[go: up one dir, main page]

KR100858853B1 - 반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치 - Google Patents

반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100858853B1
KR100858853B1 KR1020020087837A KR20020087837A KR100858853B1 KR 100858853 B1 KR100858853 B1 KR 100858853B1 KR 1020020087837 A KR1020020087837 A KR 1020020087837A KR 20020087837 A KR20020087837 A KR 20020087837A KR 100858853 B1 KR100858853 B1 KR 100858853B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
grating
phase shift
optical
pulse train
uniform pitch
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020020087837A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030071479A (ko
Inventor
니시끼아끼히꼬
하나와마사노리
사사끼히로유끼
다까하라미끼오
Original Assignee
오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤
Publication of KR20030071479A publication Critical patent/KR20030071479A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100858853B1 publication Critical patent/KR100858853B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50—Transmitters
    • H04B10/508—Pulse generation, e.g. generation of solitons
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083—Constructional arrangements
    • G02B2006/12107—Grating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
    • G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
    • G02B6/29304—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by diffraction, e.g. grating
    • G02B6/29316—Light guides comprising a diffractive element, e.g. grating in or on the light guide such that diffracted light is confined in the light guide
    • G02B6/29317—Light guides of the optical fibre type
    • G02B6/29319—With a cascade of diffractive elements or of diffraction operations

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

광 펄스열을 생성하는 방법은, 소정의 펄스주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 단계; 실질적으로 동일한 브래그 파장를 갖는 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로와
Figure 112002044002792-pat00001
위상 시프트 도파로를 교대로 광학적으로 결합하여 다중
Figure 112002044002792-pat00002
위상 시프트 그레이팅 도파로를 형성하는 단계; 다중
Figure 112002044002792-pat00003
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 소스광 펄스열을 입사시키는 단계; 및 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로에 의해 다중
Figure 112002044002792-pat00004
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 반사 광 펄스들을 추출하는 단계를 포함한다.
광 펄스열

Description

반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치{METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING CARRIER SUPPRESSED OPTICAL PULSE TRAIN AND GRATING DEVICE}
도 1 은 본 발명에 따른 위상-시프트 그레이팅이 적용되는 위상-시프트 파이버 그레이팅의 구조를 개략적으로 나타내는 사시도.
도 2 는 본 발명에 따른 위상-시프트 그레이팅 (PSBG) 의 구조 및 광파이버의 도파방향 (z-방향) 에 따른 굴절률 "n"의 변화를 개략적으로 나타내는 도면.
도 3 은
Figure 112002044002792-pat00005
위상 시프트 그레이팅의 반사 스펙트럼을 나타내는 도면.
도 4 는 위상-시프트 그레이팅 (PSBG) 의 UBG (1), UBG (2) 에 의한 입사광의 반사를 개략적으로 나타내는 도면.
도 5 는 입사광 펄스열 (Pin), UBG (1) 및 UBG (2) 로부터의 반사광 펄스열 (PU1, PU2) 및 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) 로부터의 반사광 펄스열 (Pout) 을 나타내는 도면.
도 6 은 입사광 펄스열 (Pin) 과 UBG (1) 및 UBG (2) 로부터의 반사광 펄스 사이의 광강도의 관계를 개략적으로 나타내는 도면.
도 7a 내지 도 7c 는 입사광 펄스열 (Pin), UBG (1) 및 UBG (2) 로부터의 반 사광 펄스열 (PU1, PU2) 및 PSBG 로부터의 반사광 펄스열 (Pout) 을 각각 개략적으로 나타내는 도면.
도 8 은
Figure 112002044002792-pat00006
위상 시프트 파이버 그레이팅의 축방향의 굴절율 변조도를 개략적으로 나타내는 도면.
도 9 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 아포다이즈된 그레이팅 (apodized grating) 으로 이루어지는
Figure 112002044002792-pat00007
위상 시프트 파이버 그레이팅의 축방향의 굴절율 변조도를 개략적으로 나타내는 도면.
도 10 은 UBG (1) 및 UBG (2) 에 의한 입사광 펄스열 (Pin) 의 다중반사를 개략적으로 나타내는 도면.
도 11 은 다중반사에 의한 광펄스의 간섭을 개략적으로 나타내는 도면.
도 12 는 본 발명의 제 4 실시예에 따른
Figure 112002044002792-pat00008
위상 시프트 그레이팅을 적용한 반송파 억압 CS-RZ 광신호 발생기의 구성을 나타내는 블럭도.
도 13 은
Figure 112002044002792-pat00009
위상 시프트부를 통해 순차적으로 결합된 복수의 균일한 그레이팅을 가지는
Figure 112002044002792-pat00010
위상 시프트 그레이팅의 구조를 나타내는 도면.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 :
Figure 112002044002792-pat00011
위상 시프트 파이버 그레이팅 11, 32, 34 : 광 파이버
12 : 클래드 14 : 코어
20 : 위상 시프트 브래그 그레이팅 21 : 균일 브래그 그레이팅 (1)
22 : 균일 브래그 그레이팅 (2) 23 : 위상 시프트부
31 : 광원 33 : 광 서큘레이터
35 : 광 증폭기 36 : 광 출력단
본 발명은 반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치에 관한 것이다.
최근에, 통신 트래픽 수요가 인터넷의 보급에 의해 급속히 증가하고, 전송 속도가 초당 1 테라비트 (1 Tbit/s = 1 ×1012 bit/s) 이상의 고속 및 대용량 전송 시스템이 상업적으로 실용화되고 있다. 테라비트급의 전송률을 구현하기 위해서는, WDM (wavelength division multiplexing) 기술이 필수적이다. 특히, 파장간격을 좁혀 광 반송파 (채널) 의 파장들을 조밀하게 배치한 DWDM (dense WDM) 시스템이 주목받고 있다. 그러나, DWDM 시스템은 인접채널들 사이의 스펙트럼 중첩 (크로스-토크), 상호 위상 변조 등과 같은 비선형 효과 등에 의해 전송특성들이 열화되는 문제를 수반한다.
이 문제를 해결하는 방법으로서 종래의 RZ (Return-to-Zero) 신호보다 좁은 스펙트럼 대역폭을 가지며, 비선형 효과에 대해서도 높은 내성을 나타내는 CS-RZ (carrier suppressed return-to-zero) 신호를 사용하는 전송 시스템이 주목받고 있다. 이러한 CS-RZ 신호는 예를 들어 Mach-Zender (MZ) 위상 변조기를 사용하는 방법, 즉 명칭이 "320 Gbit/s (8 ×40 Gbit/s) WDM Transmission over 367-km Zero-Dispersion-Flattened Line with 120-km Repeater Spacing Using Carrier-Suppressed Return-to-Zero Pulse Format”(OAA '99, PDP4, 1999) 으로 Y.미야모토 (Y.Miyamoto) 등에 의해 기고된 논문에 기재되어 있는 방법에 의해 생성된다. 또 다른 방법으로, CS-RZ 신호는 위상 시프터 및 지연 라인을 사용하는 방법, 예를 들어 명칭이 "Generation of Multi-Wavelength Carrier Suppressed RZ Signal with Supercontinuum Light Source" (IEICE Technical Report, Vol.101, No.394, OCS2001-69, 20010) 으로 코니시 등에 의해 기고된 논문에 기재되어 있는 방법에 의해 생성된다. 또한, 모드 록(mode-locked) 레이저를 사용하는 방법은 명칭이 "Mode-Locked Lasers for 43Gb/s Carrier Suppressed Return-to-Zero Pulse Generation"(ECOC'2001, 2001) 으로 K.사토 등에 의해 기고된 논문에 기재되어 있다.
그러나, 이러한 방법들에서는 장치의 삽입 손실이 크고, 구성이 복잡하며, 비용이 커지는 등의 문제가 있었다.
본 발명은 상술한 문제들을 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 감소된 삽입 손실을 가질 뿐만 아니라 구성이 간단하고 비용이 저렴하며 고성능을 제공하는 반송파 억압 광 펄스열을 생성하는 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 형태에 따르면, 상기 목적을 달성하기 위하여, 소정의 펄스주기를 가지는 소스광 펄스열을 생성하는 단계; 실질적으로 동일한 브래그 (Bragg) 파장을 가지는 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로와
Figure 112007016655510-pat00012
위상 시프트 도파로를 교대로 광학적으로 결합하여 다중
Figure 112007016655510-pat00013
위상 시프트 그레이팅 도파로를 형성하는 단계; 다중
Figure 112007016655510-pat00014
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 소스광 펄스열을 입사시키는 단계; 및 다중
Figure 112007016655510-pat00015
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로에 의한 반사광 펄스들을 추출하는 단계를 포함하는 광펄스열 생성 방법이 제공된다.
본 발명의 또 다른 형태에 따르면, 광 펄스열 생성기는 소정의 펄스주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 광 펄스원;
Figure 112007016655510-pat00016
위상 시프트부와, 상기
Figure 112007016655510-pat00017
위상 시프트부를 통하여 결합되며 실질적으로 동일한 브래그 파장을 가지는 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅을 포함하는
Figure 112007016655510-pat00018
위상 시프트 그레이팅; 및
Figure 112007016655510-pat00019
위상 시프트 그레이팅의 길이방향에 따라 형성되고,
Figure 112007016655510-pat00020
위상 시프트 그레이팅의 일단으로부터 소스광 펄스열을 입사시키며
Figure 112007016655510-pat00021
위상 시프트 그레이팅으로부터의 반사광 펄스열을 도파하는 광도파로를 구비한다.
본 발명의 또 다른 형태에 따르면, 광도파로내에 광 그레이팅이 형성된 그레이팅 장치는,
Figure 112007016655510-pat00022
위상 시프트부와, 상기
Figure 112007016655510-pat00023
위상 시프트부를 통하여 결합되며 실질적으로 동일한 브래그 파장을 갖는 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅을 포함하는
Figure 112007016655510-pat00024
위상 시프트 그레이팅이고, 여기서 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅이 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅의 브래그 파장에서, R1, R2 의 반사율을 각각 가질때, 반사율 (R1, R2) 은 실질적으로,
R1 / R2 = (1 - R1)2
을 만족한다.
본 발명의 또 다른 형태에 따르면, 광 펄스열 생성기는 소정의 펄스 주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 광 펄스원; 각각 소스광 펄스열을 반사하는 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로와 교대로 광학적으로 결합되는
Figure 112007016655510-pat00025
위상 시프트 도파로를 갖는 다중
Figure 112007016655510-pat00026
위상 시프트 그레이팅 도파로; 및 다중
Figure 112007016655510-pat00027
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 소스광 펄스열을 입사하고 상기 다중
Figure 112007016655510-pat00028
위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로에 의한 반사광 펄스들을 출력하는 도파로를 구비한다.
이하, 본 발명의 실시예들을 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 이하의 설명에 사용되는 도면에서, 실질적으로 등가의 구성요소들을 동일한 참조부호들로 나타낸다.
제 1 실시예
도 1 은 본 발명에 따른 위상-시프트 그레이팅이 적용된 위상-시프트 파이버 그레이팅 (10) 의 구조를 개략적으로 나타내는 사시도이다.
위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 은 클래드 (12) 및 코어 (14) 로 이루어지는 광 파이버 (11); 위상 시프트 브래그 그레이팅 (PSBG ; phase-shifted Bragg grating, 이하 간단히 "위상 시프트 그레이팅"이라 함) (20) 을 구비한다. 특히, 광 파이버 (11) 의 코어 (14) 의 굴절률을 주기적으로 변경시킴으로써, 광 파이버 (11) 내에 브래그 회절격자가 형성되어 있다. 후술하는 바와 같이, 위상 시프트 그레이팅 (20) 은 위상 시프트부 (PS; phase shift) (23) 에 의해 소정의 간격을 두고 배치된 제 1 및 제 2 균일 피치 브래그 그레이팅 (이하, 단순히 "균일 그레이팅" 이라고도 함) UBG (1)(21), UBG (2)(22) 을 구비한다. 위상-시프트 그레이팅 (PSBG)(20) 은 위상-시프트 페이즈 마스크를 사용하여 형성된다.
도 2 는 위상 시프트 그레이팅 (PSBG)(20) 의 구조 및 광 파이버 (11) 의 길이 방향 즉, 도파 방향 (z-축 방향) 에서의 굴절율 (n) 의 변화를 개략적으로 나타낸다. 도면에 나타낸 바와 같이, 제 1 균일 그레이팅 UBG (1)(21) 은 LU1 의 길이와, 일정한 피치 또는 주기 (
Figure 112002044002792-pat00029
) (그레이팅 주기) 로 변화하는 굴절률 n = n(z) 을 가진다. 제 1 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 은 브래그 조건을 만족하는 파장의 광만을 선택적으로 반사한다. 제 2 균일 그레이팅 UBG (2)(22) 은 LU2 의 길이와, 제 1 균일 그레이팅 (21) 과 유사한 일정한 주기 (
Figure 112002044002792-pat00030
) (그레이팅 주기) 로 변화하는 굴절률 n(z) 을 가진다. 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 은 LPSBG 의 길이를 가진다.
제 1 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (2) (22) 은 위상 시프트부 (PS) (23) 에 의해 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 특히, 위상 시프트부 (PS) (23) 는 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 이
Figure 112002044002792-pat00031
(1/4 파) 위상 시프트 구조를 구성하도록 규정되어 있는 길이 LPS 을 가진다. 즉, PSBG (20) 는
Figure 112002044002792-pat00032
위상 시프트 그레이팅으로 기능한다.
보다 구체적으로는, 위상 시프트부 (PS) 의 길이 LPS 은 아래식으로 표현되며,
Figure 112002044002792-pat00033
여기서,
Figure 112002044002792-pat00034
은 제 1 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 의 반사파장 (진공 중에서의 파장) 을 나타내고, neff 은 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 이 형성된 파이버의 부분에서의 실효 굴절률을 나타내며, "k" 는 0 이상의 정수 (즉, k = 0, 1, 2,...) 이다. 여기서, 수학식 우변의
Figure 112002044002792-pat00035
은 도파로내 파장을 나타낸다.
도 2 에 나타낸 구조들에 대하여 더욱 상세하게 설명하면, 위상 시프트부 (PS)(23) 의 길이 LPS 는 제 1 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 의 가장 가까운 동일 위상 위치들 (굴절률 n(z) 의 "피크" 의 위치들 A, A') 사이의 거리로 주어진다.
이러한 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 에, 진공 중에서 파장
Figure 112002044002792-pat00036
을 가진 광을 입사시킨 경우, 위상 시프트부 (PS) (23) 의 길이 (LPS) 를 변경시킴으로써 제 1 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 로부터의 반사광의 위상차를 조정할 수 있다. 상술한 바와 같이, 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 을
Figure 112002044002792-pat00037
위상 시프트 구조로 설계함으로써, 위상차를 π로 설정할 수 있다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 이러한
Figure 112002044002792-pat00038
위상 시프트 구조를 갖는 그레이팅의 반사 스펙트럼은 브래그 파장에서 반사율이 급격히 저하하는 영역을 나타낸다.
균일 브래그 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 가 1 차 그레이팅인 경우,
Figure 112002044002792-pat00039
의 위상 시프트는
Figure 112002044002792-pat00040
/2 (여기서,
Figure 112002044002792-pat00041
는 그레이팅 주기를 나타냄) 에 대응한다. 그러나, 그레이팅들은 1 차 그레이팅에 한정되지 않고, 고차의 그레이팅으로 구성될 수도 있다.
또한, 실시예에서, 제 1 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 이 도 2 에 나타낸 정현파 형상의 굴절률 프로파일을 갖는 경우에 대하여 설명하였다. 그러나, 굴절률 프로파일은 반드시 정현파 형상일 필요는 없다. 특히, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 는 일정한 주기로 변화하는 굴절률을 가지며, 브래그 그레이팅으로서 기능해야 한다. 예를 들어, 이들은 방형파 형상의 프로파일, 삼각파 형상의 프로파일 등의 굴절률 분포를 가질 수 있다.
이하, 도 4 및 도 5 를 참조하여, 상기 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 을 사용하여 반송파 억압 RZ (CS-RZ) 신호를 생성하는 원리에 대하여 설명한다. PSBG (20) 에 PSBG (20) 의 브래그 파장과 동일한 반송파 파장의 RZ 광펄스열이 입사된 경우, 광펄스열의 반송파 성분이 PSBG (20) 을 투과하므로, 반사파에는 반송파 성분이 포함되지 않는다. 따라서, 입사광 펄스열 (Pin) 은 UBG (1) (21) 에 의해 부분적으로 반사되고, 그 반사광 펄스열 (PU1) 은 입사광 펄스열 (Pin) 과 역방향으로 도파된다. UBG (1) (21) 를 투과한 입사광 펄스열 (Pin) 의 일부는 UBG (2) (22) 에 의해 반사된다. 그 반사광 펄스열 (PU2) 은 반사광 펄스열 (PU1) 과 동일방향으로 도파된다. 이 경우에, 도 5 에 나타낸 바와 같이, UBG (1) (21) 로부터의 반사광 펄스열 (PU1) 에 대하여, UBG (2) (22) 로부터의 반사 광펄스열 (PU2) 에는 위상차 및 전파지연이 생긴다. PSBG (20) 의 위상 시프트는
Figure 112002044002792-pat00042
(= π/2) 이기 때문에, 반사광 펄스열 (PU2) 이 도파되어 UBG (2)(22) 로부터 반사되는 경우에, 그 반사 광펄스열 (PU2) 은 π의 왕복 위상 시프트를 가진다. UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 각각의 반사 중심 위치 사이의 간격, 또는 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 길이에 따라 전파 지연 시간을 조정할 수 있다. 그 전파 지연 시간을 입사광 펄스열 (Pin) 의 펄스 주기의 1/2 과 동일하게 하기 위해서는, 제 1 및 제 2 균일 그레이팅의 반사 중심 위치들 사이의 간격 (D) 은 아래의 식으로 표현된다.
D = cㆍTd/2neff
여기서, Td 는 전파 지연 시간이며, c 는 광속이다.
UBG (1) (21) 로부터의 반사광 펄스열과, 위상 시프트부 (PS) (23) 를 거쳐 UBG (2) (22) 로부터 반사되어 다시 위상 시프트부 (PS) (23) 를 통과하는 반사 광펄스열 (PU2) 의 결합은
Figure 112007016655510-pat00043
위상 시프트 그레이팅 (PSBG)(20) 로부터의 반사 광펄스열 (POUT) 이다. 수학식 2 에 의해 주어진 상기 조건을 만족시키기 위해 설계된 PSBG (20) 를 사용함으로써, 광펄스열 (POUT) 은 입사광 펄스열 (Pin) 의 비트 속도의 2 배의 비트 속도를 가지며, 또한 위상이 교대로 π만큼 시프트된 광펄스들을 가진다. 따라서, PSBG (20) 로부터의 반사광 펄스열 (POUT) 을 CS-RZ 광신호로서 사용할 수 있다.
다음으로, 20 Gbit/s 의 비트 속도의 RZ 광신호로부터 40 Gbit/s 의 CS-RZ 광신호를 생성하는 경우를 예로 하여 보다 상세히 설명한다. 도 6 은 위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 에 광펄스 (Pin) (진공 중에서의 파장 (
Figure 112007016655510-pat00044
)) 가 입력되었을 때의 입사광 펄스 (Pin) 와 UBG (1) 및 UBG (2) 로부터의 반사광 펄스 사이의 광 강도의 관계를 개략적으로 나타내고 있다. 균일 브래그 그레이팅의 반사율 (R) 은 그레이팅 길이 (L), 광의 파장 (λ), 브래그 파장 (
Figure 112007016655510-pat00045
) 과 입사광 파장 사이의 디튜닝(detuning) 량 (δ), 및 광과 그레이팅의 결합계수 (
Figure 112007016655510-pat00046
) 를 파라미터로 하여 결정된다. 파장 (λ) 이 브래그 그레이팅 중심파장과 동등할 때 (즉, 디튜닝량
Figure 112007016655510-pat00047
= 0), 반사율 (R) 은 아래의 식으로 표현된다.
Figure 112002044002792-pat00048
본 실시예에서는, 입사 광펄스열 (Pin) 의 파장 (
Figure 112007016655510-pat00049
)(진공 중에서의 파장) 을 1550 나노미터 (nm) 로 선택하고, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 브래그 파장
Figure 112007016655510-pat00050
도 1550 nm 로 선택한다. 도 7a 에 나타낸 바와 같이, 광펄스 주기는 50 피코초 (ps) 이며, 광펄스폭 (전체 폭) 은 25 ps 이다. 위상 시프트부 PS (23) 를 포함하는 파이버의 실효 굴절률 (neff) 은 1.45 로 선택되고, 위상 시프트부 (PS) (23) 의 길이는 267.2 nm 로 선택된다. 또한, 전술한 바와 같이, UBG (2) (22) 로부터의 반사광 펄스들의 지연시간은 각각의 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사 중심 위치들 사이의 간격으로 결정된다. 여기서, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 길이 (LU1, LU2) 를 각각 2.5 미리미터 (mm) 로 선택하고 (도 2 를 참조), 반사 중심 위치들 사이의 간격을 2.5 mm 로 선택하였다. 또한, 길이 (LU1, LU2) 는 광펄스의 전체폭 (25 ps) 에 대응하는 광로 길이와 거의 동등하다.
도 8 은 위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 의 축방향의 굴절률 변조도 (
Figure 112002044002792-pat00051
) (no 는 그레이팅이 형성되어 있지 않은 광 파이버 부분의 굴절률을 나타낸다) 의 포락선을 나타내고 있다. 상기 굴절률 변조도에 따라 전술한 결합계수 (
Figure 112002044002792-pat00052
) 가 변화하기 때문에, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사율을 변경시킬 수 있다. UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 는 아포다이즈되어 있지 않은 그레이 팅 (비-아포다이즈 그레이팅) 이다.
입사광 펄스 (Pin) 의 광 강도를 1 로 정규화하고, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 입사광 펄스 (Pin) 에 대한 반사율을 각각 R1, R2 로 하였을 때, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 로부터의 반사광 펄스 (PU1, PU2) 는 각각 R1, (1-R1)2 R2 로 표시되는 광강도를 가진다 (도 6 참조). 따라서, 반사율 (R1, R2) 이 아래의 수학식,
Figure 112002044002792-pat00053
를 만족하도록 전술한 파라미터를 선택함으로써, 반사광 펄스열 (PU1, PU2) 의 광강도를 동등하게 할 수 있다. 본 실시예에서는, 길이 (LU1, LU2) 를 동등하게 선택하고, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 굴절률 변조도를 다르게 함으로써, 반사광 펄스열 (PU1, PU2) 의 광 강도를 동등하게 한다.
도 7b 에 나타낸 바와 같이, 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 으로부터의 반사광 중, UBG (2) (22) 로부터의 반사광 펄스열 (PU2) (파선) 은 UBG (1) (21) 로부터의 반사광 펄스열 (PU1) (일점쇄선) 과 위상이 π만큼 어긋나 있는 반면에, 반사광 펄스열의 광 강도는 거의 동일하다. 각각의 광 펄스 사이의 간격은 실질적으로 일정 (25ps) 하다. 상기 반사광 펄스열 (PU1, PU2) 의 광 펄스의 펄스폭은 반사에 의해 증가되고, 부분적으로 서로 중첩하고 있다. 그러나, 인접하는 광 펄스들은 위상이 서로 π 만큼 어긋나 있기 때문에, 중첩하고 있는 광펄스들을 상쇄하여 도 7c 에 나타내는 바와 같은 중첩이 없는 광 펄스열 (Pout) 을 얻을 수 있다. 따라서, 광 펄스열 (Pout) 은 입사광 펄스열 (Pin) 의 비트 속도의 2 배의 비트 속도 (40 Gbit/s) 를 가지는 반송파 억압 RZ (CS-RZ) 광신호이다.
본 실시예에서는, 반사광 펄스열 (PU1, PU2) 의 광 강도가 동등해지도록, 서로 다른 반사율 (R1, R2) 을 가지는 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 를 설계하였다. 그러나, 상기 반사율을 동일 (즉, R1 = R2) 하게 설계할 수도 있다.
제 2 실시예
도 9 는 본 발명의 제 2 실시예에 따른
Figure 112002044002792-pat00054
위상 시프트 그레이팅 (PSBG)(20) 의 굴절률 변조도의 포락선을 개략적으로 나타내고 있다. 특히, 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 은 광 파이버 (11) 의 길이방향의 양단에서 저감된 굴절률 변조도를 가진다. 즉, UBG (1) (21) 는 아포다이즈된 그레이팅으로 되어 있다. 유사하게도, 균일 그레이팅 UBG (2) (22) 은 아포다이즈된 그레이팅으로 되어 있다. 상기 아포다이즈된 그레이팅에 의해 그레이팅의 반사펄스의 시간축 확산을 개선할 수 있다.
상술한 바와 같이, 균일 그레이팅 UBG (1) (21), UBG (2) (22) 을 아포다이즈하지 않은 경우에, 도 7b 에 나타내는 바와 같이, 인접하는 광 펄스들이 위상반전의 관계에 있기 때문에, 상기 펄스들이 서로 상쇄된다. 그러나, 광전력이 손 실된다. 이러한 전력손실을 방지하기 위하여 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 모두를 아포다이즈한다.
제 2 실시예에서는, 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 모두를 아포다이즈하였지만, 상기 그레이팅들 중 어느 하나만을 아포다이즈할 수도 있다.
또한, 입사광 펄스열 (Pin) 의 전체 광 펄스폭을 펄스주기의 1/2 이하, 또는 광 펄스의 FWHM (full width at half maximum) 을 펄스주기의 1/4 이하로 감소시켜, 상기 광 펄스의 중첩을 저감시킬 수 있다.
제 3 실시예
이하, 본 발명의 제 3 실시예를 설명한다. 위상 시프트 그레이팅은 파장선택 파브리-페로트 (Fabry-Perot) 공진기로서 동작하기 때문에, 다중반사가 발생한다. 도 10 은 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 에 의한 입사광 펄스열 (Pin) 의 다중 반사를 나타내고 있다. 도 11 은 상기 다중반사에 의한 광 펄스의 간섭을 나타내고 있다. 도 10 에 나타낸 바와 같이, 광 펄스열 (Pin) 에 대한 다중반사에 의해 반사광 펄스열 (S1, S2, S3, S4,...) 이 발생한다. 광 펄스열 (Pin) 의 광 강도를 1 로 정규화하였을 때, 반사광의 강도는 S1 = R1, S2 = (1-R1)2R2, S3 = (1-R1)2R1R22,.... 으로 표시된다. 개별 광 펄스에 관하여 설명하면, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 광 펄스열 (Pin) 의 첫번째 광 펄스 (P-1) 에 대하여 다중 반사 광 펄스 (S1-1, S2-1, S3-1, S4-1,...) 로 이루어지는 다중반사 광 펄스열 (P-1') 이 생성된다. 또한, 광 펄스열 (Pin) 의 2 번째 광 펄스열 (P-2) 에 대하여 다중반사 광 펄스 (S1-2, S2-2, S3-2, S4-2,...) 로 이루어지는 다중 반사 광 펄스열 (P-2') 이 생성된다. 유사하게도, 광 펄스열 (Pin) 의 각각의 광 펄스 (P-3, P-4,.....) 에 대해서도 다중 반사 광 펄스가 생성된다. 이들 다중 반사 광 펄스가 서로 간섭하여 코히어런스 크로스 토오크가 발생한다. 이 코히어런스 크로스 토오크는 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사율이 증가함에 따라 커진다. 따라서, 이러한 코히어런스 크로스 토오크가 전송특성에 영향을 주지 않도록 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사율을 결정한다. 예를 들어, 전송 후의 전력 패널티(penalty)를 1 dB 이하로 제한하기 위해서는, 주신호 강도에 대한 간섭 신호 강도의 비가 -30 dB 이하로 되도록, 즉 아래의 수학식을 만족하도록 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사율 (R1, R2) 을 결정할 수 있다.
Figure 112002044002792-pat00055
이 조건을 만족하도록 위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 을 형성함으로써, 높은 전송성능을 갖는 반송파 억압 광 펄스신호를 생성하기 위한 그레이팅장치를 제공할 수 있다.
제 4 실시예
도 12 는
Figure 112007016655510-pat00056
위상 시프트 그레이팅 (PSBG) (20) 을 적용한 본 발명의 제 4 실시예의 반송파 억압 광 캐리어 신호 (CS-RZ 신호) 생성기 (30) 의 구조를 나타내는 블럭도이다.
광원 (31) 은 소정의 펄스 주기를 가지는 광 펄스열 (RZ 신호) 을 생성한다. 광원 (31) 은 예를 들어, 모드 록 레이저 등을 사용하여 1550 nm 의 파장
Figure 112007016655510-pat00057
(진공 중에서의 파장), 12.5 ps 의 광 펄스폭 (FWHM), 및 20 Gbit/s 와 동일한 비트 속도를 가지는 RZ 광신호를 생성한다. 생성된 RZ 광신호는 광 파이버 (32) 를 통과하여 광 서큘레이터 (33) 의 제 1 포트에 공급된다. 상기 RZ 광신호는 광 서큘레이터 (33) 의 제 2 포트로부터 출력되어
Figure 112007016655510-pat00058
위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 에 공급된다.
Figure 112007016655510-pat00059
위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 에서, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 는 1550 nm 의 브래그 파장 (
Figure 112007016655510-pat00060
) 을 가지며, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 길이는 각각 2.5 mm 이다. 위상 시프트부 (PS) (23) 는 267.2 nm 의 길이를 갖는다.
위상 시프트 파이버 그레이팅 (10) 으로부터의 반사광 펄스열로서 40 Gbit/s 의 CS-RZ 광신호를 생성할 수 있다. 상기 CS-RZ 광신호는 광 서큘레이터 (33) 를 통하여 광 증폭기 (OA) (35) 에 공급되어 증폭된다. 예를 들어, 광 증폭기 (OA) (35) 는 에르븀 도프 파이버 앰프 등의 광 파이버 증폭기, 또는 반도체 증폭기 등의 각종 광 증폭기에 의해 구현될 수 있다. 광 증폭기 (OA) (35) 에 의해 소정의 신호 레벨로 증폭된 CS-RZ 광신호는 출력단 (36) 으로부터 출력된다. 이 CS-RZ 광신호를 반송파 억압 광신호로서 사용할 수 있다. 또한, WDM 용 캐리어 광원으로 기능하도록 다른 파장들을 가지는 복수의 CS-RZ 신호 생성기 (30) 를 제공할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시예들에 관하여 상세히 설명하였다. 또한, 상기 실시예들을 2 개의 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 로 이루어지는
Figure 112002044002792-pat00061
위상 시프트 그레이팅 (20) 에 따라 설명하였지만, 본 발명은 이러한 특정 구성으로 한정되지 않는다. 도 13 에 나타내는 바와 같이,
Figure 112002044002792-pat00062
위상 시프트 그레이팅은 복수의 균일 그레이팅 UBG (1), UBG (2),..., UBG (n) 을 포함하도록 구성될 수 있다. 복수의 균일 피치의 그레이팅 도파로 및
Figure 112002044002792-pat00063
위상 시프트 도파로들을 교대로 광학적으로 결합한다. 즉, 복수의 균일 그레이팅 UBG (1), UBG (2),..., UBG (n) 은
Figure 112002044002792-pat00064
위상 시프트부들 및 도파로들을 통하여 순차적으로 결합되며, 여기서
Figure 112002044002792-pat00065
위상 시프트 도파로 각각을 인접한 균일 그레이팅들 사이에 제공하여 복수의
Figure 112002044002792-pat00066
위상 시프트 그레이팅 도파로를 형성한다.
위상 시프트 그레이팅(PSBG) 도파로는 광 파이버 그레이팅으로 이루어질 필요는 없다. 위상 시프트 그레이팅 도파로는 평면 채널 광 도파로 또는 PLC (planar lightwave circuit) 로 이루어질 수도 있다.
또한, 상기 실시예에서는 제 1 및 제 2 균일 그레이팅 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 가 동일한 길이를 가지는 경우를 예를 들어 설명하였지만, 본 발명은 이러한 특정 구조로 한정되지 않는다. 전술한 바와 같이, UBG (2) (22) 로부터의 반사광 펄스열의 전파 지연 시간, 즉 펄스간격을 UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 각각의 반사 중심 위치들 사이의 간격에 따라 조정할 수 있다. 한편, 그레이팅 길이 (L) 와 결합계수 (
Figure 112002044002792-pat00067
) 와의 곱
Figure 112002044002792-pat00068
이 클수록 그레이팅의 반사율이 증가하기 때문에, 예를 들어 후단의 그레이팅 UBG (2) 을 광 입사측 가까이에 제공된 그레이팅 UBG (1) (21) 보다 더 길게 형성함으로써, UBG (2)(22) 의 반사율을 증가시킬 수 있다. 따라서, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 의 반사율을 양자의 결합계수 (
Figure 112002044002792-pat00069
), 즉 굴절률 변조도를 변경시키지 않고 조정할 수 있다. 따라서, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 를 동일한 결합계수 또는 굴절률 변조도를 가지도록 설계할 수 있다. 다른 방법으로는, UBG (1) (21) 및 UBG (2) (22) 를 서로 다른 굴절율 변조도 및 서로 다른 그레이팅 길이를 가지도록 설계할 수 있다. 또한, 광 펄스의 확산을 포함하는 광 펄스 파형 등을 고려하는 경우에는, 후단에 제공되는 그레이팅 UBG (2) (22) 의 길이를 광 입사측 가까이에 제공되는 그레이팅 UBG (1) (21) 의 길이보다 더 짧게 하여 펄스 파형의 열화를 방지할 수 있다.
상기 실시예에서는 1550 nm 대(帶)의 광 펄스를 생성하는 경우에 관하여 설명하였지만, 본 발명은 이 파장대로 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 발명을 1310 nm 대 등의 어떤 파장대에 대해서도 적용할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 삽입손실이 작을 뿐만 아니라 구성이 간단한 저 제조비용의 고성능 그레이팅 장치, 반송파 억압 펄스열을 생성하는 방법 및 장치를 제공할 수 있다.
본 발명을 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였다. 당업자라면 상술 한 실시예들을 다양하게 변경 및 변형시킬 수 있음을 알 수 있다. 따라서, 첨부된 청구범위는 모든 이러한 변경 및 변형을 포함하는 것이다.

Claims (20)

  1. 소정의 펄스주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 단계;
    동일한 브래그 파장을 갖는 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로와
    Figure 112008046396448-pat00070
    위상 시프트 도파로들을 교대로 광학적으로 결합하여, 다중
    Figure 112008046396448-pat00071
    위상 시프트 그레이팅 도파로를 형성하는 단계;
    상기 다중
    Figure 112008046396448-pat00072
    위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 상기 소스광 펄스열을 입사시키는 단계; 및
    상기 다중
    Figure 112008046396448-pat00073
    위상 시프트 그레이팅 도파로의 상기 일단으로부터, 상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로에 의한 반사광 펄스들을 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로는 상기 반사광 펄스들의 펄스 간격들이 일정하게 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로의 반사율은 상기 반사광 펄스들이 동일한 광 강도를 가지도록 결정되는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로 각각은 상기 소스광 펄스열의 광 펄스 시간폭에 대응하는 광로 길이 이하의 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 소스광 펄스열은 소정의 펄스 주기의 1/2 이하인 전체 광펄스 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성 방법.
  6. 소정의 펄스주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 광 펄스원;
    동일한 브래그 파장을 갖는 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅과
    Figure 112008046396448-pat00074
    위상 시프트부를 포함하는
    Figure 112008046396448-pat00075
    위상 시프트 그레이팅으로서, 상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅은 상기
    Figure 112008046396448-pat00076
    위상 시프트부를 통하여 결합되는,
    Figure 112008046396448-pat00077
    위상 시프트 그레이팅; 및
    상기
    Figure 112008046396448-pat00078
    위상 시프트 그레이팅의 길이방향에 따라 형성되고, 상기 소스광 펄스열을 상기
    Figure 112008046396448-pat00079
    위상 시프트 그레이팅의 일단으로부터 입사시키고 상기
    Figure 112008046396448-pat00080
    위상 시프트 그레이팅으로부터의 반사광 펄스열을 도파하는 광도파로를 구비하는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅은 상기 반사광 펄스열의 펄스간격들이 일정하게 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅의 반사율은 상기 반사광 펄스열의 각각의 광 펄스가 동일한 광 강도를 가지도록 결정되는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅 각각은 상기 소스광 펄스열의 광 펄스 시간폭에 대응하는 광로 길이 이하의 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 소스광 펄스열은 소정의 펄스 주기의 1/2 이하인 전체 광 펄스폭을 가지는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅이 상기 소스광 펄스열에 대하여 각각 R1, R2 의 반사율을 가질 때, 상기 반사율 (R1, R2) 은,
    R1 / R2 = (1 - R1)2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  12. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅 중 적어도 하나는 아포다이즈된 그레이팅인 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  13. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅이 상기 소스광 펄스열에 대하여 각각 R1, R2 의 반사율을 가질 때, 상기 반사율 (R1, R2) 의 곱은,
    R1 ×R2 ≤10-3
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  14. 제 6 항에 있어서,
    상기 광도파로는 광 파이버인 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  15. 제 6 항에 있어서,
    상기 광도파로는 평면 채널형 광도파로인 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  16. 광도파로 내에 광 그레이팅이 형성된 그레이팅 장치에 있어서,
    Figure 112008046396448-pat00081
    위상 시프트부와, 상기
    Figure 112008046396448-pat00082
    위상 시프트부를 통하여 결합되며 동일한 브래그 파장을 가지는 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅을 포함하는
    Figure 112008046396448-pat00083
    위상 시프트 그레이팅을 구비하며,
    상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅은, 상기 제 1 및 제 2 균일 피치 그레이팅의 브래그 파장에서, 각각 R1, R2 의 반사율을 가지며, 상기 반사율 (R1, R2) 은,
    R1 / R2 = (1 - R1)2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 그레이팅 장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 광도파로는 광 파이버인 것을 특징으로 하는 그레이팅 장치.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 광도파로는 평면 채널형 광도파로인 것을 특징으로 하는 그레이팅 장치.
  19. 소정의 펄스주기를 갖는 소스광 펄스열을 생성하는 광 펄스원;
    복수의 균일 피치 그레이팅 도파로와 교대로 광학적으로 결합되는
    Figure 112008046396448-pat00084
    위상 시프트 도파로들을 가지는 다중
    Figure 112008046396448-pat00085
    위상 시프트 그레이팅 도파로로서, 상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로 각각은 상기 소스 광 펄스열을 반사하는, 다중
    Figure 112008046396448-pat00086
    위상 시프트 그레이팅 도파로; 및
    상기 다중
    Figure 112008046396448-pat00087
    위상 시프트 그레이팅 도파로의 일단으로부터 상기 소스광펄스열을 입력하고, 상기 다중
    Figure 112008046396448-pat00088
    위상 시프트 그레이팅 도파로의 상기 일단으로부터 상기 복수의 균일 피치 그레이팅 도파로에 의한 반사 광 펄스들을 출력하는 도파로를 구비하는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 다중
    Figure 112002044002792-pat00089
    위상 시프트 그레이팅 도파로는 광 파이버로 구성되는 것을 특징으로 하는 광 펄스열 생성기.
KR1020020087837A 2002-02-27 2002-12-31 반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치 Expired - Fee Related KR100858853B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2002-00051307 2002-02-27
JP2002051307A JP4053787B2 (ja) 2002-02-27 2002-02-27 搬送波抑圧光パルス列生成方法及び装置並びにグレーティング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030071479A KR20030071479A (ko) 2003-09-03
KR100858853B1 true KR100858853B1 (ko) 2008-09-17

Family

ID=27678510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020087837A Expired - Fee Related KR100858853B1 (ko) 2002-02-27 2002-12-31 반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7039260B2 (ko)
EP (1) EP1341012B1 (ko)
JP (1) JP4053787B2 (ko)
KR (1) KR100858853B1 (ko)
DE (1) DE60308244T2 (ko)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4053787B2 (ja) 2002-02-27 2008-02-27 沖電気工業株式会社 搬送波抑圧光パルス列生成方法及び装置並びにグレーティング装置
KR100536906B1 (ko) * 2003-03-19 2005-12-16 한국전자통신연구원 씨에스-알젯 광신호 발생장치
CN100418276C (zh) * 2004-05-28 2008-09-10 清华大学 分布反馈式光波导激光器
JP4784096B2 (ja) * 2005-01-12 2011-09-28 沖電気工業株式会社 光パルス時間拡散器及び光符号分割多重伝送装置
US20090129789A1 (en) * 2005-07-01 2009-05-21 Masanori Hanawa Method and Apparatus for Extracting Clock Signal From Optical Signal
KR100703629B1 (ko) * 2005-11-30 2007-04-06 광주과학기술원 광 차동 위상 편이 신호 복조기
KR100752362B1 (ko) * 2005-11-30 2007-08-27 광주과학기술원 위상 가변 기능을 갖는 광 시간 지연 간섭계
JP4876688B2 (ja) * 2006-04-20 2012-02-15 沖電気工業株式会社 光パルス時間拡散器
JP5184167B2 (ja) * 2008-03-24 2013-04-17 古河電気工業株式会社 リング型レーザ装置
CN101614879B (zh) * 2009-07-24 2011-01-26 北京工业大学 窄带光滤波器
WO2013117216A1 (en) * 2012-02-07 2013-08-15 Telefonaktiebolaget L M Ericsson (Publ) Photonic rf generator
JP6273701B2 (ja) * 2013-06-27 2018-02-07 住友電気工業株式会社 光半導体素子
WO2015195016A1 (en) * 2014-06-19 2015-12-23 Telefonaktiebolaget L M Ericsson (Publ) An optical device, an optical transceiver and a network node
EP3814815A4 (en) * 2018-06-26 2022-04-06 National Research Council of Canada PHASE-SHIFTING FIBER BRAGG GRATING SENSOR, AND METHOD FOR MAKING THIS SENSOR
US11125935B2 (en) * 2019-03-11 2021-09-21 Honeywell International Inc. Optical structure for imparting a distributed phase shift to an optical signal, electro-optic modulator incorporating such structure for reduced size, low signal loss, and high extinction ratio, and related system and method
CN111208689A (zh) * 2020-01-21 2020-05-29 天津理工大学 双幅度粒子布居数光栅生成方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5830622A (en) 1994-02-14 1998-11-03 The University Of Sydney Optical grating
WO1999031537A1 (en) 1997-12-15 1999-06-24 University Of Southern California Tunable nonlinearly chirped grating
WO2000010038A1 (en) 1998-08-10 2000-02-24 Templex Technology, Inc. Time-wavelength multiple access optical communication systems and methods
KR20000040493A (ko) * 1998-12-18 2000-07-05 이계철 파장분할다중 광통신 시스템에서의 커플러형 추가/추출 필터
EP1341012A2 (en) * 2002-02-27 2003-09-03 Oki Electric Industry Co., Ltd. Method and apparatus for generating carrier suppressed optical pulse train and grating device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3970959A (en) * 1973-04-30 1976-07-20 The Regents Of The University Of California Two dimensional distributed feedback devices and lasers
US5361130A (en) * 1992-11-04 1994-11-01 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Fiber grating-based sensing system with interferometric wavelength-shift detection
US5647039A (en) * 1995-12-14 1997-07-08 Lucent Technologies Inc. Optical switching system and devices using a long period grating
US6041070A (en) * 1997-11-14 2000-03-21 Sdl, Inc. Resonant pumped short cavity fiber laser
US6046841A (en) * 1998-04-24 2000-04-04 Mahgerefteh; Daniel All-optical wavelength conversion system comprising an optical discriminator
US5974209A (en) * 1998-04-30 1999-10-26 Cho; Pak Shing System comprising an electroabsorption modulator and an optical discriminator
WO2000043828A1 (en) * 1999-01-26 2000-07-27 Templex Technology, Inc. Dynamically reconfigurable composite grating filters for temporal waveform processing
US6804471B1 (en) 2000-01-05 2004-10-12 Hrl Laboratories Llc Apparatus and method of pulsed frequency modulation for analog optical communication
AU2003207591A1 (en) * 2002-01-18 2003-09-02 Wisconsin Alumini Research Foundation High coherent power, two-dimensional surface­emitting semiconductor diode array laser
US6813447B2 (en) * 2002-05-23 2004-11-02 Corning Incorporated Recovery of clock pulses of wavelength division multiplexed optical signals

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5830622A (en) 1994-02-14 1998-11-03 The University Of Sydney Optical grating
WO1999031537A1 (en) 1997-12-15 1999-06-24 University Of Southern California Tunable nonlinearly chirped grating
WO2000010038A1 (en) 1998-08-10 2000-02-24 Templex Technology, Inc. Time-wavelength multiple access optical communication systems and methods
KR20000040493A (ko) * 1998-12-18 2000-07-05 이계철 파장분할다중 광통신 시스템에서의 커플러형 추가/추출 필터
EP1341012A2 (en) * 2002-02-27 2003-09-03 Oki Electric Industry Co., Ltd. Method and apparatus for generating carrier suppressed optical pulse train and grating device
EP1341012A3 (en) 2002-02-27 2005-09-07 Oki Electric Industry Co., Ltd. Method and apparatus for generating carrier suppressed optical pulse train and grating device
US7039260B2 (en) 2002-02-27 2006-05-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Method and apparatus for generating carrier suppressed optical pulse train and grating device

Also Published As

Publication number Publication date
EP1341012A2 (en) 2003-09-03
US20030161581A1 (en) 2003-08-28
JP4053787B2 (ja) 2008-02-27
KR20030071479A (ko) 2003-09-03
US7039260B2 (en) 2006-05-02
EP1341012B1 (en) 2006-09-13
DE60308244D1 (de) 2006-10-26
EP1341012A3 (en) 2005-09-07
DE60308244T2 (de) 2007-03-29
JP2003258344A (ja) 2003-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100858853B1 (ko) 반송파 억압 광 펄스열 생성 방법 및 장치 그리고 그레이팅 장치
US6628864B2 (en) Optical code generation and detection
US7174103B2 (en) Optical signal converter, optical encoder, optical decoder, and optical code division multiplexing communication apparatus
US20010010739A1 (en) CDMA encoder-decoder, CDMA communication system, WDM-CDMA communication system
EP1227363B1 (en) Nonlinear optical loop mirror
JP6653886B2 (ja) モード合分波器及びモード多重伝送システム
JP2004524569A5 (ko)
Chan et al. Widely tunable, high-FSR, coherence-free microwave photonic notch filter
Nykolak et al. All-fiber active add-drop wavelength router
AU742088B2 (en) Optical wavelength converter
WO2009104396A1 (ja) 光符号分割多重アクセスシステム
Tamai et al. Experimental study on time-spread/wavelength-hop optical code division multiplexing with group delay compensating en/decoder
Fishman Design and performance of externally modulated 1.5-mu m laser transmitter in the presence of chromatic dispersion
Petruzzi et al. Dispersion compensation using only fiber Bragg gratings
JP4277577B2 (ja) 光符号器、及び光復号器及び光符号分割多重通信装置
JP4140390B2 (ja) 光符号化信号生成装置及び光符号分割多重装置
CN1406342A (zh) 光路中的圆极化光纤
Chen et al. Dispersion Compensation of 30GBaud/s NRZ and PAM4 data using integrated Silicon Nitride Gratings
Shibata et al. Effect of sidelobes on demultiplexing characteristics of a grating-folded directional coupler demultiplexer
KR100438014B1 (ko) 다중 모드 간섭을 이용한 가변 광필터
Takiguchi et al. Integrated-optic encoder/decoder for time-spreading/wavelength-hopping optical CDMA
KR20000075849A (ko) 적어도 하나의 브래그-격자 구조를 가지는 광 파장 선택 소자
Kumar et al. Tilted Subwavelength Grating Assisted Directional Coupler Based WDM
Kumar et al. Crosstalk characterization in homogeneous multicore fiber using discrete changes model under bidirectional propagation
KR200222414Y1 (ko) 비선형 방향성 광커플러

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

A201 Request for examination
P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

D14-X000 Search report completed

St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903

Not in force date: 20110911

Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903

Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

Not in force date: 20110911