KR100868663B1 - Coloured photosensitive resin compositions - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광중합 개시제로서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하며, 현상 후에 가열해도 승화물의 발생량이 적은 착색 패턴을 부여할 수 있으며, 착색제(A), 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C), 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D) 및 에폭시 화합물(E)을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. 이러한 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층(4)을 기판(2) 위에 형성하고(a), 당해 층을 노광한 다음(b), 현상하고, 이어서 가열 처리하여 착색 패턴(3)을 형성함으로써(c), 칼라 필터를 수득한다.
The present invention contains 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one as a photopolymerization initiator, and even when heated after development, it is possible to give a coloring pattern with a low amount of sublimation generation. , Colorant (A), binder polymer (B), photopolymerizable compound (C), 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one (D) and epoxy compound ( The coloring photosensitive resin composition containing E) is provided. Forming a colored pattern 3 by forming a layer 4 made of such a colored photosensitive resin composition on the substrate 2 (a), exposing the layer (b), then developing and subsequently heating to form a colored pattern 3 (c) ), A color filter is obtained.
착색제, 결합제 중합체, 광중합성 화합물, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 에폭시 화합물Colorant, binder polymer, photopolymerizable compound, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, epoxy compound
Description
도 1a와 도 1b는 칼라 필터의 모식도이다.1A and 1B are schematic diagrams of a color filter.
도 2a, 도 2b 및 도 2c는 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 형성하여 칼라 필터를 제조하는 공정을 도시한 모식도이다.2A, 2B and 2C are schematic diagrams showing a step of forming a colored pattern using a colored photosensitive resin composition to produce a color filter.
도 3a, 도 3b 및 도 3c는 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 형성하여 칼라 필터를 제조하는 공정을 도시한 모식도이다.3A, 3B, and 3C are schematic diagrams showing a step of forming a colored pattern using a colored photosensitive resin composition to produce a color filter.
도 4a, 도 4b 및 도 4c는 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 형성하여 칼라 필터를 제조하는 공정을 도시한 모식도이다.4A, 4B, and 4C are schematic diagrams showing a step of forming a colored pattern using a colored photosensitive resin composition to produce a color filter.
도 5a, 도 5b 및 도 5c는 실시예에서 착색층을 형성하는 공정을 도시한 모식도이다.5A, 5B, and 5C are schematic diagrams showing a step of forming a colored layer in an embodiment.
도 6은 실시예와 비교예에서 에폭시 화합물의 사용량(E)을 결합제 중합체(B)와 광중합성 화합물(C)과의 합계 사용량으로 나눈 값(횡축)에 대한 질량 감소율(종축)을 플롯한 도면이다.FIG. 6 is a graph plotting the mass reduction rate (vertical axis) versus the value obtained by dividing the amount of use of the epoxy compound (E) by the total amount of use of the binder polymer (B) and the photopolymerizable compound (C) in the Examples and Comparative Examples. to be.
부호의 설명Explanation of the sign
1: 칼라 필터 1: color filter
2: 기판 2: substrate
3: 착색 패턴3: coloring pattern
3': 착색 패턴3 ': tinted pattern
3": 착색 패턴3 ": tinted pattern
30: 착색층30: colored layer
3R: 적색 화소 3R: red pixel
3G: 녹색 화소 3G: green pixels
3B: 청색 화소 3B: blue pixel
3BM: 블랙 매트릭스 3BM: Black Matrix
4: 착색 감광성 수지 조성물층4: coloring photosensitive resin composition layer
4: 착색 감광성 수지 조성물층4: coloring photosensitive resin composition layer
4": 착색 감광성 수지 조성물층4 ": colored photosensitive resin composition layer
41: 광선 미조사 영역 41: light non-irradiation area
42: 광선 조사 영역 42: light irradiation area
5: 광선5: rays
6: 광마스크6: photomask
61: 유리판 61: glass plate
62: 차광층 62: light shielding layer
63: 투광부
63: floodlight
본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition.
착색 감광성 수지 조성물(칼라 내식막)은 착색제를 함유하여 착색되어 있는 감광성 수지 조성물(내식막)이며, 예를 들면, 칼라 필터를 제조하기 위한 원재료로서 유용하다. 여기서 칼라 필터(1)란, 예를 들면, 칼라 액정 표시 장치의 표시 화상을 색채화하는 칼라 고체 촬영소자에 도입되어 칼라 화상을 수득하는 등을 위해 사용되는 광학 소자이다. 칼라 필터(1)는 기판(2) 위의 동일한 평면 위에 형성된 착색 패턴으로 이루어진 것이 공지되어 있으며(도 2a 내지 도 2c), 이러한 착색 패턴의 형성에 착색 감광성 수지 조성물이 사용된다. 착색 패턴으로서는, 예를 들면, 빛의 삼원색인 적색, 녹색, 청색이나, 이의 보색인 시안색, 마젠타색, 황색의 각 색으로 착색된 투명한 층인 적색 화소(3R), 녹색 화소(3G), 청색 화소(3B) 등의 색 화소, 각 색 화소의 경계에 형성되며 가시광을 차폐하는 흑색 층인 블랙 매트릭스 등을 들 수 있다.A colored photosensitive resin composition (color resist) is a photosensitive resin composition (resist resist) which contains a coloring agent and is colored, for example, it is useful as a raw material for manufacturing a color filter. Here, the color filter 1 is an optical element used for introducing into the color solid-state imaging element which colorizes the display image of a color liquid crystal display device, and obtaining a color image, for example. It is known that the color filter 1 consists of the coloring pattern formed on the same plane on the board | substrate 2 (FIGS. 2A-2C), and the coloring photosensitive resin composition is used for formation of such a coloring pattern. As the colored pattern, for example, red pixels 3R, green pixels 3G, and blue, which are transparent layers colored with respective colors of three colors of light, red, green, and blue, and complementary colors thereof, cyan, magenta, and yellow, respectively. And a black matrix, which is a black layer formed on the boundary of each color pixel such as the pixel 3B and shielding the visible light.
이러한 착색 감광성 수지 조성물로서는, 종래부터, 착색제, 결합제 중합체, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유하는 것이 공지되어 있다. 광중합 개시제로서는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온이 공지되어 있다. 이러한 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 칼라 필터를 제조하는 방법으로서는, 예를 들면, 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층(4)을 기판(2) 위에 형성하며(도 2a), 당해 층(4)을 노광한 후(도 2b), 현상하여 착색 패턴(3)을 형성하는 방법을 들 수 있다(도 2c). 노광시 착색 감광성 수지 조성물층(4)에는, 광선(5)이 조사되지 않은 광선 미조사 영역(41)과 광선이 조사되는 광선 조사 영역(42)이 생기지만, 광선 미조사 영역(41)은 후속 현상시 제거된다. 한편, 광선 조사 영역(42)은 현상 후에도 그대로 잔류하여 착색 패턴(3)을 구성한다(도 2c). 현상 후의 착색 패턴(3)은 가열 처리됨으로써, 기계적 강도, 내용제성 등이 향상된다. 이러한 착색 패턴의 형성은 착색 패턴으로의 이물질 혼입을 방지하기 위해, 전체 공정이 클린 룸(clean room) 내에서 실시되는 것이 일반적이다.As such colored photosensitive resin composition, what conventionally contains a coloring agent, a binder polymer, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator is known. As the photoinitiator, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is known. As a method of manufacturing a color filter using such colored photosensitive resin composition, the layer 4 which consists of colored photosensitive resin composition is formed on the board | substrate 2, for example (FIG. 2A), and the said layer 4 is exposed. After that (FIG. 2B), the method of developing and forming the coloring pattern 3 is mentioned (FIG. 2C). In the colored photosensitive resin composition layer 4 at the time of exposure, although the light non-irradiation area | region 41 with which the
그러나, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하는 종래의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 착색 패턴(3)을 가열 처리하면, 착색 패턴으로부터 승화물이 생긴다는 문제가 있다. 가열 처리시 발생하는 승화물은 클린 룸의 오염 물질로 되어 착색 패턴에 이물질로서 혼입될 염려가 있다.
However, when the coloring pattern 3 formed using the conventional coloring photosensitive resin composition containing 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is heat-processed, it will coloring. There exists a problem that a sublimation arises from a pattern. Sublimates generated during the heat treatment may become contaminants in the clean room and may be mixed as foreign matter in the coloring pattern.
따라서, 본 발명자들은 광중합 개시제로서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하고 있어도 현상 후의 가열시 승화물의 발생량이 적은 착색 패턴을 부여할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 개발하려고 예의 검토하였다. 그 결과, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물이 추가로 에폭시 화합물을 함유하면, 당해 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 착색 패턴을 가열해도 승화물이 발생되지 않음을 밝 혀내고, 본 발명에 이르게 되었다.
Therefore, the present inventors can give a coloring pattern with a small amount of sublimation generated upon heating after development even if 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is contained as a photopolymerization initiator. It earnestly examined to develop the coloring photosensitive resin composition which can be. As a result, when the coloring photosensitive resin composition containing 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one further contains an epoxy compound, the said coloring photosensitive resin composition is used. By heating the formed coloring pattern, it was revealed that no sublimation was generated, and the present invention was reached.
즉, 본 발명은 착색제(A), 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C), 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D) 및 에폭시 화합물(E)을 함유함을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.That is, this invention is a coloring agent (A), a binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), and 2-methyl- 2-morpholino- 1- (4-methylthiophenyl) propane- 1-one (D) And an epoxy compound (E). A colored photosensitive resin composition is provided.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 착색제(A)는, 유기물인 유기 착색제일 수 있으며, 무기물인 무기 착색제일 수 있다. 유기 착색제는 유기 안료일 수 있으며, 유기 염료일 수 있다. 또한, 합성 색소일 수 있으며, 천연 색소라도 양호하다. 무기 착색제는 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨의 무기염(체질 안료) 등의 무기 안료일 수 있다. 이러한 착색제 중에서도, 유기 착색제, 특히 유기 안료가 바람직하게 사용된다.The coloring agent (A) contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention may be an organic coloring agent which is an organic substance, and may be an inorganic coloring agent which is an inorganic substance. The organic colorant may be an organic pigment and may be an organic dye. In addition, it may be a synthetic dye, and may be a natural dye. The inorganic colorant may be an inorganic pigment such as a metal oxide, a metal complex salt, or an inorganic salt (barium pigment) of barium sulfate. Among these colorants, organic colorants, particularly organic pigments, are preferably used.
유기 안료로서는, 예를 들면, 칼라 인덱스[참조: The Society of Dyers and Colourists]에 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, C.I. 피그먼트 옐로우 1, C.I. 피그먼트 옐로우 3, C.I. 피그먼트 옐로우 12, C.I. 피그먼트 옐로우 l3, C.I. 피그먼트 옐로우 14, C.I. 피그먼트 옐로우 15, C.I. 피그먼트 옐로우 l6, C.I. 피그먼트 옐로우 17, C.I. 피그먼트 옐로우 20, C.I. 피그먼트 옐로우 24, C.I. 피그먼트 옐로우 31, C.I. 피그먼트 옐로우 53, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 86, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I. 피그먼트 옐로우 94, C.I. 피그먼트 옐로우 109, C.I. 피그먼트 옐로우 110, C.I. 피그먼트 옐로우 117, C.I. 피그먼트 옐로우 125, C.I. 피그먼트 옐로우 128, C.I. 피그먼트 옐로우 137, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 147, C.I. 피그먼트 옐로우 148, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트173;As an organic pigment, the compound classified as pigment in the color index (The Society of Dyers and Colourists) is mentioned, for example. Specifically, C.I. Pigment Yellow 1, C.I. Pigment Yellow 3, C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow l3, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 15, C.I. Pigment Yellow l6, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 53, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 86, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 94, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 117, C.I. Pigment Yellow 125, C.I. Pigment Yellow 128, C.I. Pigment Yellow 137, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 147, C.I. Pigment Yellow 148, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment 173;
C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 31, C.I. 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 42, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 51, C.I. 피그먼트 오렌지 55, C.I. 피그먼트 오렌지 59, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 65, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 73;C.I. Pigment Orange 13, C.I. Pigment Orange 31, C.I. Pigment Orange 36, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Orange 40, C.I. Pigment Orange 42, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 51, C.I. Pigment Orange 55, C.I. Pigment Orange 59, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 65, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Pigment orange 73;
C.I. 피그먼트 레드 9, C.I. 피그먼트 레드 97, C.I. 피그먼트 레드 l05, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 l44, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 l66, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 l76, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 192, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265;C.I. Pigment Red 9, C.I. Pigment Red 97, C.I. Pigment Red l05, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red l44, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red l66, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red l76, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 192, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment red 265;
C.I 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60;C.I Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment blue 60;
C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38;C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Pigment violet 38;
C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36;C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment green 36;
C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25;C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment brown 25;
C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등을 들 수 있다. 이들 유기 안료는 각각 단독으로 사용될 수 있으며, 둘 이상을 혼합하여 사용될 수도 있다.C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment black 7 and the like. These organic pigments may be used alone or in combination of two or more thereof.
유기 안료에는 필요에 따라 로진 처리, 산성 그룹이나 염기성 그룹이 도입된 안료 유도체 등을 사용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리가 실시될 수 있다.Organic pigments include rosin treatments, surface treatments using pigment derivatives in which acidic groups or basic groups are introduced, graft treatments on pigment surfaces with polymer compounds, atomization treatments such as sulfuric acid atomization, or the like, as necessary. Washing | cleaning process by an organic solvent, water, etc. can be performed.
착색제의 함유량 범위는, 착색 감광성 수지 조성물의 휘발 성분이 휘발한 후의 고형분에 대한 질량 분율로, 통상적으로 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상, 보다 바람직하게는 20% 이상이며, 통상적으로 60% 이하, 바람직하게는 50% 이하이다. 또한, 착색제로서 유기 안료를 사용하는 경우, 당해 유기 안료의 사용량은, 착색제 전량에 대한 질량 분율로, 통상적으로 50% 이상, 바람직하게는 55% 이상이다.The content range of the colorant is a mass fraction with respect to the solid content after the volatile component of the colored photosensitive resin composition is volatilized, and is usually 5% or more, preferably 10% or more, more preferably 20% or more, usually 60% Below, Preferably it is 50% or less. In addition, when using an organic pigment as a coloring agent, the usage-amount of the said organic pigment is 50% or more normally, Preferably it is 55% or more by mass fraction with respect to the coloring agent whole quantity.
결합제 중합체(B)는 착색제를 분산시킬 수 있으며, 또한 착색 감광성 수지 조성물층(4)에, 현상에 있어서 이의 광선 미조사 영역(41)이 제거되며 광선 조사 영역(42)이 잔존하는 기능을 부여할 수 있는 중합체가 사용된다. 이러한 결합제 중합체로서는, 예를 들면, 카복실 그룹을 함유하는 단량체 단위로 이루어진 중합체를 들 수 있다.Binder polymer (B) can disperse a coloring agent, and also gives the coloring photosensitive resin composition layer 4 the function which the light non-irradiation area | region 41 is removed in image development, and the light irradiation area | region 42 remains. Capable polymers are used. As such a binder polymer, the polymer which consists of a monomeric unit containing a carboxyl group is mentioned, for example.
카복실 그룹을 함유하는 단량체로서는, 예를 들면, 불포화 카복실산, 불포화 디카복실산 등과 같은, 분자 중에 하나 이상의 카복실 그룹을 함유하는 불포화 카복실산을 들 수 있으며, 구체적으로는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등을 들 수 있다. 이러한 단량체는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물이며, 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용될 수 있다.As a monomer containing a carboxyl group, the unsaturated carboxylic acid containing one or more carboxyl groups in a molecule | numerator, such as unsaturated carboxylic acid, unsaturated dicarboxylic acid, etc. is mentioned, For example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, ita Cholic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. are mentioned. These monomers are compounds having a carbon-carbon unsaturated bond, and may be used alone or in combination of two or more.
결합제 중합체는 이러한 카복실 그룹을 갖는 단량체의 단독중합체일 수 있으며, 또한 카복실 그룹을 갖는 단량체와 다른 단량체와의 공중합체일 수 있다. 다른 단량체는, 예를 들면, 탄소-탄소 불포화 결합을 가지며 카복실 그룹을 갖는 단량체와 공중합할 수 있는 단량체이며, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산 에스테르 화합물, 아미노에틸 아크릴레이트 등의 불포화 카복실산 아미노알킬에스테르 화합물, 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산 글리시딜에스테르 화합물, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트 등의 카복실산 비닐에스테르 화합물, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물, 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등의 불포화 카복실산 옥세탄에스테르 화합물 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용된다.The binder polymer may be a homopolymer of a monomer having such a carboxyl group and may also be a copolymer of a monomer having a carboxyl group with another monomer. Other monomers are, for example, monomers having a carbon-carbon unsaturated bond and copolymerizable with monomers having a carboxyl group, and for example, aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and methyl acrylate. Methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, etc. Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as unsaturated carboxylic acid ester compounds and aminoethyl acrylate, unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, vinyl acetate and vinyl propionate Carboxylic Acid Vinyl Ester Compound, Acrylonitrile, Meta Vinyl cyanide compounds, such as chloronitrile and the (alpha)-chloro acrylonitrile, 3-methyl- 3-acryloxy methyl oxetane, 3-methyl- 3-methacryloxy methyl oxetane, 3-ethyl-3- acryloxy methyl Oxetane, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl And unsaturated carboxylic acid oxetane ester compounds such as oxetane and 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane. These monomers are each used alone or in combination of two or more.
이러한 공중합체로서는, 예를 들면, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질 메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질 메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸 메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸 메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 공중합체에서 카복실 그룹을 갖는 단량체 단위의 함유량은, 질량 분율로, 5% 이상 50% 이하, 바람직하게는 10% 이상 40% 이하 정도이다.As such a copolymer, for example, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / Methacrylic acid / styrene copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / methyl methacrylate / Methacrylic acid / styrene copolymer, etc. are mentioned. The content of the monomer unit having a carboxyl group in such a copolymer is 5% or more and 50% or less, preferably 10% or more and 40% or less in terms of mass fraction.
이러한 결합제 중합체로서는, 폴리스티렌을 표준으로 하여 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에서 요구되는 중량 평균 분자량(Mw) 범위가 5,000 내지 400,000, 또한 10,000 내지 300,000인 것이 바람직하다.As such a binder polymer, the weight average molecular weight (Mw) range required by gel permeation chromatography (GPC) based on polystyrene is preferably 5,000 to 400,000 and more preferably 10,000 to 300,000.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 결합제 중합체의 함유량 범위는, 착색 감광성 조성물의 고형분에 대한 질량 분율로, 통상적으로 5% 이상, 바람직하게는 20% 이상, 통상적으로 90% 이하, 바람직하게는 70% 이하 정도이다.The content range of the binder polymer in the colored photosensitive resin composition of the present invention is a mass fraction with respect to the solid content of the colored photosensitive composition, and is usually 5% or more, preferably 20% or more, usually 90% or less, preferably 70% It is about the following.
광중합성 화합물(C)은 광선을 조사함으로써 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온으로부터 발생하는 활성 라디칼에 의해 중합을 개시할 수 있는 화합물이며, 예를 들면, 중합성 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 화합물은 1관능성 광중합성 화합물일 수 있으며, 2관능성 또는 3관능성 이상의 다관능성 광중합성 화합물일 수 있다.The photopolymerizable compound (C) is a compound capable of initiating polymerization by active radicals generated from 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one by irradiation with light. For example, the compound etc. which have a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond are mentioned. Such a compound may be a monofunctional photopolymerizable compound, and may be a bifunctional or trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compound.
1관능성 광중합성 화합물로서는, 예를 들면, 노닐페닐카비톨 아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional photopolymerizable compound include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N. -Vinylpyrrolidone, etc. are mentioned.
2관능성 광중합성 화합물로서는, 예를 들면, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올 디아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올 디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a bifunctional photopolymerizable compound, for example, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol di Acrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol diacrylate, 3- Methylpentanediol dimethacrylate etc. are mentioned.
3관능성 이상의 다관능성 광중합성 화합물로서는, 예를 들면, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a trifunctional or more than polyfunctional photopolymerizable compound, for example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylic The rate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, etc. are mentioned.
이러한 광중합성 화합물은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용된다. 이러한 광중합성 화합물 중에서도 2관능성 이상의 다관능성 광중합성 화합물이 바람직하게 사용되며, 둘 이상의 광중합성 화합물을 사용하는 경우에는 이 중의 하나 이상이 다관능성 광중합성 화합물인 것이 바람직하다.These photopolymerizable compounds are used individually or in combination of two or more, respectively. Among these photopolymerizable compounds, bifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compounds are preferably used, and when two or more photopolymerizable compounds are used, at least one of them is preferably a polyfunctional photopolymerizable compound.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 광중합성 화합물의 함유량은 결합제 중합체와 광중합성 화합물과의 합계량 100질량부당 통상적으로는 O.1질량부 이상 70질량부 이하, 바람직하게는 10질량부 이상 60질량부 이하이다.In the colored photosensitive resin composition of this invention, content of a photopolymerizable compound is 0.1-1 mass part or more and 70 mass parts or less normally per 100 mass parts of total amounts of a binder polymer and a photopolymerizable compound, Preferably they are 10 mass parts or more and 60 mass parts It is as follows.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합 개시제는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D)이다. 이러한 화합물은 빛을 조사함으로써 활성 라디칼을 발생하는 활성 라디칼 발생제이다. 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온의 함유량은 결합제 중합체와 광중합성 화합물과의 합계량 100질량부당 통상적으로는 2질량부 이상이며, 바람직하게는 4질량부 이상이며, 통상적으로 36질량부 이하, 바람직하게는 24질량부 이하이다.The photoinitiator contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is 2-methyl- 2-morpholino-1- (4-methylthio phenyl) propane- 1-one (D). Such compounds are active radical generators that generate active radicals by irradiation with light. The content of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually per 100 parts by mass of the total amount of the binder polymer and the photopolymerizable compound. It is 2 mass parts or more, Preferably it is 4 mass parts or more, Usually, it is 36 mass parts or less, Preferably it is 24 mass parts or less.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제로서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하지만, 다른 광중합 개시제를 함유할 수 있다. 이러한 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 활성 라디칼 발생제, 산 발생제 등을 들 수 있다. 활성 라디칼 발생제로서는, 예를 들면, 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 트리아진계 광중합 개시제 등을 들 수 있다.Although the coloring photosensitive resin composition of this invention contains 2-methyl- 2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane- 1-one as a photoinitiator, it can contain another photoinitiator. As such a photoinitiator, an active radical generator, an acid generator, etc. are mentioned, for example. As an active radical generating agent, an acetophenone type photoinitiator, a benzoin type photoinitiator, a benzophenone type photoinitiator, a thioxanthone type photoinitiator, a triazine type photoinitiator, etc. are mentioned, for example.
아세토페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메 틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.As an acetophenone type photoinitiator, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [ 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-1- Oligomers of on, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, and the like.
벤조인계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. As a benzoin type photoinitiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.
벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라-(3급-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. As a benzophenone type photoinitiator, a benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'- tetra- (Tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned.
티오크산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.As a thioxanthone type photoinitiator, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro, for example 4-propoxy thioxanthone etc. are mentioned.
트리아진계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.As a triazine photoinitiator, it is 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl), for example. -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4 -Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran- 2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5- Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro Romethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.
활성 라디칼 발생제로서는, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄파퀴 논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 사용할 수 있다.Examples of the active radical generator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- 1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylglyoxylate, titanocene compound, etc. Can be used.
산 발생제로서는, 예를 들면, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-하이드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄 p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄 p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류, 또는 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.As the acid generator, for example, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate and 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfo Nate, 4-acetoxyphenylmethyl benzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl iodonium p-toluenesulfo Onium salts such as nate and diphenyl iodonium hexafluoro antimonate, nitrobenzyl tosylates, benzointosylates and the like.
또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기 화합물 중에는 활성 라디칼과 동시에 산을 발생하는 화합물도 있으며, 예를 들면, 트리아진계 광중합 개시제는 산 발생제로서 사용된다.In addition, there are some compounds which generate an acid simultaneously with the active radicals in the compound as an active radical generator, for example, a triazine photopolymerization initiator is used as an acid generator.
이들 광중합 개시제는 각각 단독 또는 둘 이상으로 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온과 조합하여 사용된다.These photopolymerization initiators are used alone or in combination with 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, respectively.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 조제를 함유할 수 있다. 광중합 개시 조제는 광중합 개시제와 조합하여 사용되며, 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해 사용되는 화합물이다. 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 아민계 광중합 개시 조제, 알콕시안트라센계 광중합 개시 조제 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can contain a photoinitiation start adjuvant. A photoinitiator adjuvant is a compound used in combination with a photoinitiator, and is used in order to accelerate superposition | polymerization of the photopolymerizable compound in which superposition | polymerization was started by a photoinitiator. As photopolymerization start adjuvant, an amine photoinitiation start adjuvant, an alkoxy anthracene type photoinitiation start adjuvant, etc. are mentioned, for example.
아민계 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭, 미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the amine photopolymerization initiation aid include triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylbenzoic acid. Aminoethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (collectively, Michler's Ketone), 4,4'-bis (di Ethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, and the like.
알콕시안트라센계 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.As an alkoxy anthracene type photoinitiator, it is 9,10- dimethoxy anthracene, 2-ethyl-9,10- dimethoxy anthracene, 9,10- diethoxy anthracene, 2-ethyl-9, 10- diethoxy, for example. Anthracene and the like.
광중합 개시 조제로서는 시판 중인 것이 사용될 수 있으며, 시판 중인 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면, 상품명 「EAB-F」[제조원: 호도카야가가쿠고교가부시키가이샤] 등을 들 수 있다.Commercially available ones can be used as the photopolymerization initiation assistant, and commercially available photopolymerization initiation assistants include, for example, the trade name "EAB-F" (manufacturer: Hodogaya Chemical Co., Ltd.).
이러한 광중합 개시 조제를 사용하는 경우, 이의 사용량은, 광중합 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01몰 이상 5몰 이하이다. 광중합 개시제 및 광중합 개시 조제의 사용량은, 이의 합계량이 결합제 중합체와 광중합성 화합물과의 합계량 100질량부에 대하여 통상적으로 3질량부 이상 30질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이상 25질량부 이하인 양이다.When using such a photoinitiator, the usage-amount thereof is 10 mol or less normally, Preferably it is 0.01 mol or more and 5 mol or less per mole of a photoinitiator. As for the usage-amount of a photoinitiator and a photoinitiator, the amount whose total amount is 3 mass parts or more and 30 mass parts or less normally with respect to 100 mass parts of total amounts of a binder polymer and a photopolymerizable compound, Preferably it is 5 mass parts or more and 25 mass parts or less to be.
에폭시 화합물(E)은, 예를 들면, 현상 후의 착색 패턴의 가열 처리시 결합제 중합체를 가교시킬 수 있는 에폭시 화합물을 들 수 있다. 또한, 가열됨으로써 단독으로 중합할 수 있는 에폭시 화합물이라도 양호하다. 에폭시 화합물은 결합제 중합체를 가교시키거나 그 자체가 중합함으로써 착색 패턴을 경화시킨다. 그 결과, 현상 후의 가열 처리시 착색 패턴으로부터 승화물이 생기지 않는다.As an epoxy compound (E), the epoxy compound which can crosslink a binder polymer at the time of heat processing of the coloring pattern after image development is mentioned, for example. Moreover, the epoxy compound which can superpose | polymerize independently by heating is good. The epoxy compound cures the coloring pattern by crosslinking the binder polymer or polymerizing itself. As a result, a sublimation does not generate | occur | produce from a coloring pattern at the time of the heat processing after image development.
이러한 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지 등의 방향족계 에폭시 수지;As such an epoxy compound, For example, aromatic epoxy resins, such as a bisphenol-A epoxy resin, a hydrogenated bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol F-type epoxy resin, a novolak-type epoxy resin;
지환식 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 수지, 글리시딜아민형 수지, 에폭시화 등의 에폭시 수지;Epoxy resins such as alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, and epoxidation;
상기 에폭시 수지의 브롬화 유도체;Brominated derivatives of the epoxy resins;
지방족 화합물의 에폭시화물, 지환족 화합물의 에폭시화물, 방향족 화합물의 에폭시 화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트를 들 수 있다.Epoxides of aliphatic compounds, Epoxides of alicyclic compounds, Epoxy compounds of aromatic compounds, Epoxides of (co) polymers of butadiene, Epoxides of (co) polymers of isoprene, Glycidyl (meth) acrylates ) Polymer and triglycidyl isocyanurate.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 에폭시 화합물의 함유량은, 결합제 중합체와 광중합성 화합물과의 합계량 100질량부에 대하여, 통상적으로 2질량부 이상, 바람직하게는 4질량부 이상, 보다 바람직하게는 7질량부 이상, 특히 바람직하게는 15질량부 이상이다. 또한, 이러한 함유량은, 결합제 중합체와 광중합성 화합물과의 합계량 100질량부에 대하여, 통상적으로 30질량부 이하, 바람직하게는 25질량부 이하이다. 30질량부를 초과하면, 현상 후의 착색 패턴을 가열할 때에 이의 형상이 붕괴되는 경우가 있다.In the coloring photosensitive resin composition of this invention, content of an epoxy compound is 2 mass parts or more normally, Preferably it is 4 mass parts or more, More preferably, 7 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of a binder polymer and a photopolymerizable compound. Or more, particularly preferably 15 parts by mass or more. Moreover, such content is 30 mass parts or less normally, Preferably it is 25 mass parts or less with respect to 100 mass parts of total amounts of a binder polymer and a photopolymerizable compound. When it exceeds 30 mass parts, when heating the coloring pattern after image development, its shape may collapse.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들면, 안료 분산제를 들 수 있다. 안료 분산제를 함유함으로써, 착색제로서 안료를 사용하는 경우에도 착색 감광성 수지 조성물에 당해 안료를 균일하 게 분산시키는 것이 용이해진다. 이러한 안료 분산제로서는, 예를 들면, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 등의 계면활성제, 폴리에스테르계 고분자 분산제, 아크릴계 고분자 분산제, 폴리우레탄계 고분자 분산제 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 안료 분산제를 사용하는 경우, 이의 사용량은 착색제 1질량부당 통상적으로 0.01질량부 이상, 바람직하게는 0.05질량부 이상이며, 통상적으로 1질량부 이하, 바람직하게는 O.5질량부 이하이다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can contain an additive. As an additive, a pigment dispersant is mentioned, for example. By containing a pigment dispersant, even when using a pigment as a coloring agent, it becomes easy to disperse | distribute the said pigment uniformly to a coloring photosensitive resin composition. Examples of such pigment dispersants include surfactants such as nonionic surfactants, cationic surfactants and anionic surfactants, polyester polymer dispersants, acrylic polymer dispersants, polyurethane polymer dispersants, and the like. Each may be used alone or in combination of two or more. When using a pigment dispersant, its usage-amount is normally 0.01 mass part or more, Preferably it is 0.05 mass part or more, and normally 1 mass part or less, Preferably it is 0.5 mass part or less per 1 mass part of colorants.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 첨가제로서는, 이 외에, 충전제, 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 응집방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화성 화합물 등을 들 수 있다. As an additive contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention, a filler, a high molecular compound, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, an anticoagulant, an organic acid, an organic amino compound, a curable compound, etc. are mentioned.
충전제로서는, 예를 들면, 유리, 알루미나 등을 들 수 있다.As a filler, glass, alumina, etc. are mentioned, for example.
고분자 화합물로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌 글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트를 들 수 있다.As a high molecular compound, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate is mentioned, for example.
밀착 촉진제로서는, 예를 들면, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. Examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 -(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane etc. are mentioned.
산화방지제로서는, 예를 들면, 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등을 들 수 있다.As antioxidant, 2, 2- thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2, 6- di-t- butylphenol, etc. are mentioned, for example.
자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.As a ultraviolet absorber, 2- (3-t- butyl- 5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chloro benzotriazole, alkoxy benzophenone, etc. are mentioned, for example.
응집 방지제로서는, 예를 들면, 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다. As an aggregation inhibitor, sodium polyacrylate etc. are mentioned, for example.
유기산으로서는, 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에테르 아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카복실산류, 옥살산, 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸석신산, 테트라메틸석신산, 사이클로헥산디카복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산 등의 지방족 디카복실산류, 트리카바릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카복실산류, 벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카복실산류, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카복실산류, 트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카복실산류 등을 들 수 있다.Examples of the organic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diether acetic acid, enanthic acid and caprylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, and gluconic acid. Tartaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassyl acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, ita Aliphatic dicarboxylic acids such as cholic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid and mesaconic acid, aliphatic tricarboxylic acids such as tricarbaric acid, aconitic acid and camphoronic acid, benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, melitric acid and mesityl Aromatic polycarboxylic acids such as aromatic monocarboxylic acids such as lenic acid, aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid, pyromellitic acid, and the like. .
유기 아미노 화합물로서는, 예를 들면, n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, 2급-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 사이클로헥실아민, 2-메틸사이클로헥실아민, 3-메틸사이클로헥실아민, 4-메틸사이클로헥실아민 등의 모노(사이클로)알킬아민류; Examples of the organic amino compound include n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, secondary-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, Mono (cyclo) alkylamines such as 4-methylcyclohexylamine;
메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸 n-프로필아민, 에틸 n-프로필아민, 디 n-프로필아민, 디 i-프로필아민, 디 n-부틸아민, 디 i-부틸아민, 디-2급-부틸아민, 디 t-부틸아민, 디 n-펜틸아민, 디 n-헥실아민, 메틸사이클로헥실아민, 에틸사이클로헥실아민, 디사이클로헥실아민 등의 디(사이클로)알킬아민류, 디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸 n-프로필아민, 메틸디 n-프로필아민, 에틸디 n-프로필아민, 트리 n-프로필아민, 트리 i-프로필아민, 트리 n-부틸아민, 트리 i-부틸아민, 트리-2급-부틸아민, 트리 t-부틸아민, 트리 n-펜틸아민, 트리 n-헥실아민, 디메틸사이클로헥실아민, 디에틸사이클로헥실아민, 메틸디사이클로헥실아민, 에틸디사이클로헥실아민, 트리사이클로헥실아민 등의 트리(사이클로)알킬아민류, 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-사이클로헥산올 등의 모노(사이클로)알칸올아민류, 디에탄올아민, 디 n-프로판올아민, 디 i-프로판올아민, 디 n-부탄올아민, 디 i-부탄올아민, 디 n-펜탄올아민, 디 n-헥산올아민, 디(4-사이클로헥산올)아민 등의 디(사이클로)알칸올아민류, 트리에탄올아민, 트리 n-프로판올아민, 트리 i-프로판올아민, 트리 n-부탄올아민, 트리 i-부탄올아민, 트리 n-펜탄올아민, 트리 n-헥산올아민, 트리(4-사이클로헥산올)아민 등의 트리(사이클로)알칸올아민류, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-사이클로헥산디올, 4-아미노-1,3-사이클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노(사이클로)알칸디올류;Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di n-propylamine, di i-propylamine, di n-butylamine, di i-butylamine, di-butyl-butyl Di (cyclo) alkylamines such as amine, dit-butylamine, di n-pentylamine, di n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine, dimethylethylamine, methyldiethyl Amine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldi n-propylamine, ethyldi n-propylamine, tri n-propylamine, tri i-propylamine, tri n-butylamine , Tri i-butylamine, tri-butylamine, tri t-butylamine, tri n-pentylamine, tri n-hexylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, Tri (cyclo) alkylamines, such as ethyldicyclohexylamine and tricyclohexylamine, 2-aminoethane , 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino-1-cyclo Mono (cyclo) alkanolamines such as hexanol, diethanolamine, di n-propanolamine, di i-propanolamine, di n-butanolamine, di i-butanolamine, di n-pentanolamine, di n- Di (cyclo) alkanolamines such as hexanolamine and di (4-cyclohexanol) amine, triethanolamine, tri n-propanolamine, tri i-propanolamine, tri n-butanolamine, tri i-butanolamine, Tri (cyclo) alkanolamines such as tri n-pentanolamine, tri n-hexanolamine, tri (4-cyclohexanol) amine, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1, 3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3 -Dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylami 1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, amino (cyclopropyl), 2-diethylamino-1,3-propanediol alkane diols;
1-아미노사이클로펜타논메탄올, 4-아미노사이클로펜타논메탄올, 1-아미노사이클로헥사논메탄올, 4-아미노사이클로헥사논메탄올, 4-디메틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노사이클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노사이클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노사이클로헥산메탄올 등의 아미노 그룹 함유 사이클로알칸메탄올류, β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소아세트산, 3-아미노이소아세트산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노사이클로프로판카복실산, 1-아미노사이클로헥산카복실산, 4-아미노사이클로헥산카복실산 등의 아미노카복실산류, 아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등의 방향족 아민류, o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등의 아미노벤질알콜류, o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류, m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등의 아미노벤조산류 등을 들 수 있다.1-aminocyclopentanonemethanol, 4-aminocyclopentanonemethanol, 1-aminocyclohexanonemethanol, 4-aminocyclohexanonemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4 Amino group-containing cycloalkanethanols such as dimethylaminocyclohexanemethanol and 4-diethylaminocyclohexanemethanol, β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisoacetic acid, Aminocarboxylic acids such as 3-aminoisoacetic acid, 2-amino valeric acid, 5-amino valeric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid, Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt-butylaniline, 1- Aromatic amines such as propylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, N-dimethylaniline, o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol aminobenzyl alcohols such as p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol and p-diethylaminobenzyl alcohol, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p- Aminophenols such as aminophenols such as diethylaminophenol, m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid.
경화성 화합물로서는, 예를 들면, 카보네이트비스옥세탄, 크실릴렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 사이클로헥산디카복실산비스옥세탄 등의 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the curable compound include oxetane compounds such as carbonate bis oxetane, xylylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bis oxetane.
본 발명의 착색 감광성 조성물은 에폭시 화합물을 개환 중합시킬 수 있는 화합물을 함유할 수 있다. 이러한 화합물은 에폭시 화합물의 에폭시 그룹을 개환시킴으로써 에폭시 화합물을 개환 중합시킨다. 또한, 이러한 화합물은 옥세탄 화합물을 개환 중합시킬 수 있는 화합물이며, 착색 감광성 수지 조성물이 옥세탄 화합물을 함유하는 경우에는 당해 옥세탄 화합물을 개환 중합시킨다. 에폭시 화합물을 개환 중합시킬 수 있는 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카복실산류, 다가 카복실산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive composition of this invention can contain the compound which can ring-open-polymerize an epoxy compound. Such a compound ring-opens-polymerizes an epoxy compound by ring-opening the epoxy group of an epoxy compound. In addition, such a compound is a compound which can ring-open-polymerize an oxetane compound, and when a coloring photosensitive resin composition contains an oxetane compound, the said oxetane compound is ring-opened-polymerized. As a compound which can ring-open-polymerize an epoxy compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, etc. are mentioned, for example.
다가 카복실산류로서는, 예를 들면, 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 등의 방향족 다가 카복실산류;Examples of the polyvalent carboxylic acids include phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4, Aromatic polyhydric carboxylic acids such as 4'-benzophenone tetracarboxylic acid;
석신산, 글루타르산, 아디프산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 지방족 다가 카복실산류;Aliphatic polyvalent carboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid;
헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로이소프탈산, 헥사하이드로테레프탈산, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산, 사이클로펜탄테트라카복실산, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 등의 지환족 다가 카복실산류 등을 들 수 있다.Hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 1 Alicyclic polyhydric carboxylic acids, such as a 2,4, 5- cyclohexane tetracarboxylic acid, etc. are mentioned.
다가 카복실산 무수물류로서는, 예를 들면, 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 2무수물 등의 방향족 다가 카복실산 무수물류;As polyhydric carboxylic anhydride, For example, Aromatic polyhydric carboxylic anhydrides, such as phthalic anhydride, a pyromellitic dianhydride, a trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride;
무수 이타콘산, 무수 석신산, 무수 시트라콘산, 무수 도데세닐석신산, 무수 트리카바릴산, 무수 말레산, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산 2무수물 등의 지방족 다가 카복실산 무수물류;Aliphatic polyvalent carboxylic anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarbaric acid, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
무수 헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,4-사이클로펜탄트리카복실산 무수물, 1,2,4-사이클로헥산트리카복실산 무수물, 사이클로펜탄테트라카복실산 2무수물, 1,2,4,5-사이클로헥산테트라카복실산 2무수물, 무수 하이믹산(5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride), 무수 나진산 등의 지환족 다가 카복실산 무수물류;Hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2, Alicyclic polyhydric carboxylic acid anhydrides such as 4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride and nazinic anhydride;
에틸렌 글리콜 비스트리멜리테이트산, 글리세린트리스트리멜리테이트 무수물 등의 에스테르 그룹 함유 카복실산 무수물류 등을 들 수 있다.Ester group containing carboxylic anhydrides, such as ethylene glycol bistrimellitate acid and glycerin tristrimellitate anhydride, etc. are mentioned.
다가 카복실산 무수물류로서는, 에폭시 수지 경화제로서 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다. 이러한 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명 「아데카하도우너 EH-700」[제조원: 아사히덴카고교가부시키가이샤], 상품명「리카시드 HH」[제조원: 신닛폰이카가부시키가이샤], 상품명 「MH-700」[제조원: 신닛폰이카가부시키가이샤] 등을 들 수 있다.As polyhydric carboxylic acid anhydride, what is marketed as an epoxy resin hardener can be used. As such an epoxy resin hardening | curing agent, For example, brand name "adekaha donor EH-700" [manufacturer: Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.], a brand name "Lika seed HH" [manufacturer: Shin-Nipponika Kabushiki Kaisha], A brand name "MH-700" [manufacturer: Shin-Nippon Chemical Co., Ltd.] etc. are mentioned.
이러한 에폭시 화합물을 개환 중합시킬 수 있는 화합물은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용될 수 있다.Compounds capable of ring-opening polymerization of such epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 통상적으로 용제(F)로 희석된 상태로 제조되며 보존된다. 용제로서는, 통상적인 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 동일한 용제를 사용할 수 있다. 용제로서는, 예를 들면, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 등의 에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르류;The coloring photosensitive resin composition of this invention is manufactured and preserve | saved normally in the state diluted with the solvent (F). As a solvent, the same solvent used for a normal colored photosensitive resin composition can be used. As a solvent, For example, Ethylene glycol monoalkyl ether, such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether;
디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디프로필 에테르 및 디에틸렌 글리콜 디부틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜 디알킬 에테르류;Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether;
메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류;Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate;
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트 및 메톡시펜틸 아세테이트 등의 알킬렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류;Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate;
벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene;
메틸 에틸 케톤, 아세톤, 메틸 아밀 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류;Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone;
에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 사이클로헥산올, 에틸렌 글리콜, 글리세린 등의 알콜류;Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin;
에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트 등의 에스테르류;Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate;
γ-부티로락톤 등의 환형 에스테르류 등을 들 수 있다. 이러한 용제는 각각 단독으로 또는 두 종류 이상을 조합하여 사용될 수 있다. Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more kinds.
용제의 사용량은, 용제로 희석된 상태의 착색 감광성 조성물에서 용제의 함유량이 질량 분율로 통상적으로 50% 이상 90% 이하, 바람직하게는 60% 이상 85% 이 하로 되는 정도이다.The amount of the solvent used is such that the content of the solvent is usually 50% or more and 90% or less, preferably 60% or more and 85% or less by mass fraction in the colored photosensitive composition in the state diluted with the solvent.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면, 착색제(A), 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C), 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D), 에폭시 화합물(E) 및 용제(F)를 혼합하는 방법으로 제조될 수 있다. 혼합할 때, 착색제는 통상적으로 미리 용제와 혼합된 혼합물로서 사용된다. 이러한 혼합물에서 착색제의 함유량은 착색제와 용제와의 합계량 100질량부당 통상적으로 5질량부 이상, 바람직하게는 10질량부 이상이며, 통상적으로 60질량부 이하, 바람직하게는 30질량부 이하이다. 착색제로서 안료를 사용하는 경우에는 통상적으로 안료, 안료 분산제 및 용제와의 혼합물이 사용된다. 혼합물에서 안료 분산제의 함유량은 착색제 1질량부당 통상적으로 O.01질량부 이상, 바람직하게는 0.05질량부 이상이며, 통상적으로 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다. 착색제와 용제와의 혼합물은 결합제 중합체를 함유할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention is a coloring agent (A), a binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), 2-methyl-2- morpholino-1- (4-methylthiophenyl), for example. It can be manufactured by the method of mixing a propane-1-one (D), an epoxy compound (E), and a solvent (F). When mixing, the colorant is usually used as a mixture previously mixed with a solvent. The content of the colorant in such a mixture is usually 5 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, and usually 60 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less per 100 parts by mass of the total amount of the colorant and the solvent. When using a pigment as a coloring agent, a mixture with a pigment, a pigment dispersant, and a solvent is used normally. The content of the pigment dispersant in the mixture is usually 0.01 parts by mass or more, preferably 0.05 parts by mass or more, and usually 1 part by mass or less, preferably 0.5 parts by mass or less per 1 part by mass of the colorant. The mixture of colorant and solvent may contain a binder polymer.
이러한 혼합물을 결합제 중합체(B), 광중합성 화합물(C), 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(D) 및 에폭시 화합물(E)과 혼합함으로써 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 수득할 수 있다.This mixture was prepared with a binder polymer (B), a photopolymerizable compound (C), 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one (D) and an epoxy compound (E). The coloring photosensitive resin composition of this invention can be obtained by mixing.
착색 감광성 수지 조성물이 다른 광중합 개시제를 함유하는 경우나 첨가제를 함유하는 경우, 이들 광중합 개시제 또는 첨가제는 안료와 용제와의 혼합물에 미리 첨가될 수 있으며, 안료와 용제와의 혼합물을 결합제 중합체, 광중합성 화합물, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온 및 에폭시 화합물과 혼합할 때 에 첨가될 수 있다.When the colored photosensitive resin composition contains other photopolymerization initiators or additives, these photopolymerization initiators or additives may be added to the mixture of the pigment and the solvent in advance, and the mixture of the pigment and the solvent may be added to the binder polymer, the photopolymerizable property. Compound, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, and an epoxy compound.
이와 같이 수득되는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 형성하는 데는, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층(4)을 기판(2) 위에 형성하고(도 2a), 당해 층(4)을 노광한 다음(도 2b), 현상하고, 이어서 가열 처리하면 양호하다(도 2c).In order to form a coloring pattern using the coloring photosensitive resin composition of this invention obtained in this way, the layer 4 which consists of a coloring photosensitive resin composition of this invention is formed on the board | substrate 2 (FIG. 2A), and the said layer ( After exposing 4) (FIG. 2B), it is good to develop and then heat-process (FIG. 2C).
기판(2)으로서는, 예를 들면, 유리판, 실리콘 웨이퍼, 플라스틱판 등을 들 수 있다. 기판으로서 실리콘 웨이퍼 등을 사용하는 경우, 당해 실리콘 웨이퍼의 표면에는 전하 결합소자(CCD) 등이 형성될 수 있다.As the board | substrate 2, a glass plate, a silicon wafer, a plastic board, etc. are mentioned, for example. When a silicon wafer or the like is used as the substrate, a charge coupled device (CCD) or the like may be formed on the surface of the silicon wafer.
착색 감광성 수지 조성물로 이루어진 층(4)을 기판(2) 위에 형성하기 위해서는, 예를 들면, 용제로 희석된 상태의 착색 감광성 수지 조성물을 회전 도포법(스핀 피복법) 등의 방법으로 기판(2) 위에 도포한 다음, 용제 등의 휘발 성분을 휘발시키면 양호하다. 휘발 성분을 휘발시키기 위해서는, 도포 후, 가열 건조시키면 양호하다. 가열 건조시의 온도 범위는 통상적으로 40℃ 이상 130℃ 이하이다. 이와 같이 형성되는 착색 감광성 수지 조성물층(4)은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어진 층이며, 휘발 성분을 거의 함유하지 않는다.In order to form the layer 4 made of the colored photosensitive resin composition on the substrate 2, for example, the colored photosensitive resin composition in a diluted state with a solvent may be formed by a method such as a spin coating method (spin coating method). It is good to apply | coat on the) and to volatilize volatile components, such as a solvent. In order to volatilize a volatile component, it is good to heat-dry after application | coating. The temperature range at the time of heat drying is 40 degreeC or more and 130 degrees C or less normally. The coloring photosensitive resin composition layer 4 formed in this way is a layer which consists of solid content of a coloring photosensitive resin composition, and contains little volatile component.
이어서, 착색 감광성 수지 조성물층(4)을 노광시킨다. 노광하기 위해서는, 예를 들면, 광마스크(6)를 개재시켜 광선(5)을 조사하면 양호하다. 광선(5)으로서는, 통상적으로 g선(파장 436nm), i선(파장 365nm) 등의 자외선이 사용된다. 광마스크(6)는, 예를 들면, 유리판(61) 등의 표면에 광선을 차폐하는 차광층(62)이 설치되며, 광선(5)은 당해 차광층(62)에 의해 차폐된다. 유리판(61)에서 차광층(62)이 설치되어 있지 않은 부분은, 광선(5)이 투과하는 투광부(63)이며, 이러한 투광부(63)의 패턴에 따라 착색 감광성 수지 조성물층(4)이 노광된다. 광선(5)의 조사량은 사용되는 착색제, 결합제 중합체, 광중합성 화합물, 에폭시 화합물의 종류나 함유량, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온의 함유량 등에 따라 적절하게 선택된다.Next, the coloring photosensitive resin composition layer 4 is exposed. In order to expose, it is good to irradiate the
노광 후, 현상한다. 현상하기 위해서는, 예를 들면, 노광 후의 착색 감광성 수지 조성물층(4)을 현상액에 침지하면 양호하다. 현상액으로서는, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 사용된다. 현상에 의해 착색 감광성 수지 조성물층(4) 중의 광선 미조사 영역(41)은 제거된다. 이의 한쪽에서 광선 조사 영역(42)은 잔류하여 착색 패턴(3)으로 된다. 현상 후, 통상적으로 수세 및 건조가 실시된다.After exposure, it develops. In order to develop, it is good to immerse the coloring photosensitive resin composition layer 4 after exposure in a developing solution, for example. As a developing solution, the aqueous solution of alkaline compounds, such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, is used, for example. By the image development, the light non-irradiation area | region 41 in the coloring photosensitive resin composition layer 4 is removed. On one side thereof, the light irradiation region 42 remains to form the colored pattern 3. After image development, water washing and drying are normally performed.
현상하고 건조시킨 다음, 이어서 가열 처리한다. 가열 처리함으로써 착색 패턴(5)이 경화되어 이의 기계적 강도가 향상된다. 가열 처리시의 가열 온도는 통상적으로 180℃ 이상, 바람직하게는 200℃ 이상이며, 통상적으로 250℃ 이하이다. 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 이러한 가열 처리시 승화물의 발생이 적으므로, 클린 룸이 승화물에 의해 오염되는 경우가 거의 없다.Develop and dry, then heat treatment. By heat-processing, the
이와 같이 목적하는 착색 패턴(3)을 형성하지만, 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 착색제(A)의 색을 변경하여 위와 동일하게 하여 기판(2) 위에 착색 감광성 수지 조성물층(4')을 다시 형성하며(도 3a), 당해 층(4')을 노광한 후(도 3b), 현상한 다음, 가열 처리함으로써 착색 패턴(3')을 또한 형성할 수 있다(도 3c). 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 착색제의 색을 변경하면서 상기 조작을 반복 실시함으로써, 착색 패턴(3")을 또한 형성할 수 있으며(도 4), 목적하는 칼라 필터(1)를 제조할 수 있다.Thus, although the desired coloring pattern 3 is formed, the coloring photosensitive resin composition layer 4 'is again formed on the board | substrate 2 by changing the color of the coloring agent (A) contained in a coloring photosensitive resin composition, and making it the same as the above. 3A, the layer 4 'is exposed (FIG. 3B), and then developed and then heat treated to form a colored pattern 3' (FIG. 3C). By repeating the above operation while changing the color of the colorant contained in the colored photosensitive resin composition, the colored pattern 3 ″ can also be formed (FIG. 4), and the desired color filter 1 can be produced.
이렇게 수득된 칼라 필터(1)는 착색 패턴(3, 3' 및 3")으로 이루어진다.The color filter 1 thus obtained consists of colored patterns 3, 3 'and 3 ".
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 이를 사용하여 착색 패턴을 형성할 때, 현상 후의 착색 패턴을 가열해도 승화물의 발생이 적으므로, 클린 룸내 등을 오염시키는 경우가 없다.
When the coloring photosensitive resin composition of this invention forms a coloring pattern using this, even if it heats the coloring pattern after image development, there is little generation | occurrence | production of a sublimation, and therefore, it does not pollute a clean room etc ..
실시예Example
다음에, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명이 이러한 실시예에 의해 한정되는 것이 아니다.
Next, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by this Example.
실시예 1 Example 1
[착색 감광성 수지 조성물의 제조] [Production of Colored Photosensitive Resin Composition]
(A) C.I. 피그먼트 블루 15:6(1.030질량부),(A) C.I. Pigment Blue 15: 6 (1.030 parts by mass),
(A) C.I. 피그먼트 바이올렛 23(0.016질량부),(A) C.I. Pigment violet 23 (0.016 parts by mass),
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트와의 공중합체[메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질 질량비(몰비)로 3:7, 중량 평균 분자량(Mw)은 25000](0.757질량부), (B) Copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate [The composition ratio of the methacrylic acid unit and the benzyl methacrylate unit is 3: 7 by mass mass ratio (molar ratio), and the weight average molecular weight (Mw) is 25000] (0.757 mass part),
(C) 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(「KAYARAD DPHA」, 제조원: 니혼가야쿠사)(0.757질량부),(C) dipentaerythritol hexaacrylate (`` KAYARAD DPHA '', manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.) (0.757 parts by mass),
(D) 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(0.182질량부), (D) 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one (0.182 parts by mass),
(D2) 2,4-디에틸티오크산톤(「KAYACURE DETX」, 제조원: 니혼가야쿠사)(0.091질량부),(D2) 2,4-diethyl thioxanthone (`` KAYACURE DETX '', Nippon Kayaku Co., Ltd.) (0.091 parts by mass),
(E) 에폭시 화합물[오르토크레졸노볼락형 에폭시 수지, 「스미에폭시 ESCN-195 XL-80」(제조원: 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤)](0.151질량부)(E) Epoxy compound [ortho cresol novolak-type epoxy resin, "Sumiepoxy ESCN-195 XL-80" (manufacturer: Sumitomo Kagaku Kogyo Kushiki Kaisha)] (0.151 mass part)
비이온계 계면활성제(0.314질량부) 및 Nonionic surfactant (0.314 parts by mass) and
(F) 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(약 11.7질량부)를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물(청색)을 수득한다.
(F) Propylene glycol monomethyl ether acetate (about 11.7 parts by mass) is mixed to obtain a colored photosensitive resin composition (blue).
[착색층의 형성] [Formation of colored layer]
유리 기판(제조원: 코닝사, 「#7059」)(2)의 표면에 위에서 수득한 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 피복법으로 도포한 다음, 100℃에서 3분 동안으로 휘발 성분을 휘발시켜 착색 감광성 수지 조성물층(4)을 형성한다(도 5a). 냉각시킨 후, 이러한 착색 감광성 수지 조성물층(4)에 광마스크를 개재시키지 않고 전체면에 걸쳐 i선[파장 365nm]을 조사한다(도 5b). i선의 광원에는 초고압 수은 램프를 사용하며, 조사 광원은 15OmJ/cm2로 한다. 이어서, 현상액(질량 분율로 수산화칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌설폰산나트륨을 0.2% 각각 함유하는 수용액)에 침지시켜 현상하고, 순수로 세정한 다음, 유리 기판의 전체면에 걸쳐 형성된 청색의 착색층(30)을 수득한다(도 5c).After apply | coating the coloring photosensitive resin composition obtained above to the surface of a glass substrate (manufacturer: Corning Corporation, "# 7059") (2) by a spin coating method, volatilizing a volatile component for 3 minutes at 100 degreeC, and coloring coloring photosensitive resin composition. Layer 4 is formed (FIG. 5A). After cooling, this colored photosensitive resin composition layer 4 is irradiated with i-line (wavelength 365nm) over the whole surface without interposing a photomask (FIG. 5B). An ultrahigh pressure mercury lamp is used for the light source of i line | wire, and an irradiation light source shall be 15OmJ / cm <2> . Subsequently, the solution was immersed in a developing solution (aqueous solution containing 0.05% potassium hydroxide and 0.2% sodium butylnaphthalenesulfonate in mass fractions), developed, washed with pure water, and then a blue colored layer formed over the entire surface of the glass substrate. 30 is obtained (FIG. 5C).
[평가] [evaluation]
위에서 형성한 착색층(30)을 유리 기판(2)으로부터 깎아 취하고, 이의 질량(M0)을 23℃에서 측정한다. 이어서, 이를 220℃에서 85분 동안 가열한 다음, 23℃에서 냉각시켜 이의 질량(M1)을 측정한다. 다음 수학식 1로 질량 감소율(△M)을 산출한 바, 0.08이었다.Taken cut of the colored layer 30 is formed on the glass substrate (2), measures the counter mass (M 0) in 23 ℃. It is then heated at 220 ° C. for 85 minutes and then cooled at 23 ° C. to determine its mass (M 1 ). It was 0.08 when the mass reduction rate ((DELTA) M) was computed by following Formula (1).
질량 감소율이 작을수록, 현상 후의 가열시 승화물의 생성이 적음을 나타낸다.
The smaller the mass reduction rate, the less generation of the sublimate upon heating after development.
[착색 패턴의 형성] [Formation of colored pattern]
광마스크(6)를 개재시켜 i선을 조사하는 것을 제외하고는, 위와 동일하게 조작하여 형성되는 착색 패턴(3)은(도 2), 현상 후, 220℃에서 가열 처리해도 질량 감소율이 작으며 승화물이 적다.Except for irradiating i-line through the photomask 6, the coloring pattern 3 formed by operation similar to the above (FIG. 2) has a small mass reduction rate even after heat-processing at 220 degreeC after image development. Less sublimation
실시예 2 Example 2
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트와의 공중합체의 사용량을 0.702질량 부로 하며,(B) the amount of copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is 0.702 parts by mass,
(C) 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 사용량을 0.702질량부로 하며, (C) the use amount of dipentaerythritol hexaacrylate is 0.702 parts by mass,
(D) 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온의 사용량을 0.169질량부로 하며, (D) The amount of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is 0.169 parts by mass,
(D2) 2,4-디에틸티오크산톤의 사용량을 0.084질량부로 하며, (D2) The amount of 2,4-diethyl thioxanthone is made 0.084 parts by mass,
(E) 에폭시 화합물의 사용량을 0.281질량부로 하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 착색 감광성 수지 조성물(청색)을 수득하고 착색층을 형성한다. 이러한 착색층의 질량 감소율은 0.06이다. (E) A colored photosensitive resin composition (blue) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the epoxy compound used was 0.281 parts by mass to form a colored layer. The mass reduction rate of this colored layer is 0.06.
[착색 패턴의 형성] [Formation of colored pattern]
광마스크(6)를 개재시켜 i선을 조사하는 것을 제외하고는, 위와 동일하게 조작하여 형성되는 착색 패턴(3)은(도 2), 현상 후, 220℃에서 가열 처리해도 질량 감소율이 작으며 승화물이 적다.Except for irradiating i-line through the photomask 6, the coloring pattern 3 formed by operation similar to the above (FIG. 2) has a small mass reduction rate even after heat-processing at 220 degreeC after image development. Less sublimation
실시예 3 Example 3
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트와의 공중합체의 사용량을 0.788질량부로 하며, (B) The amount of the copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is 0.788 parts by mass,
(C) 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 사용량을 0.788질량부로 하며, (C) the amount of dipentaerythritol hexaacrylate is 0.788 parts by mass,
(D) 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온의 사용량을 0.189질량부로 하며, (D) The amount of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is 0.189 parts by mass,
(D2) 2,4-디에틸티오크산톤의 사용량을 0.095질량부로 하며, (D2) The amount of 2,4-diethyl thioxanthone is made 0.095 parts by mass,
(E) 에폭시 화합물의 사용량을 0.076질량부로 하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 착색 감광성 수지 조성물(청색)을 수득하며 착색층을 형성한다. 이러한 착색층의 질량 감소율은 0.09이다. (E) A colored photosensitive resin composition (blue) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the epoxy compound used was 0.076 parts by mass to form a colored layer. The mass reduction rate of this colored layer is 0.09.
[착색 패턴의 형성][Formation of colored pattern]
광마스크(6)를 개재시켜 i선을 조사하는 것을 제외하고는, 위와 동일하게 조작하여 형성되는 착색 패턴(3)은(도 2), 현상 후, 220℃에서 가열 처리해도 질량 감소율이 작으며 승화물이 적다. Except for irradiating i-line through the photomask 6, the coloring pattern 3 formed by operation similar to the above (FIG. 2) has a small mass reduction rate even after heat-processing at 220 degreeC after image development. Less sublimation
실시예 4Example 4
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트와의 공중합체의 사용량을 0.801질량부로 하며,(B) the amount of copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate is 0.801 parts by mass,
(C) 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 사용량을 0.801질량부로 하며,(C) the amount of dipentaerythritol hexaacrylate is 0.801 parts by mass,
(D) 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온의 사용량을 0.192질량부로 하며,(D) The amount of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one is 0.192 parts by mass,
(D2) 2,4-디에틸티오크산톤의 사용량을 O.096질량부로 하며,(D2) The amount of 2,4-diethyl thioxanthone is used as 0.196 parts by mass,
(E) 에폭시 화합물의 사용량을 0.048질량부로 하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 착색 감광성 수지 조성물(청색)을 수득하고 착색층을 형성한다. 이러한 착색층의 질량 감소율은 0.10이다.(E) A colored photosensitive resin composition (blue) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the epoxy compound used was 0.048 parts by mass to form a colored layer. The mass reduction rate of this colored layer is 0.10.
[착색 패턴의 형성] [Formation of colored pattern]
광마스크(6)를 개재시켜 i선을 조사하는 것을 제외하고는, 위와 동일하게 조작하여 형성되는 착색 패턴(3)은(도 2), 현상 후, 220℃에서 가열 처리해도 질량 감소율이 작으며 승화물이 적다.Except for irradiating i-line through the photomask 6, the coloring pattern 3 formed by operation similar to the above (FIG. 2) has a small mass reduction rate even after heat-processing at 220 degreeC after image development. Less sublimation
실시예 1 내지 실시예 4의 결과를 표 1에 정리하였다.The results of Examples 1 to 4 are summarized in Table 1.
실시예 5 Example 5
[착색 감광성 수지 조성물의 제조] [Production of Colored Photosensitive Resin Composition]
(A) C.I. 피그먼트 그린 36(2.295질량부),(A) C.I. Pigment green 36 (2.295 mass parts),
(A) C.I. 피그먼트 옐로우 150(1.055질량부),(A) C.I. Pigment Yellow 150 (1.055 parts by mass),
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트와의 공중합체[메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질 질량비(몰비)로 35:65, 중량 평균 분자량(Mw)은 35,000](2.441질량부),(B) Copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate [The composition ratio of the methacrylic acid unit and the benzyl methacrylate unit is 35:65 by mass mass ratio (molar ratio), and the weight average molecular weight (Mw) is 35,000] (2.441 mass part),
(C) 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(「KAYARAD DPHA」, 제조원: 니혼카 야쿠사)(1.464질량부),(C) dipentaerythritol hexaacrylate (`` KAYARAD DPHA '', manufactured by Nihonka Yakusa) (1.464 parts by mass),
(D) 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온(0.586질량부),(D) 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one (0.586 parts by mass),
(D2) 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논[「EAB-F」, 제조원: 호도카야가가쿠고교(주)](0.195질량부),(D2) 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone ("EAB-F", a make: Hodoka Chemical Co., Ltd.) (0.195 mass part),
(E) 에폭시 화합물[오르토크레졸노볼락형 에폭시 수지, 「스미에폭시 ESCN-195 XL-80」(제조원: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤)](0.976질량부)(E) Epoxy compound [orthocresol novolak-type epoxy resin, "Sumi epoxy ESCN-195 XL-80" (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)] (0.976 mass parts)
비이온계 계면활성제(0.988질량부) 및Nonionic surfactant (0.988 parts by mass) and
(F) 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(약 36.5질량부)를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물(녹색)을 수득한다.
(F) Propylene glycol monomethyl ether acetate (about 36.5 parts by mass) is mixed to obtain a colored photosensitive resin composition (green).
[착색층의 형성 및 평가] [Formation and Evaluation of Colored Layer]
실시예 1에서 수득한 착색 감광성 수지 조성물(청색) 대신에, 위에서 수득한 착색 감광성 수지 조성물을 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 조작하여 기판(2) 위에 착색층(30)을 형성한다. 이러한 착색층의 질량 감소율은 0.06이다.Instead of the colored photosensitive resin composition (blue) obtained in Example 1, except that the colored photosensitive resin composition obtained above was used, it carried out similarly to Example 1, and the colored layer 30 on the board | substrate 2 was carried out. Form. The mass reduction rate of this colored layer is 0.06.
[착색 패턴의 형성] [Formation of colored pattern]
광마스크(6)를 개재시켜 i선을 조사하는 것을 제외하고는, 위와 동일하게 조작하여 형성되는 착색 패턴(3)은(도 2), 현상후, 220℃에서 가열 처리해도 질량 감소율이 작으며 승화물이 적다.Except for irradiating i-line through the photomask 6, the coloring pattern 3 formed by the same operation as above (FIG. 2) has a small mass reduction rate even after heat treatment at 220 캜 after development. Less sublimation
비교예 1Comparative Example 1
에폭시 화합물을 사용하지 않는 것을 제외하고는, 실시예 5와 동일하게 조작하여 착색 감광성 수지 조성물(녹색)을 수득하고 착색층을 형성한다. 이러한 착색층의 질량 감소율은 O.14이다.Except not using an epoxy compound, it operated like Example 5 and obtained colored photosensitive resin composition (green) and formed a colored layer. The mass reduction rate of this colored layer is 0.14.
실시예 5와 비교예 1의 결과를 표 2에 정리하였다.The results of Example 5 and Comparative Example 1 are summarized in Table 2.
실시예 1 내지 실시예 5와 비교예 1에서의 질량 감소율과 결합제 중합체(B)와 광중합성 화합물(C)과의 합계 사용량(질량)에 대한 에폭시 화합물(E)의 사용량(질량)의 관계를 도 6에 도시하였다.
The relationship between the mass reduction rate in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 and the amount (mass) of epoxy compound (E) to the total amount (mass) of binder polymer (B) and photopolymerizable compound (C) 6 is shown.
본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제로서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온을 함유하며, 현상 후에 가열해도 승화물의 발생량이 적은 착색 패턴을 부여할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention contains 2-methyl- 2-morpholino- 1- (4-methylthiophenyl) propane- 1-one as a photoinitiator, and coloring with little generation | occurrence | production amount of a sublimation even if it heats after image development You can give a pattern.
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