 종들 및 비-양자화된 종들로 존재할 수 있다. 모든 이러한 변화 및 종들은 상기 화학식에 포함된다.

상기 화학실의 계면활성제의 예로 모노카복실레이트 및 디카복실레이트가 있다. 이러한 물질의 예로는 코코암포카복시프로피오네이트, 코코암포카보시프로피온산, 코코암포카복시글리시네이트(한편으로 코코암포디아세테이트라 칭한다) 및 코코암포아세테이트가 있다.

상업적인 양쪽성 계면활성제에는 상표명 MIRANOL C2M CONC. N.P., MIRANOL C2M CONC. O.P., MIRANOL C2M SF, MIRANOL CM SPECIAL(Miranol, Inc.); ALKATERIC 2CIB(Alkaril Chemicals); AMPHOTERGE W-2(Lonza, Inc.); MONATERIC CDX-38, MO-NATERIC CSH-32(Mona Industries); REWOTERIC AM-2C(Rewo Chemical Group); 및 SCHERCOTERIC MS-2(Scher Chemicals)로 시판되는 것들이 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 베타인 계면활성제, 즉 쯔비터이온성 계면 활성제는 하기 화학실을 갖는다:

상기식에서, R₁은으로 이루어진 그룹중에서 선택된 일원이고; R₂는 저급알킬 또는 하이드록시알킬이고; R₄는 수소 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 일원이고; R₅는 고급 알킬 또는 알케닐이고; Y는 저급 알킬, 바람직하게 메틸이고; m은 2 내지 7, 바람직하게 2 내지 3의 정수이고; n은 1 또는 0의 정수이고; M은 수소, 또는 상술한 바와 같은 양이온, 예를들어 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 암모늄이다.

"저급 알킬" 또는 "하이드록시알킬"이라는 용어는 하나 내지 약 3 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄의 포화된 지방족 탄화수소 라디칼 및 치환된 탄화수소 라디칼, 예를들어 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 하이드록시프로필, 하이드록시에틸등을 의미한다. "고급 알킬 또는 알케닐"이라는 용어는 약 8 내지 약 20개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄의 포화된(즉 "고급 알킬") 및 불포화된(즉 "고급 알케닐")지방족 탄화수소 라디칼, 예를들어 라우릴, 세틸, 스테아릴, 올레일 등을 의미한다. "고급 알킬 또는 알케닐"이라는 용어가 하나이상의 중간 결합, 예를들어 에테르 또는 폴리에테르 결합, 또는 비작용성 치환제, 예를들어 하이드록실 또는 할로겐 라디칼(이때 상기 라디칼은 소수성 특징을 가진채로 있는다)을 함유할 수도 있는 라디칼들의 혼합물을 포함함은 물론이다.

본 발명에 유용한 n이 0인 상기 화학식의 베타인 계면활성제의 예로는 알킬베타인, 예를들어 코코디메틸카복시메틸베타인, 라우릴디메틸카복시메틸베타인, 라우릴 디메틸-알파-카복시에틸베타인, 세틸디메틸-카복시메틸베타인, 라우일-비스-(2-하이드록시메틸)카복시메틸베타인, 스테아릴-비스(2-하이드록시프로필)카복시메틸베타인, 올레일디메틸-감마-카복시프로필베타인, 라우릴-비스-(2-하이드록시프로필)알파-카복시에틸베타인 등이 있다. 설포베타인은 코코디메틸설포프로필베타인, 스테아릴디메틸설포프로필베타인, 라우릴-비스-(2-하이드록시에틸)설포프로필베타인 등을 나타낼 수 있다.

샴푸 조성물에 유용한 아미도 베타인 및 아미도설포 베타인의 구체적인 예로는 아미도카복시베타인, 예를들어 코코아미도디메틸카복시메틸베타인, 라우릴아미도디메틸카복시메틸베타인, 세틸아미도디메틸카복시메틸베타인, 라우릴아미도-비스 -(2-하이드록시에틸)-카복시메틸베타인, 코코아미도-비스(2-하이드록시에틸)-카복스메틸베타인 등이 있다. 아미도 설포베타인은 코코아미도디메틸설포프로필베타인, 스테아릴아미도디메틸설포프로필베타인, 라우릴아미도-비스-(2-하이드록시에틸)-설포프로필베타인 등으로 나타낼 수 있다.

비이온성 계면활성제

본 발명의 샴푸 조성물은 비이온성 계면활성제를 포함할 수 있다. 비이온성 계면활성제에는 알킬렌 옥시드 그룹(본래적으로 친수성이다)과 유기 소수성 화합물 (본래적으로 지방족이거나 알킬 방향족일 수 있다)의 축합에 의해 생성된 화합물들이 포함된다.

샴푸 조성물에 사용하기 위한 비이온성 계면활성제의 바람직한 비제한적인 예로는 하기와 같은 것들이 있다:

(1) 알킬 페놀의 폴리에틸렌 옥시드 화합물, 예를들어 직쇄 또는 분지쇄 형태로 탄소수 약 6 내지 약 20을 갖는 알킬 그룹을 함유하는 알킬 페놀과 에틸렌 옥시드의 축합 생성물(이때 상기 에틸렌 옥시드는 알킬 페놀 1 몰당 약 10 내지 약 60 몰의 양으로 존재한다);

(2) 프로필렌 옥시드와 에틸렌 디아민 생성물의 반응으로부터 생성된 생성물과 에틸렌 옥시드와의 축합으로부터 유도된 것들;

(3) 직쇄 또는 분지쇄 형태로 탄소수 약 8 내지 약 18을 갖는 지방족 알콜과 에틸렌 옥시드의 축합 생성물, 예를들어 코코넛 알콜 1 몰당 약 10 내지 약 30 몰의 에틸렌 옥시드를 갖는 코코넛 알콜 에틸렌 옥시드 축합물(이때 코코넛 알콜 부분은 탄소수 약 10 내지 약 14를 갖는다);

(4) 화학식 [R¹R²R³N →0](여기에서, R¹은 약 8 내지 약 18 개의 탄소원자, 0 내지 약 10 개의 에틸렌 옥시드 잔기, 및 0 내지 약 1 개의 글리세릴 잔기를 갖는 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시 알킬 라디칼을 함유하고, R²및 R³는 약 1 내지 약 3 개의 탄소원자 및 0 내지 약 1 개의 하이드록시 그룹을 함유하며, 예를들어 메틸, 에틸, 프로필, 하이드록시에틸, 또는 하이드록시프로필 라디칼을 함유한다)에 대응하는 장쇄 3급 아민 옥시드;

(5) 화학식 [RP'R"P →0](여기에서, R은 쇄 길이중에 약 8 내지 약 18 개의 탄소원자, 0 내지 약 10 개의 에틸렌 옥시드 잔기 및 0 내지 1 개의 글리세릴 잔기 를 갖는 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시알킬 라디칼을 함유하고, R' 및 R"는 각각 탄소수 약 1 내지 약 3의 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이다)의 장쇄 3급 포스핀 옥시드;

(6) 탄소수 1 내지 약 3의 하나의 단쇄 알킬 또는 하이드록시 알킬 라디칼(대개 메틸) 및 하나의 소수성 장쇄(약 8 내지 약 20개의 탄소원자, 0 내지 약 10 개의 에틸렌 옥시드 잔기 및 0 내지 1 개의 글리세릴 잔기를 함유하는 알킬, 알케닐, 하이드록시 알킬 또는 케토 알킬 라디칼을 포함한다)를 함유하는 장쇄 디알킬 설폭사이드;

(7) 알킬 폴리사카라이드(APS) 계면활성제(예: 알킬 폴리글리코사이드)[이의 예들이 본 발명에 참고로 인용된 미국 특허 제 4,565,647 호에 개시되어 있으며, 여기에는 탄소수 약 6 내지 약 30의 소수성 그룹과 친수성 그룹으로서 폴리사카라이드 (예: 폴리글리코사이드)를 갖는 APS 계면활성제가 개시되어 있으며; 임의로, 소수성 및 친수성 잔기를 결합시키는 폴리알킬렌-옥시드 그룹이 존재할 수 있고; 알킬 그룹(즉, 소수성 잔기)은 포화 또는 불포화, 분지 또는 비분지 및 비치환 또는 치환(예를들어 하이드록시 또는 환상 고리에 의해)될 수 있고; 바람직한 물질은 헨켈, 아이씨아이 아메리카스(Henkel, ICI Americas)와 세픽(Seppic)으로부터 상업적으로 입수할 수 있는 알킬 폴리글루코사이드이다]; 및

(8) 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 예를들어 화학식 RO(CH₂CH₂)nH을 갖는 화합물 및 폴리에틸렌 글리콜(PEG) 글리세릴 지방 에스테르, 예를들어 화학식R(O)-OCH₂CH(OH)CH₂(OCH₂CH₂)nOH(여기에서 n은 1 내지 약 200, 바람직하게 약 20 내지 약 100이고, R은 탄소수 약 8 내지 약 22의 알킬이다)를 갖는 화합물.

지방 화합물: 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체 및 지방산 유도체

본 발명의 조성물은 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나이상의 지방 화합물 약 0.01% 내지 약 10%, 바람직하게 약 0.1% 내지 약 8% 및 보다 바람직하게 약 0.25% 내지 약 5%를 포함한다. 지방 화합물이란 용어는 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 화합물을 포함하는 것으로 본원에서 정의된다. 본 명세서의 분야에 개시된 화합물은 몇가지 경우에 하나이상의 부류를 포함할 수 있는 것으로 인식된다. 예를 들면 몇 가지 지방 알콜 유도체는 지방산 유도체로서 또한 분류될 수 있다. 또한, 이들 화합물의 몇가지는 비이온성 계면활성제로서의 특성을 가질 수 있고, 상기와 같이 분류될 수 있다. 그러나, 주어진 분류는 특정 화합물에서 제한되는 것은 아니며, 분류 및 명칭의 편의성을 위해 이루어진 것이다. 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체 및 지방산 유도체의 비제한적인 실례는 문헌[International Cosmetic Ingredient Dic-tionary, Fifth Edition, 1993 and CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Second Edition, 1992]에 기술되어 있고, 이들 전문은 본원에 참고로 인용되어 있다.

지방 알콜

본원에 유용한 지방 알콜은 탄소수 약 10 내지 약 30, 바람직하게 약 12 내지 약 22 및 보다 바람직하게 약 16 내지 약 22를 갖는 것들이다. 이들 지방 알콜은 직쇄 또는 분지쇄 알콜일 수 있고, 포화되거나 불포화될 수 있다. 지방 알콜의 비제한적인 실례는 데실 알콜, 운데실 알콜, 도데실, 미리스틸, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 아소스테아릴 알콜, 이소세틸 알콜, 베헤닐 알콜, 리날로올, 올레일 알콜, 콜레스테롤, 시스-4-t-부틸시클로헥사놀, 미리실 알콜 및 이들의 혼합물을 포함한다. 특히 바람직한 지방 알콜은 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 아소스테아릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것들이다.

지방산

본원에 유용한 지방산은 탄소수 약 10 내지 약 30, 바람직하게 약 12 내지 약 22 및 보다 바람직하게 약 16 내지 약 22를 갖는 것들이다. 이들 지방산은 직쇄 또는 분지쇄 산일 수 있고, 포화되거나 불포화될 수 있다. 본원의 탄소수 요구조건을 충족시키는 2가산, 3가산 및 기타 다가산을 또한 포함한다. 본원에서 이들 지방산의 염이 또한 포함된다. 지방산의 비제한적인 실례는 라우르산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 아리키돈산, 올레산, 이소스테아르산, 세바크산 및 이들의 혼합물을 포함한다. 본원에 사용하기에 특히 바람직한 것은 팔미트산, 스테아르산 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 지방산이다.

지방 알콜 유도체

지방 알콜 유도체는 지방 알콜의 알킬 에테르, 알콕실화 지방 알콜, 알콕실화 지방 알콜의 알킬 에테르, 지방 알콜의 에스테르 및 이들의 혼합물을 포함하는 것으로 본원에서 정의된다. 지방 알콜 유도체의 비제한적인 실례는 메틸 스테아릴 에테르; 2-에틸헥실 도데실 에테르; 스테아릴 아세테이트; 세틸 프로피오네이트; 세테스-1 내지 세테스-45와 같은 세테스 시리즈 화합물(세틸 알콜의 에틸렌 글리콜 에테르; 여기서 번호는 존재하는 에틸렌 글리콜 잔기의 수를 나타낸다); 스테아레스-1 내지 스테아레스-100과 같은 스테아레스 시리즈의 화합물(스테아레스 알콜의 에틸렌 글리콜: 여기서 번호는 존재하는 에틸렌 글리콜 잔기의 수를 나타낸다); 스테아레스-1 내지 스테아레스-50(스테아레스 알콜의 에틸렌 글리콜 에테르, 즉 세틸 및 스테아릴 알콜을 주로 함유하는 지방 알콜의 혼합물: 여기서 번호는 존재하는 에틸렌 글리콜 잔기의 수를 나타낸다); 세테스, 스테아레스 및 상기 기술된 스테아레스 화합물의 C₁내지 C₃₀알킬 에테르; 옥틸도데실 알콜, 도데실펜타데실 알콜, 헥실데실 알콜 및 이소스테아릴 알콜과 같은 분지된 알콜의 폴리옥시에틸렌 에테르; 베헤닐 알콜의 폴리옥시에틸렌 에테르; PPG-9-스테아레스-3, PPG-11 스테아릴 에테르, PPG-8-세테스-1 및 PPG-10 세틸 에테르와 같은 PPG 에테르; 및 상기 모든 화합물의 혼합물을 포함한다. 본원에 사용하기에 바람직한 것은 스테아레스-2-, 스테아레스-4-, 세테스-2- 및 이들의 혼합물이다.

지방산 유도체

지방산 유도체는, 상기 정의된 지방 알콜의 지방산 에스테르, 이러한 지방 알콜 유도체가 에스테르화가능한 하이드록실 그룹을 가질 때 상기 정의된 지방 알콜 유도체의 지방산 에스테르, 상기 정의된 지방 알콜 및 지방 알콜 유도체이외에 알콜의 지방산 에스테르, 하이드록시 치환된 지방산 및 이들의 혼합물을 포함하는 것으로 본원에서 정의된다. 지방산 유도체의 비제한적인 실례는 리시놀레산, 글리세롤 모노스테아레이트, 12-하이드록시 스테아르산, 에틸 스테아레이트, 세틸 스테아레이트, 세틸 팔미테이트, 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르 스테아레이트, 폴리옥시 에틸렌 스테아린 에테르 스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르 스테아레이트, 에틸렌글리콜 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 모노스테아레이트, 폴리옥시 에틸렌 디스테아레이트, 프로필렌글리콜 모노스테아레이트, 프로필렌글리콜 디스테아레이트, 트리메틸올프로판 디스테아레이트, 소비탄 스테아레이트, 폴리글리세릴 스테아레이트, 디메틸 세바케이트, PEG-15 코코에이트, PPG-15 스테아레이트, 글리세릴 모노스테아레이트, 글리세릴 디스테아레이트, 글리세릴 트리스테아레이트, PEG-8 라우레이트, PPG-2 이소스테아레이트, PPG-9 라우레이트 및 이들의 혼합물을 포함한다. 본원에 사용하기에 바람직한 것은 글리세롤 모노스테아레이트, 12-하이드록시 스테아르산 및 이들의 혼합물이다.

모발 콘디쇼닝제

본 발명의 조성물은 비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온성 중합체 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 모발 콘디쇼닝제 약 0.05% 내지 약 20%, 바람직하게는 약 0.1% 내지 약 10% 및 보다 바람직하게 약 0.5% 내지 약 10%를 포함한다.

비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제

본원에 유용한 모발 콘디쇼닝제는 비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제를 포함한다. 비휘발성이란 실리콘 콘디쇼닝제가 주위 조건(예, 25℃에서 1기압)에서 매우 낮거나 크지 않은 증기압을 나타내는 것을 의미한다. 비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제는 바람직하게 약 250℃이상, 보다 바람직하게 약 260℃ 및 더욱 보다 바람직하게 약 275℃의 주위 압력에서 비등점을 갖는다. "분산되"이란 콘디쇼닝제가 소적의 유제 또는 현탁액의 형태와 같이 수성 담체로부터 분리, 불연속상을 형성하는 것을 의미한다. 소적은 약 0.1μ 내지 약 25μ, 바람직하게 약 5μ 내지 약 20μ의 평균 입경을 갖는다.

본원에 사용하기 위한 비휘발성 모발 콘디쇼닝제는 바람직하게 25℃에서 약 1,000 내지 약 2,000,000 보다 바람직하게 약 10,000 내지 약 1,800,000 및 더욱 보다 바람직하게 약 100,000 내지 약 1,500,000의 센티스톡의 점도를 갖는다. 1970년 7월 20일자의 다우 코닝 코포레이트(Dow Corninig Corporate) 시험방법 CTM0004에 기술된 유리 모세관 점도계로 점도를 측정할 수 있고, 그의 전체는 본원에 참고로 인용된다. 적합 실리콘 유도체는 폴리알킬 실록산, 폴리아릴 실록산, 폴리알킬아릴 실론산, 폴리에테르 실록산 공중합체 및 이들의 혼합물을 포함한다. 모발 콘디쇼닝 특성을 갖는 다른 비휘발성 실리콘을 또한 사용할 수 있다.

본원의 실리콘은 하기의 화학식(I)을 갖는 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산을 또한 포함한다.

상기식에서, R은 알킬 또는 아릴이고, x는 약 7 내지 약 8,000의 정수이다.

"A"는 실리콘쇄의 말단을 봉쇄하는 기이다.

생성되는 실리콘이 실온에서 유체를 유지하고, 분산가능하고, 모발에 적용시 자극적이거나, 독성이거나 해롭지 않고, 조성물의 다른 성분과 친화성이고, 통상의 사용 및 저장 조건하에서 화학적으로 안정하고, 모발상에 침착될 수 있고, 모발을 콘디쇼닝할 수 있는한 실록산, 쇄 상(R)에 또는 실록산 쇄의 말단(A)에 치환된 알킬 또는 아릴기는 어떠한 구조라도 가질 수 있다. 적합한 A 그룹은 하이드록시, 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 아릴옥시를 포함한다. 규소 원자상의 2개의 R 그룹은 같은 그룹이거나 다른 그룹일 수 있다. 바람직하게, 2개의 R그룹은 같은 그룹이다. 적합한 R그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸을 포함한다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸 실록산, 폴리디에틸실록산 및 폴리메틸페닐실록산이다. 디메티콘으로서 또한 공지된 폴리디메틸실록산이 특히 바람직하다. 사용될 수 있는 폴리알킬실록산은 예를 들면 폴리디메틸실록산을 포함한다. 이들 실리콘은 예를 들면 제네랄 일렉트릭 캄파니(General Electric Company)로부터의 비스카실 (Vis-casil)R 및 SF 96 시리즈, 다우 코닝(Dow Corning)으로부터의 다우 코닝 200 시리즈로 이용가능하다.

폴리알킬아릴 실록산 유도체가 또한 사용될 수 있고, 예를 들면 폴리메틸페닐 실록산을 포함한다. 이들 실록산은 예를 들면 제네랄 일렉트릭 캄파니로부터의 SF 1075 메틸 페닐 유체 또는 다우 코닝으로부터의 556 코스메틸 그레이드 플루이드 (Cosmetic Grade Fluid)로 이용가능하다.

모발의 광택 특성을 향상시키기 위해 특히 바람직한 것은 약 1.46이상, 특히 약 1.52 이상의 굴절율을 갖는 고도로 아릴화된 실리콘(예, 고도로 페닐화된 폴리에틸 실리콘)이다. 이들 높은 굴절율 실리콘이 사용될 때, 이들은 표면장력을 감소시키고 물질의 필름 형성능력을 향상시키기 위해 하기 기술된 바와 같이 분산제(계면활성제 또는 실리콘 수지)와 혼합되어야 한다.

사용될 수 있는 실리콘은 예를 들면, 폴리프로필렌 옥시드 개질된 폴리디메틸실록산을 포함하지만, 에틸렌 옥시드 또는 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 혼합물을 또한 사용할 수 있다. 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 양은 실리콘의 분산 특성을 방해하지 않을만큼 충분히 낮아야 한다. 이들 물질은 디메티콘 코폴리올로서 또한 공지되어 있다.

기타 실리콘은 아미노 치환된 물질을 포함한다. 적합한 알킬아미노 치환된 실리콘은 하기 화학식(Ⅱ)로 나타낸다:

상기식에서, x 및 y는 분자량에 따르는 정수이고, 평균분자량은 약 5,000 내지 10,000이다. 이 중합체는 "아모디메티콘"으로 또한 알려져 있다.

적합한 양이온성 실리콘 유체는 하기 화학식(Ⅲ)으로 나타내는 것을 포함한다:

(R₁)_aG_3-a-Si-(-OSiG₂)_n-(-OSiG_B(R₁)_2-b)_m-O-SiG_3-a(R₁)_a

상기식에서, G는 수소, 페닐, OH 및 C₁내지 C₈알킬(바람직하게 메틸)로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, a는 0 또는 1 내지 3의 정수, 바람직하게 0이고, b는 0 또는 1, 바람직하게 1이고, n+m은 1 내지 2,000, 바람직하게 50 내지 150이고, n은 0 내지 1,999, 바람직하게 49 내지 149의 수일 수 있고, m은 1 내지 2,000, 바람직하게 1 내지 10의 정수일 수 있고, R₁은 식 C_qH_2qL의 1가 라디칼이고, 이때 q는 2 내지 8의 정수이고, L은 그룹 -N(R₂)CH₂-CH₂-N(R₂)₂, -N(R₂)₂, -N(R₂)₃A^-, -N(R₂)CH₂-CH₂-NR₂H₂A^-으로부터 선택되고, 이때 R₂는 수소, 페닐, 벤질, 포화 탄화수소 라디칼, 바람직하게 1 내지 20개의 탄소원자를 함유하는 알킬 라디칼로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, A^-는 할로겐 이온이다.

화학식(Ⅲ)에 해당하는 특히 바람직한 양이온성 실리콘은 화학식(Ⅳ)의 "트리메틸실일아모디메티콘"으로 알려진 중합체이다:

상기 화학식에서, n 및 m은 바라는 화합물의 정확한 분자량에 따라 선택된다.

샴푸 조성물에 사용될 수 있는 기타 실리콘 양이온성 중합체는 화학식(Ⅴ)으로 나타낸다:

상기식에서, R₃은 탄소수 1 내지 18을 갖는 1가 탄화수소 라디칼, 바람직하게 메틸과 같은 알킬 또는 알케닐 라디칼이고, R₄는 탄화수소 라디칼, 바람직하게 C₁내지 C₁₈알킬렌 라디칼 또는 C₁내지 C₁₈및 보다 바람직하게 C₁내지 C₈알킬렌옥시 라디칼이고, Q^-는 할로겐 이온, 바람직하게 염소이고, r은 2 내지 20, 바람직하게 2 내지 8의 평균 통계치이고, s는 20 내지 200, 바람직하게 20 내지 50의 평균 통계치이다.

이 부류의 바람직한 중합체는 유이온 카바이드(Union Carbide)로부터의 "UCAR SILICONE ALE 56"으로부터 입수가능하다.

적합한 실리콘을 개시하는 참고문헌은 긴(Geen)의 미국 특허 제 2,826,551호, 1976년 6월 22일자로 드라코프(Drakoff)에게 허여된 미국 특허 제 3,964,500호, 파데르(Pader)의 미국 특허 제 4,364,837 호, 및 울스톤(Woolston)의 영국 특허 제 849,433 호를 포함하고, 이들은 모두 본원에 참고로 인용된다. 이들 전체가 또한 본원에 참고로 인용되는 것은 1984년 페트라치 시스템 인코포레이티드 (Petrarch System Inc)에 의해 출판된 "규소 화합물(Silicon Compounds)"이다. 상기 문헌은 적합한 실리콘의 목록을 한정하지 않고 광범위하게 제공한다.

특히 유용하게 사용될 수 있는 다른 실리콘 모발 콘디쇼닝물질은 실리콘 검이다. 본원에 사용되는 바와 같이, "실리콘 검"이란 용어는 25℃에서 1,000,000센티스톡이상의 점도를 갖는 폴리오가노실록산 물질을 의미한다. 본원에 기술된 실리콘 검은 또한 상기 기술된 실리콘과 어느정도 중복될 수 있다. 이러한 중복은 임의의 이들 물질상에 한정되는 것을 의미하지는 않는다. 실리콘 검은 페트라치 1d에서 기술되고, 1979년, 5월 1일자로 스피쳐(spitzer)등에게 허여된 미국 특허 제 4,152, 416 호 및 놀 월터(Noll Walter)등의 문헌[Chemistry and Technology of Silicon-es, New York: Academic Press 1968]을 포함한다. 또한 기술된 시리콘 검은 제네날 일렉트릭 실리콘 러버 프로덕츠 데이터 시이트 SE 30, SE 33, SE 54 및 SE 76이다. 이들 모든 기술된 문헌은 본원에 전체가 참고로 인용된다. "실리콘 검"은 전형적으로 약 200,000, 일반적으로 약 200,000 내지 약 1,000,000의 중량 분자량을 갖는다. 특정 실례는 폴리디메틸실록산(폴리디메틸실록산)(메틸비닐실론산)공중합체, 폴리(디메틸실록산)(디페닐실록산)(메틸비닐실록산)공중합체 및 이들의 혼합물을 포함한다.

또한 유용한 것은 고도로 가교결합된 중합체 실록산 시스템인 실리콘 수지이다. 가교결합은 실리콘 수지의 제조동안의 실란의 1가 또는 2가, 또는 이들 모두와 3가 및 4가 실란의 혼합을 통해 도입된다. 당해 기술에서 잘 이해되는 바와 같이, 실리콘 수지를 생성하기 위해 요구되는 가교결합도는 실리콘 수지에 혼합되는 특정 실란 단위에 따라 변화할 것이다. 일반적으로, 실리콘 물질을 굳고 견고한 필름으로 건조시키도록 충분량의 3가 및 4가 실록산 단량체 단위 및 충분량의 가교결합을 갖는 실리콘 물질은 실리콘 수지로 간주된다. 산소원자 대 실리콘 원자의 비는 특정 실리콘 물질중의 가교결합의 양을 나타낸다. 규소원자당 약 1.1이상의 산소원자를 갖는 실리콘 물질은 일반적으로 본원의 실리콘 수지일 것이다. 바람직하게, 산소:규소원자의 비는 약 1.2:1.0 이상이다. 실리콘 수지의 제조에 사용되는 실란은 모노메틸-클로로실란, 디메틸-클로로실란, 트리메틸-클로로실란, 모노페닐-클로로실란, 디페닐-클로로실란, 메틸페닐-클로로실란, 모노비닐-클로로실란, 메틸비닐-클로로실란 및 테트라클로로실란을 포함하고, 메틸 치환된 실란이 가장 통상적으로 사용된다. 바람직한 수지는 제네랄 일렉트릭으로부터의 GE SS4230 및 SS4267로 제공된다. 시판가능한 실리콘 수지는 일반적으로 저밀도 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 유체로 용해된 형태로 제공될 것이다. 본원에 사용하기 위한 실리콘 수지는 당해 기술의 숙련자들에게 명백한 바와 같이 상기 용해된 형태로 본 발명의 조성물로 공급되고 혼합되어진다. 이론에 한정됨이 없이, 실리콘 수지는 모발상의 다른 실리콘의 침착을 향상시키고, 고 굴절율 부피로 모발의 광택을 향상시킬 수 있는 것으로 알려져 있다.

다른 유용한 시리콘 수지는 도시바 실리콘스(Toshiba Silicones)로부터 상표명 토스페를(Tosperal)로 시판되는 CTFA로 지칭되는 폴리메틸실세스퀴옥산 물질과 같은 실리콘 수지 분말이다.

실리콘 유체, 검 및 수지 뿐만 아니라 실리콘 제조와 관련된 실리콘에 대한 기본물질은 문헌[Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, Volume 15, Second Edition, pp 204-308, John Wiley&Sons, Inc., 1989]에 기술되어 있고, 그의 전체가 본원에 참고로 인용된다.

실리콘 물질 및 실리콘 수지는 특히 "MDTQ"란 명칭으로 당해 기술의 숙련자들에게 잘 공지된 약어 명칭 시스템에 따라 편리하게 알 수 있다. 이 시스템하에서는 실리콘을 구성하는 다양한 실록산 단량체 단위의 존재에 따라 실리콘을 기술한다. 간략하게, 기호 M은 1가 단위 (CH₃)₃SiO_0.5이고, D는 2가 단위 (CH₃)₂SiO이고, T는 3가 단위 (CH₃)₃SiO_1.5이고, Q는 4가 단위 SiO₂이다. 프라임 단위(예, M', D', T' 및 Q')는 메틸이외의 치환체이고, 각 경우에 따라 구체적으로 정의되어야 한다. 전형적인 또다른 치환체는 비닐, 페닐, 아미노, 하이드록실등과 같은 기를 포함한다. 실리콘중의 각각의 단위 형태의 총수나 그의 평균을 나타내는 기호의 아래첨자 또는 분자량과 결합된 특정하게 나타낸 비로서의 다양한 단위의 몰비가 MDTQ 시스템하에서 실리콘 물질에 대한 설명을 완성한다. 실리콘 수지중의 T, Q, T' 및/또는 Q' 내지 D, D', M 및/또는 M'의 비교적 높은 몰량은 높은 가교결합도를 나타낸다. 그러나 이전에 기술된 바와 같이, 전체의 가교결합도는 산소 대 실리콘비로 또한 나타내어질 수 있다.

본원에 사용하기위한 실리콘 수지는 MQ, MT, MTQ, MQ 및 MDTQ 수지이다. 따라서, 바람직한 실리콘 치환체는 메틸이다. 특히 바람직한 것은 MQ 수지이고, M:Q비는 약 0.5:1.0 내지 약 1.5:1.0이고, 수지의 평균 분자량은 약 1,000 내지 약 10,000이다.

탄화수소 콘디쇼닝제

탄화수소 콘디쇼닝제로서 본원에서 유용하다. 유용한 탄화수소는 포화되거나 불포화될 수 있는 직쇄, 환식 및 분지쇄 탄화수소를 포함한다. 탄화수소는 바람직하게 탄소수 약 12 내지 약 40, 보다 바람직하게 약 12 내지 약 30 및 가장 바람직하게 약 12 내지 약 22를 가질 것이다. 본원에 또한 포함되는 것은 C₂내지 C₆알케닐 단량체의 중합체와 같은 알케닐 단량체의 중합체 탄화수소이다. 이들 중합체는 직쇄 또는 분지쇄 중합체일 수 있다. 직쇄 중합체는 전형적으로 이 문단에서 상기 기술된 바오 같이 탄소원자의 총수를 갖는 비교적 짧은 길이의 것이다. 분지쇄 중합체는 상당히 긴 쇄 길이를 가질 수 있다. 이러한 물질의 수평균 분자량은 광범위할 수 있지만, 전형적으로 약 500이하, 바람직하게 약 200 내지 약 400 및 보다 바람직하게 약 300 내지 약 350일 것이다. 본원에 또한 유용한 것은 다양한 등급의 광유이다. 광유는 탄화수소의 액체 혼합물이고, 석유로부터 얻어진다. 적합한 탄화수소 물질의 특정 실례는 파라핀유, 광유, 도데칸, 이소도데칸, 헥사데칸, 이소헥사테칸, 에이코센, 이소에이코센, 트리데칸, 테트라데칸, 폴리부텐, 폴리이소부텐 및 이들의 혼합물을 포함한다. 이소도데칸, 이소헥사테칸 및 이소에이코센은 뉴저지주 사우스 플레인필드소재의 프레스퍼스(Presperse)로부터의 퍼메틸(Permethyl) 99A, 퍼메틸 101A 및 퍼메틸 1082로서 시판가능하다. 이소부텐 및 N-부텐의 공중합체는 아모코 케미칼스(Amoco Chemicals)로부터의 인도폴(Indopol) H-100로서 시판가능하다. 본원에 사용하기에 바람직한 것은 광유, 이소도데칸, 이소헥사데칸, 폴리부텐, 폴리이소부텐 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 탄화수소 콘디쇼닝제이다.

수용성 양이온성 중합체 콘디쇼닝제

수용성 양이온성 중합체 콘디쇼닝제는 또한 본원에 유용하다. "수용성"이란 25℃에서 0.1%의 물중의 농도에서 육안으로 거의 투명한 용액, 즉 희석되거나 등가물을 형성하기 위해 물중에 충분히 가용성인 중합체를 의미한다. 바람직하게, 중합체는 0.5%의 농도, 보다 바람직하게 1.0%의 농도에서 거의 투명한 용액을 형성하기 위해 충분히 가용성일 것이다.

양이온성 중합체는 일반적으로 약 5,000이상, 전형적으로 약 10,000이상이고, 약 1,000만 미만인 중량 평균 분자량을 가질 것이다. 양이온성 중합체는 일반적으로 4급 암모늄 또는 양이온성 아미노 잔기와 같은 양이온성 질소함유 잔기 및 이들의 혼합물을 가질 것이다.

양이온성 전하 밀도는 바람직하게 약 0.1meq/g 이상, 보다 바람직하게 약 0.2meq/g 이상 및 바람직하게 약 3.0meq/g 미만, 보다 바람직하게 약 2.75meq/g 미만이다.

양이온성 중합체의 양이온성 전하 밀도는 당해 기술의 숙련자들에게 잘 공지된 크젤다흘(kjeldahl) 방법에 따라 측정될 수 있다. 당해 기술의 숙련자들은 아미노함유 중합체의 전하 밀도가 pH 및 아미노기의 등전점에 따라 변화할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 전하 밀도는 목적하는 용도의 pH에서 상기 한계내에 있어야 한다.

임의의 음이온성 반대이온(counterion)은 수용성 기준에 충족되는 한, 양이온성 중합체에 대해 사용될 수 있다. 적합한 반대이온은 할로겐화물(예, Cl, Br, I 또는 F, 바람직하게 Cl, Br 또는 I), 설페이트 및 메틸설페이트를 포함한다. 이 목록은 제한적이 아니고, 다른 것이 또한 사용될 수 있다.

양이온성 질소함유 잔기는 일반적으로 양이온성 모발 콘디쇼닝 중합체의 전체 단량체 단위의 일부상에 치환체로서 존재할 것이다. 따라서, 양이온성 중합체는 4급 암모늄 또는 양이온성 아민 치환된 단량체 단위 및 공극 단량체 단위로서 본원에 지칭되는 다른 비양이온성 단위의 공중합체, 삼원중합체등을 포함할 수 있다. 이러한 중합체는 당해 기술에 공지되어 있고, 많은 중합체가 문헌[International Cosmetin Ingredient Dictionary, Fifth Edition, 1993]에 기재되어 있고, 그의 전체도 또한 본원에 참고로 인용된다.

적합한 양이온성 중합체는 예를 들어 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 알킬 및 디알킬 아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 메타크릴아미드, 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 비닐 카프로락톤 및 비닐 피롤리돈과 같은 수용성 스페이서 단량체와 양이온성 아민 또는 4급 암모늄 작용성을 갖는 비닐 단량체의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바람직하게 C₁내지 C₇알킬 그룹, 보다 바람직하게 C₁내지 C₃알킬 그룹을 갖는다. 다른 적합한 스페이서 단량체는 비닐 에스테르, 비닐 알콜(폴리비닐 아세테이트의 가수분해에 의해 제조됨), 말레산무수물, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜을 포함한다.

양이온성 아민은 조성물의 특정 부류 및 pH에 따라 1급, 2급 또는 3급 아민일 수 있다. 일반적으로, 2급 및 3급 아민, 특히 3급 아민이 바람직하다.

아민 치환된 비닐 단량체는 아민 형태로 중합될 수 있고, 이어서 선택적으로 4급 반응에 의해 암모늄으로 전환될 수 있다. 아민은 또한 중합체의 형성에 따라 유사하게 4급으로 될 수 있다. 예를 들면, 3급 아민 작용성은 식 R'X(상기식에서, R'는 단쇄 알킬, 바람직하게 C₁내지 C₇알킬, 보다 바람직하게 C₁내지 C₃알킬이고, X는 4급 암모늄으로 수용성 염을 형성할 수 있는 음이온이다)의 염과의 반응에 의해 4급으로 될 수 있다.

적합한 양이온성 아미노 및 4급 암모늄 단량체는 예를 들면, 디알킬아미노 알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 모노알킬 아미노알킬 아크릴 레이트, 모노알킬 아미노알킬 메타크릴레이트, 트리알킬 메타크릴옥시알킬 암모늄염, 트리알킬 아크릴옥시알킬 암모늄 염, 디알킬 4급 암모늄 염 및 피리디늄, 이미다졸륨 및 4급 피릴리돈(예, 알킬 비닐 이미다졸륨, 알킬 비닐 피리디늄, 알킬 비닐 피롤리돈 염)과 같은 환식 양이온성 질소함유 고리를 갖는 4급 암모늄 단량체로 치환된 비닐 화합물을 포함한다. 이들 단량체의 알킬부분은 바람직하게 C₁내지 C₃알킬, 보다 바람직하게 C₁내지 C₂알킬과 같은 저급알킬이다. 본원에 사용하기 적합한 아민 치환된 비닐 단량체는 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노 알킬 메타크릴레이트, 디알킬아미노알킬 아크릴아미드 및 디알킬아미노알킬 메타크릴아미드를 포함하고, 이때 알킬그룹은 바람직하게 C₁내지 C₇알킬 및 보다 바람직하게 C₁내지 C₃알킬이다.

양이온성 중합체는 아민 및/또는 4급 암모늄 치환된 단량체 및/또는 친화성 스페이서 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.

적합한 수용성 양이온성 모발 콘디쇼닝 중합체는 예를 들면 상표명 LUVI-QUAT(예, LUVIQUAT FC 370)로 BASF 코포레이션에서 시판중이고, 폴리쿼터늄-16으로서 CTFA 에 의해 공업적으로 지칭되는 1-비닐-2-피롤리돈 및 1-비닐-3-메틸이미다졸륨 염(예, 클로라이드 염)의 공중합체; 상표명 GAFQUAT(예, GAFQUAT 755N)로 가프 코포레이션(Gaf Corporation)(미국 뉴저지주 웨인)에서 시판중이고, 폴리쿼터늄 -11로 지칭되는 1-비닐-2-피롤리돈 및 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체; 폴리쿼터늄-6 및 폴리쿼터늄-7으로 각각 CTFA에 의해 공업적으로 지칭되는 예를 들면 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체 및 아크릴아미드 및 디메틸 디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체를 비롯한 양이온성 디알릴 4급 암모늄-함유중합체; 및 본원에 참고로 인용되어 있는 미국 특허 제 4,009, 256 호에 기술된 바와 같이 탄소수 3 내지 5를 갖는 불포화된 카복실산의 단독중합체 및 공중합체의 아미노알킬 에스테르의 무기산 염을 포함한다.

사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체는 양이온성 셀룰로즈 유도체 및 양이온성 전분 유도체와 같은 다당류 중합체를 포함한다. 본원에 사용하기 적합한 양이온성 다당류 중합체 물질은 하기 화학식을 포함한다:

상기식에서, A는 전분 또는 셀룰로즈 무수글루코즈 잔기와 같은 무수글루코즈 잔기 그룹이고, R은 알킬렌, 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌 또는 하이드록시알킬렌 그룹 또는 이들의 혼합물이고, R₁, R₂및 R₃는 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 알콕시알킬 또는 알콕시아릴 그룹이고, 각각의 그룹은 약 18개 이하의 탄소원자를 함유하고, 각각의 양이온성 잔기에 대한 탄소원자의 총수(즉 R₁, R₂및 R₃중의 탄소원자의 합계)는 바람직하게 약 20이하이고, X는 음이온성 반대이온(예, 할로겐화물, 황산염, 질산염 등)이다.

양이온성 셀룰로로즈는, CTFA에 의해 폴리쿼터늄-10으로 지칭되는 트리메틸 암모늄 치환된 에폭시드와 반응하는 하이드록시에틸 셀룰로즈의 염으로서, 중합체 JR, LR 및 SR 시리즈로 아메르콜 코포레이션(Amerchol Corp)으로부터 이용가능하다. 양이온성 셀룰로즈의 다른 형태는 폴리쿼터늄-24로서 CTFA에 의해 지칭되는 라우릴 디메틸 암모늄 치환된 에폭시드와 반응하는 하이드록시에틸 셀룰로즈의 중합체 4급 암모늄 염을 포함하고, 이는 상표명 폴리머 LM-200하에 아메르콜 코포레이션(미국 뉴저지주 에디손)으로부터 이용가능하다.

사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체는 구아 하이드록시프로필트리모늄클로라이드와 같은 양이온성 구아 검 유도체(자구아(Jaguar) R 시리즈로 셀라니즈 코포레이션으로부터 시판가능하다)이다. 또다른 물질은 4급 질소함유 셀룰로즈 에테르(예, 미국 특허 제 3,962,418 호에 기술되는 바와 같이 본원에 그의 전체가 참고로 인용된다), 및 에테르화된 셀룰로즈 및 전분의 공중합체(예, 미국 특허 제 3,958 ,581 호에 기술되는 바와 같이 본원에 그의 전체가 참고로 인용된다)를 포함한다.

본원에 사용하기에 바람직한 것은 폴리쿼터늄-7, 폴리쿼터늄-10, 폴리쿼터늄 -11 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 수용성 양이온성 콘디쇼닝제이다.

양이온성 계면활성제

양이온성 계면활성제중에서 선택한 모발 콘디쇼닝제가 본원에 유용하다. 이들 계면활성제들은 4급 질소 성분을 함유하는 것이 전형적이다. 양이온성 계면활성제는 조성물에 불용성인 것이 바람직하지만 이것이 필수적이지는 않다. 본원에 유용한 양이온성 계면활성제가 하기 문헌에 기술되어 있으며, 이들의 전문을 모두 본원에 참고로 인용한다: [M.C. Publishing co., McCutcheon's, Detergents & Emul-sifiers, (North American edition 1979)]; 슈발쯔 등(Schwartz et al)의 문헌 [Surface Active Agents, Their Chemistry and Technology, New York; Inters-cience Publishers, 1949]; 1964년 11월 3일 허여된 힐퍼(Hillfer)의 미국 특허 제 3,155,591 호 ; 1975년 12월 30일 허여된 러플린 등(Laughlin et al.))의 미국 특허 제 3,929,678 호; 1976년 5월 25일 베일리 등(Bailey et al.)의 미국 특허 제 3, 959,461 호 및 1983년 6월 7일 허여된 볼리치, 주니어(Bolich, Jr.)의 미국 특허 제 4,387,090 호.

본원에 유용한 양이온성 계면활성제중에서 하기 화학식에 상응하는 것을 들수 있다:

상기식에서, R₁, R₂, R₃및 R₄는 독립적으로 탄소수 1 내지 약 22를 갖는 지방족기이거나 또는 탄소수 약 22 이하를 갖는 방향족, 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 하이드록시알킬, 아릴 또는 알킬아릴기중에서 선택되고, X는 할로겐(예를 들면, 염화물, 브롬화물), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트, 니트레이트, 설페이트 및 알킬설페이트 라디칼중에서 선택된 것과 같은 염형성 음이온이다. 지방족 기는 탄소 및 수소 원자이외에 에테르 결합 및 아미노기와 같은 기타 기들을 함유할 수 있다. 장쇄 지방족 기, 예를 들면 탄소수 약 12 이상의 지방족기는 포화되거나 또는 불포화될 수 있다. R₁, R₂, R₃및 R₄가 독립적으로 C₁내지 약 C₂₂의 알킬중에서 선택될 때가 바람직하다. 특히 2개의 장쇄 알킬 및 2개의 단쇄 알킬을 함유하는 양이온 물질 또는 하나의 장쇄 알킬 및 3개의 단쇄 알킬을 함유하는 것이 바람직하다. 앞서 기술한 화합물에서 장쇄 알킬은 탄소수 약 12 내지 약 22를 가지며, 바람직하게는 약 16 내지 약 22를 가지고, 앞서 기술한 화합물에서 단쇄 알킬은 탄소수 1 내지 약 3, 바람직하게는 1 내지 약 2를 갖는다.

또한, 치환체중 적어도 하나가 하이드록시알킬, 바람직하게는 하이드록시 에틸 또는 하이드록시 프로필, 또는 폴리옥시알킬렌, 바람직하게는 분자중에서 총 에톡실화 또는 프로폭실화도가 약 5 내지 약 20인 폴리옥시에틸렌 또는 폴리옥시프로필렌중에서 선택되는 양이온 물질이 바람직하다. 상업적으로 시판하는 물질의 비제한적인 보기로서 윗코 케미칼(Witco Chemical)에서 시판하는 배리쿼트(Variquat) K1215 및 638, 헨켈(Henkel)에서 시판하는 데하이쿼드(Dehyquat) SP 및 아이씨아이 어메리카스(ICI Americas)에서 시판하는 아틀라스(Atlas) G265를 들수 있다.

기타 양이온 물질은 하기 CTFA 명칭을 갖는 물질을 포함한다: 폴리쿼터늄-8, 폴리쿼터늄-24, 폴리쿼터늄-26, 폴리쿼터늄-27, 폴리쿼터늄-30, 폴리쿼터늄-23, 폴리쿼터늄-43, 폴리쿼터늄-52, 폴리쿼터늄-53, 폴리쿼터늄-56, 폴리쿼터늄-60, 폴리쿼터늄-62, 폴리쿼터늄-70, 폴리쿼터늄-72, 폴리쿼터늄-75, 폴리쿼터늄-77, 폴리쿼터늄-78, 폴리쿼터늄-79, 폴리쿼터늄-80, 폴리쿼터늄-81, 폴리쿼터늄-82, 폴리쿼터늄-83, 폴리쿼터늄-84 및 이들의 혼합물.

일차, 이차 및 3차 지방 아민 염도 또한 적합한 양이온성 계면활성제 물질이다. 상기 아민의 알킬기들은 탄소수 약 12 내지 약 22를 갖는 것이 바람직하고, 치환되거나 또는 비치환될 수 있다. 본원에 유용한 아민으로 스테아르아미도 프로필 디메틸 아민, 디에틸 아미노 에틸 스테아르아미드, 디메틸 스테아르아민, 디메틸 소야민, 소야민, 미리스틸 아민, 트리데실 아민, 에틸 스테아릴아민, N-탈로우 프로판 디아민, 에톡실화(에틸렌 옥시드 5몰 함유) 스테아릴아민, 디하이드록시 에틸 스테아릴아민 및 아라키딜베헤닐아민이 포함된다. 적합한 아민 염은 할로겐, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트, 시트레이트, 락테이트 및 알킬 설페이트 염을 포함한다. 상기 염은 스테아릴아민 하이드로클로라이드, 소야민 클로라이드, 스테아릴아민 포르메이트, N-탈로우프로판 디아민 디클로라이드 및 스테아르아미도 프로필 디메틸아민 스트레이트를 포함한다. 본 발명에 유용한 것에 포함되는 양이온 아민 계면활성제는 본원에 전문이 참고로 인용된 미국 특허 제 4,275, 055 호(1981년 6월 23일 나치티갈(Nachtigal)등에게 허여됨)에 기술되어 있다.

바람직한 양이온성 계면활성제는 디탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 모노탈로우 트리메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 디메틸 암모늄 클로라이드, 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 베헤틸 트리메틸 암모늄 클로라이드 및 이들의 혼합물중에서 선택된 것이다.

물

본 발명의 조성물은 물을 약 20% 내지 약 94.94%, 바람직하게는 약 50% 내지 약 92% 및 더욱 바람직하게는 약 60% 내지 약 90%를 포함한다.

추가성분

필수 성분에 더하여, 본원의 조성물은 또한 광범위한 추가 성분들을 함유할 수 있다. 이들 추가 성분의 비제한적인 예를 들면 문헌[International Cosmetic Ingredient Dictionary, Fifth Edition, 1993] 및 [CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Second Edition, 1992]에 기술되어 있으며, 이들을 모두 본원에 전물을 인용한다. 상기 성분들의 몇몇 비제한적인 예를 하기에 기술한다.

폴리알킬렌 글리콜

본 발명에서 매우 바람직한 임의 성분은 폴리알킬렌 글리콜이다. 존재하는 경우, 폴리알킬렌 글리콜은 전형적으로는 본 발명 조성물의 약 0.01% 내지 약 5%, 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 3% 및 더욱 바람직하게는 약 0.1% 내지 약 2%의 양으로 사용되어 모발 처리후 남아있는 코딩감 또는 무거운 느낌을 없애는 작용을 한다.

폴리알킬렌 글리콜은 하기 화확식을 특징으로 한다:

상기식에서, R은 H, 메틸 및 그의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된다. R이 수소인 경우, 이들 물질은 에틸렌 옥시드의 중합체이며, 또한 폴리에틸렌 옥시드, 폴리옥시에틸렌 및 폴리에틸렌 글리콜로 알려져 있다. R이 메틸일 때, 이들 물질은 프로필렌 옥시드의 중합체이며, 또한 폴리프로필렌 옥시드, 폴리옥시프로필렌 및 폴리프로필렌 글리콜로 알려져 있다. R이 메틸일 때, 생성된 중합체의 다양한 위치 이성체가 존재할 수 있다고 생각된다.

상기 구조에서, n은 약 1500 내지 약 25,000, 바람직하게는 약 2500 약 20,000 및 보다 바람직하게는 약 3500 내지 약 15,000의 평균값을 갖는다.

본원에 유용한 폴리에틸렌 글리콜 중합체로는 R이 H이고, n이 약 2,000의 평균값을 갖는 PEG-2M(PEG-2M은 또한 유니온 카바이드(Union Carbide)에서 입수할 수 있는 Polyox WSR N-10 및 PEG-2,000으로 공지되어 있다); R이 H이고, n이 약 5,000의 평균값을 갖는 PEG-5M(PEG-5M은 또한 하기 둘다 모두 유니온 카바이드에서 입수할 수 있는 Polyox WSR N-35 및 Polyox WSR N-80, 및 PEG-5,000 및 폴리에틸렌 그리콜 300,000으로 공지되어 있다); R이 H이고, n이 약 7,000의 평균값을 갖는 PEG-7M(PEG-7M은 또한 유니온 카바이드에서 입수할 수 있는 Polyox WSR N-750으로 공지되어 있다); R이 H이고, n이 약 9,000의 평균값을 갖는 PEG-9M(PEG-9M은 또한 유니온 카바이드에서 입수할 수 있는 Polyox WSR N-3333으로 공지되어 있다); 및 R이 H이고, n이 약 14,000의 평균값을 갖는 PEG-14M(PEG-14M은 또한 유니온 카바이드에서 입수할 수 있는 Polyox WSR N-3000으로 공지되어 있다)이 있다.

기타 유용한 중합체는 폴리프로필렌 글리콜 및 혼합된 폴리에틸렌/폴리프로필렌 글리콜을 포함한다.

현탁제

또다른 대단히 바람직한 임의 성분은 현탁제이고, 이것은 존재하는 경우 실리콘 모발 콘디쇼닝제를 샴푸 조성물에 분산된 형태로 현탁시키는데 유용하다. 현탁제는 일반적으로 샴푸 조성물의 약 0.1% 내지 약 10% 및 더욱 전형적으로는 약 0.3% 내지 약 5.0%를 포함할 것이다. 바람직한 현탁제는 아실유도체, 장쇄 아민옥시드 및 이들의 혼합물을 포함한다. 샴푸 조성물에 사용할 때, 이들 바람직한 현탁제는 조성물중에 결정형태로 존재한다. 이들 현탁제는 본원에 전문이 참고로 인용된 미국 특허 제 4,741,855호에 기술되어 있다. 이들 바람직한 현탁제는 탄소수 약 16 내지 약 22를 갖는 것이 바람직한 지방산의 에틸렌 글리콜 에스테르를 포함한다. 더욱 바람직한 것은 에틸렌 글리콜 스테아레이트(모노 및 디스테아레이트)이지만, 특히 모노 스테아레이트 약 8% 미만을 함유하는 디스테아레이트가 바람직하다. 기타 적합한 현탁제는 바람직하게는 탄소수 약 16 내지 약 22(더욱 바람직하게는 약 16 내지 18)를 갖는 지방산의 알카놀 아미드를 포함하고, 바람직한 보기로서는 스테아르산 모노에탄올아미드, 스테아르산 디에탄올아미드, 스테아르산 모노이소프로판올아미드 및 스테아르산 모노에탄올아미드 스테아레이드를 들 수 있다. 다른 장쇄 아실 유도체는 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아릴 스테아레이트, 세틸 팔미테이트 등); 폴리세릴 에스테르(예를 들면, 글리세릴 디스테아레이트) 및 장쇄 알카놀 아미드의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아르아미드 디에탄올아미드 디스테아레이트, 스테아르아미드 모노에탄올아미드 스테아레이트)가 포함된다. 상기에서 열거한 바람직한 물질이외에도, 장쇄 아실 유도체, 장쇄 카복실산의 에틸렌 글리콜 에스테르, 장쇄 아민 옥시드, 및 장쇄 카복실산의 알카놀 아미드를 현탁제로 사용할 수 있다. 예를 들면 C₈내지 C₂₂의 장쇄 하이드로카빌을 갖는 현탁제를 사용할 수도 있다고 생각된다.

현탁제로 사용하기 적합한 기타 장쇄 아실 유도체로는 N,N-디하이드로카빌아미도 벤조산 및 그의 가용성 염(예를 들면, Na 및 K 염), 특히 상기 부류의 N,N-디(수소화) C₁₆내지 C₁₈및 탈로우 아미도 벤조산 종(미국 일리노이주 노쓰필드에 소재한 스텝판 캄파니(Stepan Company)에서 구입할 수 있다)이 포함된다.

현탁제로 사용하기 적합한 장쇄 아민 옥시드는 예를 들면 알킬(C₁₆-C₂₂)디메틸 아민 옥시드(예: 스테아릴 디메틸 아민 옥시드)가 있다.

기타 적합한 현탁제의 예로 크산탄 검을 들수 있다. 실리콘 함유 샴푸 조성물에서 크산탄 검을 현탁제로 사용하는 것에 대해서는 본원에 전문이 참고로 인용된 미국 특허 제 4,704,272 호에 기술되어 있다.

다른 적합한 현탁제는 카복시비닐 중합체를 포함한다. 이들 중합체중에서 바람직한 것은 본원에 전문이 참고로 인용된 미국 특허 제 2,798,053 호에 기술된 것과 같이 폴리알릴슈크로즈로 가교결합된 아크릴산의 공중합체이다. 이들 중합체는 예를 들면 펜타에리트리톨의 알릴 에테르, 슈크로즈의 알릴 에테르, 또는 프로필렌의 알릴 에테르로 가교결합된 아크릴산의 단독중합체인 카보머를 포함한다. 바람직한 카복실비닐 중합체는 적어도 약 750,000의 분자량을 가지며; 더욱 바람직하게는 적어도 약 1,250,000의 분자량을 갖는 카복시비닐 중합체; 가장 바람직하게는 적어도 약 3,000,000의 분자량을 갖는 카복시비닐 중합체이다.

하이드록시에틸 셀룰로즈와 같은 셀룰로즈 에테르와 같이 수용성 또는 콜로이드적으로 수용성의 중합체, 및 구아 검, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈, 하이드록시프로필 구아 검, 전분 및 전분 유도체와 같은 물질, 및 다른 농후화제, 점도 개질제, 젤화제 등과 같이, 조성물에 겔같은 점도를 부여할 수 있는 것을 비롯하여 다른 적합한 현탁제를 사용할 수 있다.

기타 물질

본 발명의 조성물에 유용한 기타 물질은 벤질 알콜, 벤조산, 메틸 파라벤, 프로필 파라벤, 이미다졸리디닐 우레아, 요오도프로피닐 부틸 카바메이트, 메틸이소티아졸리논, 메틸클로로이소티아졸리논과 같은 보존제; 염화 나트륨, 염화 칼륨 및 황산 나트륨과 같은 염 및 전해질; 암모늄 크실렌 설포네이트; 프로필렌 글리콜; 폴리비닐 알콜; 에틸 알콜; 구연산, 숙신산, 인산, 수산화 나트륨 및 탄산 나트륨과 같은 pH 조절제; 조성물의 미적 감각에 맞추기 위한 향료 및 착색제; 과산화 수소; 일광차단제; 모발 염색제; 글리세롤 및 기타 다가 알콜과 같은 습윤제; 보습제; 산화방지제 및 EDTA와 같은 킬레이트제; 소염제; 스테로이드; 국소 진통제; 및 멘톨과 같은 두피 감각부여제를 포함하지만 이에 제한되지는 않는다.

본 발명의 샴푸 조성물에 또한 비듬방지제를 사용할 수 있다. 이들 제제는 피리디에티온 염과 같은 미립자 비듬방지제, 이황화 셀레늄과 같은 셀레늄 화합물 및 가용성 비듬방지제를 포함한다. 상기 비듬방지제의 농도는 샴푸 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 4 중량%가 일반적이며, 바람직하게는 약 0.2 중량% 내지 약 2 중량%이다.

기생충 감염을 억제하기 위해 이박멸제를 샴푸 조성물에 또한 사용할 수 있다. 적합한 이박멸제는 당해 분야에 잘 알려져 있으며, 예를 들면 본원에 전문을 참고로 인용한 미국 특허 제 4,668,666 호에 기술된 것과 같은 피레트린이 포함된다.

모든 조성물에서와 같이, 본 발명은 조성물의 성능을 지나치게 방해하는 성분들을 함유해서는 안된다.

사용 방법

본 발명의 콘디쇼닝 샴푸는 인체의 모발을 세정 및 콘디쇼닝하는 통상의 방식으로 사용된다. 효과량의 샴푸 조성물, 전형적으로는 약 1 g 내지 약 50 g, 바람직하게는 약 1 g 내지 약 20 g을 모발에 적용한다. 샴푸를 적용하기 전에 모발을 물로 적시는 것이 바람직하다. 샴푸의 적용 방식은 일반적으로 손과 손가락을 사용하여 샴푸 조성물을 모발을 통해 문질러 거품을 일으키는 것이 전형적이다. 이어서, 샴푸 제품을 물을 사용하여 모발에서 헹구는 것이 전형적이다. 모발의 세정 및 콘디쇼닝 방법은 하기 단계들을 포함한다:

(a) 모발을 물로 적시는 단계,

(b) 효과량의 본 발명의 콘디쇼닝 샴푸를 모발에 적용하는 단계,

(c) 모발을 상기 조성물로 샴푸하는 단계, 즉 조성물을 모발과 접촉시켜 거품을 이르키는 단계, 및

(d) 물을 사용하여 모발에서 콘디쇼닝 샴푸를 헹구는 단계.

원하는 세정 및 콘디쇼닝 효과를 얻기 위해 경우에 따라 이러한 단계를 여러번 반복할 수 있다.

하기 실시예는 본 발명의 범위안에서 실시태양을 더욱 기술하고 입증한다. 이 실시예는 단지 예시할 목적으로 나타낸 것이며, 본 발명의 진의 및 범주로부터 벗어나지 않고 많은 변화가 가능하기 때문에, 본 발명을 제한하는 것으로 해석되지 않는다.

성분들은 화학명 또는 CTFA명으로 나타낸다.

제조 실시예 Ⅰ-Ⅹ

통상적인 혼합 및 배합 기법을 이용하여 본 발명의 콘디쇼닝 샴푸 조성물을 제조할 수 있다. 실시예 Ⅰ-Ⅹ의 예시된 콘디쇼닝 샴푸 조성물은 하기와 같은 방식으로 제조한다. 모든 퍼센트는 달리 언급하지 않으면 중량을 기준으로 한다.

첫 번째로, 디메티콘 약 50% 이상; 암모늄 라우레스-3 설페이트 약 5% 내지 약 15% 및 잔여량의 물을 중량 기준으로 갖는 실리콘 예비혼합물을 제조한다. 암모늄 라우레스-3 설페이트를 상기 예비혼합물에 조성물의 주요 부분으로 가열 가공한 후 가하는 것에 주의한다. 예비혼합물은 원하는 실리콘 입경을 얻을 때까지 고전단에서 혼합하여 제조한다.

실시예 Ⅰ-Ⅹ에서 예시한 조성물 각각에 대해 폴리쿼터늄-10 및 존재하는 경우 폴리에틸렌 글리콜을 수중에 분산시켜 용액을 얻는다. 상기 용액, 광유, 및 총 암모늄 라이레스-3 설페이트의 약 1/3을 혼합 탱크에서 합하여 서서히 진탕하면서 약 75℃로 가열하여 계면활성제 용액을 제조한다. 적용하는 경우, 코카미드 MEA, 임의의 지방 알콜, 지방산 및 그의 유도체를 상기 탱크에 가하고, 교반하면서 분산시킨다. 다음 단계로 에틸렌 글리콜 디스테아레이트를 혼합하면서 용기에 가한다. 에틸렌 글리콜 디스테아레이트의 첨가 및 혼합이 완료된 후, 보통 약 5 내지 20 분 후, 혼합하면서 임의의 양이온성 계면활성제 및 보존제를 가한다. 생성된 혼합물을 열 교환기를 통해 통과시키고, 약 35℃로 냉각시키고, 최종 탱크에서 수거한다. 다음단계로, 암모늄 라우레스-3 설페이트의 나머지, 암모늄 라우릴 설페이트, 임의의 추가 계면활성제, 실리콘 예비혼합물 및 임의의 기타 잔류 성분들을 혼합하면서 가해 균질 혼합물을 제조한다. 필수적으로, 적절한 양의 암모늄 크실렌 설포네이트 또는 추가 염화 나트륨을 가하여 생성된 조성물의 점도를 조절한다. 측정 속도 1 rpm에서 콘 번호 CP 41이 장착된 웰즈-브룩필드(Wells Brookfields) 점도계로 측정할 때 25℃에서 약 2000 내지 약 9000 센티스톡크 범위의 점도가 바람직하다.

실시예 Ⅰ-Ⅹ에서 예시된 조성물(이들 모두는 본 발명의 실시 태양이다)은 한 제품으로 모발은 세정 및 콘디쇼닝하는데 유용하다. 다른 실시 태양에서, 암모늄 라우레스-3 설페이트 및/또는 암모늄 라우릴 설페이트를 각각 동일 중량의 암모늄 라우레스-3 설페이트 및 나트륨 라우릴 설페이트로 대체한다.

제조 실시예 XI-XIII

실시예 XI-XIII에 예시된 콘디쇼닝 샴푸 조성물은 하기와 같은 방식으로 제조한다. 모든 퍼센트는 달리 언급하지 않으면 중량을 기준으로 한다.

실시예 XI-XIII에 예시한 조성물 각각에 대해, 폴리쿼터늄-10 및 존재하는 경우 폴리에틸렌 글리콜을 수중에 분산시켜 용액을 얻는다. 상기 용액, 광유, 및 총 암모늄 라우레스-3 설페이트의 약 1/3을 혼합 탱크에서 합하여 서서히 진탕하면서 약 75℃로 가열하여 계면활성제 용액을 제조한다. 적용하는 경우, 코카미드 MEA, 임의의 지방 알콜, 지방산 및 그의 유도체를 상기 탱크에 가하고, 교반하면서 분산시킨다. 다음 단계로, 에틸렌 글리콜 디스테아레이트를 혼합하면서 용기에 가한다. 에틸렌 글리콜 디스테아레이트의 첨가 및 혼합이 완료된 후, 보통 약 5 내지 20 분후, 임의의 추가 양이온성 계면활성제 및 보존제를 혼합하면서 가한다. 생성된 혼합물을 열 교환기를 통해 통과시키고, 약 35℃로 냉각시키고, 최종 탱크에서 수거한다. 다음 단계로, 나머지 양의 암모늄 라우레스-3 설페이트, 암모늄 라우릴 설페이트, 임의의 추가 계면활성제, 실리콘 예비화합물 및 임의의 기타 잔류 성분들을 혼합하면서 가해 균질 혼합물을 제조한다. 필수적으로, 적절한 양의 암모늄 크실렌 설포네이트 또는 추가 염화 나트륨을 가하여 생성된 조성물의 점도를 조절할 수 있다. 측정 속도 1 rpm에서 콘 번호 CP 41이 장착된 웰즈-브룩필드 점도계로 측정할 때 25℃에서 약 2000 내지 약 9000 센티스톡크 범위의 점도가 바람직하다.

실시예 XI-XIII에서 예시된 조성물(이들 모두는 본 발명의 실시 태양이다)은 한 제품으로 모발을 세정 및 콘디쇼닝하는데 유용하다. 다른 실시 태양에서, 암모늄 라우레스-3 설페이트 및/또는 암모늄 라우릴 설페이트를 각각 동일 중량의 나트륨 라우레스-3 설페이트 및 나트륨 라우릴 설페이트로 대체한다.

Claims

(a) 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 세정 계면활성제 약 5 내지 약 50 중량%;

(b) 지방 알콜, 지방산, 지방 알콜 유도체, 지방산 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 지방 화합물 약 0.01 내지 약 10 중량%;

(c) 비휘발성의 분산된 실리콘 콘디쇼닝제, 탄화수소 콘디쇼닝제, 수용성 양이온 중합체성 콘디쇼닝제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 모발 콘디쇼닝제 약 0.05 내지 약 20 중량%;

(d) 하기 식에 상응하는 폴리알킬렌 글리콜 약 0.01 내지 약 5중량%:

(상기 식에서, R은 H, 메틸 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, n은 약 1,500 내지 약 25,000의 정수이다); 및

(e) 물 약 20 내지 약 94.93 중량%를 포함하는 모발 콘디쇼닝 샴푸 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 탄화수소 콘디쇼닝제가 광유, 이소도데칸, 이소헥사데칸, 폴리부텐, 폴리이소부텐 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방 화합물이 지방 알콜, 지방산 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 3 항에 있어서, 상기 지방 알콜이 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, 상기 지방산이 팔미트산, 스테아르산 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 4 항에 있어서, 상기 비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제가 디메티콘인 조성물.
제 5 항에 있어서, 상기 수용성 양이온 중합체성 콘디쇼닝제가 폴리쿼터늄-7, 폴리쿼터늄-10, 폴리쿼터늄-11 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 6 항에 있어서, 상기 양이온성 계면활성제가 디탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 모노탈로우 트리메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 디메틸 암모늄 클로라이드, 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 베헤네일 트리메틸 암모늄 클로라이드 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항에 있어서, R이 H인 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방 화합물이 지방 알콜, 지방 알콜 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 9 항에 있어서, 상기 지방 알콜이 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, 상기 지방 알콜 유도체가 스테아레스-2, 스테아레스-4, 세테스-2 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 10 항에 있어서, 상기 비휘발성 분산된 실리콘 콘디쇼닝제가 디메티콘일 조성물.
제 11 항에 있어서, 상기 양이온성 계면활성제가 디탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 모노탈로우 트리메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 디메틸 암모늄 클로라이드, 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 베헤네일 트리메틸 암모늄 클로라이드 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방 화합물이 지방 알콜, 지방 알콜 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 13 항에 있어서, 상기 지방 알콜이 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, 상기 지방산 유도체가 글리세롤 모노스테아레이트, 12-하이드록시 스테아르산 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방 화합물이 지방 알콜인 조성물.
제 15 항에 있어서, 상기 지방 알콜이 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방 화합물이 지방산인 조성물.
제 17 항에 있어서, 상기 지방산이 팔미트산, 스테아르산 및 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
(a) 물로 모발을 적시고, (b) 효과적인 양의 제 1 항의 조성물을 모발에 가하고, (c) 제 1 항의 상기 조성물로 모발을 샴푸하고, (d) 물을 사용하여 모발로부터 제 1 항의 상기 조성물을 헹구는 단계를 포함하는 모발을 세정 및 콘디쇼닝하는 방법.