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KR100935582B1 - Semiconductor memory device with simplified signal wiring - Google Patents

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KR100935582B1
KR100935582B1 KR1020070064598A KR20070064598A KR100935582B1 KR 100935582 B1 KR100935582 B1 KR 100935582B1 KR 1020070064598 A KR1020070064598 A KR 1020070064598A KR 20070064598 A KR20070064598 A KR 20070064598A KR 100935582 B1 KR100935582 B1 KR 100935582B1
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Abstract

센스 앰프 블록 외곽에 설치되는 신호 배선간의 여유도를 확보할 수 있는 간소화된 신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치를 개시한다. 개시된 본 발명은, 하위 비트라인에 신호를 전달하는 제 1 신호전달부, 및 상위 비트라인에 신호를 전달하는 제 2 신호전달부를 포함하는 센스 앰프 블록을 포함한다. 상기 센스앰프의 외곽에 소정의 신호가 제공되는 단일의 비트라인 선택신호 배선이 배치되며, 상기 단일의 비트라인 선택신호 배선과 상기 센스 앰프 사이에 위상이 상이한 한 쌍의 비트라인 선택신호를 상기 제 1 신호전달부 및 제 2 신호전달부 각각에 제공하는 신호 분기 유닛이 연결된다.

Figure R1020070064598

센스앰프, 배선, 배선 피치, 비트라인 선택신호(BISL,BISH)

Disclosed are a semiconductor memory device having a simplified signal line that can secure a margin between signal lines provided outside the sense amplifier block. The disclosed invention includes a sense amplifier block comprising a first signal transfer unit for transmitting a signal to a lower bit line, and a second signal transfer unit for transferring a signal to a higher bit line. A single bit line select signal line for providing a predetermined signal is disposed outside the sense amplifier, and a pair of bit line select signals having a different phase may be formed between the single bit line select signal line and the sense amplifier. Signal branch units provided to each of the first signal transfer unit and the second signal transfer unit are connected.

Figure R1020070064598

Sense Amplifier, Wiring, Wiring Pitch, Bit Line Selection Signal (BISL, BISH)

Description

간소화된 신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치{Semiconductor Memory Apparatus Having Simplified Signal Line}Semiconductor Memory Apparatus Having Simplified Signal Line

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 비트라인 선택신호 배선들을 보여주는 개략도, 1 is a schematic diagram illustrating bit line selection signal wires of a conventional semiconductor memory device;

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 간소화된 비트라인 선택신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치를 개략적으로 보여주는 블록도, 2 is a block diagram schematically illustrating a semiconductor memory device having a simplified bit line selection signal wiring according to an embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 간소화된 비트라인 선택신호 배선이 제공되는 센스 앰프 블록의 상세 회로도, 3 is a detailed circuit diagram of a sense amplifier block provided with simplified bit line selection signal wiring according to an embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 신호 배선 구조가 적용된 반도체 메모리 장치의 뱅크를 보여주는 평면도, 및 4 is a plan view illustrating a bank of a semiconductor memory device to which a signal wiring structure of the semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention is applied;

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 간소화된 비트라인 선택신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이다. FIG. 5 is a block diagram schematically illustrating a semiconductor memory device having a simplified bit line selection signal wire according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 센스 앰프 블록 150 : 신호 분기 유닛100: sense amplifier block 150: signal branch unit

170 : 버퍼 유닛 200 : 매트170: buffer unit 200: mat

210 : 서브워드라인 블록 220 : 서브홀 영역210: subword line block 220: subhole area

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 간소화된 신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a simplified signal wiring.

반도체 메모리 장치 중에서 DRAM(dynamic random access memory) 소자는 센스앰프를 이용하여 메모리 셀에 저장된 데이터를 외부로 출력한다. 센스앰프는 메모리 셀의 비트라인과 연결되어, 비트라인으로 차지 쉐어링(charge sharing)되는 전압 레벨과 비트라인 프리차지 전압을 비교하여 메모리 셀 데이터를 판별한다. 현재, 센스앰프는 2개의 메모리 블록에 연결되어 선택적으로 하나의 메모리 블록내의 메모리 셀들을 센싱한다. Dynamic random access memory (DRAM) devices in a semiconductor memory device output data stored in a memory cell to the outside by using a sense amplifier. The sense amplifier is connected to the bit line of the memory cell to determine memory cell data by comparing a bit level precharge voltage with a voltage level charged and shared by the bit line. Currently, the sense amplifier is connected to two memory blocks to selectively sense memory cells in one memory block.

센스 앰프는 2개의 메모리 블록 중 하나의 메모리 블록을 선택하기 위한 제 1 및 제 2 신호 전달부를 포함한다. 이들 제 1 및 제 2 신호 전달부는 위상이 상이한 비트라인 선택 신호쌍(BISH,BISL)에 의해 선택적으로 구동된다. The sense amplifier includes first and second signal transfers for selecting one of the two memory blocks. These first and second signal transfer sections are selectively driven by bit line select signal pairs BISH and BISL that are out of phase.

이에 대해 보다 자세히 설명하면, 도 1에 도시된 바와 같이, 비트라인 선택신호들(BISL,BISH)은 센스 앰프(10)의 외곽에 배치된 제 1 및 제 2 비트라인 선택신호 배선들(20a,20b)을 통해 센스 앰프(10)에 각각 제공된다. 이때, 제 1 및 제 2 비트라인 선택신호 배선들(20a,20b)와 상기 센스 앰프(10) 사이에 증폭부(30)가 각각 구비되어, 일정 레벨을 갖는 비트라인 선택신호(BISL,BISH)가 센스 앰프(10)에 제공된다. In more detail, as illustrated in FIG. 1, the bit line selection signals BISL and BISH may include the first and second bit line selection signal lines 20a, which are disposed outside the sense amplifier 10. 20b) to the sense amplifiers 10, respectively. In this case, an amplifier 30 is provided between the first and second bit line selection signal lines 20a and 20b and the sense amplifier 10, respectively, and has a predetermined level of bit line selection signals BISL and BISH. Is provided to the sense amplifier 10.

그런데, 알려진 바와 같이, 일반적인 센스 앰프(10)는 적어도 24개 이상의 입력 신호가 필요하며, 이들 입력 신호들은 센스 앰프(10) 외곽에 배치된 신호 배선들을 통해 센스 앰프(10)에 제공되어야 한다. 그러므로, 센스 앰프(10)의 외곽에는 적어도 24개의 신호 배선이 배치되고 있다.However, as is known, the general sense amplifier 10 needs at least 24 input signals, and these input signals should be provided to the sense amplifier 10 through signal wires arranged outside the sense amplifier 10. Therefore, at least 24 signal wires are arranged outside the sense amplifier 10.

더욱이 반도체 메모리 장치의 집적도가 기하급수적으로 감소됨에 따라, 센스 앰프(10)의 외곽 영역 즉, 센스 앰프를 포함하는 매트 사이의 공간부의 면적 역시 감소되고 있는 한편, 신호 배선의 수는 그대로 내지는 늘어나는 추세이므로, 신호 배선들의 선폭 및 간격이 감소되어야 한다. Furthermore, as the integration density of the semiconductor memory device decreases exponentially, the area of the outer area of the sense amplifier 10, that is, the space between the mats including the sense amplifier is also decreasing, while the number of signal wires is increasing or increasing. Therefore, the line width and spacing of the signal wires should be reduced.

이렇게 신호 배선의 선폭 및 간격이 감소되면, 배선 저항이 증대되어 신호 지연시간이 증대되고, 인접 신호 배선과 커플링을 일으킬 수 있다. When the line width and spacing of the signal wires are reduced in this way, the wiring resistance is increased to increase the signal delay time and cause coupling with the adjacent signal wiring.

따라서, 본 발명의 목적은 센스 앰프 외곽에 설치되는 신호 배선간의 여유도를 확보할 수 있는 간소화된 신호 배선을 갖는 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a simplified signal wiring that can secure the margin between signal wirings provided outside the sense amplifier.

상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 반도체 메모리 장치는, 하위 비트라인에 제공될 신호를 입력받는 제 1 신호전달부, 및 상위 비트라인에 제공될 신호를 입력받는 제 2 신호전달부를 포함하는 복수의 센스 앰프 블록; 상기 복수의 센스 앰프 블록들 외곽에 배치되며, 제 1 레벨의 하위 비트라인 신호를 전달하는 단일의 비트라인 선택신호 배선; 및 상기 단일의 비트라인 선택신호 배선으로부터 상기 하위 비트 라인 신호를 전달받아, 상기 제 1 레벨과 반대 위상의 제 2 레벨을 갖는 상위 비트라인 신호를 생성함과 동시에 상기 하위 비트라인 신호를 버퍼링하여, 상기 제 1 신호전달부에 상기 하위 비트라인 신호를 제공하고, 상기 제 2 신호전달부에 상기 상위 비트라인 신호를 제공하도록 구성된 신호 분기 유닛을 포함한다. In order to achieve the above object of the present invention, the semiconductor memory device of the present invention, the first signal transmission unit for receiving a signal to be provided to the lower bit line, and the second signal transmission for receiving a signal to be provided to the upper bit line A plurality of sense amplifier blocks comprising a portion; A single bit line select signal line disposed outside the plurality of sense amplifier blocks and transferring a lower bit line signal of a first level; Receiving the lower bit line signal from the single bit line selection signal line, generating an upper bit line signal having a second level opposite to the first level, and buffering the lower bit line signal, And a signal branch unit configured to provide the lower bit line signal to the first signal transfer unit and to provide the upper bit line signal to the second signal transfer unit.

본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 메모리 장치는 복수의 매트, 상기 각 매트의 가장자리에 설치되는 센스 앰프 블록, 상기 센스 앰프 블록 양측에 위치되는 서브홀 영역을 포함하는 메모리 뱅크; 상기 센스 앰프 블록 외측에 배치되며, 하위 및 상위 비트라인 선택 신호 중 어느 하나를 전달하는 단일의 비트라인 선택신호 배선; 및 상기 비트라인 선택 신호 배선과 상기 센스 앰프 블록 사이에 연결되어, 상기 단일의 비트라인 선택신호 배선으로부터 전달된 신호를 분기시켜, 서로 반대 위상을 갖는 상위 비트라인 선택신호 및 하위 비트라인 선택신호를 생성하고, 이를 상기 센스 앰프 블록에 제공하도록 구성된 비트라인 선택부를 포함하며,상기 비트라인 선택부는 상기 서브홀 영역에 배치된다. A semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention may include a memory bank including a plurality of mats, a sense amplifier block disposed at an edge of each mat, and sub-hole regions located at both sides of the sense amplifier block; A single bit line select signal wire disposed outside the sense amplifier block and transferring any one of a lower bit and an upper bit line select signal; And an upper bit line selection signal and a lower bit line selection signal having opposite phases, by being connected between the bit line selection signal line and the sense amplifier block to branch signals transmitted from the single bit line selection signal line. And a bit line selector configured to generate and provide the same to the sense amplifier block, wherein the bit line selector is disposed in the subhole region.

이하 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 실시예는 센스 앰프 외곽에 배치되는 신호 배선의 수를 감축하여 신호 배선간의 여유도를 확보하기 위한 반도체 메모리 장치를 제공한다. 본 실시예에서는 상위 비트라인 선택신호 배선 및 하위 비트라인 선택신호 배선을 하나의 비트라인 선택신호 배선으로 통합하고, 대신 서브홀 영역에 신호 분기 유닛을 설치한다. 서상기 신호 분기 유닛은 상기 비트라인 선택신호 배선에 제공되는 신호를 반전시켜 센스 앰프에 제공하므로써, 별도의 배선을 요구하지 않게 한다. 이에 따라, 배선이 형성되는 영역에, 하나의 배선이 감소되었으므로, 배선간의 선폭 및 간격을 확보할 수 있을 것이며, 나아가, 배선이 형성되는 영역의 면적을 감소할 수 있을 것이다. 또한 본 실시예에서는 상위 비트라인 선택신호 및 하위 비트라인 선택 신호에 신호 를 제공하는 유닛을 신호 분기 유닛을 비트라인 선택부로 명명할 수 있음은 물론이다. The present embodiment provides a semiconductor memory device for reducing the number of signal wires arranged outside the sense amplifier to secure a margin between the signal wires. In this embodiment, the upper bit line selection signal wiring and the lower bit line selection signal wiring are integrated into one bit line selection signal wiring, and a signal branch unit is provided in the subhole area instead. The signal branch unit inverts the signal provided to the bit line select signal line and provides the sense amplifier to the sense amplifier, thereby eliminating the need for a separate line. Accordingly, since one wiring is reduced in the region where the wiring is formed, line width and spacing between the wirings can be secured, and further, the area of the region where the wiring is formed can be reduced. In addition, in the present exemplary embodiment, a signal branch unit may be referred to as a bit line selection unit as a unit providing a signal to an upper bit line selection signal and a lower bit line selection signal.

이와 같은 반도체 메모리 장치에 대해 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. This semiconductor memory device will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 센스 앰프 블록(100)의 외곽에 단일의 비트라인 선택신호 배선(120)이 배치되고, 센스 앰프 블록(100)과 단일 비트라인 선택신호 배선(120) 사이에 신호 분기 유닛(160)이 구비된다. 본 실시예에서 비트라인 선택신호 배선(120)은 하위 매트의 비트라인을 선택하기 위한 신호(이하, 하위 비트라인 선택 신호)인 BISL 신호가 인가될 수 있다. 이때, 비트라인 선택신호는 외부로부터 제공되는 프로그램된 신호일 수 있다. Referring to FIG. 2, a single bit line selection signal wire 120 is disposed outside the sense amplifier block 100, and a signal branch unit is disposed between the sense amplifier block 100 and the single bit line selection signal wire 120. 160 is provided. In the present embodiment, the bit line selection signal line 120 may be applied with a BISL signal, which is a signal for selecting a bit line of a lower mat (hereinafter, referred to as a lower bit line selection signal). In this case, the bit line selection signal may be a programmed signal provided from the outside.

상기 센스 앰프 블록(100)은 도 3에 도시된 바와 같이, 제 1 이퀄라이징 유닛(110), 프리차지 유닛(120), 증폭 유닛(130), 제 2 이퀄라이징 유닛(140) 및 데이터 전달 유닛(150)으로 구성될 수 있다. As illustrated in FIG. 3, the sense amplifier block 100 includes a first equalizing unit 110, a precharge unit 120, an amplifying unit 130, a second equalizing unit 140, and a data transfer unit 150. It can be composed of).

제 1 이퀄라이징 유닛(110)은 상위 매트(Mat)의 비트라인과 비트라인바(/BL)을 균등화한다. 이러한 제 1 이퀄라이징 유닛(110)은 제 1 NMOS 트랜지스터(N1) 및 제 1 신호전달부(113)로 구성될 수 있다. 제 1 NMOS 트랜지스터(N1)는 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)에 의해 턴온되어 비트라인(BL)과 비트라인 바(/BL)를 연결한다. 제 1 신호전달부(113)는 상위 매트의 비트라인쌍의 데이터를 스위칭시키는 제 2 및 제 3 NMOS 트랜지스터들(N2,N3)를 포함한다. 제 2 NMOS 트랜지스터(N2)는 상위 매트에 위치하는 비트라인을 선택 선택신호(이하, 상위 비트라인 선택신호 :BISH)를 입력받는 게이트, 비트라인(BL)과 연결되는 드레인, 및 프리차징 유닛(120)과 연결되는 소오스로 구성된다. 제 3 MOS 트랜지스터(N3)는 상위 비트라인 선택신호(BISH)를 입력받는 게이트, 비트라인 바(/BL)와 연결되는 드레인, 및 프리차징 유닛(120)과 연결되는 소오스로 구성된다. The first equalizing unit 110 equalizes the bit line of the upper mat and the bit line bar / BL. The first equalizing unit 110 may be composed of a first NMOS transistor N1 and a first signal transfer unit 113. The first NMOS transistor N1 is turned on by the bit line equalizing signal BLEQ to connect the bit line BL and the bit line bar / BL. The first signal transfer unit 113 includes second and third NMOS transistors N2 and N3 for switching data of the bit line pair of the upper mat. The second NMOS transistor N2 may include a gate configured to receive a selection line (hereinafter, referred to as an upper bit line selection signal BISH), a drain connected to the bit line BL, and a precharging unit. 120) is connected to a source. The third MOS transistor N3 includes a gate configured to receive an upper bit line selection signal BISH, a drain connected to the bit line bar / BL, and a source connected to the precharging unit 120.

프리차징 유닛(120)은 비트라인(BL)과 비트라인 바(/BL)사이에 시리즈로 연결되는 제 4 및 제 5 NMOS 트랜지스터들(N4,N5)로 구성된다. 제 4 NMOS 트랜지스터(N4)는 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)를 입력받는 게이트, 비트라인(BL)과 연결된 소오스, 및 제 5 NMOS 트랜지스터(N5)와 연결되는 드레인으로 구성된다. 제 5 NMOS 트랜지스터(N5)는 비트라인 이퀄라이징 신호(BLEQ)를 입력받는 게이트, 제 4 NMOS 트랜지스터와 연결되는 드레인, 및 비트라인바(/BL)와 연결된 소오스로 구성된다. 상기 제 4 NMOS 트랜지스터(N4) 및 제 5 NMOS 트랜지스터(N5)의 접속 노드에서 VBLP 전압이 입력되어, 상기 비트라인(BL) 및 비트라인바(/BL)를 프리차지시킨다. The precharging unit 120 is composed of fourth and fifth NMOS transistors N4 and N5 connected in series between the bit line BL and the bit line bar / BL. The fourth NMOS transistor N4 includes a gate that receives the bit line equalizing signal BLEQ, a source connected to the bit line BL, and a drain connected to the fifth NMOS transistor N5. The fifth NMOS transistor N5 includes a gate receiving the bit line equalizing signal BLEQ, a drain connected to the fourth NMOS transistor, and a source connected to the bit line bar / BL. A VBLP voltage is input at the connection node of the fourth NMOS transistor N4 and the fifth NMOS transistor N5 to precharge the bit line BL and the bit line bar / BL.

감지 증폭 유닛(130)은 센스 앰프(S/A)에서 실질적으로 비트라인들(BL,/BL)간의 전위차를 감지 증폭한다. 감지 증폭 유닛(230)은 래치(latch) 형태로 연결된 한 쌍의 인버터(I11, I12)로 구성된다. 상기 인버터는 잘 알려진 바와 같이 PMOS 트랜지스터(P11,P12) 및 NMOS 트랜지스터(N11,N12)로 구성된 CMOS 인버터이다. The sense amplification unit 130 sense-amplifies the potential difference between the bit lines BL and / BL in the sense amplifier S / A. The sense amplifying unit 230 is composed of a pair of inverters I11 and I12 connected in a latch form. The inverter is a CMOS inverter composed of PMOS transistors P11 and P12 and NMOS transistors N11 and N12 as is well known.

제 2 이퀄라이징 유닛(140)은 하위 매트에 위치하는 비트라인(BL)과 비트라인 바(/BL)를 균등화한다. 이러한 제 2 이퀄라이징 유닛(140)은 실질적으로 하위 매트의 비트라인(BL)과 비트라인바(/BL)를 균등화하는 제 6 NMOS 트랜지스터(N6) 및 제 2 신호전달부(143)로 구성될 수 있다. 제 6 NMOS 트랜지스터(N6)는 제 1 NMOS 트랜지스터(N1)와 마찬가지로 비트라인(BL)과 비트라인바(/BL) 사이에 연결되며, 비트라인 이퀄라이징 신호에 의해 턴온된다. 제 2 신호전달부(143) 역시 제 1 신호전달부(113)와 유사하게 하위 비트라인 선택신호(BISL)에 의해 구동되는 제 7 및 제 8 NMOS 트랜지스터(N7,N8)로 구성된다. The second equalizing unit 140 equalizes the bit line BL and the bit line bar / BL positioned on the lower mat. The second equalizing unit 140 may include a sixth NMOS transistor N6 and a second signal transfer unit 143 that substantially equalize the bit line BL and the bit line bar / BL of the lower mat. have. Like the first NMOS transistor N1, the sixth NMOS transistor N6 is connected between the bit line BL and the bit line bar / BL and is turned on by the bit line equalizing signal. Similarly to the first signal transfer unit 113, the second signal transfer unit 143 includes seventh and eighth NMOS transistors N7 and N8 driven by the lower bit line selection signal BISL.

데이터 전달 유닛(150)은 데이터 출력을 위한 Yi신호 입력시 증폭된 비트라인쌍(BL,/BL)의 신호를 데이터 라인쌍(SIO, /SIO)으로 전달한다. 이러한 데이터 전달 유닛(150)은 제 9 및 제 10 NMOS 트랜지스터(N9,N10)로 구성될 수 있다. 제 9 NMOS 트랜지스터(N9)는 Yi 신호를 입력받는 게이트, 비트라인(BL)과 연결된 드레인, 및 데이터 라인바(/SIO)와 연결되는 소오스로 구성된다. 제 10 NMOS 트랜지스터(N10)은 Yi 신호를 입력받는 게이트, 비트라인 바(/BL)와 연결된 드레인, 및 데이터 라인(SIO)과 연결된 소오스로 구성된다. The data transfer unit 150 transfers the signals of the amplified bit line pairs BL and / BL to the data line pairs SIO and / SIO when the Yi signal is input for data output. The data transfer unit 150 may be composed of ninth and tenth NMOS transistors N9 and N10. The ninth NMOS transistor N9 includes a gate configured to receive a Yi signal, a drain connected to the bit line BL, and a source connected to the data line bar / SIO. The tenth NMOS transistor N10 includes a gate configured to receive a Yi signal, a drain connected to the bit line bar / BL, and a source connected to the data line SIO.

한편, 상기 신호 분기 유닛(160)은 하나의 비트라인 선택신호 배선(120)으로부터 서로 반대 위상을 갖는 하위 및 상위 비트라인 선택신호(BISL,BISH)를 생성한다. 이러한 신호 분기 유닛(160)은 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 인버터(IN1) 및 제 2 인버터(IN2)로 구성될 수 있으며, 상기 제 1 인버터(IN1)와 제 2 인버터(IN2)는 직렬(series)로 연결된다. 여기서, 제 1 인버터(IN1)의 출력단자(op1)는 센스 앰프(100)의 제 1 신호 전달부(113)의 게이트(G1)와 전기적으로 연결되고, 제 2 인버터(IN2)의 출력단자(op2)는 제 2 신호 전달부(143)의 게이트(G2)와 연결된다. Meanwhile, the signal branch unit 160 generates lower and upper bit line selection signals BISL and BISH having opposite phases from one bit line selection signal line 120. As illustrated in FIG. 2, the signal branch unit 160 may be configured of a first inverter IN1 and a second inverter IN2, and the first inverter IN1 and the second inverter IN2 may be formed as shown in FIG. 2. Connected in series. Here, the output terminal op1 of the first inverter IN1 is electrically connected to the gate G1 of the first signal transfer unit 113 of the sense amplifier 100, and the output terminal of the second inverter IN2 ( op2 is connected to the gate G2 of the second signal transfer unit 143.

한편, 단일의 비트라인 선택신호 배선(120)은 도 2에 도시된 바와 같이 버퍼 유닛(170)을 더 포함할 수 있다. 버퍼 유닛(170)은 상기 신호 분기 유닛(160)과 함께 비트라인 선택신호 배선(120)에 제공되는 비트라인 선택신호가 일정한 레벨을 갖도록 버퍼링하는 역할을 한다. 본 실시예에서 버퍼 유닛(170)은 인버터(IN3)로 구성될 수 있다. Meanwhile, the single bit line selection signal line 120 may further include a buffer unit 170 as shown in FIG. 2. The buffer unit 170 serves to buffer the bit line selection signal provided to the bit line selection signal line 120 together with the signal branch unit 160 to have a constant level. In the present embodiment, the buffer unit 170 may be configured as an inverter IN3.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 신호 배선 구조가 적용된 반도체 메모리 장치의 뱅크를 보여주는 평면도이다. 4 is a plan view illustrating a bank of a semiconductor memory device to which a signal wiring structure of the semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention is applied.

도 4를 참조하면, 메모리 뱅크(300)는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 복수의 매트(MAT:200)로 구성된다. 각각의 매트(200)는 일측 가장자리에 위치하는 센스 앰프 블록(S/A:100)과, 상기 센스 앰프 블록(100)이 위치되는 면과 직교하는 가장자리에 위치하는 서브워드라인 블록(SWL:210) 및 상기 센스 앰프 블록(100)과 서브워드라인 블록(210)의 교차점 부근 각각에 위치되는 서브홀(sub hole) 영역(220)을 포함할 수 있다. 도면에서 MH는 상위 매트열을 나타내고, ML은 하위 매트열을 나타낸다. 상위 매트열(MH)과 하위 매트열(ML)은 소정간격 이격될 수 있다. 또한 상기 센스 앰프 블록(100)은 상위 매트(200H)의 하부 비트라인 부분과 하위 매트(200L)의 상부 비트라인 부분의 구동에 관여한다. Referring to FIG. 4, the memory bank 300 includes a plurality of mats MATs 200 arranged in a matrix form. Each mat 200 includes a sense amplifier block S / A: 100 positioned at one edge, and a subword line block SWL 210 positioned at an edge orthogonal to a surface on which the sense amplifier block 100 is located. ) And a sub hole region 220 positioned near each intersection point of the sense amplifier block 100 and the sub word line block 210. In the figure, MH represents the upper mat row and ML represents the lower mat row. The upper mat row MH and the lower mat row ML may be spaced apart from each other by a predetermined interval. In addition, the sense amplifier block 100 is involved in driving the lower bit line portion of the upper mat 200H and the upper bit line portion of the lower mat 200L.

매트열(MH,ML) 사이에는 센스 앰프 블록(100) 및 각각의 매트(200)에 신호를 전달하기 위한 복수의 신호 배선들(L)이 배치된다. 이러한 신호 배선들(L) 중에는 센스 앰프 블록(100)의 제 1 및 제 2 신호 전달부(113,143)를 구동시키기 위한 신호 배선 즉, 비트라인 선택신호 배선도 포함된다. A plurality of signal wires L for transmitting signals to the sense amplifier block 100 and each mat 200 are disposed between the mat columns MH and ML. Among the signal wires L, signal wires for driving the first and second signal transfer parts 113 and 143 of the sense amplifier block 100, that is, the bit line selection signal wires, are also included.

종래의 비트라인 선택신호 배선은 상위 매트(200H) 및 하위 매트(200L)를 선 택하기 위해 상위 비트라인 선택신호 배선 및 하위 비트라인 선택 신호 배선으로 구성되었다. The conventional bit line selection signal wiring is composed of an upper bit line selection signal wiring and a lower bit line selection signal wiring to select the upper mat 200H and the lower mat 200L.

하지만, 본 실시예에서는 매트열(MH,ML) 사이의 공간에 하나의 비트라인 선택신호 배선만을 배치하고, 신호 분기 유닛(160)에 의해 제 1 신호전달부(113)에 전달될 신호(BISH) 및 제 2 신호전달부(143)에 전달될 신호(BISL)를 생성한다. However, in the present exemplary embodiment, only one bit line selection signal line is disposed in the space between the mat columns MH and ML, and the signal BISH to be transmitted to the first signal transfer unit 113 by the signal branch unit 160. ) And a signal BISL to be transmitted to the second signal transmission unit 143.

그러므로, 매트열(MH,ML) 사이에 형성되는 신호 배선의 수가 감축된다. 이에 따라, 매트열(MH,ML) 사이의 공간에 신호 배선의 피치(선폭과 간격의 합)만큼의 여유도가 확보된다. Therefore, the number of signal wires formed between the mat columns MH and ML is reduced. As a result, a margin equal to the pitch (sum of line width and spacing) of the signal wiring is secured in the space between the mat columns MH and ML.

또한, 상기 신호 분기 유닛(160)은 비교적 집적 밀도가 낮은 서브홀 영역(220)에 배치된다. 이에 따라, 신호 분기 유닛(160)을 형성하기 위한 별도의 면적이 요구되지 않는다. In addition, the signal branch unit 160 is disposed in the subhole region 220 having a relatively low integration density. Accordingly, a separate area for forming the signal branch unit 160 is not required.

이와 같은 본 실시예의 반도체 메모리 장치는 다음과 같이 구동된다. The semiconductor memory device of this embodiment as described above is driven as follows.

먼저, 상기 비트라인 선택신호 배선(120)에 하위 비트라인 선택신호(BISL)이 입력되면, 상기 하위 비트라인 선택신호(BISL)는 버퍼 유닛(170)을 통해 1차적으로 반전 증폭된다. First, when the lower bit line selection signal BISL is input to the bit line selection signal line 120, the lower bit line selection signal BISL is first inverted and amplified through the buffer unit 170.

그 후 반전된 하위 비트라인 선택신호(/BISL)는 신호 분기 유닛(160)에 입력된다. The inverted lower bit line selection signal / BISL is then input to the signal branch unit 160.

신호 분기 유닛(160)에 입력된 반전된 하위 비트라인 선택신호(/BISL)는 제 1 인버터(IN1)에 의해 재차 반전되어, 버퍼링된 하위 비트라인 선택신호(BISL)가 생성되고, 이 버퍼링된 하위 비트라인 선택신호(BISL)는 상기 센스 앰프 블록(100) 의 제 1 신호전달부(113)의 게이트(G1)에 제공된다.The inverted lower bit line selection signal / BISL input to the signal branch unit 160 is inverted again by the first inverter IN1 to generate a buffered lower bit line selection signal BISL, which is then buffered. The lower bit line selection signal BISL is provided to the gate G1 of the first signal transfer unit 113 of the sense amplifier block 100.

또한, 상기 버퍼링된 하위 비트라인 선택신호(BISL)는 제 2 인버터(IN2)에 의해 또 다시 반전되어, 버퍼링이 이루어진 반전된 하위 비트라인 선택신호, 즉, 상위 비트라인 선택신호(BISH)가 생성되고, 이 버퍼링된 상위 비트라인 선택신호(BISH)는 상기 센스 앰프 블록(100)의 제 2 신호 전달부(143)의 게이트(G2)에 제공된다. In addition, the buffered lower bit line selection signal BISL is inverted again by the second inverter IN2 to generate an inverted lower bit line selection signal that is buffered, that is, an upper bit line selection signal BISH. The buffered upper bit line select signal BISH is provided to the gate G2 of the second signal transfer unit 143 of the sense amplifier block 100.

이와 같은 본 실시예에 의하면, 직렬로 연결된 인버터들(IN1,IN2)로 구성되는 신호 분기 유닛(160)에 의해, 하나의 신호 배선(120)만으로 위상이 상이한 두 개의 비트라인 선택신호(BISL,BISH)를 생성할 수 있다. 이에 따라, 종래에 비해 매트열 사이에 배치되는 신호 배선 수를 줄일 수 있어, 각 매트열 사이의 공간에 1 배선 피치만큼의 여유도를 확보할 수 있다. According to the present exemplary embodiment, two bit line selection signals BISL, which are different in phase by only one signal wire 120, by the signal branch unit 160 including the inverters IN1 and IN2 connected in series. BISH) can be generated. As a result, the number of signal wirings arranged between the mat columns can be reduced, and the margin of one wiring pitch can be ensured in the space between the mat rows.

그러므로, 매트열 사이의 공간에 잔류하는 배선들간의 간격 및 선폭을 충분히 확보할 수 있어 배선 저항을 감소시킬 수 있다. 또한, 1배선 피치 여유도 만큼 매트열 사이의 간격을 줄일 수도 있다. 아울러, 상기 신호 배선의 감소는 각각의 매트열 마다 일어나므로, 전체 메모리 뱅크의 면적을 감소시킬 수 있다. Therefore, the space | interval and line | wire width between wiring which remain in the space | interval between mat rows can be ensured enough, and wiring resistance can be reduced. In addition, the spacing between mat rows can be reduced by one wiring pitch margin. In addition, since the reduction of the signal wiring occurs for each mat column, the area of the entire memory bank can be reduced.

본 실시예에서는 단일 비트라인 선택신호 배선(120)에 하위 비트라인 선택신호(BISL)가 입력되는 경우에 대해 설명하였다. 하지만, 하위 비트라인 선택신호(BISL) 대신 상기 단일 비트라인 선택신호 배선(120)에 상위 비트라인 선택신호(BISH)가 입력될 수 있다. 이러한 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 신호 분기 유닛(160)의 제 1 인버터(IN1)의 출력신호가 제 2 신호전달부(143)의 게이트(G2)에 제공되고, 제 2 인버터(IN2)의 출력신호가 제 1 신호전달부(113)의 게이트(G1)에 제공되도록 연결 배선(180)의 위치를 변경시키면 된다. In the present embodiment, the case where the lower bit line selection signal BISL is input to the single bit line selection signal line 120 has been described. However, the upper bit line selection signal BISH may be input to the single bit line selection signal line 120 instead of the lower bit line selection signal BISL. In this case, as shown in FIG. 5, the output signal of the first inverter IN1 of the signal branch unit 160 is provided to the gate G2 of the second signal transmission unit 143, and the second inverter IN2 is provided. The position of the connection line 180 may be changed such that the output signal of the N-th input signal is provided to the gate G1 of the first signal transfer unit 113.

<실험예>Experimental Example

표 1은 본 발명의 실시예에 따른 비트라인 선택신호의 신호 지연 시간을 보여준다. Table 1 shows a signal delay time of a bit line selection signal according to an embodiment of the present invention.

(표 1)Table 1

라이징시 지연시간(ps)Rising Delay (ps) 폴링시 지연시간(ps)Delay time when polling (ps) BISHBISH 2525 1616 BISLBISL 5555 4444

종래와 같이 두 개의 비트라인 선택신호 배선을 이용하는 경우, 각각의 비트라인 선택신호 지연 시간은 라이징 및 폴링 모두 약 60ps 정도였다. In the case of using two bit line select signal wires as in the related art, each bit line select signal delay time is about 60 ps for both rising and falling.

하지만, 본 실시예와 같이 단일의 비트라인 선택신호 배선을 사용하면서 신호 분기 유닛(160)을 설치하는 경우, 비트라인 선택 신호 배선의 선폭을 증대시킬 수 있어, 상위 비트라인 선택신호(BISH)의 라이징 및 폴링시 지연시간이 각각 25ps 및 16ps 정도로, 하위 비트라인 선택신호(BISL)의 라이징 및 폴링시 지연시간이 각각 55ps 및 44ps 정도 감소되었다. However, in the case where the signal branch unit 160 is provided while using a single bit line selection signal wiring as in the present embodiment, the line width of the bit line selection signal wiring can be increased, so that the upper bit line selection signal BISH can be used. The delay time during rising and polling was reduced to 25ps and 16ps, respectively, and the delay time during rising and polling of the lower bit line select signal BISL was reduced by 55ps and 44ps, respectively.

이상 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.Although the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. Do.

이상에서 자세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 직렬로 연결된 인버터들로 구성되는 신호 분기 유닛에 의해, 하나의 신호 배선만으로 위상이 상이한 두 개의 비트라인 선택신호를 생성할 수 있다. 이에 따라, 매트열 사이에 배치되는 신호 배선의 수를 줄일 수 있다. As described in detail above, according to the present invention, two bit line selection signals having different phases may be generated by only one signal wire by a signal branch unit including inverters connected in series. As a result, the number of signal wires arranged between the mat columns can be reduced.

따라서, 매트열 사이에 배치되는 신호 배선간의 선폭 및 간격을 증대시킬 수 있거나, 감소된 배선의 피치만큼 매트열 사이의 간격을 감소시킬 수 있다. Therefore, the line width and spacing between the signal lines arranged between the mat rows can be increased, or the spacing between the mat rows can be reduced by the pitch of the reduced wiring.

Claims (13)

하위 비트라인에 제공될 신호를 입력받는 제 1 신호전달부, 및 상위 비트라인에 제공될 신호를 입력받는 제 2 신호전달부를 포함하는 복수의 센스 앰프 블록;A plurality of sense amplifier blocks comprising a first signal transfer unit receiving a signal to be provided to a lower bit line, and a second signal transfer unit receiving a signal to be provided to an upper bit line; 상기 복수의 센스 앰프 블록들 외곽에 배치되며, 제 1 레벨의 하위 비트라인 신호를 전달하는 단일의 비트라인 선택신호 배선; 및A single bit line select signal line disposed outside the plurality of sense amplifier blocks and transferring a lower bit line signal of a first level; And 상기 단일의 비트라인 선택신호 배선으로부터 상기 하위 비트 라인 신호를 전달받아, 상기 제 1 레벨과 반대 위상의 제 2 레벨을 갖는 상위 비트라인 신호를 생성함과 동시에 상기 하위 비트라인 신호를 버퍼링하여, 상기 제 1 신호전달부에 상기 하위 비트라인 신호를 제공하고, 상기 제 2 신호전달부에 상기 상위 비트라인 신호를 제공하도록 구성된 신호 분기 유닛을 포함하는 반도체 메모리 장치. Receiving the lower bit line signal from the single bit line selection signal line, generating an upper bit line signal having a second level opposite to the first level, and buffering the lower bit line signal, And a signal branch unit configured to provide the lower bit line signal to a first signal transfer unit, and provide the upper bit line signal to the second signal transfer unit. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 신호 분기 유닛은 직렬로 연결된 제 1 인버터 및 제 2 인버터로 구성되는 반도체 메모리 장치. The signal branch unit includes a first inverter and a second inverter connected in series. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제 1 인버터의 출력 신호가 제 1 신호 전달부에 제공되고, An output signal of the first inverter is provided to a first signal transfer unit, 상기 제 2 인버터의 출력 신호가 제 2 신호 전달부에 제공되는 반도체 메모리 장치. And an output signal of the second inverter is provided to a second signal transfer unit. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제 1 인버터의 출력신호가 제 2 신호전달부에 제공되고, An output signal of the first inverter is provided to a second signal transmission unit, 상기 제 2 인버터의 출력 신호가 제 1 신호전달부에 제공되는 반도체 메모리 장치. And an output signal of the second inverter is provided to the first signal transfer unit. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 제 1 및 제 2 신호전달부는 MOS 트랜지스터로 구성되고, The first and second signal transmission section is composed of a MOS transistor, 상기 제 1 인버터 및 제 2 인버터의 출력신호는 상기 제 1 및 제 2 신호 전달부를 구성하는 MOS 트랜지스터의 게이트에 각각 제공되는 반도체 메모리 장치. Output signals of the first inverter and the second inverter are respectively provided to gates of MOS transistors constituting the first and second signal transfer units. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비트라인 선택신호 배선내에, 입력되는 신호를 반전 증폭하는 버퍼링 유닛이 더 형성되는 반도체 메모리 장치. And a buffering unit for inverting and amplifying the input signal in the bit line selection signal line. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비트라인 선택신호 배선에 입력되는 신호는 외부로부터 프로그램된 하위 비트라인 선택신호 또는 상위 비트라인 선택신호인 반도체 메모리 장치. And a signal input to the bit line selection signal line is a lower bit line selection signal or an upper bit line selection signal programmed from the outside. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 복수의 매트들로 구성되는 상위 매트열 및 하위 매트열을 포함하고, An upper mat row and a lower mat row composed of a plurality of mats, 상기 센스 앰프 블록은 상위 매트열의 매트와 그와 대응되는 하위 매트열의 매트 사이에 배치되는 반도체 메모리 장치. The sense amplifier block is disposed between the mat of the upper mat row and the mat of the lower mat row corresponding thereto. 삭제delete 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 센스 앰프 블록이 위치되는 가장자리와 직교하는 상기 매트 가장자리에 배치되는 서브 워드라인 블록; 및A sub word line block disposed at the mat edge orthogonal to an edge at which the sense amplifier block is located; And 상기 센스 앰프 블록과 상기 서브 워드라인 블록의 교차점 부근에 위치되는 서브 홀 영역을 더 포함하며,And a sub hole area positioned near an intersection point of the sense amplifier block and the sub word line block. 상기 신호 분기 유닛은 상기 서브 홀 영역에 배치되는 반도체 메모리 장치. And the signal branch unit is disposed in the sub hole area. 복수의 매트, 상기 각 매트의 가장자리에 설치되는 센스 앰프 블록, 상기 센스 앰프 블록 양측에 위치되는 서브홀 영역을 포함하는 메모리 뱅크;A memory bank including a plurality of mats, a sense amplifier block disposed at an edge of each mat, and sub-hole regions located at both sides of the sense amplifier block; 상기 센스 앰프 블록 외측에 배치되며, 하위 및 상위 비트라인 선택 신호 중 어느 하나를 전달하는 단일의 비트라인 선택신호 배선; 및A single bit line select signal wire disposed outside the sense amplifier block and transferring any one of a lower bit and an upper bit line select signal; And 상기 비트라인 선택 신호 배선과 상기 센스 앰프 블록 사이에 연결되어, 상기 단일의 비트라인 선택신호 배선으로부터 전달된 신호를 분기시켜, 서로 반대 위상을 갖는 상위 비트라인 선택신호 및 하위 비트라인 선택신호를 생성하고, 이를 상기 센스 앰프 블록에 제공하도록 구성된 비트라인 선택부를 포함하며,Connected between the bit line select signal line and the sense amplifier block to branch a signal transmitted from the single bit line select signal line to generate an upper bit line select signal and a lower bit line select signal having opposite phases to each other; And a bit line selector configured to provide the sense amplifier block to the sense amplifier block. 상기 비트라인 선택부는 상기 서브홀 영역에 배치되는 반도체 메모리 장치. The bit line selector is disposed in the subhole area. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 센스 앰프 블록은 상기 매트의 하위 비트라인에 신호를 전달하는 제 1 신호전달부, 및 상기 매트의 상위 비트라인에 신호를 전달하는 제 2 신호전달부를 포함하고, The sense amplifier block includes a first signal transfer unit for transmitting a signal to a lower bit line of the mat, and a second signal transfer unit for transferring a signal to an upper bit line of the mat, 상기 제 1 및 제 2 신호전달부는 MOS 트랜지스터로 구성되며, The first and second signal transmission unit is composed of a MOS transistor, 상기 비트라인 선택부는 상기 제 1 신호 전달부의 게이트 및 상기 제 2 신호 전달부의 게이트에 각각 위상이 상이한 신호를 제공하는 반도체 메모리 장치. And the bit line selector to provide a signal having a different phase to the gate of the first signal transfer unit and the gate of the second signal transfer unit. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 비트라인 선택부는 직렬로 연결된 제 1 인버터 및 제 2 인버터로 구성되고, The bit line selector includes a first inverter and a second inverter connected in series. 상기 제 1 인버터의 출력 신호가 상기 제 1 신호 전달부에 제공되고, An output signal of the first inverter is provided to the first signal transfer unit, 상기 제 2 인버터의 출력 신호가 상기 제 2 신호 전달부에 제공되는 반도체 메모리 장치. And an output signal of the second inverter is provided to the second signal transfer unit.
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