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KR100914985B1 - Semiconductor package - Google Patents

Semiconductor package

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KR100914985B1
KR100914985B1 KR1020080008627A KR20080008627A KR100914985B1 KR 100914985 B1 KR100914985 B1 KR 100914985B1 KR 1020080008627 A KR1020080008627 A KR 1020080008627A KR 20080008627 A KR20080008627 A KR 20080008627A KR 100914985 B1 KR100914985 B1 KR 100914985B1
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KR
South Korea
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semiconductor chip
bonding pad
pad
chip
disposed
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김성민
박창준
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주식회사 하이닉스반도체
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Abstract

반도체 패키지가 개시되어 있다. 반도체 패키지는 제1 패드 및 접속 패드를 갖는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 인접하게 배치되며 제2 및 제3 패드들을 갖는 제2 영역을 포함하는 기판, 상기 제2 영역에 배치되며, 계단 형상을 갖는 제1 및 제2 계단부들을 포함하는 칩 선택 블록 및 상기 제1 및 제2 계단부들을 각각 관통하여 상기 제2 및 제3 패드들과 연결된 제1 및 제2 도전 부재들을 포함하는 칩 선택 구조물 및 (i)상기 제1 영역에 배치되며, 상기 제1 패드와 연결된 제1 본딩 패드 및 상기 접속 패드와 연결된 제2 본딩 패드를 갖는 제1 반도체 칩, (ii)상기 제1 반도체 칩 및 상기 제1 계단부 상에 배치되며 상기 제1 본딩 패드와 연결된 제3 본딩 패드 및 상기 제1 도전 부재와 연결된 제4 본딩 패드를 갖는 제2 반도체 칩 및 (iii)상기 제2 반도체 칩 및 상기 제2 계단부 상에 배치되며 상기 제3 본딩 패드와 연결된 제5 본딩 패드 및 상기 제2 도전 부재와 연결된 제6 본딩 패드를 갖는 제3 반도체 칩을 갖는 반도체 칩 구조물을 포함한다.A semiconductor package is disclosed. The semiconductor package is a substrate including a first region having a first pad and a connection pad and a second region adjacent to the first region and having a second and third pads, disposed in the second region, and having a step shape. A chip select block including first and second steps having a first chip and first and second conductive members connected to the second and third pads through the first and second steps, respectively. A first semiconductor chip disposed in the structure and (i) the first region and having a first bonding pad connected to the first pad and a second bonding pad connected to the connection pad, (ii) the first semiconductor chip and the A second semiconductor chip disposed on a first step portion and having a third bonding pad connected to the first bonding pad and a fourth bonding pad connected to the first conductive member; and (iii) the second semiconductor chip and the second bonding pad. The third bonding is disposed on the step portion It includes a semiconductor chip structure having a third semiconductor chip having a bonding pad connected to the sixth and the fifth bonding pad and the second conductive member connected to the node.

Description

반도체 패키지{SEMICONDUCTOR PACKAGE}Semiconductor Package {SEMICONDUCTOR PACKAGE}

본 발명은 반도체 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package.

최근 들어, 반도체 칩 제조 기술의 개발에 따라 방대한 데이터를 저장 및 단시간 내에 보다 많은 데이터를 처리하기에 적합한 반도체 칩 및 반도체 칩을 갖는 다양한 종류의 반도체 패키지들이 개발되고 있다.Recently, with the development of semiconductor chip manufacturing technology, various kinds of semiconductor packages having semiconductor chips and semiconductor chips suitable for storing massive data and processing more data in a short time have been developed.

최근에는 반도체 패키지에 저장되는 데이터의 양 및 반도체 패키지로부터 데이터의 처리 속도를 보다 향상시키기 위하여 복수개의 반도체 칩들을 적층 및 적층 된 복수개의 반도체 칩들을 전기적으로 연결한 적층 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, in order to further improve the amount of data stored in a semiconductor package and the processing speed of data from the semiconductor package, a multilayer semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are stacked and electrically connected to a plurality of stacked semiconductor chips has been developed.

적층 반도체 패키지를 구현하기 위해서는 복수개가 적층 된 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩에 제어 신호, 데이터 신호, 전원 신호, 어드레스 신호를 선택적으로 인가하는 기술을 필요로 하지만, 복수개가 적층 된 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩을 선택하기 위해서 적층 반도체 패키지를 이루는 각 반도체 칩들에 서로 다른 패턴 또는 서로 다른 위치에 관통 전극을 형성해야 하는 문제점을 갖는다.To implement a multilayer semiconductor package, a technology of selectively applying a control signal, a data signal, a power signal, and an address signal to a specific semiconductor chip among a plurality of stacked semiconductor chips is required, but a specific semiconductor chip among a plurality of stacked semiconductor chips is required. In order to select the semiconductor chip, the through electrodes may be formed in different patterns or at different positions in the semiconductor chips constituting the multilayer semiconductor package.

본 발명은 동일한 구조를 갖는 반도체 칩을 복수개 적층 및 적층된 반도체 칩을 선택하여 데이터를 입/출입하기에 적합한 반도체 패키지를 제공한다.The present invention provides a semiconductor package suitable for input / output of data by selecting a plurality of stacked semiconductor chips having the same structure and stacked semiconductor chips.

본 발명에 따른 반도체 패키지는 제1 패드 및 접속 패드를 갖는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 인접하게 배치되며 제2 및 제3 패드들을 갖는 제2 영역을 포함하는 기판, 상기 제2 영역에 배치되며, 계단 형상을 갖는 제1 및 제2 계단부들을 포함하는 칩 선택 블록 및 상기 제1 및 제2 계단부들을 각각 관통하여 상기 제2 및 제3 패드들과 연결된 제1 및 제2 도전 부재들을 포함하는 칩 선택 구조물 및 (i)상기 제1 영역에 배치되며, 상기 제1 패드와 연결된 제1 본딩 패드 및 상기 접속 패드와 연결된 제2 본딩 패드를 갖는 제1 반도체 칩, (ii)상기 제1 반도체 칩 및 상기 제1 계단부 상에 배치되며 상기 제1 본딩 패드와 연결된 제3 본딩 패드 및 상기 제1 도전 부재와 연결된 제4 본딩 패드를 갖는 제2 반도체 칩 및 (iii)상기 제2 반도체 칩 및 상기 제2 계단부 상에 배치되며 상기 제3 본딩 패드와 연결된 제5 본딩 패드 및 상기 제2 도전 부재와 연결된 제6 본딩 패드를 갖는 제3 반도체 칩을 갖는 반도체 칩 구조물을 포함한다.A semiconductor package according to the present invention includes a substrate including a first region having a first pad and a connection pad, and a second region disposed adjacent to the first region and having second and third pads, the second region being disposed in the second region. And a chip select block including first and second stepped portions having a step shape and first and second conductive members connected to the second and third pads through the first and second stepped portions, respectively. And a chip select structure including (i) a first semiconductor chip disposed in the first region and having a first bonding pad connected to the first pad and a second bonding pad connected to the connection pad, and (ii) the first semiconductor chip. A second semiconductor chip having a semiconductor chip and a third bonding pad disposed on the first stepped portion and connected to the first bonding pad and a fourth bonding pad connected to the first conductive member; and (iii) the second semiconductor chip. And on the second staircase And a third semiconductor chip having a fifth bonding pad connected to the third bonding pad and a sixth bonding pad connected to the second conductive member.

반도체 패키지의 상기 제1 반도체 칩은 상기 제1 패드 및 상기 제1 본딩 패드를 연결하는 제1 관통 전극, 상기 제2 본딩 패드 및 상기 접속 패드를 연결하는 제2 관통 전극 및 상기 제1 본딩 패드와 연결된 제1 재배선을 더 포함한다.The first semiconductor chip of the semiconductor package may include a first through electrode connecting the first pad and the first bonding pad, a second through electrode connecting the second bonding pad and the connection pad, and the first bonding pad. It further comprises a connected first redistribution.

반도체 패키지의 상기 제2 반도체 칩은 상기 제1 본딩 패드 및 상기 제3 본딩 패드를 연결하는 제3 관통 전극, 상기 제1 도전 부재 및 상기 제4 본딩 패드를 연결하는 제4 관통 전극 및 상기 제3 본딩 패드와 연결된 제2 재배선을 더 포함한다.The second semiconductor chip of the semiconductor package may include a third through electrode connecting the first bonding pad and the third bonding pad, a fourth through electrode connecting the first conductive member and the fourth bonding pad, and the third bonding chip. The apparatus may further include a second redistribution connected to the bonding pad.

반도체 패키지의 상기 제3 반도체 칩은 상기 제3 본딩 패드 및 상기 제5 본딩 패드를 연결하는 제5 관통 전극, 상기 제2 도전 부재 및 상기 제6 본딩 패드를 연결하는 제6 관통 전극 및 상기 제5 본딩 패드와 연결된 제3 재배선을 더 포함한다.The third semiconductor chip of the semiconductor package may include a fifth through electrode connecting the third bonding pad and the fifth bonding pad, a sixth through electrode connecting the second conductive member and the sixth bonding pad and the fifth bonding pad. The apparatus may further include a third redistribution line connected to the bonding pads.

반도체 패키지의 상기 칩 선택 블록은 세라믹을 포함한다.The chip select block of the semiconductor package includes a ceramic.

반도체 패키지의 상기 제1 내지 제3 패드들은 칩 선택 신호가 인가되는 칩 선택 패드들이다.The first to third pads of the semiconductor package are chip select pads to which a chip select signal is applied.

상기 반도체 패키지는 상기 기판 및 상기 제1 반도체 칩 및 상기 제1 반도체 칩 및 상기 제2 반도체 칩 사이에 개재된 언더필 부재를 더 포함한다.The semiconductor package further includes an underfill member interposed between the substrate, the first semiconductor chip, the first semiconductor chip, and the second semiconductor chip.

본 발명에 의하면, 칩 선택 구조물을 이용하여 복수개가 적층된 동일한 구조를 갖는 반도체 칩들 중 하나를 선택 및 선택된 반도체 칩으로부터 데이터를 입력/출력할 수 있는 효과를 갖는다.According to the present invention, it is possible to select one of the semiconductor chips having the same structure in which a plurality of layers are stacked using a chip select structure and to input / output data from the selected semiconductor chip.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 기판의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the substrate shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 칩 선택 구조물을 도시한 사시도이다.3 is a perspective view illustrating the chip select structure illustrated in FIG. 1.

도 4는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.

도 5는 도 1에 도시된 반도체 칩 구조물의 각 반도체 칩을 도시한 평면도이다.FIG. 5 is a plan view illustrating each semiconductor chip of the semiconductor chip structure illustrated in FIG. 1.

도 6은 도 1의 II-II' 선을 따라 절단한 단면도이다.6 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 1.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. Hereinafter, a semiconductor package according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments, and those skilled in the art will appreciate The present invention may be embodied in various other forms without departing from the spirit of the invention.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 반도체 패키지(500)는 기판(100), 칩 선택 구조물(200) 및 반도체 칩 구조물(300)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the semiconductor package 500 includes a substrate 100, a chip select structure 200, and a semiconductor chip structure 300.

도 2는 도 1에 도시된 기판의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the substrate shown in FIG. 1.

기판(100)은 플레이트 형상을 갖는다. 기판(100)은, 예를 들어, 인쇄회로기판일 수 있다.The substrate 100 has a plate shape. The substrate 100 may be, for example, a printed circuit board.

기판(100)은 제1 영역(first region, FR) 및 제2 영역(second region, SR)을 갖는다. 제1 영역(FR) 및 제2 영역(SR)은 기판(100) 상에 인접하게 배치된다.The substrate 100 has a first region FR and a second region SR. The first region FR and the second region SR are disposed adjacent to the substrate 100.

제1 영역(FR)에는 후술 될 반도체 칩 구조물(300)이 배치된다. 제1 영역(FR)에는 제1 패드(110) 및 접속 패드(120)들이 배치된다.The semiconductor chip structure 300, which will be described later, is disposed in the first region FR. The first pad 110 and the connection pad 120 are disposed in the first region FR.

제2 영역(SR)에는 후술 될 칩 선택 구조물(200)이 배치된다. 제2 영역(SR)에는, 예를 들어, 제2 패드(130) 및 제3 패드(140)가 배치된다.The chip selection structure 200 to be described later is disposed in the second region SR. For example, the second pad 130 and the third pad 140 are disposed in the second region SR.

본 실시예에서, 제2 패드(130) 및 제3 패드(140)는 지정된 간격으로 이격 되고, 제2 패드(130) 및 제3 패드(140)는 도 2에 정의된 제1 방향(FD)과 평행한 방향으로 배치된다.In the present embodiment, the second pad 130 and the third pad 140 are spaced at a specified interval, and the second pad 130 and the third pad 140 are in the first direction FD defined in FIG. 2. Is arranged in a direction parallel to the.

한편, 제1 영역(FR)에 배치된 제1 패드(120)는, 예를 들어, 제2 영역(SR)에 배치된 제2 패드(130)와 인접하게 배치되며, 제1 내지 제3 패드(110,130,140)들은, 예를 들어, 모두 제1 방향(FD)과 평행한 방향으로 배치된다.On the other hand, the first pad 120 disposed in the first region FR is disposed adjacent to the second pad 130 disposed in the second region SR, for example, and the first to third pads. For example, all of the 110, 130, and 140 are disposed in a direction parallel to the first direction FD.

본 실시예에서, 제1 내지 제3 패드(110,130,140)들은 후술 될 반도체 칩 구조물(300)에 포함된 각 반도체 칩들 중 하나를 선택하기 위한 칩 선택 패드들로서 제1 내지 제3 패드(110,130,140)들에는 각각 칩 선택 신호가 인가된다. 본 실시예에서, 제1 내지 제3 패드(110,130,140)들에 인가되는 칩 선택 신호는 동일하거나 서로 다를 수 있다.In the present exemplary embodiment, the first to third pads 110, 130, and 140 are chip select pads for selecting one of the semiconductor chips included in the semiconductor chip structure 300, which will be described later. Each chip select signal is applied. In this embodiment, the chip select signals applied to the first to third pads 110, 130, and 140 may be the same or different.

도 3은 도 1에 도시된 칩 선택 구조물을 도시한 사시도이다. 도 4는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.3 is a perspective view illustrating the chip select structure illustrated in FIG. 1. 4 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.

도 3 및 도 4를 참조하면, 칩 선택 구조물(200)은, 예를 들어, 칩 선택 블록(210), 제1 도전 부재(220) 및 제2 도전 부재(230)를 포함한다. 본 실시예에서, 칩 선택 구조물(200)은 기판(100)의 제2 영역(SR) 상에 배치된다.3 and 4, the chip select structure 200 may include, for example, a chip select block 210, a first conductive member 220, and a second conductive member 230. In the present embodiment, the chip select structure 200 is disposed on the second region SR of the substrate 100.

제2 영역(SR)에 배치된 칩 선택 블록(210)은, 예를 들어, 직육면체 형상을 갖고, 칩 선택 블록(210)은 계단 형상을 갖는 적어도 하나의 계단부(stepped portion; 206)가 형성된다.The chip select block 210 disposed in the second region SR has, for example, a rectangular parallelepiped shape, and the chip select block 210 has at least one stepped portion 206 having a step shape. do.

본 실시예에서, 칩 선택 블록(210)은, 예를 들어, 2 개의 계단부(206)들을 포함한다. 이하, 2 개의 계단부(206)들을 제1 계단부(202) 및 제2 계단부(204)로서 정의하기로 한다. 제2 계단부(204)는 제1 계단부(202)의 상부에 배치된다.In the present embodiment, the chip select block 210 includes two step portions 206, for example. Hereinafter, the two steps 206 will be defined as the first step 202 and the second step 204. The second step portion 204 is disposed above the first step portion 202.

본 실시예에서, 칩 선택 블록(210)은 절연물질을 포함할 수 있다. 칩 선택 블록(210)으로서 사용될 수 있는 절연물질의 예로서는 세라믹을 들 수 있다. 이와 다르게, 칩 선택 블록(210)은 세라믹 이외에 다양한 절연물질을 포함할 수 있다.In this embodiment, the chip select block 210 may include an insulating material. An example of an insulating material that can be used as the chip select block 210 is ceramic. Alternatively, the chip select block 210 may include various insulating materials in addition to the ceramic.

또한, 도 1에 도시된 반도체 패키지(500)의 평면적을 감소시키기 위해서 도 3에 도시된 칩 선택 블록(210)의 폭(W)은 최대한 좁게 형성하는 것이 바람직하다.In addition, in order to reduce the planar area of the semiconductor package 500 illustrated in FIG. 1, the width W of the chip select block 210 illustrated in FIG. 3 may be as narrow as possible.

도 4를 참조하면, 제1 도전 부재(220)는 제1 계단부(202)와 대응하는 위치에 배치된다. 제1 도전 부재(220)는 도전성 막대 형상을 갖고, 제1 도전 부재(220)의 일측 단부는 칩 선택 블록(210)을 관통하여 기판(100)의 제2 영역(SR) 상에 배치된 제2 패드(130)와 전기적으로 접속된다. 본 실시예에서, 제1 도전 부재(220)는 제1 길이를 갖는다.Referring to FIG. 4, the first conductive member 220 is disposed at a position corresponding to the first step portion 202. The first conductive member 220 has a conductive bar shape, and one end of the first conductive member 220 penetrates the chip select block 210 and is disposed on the second region SR of the substrate 100. It is electrically connected with the two pads 130. In the present embodiment, the first conductive member 220 has a first length.

제2 도전 부재(220)는 제2 계단부(204)와 대응하는 위치에 배치된다. 제2 도전 부재(230)는 도전성 막대 형상을 갖고, 제2 도전 부재(230)의 일측 단부는 칩 선택 블록(210)을 관통하여 기판(100)의 제2 영역(SR) 상에 배치된 제3 패드(140)와 전기적으로 접속된다. 본 실시예에서, 제2 도전 부재(230)는 제1 길이보다 긴 제2 길이를 갖는다.The second conductive member 220 is disposed at a position corresponding to the second step portion 204. The second conductive member 230 has a conductive bar shape, and one end of the second conductive member 230 penetrates the chip select block 210 and is disposed on the second region SR of the substrate 100. It is electrically connected with the three pads 140. In the present embodiment, the second conductive member 230 has a second length longer than the first length.

본 실시예에서, 기판(100)과 마주하는 칩 선택 블록(210)의 바닥면 및 상기 기판(100)은 접착 부재(미도시)에 의하여 접착될 수 있다.In the present exemplary embodiment, the bottom surface of the chip select block 210 facing the substrate 100 and the substrate 100 may be bonded by an adhesive member (not shown).

도 5는 도 1에 도시된 반도체 칩 구조물의 각 반도체 칩을 도시한 평면도이다. 도 6은 도 1의 II-II' 선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 5 is a plan view illustrating each semiconductor chip of the semiconductor chip structure illustrated in FIG. 1. 6 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 1.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 반도체 칩 구조물(300)은 제1 반도체 칩(310), 제2 반도체 칩(320) 및 제3 반도체 칩(330)을 포함한다.4 to 6, the semiconductor chip structure 300 includes a first semiconductor chip 310, a second semiconductor chip 320, and a third semiconductor chip 330.

제1 반도체 칩(310)은 기판(100)의 제1 영역(FR) 상에 배치된다. 제1 반도체 칩(310)은 제1 본딩 패드(317), 제1 관통 전극(319), 제2 본딩 패드(311), 제2 관통 전극(313) 및 제1 재배선(315)을 포함한다.The first semiconductor chip 310 is disposed on the first region FR of the substrate 100. The first semiconductor chip 310 includes a first bonding pad 317, a first through electrode 319, a second bonding pad 311, a second through electrode 313, and a first redistribution 315. .

제1 본딩 패드(317)는 제1 반도체 칩(310)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 제1 본딩 패드(317)는 기판(100)의 제1 패드(110)와 대응하는 위치에 배치된다.The first bonding pads 317 are disposed on the top surface of the first semiconductor chip 310. In the present embodiment, the first bonding pads 317 are disposed at positions corresponding to the first pads 110 of the substrate 100.

제1 관통 전극(319)은 제1 반도체 칩(310)의 상기 상면 및 상기 상면과 대향 하는 하면을 관통한다. 따라서, 제1 관통 전극(319)은 기판(100)의 제1 패드(110)와 대응하는 위치에 배치되며, 제1 관통 전극(319)은 제1 패드(110)와 전기적으로 연결된다. 제1 관통 전극(319)으로 사용될 수 있는 금속의 예로서는 구리를 들 수 있다.The first through electrode 319 penetrates through the top surface of the first semiconductor chip 310 and the bottom surface opposite to the top surface. Accordingly, the first through electrode 319 is disposed at a position corresponding to the first pad 110 of the substrate 100, and the first through electrode 319 is electrically connected to the first pad 110. Copper may be used as an example of the metal that may be used as the first through electrode 319.

제2 본딩 패드(311)는, 예를 들어, 제1 반도체 칩(310)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 복수개의 제2 본딩 패드(311)들은 제1 반도체 칩(310)의 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제2 본딩 패드(311)들은 도 5에 도시된 제1 방향(FD)과 실질적으로 수직한 제2 방향(SD)을 따라 배치된다.For example, the second bonding pads 311 are disposed on the top surface of the first semiconductor chip 310. In the present embodiment, the plurality of second bonding pads 311 are disposed along the edge of the first semiconductor chip 310. For example, the second bonding pads 311 are disposed along the second direction SD that is substantially perpendicular to the first direction FD illustrated in FIG. 5.

제2 관통 전극(313)은 각 제2 본딩 패드(311)와 소정 간격 이격 된다. 제2 관통 전극(313)은 제1 반도체 칩(310)의 상기 상면 및 상기 하면을 관통하고, 각 제2 관통 전극(313)은 도 6에 도시된 바와 같이 기판(100)의 각 접속 패드(120)와 전기적으로 접속된다.The second through electrode 313 is spaced apart from each second bonding pad 311 by a predetermined interval. The second through electrode 313 penetrates the upper and lower surfaces of the first semiconductor chip 310, and each second through electrode 313 is connected to each connection pad of the substrate 100 as illustrated in FIG. 6. 120 is electrically connected.

제1 재배선(315)은 제1 반도체 칩(310)의 상면 상에 배치된다. 제1 재배선(315)은 제2 본딩 패드(311) 및 제2 관통 전극(313)을 전기적으로 연결한다.The first redistribution 315 is disposed on the top surface of the first semiconductor chip 310. The first redistribution 315 electrically connects the second bonding pad 311 and the second through electrode 313.

제2 반도체 칩(320)은 제1 반도체 칩(310) 및 칩 선택 구조물(200)의 제1 계단부(202) 상에 배치되고, 이로 인해 제1 반도체 칩(310) 및 제2 반도체 칩(320)은 계단 형상으로 배치된다.The second semiconductor chip 320 is disposed on the first stepped portion 202 of the first semiconductor chip 310 and the chip select structure 200, and thus, the first semiconductor chip 310 and the second semiconductor chip ( 320 is arranged in a step shape.

제2 반도체 칩(320)은 제3 본딩 패드(327), 제3 관통 전극(329), 제4 본딩 패드(321), 제4 관통 전극(323) 및 제2 재배선(325)을 포함한다.The second semiconductor chip 320 includes a third bonding pad 327, a third through electrode 329, a fourth bonding pad 321, a fourth through electrode 323, and a second redistribution 325. .

제3 본딩 패드(327)는 제2 반도체 칩(320)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 제3 본딩 패드(327)는 칩 선택 구조물(200)의 제1 도전 부재(220)와 대응하는 위치에 배치된다.The third bonding pads 327 are disposed on the top surface of the second semiconductor chip 320. In the present embodiment, the third bonding pad 327 is disposed at a position corresponding to the first conductive member 220 of the chip select structure 200.

제3 관통 전극(329)은 제2 반도체 칩(320)의 상기 상면 및 상기 상면과 대향 하는 하면을 관통한다. 따라서, 제3 관통 전극(329)은 칩 선택 구조물(200)의 제1 도전 부재(220)와 전기적으로 연결된다. 제3 관통 전극(329)으로 사용될 수 있는 금속의 예로서는 구리를 들 수 있다.The third through electrode 329 penetrates the upper surface of the second semiconductor chip 320 and the lower surface of the second semiconductor chip 320 that faces the upper surface. Thus, the third through electrode 329 is electrically connected to the first conductive member 220 of the chip select structure 200. Copper may be used as an example of the metal that may be used as the third through electrode 329.

제4 본딩 패드(321)는, 예를 들어, 제2 반도체 칩(320)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 복수개의 제4 본딩 패드(321)들은 제2 반도체 칩(320)의 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제4 본딩 패드(321)들은 도 5에 도시된 제1 방향(FD)과 실질적으로 수직한 제2 방향(SD)을 따라 배치된다.The fourth bonding pads 321 are disposed on, for example, the upper surface of the second semiconductor chip 320. In the present embodiment, the plurality of fourth bonding pads 321 are disposed along the edge of the second semiconductor chip 320. For example, the fourth bonding pads 321 are disposed along the second direction SD that is substantially perpendicular to the first direction FD illustrated in FIG. 5.

제4 관통 전극(323)은 각 제4 본딩 패드(321)와 소정 간격 이격 된다. 제4 관통 전극(323)은 제2 반도체 칩(320)의 상기 상면 및 상기 하면을 관통하고, 각 제4 관통 전극(323)은 제1 반도체 칩(310)의 제1 재배선(315)과 전기적으로 연결된다.The fourth through electrode 323 is spaced apart from each of the fourth bonding pads 321 by a predetermined interval. The fourth through electrode 323 penetrates the upper surface and the lower surface of the second semiconductor chip 320, and each of the fourth through electrodes 323 is connected to the first rewiring 315 of the first semiconductor chip 310. Electrically connected.

제2 재배선(325)은 제2 반도체 칩(320)의 상면 상에 배치된다. 제2 재배선(325)은 제4 본딩 패드(321) 및 제4 관통 전극(323)을 전기적으로 연결한다.The second redistribution 325 is disposed on the top surface of the second semiconductor chip 320. The second redistribution 325 electrically connects the fourth bonding pad 321 and the fourth through electrode 323.

제3 반도체 칩(330)은 제2 반도체 칩(320) 및 칩 선택 구조물(200)의 제2 계단부(204) 상에 배치되고, 이로 인해 제1 내지 제3 반도체 칩(310,320,330)은 계단 형상으로 배치된다.The third semiconductor chip 330 is disposed on the second stepped portion 204 of the second semiconductor chip 320 and the chip select structure 200, so that the first to third semiconductor chips 310, 320, and 330 are stepped. Is placed.

제3 반도체 칩(330)은 제5 본딩 패드(337), 제5 관통 전극(339), 제6 본딩 패드(331), 제6 관통 전극(333) 및 제3 재배선(335)을 포함한다. The third semiconductor chip 330 includes a fifth bonding pad 337, a fifth through electrode 339, a sixth bonding pad 331, a sixth through electrode 333, and a third rewiring 335. .

제5 본딩 패드(337)는 제3 반도체 칩(330)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 제5 본딩 패드(337)는 칩 선택 구조물(200)의 제3 도전 부재(230)와 대응하는 위치에 배치된다.The fifth bonding pads 337 are disposed on the top surface of the third semiconductor chip 330. In the present exemplary embodiment, the fifth bonding pad 337 is disposed at a position corresponding to the third conductive member 230 of the chip select structure 200.

제5 관통 전극(339)은 제3 반도체 칩(330)의 상기 상면 및 상기 상면과 대향 하는 하면을 관통한다. 따라서, 제5 관통 전극(339)은 칩 선택 구조물(200)의 제2 도전 부재(230)와 전기적으로 연결된다. 제5 관통 전극(339)으로 사용될 수 있는 금속의 예로서는 구리를 들 수 있다.The fifth through electrode 339 penetrates through the upper surface of the third semiconductor chip 330 and the lower surface of the third semiconductor chip 330. Thus, the fifth through electrode 339 is electrically connected to the second conductive member 230 of the chip select structure 200. Copper may be used as an example of the metal that can be used as the fifth through electrode 339.

제6 본딩 패드(331)는, 예를 들어, 제3 반도체 칩(330)의 상면 상에 배치된다. 본 실시예에서, 복수개의 제6 본딩 패드(331)들은 제3 반도체 칩(330)의 에지를 따라 배치된다. 예를 들어, 제6 본딩 패드(331)들은 도 5에 도시된 제1 방향(FD)과 실질적으로 수직한 제2 방향(SD)을 따라 배치된다.The sixth bonding pad 331 is disposed on, for example, an upper surface of the third semiconductor chip 330. In the present embodiment, the plurality of sixth bonding pads 331 are disposed along the edge of the third semiconductor chip 330. For example, the sixth bonding pads 331 are disposed along the second direction SD that is substantially perpendicular to the first direction FD illustrated in FIG. 5.

제6 관통 전극(333)은 각 제6 본딩 패드(331)와 소정 간격 이격 된다. 제6 관통 전극(333)은 제3 반도체 칩(330)의 상기 상면 및 상기 하면을 관통하고, 각 제6 관통 전극(333)은 제2 반도체 칩(320)의 제2 재배선(325)과 전기적으로 연결된다.The sixth through electrodes 333 are spaced apart from the sixth bonding pads 331 by a predetermined interval. The sixth through electrode 333 penetrates the upper and lower surfaces of the third semiconductor chip 330, and each sixth through electrode 333 is connected to the second redistribution 325 of the second semiconductor chip 320. Electrically connected.

제3 재배선(325)은 제3 반도체 칩(330)의 상면 상에 배치된다. 제3 재배선(335)은 제6 본딩 패드(331) 및 제6 관통 전극(333)을 전기적으로 연결한다.The third redistribution 325 is disposed on the upper surface of the third semiconductor chip 330. The third redistribution 335 electrically connects the sixth bonding pad 331 and the sixth through electrode 333.

본 실시예에서, 기판(100) 및 제1 반도체 칩(310), 제1 반도체 칩(310) 및 제2 반도체 칩(320)의 사이에는 갭을 갖고, 기판(100) 및 제1 반도체 칩(310), 제1 반도체 칩(310) 및 제2 반도체 칩(320)의 사이에는 언더-필 부재(350)가 개재될 수 있다.In the present embodiment, a gap is formed between the substrate 100 and the first semiconductor chip 310, the first semiconductor chip 310, and the second semiconductor chip 320, and the substrate 100 and the first semiconductor chip ( An under-fill member 350 may be interposed between the 310, the first semiconductor chip 310, and the second semiconductor chip 320.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 기판(100)의 제1 패드(110)를 통해 제1 칩 선택 신호가 인가될 경우, 제1 칩 선택 신호는 제1 반도체 칩(310)의 제1 관통 전극(319)을 통해 제1 반도체 칩(310)으로 인가되고 이로 인해 제1 반도체 칩(310)이 선택되어 제1 반도체 칩(310)으로부터 데이터가 입출력된다.As described above in detail, when the first chip select signal is applied through the first pad 110 of the substrate 100, the first chip select signal may be a first through electrode of the first semiconductor chip 310. The first semiconductor chip 310 is applied to the first semiconductor chip 310 through 319, and thus data is input and output from the first semiconductor chip 310.

또한, 기판(100)의 제2 패드(130)를 통해 제2 칩 선택 신호가 인가될 경우, 제2 칩 선택 신호는 칩 선택 구조물(200)의 제1 도전 부재(220) 및 제2 반도체 칩(320)의 제3 관통 전극(329)을 통해 제2 반도체 칩(320)으로 인가되고 이로 인해 제2 반도체 칩(320)이 선택되어 제2 반도체 칩(320)으로부터 데이터가 입출력된다.In addition, when the second chip select signal is applied through the second pad 130 of the substrate 100, the second chip select signal may be applied to the first conductive member 220 and the second semiconductor chip of the chip select structure 200. The second semiconductor chip 320 is applied to the second semiconductor chip 320 through the third through electrode 329 of the 320, and thus data is input and output from the second semiconductor chip 320.

또한, 기판(100)의 제3 패드(140)를 통해 제3 칩 선택 신호가 인가될 경우, 제3 칩 선택 신호는 칩 선택 구조물(200)의 제2 도전 부재(230) 및 제3 반도체 칩(330)의 제5 관통 전극(339)을 통해 제3 반도체 칩(330)으로 인가되고 이로 인해 제3 반도체 칩(330)이 선택되어 제3 반도체 칩(330)으로부터 데이터가 입출력된다.In addition, when the third chip select signal is applied through the third pad 140 of the substrate 100, the third chip select signal is the second conductive member 230 and the third semiconductor chip of the chip select structure 200. The third semiconductor chip 330 is applied to the third semiconductor chip 330 through the fifth through electrode 339 of 330. Accordingly, the third semiconductor chip 330 is selected to input and output data from the third semiconductor chip 330.

한편, 도 1 내지 도 6에서는 칩 선택 구조물을 이용하여 반도체 칩 모듈의 반도체 칩들 중 어느 하나를 선택하는 기술이 개시되어 있지만, 칩 선택 구조물 없이 도전 핀을 이용하여 제2 패드 및 제2 반도체 칩의 칩 선택용 본딩 패드를 전기적으로 연결 및 도전 핀을 이용하여 제3 패드 및 제3 반도체 칩의 칩 선택용 본딩 패드를 전기적으로 연결하여도 무방하다.Meanwhile, in FIGS. 1 to 6, a technique of selecting any one of the semiconductor chips of the semiconductor chip module using the chip selection structure is disclosed. The chip select bonding pads may be electrically connected to each other, and the chip select bonding pads of the third semiconductor chip may be electrically connected using the conductive pins.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 칩 선택 구조물을 이용하여 복수개가 적층된 동일한 구조를 갖는 반도체 칩들 중 하나를 선택 및 선택된 반도체 칩으로부터 데이터를 입력/출력할 수 있는 효과를 갖는다.As described above in detail, it is possible to select one of the semiconductor chips having the same structure in which a plurality of layers are stacked and to input / output data from the selected semiconductor chip using the chip selection structure.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the present invention described in the claims and It will be appreciated that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the art.

Claims (7)

제1 패드 및 접속 패드를 갖는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 인접하게 배치되며 제2 및 제3 패드들을 갖는 제2 영역을 포함하는 기판;A substrate comprising a first region having a first pad and a connection pad and a second region disposed adjacent to the first region and having second and third pads; 상기 제2 영역에 배치되며, 계단 형상을 갖는 제1 및 제2 계단부들을 포함하는 칩 선택 블록 및 상기 제1 및 제2 계단부들을 각각 관통하여 상기 제1 계단부와 상기 제2 패드를 연결하는 제1 도전 부재, 상기 제2 계단부와 상기 제3 패드를 연결하는 제2 도전 부재를 포함하는 칩 선택 구조물; 및A chip selection block disposed in the second area and including first and second stepped portions having a stepped shape, and through the first and second stepped portions, respectively, to connect the first stepped portion and the second pad. A chip select structure comprising a first conductive member to form a second conductive member connecting the second stepped portion to the third pad; And (i)상기 제1 영역에 배치되며, 상기 제1 패드와 연결된 제1 본딩 패드 및 상기 접속 패드와 연결된 제2 본딩 패드를 갖는 제1 반도체 칩, (ii)상기 제1 반도체 칩 및 상기 제1 계단부 상에 배치되며 상기 제1 본딩 패드와 연결된 제3 본딩 패드 및 상기 제1 도전 부재와 연결된 제4 본딩 패드를 갖는 제2 반도체 칩 및 (iii)상기 제2 반도체 칩 및 상기 제2 계단부 상에 배치되며 상기 제3 본딩 패드와 연결된 제5 본딩 패드 및 상기 제2 도전 부재와 연결된 제6 본딩 패드를 갖는 제3 반도체 칩을 갖는 반도체 칩 구조물을 포함하는 반도체 패키지.(i) a first semiconductor chip disposed in the first region and having a first bonding pad connected to the first pad and a second bonding pad connected to the connection pad, (ii) the first semiconductor chip and the first A second semiconductor chip disposed on the stepped portion and having a third bonding pad connected to the first bonding pad and a fourth bonding pad connected to the first conductive member; and (iii) the second semiconductor chip and the second stepped portion. And a semiconductor chip structure having a third semiconductor chip disposed on and having a fifth bonding pad connected to the third bonding pad and a sixth bonding pad connected to the second conductive member. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 반도체 칩은 상기 제1 패드 및 상기 제1 본딩 패드를 연결하는 제1 관통 전극, 상기 제2 본딩 패드 및 상기 접속 패드를 연결하는 제2 관통 전극 및 상기 제1 본딩 패드와 연결된 제1 재배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The first semiconductor chip may include a first through electrode connecting the first pad and the first bonding pad, a second through electrode connecting the second bonding pad and the connection pad, and a first connection pad connected to the first bonding pad. The semiconductor package further comprises a rewiring. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 반도체 칩은 상기 제1 본딩 패드 및 상기 제3 본딩 패드를 연결하는 제3 관통 전극, 상기 제1 도전 부재 및 상기 제4 본딩 패드를 연결하는 제4 관통 전극 및 상기 제3 본딩 패드와 연결된 제2 재배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The second semiconductor chip may include a third through electrode connecting the first bonding pad and the third bonding pad, a fourth through electrode connecting the first conductive member and the fourth bonding pad, and the third bonding pad. And a second redistribution connected to the semiconductor package. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제3 반도체 칩은 상기 제3 본딩 패드 및 상기 제5 본딩 패드를 연결하는 제5 관통 전극, 상기 제2 도전 부재 및 상기 제6 본딩 패드를 연결하는 제6 관통 전극 및 상기 제5 본딩 패드와 연결된 제3 재배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The third semiconductor chip may include a fifth through electrode connecting the third bonding pad and the fifth bonding pad, a sixth through electrode connecting the second conductive member and the sixth bonding pad, and the fifth bonding pad. And a third redistribution connected to the semiconductor package. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 칩 선택 블록은 세라믹을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The chip selection block comprises a ceramic package. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 내지 제3 패드들은 칩 선택 신호가 인가되는 칩 선택 패드들인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the first to third pads are chip select pads to which a chip select signal is applied. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판 및 상기 제1 반도체 칩 및 상기 제1 반도체 칩 및 상기 제2 반도체 칩 사이에 개재된 언더필 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a underfill member interposed between the substrate, the first semiconductor chip, the first semiconductor chip, and the second semiconductor chip.
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