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KR100875981B1 - Support Spacing Device - Google Patents

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KR100875981B1
KR100875981B1 KR1020070043231A KR20070043231A KR100875981B1 KR 100875981 B1 KR100875981 B1 KR 100875981B1 KR 1020070043231 A KR1020070043231 A KR 1020070043231A KR 20070043231 A KR20070043231 A KR 20070043231A KR 100875981 B1 KR100875981 B1 KR 100875981B1
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gear
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fixing members
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이경식
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(주) 예스티
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Abstract

본 발명은 지지간격 조절장치에 관한 것으로서, 제 1 회전기어와, 상기 제 1 회전기어와 연동되며, 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 상기 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.The present invention relates to a support spacing device, comprising a pair of first and second racks interlocked with a first rotating gear, the first rotating gear and disposed to face each other with the first rotating gear interposed therebetween, And a pair of first and second fixing members coupled to the pair of first and second racks, respectively, and driving means for driving the first rotary gear.

본 발명에 의해, 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있으며, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능할 뿐만 아니라, 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, the support interval can be changed by a simple configuration, and the support interval can be adjusted more precisely and accurately, and the support interval can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels. An adjustment device can be provided.

Description

지지간격 조절장치{SUPPORTING INTERVAL ADJUSTION DEVICE}Support interval adjusting device {SUPPORTING INTERVAL ADJUSTION DEVICE}

도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며,1 is a perspective view showing the front of the support interval adjusting device according to the present invention,

도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며,2 is a perspective view showing the rear of the support interval adjusting device according to the present invention;

도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며,3 is a perspective view illustrating a first rotary gear, first and second racks and first and second fixing members interlocked with the first rotary gear,

도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이며,4 is a perspective view showing the second rotary gear and the third and fourth racks and the third and fourth fixing members engaged thereto;

도 5 는 안착부재를 도시하는 분해사시도이며,5 is an exploded perspective view showing the seating member;

도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.Figure 6 is a perspective view showing a state in which the seating member is installed in the support interval adjusting apparatus according to the present invention to support the wafer.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 제 1 회전기어 12: 제 1 랙10: first rotating gear 12: first rack

13: 제 1 고정부재 14: 제 2 랙13: first fixing member 14: second rack

15: 제 2 고정부재 20: 구동수단15: second fixing member 20: driving means

30: 제 2 회전기어 32: 제 3 랙30: second rotary gear 32: third rack

33: 제 3 고정부재 34: 제 4 랙33: third fixing member 34: fourth rack

35: 제 4 고정부재 40: 제 5 고정부재35: fourth fixing member 40: fifth fixing member

본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 판재를 지지하는 지지간격을 조절할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단순한 구성을 가지면서도 지지간격을 정확하고 정밀하게 조절가능한 지지간격 조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus capable of adjusting a support interval for supporting a plate such as a semiconductor wafer, and more particularly, to a support interval adjustment apparatus capable of accurately and precisely adjusting a support interval while having a simple configuration.

최근 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 소자 역시 비약적으로 발전하고 있다.Recently, with the rapid spread of information media such as computers, semiconductor devices are also rapidly developing.

이러한 반도체 소자의 고집적화가 급속히 진행되고 있는 오늘날의 실정에 비추어, 그 제조 장치가 담당하는 역할은 한층 더 중요시되고 있다.In light of today's rapidly increasing integration of semiconductor devices, the role of the manufacturing apparatus becomes more important.

상기 반도체 소자의 제조장치는, 이러한 시대의 흐름과 더불어 나날이 변화되는 공정 상의 요구를 보다 정확히 반영할 수 있도록 개선되어 왔다.The manufacturing apparatus of the semiconductor device has been improved to more accurately reflect the demands of the process that changes day by day with the flow of the times.

반도체 소자를 제조하기 위해서는 이러한 제조를 위해 실시되는 각 공정 상의 작업들이 청정한 상태에서 정밀하게 수행되어야 할 뿐만 아니라, 상기 소자들을 각 공정간에 정확히 이동시켜야 하는 이송장치 역시 제조 작업에 있어 중요한 요소이다.In order to manufacture a semiconductor device, not only the operations in each process performed for such manufacturing must be precisely performed in a clean state, but also a transfer device that accurately moves the devices between the processes is also an important factor in the manufacturing operation.

이러한 이송장치는 반도체 소자의 제조 기술뿐만 아니라, LCD(Liquid Crystal Display) 제조기술 및 각종 정밀 기계 제조 분야 등에 있어서도 널리 요구되고 있다.Such a transfer device is widely required not only in the manufacturing technology of semiconductor devices but also in the LCD (Liquid Crystal Display) manufacturing technology and various precision machine manufacturing fields.

통상적으로, 웨이퍼는 캐리어의 일종인 카세트(Cassette) 또는 FOUP(Front Opening Unified Pod) 등의 저장용기 내부에 로트(Lot) 단위로 담겨서 보트로 이동되므로, 웨이퍼의 이송을 위한 이송장치가 필수적으로 요구된다.In general, since the wafer is moved into a boat in a lot unit in a storage container such as a cassette or a front opening unified pod (FOUP), which is a kind of carrier, a transfer device for transferring the wafer is essential. do.

이러한 웨이퍼의 이송을 위한 웨이퍼 이송장치는 통상 1 매 내지 5 매의 웨이퍼를 동시에 지지하여 이송시키게 된다.A wafer transfer device for transferring such wafers usually supports 1 to 5 wafers simultaneously and transfers them.

그런데, 상기 웨이퍼 저장용기 내의 저장 공간은 필요에 따라 소정의 간격으로 구획되며, 웨이퍼는 상기 소정 간격으로 구획된 저장 공간 내에 적재 배치되므로, 상기 이송장치의 웨이퍼 지지 간격은 상기 저장공간 내의 간격에 부합되도록 조절되어야 한다.However, since the storage space in the wafer storage container is partitioned at predetermined intervals as necessary, and the wafer is placed in the storage space partitioned at the predetermined interval, the wafer support interval of the transfer device corresponds to the interval in the storage space. Should be adjusted as possible.

그러나, 종래 이러한 웨이퍼 이송장치 내에 포함되는 지지간격 조절장치는 그 기구적인 복잡성으로 인해 제작 및 유지 보수가 어렵고, 또한 부피가 커서 소형화가 어려울 뿐만 아니라 제작 비용의 증가가 수반되는 문제점이 있었다.However, the conventional support gap adjusting device included in such a wafer transfer device has a problem in that it is difficult to manufacture and maintain due to the mechanical complexity thereof, and is also difficult to miniaturize due to its bulkiness and increases in manufacturing cost.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a support spacing device that can change the support spacing by a simple configuration.

본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a support spacing adjusting device capable of adjusting the support spacing more precisely and accurately.

본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a support gap adjusting device which has a compact configuration and can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는, 제 1 회전기어와, 본 제 1 회전기어와 연동되며 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 본 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.In order to achieve the above object, the support spacing adjusting device according to the present invention comprises a pair of first and second rotary gears interlocked with the first rotary gear and disposed to face each other with the first rotary gear interposed therebetween. And a second rack, a pair of first and second fixing members respectively coupled to the pair of first and second racks, and driving means for driving the first rotary gear.

여기서, 상기 지지간격 조절장치는 상기 제 1 회전기어 후방에 배치되는 제 2 회전기어와, 본 제 2 회전기어와 연동되며 상기 제 2 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3, 제 4 랙 및 본 제 3, 제 4 랙과 각각 결합되는 한쌍의 제 3, 제 4 고정부재를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1, 제 2 고정부재와 상기 제 3, 제 4 고정부재는 서로 크로스 배치될 수 있다. Here, the support interval adjusting device is a pair of third and third interlocked with the second rotary gear disposed behind the first rotary gear and the second rotary gear and faced with the second rotary gear interposed therebetween. And a pair of third and fourth fastening members coupled to the fourth rack and the third and fourth racks, respectively, wherein the first and second fastening members and the third and fourth fastening members are arranged to cross each other. Can be.

바람직하게는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함한다.Preferably, the first rotary gear and the second rotary gear include gears of the same module and pitch.

또는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 서로 다른 모듈과 피치의 기어치를 포함할 수도 있다.Alternatively, the first rotary gear and the second rotary gear may include gears of different modules and pitches.

이 경우, 바람직하게는 상기 제 2 회전기어는 상기 제 1 회전기어 기어치의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 2 배 이하의 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함한다.In this case, preferably, the second rotary gear includes a gear tooth having a module and pitch of 1.5 times or more and twice or less with respect to the module and pitch of the first rotary gear gear tooth.

한편, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 중심에는 상기 제 1, 제 2 회전기어와 연동되지 않은 제 5 고정부재가 추가적으로 배치될 수 있다.Meanwhile, a fifth fixing member which is not interlocked with the first and second rotating gears may be additionally disposed at the center of the first, second, third and fourth fixing members.

바람직하게는, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서를 추가적으로 포함할 수 있다.Preferably, it may further include a position sensor for detecting the position of the first, second, third, fourth fixing member.

또한, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정부재에는 반도체 웨이퍼를 안착시키기 위한 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 안착부재들이 각각 설치될 수 있다.In addition, the first, second, third, fourth, and fifth fixing members may be provided with first, second, third, fourth, and fifth mounting members for mounting the semiconductor wafer, respectively.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 지지간격 조절장치를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the support interval adjusting device according to the present invention.

도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며, 도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며, 도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며, 도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이다.1 is a perspective view showing the front of the support interval adjusting apparatus according to the present invention, Figure 2 is a perspective view showing the rear of the support interval adjusting apparatus according to the present invention, Figure 3 is a first rotary gear and the first Fig. 4 is a perspective view showing a first rack, a second rack, and first and second fastening members, and Fig. 4 is a perspective view showing a second rotary gear and third, fourth racks, and third and fourth fastening members engaged therewith.

도 1 내지 4 를 참조하면, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 제 1 회전기어(10)와, 상기 제 1 회전기어(10)와 연동되며 본 제 1 회전기어(10)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과, 본 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과 각각 결합된 한쌍의 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15)와, 상기 제 1 회전기어(10)를 구동하기 위한 구동수단(20)을 포함한다.1 to 4, the support interval adjusting device according to the present invention is interlocked with the first rotary gear 10 and the first rotary gear 10, and faces the first rotary gear 10 therebetween. A pair of first racks 12 and second racks 14 arranged so as to be coupled with the pair of first fixing members 13 respectively coupled to the pair of first racks 12 and second racks 14, And a second fixing member 15 and driving means 20 for driving the first rotary gear 10.

여기서, 상기 지지간격 조절장치는 제 2 회전기어(30)와, 본 제 2 회전기어(30)와 연동되며 상기 제 2 회전기어(30)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3 랙(32), 제 4 랙(34) 및 본 제 3 랙(32), 제 4 랙(34)과 각각 결합되는 한 쌍의 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15), 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)는 서로 크로스 배치된다. Here, the support interval adjusting device is a pair of third rack which is interlocked with the second rotary gear 30, the second rotary gear 30 and disposed to face each other with the second rotary gear 30 therebetween ( 32), the fourth rack 34 and the third rack 32, the fourth rack 34 and a pair of third fixing member 33, the fourth fixing member 35 is further included, respectively, The first fixing member 13, the second fixing member 15, the third fixing member 33, and the fourth fixing member 35 are disposed cross each other.

상기 제 1 회전기어(10)는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치내의 중심부에 배치되며, 본 제 1 회전기어(10)를 중심으로 하여 제 1 랙(12)과 제 2 랙(14)이 서로 대향 배치된다.The first rotary gear 10 is disposed in the center of the support interval adjusting device according to the present invention, the first rack 12 and the second rack 14 are mutually centered around the first rotary gear 10. Are arranged opposite.

상기 제 1 회전기어(10)는 예를 들어 서보 모터(Servo Motor)와 본 서보 모터로부터의 동력을 전달하기 위한 타이밍 벨트 등으로 구성된 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전된다.The first rotary gear 10 is rotated by the power from the drive means 20 composed of, for example, a servo motor and a timing belt for transmitting power from the servo motor.

상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 1 회전기어(10)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 1 랙(12) 및 제 2 랙(14)은 서로 반대 방향으로 이동된다.By the rotation of the first rotary gear 10 rotated by the drive means 20, the first rack 12 and the second rack 14 linked thereto are moved in opposite directions to each other.

즉, 상기 제 1 회전기어(10)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 1 랙(12)은 상방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 하방으로 이동되며, 상기 제 1 회전기어(10)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 1 랙(12)이 하방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 상방으로 이동된다.That is, when the first rotary gear 10 is rotated in the clockwise direction, the first rack 12 is moved upward, the second rack 14 is moved downward, the first rotary gear ( When 10) is rotated counterclockwise, the first rack 12 is moved downward, and the second rack 14 is moved upward.

그리하여, 상기 제 1 회전기어(10)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 1 랙(12)에 결합된 제 1 고정부재(13)와 제 2 랙(14)에 결합된 제 2 고정부재(15) 사이의 간격을 조절할 수 있다.Thus, the first fixing member 13 coupled to the first rack 12 and the second rack 14 coupled to each other by the clockwise or counterclockwise rotation of the first rotary gear 10. 2 can adjust the gap between the fixing member (15).

한편, 상기 제 1 회전기어(10)의 후방에는 제 2 회전기어(30)가 배치되며, 상기 제 2 회전기어(30)를 중심으로 하여 제 3 랙(32)과 제 4 랙(34)이 서로 대향 배치된다.Meanwhile, a second rotary gear 30 is disposed at the rear of the first rotary gear 10, and the third rack 32 and the fourth rack 34 are positioned around the second rotary gear 30. They are arranged opposite each other.

상기 제 2 회전기어(30) 역시 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전되는데, 비록 본 상세한 설명에서 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)와 동일한 구동수단(20)에 의해 구동되는 것으로 설명되지만, 별개의 구동수단(미도시)에 의해 구동될 수도 있음은 물론이다.The second rotary gear 30 is also rotated by the power from the drive means 20, although in the present description, the second rotary gear 30 is the same drive means as the first rotary gear 10 ( Although described as being driven by 20, it can of course be driven by a separate drive means (not shown).

상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 2 회전기어(30)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 3 랙(32) 및 제 4 랙(34)은 서로 반대 방향으로 이동된다.By the rotation of the second rotary gear 30 rotated by the drive means 20, the third rack 32 and the fourth rack 34 linked thereto are moved in opposite directions.

즉, 상기 제 2 회전기어(30)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 3 랙(32)은 상방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(34)은 하방으로 이동되며, 상기 제 2 회전기어(30)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 3 랙(32)이 하방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(14)은 상방으로 이동된다.That is, when the second rotary gear 30 is rotated in the clockwise direction, the third rack 32 is moved upward, the fourth rack 34 is moved downward, the second rotary gear ( When 30 is rotated counterclockwise, the third rack 32 is moved downward, and the fourth rack 14 is moved upward.

그리하여, 상기 제 2 회전기어(30)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 3 랙(32)에 결합된 제 3 고정부재(33)와 제 4 랙(34)에 결합된 제 4 고정부재(35) 사이의 간격을 조절할 수 있다.Thus, the third fixing member 33 coupled to the third rack 32 and the fourth rack 34 coupled to each other by the clockwise or counterclockwise rotation of the second rotary gear 30. 4 It is possible to adjust the interval between the fixing member (35).

상기와 같이 상기 제 1 회전기어(10) 후방에 제 2 회전기어(30)가 배치되고, 상기 제 1 회전기어(10)에 연동되는 제 1 고정부재(12)와 제 2 고정부재(14) 및 제 2 회전기어(30)에 연동되는 제 3 고정부재(33)와 제 4 고정부재(35)가 서로 일정한 높이 차이를 가지면서 크로스 배치됨으로써, 보다 좁은 공간 내에 네 개의 고정부재를 배치하면서도 상기 네 개 고정부재 간의 간격을 조정할 수 있는 지지간격 조절장치의 구현이 가능해진다.As described above, the second rotating gear 30 is disposed behind the first rotating gear 10 and the first fixing member 12 and the second fixing member 14 interlocked with the first rotating gear 10. And the third fixing member 33 and the fourth fixing member 35 which are interlocked with the second rotary gear 30 are arranged to cross each other with a predetermined height difference, thereby arranging four fixing members in a narrower space. It is possible to implement a support spacing device that can adjust the spacing between the four fixing members.

여기서, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 동일한 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.Here, the first rotary gear 10 and the second rotary gear 30 may be configured to include a gear tooth having the same module and pitch.

만약, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)가 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함할 경우, 상기 두 회전기어의 소정 각도 회전에 의해 이동되는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 랙(12, 14, 32, 34) 및 이에 결합된 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들은 동일하게 된다.If the first rotary gear 10 and the second rotary gear 30 include gears of the same module and pitch, the first, second, and second moving gears are moved by a predetermined angle of rotation of the two rotary gears. The third, fourth racks 12, 14, 32, and 34 and the first, second, third, and fourth fixing members 13, 15, 33, 35 coupled thereto are identical.

또는, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 다른 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.Alternatively, the first rotary gear 10 and the second rotary gear 30 may be configured to include gear teeth having different modules and pitches.

이 경우에는, 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 3 배 이하의 모듈과 피치를 가지도록 구성되는 것이 바람직한데 그 이유는 다음과 같다.In this case, the second rotary gear 30 is preferably configured to have a module and the pitch of 1.5 times or more and 3 times or less with respect to the module and the pitch of the first rotary gear 10. same.

즉, 상기 제 3 고정부재(33)는 상기 제 2 고정부재(15) 보다 낮은 위치에 배치되며, 상기 제 4 고정부재(35)는 상기 제 1 고정부재(13)보다 높은 위치에 크로스 배치된다.That is, the third fixing member 33 is disposed at a lower position than the second fixing member 15, and the fourth fixing member 35 is disposed at a higher position than the first fixing member 13. .

상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)는 상기 제 1 회전기어(10)의 중심으로부터 동일한 거리만큼 가까워지거나 멀어지는데, 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이로부터 상기 제 1 고정부재(13)까지의 거리와 동일하거나 유사한 거리를 상기 제 1 고정부재(13)와 상기 제 4 고정부재(35) 사이에 유지하도록 하기 위해서는, 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치보다 커야하기 때문이다. The first fixing member 13 and the second fixing member 15 are closer or farther away from each other by the same distance from the center of the first rotary gear 10. In order to maintain a distance equal to or similar to the distance to the first fixing member 13 between the first fixing member 13 and the fourth fixing member 35, the module of the second rotary gear 30 This is because the pitch must be greater than the pitch of the module of the first rotary gear 10.

이 경우, 상기와 같이 제 1 회전기어(10)의 중심 높이를 기준으로 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)까지의 거리와 상기 제 1 고정부재(13) 또는 제 2 고정부재(15)로부터 제 4 고정부재(35) 또는 제 3 고정부재(33)까지의 거리를 동일 또는 유사하게 유지하기 위해서는 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 내지 3 배의 범위로 구성되는 것이 바람직하다.In this case, the distance between the first fixing member 13 and the second fixing member 15 and the first fixing member 13 or the second fixing member 13 based on the center height of the first rotary gear 10 as described above. In order to maintain the same or similar distance from the fixing member 15 to the fourth fixing member 35 or the third fixing member 33, the module and the pitch of the second rotating gear 30 are equal to the first rotating gear. It is preferable to be comprised in the range of 1.5-3 times with respect to the module and pitch of (10).

한편, 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15) 사이의 중심 위치, 즉 대략 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이에는 상기 제 1, 제 2 회전기어(10, 30)와 연동되지 않은 제 5 고정부재(40)가 추가적으로 배치된다.Meanwhile, the first and second rotary gears 10 and 30 are positioned at the center position between the first fixing member 13 and the second fixing member 15, that is, the center height of the first rotating gear 10. The fifth fixing member 40 which is not interlocked with the additionally disposed.

상기 제 5 고정부재(40)는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 중심에 고정 배치되어, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들과 함께 총 5 개의 고정부재를 형성하게 된다.The fifth fixing member 40 is fixedly disposed at the center of the first, second, third, and fourth fixing members 13, 15, 33, and 35, and the first, second, third, and third fixing members 40 are fixed. A total of five fixing members are formed together with the four fixing members 13, 15, 33, and 35.

또한, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서(50)를 추가적으로 포함한다.In addition, the support interval adjusting device according to the present invention further includes a position detecting sensor 50 for detecting the position of the first, second, third, fourth fixing member (13, 15, 33, 35). .

상기 위치감지센서(50)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 소정의 위치에 배치되었는지 여부를 감지하기 위한 것으로서, 예를 들면 발광소자와 수광소자를 포함하는 포토센서로 구성될 수 있으나, 이러한 센서의 종류는 제한적이지 않다.The position detecting sensor 50 is for detecting whether the fixing members 13, 15, 33, and 35 are disposed at a predetermined position. For example, the position detecting sensor 50 includes a photo sensor including a light emitting element and a light receiving element. However, the type of such sensor is not limited.

도 5 는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35, 40)에 각각 설치되는 안착부재(70)를 도시하는 분해사시도이며, 도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.5 is an exploded perspective view showing a seating member 70 installed on the fixing members 13, 15, 33, 35, and 40, respectively, and FIG. 6 is a view illustrating a seating member in a support interval adjusting device according to the present invention. It is a perspective view which shows the state which installed and supported the wafer.

도 5 및 6 을 참조하면, 상기 안착부재(70)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 각각 결합되는 지지부재(72)와 웨이퍼 거치를 위한 거치부재(76), 그리고 본 거치부재(76)를 상기 지지부재(72)에 결합하기 위한 결합부재(74)를 포함한다.5 and 6, the seating member 70 includes a support member 72 coupled to the fixing members 13, 15, 33, and 35, and a mounting member 76 for mounting a wafer. And a coupling member 74 for coupling the mounting member 76 to the support member 72.

상기 지지부재(72)의 일측은 상기 고정부재에 결합되며, 본 지지부재(72)의 타측에는 상기 거치부재(76) 및 결합부재(74)가 결합된다.One side of the support member 72 is coupled to the fixing member, the other side of the support member 72 is coupled to the mounting member 76 and the coupling member 74.

여기서, 상기 거치부재(76)는 상기 지지부재(72)에 결합된 상태에서 수직 방향으로 일렬로 정렬되어야 하는데, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 서로 크로스배치된 상태이므로, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 결합되는 상기 지지부재(72)의 일측(73)은 상기 지지부재(72)의 중심을 기준으로 좌 또는 우 방향으로 치우쳐져 있다. Here, the mounting member 76 is to be aligned in a vertical direction in a state coupled to the support member 72, the four fixing members (13, 15, 33, 35) are cross-positioned with each other Therefore, one side 73 of the support member 72 coupled to the four fixing members 13, 15, 33, and 35 is biased in a left or right direction based on the center of the support member 72. have.

비록, 도 5 에서 상기 안착부재(70)는 단순히 웨이퍼를 거치시킬 수 있는 종류로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 진공에 의해 웨이퍼를 흡착할 수 있도록 구성하는 것 역시 가능하다.Although the seating member 70 is illustrated as a type capable of simply mounting the wafer in FIG. 5, the present invention is not limited thereto, and the seating member 70 may be configured to adsorb the wafer by vacuum.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a support spacing device that can change the support spacing by a simple configuration.

본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a support spacing adjusting device capable of adjusting the support spacing more precisely and accurately.

본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a support gap adjusting device which has a compact configuration and can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels.

Claims (8)

제 1 회전기어와;A first rotary gear; 상기 제 1 회전기어와 연동되며, 상기 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한 쌍의 제 1, 제 2 랙과;A pair of first and second racks interlocked with the first rotary gear and disposed to face each other with the first rotary gear therebetween; 상기 한 쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한 쌍의 제 1, 제 2 고정부재와;A pair of first and second fixing members coupled to the pair of first and second racks, respectively; 상기 제 1 회전기어 후방에 배치되는 제 2 회전기어와;A second rotary gear disposed behind the first rotary gear; 상기 제 2 회전기어와 연동되며, 상기 제 2 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한 쌍의 제 3, 제 4 랙과;A pair of third and fourth racks interlocked with the second rotary gears and disposed to face each other with the second rotary gears interposed therebetween; 상기 한 쌍의 제 3, 제 4 랙과 각각 결합된 한 쌍의 제 3, 제 4 고정부재와; A pair of third and fourth fixing members coupled to the pair of third and fourth racks, respectively; 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단;을 포함하며, Drive means for driving the first rotary gear; 상기 제 1, 제 2 고정부재와 상기 제 3, 제 4 고정부재는 서로 크로스 배치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And the first and second fixing members and the third and fourth fixing members are arranged to cross each other. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And said first rotary gear and said second rotary gear comprise gears of the same module and pitch. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 서로 다른 모듈과 피치의 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And the first rotary gear and the second rotary gear comprise gears of different modules and pitches. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 2 회전기어는 상기 제 1 회전기어 기어치의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 3 배 이하의 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And the second rotary gear includes a gear tooth having a module and a pitch of 1.5 times or more and 3 times or less with respect to the module and pitch of the first rotary gear gear. 제 3 항 또는 4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 중심에는 상기 제 1, 제 2 회전기어와 연동되지 않은 제 5 고정부재가 추가적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And a fifth fixing member which is not interlocked with the first and second rotating gears is disposed at the center of the first, second, third and fourth fixing members. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.And a position detecting sensor for detecting a position of the first, second, third and fourth fixing members. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정부재에는 반도체 웨이퍼를 안착시키 기 위한 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 안착부재들이 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.The first, second, third, fourth, and fifth fixing members are provided with first, second, third, fourth, and fifth mounting members for mounting the semiconductor wafer, respectively. Spacing device.
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