KR100875981B1 - Support Spacing Device - Google Patents
Support Spacing Device Download PDFInfo
- Publication number
- KR100875981B1 KR100875981B1 KR1020070043231A KR20070043231A KR100875981B1 KR 100875981 B1 KR100875981 B1 KR 100875981B1 KR 1020070043231 A KR1020070043231 A KR 1020070043231A KR 20070043231 A KR20070043231 A KR 20070043231A KR 100875981 B1 KR100875981 B1 KR 100875981B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- rotary gear
- pair
- gear
- fixing member
- fixing members
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/22—Devices influencing the relative position or the attitude of articles during transit by conveyors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명은 지지간격 조절장치에 관한 것으로서, 제 1 회전기어와, 상기 제 1 회전기어와 연동되며, 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 상기 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.The present invention relates to a support spacing device, comprising a pair of first and second racks interlocked with a first rotating gear, the first rotating gear and disposed to face each other with the first rotating gear interposed therebetween, And a pair of first and second fixing members coupled to the pair of first and second racks, respectively, and driving means for driving the first rotary gear.
본 발명에 의해, 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있으며, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능할 뿐만 아니라, 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, the support interval can be changed by a simple configuration, and the support interval can be adjusted more precisely and accurately, and the support interval can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels. An adjustment device can be provided.
Description
도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며,1 is a perspective view showing the front of the support interval adjusting device according to the present invention,
도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며,2 is a perspective view showing the rear of the support interval adjusting device according to the present invention;
도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며,3 is a perspective view illustrating a first rotary gear, first and second racks and first and second fixing members interlocked with the first rotary gear,
도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이며,4 is a perspective view showing the second rotary gear and the third and fourth racks and the third and fourth fixing members engaged thereto;
도 5 는 안착부재를 도시하는 분해사시도이며,5 is an exploded perspective view showing the seating member;
도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.Figure 6 is a perspective view showing a state in which the seating member is installed in the support interval adjusting apparatus according to the present invention to support the wafer.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10: 제 1 회전기어 12: 제 1 랙10: first rotating gear 12: first rack
13: 제 1 고정부재 14: 제 2 랙13: first fixing member 14: second rack
15: 제 2 고정부재 20: 구동수단15: second fixing member 20: driving means
30: 제 2 회전기어 32: 제 3 랙30: second rotary gear 32: third rack
33: 제 3 고정부재 34: 제 4 랙33: third fixing member 34: fourth rack
35: 제 4 고정부재 40: 제 5 고정부재35: fourth fixing member 40: fifth fixing member
본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 판재를 지지하는 지지간격을 조절할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단순한 구성을 가지면서도 지지간격을 정확하고 정밀하게 조절가능한 지지간격 조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus capable of adjusting a support interval for supporting a plate such as a semiconductor wafer, and more particularly, to a support interval adjustment apparatus capable of accurately and precisely adjusting a support interval while having a simple configuration.
최근 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 소자 역시 비약적으로 발전하고 있다.Recently, with the rapid spread of information media such as computers, semiconductor devices are also rapidly developing.
이러한 반도체 소자의 고집적화가 급속히 진행되고 있는 오늘날의 실정에 비추어, 그 제조 장치가 담당하는 역할은 한층 더 중요시되고 있다.In light of today's rapidly increasing integration of semiconductor devices, the role of the manufacturing apparatus becomes more important.
상기 반도체 소자의 제조장치는, 이러한 시대의 흐름과 더불어 나날이 변화되는 공정 상의 요구를 보다 정확히 반영할 수 있도록 개선되어 왔다.The manufacturing apparatus of the semiconductor device has been improved to more accurately reflect the demands of the process that changes day by day with the flow of the times.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 이러한 제조를 위해 실시되는 각 공정 상의 작업들이 청정한 상태에서 정밀하게 수행되어야 할 뿐만 아니라, 상기 소자들을 각 공정간에 정확히 이동시켜야 하는 이송장치 역시 제조 작업에 있어 중요한 요소이다.In order to manufacture a semiconductor device, not only the operations in each process performed for such manufacturing must be precisely performed in a clean state, but also a transfer device that accurately moves the devices between the processes is also an important factor in the manufacturing operation.
이러한 이송장치는 반도체 소자의 제조 기술뿐만 아니라, LCD(Liquid Crystal Display) 제조기술 및 각종 정밀 기계 제조 분야 등에 있어서도 널리 요구되고 있다.Such a transfer device is widely required not only in the manufacturing technology of semiconductor devices but also in the LCD (Liquid Crystal Display) manufacturing technology and various precision machine manufacturing fields.
통상적으로, 웨이퍼는 캐리어의 일종인 카세트(Cassette) 또는 FOUP(Front Opening Unified Pod) 등의 저장용기 내부에 로트(Lot) 단위로 담겨서 보트로 이동되므로, 웨이퍼의 이송을 위한 이송장치가 필수적으로 요구된다.In general, since the wafer is moved into a boat in a lot unit in a storage container such as a cassette or a front opening unified pod (FOUP), which is a kind of carrier, a transfer device for transferring the wafer is essential. do.
이러한 웨이퍼의 이송을 위한 웨이퍼 이송장치는 통상 1 매 내지 5 매의 웨이퍼를 동시에 지지하여 이송시키게 된다.A wafer transfer device for transferring such wafers usually supports 1 to 5 wafers simultaneously and transfers them.
그런데, 상기 웨이퍼 저장용기 내의 저장 공간은 필요에 따라 소정의 간격으로 구획되며, 웨이퍼는 상기 소정 간격으로 구획된 저장 공간 내에 적재 배치되므로, 상기 이송장치의 웨이퍼 지지 간격은 상기 저장공간 내의 간격에 부합되도록 조절되어야 한다.However, since the storage space in the wafer storage container is partitioned at predetermined intervals as necessary, and the wafer is placed in the storage space partitioned at the predetermined interval, the wafer support interval of the transfer device corresponds to the interval in the storage space. Should be adjusted as possible.
그러나, 종래 이러한 웨이퍼 이송장치 내에 포함되는 지지간격 조절장치는 그 기구적인 복잡성으로 인해 제작 및 유지 보수가 어렵고, 또한 부피가 커서 소형화가 어려울 뿐만 아니라 제작 비용의 증가가 수반되는 문제점이 있었다.However, the conventional support gap adjusting device included in such a wafer transfer device has a problem in that it is difficult to manufacture and maintain due to the mechanical complexity thereof, and is also difficult to miniaturize due to its bulkiness and increases in manufacturing cost.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a support spacing device that can change the support spacing by a simple configuration.
본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a support spacing adjusting device capable of adjusting the support spacing more precisely and accurately.
본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a support gap adjusting device which has a compact configuration and can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는, 제 1 회전기어와, 본 제 1 회전기어와 연동되며 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 본 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.In order to achieve the above object, the support spacing adjusting device according to the present invention comprises a pair of first and second rotary gears interlocked with the first rotary gear and disposed to face each other with the first rotary gear interposed therebetween. And a second rack, a pair of first and second fixing members respectively coupled to the pair of first and second racks, and driving means for driving the first rotary gear.
여기서, 상기 지지간격 조절장치는 상기 제 1 회전기어 후방에 배치되는 제 2 회전기어와, 본 제 2 회전기어와 연동되며 상기 제 2 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3, 제 4 랙 및 본 제 3, 제 4 랙과 각각 결합되는 한쌍의 제 3, 제 4 고정부재를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1, 제 2 고정부재와 상기 제 3, 제 4 고정부재는 서로 크로스 배치될 수 있다. Here, the support interval adjusting device is a pair of third and third interlocked with the second rotary gear disposed behind the first rotary gear and the second rotary gear and faced with the second rotary gear interposed therebetween. And a pair of third and fourth fastening members coupled to the fourth rack and the third and fourth racks, respectively, wherein the first and second fastening members and the third and fourth fastening members are arranged to cross each other. Can be.
바람직하게는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함한다.Preferably, the first rotary gear and the second rotary gear include gears of the same module and pitch.
또는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 서로 다른 모듈과 피치의 기어치를 포함할 수도 있다.Alternatively, the first rotary gear and the second rotary gear may include gears of different modules and pitches.
이 경우, 바람직하게는 상기 제 2 회전기어는 상기 제 1 회전기어 기어치의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 2 배 이하의 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함한다.In this case, preferably, the second rotary gear includes a gear tooth having a module and pitch of 1.5 times or more and twice or less with respect to the module and pitch of the first rotary gear gear tooth.
한편, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 중심에는 상기 제 1, 제 2 회전기어와 연동되지 않은 제 5 고정부재가 추가적으로 배치될 수 있다.Meanwhile, a fifth fixing member which is not interlocked with the first and second rotating gears may be additionally disposed at the center of the first, second, third and fourth fixing members.
바람직하게는, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서를 추가적으로 포함할 수 있다.Preferably, it may further include a position sensor for detecting the position of the first, second, third, fourth fixing member.
또한, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정부재에는 반도체 웨이퍼를 안착시키기 위한 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 안착부재들이 각각 설치될 수 있다.In addition, the first, second, third, fourth, and fifth fixing members may be provided with first, second, third, fourth, and fifth mounting members for mounting the semiconductor wafer, respectively.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 지지간격 조절장치를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the support interval adjusting device according to the present invention.
도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며, 도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며, 도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며, 도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이다.1 is a perspective view showing the front of the support interval adjusting apparatus according to the present invention, Figure 2 is a perspective view showing the rear of the support interval adjusting apparatus according to the present invention, Figure 3 is a first rotary gear and the first Fig. 4 is a perspective view showing a first rack, a second rack, and first and second fastening members, and Fig. 4 is a perspective view showing a second rotary gear and third, fourth racks, and third and fourth fastening members engaged therewith.
도 1 내지 4 를 참조하면, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 제 1 회전기어(10)와, 상기 제 1 회전기어(10)와 연동되며 본 제 1 회전기어(10)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과, 본 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과 각각 결합된 한쌍의 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15)와, 상기 제 1 회전기어(10)를 구동하기 위한 구동수단(20)을 포함한다.1 to 4, the support interval adjusting device according to the present invention is interlocked with the first
여기서, 상기 지지간격 조절장치는 제 2 회전기어(30)와, 본 제 2 회전기어(30)와 연동되며 상기 제 2 회전기어(30)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3 랙(32), 제 4 랙(34) 및 본 제 3 랙(32), 제 4 랙(34)과 각각 결합되는 한 쌍의 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15), 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)는 서로 크로스 배치된다. Here, the support interval adjusting device is a pair of third rack which is interlocked with the second
상기 제 1 회전기어(10)는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치내의 중심부에 배치되며, 본 제 1 회전기어(10)를 중심으로 하여 제 1 랙(12)과 제 2 랙(14)이 서로 대향 배치된다.The first
상기 제 1 회전기어(10)는 예를 들어 서보 모터(Servo Motor)와 본 서보 모터로부터의 동력을 전달하기 위한 타이밍 벨트 등으로 구성된 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전된다.The first
상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 1 회전기어(10)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 1 랙(12) 및 제 2 랙(14)은 서로 반대 방향으로 이동된다.By the rotation of the first
즉, 상기 제 1 회전기어(10)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 1 랙(12)은 상방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 하방으로 이동되며, 상기 제 1 회전기어(10)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 1 랙(12)이 하방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 상방으로 이동된다.That is, when the first
그리하여, 상기 제 1 회전기어(10)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 1 랙(12)에 결합된 제 1 고정부재(13)와 제 2 랙(14)에 결합된 제 2 고정부재(15) 사이의 간격을 조절할 수 있다.Thus, the
한편, 상기 제 1 회전기어(10)의 후방에는 제 2 회전기어(30)가 배치되며, 상기 제 2 회전기어(30)를 중심으로 하여 제 3 랙(32)과 제 4 랙(34)이 서로 대향 배치된다.Meanwhile, a second
상기 제 2 회전기어(30) 역시 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전되는데, 비록 본 상세한 설명에서 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)와 동일한 구동수단(20)에 의해 구동되는 것으로 설명되지만, 별개의 구동수단(미도시)에 의해 구동될 수도 있음은 물론이다.The second
상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 2 회전기어(30)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 3 랙(32) 및 제 4 랙(34)은 서로 반대 방향으로 이동된다.By the rotation of the second
즉, 상기 제 2 회전기어(30)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 3 랙(32)은 상방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(34)은 하방으로 이동되며, 상기 제 2 회전기어(30)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 3 랙(32)이 하방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(14)은 상방으로 이동된다.That is, when the second
그리하여, 상기 제 2 회전기어(30)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 3 랙(32)에 결합된 제 3 고정부재(33)와 제 4 랙(34)에 결합된 제 4 고정부재(35) 사이의 간격을 조절할 수 있다.Thus, the
상기와 같이 상기 제 1 회전기어(10) 후방에 제 2 회전기어(30)가 배치되고, 상기 제 1 회전기어(10)에 연동되는 제 1 고정부재(12)와 제 2 고정부재(14) 및 제 2 회전기어(30)에 연동되는 제 3 고정부재(33)와 제 4 고정부재(35)가 서로 일정한 높이 차이를 가지면서 크로스 배치됨으로써, 보다 좁은 공간 내에 네 개의 고정부재를 배치하면서도 상기 네 개 고정부재 간의 간격을 조정할 수 있는 지지간격 조절장치의 구현이 가능해진다.As described above, the second rotating
여기서, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 동일한 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.Here, the first
만약, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)가 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함할 경우, 상기 두 회전기어의 소정 각도 회전에 의해 이동되는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 랙(12, 14, 32, 34) 및 이에 결합된 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들은 동일하게 된다.If the first
또는, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 다른 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.Alternatively, the
이 경우에는, 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 3 배 이하의 모듈과 피치를 가지도록 구성되는 것이 바람직한데 그 이유는 다음과 같다.In this case, the
즉, 상기 제 3 고정부재(33)는 상기 제 2 고정부재(15) 보다 낮은 위치에 배치되며, 상기 제 4 고정부재(35)는 상기 제 1 고정부재(13)보다 높은 위치에 크로스 배치된다.That is, the third fixing
상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)는 상기 제 1 회전기어(10)의 중심으로부터 동일한 거리만큼 가까워지거나 멀어지는데, 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이로부터 상기 제 1 고정부재(13)까지의 거리와 동일하거나 유사한 거리를 상기 제 1 고정부재(13)와 상기 제 4 고정부재(35) 사이에 유지하도록 하기 위해서는, 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치보다 커야하기 때문이다. The first fixing
이 경우, 상기와 같이 제 1 회전기어(10)의 중심 높이를 기준으로 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)까지의 거리와 상기 제 1 고정부재(13) 또는 제 2 고정부재(15)로부터 제 4 고정부재(35) 또는 제 3 고정부재(33)까지의 거리를 동일 또는 유사하게 유지하기 위해서는 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 내지 3 배의 범위로 구성되는 것이 바람직하다.In this case, the distance between the first fixing
한편, 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15) 사이의 중심 위치, 즉 대략 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이에는 상기 제 1, 제 2 회전기어(10, 30)와 연동되지 않은 제 5 고정부재(40)가 추가적으로 배치된다.Meanwhile, the first and second rotary gears 10 and 30 are positioned at the center position between the first fixing
상기 제 5 고정부재(40)는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 중심에 고정 배치되어, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들과 함께 총 5 개의 고정부재를 형성하게 된다.The fifth fixing
또한, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서(50)를 추가적으로 포함한다.In addition, the support interval adjusting device according to the present invention further includes a
상기 위치감지센서(50)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 소정의 위치에 배치되었는지 여부를 감지하기 위한 것으로서, 예를 들면 발광소자와 수광소자를 포함하는 포토센서로 구성될 수 있으나, 이러한 센서의 종류는 제한적이지 않다.The
도 5 는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35, 40)에 각각 설치되는 안착부재(70)를 도시하는 분해사시도이며, 도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.5 is an exploded perspective view showing a seating
도 5 및 6 을 참조하면, 상기 안착부재(70)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 각각 결합되는 지지부재(72)와 웨이퍼 거치를 위한 거치부재(76), 그리고 본 거치부재(76)를 상기 지지부재(72)에 결합하기 위한 결합부재(74)를 포함한다.5 and 6, the seating
상기 지지부재(72)의 일측은 상기 고정부재에 결합되며, 본 지지부재(72)의 타측에는 상기 거치부재(76) 및 결합부재(74)가 결합된다.One side of the
여기서, 상기 거치부재(76)는 상기 지지부재(72)에 결합된 상태에서 수직 방향으로 일렬로 정렬되어야 하는데, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 서로 크로스배치된 상태이므로, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 결합되는 상기 지지부재(72)의 일측(73)은 상기 지지부재(72)의 중심을 기준으로 좌 또는 우 방향으로 치우쳐져 있다. Here, the mounting
비록, 도 5 에서 상기 안착부재(70)는 단순히 웨이퍼를 거치시킬 수 있는 종류로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 진공에 의해 웨이퍼를 흡착할 수 있도록 구성하는 것 역시 가능하다.Although the seating
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a support spacing device that can change the support spacing by a simple configuration.
본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a support spacing adjusting device capable of adjusting the support spacing more precisely and accurately.
본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a support gap adjusting device which has a compact configuration and can be widely used not only in the field of manufacturing semiconductor wafers but also in the manufacture of LCD panels.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070043231A KR100875981B1 (en) | 2007-05-03 | 2007-05-03 | Support Spacing Device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070043231A KR100875981B1 (en) | 2007-05-03 | 2007-05-03 | Support Spacing Device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20080097862A KR20080097862A (en) | 2008-11-06 |
| KR100875981B1 true KR100875981B1 (en) | 2008-12-24 |
Family
ID=40285593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020070043231A Expired - Fee Related KR100875981B1 (en) | 2007-05-03 | 2007-05-03 | Support Spacing Device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100875981B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110402651A (en) * | 2019-08-09 | 2019-11-05 | 盐城瑞升齿轮有限公司 | A row-spacing adjustment mechanism for high-speed rice transplanter with adjustable row-spacing |
-
2007
- 2007-05-03 KR KR1020070043231A patent/KR100875981B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20080097862A (en) | 2008-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7377049B2 (en) | Aligning apparatus | |
| US5655871A (en) | Device for transferring plate-like objects | |
| US10795193B2 (en) | Structure of shield cover and display device including the same | |
| US8322542B2 (en) | Cassette for receiving substrates | |
| CN101097879A (en) | Substrate box holding device and storage method thereof | |
| CN101813852A (en) | Liquid crystal display device having a plurality of pixel electrodes | |
| KR100875981B1 (en) | Support Spacing Device | |
| TWI291051B (en) | Display panel having symmetric structure and display device employing the same | |
| US8386064B2 (en) | Control device and control method | |
| CN1717166B (en) | Display device and apparatus | |
| US20050105992A1 (en) | Apparatus of stocking substrates | |
| JP4532404B2 (en) | Cassette and liquid crystal display manufacturing method using the same | |
| JP5098375B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal device | |
| KR101236239B1 (en) | Liquid crystal display device module | |
| CN108572471B (en) | Substrate transferring carrier disc | |
| KR102032751B1 (en) | Tray and deposition system | |
| JPH06252246A (en) | Planar type body conveying equipment | |
| KR20080062805A (en) | Conveying device | |
| KR102387785B1 (en) | Apparatus of Photo Alignment | |
| CN220439583U (en) | Angle adjusting component and detection equipment with same | |
| KR100484017B1 (en) | Loadlock chamber of fpd manufacturing machine | |
| KR20080058615A (en) | Substrate Sensing Device and Substrate Sensing System | |
| KR20250101375A (en) | Micro Led Display manufacturing apparatus | |
| JPH10116879A (en) | Substrate detector | |
| JPH11109340A (en) | Liquid crystal display device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20111220 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20141219 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20141219 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |