KR100668403B1

KR100668403B1 - 정보 기록 표시 카드, 이를 이용한 화상 처리 방법 및화상 처리 장치

Info

Publication number: KR100668403B1
Application number: KR1020047017061A
Authority: KR
Inventors: 구보야마히로키; 다테와키다다후미; 미야모토슈우지; 홋타요시히코; 히가시히로시; 다케모토신야; 데라이도모히코; 가지야시키마코토
Original assignee: 가부시키가이샤 리코; 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤
Priority date: 2002-04-23
Filing date: 2003-04-23
Publication date: 2007-01-16
Anticipated expiration: 2023-04-23
Also published as: WO2003091041A1; CN100339236C; AU2003235091A1; EP1502764A1; TWI222938B; US20050170961A1; US6969695B2; KR20050016363A; EP1502764A4; EP1502764B1; TW200306918A; CN1649743A

Abstract

본 발명은 엠보스 가공을 용이하게 할 수 있고, 가역성 감열 기록 매체의 두꺼운 기재로의 접합에 의한 카드 가공성이 우수한 동시에, 소거 특성이 우수한 정보 기록 표시 카드를 제공하는 것을 과제로 한다. 코어 시트와 오버 시트를 적어도 포함하고, 상기 코어 시트와 상기 오버 시트가 접합되어 이루어지며, 상기 오버 시트는 비정질 폴리에스테르 수지를 적어도 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층을 가지며 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며, 하기 조건 (A), (B) 및 (C)를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.

(A) [소거 상한 온도 - 30℃]>[오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E+02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E+O7Pa

Description

정보 기록 표시 카드, 이를 이용한 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치{INFORMATION RECORDING/DISPLAYING CARD, IMAGE PROCESSING METHOD USING SAME, AND IMAGE PROCESSOR}

본 발명은 가열에 의한 정보의 가시 표시와 개서 기능을 갖는 정보 기록 표시 카드, 이 정보 기록 표시 카드에 이용되는 오버 시트, 화상 처리 방법, 화상 처리 장치 및 정보 기록 표시 카드 제작 방법에 관한 것이다.

회원 카드, ID 카드, 크레디트 카드, 현금 카드 혹은 IC 카드 등의 정보 기록 카드는 카드의 일부에 자기 테이프나 IC 칩 등의 정보 기억부가 배치된 것이지만, 이 정보 기억부에 특히 금전 등의 개인 기밀 정보 등을 기록할 수 있고, 소형 사이즈로 편리성이 높기 때문에 현재 사회의 각국에서 널리 보급되고 있다. 이 정보 기록 카드는 기록된 정보를 특별한 기기를 사용하여 판독 개서를 행하는 등으로 사용되지만, 카드 소유자가 기록된 정보를 직접 시각으로 인식할 수 없는 결점을 가지고 있다.

한편, 일시적인 화상 형성을 행할 수 있어, 불필요하게 되었을 때에는 그 화상의 소거가 가능한, 즉 표면에 정보가 가시적으로 표시되고, 또한 정보의 개서가 가능한 재기록 카드의 개발이 행해져 최근 시장에서 사용되고 있다. 이 재기록 카 드에는 자성의 정보 기억 기능을 마련한 것도 있다.

이 재기록 카드가 갖는 정보를 화상으로서 가시적으로 표시하고 또한 개서 가능하게 하는 기능은, 분자 구조 내에 락톤 고리를 가지며 전자 방출에 의해 락톤 고리를 개환시켜 구조 변화를 초래하여 발색을 띠는 전자 공여성 화합물(소위 류코 염료)과 현감색제(顯減色劑)로서 산ㆍ염기 화합물 사이에서 가열 온도 및/또는 가열후의 냉각 속도의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성시킴으로써 발현되는 것으로, 예컨대 이러한 전자 공여성 화합물과 현감색제를 주성분으로 하여 수지 모재 중에 함유시켜 이루어지는 가역성 감열 기록층이 지지체 상에 마련되어 이루어지는 가역성 기록 재료를 재기록 카드로 한 것이다(예컨대, 특허문헌 1, 2 참조). 더욱 상세하게는, 이 가역성 감열 기록 재료는 산과 염기의 반응속도의 차를 이용하여 발색과 소색을 반복하는 것이다.
류코 염료 및 현색제로서 장쇄 알킬기를 갖는 전자 수용성 화합물을 수지 모재 중에 함유하는 가역성 감열 기록 재료가 개시되어 있다(예컨대, 특허문헌 3, 4 참조). 이것은 현색제가 장쇄 알킬 구조이기 때문에 응집력을 가지며, 류코 염료에 접촉하거나 분리함으로써 발색과 소색을 반복하는 것이다.

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이 가역성 감열 기록 재료가 갖는 정보를 가시적으로 표시하고 또한 개서 가능하게 하는 기능은, 종래부터 있던 정보 기록 카드의 전술한 결점을 충분히 보충할 수 있는 것으로서 주목되어, 화상 표시부로서 정보를 가시적으로 표시하고 또한 개서 가능하게 하는 기능과, 정보 기억부로서 정보를 기록하고 개서 가능하게 하는 기능의 양쪽을 겸비하는 카드(이후 정보 기록 표시 카드라 함)가 개발되어, 최근 시장에서 사용되기 시작하고 있다.

이 정보 기록 표시 카드는, 기본적으로는, 가역성 감열 기록 재료와 같은 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층이 마련되어 이루어지는 것을 오버 시트로서, 또한 종래의 정보 기록 카드와 같은 기능을 갖는 것을 코어 시트로서 이용하고, 이 오버 시트의 지지체측을 코어 시트에 겹쳐 열압착 등을 함으로써 형성되는 것이다.

이 정보 기록 표시 카드의 화상 표시 기능은 오버 시트가 담당하지만 정보 기억 기능에 대해서는 그 종류에 따라 다른데, 자기 테이프와 같은 자성 재료에 의한 정보 기억 기능은 오버 시트도 코어 시트도 가질 수 있으나, IC 칩, 안테나 코일 혹은 자기 스트라이프 등과 같은 경우에는 두꺼운 코어 시트에 배치하는 것이 일반적이다.

정보 기록 표시 카드는 얇은 것과 두꺼운 것이 있지만, 오버 시트의 두께는 얇기 때문에, 통상 정보 기록 표시 카드의 두께는 코어 시트의 두께에 좌우된다.

최근 시장에서 사용되기 시작하고 있는 상기 정보 기록 표시 카드는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 지지체로서 이용한 감열 가역성 오버 시트와, 폴리염화비닐(PVC) 수지나 염화비닐·아세트산비닐 공중합체와 같은 폴리염화비닐계 수지 혹은 폴리카보네이트 수지를 소재로 한 코어 시트를 조합한 것이다.

이들 재료가 널리 사용되는 이유로서는, 오버 시트의 지지체에 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름은 특히 가역성 기록층을 형성하는 조성물을 용제에 용해한 액에 대한 내용제성이 높고, 또한 코어 시트 재료에 사용되는 폴리염 화비닐계 수지(PVC)는 물리적인 특성, 기계적인 특성, 그리고 문자부의 엠보스 가공 적성 등이 우수하기 때문이라고 생각되고 있다.

이 폴리염화비닐계 수지는 열에 의해 어느 정도의 유연성을 발현하는 점에 있어서, 오버 시트의 지지체로서도 화상 소거 특성을 얻기에 적합한 재료이기도 하다.

그러나, 이 폴리염화비닐계 수지는, 이와 같이 카드의 소재로서 우수한 점이 있지만, 사용후의 폐기에 있어서, 소각시에 염화수소 가스를 발생하기 때문에, 소각로를 손상시켜 수명을 단축하는 주원인이 되고 있다는 일부의 견해가 있다.

더욱이, 다이옥신과의 관련성은 명확히 밝혀져 있지 않지만, 각국에서 탈PVC의 움직임이 활발해지고 있고, 이 폴리염화비닐계 수지는 정보 기록 표시 카드뿐만 아니라 종래의 정보 기록 카드에도 사용되고 있지만, 이들의 높은 공공성 때문에 국내에서도 이 PVC에서 다른 재료로의 전환이 요망되고 있다.

그래서, 정보 기록 표시 카드에 대해서, 폴리에틸렌수지, 폴리프로필렌수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아크릴수지 등의 할로겐을 포함하지 않는 열가소성 수지를 카드 소재로서 이용하는 것이 검토되고 있다.

그 중에서도 폴리카보네이트 수지 등의 카드 기재는 내열성이 높아 열에 의한 변형이 적고 내구성 품질의 면에서 우수한 재료이기 때문에, 이것을 사용한 정보 기록 표시 카드도 시장에 나오고 있다.

그러나, 폴리카보네이트 수지는 변형성이 적기 때문에 엠보스 가공성이 낮고, 또한 발열 소자 사용에 의한 기록을 소거하는 가역성 감열 기록 재료에서는 정보 기록 카드에 발열 소자를 접촉시킬 때의 헤드 매칭성이 손상되고 감도 특성이 저하하여 특히 소거하기 어렵게 된다고 하는 결점을 갖고 있어, 폴리염화비닐계 수지를 대체할 수 있는 소재는 종래 확인되고 있지 않다.

한편, 오버 시트와 코어 시트를 접합시킨 후의 일체물에 대하여, 엠보스 가공을 행함으로써 형성되는 「엠보싱 표시」의 각인을 정보 기록 표시 카드에 존재시키는 것은 개인 정보를 용이하게 인식할 수 있는 편리성과 사용성의 점에서 중요하고, 특히 크레디트 카드와 은행 카드 등과 같은 두꺼운 카드에 「엠보싱 표시」를 마련하는 것에 대해서는 현재 사회에서는 없어서는 안되는 것으로 되어 오고 있고, 사용자 및 각종 관련업자로부터의 요망은 매우 높다.

이 「엠보싱 표시」로서는, 주로 카드번호, 유효기한, 소유자 성명 등을 들수 있고, 예컨대 가게에서의 결제시에 복사전표에 카드를 끼워 롤러에 의해 「엠보싱 표시」를 베껴 내는 기능을 가지며, 국내외에서 보급되어 있다.

오버 시트의 지지체로서 이용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름은 강성으로 가압에 의한 변형이 적고 엠보스 가공이 매우 어려운 재료이기 때문에, 코어 시트에 이용되는 폴리염화비닐계 수지가 엠보스 가공하기 쉬운 재료이어도, PET를 이용한 오버 시트의 경우에는, 오버 시트의 상측으로부터 엠보스 가공하여도, 만족할 수 있는 「엠보싱 표시」는 얻을 수 없다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름은 두께가 지나치게 두꺼우면 엠보스 가공시 카드가 쪼개지는 문제를 가진다.

특히, 전술한 바와 같은, 비접촉형 IC 칩, 안테나 코일 혹은 자기 스트라이 프 등을 매립하여 가공하는 두꺼운 카드의 경우, 그 요철을 충분히 흡수할 수 없기 때문에, 카드 표면이 평탄해지지 않는다고 하는 난점이 있었다. 그 때문에, 발열 소자 등에 의한 기록의 개서를 잘 행할 수 없고, 때로는 무리하게 인자압이나 온도를 높게 하여 행하게 되어, 그 결과, 흠집이 나기 쉬우며, 타흔(打痕)이 남거나, 카드가 변형되는 등의 문제를 야기하여, 용도나 제조 방법이 특정한 것으로 한정되기 쉬워, 범용 카드의 제조 공정을 이용하기가 어려웠다.

최근 시장에서 사용되기 시작하고 있는 정보 기록 표시 카드에 대해서 말하면, 코어 시트 표면에 오버 시트가 존재하지 않는 엠보스 가공할 수 있는 스페이스를 만들어, 즉 코어 시트에 접착하는 오버 시트로서, 그 크기를 코어 시트의 표면적보다 좁힌 것을 준비하여, 그것을 코어 시트에 접착하고, 오버 시트가 존재하지 않는 스페이스에 「엠보싱 표시」를 마련한 것이다.

이러한 방식은 면적을 좁힌 오버 시트를 코어 시트에 위치 정밀도 좋게 접착해야만 한다는 등의 제조면의 제약이 있고, 또한 정보 기록 표시 카드로서, 오버 시트의 화상 표시 기능으로서 면적이 한정된다는 결점을 갖는 것이다.

따라서, 코어 시트 전면에 오버 시트를 접착한 것에 대해서는 엠보스 가공을 할 수 없어, 「엠보싱 표시」가 없는 정보 기록 표시 카드가 되어 버린다.

오버 시트로서 이용되는 가역성 감열 기록 재료는 「감열」로 열에 민감한 특수한 것이어서 이러한 성질을 갖는 오버 시트를 코어 시트 상에 겹쳐 가압 가열하여 일체화하고 더 나아가 엠보스 가공을 완료할 때까지의 각 공정에서 이 「가역 감열성」이라는 특수성을 해치지 않고서 정보 기록 표시 카드를 제작하는 것은 상 당한 곤란성이 따른다.

또한, 오버 시트의 지지체로서 이용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름은 폴리카보네이트 수지 이상으로 내열성이 높고 열에 의한 변형이 적은 재료이기 때문에, 시장에서 사용되기 시작하고 있는 정보 기록 표시 카드는 오버 시트 표면에 가열 수단으로서 예컨대 발열 소자에 갖다 대면, 그 열에 의해 지지체 표면은 거의 변형되지 않기 때문에, 발열 소자면과 오버 시트 표면의 밀착이 불충분해져서 열 인가시의 헤드 매칭성이 손상되고 감도 특성이 저하하며, 특히 소거하기 어렵게 되어, 만족한 화상 소거 특성을 얻을 수 없다고 하는 결점을 갖고 있는 것이다.

본 발명자들은 이 종류의 정보 기록 표시 카드에 관련되는 공지 자료에 대해서 조사하고, 그 결과, 엠보스 가공성 혹은 엠보스 가공성과 그것에 수반하는 화상 소거 특성에 대해서 거론된 혹은 언급된 것이 없는 것을 확인하였다.

이하에, 정보 기록 표시 카드가 개시된 특허문헌을 들어 구체예를 설명한다.

그 하나로서, 지지체 상에 인쇄층, 광투과도 50% 이상의 투명 지지체, 가역성 기록층 및 보호층을 마련한 가역성 기록 필름을 오버 시트로 하여, 이 지지체측과 코어 시트를 접착제로 일체화하여 이루어지는 두꺼운 정보 기록 표시 카드가 있으나, 엠보스 가공에 대해서는 과제로서 거론되고 있지 않을 뿐만 아니라, 전혀 기재가 없고 고려되어 있지 않은 것이다(예컨대, 특허문헌 5 참조).

이 지지체 및 투명 지지체로서 적용 가능한 재료에 대해서는, 「내열성, 인장 강도 등이 우수한 강인한 플라스틱 필름을 적용할 수 있다」는 내용 및 「두께 8.5 ㎛∼300 ㎛의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 8.5 ㎛∼250 ㎛ 전후의 두께가 이용된다」는 내용이 마찬가지로 설명되며, 구체예로서 「예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 폴리이미드(PI) 필름, 폴리페닐렌설파이드(PPS)」가 거론되어 있고, 투명 지지체에 대해서는 추가로 「염화비닐필름, PET-G필름, 폴리카보네이트 필름」이 거론되어 있다.

그러나, 예시된 이들 필름은 「인장 강도 등이 우수한 강인한 플라스틱 필름」이라고 설명은 되어 있지만, 엠보스 가공의 관점에서 말하면, 강인하지 않은 것과 지나치게 강인한 것, 혹은 열에 의한 변형이 적은 것과 많은 것이 있어, 명백히 엠보스 가공이 불가능한 것이 있다.

또, 상기한 두께면에서도, 예컨대, 실시예 1에서는 지지체로서 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 두께에 대한 기재가 없기는 해도, 투명 지지체로서 두께 25 ㎛의 투명 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 사용되고 있으나 너무 두꺼워서 오버 시트에 엠보스 가공을 해 봐도 그것이 불가능하다는 것이 명백하다.

또한, 이 실시예에 있어서 형성되 오버 시트 자체, 지지체와 투명 지지체로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 사용되고 있는 것이기 때문에, 열 인가시의 헤드 매칭성이 손상되고 감도 특성이 저하하여, 특히 화상 소거 특성이 나쁜 것이라고 생각된다.

또, 코어 시트 재료로서, 염화비닐수지, PET-G로 대표되는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지 단독, 혹은 혼합된 시트가 거론되어 있지만, 엠보스 가공의 가능성을 시사하는 기재는 없고, 엠보스 가공의 관점에서 검토하면, 그 가능성이 있는 것과 없는 것이 있다.

다음 예로서, 카드 기재(코어 시트)로서 결정화도 5% 이하의 저결정성의 열가소성 수지 시트가 이용되고, 이것과 투명 PET 필름상에 가역성 기록층(류코 화합물과 현색제를 포함함)을 마련한 가역 감열 기록 테이프(오버 시트)를 접합시켜 이루어지는 두꺼운 정보 기록 표시 카드에 대한 제안을 들 수 있다(예컨대, 특허문헌 6 참조).

이 제안에서는, 엠보스 가공에 대해서 시사하는 기재는 전혀 없고, 두꺼운 PET 필름(실시예 1에서는 두께 25 ㎛, 실시예 2에서는 두께 38 ㎛)이 이용되고 있기 때문에, 이 정보 기록 표시 카드는 엠보스 가공이 불가능하고 또한 소거 특성이 나쁜 것이라고 추찰된다.

다음에, IC 칩 모듈을 내장한 시트(코어 시트)와, 필름상에 가역성 기록층(류코 화합물과 현색제를 포함함)을 마련한 가역 감열 기록 시트 (오버 시트)를 대향시켜 양 시트간의 공극에 수지를 사출 성형하여 접합시켜 이루어지는 IC 카드(두꺼운 정보 기록 표시 카드)에 관한 제안이 있지만, 엠보스 가공에 대해서는 전혀 기재되어 있지 않다(예컨대, 특허문헌 7 참조).

더욱이, 기재상에 가역성 감열 기록층(류코 화합물과 현색제를 포함함)과 보호층이 마련된 간판 방식의 대량생산 공장에 이용하는 기록 매체에 관한 제안이 있고, 기재로서 다종류의 플라스틱 필름이 예시되어 있지만, 각 실시예에서 이용되고 있는 기재인 백색 PET는 두께가 188 ㎛, 250 ㎛ 및 350 ㎛이기 때문에, 엠보스 가공에 대해서는 전혀 고려되어 있지 않다(예컨대, 특허문헌 8 참조).

또, 전술한 특허문헌 6, 특허문헌 7 및 특허문헌 8에는 오버 시트를 구성하 는 지지체용 재료 및 코어 시트를 구성하는 소재용 재료의 구체예로서 여러 가지가 거론되어 있지만, 전술한 특허문헌 5에 대해서 설명한 바와 같이, 예시된 재료 중에는 엠보스 가공의 관점에서 말하면, 열에 의한 변형이 적은 것과 많은 것이 있고, 엠보스 가공이 가능한 것과 불가능한 것 여러 가지이다.

이상의 설명으로부터 분명한 바와 같이, 시장에서 사용되기 시작하고 있는 정보 기록 표시 카드는 오버 시트면상에 엠보스 가공할 수 없기 때문에, 엠보스 가공을 하기 위해서 화상 표시 면적을 좁힌 것으로서, 또한 화상 소거 특성이 불충분하고, 게다가 폐기 처리시의 환경오염을 초래하는 것이다.

한편, 공지 자료로 개시되어 있는 정보 기록 표시 카드에 대해서는 엠보스 가공성의 관점에서 검토되고 있는 것은 없고, 그에 따른 화상 소거성을 거론하고 있는 것도 없으며, 나아가서는 폐기 처리시의 환경오염의 문제를 해결하기 위한 제안도 이루어져 있지 않다.

즉, 정보 기록 표시 카드에 대해서, 충분한 엠보스 가공성을 얻기 위해서는 우선 그것을 구성하는 오버 시트와 코어 시트 각각이, 및 오버 시트와 코어 시트의 일체물이 엠보스 가공성을 갖는 것이 필요하지만, 종래의 공지의 제품과 자료에 있어서는 이 관점에서 검토된 것이 없는 채로 현재에 이르고 있는 것이 실상이다.

더욱이, 가역성 감열 기록 재료에 대해서는, 특허문헌 등에 의해 종래부터 수많은 제안이 이루어져 있지만, 엠보스 가공성을 시사하고 또한 과제로서 거론된 것은 전무하고, 더 나아가 그것을 정보 기록 표시 카드의 오버 시트로서 이용하는 경우의 엠보스 가공성을 시사하고 또한 과제로서 거론된 것은 전무하며, 따라서 이 기술 분야에서 엠보스 가공성을 확보하고 또한 그것에 수반하는 화상 소거 특성을 향상시키는 것은 신규 과제라고 생각된다.

또, 엠보스 가공성에 관해서, 가역성 감열 기록이 아니라 가열에 의한 용융 혹은 승화 전사 기록 분야의, 열전사 필름에 함유하는 염료를 열에 의해 용융 혹은 승화시켜, 그 염료를 수용하고 정착하는 데 이용되는 카드 기재상에 수용층이 마련된 피열전사 카드에 대한 제안이 있다(예컨대, 특허문헌 9 참조).

이 제안은 카드 기재에 특수한 폴리에스테르를, 수용층에 반응성 실리콘계 중합체를 공중합한 폴리에스테르 공중합체를 이용함으로써, 피열전사 카드의 엠보스 가공 등의 성형 특성 등이 개량된 것이나, 당연한 일이지만 정보 기록 표시 카드(가역성 감열 기록 카드)와 같이, 오버 시트의 화상 소거성인 「가열 감열성」의 특수성을 해치지 않고서, 엠보스 가공을 양립시키는 것에 대해서는 전혀 고려되어 있지 않다.

더욱이, 가역성 감열 기록 재료에 대해서는, 특허문헌 등에 의해 종래부터 수많은 제안이 이루어져 있지만, 엠보스 가공성을 시사하고 또한 과제로서 거론된 것은 전무하고, 더 나아가 그것을 정보 기록 표시 카드의 오버 시트로서 이용하는 경우의 엠보스 가공성을 시사하고 또한 과제로서 거론된 것은 전무하며, 따라서 이 기술 분야에서 엠보스 가공성을 확보하고 또한 그것에 수반하는 반복 내구성을 향상시키는 것은 신규 과제라고 생각된다.

(특허문헌 1)

일본 특허 공개 평성 제2-188293호 공보

(특허문헌 2)

일본 특허 공개 평성 제2-188294호 공보

(특허문헌 3)

일본 특허 공개 평성 제5-124360호 공보

(특허문헌 4)

일본 특허 공개 평성 제6-210954호 공보

(특허문헌 5)

일본 특허 공개 제2001-341427호 공보(제2∼4 페이지, 실시예 1)

(특허문헌 6)

일본 특허 공개 제2000-137782호 공보(실시예 1 및 실시예 2)

(특허문헌 7)

일본 특허 공개 평성 제11-154210호 공보(실시예)

(특허문헌 8)

일본 특허 공개 제2001-88443호 공보(실시예)

(특허문헌 9)

일본 특허 공개 평성 제11-240262호 공보(청구항)

본 발명의 과제는 엠보스 가공성과 표시 화상의 소거 특성이 우수하고, 또한 폐기 처리가 쉽고 폐기 처리시에 환경오염의 문제가 발생하지 않는 정보 기록 표시 카드, 엠보스 가공성과 표시 화상 소거 특성이 우수한 가역성 감열 기록 재료로 이 루어진 오버 시트, 이 정보 기록 표시 카드를 이용하여 화상의 형성 및/또는 소거를 행하는 화상 처리 방법과 화상 처리 장치 및 이 정보 기록 표시 카드의 제조법을 제공하는 것이다.

상기 과제를 해결하기 위한 수단은 이하와 같다.

<1> 적어도 코어 시트 및 오버 시트를 포함하고, 상기 코어 시트와 오버 시트가 접합되어 이루어지며,

상기 오버 시트는, 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드이다.

<2> 상기 오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa 온도는 140℃ 미만인 것을 특징으로 하는 상기 <1>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<3> 상기 코어 시트의 거의 전체 표면 상에 오버 시트를 접합시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 <1> 또는 <2>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<4> 상기 지지체는 비정질 폴리에스테르 수지 및 비정질 폴리에스테르 수지와 폴리카보네이트 수지의 고분자 혼성체 수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<5> 상기 지지체와 감열 기록층 사이에 차단층을 마련하는 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<6> 상기 차단층은 수지 필름을 접착하여 형성된 것을 특징으로 하는 상기 <5>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<7> 상기 수지 필름의 막 두께는 8 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 상기 <6>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<8> 상기 수지 필름은 결정화 처리된 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 상기 <6> 또는 <7>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<9> 상기 차단층은 적어도 알콜계 용제 및 물 중 어느 하나에 용해 또는 분산 가능한 수지를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 상기 <5>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<10> 상기 전자 공여성 정색성 화합물은 류코 염료인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<11> 상기 전자 수용성 화합물은 직쇄 탄화수소 함유 페놀인 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<12> 상기 코어 시트는 두께가 0.05∼5.00 ㎜이고 1장 이상의 열가소성 수지 시트로 이루어진 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<13> 상기 코어 시트는 감열 가역성 오버 시트를 구성하는 지지체와 동일한 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 <12>에 기재의 정보 기록 표시 카드이다.

<14> 정보 기억부를 갖는 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <13> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<15> 상기 정보 기억부는 자기 재료를 주체로 하는 것 및 IC 칩 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 <14>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<16> 상기 코어 시트가는 여러장의 열가소성 수지 시트로 이루어지고, 열가소성 수지 시트 사이에 정보 기억부로서 IC 칩이 매립되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 <14>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<17> 상기 오버 시트에 자기 재료를 주체로 하는 정보 기억부를 갖는 것을 특징으로 하는 상기 <14>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<18> 엠보스 가공에 의한 각인이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 <1> 내지 <17> 중 어느 하나에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<19> 엠보스 가공에 의한 각인이 오버 시트 상에 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 <18>에 기재한 정보 기록 표시 카드이다.

<20> 전자 수용성 화합물의 융점 이하의 온도로 열프레스하여 코어 시트와 오버 시트를 접합시키는 공정을 포함하고,

오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능하며,

하기 조건

(A) [소거 상한 온도 - 30℃]>[오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+O8)의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E+02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E+07Pa

를 만족하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드 제작 방법이다.

<21> 150℃ 이하의 온도로 열프레스하여 코어 시트와 오버 시트를 접합시키는 것을 특징으로 하는 상기 <20>에 기재한 정보 기록 표시 카드 제작 방법이다.

<22> 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 정보 기록 표시 카드의 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

를 만족하고, 그 위에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 오버 시트이다.

<23> 정보 기록 표시 카드의 화상 표시부 표면을 가열함으로써 화상의 표시 및 화상의 소거 중 적어도 어느 하나를 행하는 공정을 포함하고,

상기 정보 기록 표시 카드는 적어도 코어 시트 및 오버 시트를 포함하며 상기 코어 시트와 상기 오버 시트가 접합되어 이루어지고,

하기 조건

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E+02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤ 5.0E+07Pa

를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법이다.

<24> 화상의 표시에 발열 소자를 이용하는 것을 특징으로 하는 상기 <23>에 기재한 화상 처리 방법이다.

<25> 화상의 소거에 발열 소자 및 세라믹 히터 중 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 상기 <23>에 기재한 화상 처리 방법이다.

<26> 화상의 표시 및 소거에 발열 소자를 이용하고, 화상의 소거와 새로운 화상의 표시에 의해 중복기록을 행하는 것을 특징으로 하는 상기 <23> 내지 <25> 중 어느 하나에 기재한 화상 처리 방법이다.

<27> 정보 기록 표시 카드에 화상 표시를 행하는 데 이용되는 화상 표시 장치, 화상의 소거를 행하는 데 이용되는 화상 소거 장치, 화상의 표시 및 소거를 행하는 데 이용되는 화상 표시ㆍ소거 장치 중 적어도 어느 하나를 구비하여 이루어지고,

상기 정보 기록 표시 카드는 적어도 코어 시트 및 오버 시트를 적어도 포함하며 상기 코어 시트와 상기 오버 시트가 접합되어 이루어지고,

하기 조건

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E+02Pa≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E']≤5.0E+07Pa

를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치이다.

<28> 화상의 표시 수단이 발열 소자인 것을 특징으로 하는 상기 <27>에 기재한 화상 처리 장치이다.

<29> 화상의 소거 수단이 발열 소자 및 세라믹 히터 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 <27>에 기재한 화상 처리 장치이다.

도 1A 및 도 1B는 본 발명의 실시 형태에 따른 정보 기록 카드를 작성하는 방법을 설명하기 위한 도면으로서, 도 1A는 본 발명의 실시 형태에 따른 정보 기록 카드를 가열 프레스하기 전의 상태를 도시한 단면도이고, 도 1B는 가열 프레스한 후의 상태를 도시한 단면도이다.

도 2는 본 발명의 가역성 감열 기록 매체의 발색·소색 특성을 도시한 도면이다.

도 3은 본 발명의 정보 기록 표시 카드의 일례인 IC 카드를 제조하는 방법을 예시하기 위해서 가열 프레스하기 전의 상태를 도시한 단면도이다.

도 4는 도 3에 도시된 IC 카드를 가열 프레스한 후, 엠보스를 행한 상태를 도시한 단면도이다.

본 발명자들은 상기 과제의 해결을 위해 정보 기록 표시 카드를 구성하는 오버 시트와 코어 시트 중, 특히 가역성 감열 기록 재료인 오버 시트를 주체로 하여 검토를 거듭하여 본 발명에 이른 것이다.

오버 시트를 주체로 한 이유는 오버 시트가 갖는 열에 민감한 「가역 감열성」의 기록 재료라고 하는 특수성에 의한 것으로, 코어 시트와 조합하여 가열 가압하여 일체화하는 공정과 그 일체화물을 엠보스 가공하는 공정을 거치면, 이들 공정 중에 걸리는 열적 혹은 기계적 에너지에 의해 오버 시트의 상기 특수성을 해치게 되어 그 화상 표시 기능이 저하하거나 혹은 소멸할 가능성이 있기 때문에, 본 발명자들은 이 마이너스의 가능성을 극복하여 본 발명을 창출한 것이다.

이러한 본 발명의 정보 기록 표시 카드는 오버 시트 상에 엠보스 가공에 의해 「엠보싱 표시인 각인」을 마련하여도 화상 표시부의 기능을 저하시키지 않고, 더 나아가 화상 표시부에 화상을 표시한 후에 엠보스 가공을 행할 수 있다.

본 발명의 정보 기록 표시 카드는 적어도 코어 시트 및 오버 시트를 포함하고 상기 코어 시트와 오버 시트가 접합되어 이루어지며,

상기 오버 시트는, 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가 열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층을 구비하여 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것 이외에는 특별히 제한은 없다. 또, 상기 조건 (A), (B) 및 (C)에 있어서, 「1.0E+08」은 「1.0×10⁸」을 의미하고, 「1.0E+02」는 「1.O×10²」를 의미하며, 「5.0E+O7」은 「5.0×10⁷」을 의미한다. 또, 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도는 저장 탄성율이 E'(1.0E+08)Pa의 값을 취할 때의 온도를 의미한다.

본 발명의 오버 시트와 코어 시트를 접착하여 이루어지는 정보 기록 표시 카드에 있어서, 오버 시트가 겸비하는 하기 조건 (A), (B) 및 (C)에 대해서 설명한다:

(B) 표면 기복 WCM(Maximum height of Waviness Profile; 웨이비네스 프로필의 최대 높이)이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E+02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E+07Pa.

(A) 조건 [소거 상한 온도 - 30℃]>[저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도]는 본 발명의 정보 기록 표시 카드가 우수한 화상 소거 특성을 확보하기 위해서 필요한 것이다.

본 발명에 이용되는 류코 염료(전자 공여성 정색성 화합물)와 현색제(전자 수용성 화합물)를 함유하는 타입의 가역성 감열 기록 재료는 일반적으로 고유의 화상 소거 온도 범위를 갖는 것으로, 소거 상한 온도란 일반적으로 현색제의 융점에 기인하는 것이다.

조건 (A)는 본 발명에 있어서 안정된 화상 소거 특성을 갖게 하기 위해서는 [소거 상한 온도 - 30℃]의 온도 영역이 오버 시트의 [저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa]의 온도보다도 높을 필요가 있을 나타낸 것이다.

특히, 오버 시트의 [저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa]의 온도가 140℃ 미만인 것이 보다 우수한 소거 특성을 얻기 위해서 바람직하다.

조건 (A)에 있어서, 상기 안정된 화상 소거 특성을 얻을 수 있는 것은 발열 소자와 같은 오버 시트 표면에 밀착시키는 가열 수단을 이용하는 경우에, 가열 수단과 오버 시트 표면과의 밀착성이 향상되는 것 등에 따른다고 생각된다.

[소거 상한 온도]는 기본적으로는 가역성 감열 재료의 현색제의 융점으로 결정되지만, 측정 방법으로서는 오버 시트를 180℃의 핫 플레이트에 접촉시켜 급냉시킴으로써 포화 발색 화상을 형성시킨 후에, 열경사 시험기 HG-100(도요세이키사에서 제조)을 이용하여 압력 1 Kgf/cm, 가압 시간 1초로써 5℃마다 흔든 가열판을 꽉 누름으로써, 소거 가능한 최고 온도를 구한다.

또한, [저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도]의 측정 방법으로서는 이와모토세이사쿠쇼에서 제조한 「점탄성 스펙트로미터」를 이용하여 동적 점탄성의 온도 분산을 인장법, 주파수 1 Hz로 측정하고, 실수 항을 저장 탄성율(E')로서 산출한다. 측정 온도 범위는 -100∼200℃에서 3℃마다 저장 탄성율(E')을 측정하고, 저장 탄성율(E')이 (1.0E+08)Pa에 도달했을 때의 온도를 구하였다.

이 오버 시트의 [저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa]의 온도는 정보 기록 표시 카드를 반복 사용한 경우의 내구성에도 영향을 주어, 비교적 높은 온도가 바람직하지만, 80℃ 이상인 것이 반복 내구성에는 특히 바람직하다.

이 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa가 80℃ 미만이면, 수회 째의 인자로 크게 컬이 발생하는 경우가 있어, 실용상 바람직하지 못하다.

본 발명에서 오버 시트를 구성하는 지지체로서 이용하는 비정질 폴리에스테르 수지로서, 예컨대, 방향족 디카르복실산 성분과 디올 성분의 탈수 축합체를 들 수 있지만, 이 수지로 이루어진 지지체는 열을 가했을 때에 유연성이 향상되는 성질을 갖는 것이다.

소거 가열 수단으로서 발열 소자를 이용하는 경우, 오버 시트의 표면을 발열 소자에 의해 열인가하면, 오버 시트의 유연성이 향상되어 발열 소자와의 밀착성이 좋아지고, 그 결과 화상 소거 특성을 향상시킬 수 있다. 이 유연성은 지지체의 영향이 강하지만, 반드시 지지체의 유연성이 오버 시트 전체의 유연성을 결정하는 것은 아니다.

(B) 조건 [표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하]는 본 발명의 정보 기록 표시 카드 가, 우수한 화상 소거 특성과 화상의 시인성을 확보하기 위해서 필요한 것이다.

지지체 상에 가역 감열 기록층이 설치된 본 발명에 이용되는 오버 시트의 표면 기복 WCM은 화상 소거 특성과 화상의 시인성 등에 영향이 크고, 가능한 한 평활한 것이 바람직하며, 높더라도 10 ㎛ 정도인 것이 필요하다. 10 ㎛보다도 높아지면, 가열 수단과의 밀착성이 불충분해져서 화상 소거 특성이 저하하는 경우가 발생하게 되어, 또한 시인성이 나빠 미관이 떨어지는 경향이 있어 바람직하지 못하다.

여기서 말하는 표면 기복 WCM이란, 여파 최대 기복을 의미하는 것으로, 여파 기복 곡선으로부터 기준 길이(측정 길이 5.0 mm)를 추출한 부분에 있어서, 평균선에 평행한 2직선으로 추출부를 사이에 두었을 때의 2직선의 간격의 값을 나타낸 것이다. 본 발명에 있어서의 표면 기복 WCM의 값은 도쿄세이미쯔사 제조의 표면 거칠기 형상 측정기에 의해 측정할 수 있었던 값을 나타내는 것이다.

이 표면 기복은 지지체의 재료나 두께 및 오버 시트의 제법 조건 등에 의해 크게 좌우되는 것이다. 본 발명과 같이 오버 시트의 지지체로서 비정질 폴리에스테르 필름을 사용한 경우에는, 지지체 상에 감열 기록층 형성액을 코팅한 후에 행하는 건조를 100℃ 이상에서 행하면 변형을 발생시키는 원인이 되고, 또한 비정질 폴리에스테르 필름은 용매에 대하여 용해성이 높기 때문에, 일반적으로 사용되는 MEK, 톨루엔, 아세트산에틸, THF 등의 용매가 이용된 감열 기록층 형성액에 의하면, 지지체를 침식하여 지지체를 변형시켜 표면이 황폐해지는 원인이 되기 때문에 바람직하지 못하다.

(C) 조건 [1.0E+02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E+07Pa]은 본 발명의 정보 기록 표시 카드를 구성하는 오버 시트가 우수한 엠보스 가공성을 확보하기 위해서 필요한 것이다.

전술한 바와 같이, 크레디트 카드나 현금 카드 등에 엠보스 가공에 의해 형성되는 각인 「엠보싱 표시」가 있는 것이 실용상 이제는 필수 요건이라고 해야될 정도로 중요하다.

엠보스 가공성에 대해서는 오버 시트와 코어 시트 및 이들의 일체물인 정보 기록 표시 카드의 각각이 그 가능성에 영향을 주는 것이지만, 만족한 화상 표시 기능을 갖게 하고, 게다가 엠보스 가공성을 부여한다고 하는 엄격한 요구가 있는 오버 시트에 대해 본 발명에 있어서는 특별히 중점적으로 검토하여 그 조건에 이른 것이다.

엠보스 가공할 수 있는지 여부는 오버 시트의 가공 온도 영역에 있어서의 「유연함」이 중요한 요인이며, 본 발명에 있어서는 그 「유연함」을 오버 시트의 저장 탄성율로 표현한 것으로, 180℃에 있어서의 저장 탄성율이 5.0E+07Pa 이하의 오버 시트를 이용하는 것이 필요하고, 이 조건을 만족하면 우수하게 엠보스 가공할 수 있다.

180℃에 있어서의 저장 탄성율이 5.0E+07Pa를 넘으면, 엠보스 가공한 경우, 오버 시트 자신의 균열에 의한 층간 박리의 원인이 되거나, 혹은 완성된 카드의 휨의 원인이 되어 버리는 경향이 있다.

또한 180℃에 있어서의 저장 탄성율이 1.0E+02Pa 미만의 경우, 필름 성형시의 필름 막형성 불량이 발생하여 필름 형상이 손상되므로 바람직하지 못하다.

또, 후술과 같이 지지체 상에 차단층을 마련하는 경우에는 차단층의 재질, 두께가 저장 탄성율에 영향을 주기 때문에 유의할 필요가 있다.

[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E']은 상기 저장 탄성율(E')의 측정·산출 방법에 따라 180℃에서의 저장 탄성율(E')의 값을 이용할 수 있다.

엠보스 가공은 통상 180℃ 이상에서 행하는 경우가 많기 때문에, 오버 시트로서 180℃ 시점에서 어느 정도 유연한 것이 필요한데, 본 발명자들이 검토한 결과, 오버 시트로서 180℃에 있어서의 저장 탄성율(E')이 5.0E+07Pa 이하로 하면, 충분한 엠보스를 행할 수 있는 것이 가능해졌다.

본 발명에 이용하는 오버 시트는 지지체 상에 적어도 가역성 감열 기록층을 갖는 가역성 감열 기록 재료로서, 이 가역성 감열 기록층이 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및/또는 가열후의 냉각 속도의 차이에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 것이다.

가역성 감열 기록층을 구성하는 재료 및 가역성 감열 기록층 위에 보호층을 마련하는 등, 필요에 따라 다른 층을 마련한 구성으로 하는 것에 대해서는 공지의 가역성 감열 기록 재료를 적용할 수 있다.

이 오버 시트에 대해서, 본 발명 과제의 엠보스 가공성과 화상 소거 특성에 가장 영향이 크다고 생각되는 지지체에 대해서는 전술하였고 다른 기술적 사항에 대해서는 후술한다.

본 발명의 오버 시트에 이용하는 지지체 재료로서는, 엠보스 가공성과 화상 소거 특성 외에, 코어 시트와의 일체화성(접착성 혹은 열융착성)을 고려하여, 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 수지 조성물이 이용되며, 구체적으로는, 한 종류의 비정질 폴리에스테르 수지 조성물을 포함하는 것 외에, 예컨대 복수의 비정질 폴리에스테르 수지의 고분자 혼성체 수지 조성물이나 비정질 폴리에스테르 수지와 폴리카보네이트 수지의 고분자 혼성체 수지 조성물 등을 이용할 수 있다.

여기서, 본 발명에 있어서의 비정질 폴리에스테르 수지란, 방향족 디카르복실산 성분과 디올 성분과의 탈수 축합체로부터 얻어지는 것으로서, 또한, 카드 제조에 있어서 프레스 융착 등 실용상 행해지는 열가공을 실시하여도 결정화에 따른 백탁화나 융착 불량 등의 실해를 일으키지 않는 것을 말하며, 분자 구조상 결정성이 낮은 것 외에, 예컨대 결정화 처리전의 PBT(폴리부틸렌테레프탈레이트) 등도 포함하는 넓은 개념을 의미한다.

이 비정질 폴리에스테르 수지의 원재료가 되는 방향족 디카르복실산 성분으로서 바람직하게 이용되는 대표적인 것으로서는, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산 등을 들 수 있지만, 테레프탈산의 일부를 다른 디카르복실산으로 치환하여도 좋다.

다른 디카르복실산 성분으로서는, 옥살산, 말론산, 호박산, 아디프산, 아젤라산, 세바신산, 네오펜틸산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 디페닐에테르디카르복실산, p-옥시안식향산 등을 들 수 있다. 또, 이들 외의 디카르복실산 성분은 1종이어도 2종 이상의 혼합물이어도 좋고, 또한, 치환되는 다른 디카르복실산의 양도 적절하게 선택할 수 있다.

또한, 이 비정질 폴리에스테르 수지의 원재료가 되는 디올 성분으로서 바람직하게 이용되는 대표적인 것으로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있지만, 에틸렌글리콜의 일부를 다른 디올 성분으로 치환하여도 좋다.

다른 디올 성분으로서는, 프로필렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, 글리세린, 펜타에리스리톨, 트리메틸올, 메톡시폴리알킬렌글리콜 등을 들 수 있다.

또, 이들 다른 디올 성분은 1종이어도 2종 이상의 혼합물이어도 좋고, 또한, 치환되는 다른 디올의 양도 적절하게 선택할 수 있다.

또한, 본 발명에 이용되는 비정질 폴리에스테르 수지 중, 테레프탈산과 에틸렌글리콜을 축합 중합시켜 형성된 폴리에틸렌테레프탈레이트가 비용면에서 바람직하지만, 전술한 바와 같이, 테레프탈산 이외의 다른 디카르복실산 성분 및/또는 에틸렌글리콜 이외의 다른 디올 성분을 포함한 공중합 폴리에스테르를 사용하는 것도 본 발명의 과제 달성을 위해 유효하다.

공중합 폴리에스테르로서는, 디카르복실산 성분의 60 몰% 이상이 테레프탈산이고 나머지 디카르복실산 성분이 다른 디카르복실산 성분으로 치환된 디카르복실산 성분과, 디올 성분의 60 몰% 이상이 에틸렌글리콜이고 나머지 디올 성분이 다른 디올 성분으로 치환된 디올 성분을 축합 중합시킨 공중합 폴리에스테르를 들 수 있다.

더욱이 본 발명에 이용할 수 있는 방향족 폴리에스테르 수지로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 상기 공중합 폴리에스테르의 혼합물이어도 좋다. 단, 공중합 폴리에스테르를 사용하는 경우에는, 공중합 성분의 선택이나 함유량 등에 따라서는 시트의 유리 전이 온도나 인장 탄성율의 변화가 크기 때문에 주의가 필요하다.

이러한 혼합물의 경우에, 특히 적합하게 사용할 수 있는 공중합 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트에서 에틸렌글리콜의 약 30 몰%를 1,4-시클로헥산디메탄올로 치환하여 제조한 실질적으로 비결정성인 방향족 폴리에스테르 수지가 바람직한데, 예컨대, 이스트만케미컬사에서 제조한 상품명이 「PETG」인 것을 이용할 수 있다.

상기 폴리에스테르 수지와 폴리카보네이트 수지의 고분자 혼성체 수지 조성물에 있어서의, 이 폴리카보네이트 수지란 주쇄에 카르보네이트 결합(-0-CO-0-)을 갖는 중합체를 널리 의미한다.

폴리카보네이트 수지로서는, 페놀과 아세톤으로 합성되는 비스페놀 A로부터 계면 중합법, 에스테르 교환법, 피리딘법 등에 의해 제조되는 것, 비스페놀 A와 디카르복실산 유도체(예컨대 테레(이소)프탈산디클로라이드 등)와의 공중합체에 의해 얻어지는 폴리에스테르카르보네이트, 비스페놀 A의 유도체(예컨대 테트라메틸비스페놀 A 등)의 중합에 의해 얻어지는 것을 예시할 수 있다.

또한, 본 발명의 오버 시트용 지지체로서는, 단층 필름이 아니라, 지지체에 요구되는 기능이 달성되는 것이면, 예컨대, 비정질 폴리에스테르 수지 필름과 다른 종류의 다른 필름과의 2층 이상의 적층체이어도 좋다.

예컨대, 가역성 감열 기록층을 마련하는 면측에 내층을, 코어 시트와 열압착시키는 면측에 외층을 갖는 다층 구조의 적층체로서, 외층을 구성하는 수지의 용융 온도가 내층을 구성하는 수지의 용융 온도보다 낮게 되는 구성으로 하면, 저온 융착성을 손상시키지 않고서 카드의 내열성을 향상시키는 데 유효하다.

예컨대, 외층을 폴리에스테르 수지로 하고 내층을 비정질 폴리에스테르 수지와 폴리카보네이트 수지로 이루어진 고분자 혼성체 수지 조성물의 2층 시트로 함으로써 내열성을 가지며 코어 시트와의 열융착성을 만족하고 게다가 엠보스 가공성이 우수한 것으로 할 수 있다.

더욱이, 필요에 따라, 착색제, 윤활제, 충전재, 충격 개량제 등의 첨가제를 함유시킨 지지체 필름을 이용하는 것도 가능하다. 특히, 탈크와 같은 판형 충전재, 혹은 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 인장 강도를 저하시키는 중합체를 배합한 지지체 필름은 엠보스 가공성이 향상되어 바람직하게 이용할 수 있다.

오버 시트를 구성하는 지지체의 두께는 작성하는 정보 기록 표시 카드의 두께에 의해 좌우되지만, 일반적으로는 50 ㎛∼250 ㎛가 바람직하고, 추가로 75 ㎛∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하다.

다음에, 본 발명에 이용하는 코어 시트에 대해서 설명한다.

본 발명에 있어서의 코어 시트란, 표면에 오버 시트를 접착하여 일체화하고 정보 기록 표시 카드를 형성하는 데 이용되는 것을 의미한다. 통상 사각형의 판형이면서 수지성인 것이 많이 이용되고, 또한 필요에 따라 여러 장 겹쳐 이용할 수 있다.

이 코어 시트에는 정보 기억부가 배치된 것이 포함되며, 자성의 정보 기억부의 경우에는, 1장의 수지 시트에 접착한 것이나 매립한 것이 있고, 정보 기억부가 IC 칩이나 안테나 코일 등과 같은 경우에는, 두꺼운 수지 시트에 공극을 형성하여 거기에 박아 넣은 것이라든가, 복수의 수지 시트 사이에 끼워 넣은 것 등이 있다.

이러한 정보 기억부가 배치된 코어 시트에 대해서는, 자기 테이프 등의 배치나 IC 칩 등과의 위치 결정은 번잡하고 시간이 걸리는 작업이지만, 화상 표시부가 없는 종래의 정보 기록 카드에 이용되는 기술을 적용할 수 있다.

코어 시트의 두께는 100 ㎛∼800 ㎜인 것이 바람직하고, 나아가서는, 200 ㎛∼600 ㎛가 보다 바람직하다.

코어 시트를 구성하는 재료로서는, 가열 가압에 의해 변형하는 열가소성 수지의 시트형인 것이 바람직하고, 더 나아가 가열 가압에 의해 오버 시트의 지지체 필름과 융착성이 있는 것이 중요하며, 오버 시트와의 사이에 높은 접착력을 갖게 하기 위해서 이용하는 코어 시트로서, 오버 시트와 접촉하는 적어도 표층부의 재료가 오버 시트와 같은 종류의 수지를 이용하는 것이 바람직하고, 예컨대 비정질 폴리에스테르 수지끼리, 폴리카보네이트끼리로 하는 등으로 제작할 수 있다.

열가소성 수지로서는, 비정질 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리카보네이트 수지·비정질 폴리에스테르 수지 혼성체를 바람직하게 이용할 수 있지만, 이들에 한하지 않고, 폴리올레핀계 수지, 결정성 폴리에스테르 수지, 아크릴수지, ABS수지, AS수지, 생분해성수지 등 범용의 것을 이용할 수 있다.

또한, 코어 시트의 재료로서, 내열성이 양호한 엔지니어링 플라스틱을 사용 할 수 있다. 엔지니어링 플라스틱으로서는, 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤 등을 들 수 있고, 이들 1종류 또는 2종류 이상을 주성분으로 하는 필름이나 시트가 바람직하게 사용된다.

또한, 접착성뿐만 아니라, 내열성 등의 복수의 기능을 갖게 하기 위해서는 코어 시트를 2층 이상으로 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 2층 이상으로 이루어진 코어 시트를 미리 제작해 두고, 그것을 이용하여 오버 시트와 겹쳐 프레스에 걸어도 좋고, 복수의 코어 시트를 준비하여, 열프레스시에 오버 시트와 겹쳐 융착시킬 수 있다.

코어 시트를 3층 구성으로 하는 예를 들면, 비정질 폴리에스테르 수지/폴리카보네이트 수지/비정질 폴리에스테르 수지 혹은 비정질 폴리에스테르 수지/폴리카보네이트 수지·비정질 폴리에스테르 수지 혼성체/비정질 폴리에스테르 수지로 할 수 있고, 외층의 비정질 폴리에스테르 수지에 의해 저온 접착성을, 중층의 폴리카보네이트 수지 또는 폴리카보네이트 수지·비정질 폴리에스테르 수지 혼성체에 의해 내열성을 갖게 할 수 있다.

여기서 외층에 이용하는 비정질 폴리에스테르 수지란 비정질 폴리에스테르 수지 단체 혹은 비정질 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 혼성체물을, 또한, 중층의 폴리카보네이트 수지란 폴리카보네이트 수지 단체 혹은 폴리카보네이트 수지를 주성분으로 하는 혼성체물을 각각 의미하고 있다. 외층 및 중층은 목적으로 하는 용도에 따라 층 두께를 자유롭게 설정할 수 있다.

또한, 코어 시트는 투명, 반투명 또는 불투명 중 어느 것이어도 좋고, 백색 이나 유채색으로 착색되어도 좋으며, 사양 용도에 따라 적절하게 설계되는 것이 바람직하다.

반투명 필름 및 불투명한 필름으로 하는 경우에는, 수지 속에 무기 안료나 유기 안료를 배합할 수 있다. 투명 필름으로 하는 경우에도 투명성을 손상시키지 않는 양의 안료를 배합할 수 있다.

코어 시트 중에는 상기 안료 이외에도 가소제, 내전방지제 등 각종 첨가제를 배합할 수 있다.

또한, 코어 시트의 표면은 접합 가공의 탈기를 위해 엠보스 가공 등이 행해져 있는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서의 오버 시트를 구성하는 지지체와 코어 시트용 필름의 각각의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 적용할 수 있다.

양쪽이 단층인 경우에는, 수지 조성물을 T 다이를 이용해 압출하는 방법이 이용되고, 또한 한쪽 또는 양쪽이 다층인 경우에는, 각 층의 수지 조성물을 공압출하여 적층하는 공압출법 혹은 각 층을 시트형으로 제작하여 이것을 라미네이트하는 방법이 이용되지만, 생산성, 비용면을 고려하면 공압출법에 의해 적층하는 방법이 바람직하다.

구체적으로는, 단층의 경우, 수지 조성물을 배합하거나 혹은 필요에 따라 펠릿형으로 하여 T 다이 압출기의 호퍼에 투입한다. 그리고, 온도 200℃∼280℃의 범위에서 용융하여 압출하고, 냉각롤 등으로 냉각 고화하여 시트를 형성한다.

또한, 다층의 경우, 각 층의 수지 조성물을 각각 배합하거나 혹은 필요에 따 라 펠릿형으로 하여, 복수의 T 다이가 연결된 T 다이 압출기의 각 호퍼에 각각 투입하고 온도 200℃∼280℃의 범위에서 용융하여 공압출하고, 냉각롤 등으로 급냉 고화하여, 적층된 시트를 형성한다.

오버 시트와 코어 시트란, 양자를 접합 가공(프레스, 라미네이트)한 것에 높은 접착력을 갖게 하기 위해서는 적어도 양자가 접하는 표층부의 재료로서 동종류의 수지를 이용하는 것이 바람직하다.

또한, 오버 시트와 코어 시트의 두께로서는, 제작하고자 하는 카드의 두께를 고려하여 선정된다.

예컨대, JIS X 6301로 규정되는 두께 760 ㎛의 카드를 제작하는 경우, 50∼250 ㎛ 두께의 오버 시트와 50∼700 ㎛ 두께의 코어 시트를 소정의 카드 두께가 되도록 조합하여 사용할 수 있다.

또한, 소정의 두께로 하기 위해서 복수의 코어 시트를 이용하여도 좋다. 또한, 비접촉 IC 카드와 같이, 카드 내에 IC 칩이나 안테나를 끼워넣은 경우는, IC 칩이나 안테나의 사이즈를 고려하여 코어 시트 두께를 선정할 수 있다.

이 경우, 50∼200 ㎛ 두께의 오버 시트와 50∼400 ㎛의 코어 시트를 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 100 ㎛의 오버 시트에는 280 ㎛의 코어 시트 2장을 조합하는 것이 바람직하다.

이상 설명한 바와 같은, 오버 시트를 코어 시트에 접착하여 본 발명의 정보 기록 표시 카드를 제조하는 방법에 대해서 설명한다.

본 발명에 있어서 「접착」이란 말은 일체화하는 것을 의미하며, 그 방식은 접착제로 접착할 수도 있고, 가열 가압하여 열융착시킬 수도 있다.

도 1A 및 도 1B는 오버 시트와 코어 시트를 가열 가압에 의해 정보 기록 표시 카드를 제작하는 상태를 도시한 개념도로, 2장의 코어 시트와 외층 시트를 이용하는 예를 도시한 것이다.

오버 시트(10)는 지지체(1) 상에 차단층(2), 가역성 기록층(3) 및 보호층(4)이 순차적으로 제공된 것이다.

2장의 코어 시트(5)를 오버 시트(10)와 외층 시트(6)로 감싸듯이 배치한 후, 오버 시트(10)의 보호층(4)의 표면측과 외층 시트(6)의 표면측을 더욱 가압판과 같은 것으로 감싸서 가열 가압하여 열융착시킨다.

이 예에서는, 외층 시트도 2장의 코어 시트도 일체화되어, 정보 기록 표시 카드의 일부가 되는 것이지만, 본 발명의 정보 기록 표시 카드는 이러한 구성의 것에 한정되는 것이 아니다.

예컨대, 도 1A 및 도 1B에 있어서, 2장의 코어 시트(5) 사이에, 추가로 안테나 코일을 갖춘 비접촉형 IC 칩을 배치한 시트(인렛 시트라 함)를 끼우고, 또한 외층 시트(6)에는 미리 자기 스트라이프층이 가전사된 것을 이용하여, 상기와 같이 가열 가압하여 IC 칩이 배치된 IC 카드용 적층체를 형성할 수 있다.

이렇게 해서 형성된 일체물을 소정 사이즈의 카드 형상으로 펀칭날 등을 이용하여 펀칭하여 정보 기록 표시 카드가 제작된다.

가열 가압 방식에는 프레스 방식이나 라미네이트 방식이 있지만, 사용되는 시트의 재질 등으로 구별하여 사용할 수 있으며, 한정되는 것은 아니다.

즉, 코어 시트로서 대형의 것을 준비하고 그것에 소정 면적의 오버 시트를 배치하여 가열 가압하는 것도 가능하며, 테이프형의 코어 시트와 오버 시트를 롤 상태로 하여 양쪽을 합체시켜 가열 가압하는 것도 가능하여 정보 기록 표시 카드의 제법은 한정적이지 않다.

외층 시트로서는, 가열 가압에 의해 코어 시트와 융착하는 성질이 있는 것이면 특별히 한정적이지 않지만, 두께가 코어 시트보다도 작은 것이 통상 이용되고, 또한 오버 시트를 구성하는 지지체 재료에서 선정하여도 좋으며, 추가로 오버 시트를 구성하는 지지체 재료와 같은 것을 이용할 수 있다.

또한, 종래의 가역성 감열 기록층이 없는 정보 기록 카드를 열융착에 의해 제조하는 경우에는, 외층 시트를 이용하여 행하는 것이 일반적이고, 본 발명에 있어서는 그 외층 시트 중에서 선택하여 사용할 수도 있다.

본 발명에 있어서의 「오버 시트」 및 「코어 시트」란, 이 외층 시트를 이용하여 코어 시트를 속으로 하여 오버 시트와 외층 시트로 감싼 상태의 각각의 위치를 칭한 것이지만, 본 발명의 정보 기록 표시 카드에는 공법에 따라 이 외층 시트를 생략하는 것도 가능하므로 본 발명의 정보 기록 표시 카드에는 외층 시트가 생략된 것도 포함된다.

다음에, 이 가열 가압 프로세스에 대해서 설명한다.

가열 가압시의 온도(프레스 온도라 함)가 현색제의 융점을 넘으면 표면 흐림이 발생하기 때문에, 현색제의 융점 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 가열 가압시의 압력(프레스 압력이라 함)이 너무 높으면, 카드 표면의 무광택 톤이 저하하여 광택감이 발생하거나, 표면층이 파괴되어 스틱이 발생하는 등의 문제를 갖는다.

그 때문에 「가역 감열성」이라고 하는 특수성을 손상시키지 않고 카드화시키기 위한 프레스 상한 온도는 160℃ 이하인 것이 바람직하고, 추가로 150℃ 이하, 특히 140℃ 이하인 것이 바람직하다. 현색제의 융점 또는 160℃를 넘는 온도에서 프레스하면, 표면은 현색제와 염료에 의해 표면 흐림이 발생하거나, 노래지거나 하는 문제가 발생하기 쉬워진다.

한편, 프레스 하한 온도는 100℃ 이상인 것이 바람직하고, 특히 120℃ 이상이 바람직하다. 100℃ 미만에서는 융착이 불충분하여 박리 문제가 발생하는 경향이 있다.

프레스 상한 압력에 대해서는 40 kg/cm²이하인 것이 바람직하고, 특히 3O kg/cm²이하가 바람직하다. 40 kg/cm²를 넘으면 기재나 IC 칩이 파괴되는 문제가 발생한다.

한편, 프레스 하한 압력은 5 kg/cm²이상인 것이 바람직하고, 특히 10 kg/cm²이상이 바람직하다. 5 kg/cm²미만이 되면, 압착이 불충분하여 박리라고 하는 문제가 발생하기 쉬워진다.

또한, 가열 가압 시간으로서는, 5∼20분간이 바람직하다.

엠보스 가공에 의한 「엠보싱 표시」를 갖는 정보 기록 표시 카드를 제작하 는 경우에는 다음과 같이 본 발명의 특징을 살릴 수 있다.

즉, 본 발명의 오버 시트는 엠보스 가공이 가능한 것이기 때문에, 엠보스 가공이 가능한 코어 시트와 조합한 경우에는, 코어 시트와 오버 시트의 크기가 같은 것을 사용할 수 있는 이점이 있다.

즉, 코어 시트 전면에 오버 시트가 접착된 정보 기록 표시 카드가 제작되게 되지만, 이 정보 기록 표시 카드는 오버 시트 위에서 엠보스 가공을 할 수 있는 것이기 때문에, 오버 시트 본래의 기능을 발현하는 화상 표시부와 엠보스 가공에 의한 「엠보싱 표시」의 각각의 크기와 위치에 대해서 선택의 자유도가 커지는데 이 이점은 종래의 정보 기록 표시 카드에는 요구할 수 없는 것이다.

코어 시트의 면적의 크기에 맞추지 않고서, 접착하는 오버 시트를 작은 것으로 할 수도 있다. 이 경우는 사이즈가 다른 것을 준비하는 것과, 코어 시트상의 소정의 위치에 오버 시트를 접착할 필요가 있어 접착 위치 정밀도가 요구되기 때문에, 종래의 정보 기록 표시 카드를 제조하는 경우와 동일하게, 생산 효율의 면에서 결점을 가진다.

그러나, 이러한 오버 시트의 면적이 작은 정보 기록 표시 카드라도, 화상 표시 기능에 지장이 없는 한, 오버 시트를 피하지 않더라도, 혹은 오버 시트에 걸려 있더라도 엠보스 가공을 할 수 있는 것은 정보 기록 표시 카드 자체의 기능면과 생산면에서도, 종래품에 없는 우수한 이점이다.

물론, 본 발명의 정보 기록 표시 카드로서, 종래품과 동일하게 특정 위치에 오버 시트를 접착하여 오버 시트 부분을 피하여 엠보스 가공된 것도 포함하며 그 경우에도 높은 반복 내구성을 갖는 점에서 종래품보다 우수한 것이다.

본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료는 가열 온도 및/또는 가열후의 냉각 속도에 의해 상대적으로 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 것이다. 이 본 발명에 이용되는 발색제와 현색제로 이루어진 조성물의 기본적인 발색·소색 현상을 설명한다.

도 2는 이 기록 매체의 발색 농도와 온도의 관계를 나타낸 것이다. 처음에 소색 상태(A)에 있는 기록 매체를 승온시켜 나가면, 용융하기 시작하는 온도 T₁에서 발색이 발생하여 용융 발색 상태(B)가 된다. 용융 발색 상태(B)에서 급냉하면 발색 상태인 채 실온으로 낮출 수 있어, 굳어진 발색 상태(C)가 된다. 이 발색 상태를 얻을 수 있는지 여부는 용융 상태로부터의 온도 하강 속도에 의존하고 있고, 서냉에서는 온도 하강의 과정에서 소색이 일어나, 시작과 동일한 소색 상태(A), 혹은 급냉 발색 상태(C)보다 상대적으로 농도가 낮은 상태가 형성된다.

한편, 급냉 발색 상태(C)를 다시 승온시켜 나가면 발색 온도보다 낮은 온도 T₂에서 소색이 일어나고(D에서 E), 여기에서 온도를 하강하면 시작과 동일한 소색 상태(A)로 되돌아간다. 실제의 발색 온도, 소색 온도는 이용하는 현색제와 발색제의 조합에 의해 변화되기 때문에 목적에 맞추어 선택할 수 있다. 또한 용융 발색 상태의 농도와 급냉 했을 때의 발색 농도는 반드시 일치하는 것이 아니라, 다른 경우도 있다.

본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료에서는, 용융 상태로부터 급냉 하여 얻은 발색 상태(C)는 현색제와 발색제가 분자 끼리 접촉 반응할 수 있는 상태로 혼합된 상태이며, 이것은 고체 상태를 형성하고 있는 경우가 많다. 이 상태는 현색제와 발색제가 응집하여 발색을 유지한 상태로서, 이 응집 구조의 형성에 의해 발색이 안정화하고 있다고 생각된다.

한편, 소색 상태는 양자가 상분리한 상태이다. 이 상태는 적어도 한쪽 화합물의 분자가 집합하여 도메인을 형성하거나 결정화한 상태로서, 응집 혹은 결정화함으로써 발색제와 현색제가 분리되어 안정화한 상태라고 생각된다. 본 발명에서는 대부분의 경우, 양자가 상분리하고 현색제가 결정화함으로써 보다 완전한 소색이 일어난다. 도 2에 도시한 용융 상태로부터 서냉에 의한 소색 및 발색 상태로부터의 승온에 의한 소색은 모두 이 온도에서 응집 구조가 변화되고, 상분리나 현색제의 결정화가 일어나고 있다.

본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료에 발색 화상을 형성하기 위해서는 발열 소자 등에 의해 일단 용융 혼합하는 온도로 가열하고, 급냉하면 좋다. 또한, 소색은 가열 상태로부터 서냉하는 방법과 발색 온도보다 약간 낮은 온도로 가열하는 방법 2가지이다. 그러나, 이들은 양자가 상분리하거나, 적어도 한쪽이 결정화하는 온도로 일시적으로 유지한다고 하는 의미에서 동일하다. 발색 상태의 형성으로 급냉 하는 것은 이 상분리 온도 또는 결정화 온도로 유지하지 않도록 하기 위함이다. 여기에 있어서의 급냉과 서냉은 하나의 조성물에 대하여 상대적인 것으로, 그 경계는 발색제와 현색제의 조합에 의해 변화된다.

다음에, 본 발명에 이용되는 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료의 상기 지 지체 이외의 기술 내용에 관해서 설명한다.

지지체 상에 가역성 감열 기록층을 직접 마련하는 것도 가능하지만, 가역성 기록층을 형성하기 위한 도공액(塗工液)을 구성하는 용제에 의해 지지체가 용출하여 변형이나 수축하거나, 강도가 저하하기도 하여, 오버 시트의 기능을 저해하는 경우가 있고, 그와 같은 경우에는 지지체 상에 우선 차단층을 마련하고 나서, 그 위에 가역성 감열 기록층을 형성하는 것이 바람직하다.

차단층을 형성하는 방식에는 내용제성이 우수한 재료를 도공하는 방식과 내용제성이 우수한 필름을 라미네이트하는 방식이 있다.

1. 내용제성이 우수한 재료를 도공하는 방식

차단층은 가역성 감열 기록층 형성용 도공액의 용제에 대하여, 내성을 갖는 재료로 형성되는 것이 바람직하다.

가공성을 고려하면, 알콜계 용제나 물 등에 용해 또는 분산 가능한 수지인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 열이나 빛 등에 의해 경화하면, 유기 용제에 대한 차단성을 증가시키는 것이 더욱 바람직하다.

구체적으로는, 폴리아미드 수지, 폴리비닐알콜 수지, 알콜 가용성 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다.

또한, 아크릴폴리올, 폴리에스테르폴리올 등과 이소시아네이트의 가교에 의해 형성되는 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지나, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트 등의 올리고머로 이루어진 것을 주성분으로 하고, 이것에 각종 아크릴레이트 모노머, 기타 첨가제 등을 적절하게 혼합한 자외선 경화성 수지 또는 전자선 경화성 수지를 사용할 수도 있다.

이들은 물이나 알콜계 용제에 용해된 용액 상태이어도 좋고, 분산된 상태이어도 좋다.

이 방식에 의해 형성되는 차단층의 두께는 0.1∼10 ㎛의 범위 내인 것이 바람직하다.

2. 내용제성이 우수한 필름을 라미네이트하는 방식

차단층에는 내용제성을 갖게 하기 위해서, 결정화 처리된 폴리에스테르 필름을 이용할 수 있다. 결정화 처리로서는 필름 제조시에 연신하는 방법이나 비정질폴리에스테르 필름을 제조한 후, 가열 처리하여 결정화시키는 방법이 있다. 통상, 전자의 연신된 폴리에스테르 필름이 일반적이고, 구체적으로는 연신 PET 필름이나 연신 PEN 필름이 있다.

이들 결정화 처리된 폴리에스테르 필름의 표면·이면에 지지체나 기록층과의 접착성을 향상시키기 위해서, 접착제층이 도포되거나, 코로나 방전 등에 의한 표면 처리가 이루어져 있는 것이 바람직하다.

상기한 방식으로 얻어진 차단층은 내용제성이 높고, 인장 강도가 큰 것이 많기 때문에, 두께가 두꺼워지면, 인장 강도의 영향을 받아 엠보스 가공성이 저하되기 때문에, 차단층의 재질에 따라 다르지만, 두께는 1.0∼8 ㎛의 범위가 바람직하다.

예를 들면, 지지체에 100 ㎛ 두께의 비정질 폴리에스테르 시트를 이용하여, 연신 PET 필름을 라미네이트한 경우, 연신 PET 필름의 180℃에서의 저장 탄성율 쪽 이 비정질 폴리에스테르 시트보다 크기 때문에, PET 필름이 38 ㎛ 두께일 때에는 180℃에 있어서의 저장 탄성율은 8.3E+07(8.3×10⁷)Pa가 되어, 엠보스 가공하면 문제를 일으키기 쉽다.

한편, 8 ㎛ 두께나 4.5 ㎛ 두께일 때에는 4.9E+07(4.g×10⁷)Pa, 2.4E+O7(2.4×10⁷)pa가 되고, 용이하게 양호하게 엠보스 가공할 수 있다.

다음에 가역성 감열 기록 재료의 기록층에 대해서 설명한다.

가역성 감열 기록층의 막 두께는 1∼20 ㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3∼15 ㎛이다.

또한, 이하에, 가역성 감열 기록 재료의 기록층에 이용되는 류코 염료(전자 공여성 정색성 화합물)를 예시하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다. 또한, 류코 염료를 단독 또는 혼합하여 이용하는 것도 가능하다.

2-아닐리노-3-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-디(n-부틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-n-프로필-N-메틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-이소프로필-N-메틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-이소부틸-N-메틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-n-아밀-N-메틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-sec-부틸-N-메틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-n-아밀-N-에틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-iso-아밀-N-에틸아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-n-프로필-N-이소프로필아미노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)플루오란,

2-아닐리노-3-메틸-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(m-트리클로로메틸아닐리노)-3-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-(m-트리플루오로메틸아닐리노)-3-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-(m-트리클로로메틸아닐리노)-3-메틸-6-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)플루오란, 2-(2,4-디메틸아닐리노)-3-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-(N-에틸-p-톨루이디노)-3-메틸-6-(N-에틸아닐리노)플루오란, 2-(N-에틸-p-톨루이디노)-3-메틸-6-(N-프로필-p-톨루이디노)플루오란, 2-아닐리노-6-(N-n-헥실-N-에틸아미노)플루오란, 2-(o-클로로아닐리노)-6-디에틸아미노플루오란, 2-(o-클로로아닐리노)-6-디부틸아미노플루오란, 2-(m-트리플로로메틸아닐리노)-6-디에틸아미노플루오란, 2,3-디메틸-6-디메틸아미노플루오란,

3-메틸-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 2-브로모-6-디에틸아미노플루오란, 2-클로로-6-디프로필아미노플루오란, 3-클로로-6-시클로헥실아미노플루오란, 3-브로모-6-시클로헥실아미노플루오란, 2-클로로-6-(N-에틸-N-이소아밀아미노)플루오란, 2-클로로-3-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-아닐리노-3-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 2-(o-클로로아닐리노)-3-클로로-6-시클로헥실아미노플루오란, 2-(m-트리플로로메틸아닐리노)-3-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 2-(2,3-디클로로아닐리노)-3-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 1,2-벤조-6-디에틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-(m-트리플로로메틸아닐리노)플루오란, 3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-7-아자프탈리 드, 3-(1-옥틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-메틸-4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-메틸-4-디에틸아미노페닐)-7-아자프탈리드, 3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3- (1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(4-N-n-아밀-N-메틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3-(1-메틸-2-메틸인돌-3-일)-3-(2-헥실옥시-4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3,3-비스(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-4-아자프탈리드, 3,3-비스(2-에톡시-4-디에틸아미노페닐)-7-아자프탈리드.

본 발명에서 이용하는 발색제는 상기한 플루오란 화합물, 아자프탈리드 화합물 외에, 종래 공지의 류코 염료를 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 그 발색제를 이하에 도시한다.

2-(p-아세틸아닐리노)-6-(N-n-아밀-N-n-부틸아미노)플루오란, 2-벤질아미노-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-벤질아미노-6-(N-메틸-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-벤질아미노-6-(N-에틸-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-벤질아미노-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-벤질아미노-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(디-p-메틸벤질아미노)-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(α-페닐에틸아미노)-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-메틸아미노-6-(N-메틸아닐리노)플루오란, 2-메틸아미노-6-(N-에틸아닐리노)플루오란, 2-메틸아미노-6-(N-프로필아닐리노)플루오란,

2-에틸아미노-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-메틸아미노-6-(N-메틸- 2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-에틸아미노-6-(N-에틸-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-디메틸아미노-6-(N-메틸아닐리노)플루오란, 2-디메틸아미노-6-(N-에틸아닐리노)플루오란, 2-디에틸아미노-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-디에틸아미노-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-디프로필아미노-6-(N-메틸아닐리노)플루오란, 2-디프로필아미노-6-(N-에틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-메틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-에틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-프로필아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-아미노-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-아미노-6-(N-프로필-p-톨루이디노)플루오란, 2-아미노-6-(N-메틸-p-에틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-에틸-p-에틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-프로필-p-에틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-메틸-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-에틸-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-프로필-2,4-디메틸아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-메틸-p-클로로아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-에틸-p-클로로아닐리노)플루오란, 2-아미노-6-(N-프로필-p-클로로아닐리노)플루오란, 1,2-벤조-6-(N-에틸-N-이소아밀아미노)플루오란, 1,2-벤조-6-디부틸아미노플루오란, 1,2-벤조-6-(N-메틸-N-시클로헥실아미노)플루오란, 1,2-벤조-6-(N-에틸-N-톨루이디노)플루오란, 기타.

본 발명에 있어서 바람직하게 이용되는 다른 발색제의 구체예를 도시하면 다음과 같다.

2-아닐리노-3-메틸-6-(N-2-에톡시프로필-N-에틸아미노)플루오란, 2-(p-클로로아닐리노)-6-(N-n-옥틸아미노)플루오란, 2-(p-클로로아닐리노)-6-(N-n-팔미틸아 미노)플루오란, 2-(p-클로로아닐리노)-6-(디-n-옥틸아미노)플루오란, 2-벤조일아미노-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(o-메톡시벤조일아미노)-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-디벤질아미노-4-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-디벤질아미노-4-메톡시-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-디벤질아미노-4-메틸-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(α-페닐에틸아미노)-4-메틸-6-디에틸아미노플루오란, 2-(p-톨루이디노)-3-(t-부틸)-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(o-메톡시카르보닐아미노)-6-디에틸아미노플루오란, 2-아세틸아미노-6-(N-메틸-p-톨루이디노)플루오란, 4-메톡시-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-에톡시에틸아미노-3-클로로-6-디부틸아미노플루오란, 2-디벤질아미노-4-클로로-6-(N-에틸-p-톨루이디노)플루오란, 2-(α-페닐에틸아미노)-4-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 2-(N-벤질-p-트리플로로메틸아닐리노)-4-클로로-6-디에틸아미노플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-피롤리디노플루오란, 2-아닐리노-3-클로로-6-피롤리디노플루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-에틸-N-테트라히드로푸르푸릴아미노)플루오란, 2-메시디노-4',5'-벤조-6-디에틸아미노플루오란, 2-(m-트리플로로메틸아닐리노)-3-메틸-6-피롤리디노플루오란, 2-(α-나프틸아미노)-3,4벤조-4'-브로모-6-(N-벤질-N-시클로헥실아미노)플루오란, 2-피페리디노-6-디에틸아미노플루오란, 2-(N-n-프로필-p-트리플로로메틸아닐리노)-6-모르폴리노플루오란, 2-(디-n-p-클로로페닐-메틸아미노)-6-피롤리디노플루오란, 2-(N-n-프로필-m-트리플로로메틸아닐리노)-6-모르폴리노플루오란, 1,2-벤조-6-(N-에틸-N-n-옥틸아미노)플루오란, 1,2-벤조-6-디알릴아미노플루오란, 1,2-벤조-6-(N-에톡시에틸-N-에틸아미노)플루오란,

벤조류코메틸렌블루, 2-[3,6-비스(디에틸아미노)-7-(o-클로로아닐리노)크산틸]안식향산락탐, 2-[3,6-디에틸아미노)-9-(o-클로로아닐리노)크산틸]안식향산락탐, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드(별명 크리스탈바이올렛락톤), 3,3-비스-(p-디메틸아미노페닐)-6-디에틸아미노프탈리드, 3,3-비스-(p-디메틸아미노페닐)-6-클로로프탈리드, 3,3-비스-(p-디부틸아미노페닐)프탈리드, 3-(2-메톡시-4-디메틸아미노페닐)-3-(2-히드록시-4,5-디클로로페닐)프탈리드, 3-(2-히드록시-4-디메틸아미노페닐)-3-(2-메톡시-5-클로로페닐)프탈리드, 3-(2-히드록시-4-디메톡시아미노페닐)-3-(2-메톡시-5-클로로페닐)프탈리드, 3-(2-히드록시-4-디메틸아미노페닐)-3-(2-메톡시-5-니트로페닐)프탈리드, 3-(2-히드록시-4-디에틸아미노페닐)-3-(2-메톡시-5-메틸페닐)프탈리드, 3-(2-메톡시-4-디메틸아미노페닐)-3-(2-히드록시-4-클로로-5-메톡시페닐)프탈리드, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈리드, 6'-클로로-8'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 6'-브로모-2'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 기타.

다음에, 발색제와 조합하여 이용되는 현색제(전자 수용성 화합물)에 대해서 설명한다.

현색제는 먼저 특허문헌 3으로서 든 일본 특허 공개 평성 제5-124360호 공보에 장쇄 지방족 탄화수소기를 갖는 유기 인산 화합물, 지방족 카르복실산 화합물 또는 페놀 화합물의 대표예와 함께 개시되어 있는 바와 같이, 분자 내에 발색제를 발색시킬 수 있는 현색능을 갖는 구조와 분자간의 응집력을 컨트롤하는 구조를 겸 비하는 화합물이 사용된다. 현색능을 갖는 구조로서는, 페놀성 수산기, 카르복실기, 인산기 등의 산성의 기가 이용되지만, 이들에 한정되지 않고, 티오요소기, 카르복실산 금속기 등 발색제를 발색할 수 있는 기를 가지면 좋다.

분자간의 응집력을 컨트롤하는 구조의 대표예로서는 장쇄 알킬기 등의 탄화수소기 등이 있다. 이 탄화수소기의 탄소수는 8 이상인 것이 양호한 발색·소색 특성을 얻는 데에 있어서 바람직하다. 또한, 이 탄화수소기에는 불포화 결합이 포함되어도 좋고, 또한 분지쇄형의 탄화수소기도 포함된다. 이 경우도 주쇄 부분은 탄소수 8 이상인 것이 바람직하다. 상기한 바와 같이 현색제는 현색능을 갖는 구조와 탄화수소기와 같은 분자간의 응집력을 컨트롤하는 구조가 연결된 구조를 갖는다. 이 연결 부분에는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기, 또는, 이들 기가 복수개 조합된 기를 사이에 두고 결합하고 있어도 좋다.

이하, 본 발명에 이용되는 현색제에 대해서 구체적으로 예시한다. 또, 현색제는 단독으로 이용하여도 좋고 2 종류 이상을 혼합하여 이용하여도 좋다.

상기 식에서, X₁은 직접 결합수 또는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기를 나타내고, X₂는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기를 나타낸다. R₁은 2가의 탄화수소기를 나타내고, R₂는 탄소수 1에서 22의 탄화수소기를 나타낸다. 또한, p는 0에서 4의 정수를 나타내고, p가 2에서 4일 때 반복되는 R₁ 및 X₂는 동일하여도 좋고, 달라도 좋다. 또한, q는 1에서 3을 나타낸다.

구체적으로는, R₁ 및 R₂는 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄화수소기를 나타내고, 이들은 지방족 탄화수소기라도 좋고, 방향족 탄화수소기라도 좋으며, 또한, 이들 양방으로 구성되는 탄화수소기라도 좋다. 또한 지방족 탄화수소기는 직쇄라도 좋고 분지되어 있어도 좋으며, 불포화 결합을 갖고 있어도 좋다. 탄화수소기에 붙는 치환기로서는, 수산기, 할로겐, 알콕시기 등이 있다. 또, R₁은 직접 결합수라도 좋다.

또한 R₁및 R₂의 탄소수의 합이 7 이하에서는 발색의 안정성이나 소색성이 저하하기 때문에, 탄소수는 8 이상이 바람직하고, 11 이상인 것이 보다 바람직하다. X₁및 X₂는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기를 나타내고,

식 1

바람직하게는 식 1로 표시되는 기를 적어도 1개 이상 갖는 2가의 기를 나타낸다. 그 구체예로서는, 하기의 것을 들 수 있다.

식 2

본 발명에 있어서의 페놀 화합물이 구체적인 예를 이하에 들지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다. 또한, 페놀 화합물을 단독 또는 혼합하여 이용할 수도 있다.

식 3

유기 인산계의 현색제로서는 이하와 같은 화합물을 예시할 수 있다. 도데실포스폰산, 테트라데실포스폰산, 헥사데실포스폰산, 옥타데실포스폰산, 에이코실포스폰산, 도코실포스폰산, 테트라코실포스폰산, 인산디테트라데실에스테르, 인산디헥사데실에스테르, 인산디옥타데실에스테르, 인산디에이코실에스테르, 인산디베헤닐에스테르 등.

지방족 카르복실 화합물로서는 이하와 같은 화합물을 예시할 수 있다. 2-히드록시테트라데칸산, 2-히드록시헥사데칸산, 2-히드록시옥타데칸산, 2-히드록시에이코산산, 2-히드록시드코산산, 2-브로모헥사데칸산, 2-브로모옥타데칸산, 2-브로 모에이코산산, 2-브로모도코산산, 3-브로모옥타데칸산, 3-브로모도코산산, 2,3-디브로모옥타데칸산, 2-플루오로도데칸산, 2-플루오로테트라데칸산, 2-플루오로헥사데칸산, 2-플루오로옥타데칸산, 2-플루오로에이코산산, 2-플루오로도코산산, 2-요오드헥사데칸산, 2-요오드옥타데칸산, 3-요오드헥사데칸산, 3-요오드옥타데칸산, 퍼플루오로옥타데칸산 등.

지방족 디카르복실산 및 트리카르복실산 화합물로서는 이하와 같은 화합물을 예시할 수 있다. 2-도데실옥시호박산, 2-테트라데실옥시호박산, 2-헥사데실옥시호박산, 2-옥타데실옥시호박산, 2-에이코실옥시호박산, 2-도데실옥시호박산, 2-도데실티오호박산, 2-테트라데실티오호박산, 2-헥사데실티오호박산, 2-옥타데실티오호박산, 2-에이코실티오호박산, 2-도코실티오호박산, 2-테트라코실티오호박산, 2-헥사데실디티오호박산, 2-옥타데실디티오호박산, 2-에이코실디티오호박산, 도데실호박산, 테트라데실호박산, 펜타데실호박산, 헥사데실호박산, 옥타데실호박산, 에이코실호박산, 도코실호박산, 2,3-디헥사데실호박산, 2,3-디옥타데실호박산, 2-메틸-3-헥사데실호박산, 2-메틸-3-옥타데실호박산, 2-옥타데실-3-헥사데실호박산, 헥사데실말론산, 옥타데실말론산, 에이코실말론산, 도코실말론산, 디헥사데실말론산, 디옥타데실말론산, 디도코실말론산, 메틸옥타데실말론산, 2-헥사데실글루타르산, 2-옥타데실글루타르산, 2-에이코실글루타르산, 도코실글루타르산, 2-펜타데실아디프산, 2-옥타데실아디프산, 2-에이코실아디프산, 2-도코실아디프산, 2-헥사데카노일옥시프로판-1,2,3-트리카르복실산, 2-옥타데카노일옥시프로판-1,2,3-트리카르복실산 등.

발색제와 현색제의 비율은 사용하는 화합물의 조합에 의해 적절한 범위가 변화되지만, 대개 몰비로 발색제 1에 대하여 현색제가 0.1∼20의 범위이며, 바람직하게는 0.2∼10의 범위이다. 이 범위보다 현색제가 적거나 많아도 발색 상태의 농도가 저하하여 문제가 된다. 또한, 소색 촉진제의 비율은 현색제에 대하여 0.1 중량%에서 300 중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 중량%에서 100 중량%가 바람직하다. 또, 발색제와 현색제는 마이크로 캡슐 속에 내포하여 이용하는 것도 가능하다. 기록층 중의 발색 성분과 수지의 비율은 발색 성분 1에 대하여 0.1에서 10이 바람직하고, 이것보다 적으면 기록층의 열강도가 부족하며, 이것보다 많은 경우에는 발색 농도가 저하하여 문제가 된다.

본 발명에 이용되는 가역성 감열 기록 재료를 구성하는 가역성 감열 기록층에는 통상 수지를 함유시킨다.

가역성 감열 기록층에 함유시키는 수지의 구체예로서는, 아크릴폴리올수지, 폴리에스테르폴리올수지, 폴리우레탄폴리올수지, 페녹시수지, 폴리비닐브티랄수지, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트 등 가교제와 반응하는 기를 갖는 수지, 또는 가교제와 반응하는 기를 갖는 모노머와 그 이외의 모노머를 공중합한 수지 등을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되는 것이 아니다.

추가로, 이들 수지에 대하여 벤조트리아졸계 자외선 흡수 골격이나 실록산 결합 골격을 블록 공중합이나 그라프트 공중합시킨 수지 등을 들 수 있다.

본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료에는 필요에 따라 가역성 감열 기록층의 도포 특성이나 발색 소색 특성을 개선하거나 제어하기 위한 첨가제를 이용할 수 있다. 이들 첨가제에는 예를 들면 계면활성제, 도전제, 충전제, 산화방지제, 광안정화제, 발색안정화제, 소색촉진제 등이 있다. 소색촉진제로서 바람직하게는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 기와 탄소수 8 이상의 알킬쇄를 갖는 화합물이거나, N,N'-2치환기를 갖는 화합물이지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되는 것이 아니다.

본 발명에 있어서는, 가역성 감열 기록층에 경화제를 함유시켜도 좋다.

여기서 이용되는 경화제로서는, 공지의 이소시아네이트 단량체의 우레탄 변성체, 알로파네이트 변성체, 이소시아누레이트 변성체, 뷰렛 변성체, 카르보디이미드 변성체, 블록 이소시아네이트 등의 변성체로부터 선택된다. 또한, 변성체를 형성하는 이소시아네이트 단량체로서는, 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 크실릴렌디이소시아네이트(XDI), 나프틸렌디이소시아네이트(NDI), 파라페닐렌디이소시아네이트(PPDI), 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트(TMXDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 디시클로헥실메탄디이소시아네이트(HMDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 리신디이소시아네이트(LDI), 이소프로필리덴비스(4-시클로헥실이소시아네이트)(IPC), 시클로헥실디이소시아네이트(CHDI), 톨리딘디이소시아네이트(TODI) 등을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되는 것이 아니다.

추가로, 가역성 감열 기록층에 가교 촉진제 경화제를 함유시켜도 좋다.

가교 촉진제로서는, 예컨대 1,4-디아자-비시클로[2,2,2]옥탄 등의 3급 아민 류, 유기 주석 화합물 등의 금속 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 경화제는 첨가한 전량이 가교 반응을 하고 있어도 좋고, 않고 있지 않아도 좋다. 즉, 미반응 경화제가 존재하고 있어도 좋다.

이 종류의 가교 반응은 시간 경과적으로 진행되기 때문에, 미반응의 경화제가 존재하고 있는 것은 가교 반응이 전혀 진행되지 않는 것을 나타내는 것이 아니라, 미반응의 경화제가 검출됨으로써 가교 상태에 있는 수지가 존재하는 것이 시사되기 때문이다. 또, 본 발명에 있어서의 중합체가 가교 상태에 있는 것인지 비가교 상태에 있는 것인지를 구별하는 방법으로서, 도포막을 용해성이 높은 용매 중에 침지함으로써 구별할 수 있다.

즉, 비가교 상태에 있는 중합체는 용매 중에 이 중합체가 녹기 시작하여 용질 중에는 남지 않게 되기 때문에, 용질의 중합체 구조의 유무를 분석하면 좋다. 그래서, 용질 중에 중합체 구조의 존재를 확인할 수 없으면, 이 중합체는 비가교 상태에 있다고 할 수 있고, 가교 상태의 중합체와 구별할 수 있다.

또한, 다른 층이 적층되어 있는 경우에는, TEM(투과형 전자현미경)이나 SEM(주사형 전자현미경) 등의 단면 사진으로부터 층구성 및 막 두께를 확인한다. 그리고, 무관한 층을 전부 깎아내고, 목표하는 층을 노출시킨다. 다음에 그 층을 깎아내고, 상기 방법에 따라 측정을 행한다.

기록층의 형성에는 상기 현색제, 발색제, 여러 가지 첨가제, 경화제 및 가교 상태에 있는 수지 및 도액 용매로 이루어진 혼합물을 균일하게 혼합 분산시켜 조제한 도공액을 이용한다.

도공액 조제에 이용되는 용매의 구체예로서는 물; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, 메틸이소카르비놀 등의 알콜류; 아세톤, 2-부타논, 에틸아밀케톤, 디아세톤알콜, 이소포론, 시클로헥사논 등의 케톤류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 3,4-디히드로-2H-피란 등의 에테르류; 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 2-메톡시에틸아세테이트, 2-에톡시에틸아세테이트, 2-부톡시에틸아세테이트 등의 글리콜에테르아세테이트류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산이소부틸, 아세트산아밀, 젖산에틸, 에틸렌카르보네이트 등의 에스테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 헥산, 헵탄, iso-옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소류; 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 디클로로프로판, 클로르벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류; N-메틸-2-피롤리돈, N-옥틸-2-피롤리돈 등의 피롤리돈류 등을 예시할 수 있다.

도공액 조제는 페인트 쉐이커, 볼밀, 아트라이터, 3롤밀, 샌드밀, 다이노밀, 콜로이드밀 등 공지의 도액 분산 장치를 이용하여 행할 수 있다. 또, 상기 도공액 분산 장치를 이용하여 각 재료를 용매 중에 분산하여도 좋고, 각각 단독으로 용매 중에 분산하여 혼합하여도 좋다. 더욱이 가열 용해하여 급냉 또는 서냉에 의해 석출시켜도 좋다.

기록층을 마련하는 도공 방법에 대해서는 특별히 제한은 없고, 블레이드 도공, 와이어 바 도공, 스프레이 도공, 에어나이프 도공, 비드 도공, 커튼 도공, 그 라비아 도공, 키스 도공, 역전 롤 도공, 딥 도공, 다이 도공 등 공지의 방법을 이용할 수 있다.

기록층의 건조·경화 방법은 도포·건조 후, 필요에 따라 경화 처리를 행한다. 고온조 등을 이용하여 비교적 고온으로 단시간이라도 좋고, 또 비교적 저온으로 장시간에 걸쳐 열처리하여도 좋다. 가교 반응의 구체적인 조건으로서는 반응성의 면에서 30℃∼130℃ 정도의 온도 조건으로 1분에서 150시간 정도 가온하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 40℃∼100℃의 온도 조건으로 2분에서 120시간 정도 가온하는 것이 바람직하다. 또한, 제조에서는 생산성을 중시하기 때문에, 가교가 충분히 완료할 때까지 시간을 들이는 것은 곤란하다. 따라서, 건조 과정과는 별도로 가교 공정을 마련하여도 좋다. 가교 공정의 조건으로서는 40℃∼100℃의 온도조건으로 2분에서 120시간 정도 가온하는 것이 바람직하다

다음에, 통상, 스티킹 방지나 내구성 향상을 목적으로서, 가역성 감열 기록층상에 임의로 마련할 수 있는 보호층에 대해서 설명한다.

보호층의 막 두께는 0.1∼20 ㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3∼10 ㎛이다.

또한, 이 보호층 중에는 표면 흐림을 방지할 목적으로 무기 또는 유기 자외선 흡수제를 함유하여도 좋고, 그 함유량은 결합제 100 중량부에 대하여 0.5∼50 중량부의 범위가 바람직하다.

보호층의 도액에 이용되는 용매, 도액의 분산 장치, 결합제, 도공 방법, 건조·경화 방법 등은 상기 기록층에서 이용된 공지의 방법을 이용할 수 있다

유기 자외선 흡수제로서는, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-에톡시페닐)벤조트리아졸 등의 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-2'-카르복시벤조페논, 2-히드록시-4-옥시벤질벤조페논, 2-히드록시-4-클로로벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산나트륨, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논-술폰산나트륨등의 벤조페논계 자외선 흡수제, 페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트, p-t-부틸페닐살리실레이트, 카르복시페닐살리실레이트, 메틸페닐살리실레이트, 도데실페닐살리실레이트, 2-에틸헥실페닐살리실레이트, 호모멘틸페닐살리실레이트 등의 살리실산에스테르계 자외선 흡수제, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, p-아미노안식향산, p-아미노안식향산글리세릴, p-디메틸아미노안식향산아밀, p-디히드록시프로필안식향산에틸 등의 p-아미노안식향산계 자외선 흡수제, p-메톡시계피산-2-에틸헥실, p-메톡시계피산-2-에톡시에틸 등의 계피산계 자외선 흡수제, 4-t-부틸-4'-메톡시-디벤조일메탄, 우로카닌산, 우로카닌산에틸 등을 들 수 있다.

무기 자외선 흡수제로서는, 황화아연, 산화티탄, 산화세륨, 산화주석, 산화몰리브덴, 산화아연, 질화바륨, 실리카, 알루미나, 산화안티몬, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 산화바륨, 산화칼슘, 산화스트론튬, 질화규소, 질화알루미늄, 질화붕소, 황산바륨 등을 들 수 있다.

보호층에는, 자외선 흡수 성능 또는 자외선 차폐 성능을 갖지 않는 다른 충전재를 스티킹 방지나 내구성 향상을 목적으로 첨가하여도 좋고, 충전재로서는 무기 충전재와 유기 충전재로 나눌 수 있다.

무기 충전재로서는, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 무수규산, 함수규산, 함수규산알루미늄, 함수규산칼슘, 알루미나, 산화철, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화크롬, 산화망간, 실리카, 탈크, 운모 등을 들 수 있다.

유기 충전재로서는, 실리콘 수지, 셀룰로오스 수지, 에폭시 수지, 나일론 수지, 페놀 수지, 폴리우레탄 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌, 폴리스티렌, 폴리스티렌·이소프렌, 스티렌비닐벤젠 등의 스티렌계 수지, 염화비닐리덴아크릴, 아크릴우레탄, 에틸렌아크릴 등의 아크릴계 수지, 폴리에틸렌 수지, 벤조구아나민포름알데히드, 멜라민포름알데히드 등의 포름알데히드계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 염화비닐 수지 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 충전재를 단독으로 이용하는 것도 가능하지만, 2종류 이상 포함되어도 좋다. 복수의 경우, 무기 충전재와 유기 충전재가 조합하는 방법에 대해서 특별히 한정은 되지 않는다. 또한, 형상으로서는 구형, 입상, 판상, 침상 등을 들 수 있다. 보호층중의 충전재의 함유량은 체적분률로 5∼50 체적%이다.

발열 소자에의 융착 방지를 목적으로 보호층에 윤활제를 첨가하여도 좋고, 윤활제의 구체예로서는, 에스테르왁스, 파라핀왁스, 폴리에틸렌왁스 등의 합성 왁스류: 경화피마자유 등의 식물성 왁스류: 우지경화유 등의 동물성 왁스류: 스테아릴알콜, 베헤닐알콜 등의 고급 알콜류: 마르가르산, 라우르산, 미리스틴산, 팔미틸산, 스테아린산, 베헤닌산 등의 고급 지방산류: 소르비탄의 지방산에스테르 등의 고급 지방산 에스테르류: 스테아린산아미드, 올레인산아미드, 라우린산아미드, 에틸렌비스스테아린산아미드, 메틸렌비스스테아린산아미드, 메틸올스테아린산아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 층중의 윤활제의 함유량은 체적분률로 0.1∼95%, 보다 바람직하게는 1∼75%이다.

본 발명에 있어서, 오버 시트로서 이용되는 가역성 감열 기록 재료에는 기록층과 보호층과의 접착성 향상, 보호층의 도포에 의한 기록층의 변질 방지, 보호층에 함유되는 첨가제가 기록층으로 이행하거나 혹은 기록층에 함유되는 첨가제가 보호층으로 이행하는 것을 방지할 목적으로 양자간에 중간층을 마련할 수 있다.

중간층의 막 두께는 0.1∼20 ㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3∼10 ㎛이다. 중간층의 도액에 이용되는 용매, 도액의 분산 장치, 결합제, 도공 방법, 건조·경화 방법 등은 상기 기록층에서 이용된 공지의 방법을 이용할 수 있다.

또한, 중간층에는 표면 흐림을 방지할 목적으로 보호층에 이용하는 상기 무기 또는 유기 자외선 흡수제를 함유시켜도 좋고, 그 함유량은 결합제 100 중량부에 대하여 0.5∼50 중량부의 범위가 바람직하다.

더욱이, 본 발명의 정보 표시 기록 카드에 이용되는 가역성 감열 기록 재료에는 그 가역성 감열 기록층에 광열 변환 물질을 함유시키거나 이 기록층과 인접하여 광열 변환 물질을 함유하는 층(광열 변환층이라 함)을 마련할 수 있다.

이러한 광열 변환 물질을 함유시킨 구성으로 함으로써, 저출력의 반도체 레이저 등을 사용한 경우에도, 기록(발색·소색)을 행할 수 있다.

광열 변환 물질을 이용하는 상기 2개의 방식 중, 광열 변환층을 가역성 기록층과 인접하여 설치하는 경우 쪽이 광열 변환 물질은 고가라고 하는 비용의 점과, 기록층을 구성하는 재료에 영향을 주기 어렵기 때문에, 바람직하다.

게다가, 본 발명에 있어서는, 광열 변환 물질을 함유하는 층을 보호하기 위해서, 가시광 투과성의 자외선 흡수층을 더 마련할 수 있다.

사용되는 광열 변환 물질로서는, 예컨대 적외 흡수 색소나 카본 블랙 등을 들 수 있고, 사용하는 반도체 레이저광의 발진 파장 부근에 흡수 피크를 갖는 것이 선택된다.

일반적으로는, 파장 100 nm∼1,000 nm, 바람직하게는 700∼900 nm의 반도체 레이저를 사용할 수 있고, 적외 흡수 색소로서는, 이러한 파장 영역에 흡수 피크를 갖는 시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 안트라퀴논계 색소 등이 바람직하게 이용된다. 이들 중에서는 프탈로시아닌계 색소 또는 나프탈로시아닌계 색소가 바람직하다.

구조적으로, 열이나 자외선에 의한 분해 등의 열화에 대하여 내구성이 있으 므로, 재기록 횟수의 향상을 도모할 수 있기 때문이다.

내후성, 내열성 등의 화학적 안정성의 견지로부터는, 특히, 각종 금속과 착체를 형성하고 있는 것이 바람직하다.

또한, 1중항 산소 억제제를 첨가하여 화학적 안정성을 향상시켜도 좋다. 본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료에 대해서는 지지체 위에 기록층 및 그 밖의 필요한 층을 순차 형성하여 제조하는 것이 일반적이지만, 이 제조법에 한정되는 것이 아니라, 다음과 같은 제조법도 적용할 수 있다.

예컨대, 지지체 상에 가역성 감열 기록층 및 보호층을 순차 설치한 가역성 감열 기록 재료에 대해서 말하면, 최상층에 설치하는 보호층면과 박리성이 높은 박리 기재 시트를 준비하여, 이 박리 기재 시트 상에 도공액을 칠하여 보호층을 우선 형성하고, 다음에 이 보호층상에 도공법에 의해 감열 기록층을 형성한 후, 감열 기록층에 지지체 필름을 접착하며, 마지막으로 박리 기재 시트를 박리하여, 가역성 감열 기록 재료를 제조하는 방법을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료의 일부분 혹은 전면에, 오프셋 인쇄, 그라비아 인쇄 등의 인쇄, 또는 잉크젯 프린터, 열전사 프린터, 승화형 프린터 등에 의해 임의의 무늬 등을 행한 착색층을 마련하여도 좋고, 추가로 착색층상의 일부분 혹은 전면에 경화성 수지를 주성분으로 하는 오버 프린트 니스층을 마련하여도 좋다.

도 3 및 도 4에 본 발명의 정보 기록 표시 카드의 일례인 인쇄층을 갖는 IC 카드를 작성하는 방법의 일례에 대해서 도시하였다.

도 3은 IC 카드를 형성하기 위한 프레스를 행하기 전의 상태의 층구성을 도시하는 단면도이다. 도 3에 도시된 IC 카드는 2장의 코어 시트부(B1)와 코어 시트부(B2) 사이에, 인렛 시트(C)를 끼워, 그 한쪽 코어 시트부(B1)의 외측에 오버 시트 지지체(103)가 코어 시트부면과 접하도록 오버 시트(A)를 중첩하고, 다른 쪽 코어 시트부(B2)의 외측에 외층 시트(D)를 중첩하여, 오버 시트(A)와 외층 시트부(D)의 외측에서 가열 가압 프레스를 행하여 가열 압착시킴으로써 IC 카드용 적층체가 형성된다. 여기서, 인렛 시트(C)는 안테나 코일(114)을 갖춘 비접촉형 IC 칩(113)을 배치한 시트(118)이다. 외층 시트부(D)는 자기 스트라이프층(115)이 미리 가전사된 외층 시트(119)이다. 또한, 코어 시트부(B1)는 백색의 코어 시트(116)의 오버 시트측의 면에 인쇄층(111)이, 코어 시트부(B2)는 백색의 코어 시트(117)의 외층 시트부(D)측의 면에 인쇄층(112)이 미리 마련되어 있다.

다음에, 박리 기재(101)를 제거한 후, 펀칭날로 카드 형상으로 절단하여 IC 카드가 형성된다. 이와 같이 박리 기재를 마지막으로 박리하는 방법에 따르면, 박리 기재(101)가 가역성 기록층(102)의 보호 필름으로서 기능하기 때문에, IC 카드 제조 공정 중, 흠집을 막고, 가역적 기록층으로부터의 블리드 등에 의한 열프레스용 경면판의 더러워짐을 막을 수 있다.

도 3에 있어서는 가열 압착 후에 박리 기재를 제거하는 방법을 나타내었지만, 박리 기재(101)를 오버 시트(A)로부터 미리 제거해 두고, 이것을 코어 시트(B1에 겹쳐 마찬가지로 열 프레스 등을 행하여, IC 카드를 작성하여도 좋다. 이러한 구성의 오버 시트는 범용의 두꺼운 오버 시트와 마찬가지로 취급할 수 있기 때문 에, 범용 카드의 제조 라인을 이용할 수 있다. 또한, 박리 기재를 제거한 형태로 롤형으로 두루 감은 오버 시트를 사용할 수도 있다.

본 형태에 있어서, 프레스 가공의 조건은 프레스 온도가 100℃∼150℃의 범위 내인 것이 바람직하고, 프레스 압력이 10 kgf/cm²∼50 gf/cm²의 범위 내인 것이 바람직하며, 프레스 시간이 5분∼60분의 범위 내인 것이 바람직하다.

도 3에 도시한 바와 같이 가열 압착되어 형성된 IC 카드는 카드 형상으로 형성한 후, 엠보서를 이용하여 문자 각인(엠보스)을 행할 수 있다. 엠보스((120)가 행해진 IC 카드(E)를 도 4에 도시한다.

또한, 상기 안테나 코일을 구비한 비접촉형 IC 칩을 배치하는 시트의 시트 재료로서는, 상기한 코어 시트나 외층 시트와 같은 재료나 엔지니어링 플라스틱 등을 사용할 수 있지만, 특히 내열성이 우수한 재료가 바람직하다. 안테나 코일은 이러한 시트에 인쇄나 에칭을 행함으로써 형성하여도 좋다. 또, 도 3에 도시하는 IC 카드에 있어서는, 안테나 코일을 구비한 비접촉형 IC 칩 등을 배치한 시트를 사용하였지만, 안테나 코일을 배선한 IC 칩을 사용하여도 좋다.

본 발명의 IC 카드에 탑재된 자기 테이프나 IC 칩 등의 정보는 접촉 또는 비접촉에 의한 종래 공지의 방법에 의해 보존된 정보을 판독하거나, 신규의 정보를 기록하거나 할 수 있다.

본 발명의 화상 처리 방법은 상기 본 발명의 정보 기록 표시 카드의 화상 표시부 표면을 가열함으로써 화상의 표시 및 화상의 소거 중 적어도 어느 하나를 행 하는 공정을 포함하는 것이면, 그 외에 어떠한 공정이 부가되어 있어도 좋다.

본 발명의 오버 시트인 가역성 감열 기록 재료에, 발색 화상을 형성시키기 위해서는 일단 발색 온도 이상으로 가열한 후 급냉되도록 하면 된다.

구체적으로는, 예를 들면 발열 소자나 레이저광으로 단시간 가열하면 기록층이 국부적으로 가열되기 때문에, 즉시 열이 확산하여 급격한 냉각이 발생하고, 발색 상태를 고정할 수 있다.

한편, 소색시키기 위해서는 적당한 열원을 이용하여 비교적 장시간 가열하여 냉각하거나 발색 온도보다 약간 낮은 온도로 일시적으로 가열하면 좋다. 장시간 가열하면 기록 매체가 넓은 범위가 승온하고, 그 후의 냉각은 지연되기 때문에, 그 과정에서 소색이 일어난다. 이 경우의 가열 방법에는 열롤러, 열스탬프, 열풍, 세라믹 히터 등을 이용하여도 좋고, 발열 소자를 이용하여 장시간 가열하여도 좋다. 기록층을 소색 온도 영역으로 가열하기 위해서는, 예컨대 발열 소자에의 인가 전압이나 펄스폭을 조절함으로써, 인가 에너지를 기록 시간보다 약간 저하시키면 좋다.

이 방법을 이용하면, 발열 소자만으로 기록·소거를 할 수 있고, 화상의 소거와 새로운 화상의 표시에 의해 소위 중복기록이 가능하게 된다. 기록 장치로서는, 통상 이용되는 프린터 이외에 열전사 프린터, 승화형 프린터 등을 이용하여도 좋다. 또한, 열롤러, 열스탬프에 의해 소색 온도 영역으로 가열하여 소거할 수도 있다.

본 발명의 화상 처리 장치는 본 발명의 정보 기록 표시 카드에의 화상의 표시를 행하는 데 이용되는 화상 표시 장치, 화상의 소거를 행하는 데 이용되는 화상 소거 장치, 화상의 표시 및 소거를 행하는 데 이용되는 화상 표시ㆍ소거 장치 중 적어도 어느 하나를 구비하는 것 이외는 특별히 제한은 없다.

화상 표시 장치로서는, 발열 소자나 레이저 장치 등을 들 수 있고, 화상 소거 장치로서는, 발열 소자, 세라믹 히터, 열롤러, 열스탬프, 열풍기 등을 들 수 있다.

실시예

이하에, 실시예에 기초하여 본 발명의 정보 기록 표시 카드에 대해서, 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 정보 기록 표시 카드는 이들 실시예에 한정되는 것이 아니다.

(실시예 1)

《차단층의 형성》

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 지지체 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)를 준비하였다.

다음에, 두께 4.5 ㎛의 연신 PET 필름(미쓰비시카가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: 다이아휠 K233E)의 한쪽 면에 우레탄계 수지와 이소시아네이트 가교제의 2액 타입의 접착제 용액을 도포하고, 건조시켜, 1 ㎛ 두께의 접착제층을 형성하였다. 그리고, 두께 4.5 ㎛의 연신 PET 필름과 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트를 겹쳐 드라이 라마네이트하고, 얻어진 시트를 40℃ 분위기 하에서 24시간 에이징하여, 지지체 상에 차단층을 형성한 것을 작성하였다.

《가역성 기록층의 형성》

다음에 하기에 나타내는 가역성 기록층 형성용 분산액을 조정하여, 이 분산액을 도공액으로 하여, 상기 배리어인 연신 PET 필름상에 와이어 바를 이용하여 도포하였다. 이어서, 80℃ 5분으로 건조시킨 후, 60℃ 24시간의 경화를 행하여 막 두께 약 10 ㎛인 가역성 기록층을 작성하였다.

(가역성 기록층용 분산액)

1) 하기 구조식의 현색제 4부

2) 디알킬요소(니혼카세이사 제조, 하크린SB) 1부

3) 아크릴폴리올 50% 용액 9부

(미쓰비시레이온사 제조, LR503)

4) 메틸에틸케톤 70부

상기 조성물을 볼밀을 이용하여 평균 입자 지름 약 1 ㎛까지 되도록 분쇄 분산하였다.

5) 2-아닐리노-3-메틸-6디부틸아미노플루오란 1부

6) 이소시아네이트(니뽄폴리우레탄사 제조, 콜로네이트 HL) 2부

현색제를 분쇄 분산한 분산액에 상기 조성물을 가하여, 잘 교반하여 기록층 도공액을 조제하였다.

다음에, 하기에 도시하는 보호층 형성용 도포액을 조정하여, 이 도포액을, 형성한 가역성 기록층 위에 두께가 2 ㎛가 되도록 도포한 후, 자외선을 160 W/cm×10 m/분의 조건으로 조사하여 경화시켜, 다음에 60℃에서 16시간 에이징을 행함으로써, 보호층을 형성하였다.

이와 같이 하여, 지지체, 차단층, 가역성 기록층 및 보호층을 이 순서로 갖는 오버 시트를 제작하였다.

(보호층액)

1) 우레탄아크릴레이트계 자외선 경화성 수지 15부

(다이니폰잉크사 제조, C7-157)

2) 충전재(미즈사와카가꾸사 제품, P527) 5부

3) 아세트산에틸 85부

상기 조성물을 잘 용해 교반하여 보호층 도포액을 조제하였다.

또, 처방 구성에 있어서의 가역 기록 특성으로서, 소거 상한 온도는 170℃이다.

(실시예 2)

오버 시트 작성에 있어서, 100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 드라이 라미네이트하는 연신 PET 필름을 두께 6 ㎛의 연신 PET 필름(미쓰비시카가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: 다이아휠 K230E)으로 변경하여 차단층으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 제작하였다.

(실시예 3)

오버 시트 작성에 있어서, 100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 드라이 라미네이트하는 연신 PET 필름을 두께 8 ㎛의 연신 PET 필름(미쓰비시카가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: 다이아휠 KC230-8E)으로 변경하여 차단층으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하고, 오버 시트를 제작하였다.

(실시예 4)

오버 시트 작성에 있어서, 100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)를 준비하였다.

이 시트의 표면에, 하기에 나타낸 차단층용 도포액을 바코터를 이용하여 도포하였다. 그 후, 160 W/cm×10 m/min로 자외선을 조사하여 경화시키고, 두께 2 ㎛의 차단층으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 오버 시트를 제작하였다.

(차단층용 도포액)

·자외선 경화 수지: 5관능 아크릴레이트 모노머 50 중량부

(니혼카야쿠 제조, KAYARAD D-310)

·광중합 개시제:(시바스페셜리티케미컬즈 제조, 일가큐어 184)

3 중량부

·도공 용제: 2-프로판올 50 중량부

(실시예 5)

박리 기재로서, 미리 표면에 실리콘수지를 도공한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(38 ㎛ 두께)을 준비하였다.

이 실리콘 처리면에, 에폭시아크릴레이트계 자외선 경화성 수지를 도포한 후, 160 W/cm의 자외선을 10 m/분의 조건으로 조사하여 경화시키고, 두께가 5 ㎛의 보호층을 형성하였다.

다음에, 실시예 1에서 이용한 가역성 기록층용 분산액을 박리 기재/보호증의 적층체의 보호층면상에 도포하고, 80℃에서 5분간 건조시킨 후, 60℃에서 24시간 에이징을 행하여, 건조후의 두께가 10 ㎛인 가역성 기록층을 작성하였다.

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 상기로써 얻어진 박리 기재/보호층/가역 기록층의 적층체의 기록층면측을, 우레탄계 수지와 이소시아네이트 가교제의 2액 타입의 접착제 도포액을 이용하여 드라이 라미네이트에 의해 접합시켰다. 이와 같이 하여, 박리 기재/보호층/가역성 기록층/지지체의 적층 구조를 작성한 후에, 박리 기재를 박리하여 오버 시트를 제작하였다.

(실시예 6)

오버 시트 작성에 있어서, 100 ㎛ 두께의 폴리카보네이트 수지와 비정질 방향족 폴리에스테르 수지의 고분자 혼성체 수지로 이루어진 지지체 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 시작품, PETG/PC(9/1))로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 제작하였다.

(실시예 7)

오버 시트 작성에 있어서, 100 ㎛ 두께의 폴리카보네이트 수지와 비정질 방향족 폴리에스테르 수지의 고분자 혼성체 수지로 이루어진 지지체 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 시작품, PETG/PC(7/3))로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 제작하였다.

(실시예 8)

실시예 1에 이용한 가역성 감열 기록층용 분산액의 현색제를 하기 화합물로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 정보 기록 표시 카드를 제작하였다.

(비교예 1)

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 드라이 라미네이트하는 연신 PET 필름을 두께 12 ㎛의 연신 PET 필름(미쓰비시카가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: 다이아휠 H100)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 얻었다.

(비교예 2)

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 드라이 라미네이트하는 연신 PET 필름을 두께 38 ㎛의 연신 PET 필름(미쓰비시카가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: 다이아휠 T100E)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 얻었다.

(비교예 3)

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트를 125 ㎛ 두께의 연신 PET로 변경한 것 이외에는 실시예 5와 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 얻었다.

(비교예 4)

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트를 100 ㎛ 두께의 염화비닐수지로 이루어진 시트로 변경한 것 이외에는 실시예 5와 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 얻었다.

(비교예 5)

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)상에 필름 또는 차단층을 통하지 않고 직접 가역성 기록층을 적층한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 작성을 행하여, 오버 시트를 얻었다.

가역성 기록층을 도포했을 때에, 비정질 방향족 폴리에스테르 수지 시트를 침식하여 건조 직후는 오버 시트가 변형되어 표면이 거친 시트가 되었다.

《정보 기록 표시 카드의 작성》

100 ㎛ 두께의 비정질 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-CHI)를 외층 시트로서, 280 ㎛ 두 께의 비정질 폴리에스테르 시트(미쓰비시쥬시 가부시키가이샤 제조, 상품명: 디어픽스 PG-WHI)를 코어 시트로서 준비하였다.

이들 외층 시트와 코어 시트 및 실시예 및 비교예 1, 2, 3, 5에서 얻어진 오버 시트를 300 ㎜×300 ㎜의 크기로 각각 절단하였다.

도 1A 및 도 1B에 도시되는 바와 같이, 1장의 외층 시트 상에 2장의 코어 시트2를 겹치고, 추가로 실시예 및 비교예 1, 2, 3, 5에서 제작한 오버 시트 각각을 오버 시트의 지지체가 코어 시트에 겹치도록 하여 배치하고, 틀어지지 않도록 추가로 크롬 도금판 사이에 끼운 후, 상하에서 가열 프레스를 행하여 융착 일체화하였다.

이 가열 프레스 조건은 가열 온도를 120℃, 프레스 압력을 시트면압으로 15 kg/cm²및 프레스 시간을 10분간으로 하였다. 융착 일체화한 시트를 냉각하여, 꺼낸 후, 카드 형상으로 펀칭하여 정보 기록 표시 카드를 제작하였다.

또한, 비교예 4에서 제작한 오버 시트에 대해서는 코어 시트로서 280 ㎛ 두께의 염화비닐 시트를 이용하여 작성한 것 이외에는 상기와 동일하게 하여 정보 기록 표시 카드를 제작하였다.

이상과 같이 하여 제작된 오버 시트와 정보 기록 표시 카드에 대해서, 하기에 나타내는 평가를 행하였다. 그 결과를 하기 표 4에 나타낸다.

평가 방법:

(1) 표면 기복

실시예 및 비교예로써 작성한 오버 시트의 표면 기복을, 표면 거칠기 형상 측정기(도쿄세이미쯔 가부시키가이샤 제조)를 이용하여 길이 5.0 ㎜ 측정한 값을 나타낸다.

(2) 저장 탄성율 E'

실시예 및 비교예로써 작성한 오버 시트를 이와모토세이사꾸쇼에서 제조한 점탄성 스펙트로미터를 이용하여 동적 점탄성의 온도 분산을 인장법, 주파수 1 Hz로 측정하고, 실수 항을 저장 탄성율(E')로 하여 구하였다.

(3) 오버 시트의 소거 온도 측정

도요세이키사 제조 열경사 시험기 HG-100을 이용하여 압력 1 Kgf/cm, 가압 시간 1초, 온도 5℃마다의 조건으로 포화 농도에 도달하고 있는 인자 화상을 상기 조건으로 소거시킨다. 이 때의 발색 농도가 「표면 농도 + 10.02 이하」가 되었을 때의 온도를 소거 온도로 한다.

(4) 재기록 특성

카드 프린터 R28000(큐슈마쯔시타사 제조)을 이용하여 인자 조건: 0.75 mJ, 히터 바 온도 조건: 140℃의 조건으로 제작한 정보 기록 표시 카드를 발열 소자를 이용하여 인자를 행하고, 그 후 인자 부분을 히터 바에 의해 가열하여 인자의 소거를 행하였다.

인자가 소거된 인자 소거 부분을 육안으로 관찰하고, 지우고 남은 것이 보이지 않는 것을 기호 「○」, 약간 지우고 남은 것이 보이는 것을 기호 「△」, 지우고 남은 것이 확실히 보이는 것을 「×」로 나타낸다.

(5) 엠보스 적성

작성한 카드를 사용하여 핸드 엠보서 JIKEN NE-1000(니혼지켄샤 제조)을 이용하여 엠보스 가공을 행하였다. 얻어진 엠보스 카드의 카드 휨을 측정하고, 2.5 ㎜를 넘는 것에는 기호 「×」로 표시한다. 엠보스 가공은 JIS X6301이나 X6302에 규정되어 있는 엠보스를 행하였다. 또한, 카드 휨은 JIS X6301, 6305에 규정되어 있는 방법으로 측정하였다. 엠보스 외관은 엠보스에 의해 오버 시트의 균열이나, 오버 시트의 박리 등이 없는지 육안으로 확인하였다. 특별히 문제없는 카드는 「○」, 균열이나 박리가 보이는 카드에는 기호 「×」로 표시한다.

(6) 환경성

제작한 정보 기록 표시 카드를 연소시킨 결과, 다이옥신의 발생이 없는 것을 기호 「○」, 다이옥신의 발생이 있는 것을 기호 「×」로 표시한다.

이상, 상세하고 또한 구체적인 설명으로부터 밝혀진 바와 같이, 본 발명의 정보 기록 표시 카드 및 오버 시트는 엠보스 가공을 용이하게 할 수 있고, 가역성 감열 기록 매체의 두꺼운 기재로의 접합에 의한 카드 가공성이 우수한 동시에, 소거 특성이 우수하며, 나아가서는 폐기 처리가 쉽고 폐기 처리시에 환경오염의 문제가 발생하지 않는 것이다. 또한, 정보 기록 표시 카드의 제작 방법에 따르면, 본 발명의 화상 기록 표시 카드를 품질 좋게 작성할 수 있다.

또한, 본 발명의 화상 처리 방법, 화상 처리 장치는 본 발명의 화상 기록 표시 카드에 알맞은 화상 처리 방법 및 화상 처리 장치를 제공한다.

Claims

적어도 코어 시트 및 오버 시트를 포함하고, 상기 코어 시트와 상기 오버 시트가 접합되어 이루어지며,

상기 오버 시트는, 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층과, 상기 지지체 및 그 감열 기록층 사이의 두께가 0.1~10 ㎛의 차단층을 구비하여 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며, 하기 조건

(A) [소거 상한 온도 - 30℃] > [오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E + 02Pa ≤ [감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E + O7Pa

를 만족하고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa 온도는 140℃ 미만인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 코어 시트의 거의 전체 표면 상에 오버 시트를 접합시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 지지체는 비정질 폴리에스테르 수지 및 비정질 폴리에스테르 수지와 폴리카보네이트 수지의 고분자 혼성체 수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
삭제
제1항에 있어서, 상기 차단층은 수지 필름을 접착하여 형성된 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제6항에 있어서, 상기 수지 필름의 막 두께는 8 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제6항에 있어서, 상기 수지 필름은 결정화 처리된 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 차단층은 적어도 알콜계 용제 및 물 중 어느 하나에 용해 또는 분산 가능한 수지를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 전자 공여성 정색성 화합물은 류코 염료인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 전자 수용성 화합물은 직쇄 탄화수소 함유 페놀인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 상기 코어 시트는 두께 0.05∼5.00 ㎜이고 1장 이상의 열가소성 수지 시트로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제12항에 있어서, 상기 코어 시트는 감열 가역성 오버 시트를 구성하는 지지체와 동일한 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 정보 기억부를 갖는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제14항에 있어서, 상기 정보 기억부는 자기 재료를 주체로 하는 것 및 IC 칩 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제14항에 있어서, 상기 코어 시트는 여러장의 열가소성 수지 시트로 이루어지고, 열가소성 수지 시트 사이에 정보 기억부로서 IC 칩이 매립되어 있는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제14항에 있어서, 상기 오버 시트에 자기 재료를 주체로 하는 정보 기억부를 갖는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제1항에 있어서, 엠보스 가공에 의한 각인이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
제18항에 있어서, 엠보스 가공에 의한 각인이 오버 시트 상에 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드.
전자 수용성 화합물의 융점 이하의 온도로 열프레스하여 코어 시트와 오버 시트를 접합시키는 공정을 포함하고,

오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능하며,

상기 오버 시트는, 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물 및 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층과, 상기 지지체 및 그 감열 기록층 사이의 두께가 0.1~10 ㎛의 차단층을 구비하여 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(A) [소거 상한 온도 - 30℃]>[오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+O8)Pa의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E + 02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E']≤5.0E + 07Pa

를 만족하는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드 제작 방법.
제20항에 있어서, 150℃ 이하의 온도로 열프레스하여 코어 시트와 오버 시트를 접합시키는 것을 특징으로 하는 정보 기록 표시 카드 제작 방법.
적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물 및 전자 수용성 화합물을 함유하고, 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층과, 상기 지지체 및 그 감열 기록층 사이의 두께가 0.1~10 ㎛의 차단층을 구비하여 이루어지고, 정보 기록 표시 카드의 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(A) [소거 상한 온도 - 30℃]>[오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+O8)Pa의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E + 02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E'] ≤5.0E + 07Pa

를 만족하고, 그 위에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 오버 시트.
정보 기록 표시 카드의 화상 표시부 표면을 가열함으로써 화상의 표시 및 화상의 소거 중 적어도 어느 하나를 행하는 공정을 포함하고,

상기 정보 기록 표시 카드는 적어도 코어 시트 및 오버 시트를 포함하고 상기 코어 시트 및 오버 시트가 접합되어 이루어지며,

상기 오버 시트는, 적어도 비정질 폴리에스테르 수지를 함유하는 지지체 상에 전자 공여성 정색성 화합물과 전자 수용성 화합물을 함유하고 가열 온도 및 가열후의 냉각 속도 중 적어도 어느 하나의 차이에 의해 발색한 상태와 소색한 상태를 형성할 수 있는 가역성 감열 기록층과, 상기 지지체 및 그 감열 기록층 사이의 두께가 0.1~10 ㎛의 차단층을 구비하여 이루어지고, 화상 표시부로서 기능하며,

하기 조건

(A) [소거 상한 온도 - 30℃]>[오버 시트의 저장 탄성율 E'(1.0E+08)Pa의 온도]

(B) 표면 기복 WCM이 10 ㎛ 이하

(C) 1.0E + 02Pa ≤[감열 가역성 오버 시트의 180℃에서의 저장 탄성율 E']≤5.0E + 07Pa

를 만족시키고, 상기 오버 시트 상에 엠보스 가공이 가능한 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
제23항에 있어서, 화상의 표시에 발열 소자를 이용하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
제23항에 있어서, 화상의 소거에 발열 소자 및 세라믹 히터 중 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
제23항에 있어서, 화상의 표시 및 소거에 발열 소자를 이용하고, 화상의 소거와 새로운 화상의 표시에 의해 중복기록을 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
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