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KR100953556B1 - 근적외선 흡수용 pdp 필터 - Google Patents

근적외선 흡수용 pdp 필터 Download PDF

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KR100953556B1
KR100953556B1 KR1020070013420A KR20070013420A KR100953556B1 KR 100953556 B1 KR100953556 B1 KR 100953556B1 KR 1020070013420 A KR1020070013420 A KR 1020070013420A KR 20070013420 A KR20070013420 A KR 20070013420A KR 100953556 B1 KR100953556 B1 KR 100953556B1
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Abstract

본 발명은 근적외선 흡수용 PDP 필터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 PDP(Plasam Display Panel)로부터 방출되는 근적외선을 차단하기 위하여 2~3종 또는 그 이상의 많은 종류의 염료를 다량으로 사용하는 방식인 종래의 근적외선 흡수용 PDP 필터에 비하여 개선된 방식의 필터로서 사용되는 염료의 종류와 양을 효과적으로 저감한 PDP 필터에 관한 것이다.
본 발명의 PDP 필터는 근적외선에 대한 최대 흡수파장이 880~1000nm, 바람직하게는 900~960nm인 염료를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의할 경우에는 PDP 필터의 생산성이 향상되고, 제조비용이 절감될 뿐만 아니라, 불필요한 염료에 의한 광 투과율의 감소등의 문제도 방지할 수 있다.
근적외선, PDP, 필터, 염료

Description

근적외선 흡수용 PDP 필터{PDP FILTER FOR ABSORBING NEAR INFRARED RAY}
도 1은 PDP 장치로부터 발생되는 전자기파를 파장별로 나열한 그래프,
도 2는 도 1의 그래프를 전자기파 파장 700~1100nm 범위로 확대하여 나타낸 그래프,
도 3은 리모트 콘트롤러 수신부의 적외선 파장에 따른 상대 감도를 나타낸 그래프로서, (a)는 Osram_SF사 모델번호 H 5110의 결과를, (b)는 Sharp사 모델번호 PD410PI의 결과를 나타낸 그래프, 그리고,
도 4는 본 발명의 실시예에 의해 제조된 근적외선 흡수용 필터와 비교예에 의해 제조된 근적외선 흡수용 필터의 파장에 따른 투과율 값을 나타낸 그래프이다.
본 발명은 근적외선 흡수용 PDP 필터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 PDP(Plasma Display Panel)로부터 방출되는 근적외선을 차단하기 위하여 2~3종 또는 그 이상의 많은 종류의 염료를 다량으로 사용하여 넓은 NIR 영역을 차단하는 방식인 종래의 근적외선 흡수용 PDP 필터에 비하여 개선된 방식의 필터로서 사용되는 염료의 종류와 양을 획기적으로 저감한 PDP 필터에 관한 것이다.
도 1에 도시한 바와 같이 PDP 표면으로부터는 여러가지 대역의 파장을 가진 전자기파가 발생되는데, 근적외선(Near Infrared Ray, 간단히 NIR)도 그 중에서 하나이다. 근적외선이라 함은 적외선의 파장에 근접할 정도로 긴 파장을 가지는 전자기파를 칭하는데, PDP에서는 약 800~1000nm 범위의 파장을 가진 전자기파가 주로 방출된다.
그런데, 상기 근적외선은 가정용 전자기기 예를 들면, 오디오 장치, 에어컨, 비디오 또는 TV 등의 장치를 작동시키는 리모트 콘트롤러의 작동 파장과 중복되는 파장을 가진다. 따라서, PDP에서 방출되는 근적외선은 전자기기 오작동의 원인이 될 수 있으므로 PDP 표면에서의 방출을 적극 억제할 필요가 있다.
따라서, PDP 표면에 부착되는 PDP 필터에는 근적외선 흡수층이 포함되게 되는데, 상기 근적외선 흡수층은 기재(base material)와 함께 PDP 표면에서 방출되는 근적외선의 파장범위를 흡수할 수 있는 염료를 포함하는 필름 형태이거나 은과 ITO 등을 박막으로 교차 증착한 스퍼터 필름(sputter film)의 형태를 가진다.
PDP 필터는 반사방지 층, 전자파 차폐 층, 근적외선 차폐 층, 색보정 층 등으로 구성된다. 이러한 기능성 층들이 각각 독립적인 필름으로 존재 하기도 하고, 두 가지 이상의 기능이 단일 필름에 합쳐진 복합 필름 형태로 존재하기도 한다. 기능성 층들이 각각 독립적인 필름으로 있을 경우는 제품 구조도 복잡해 지고, 이들을 각각 합판하기 위한 공정 또한 많아지는 문제가 있기 때문에, PDP 필터 제조업체들은 여러 기능의 복합화를 통해서 제품의 구조를 단순화하고자 하는 노력을 하고 있다.
PDP 필터의 구조 단순화를 통한 제조원가 절감 방안의 하나로, 각 필름들을 합판할 때 필수적으로 사용되는 PSA에 기능을 부여하는 방법이 있다. 색 보정용 염료를 PSA에 포함시킨 제품은 이미 상용화 되어 적용되고 있으며, 더 나아가서 근적외선 흡수 염료를 PSA내에 포함시키려는 노력 또한 많이 시도 되고 있다.
현재, 근적외선 흡수 염료를 사용하여 만들어지는 근적외선 필름은 대부분 가시광선 투과율이 우수하며 비교적 넓은 영역(900~1100nm)의 근적외선을 차폐하는 디임모늄(Diimmonium)계 염료를 포함하고 있으며 850nm영역을 흡수하는 염료로 흡수특성이 부족한 파장 영역을 보완하는 방식으로 만들어진다. 그러나 이 디임모늄계 염료는 내구성이 취약하여, Tg가 80℃ 이상인 바인더(binder)내에서만 내구성이 유지되는 단점이 있다. 따라서, 적용할 수 있는 바인더(binder)에 많은 제약이 있으며, 더더욱 Tg가 0℃ 이하 일 수 밖에 없는 PSA내에서는 내구성이 매우 불안하다.
따라서 NIR 층을 Tg가 80℃ 이상인 바인더를 사용하여 별도의 기재에 코팅하지 않고 PSA 층에 포함시켜 PDP filter의 구조를 단순화 하기 위해서는 디임모늄계 염료를 포함하지 않는 근적외선 필름을 개발 하여야만 한다. 하지만, 디임모늄계 염료 이외의 근적외선 염료는 염료의 흡수 영역이 상대적으로 매우 좁은 단점이 있기 때문에, PDP 필터로 사용될 때의 파장에 따른 효율을 고려하여 근적외선 차폐영역을 최소화, 집중화할 필요가 있다.
그 중 한가지로서, 일본특허공개공보 2004-309655호에는 상기와 같은 800~1000nm 대의 파장을 흡수하기 위한 필터의 한 예로서 800~920nm의 최대 흡수파장을 가지는 프탈로시아닌(I)과 920nm 이상의 최대 흡수파장을 가지는 프탈로시아닌(II)를 이용하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필터가 개시되어 있다. 또한, 상기 프탈로시아닌(I) 또는 프탈로시아닌(II)도 그 작동파장 대역별로 세분화하여 좁은 파장범위에서 최대 흡수파장을 가지는 2종 이상의 프탈로시아닌으로 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다. 상기 일본특허공개공보 2004-309655호에 기재된 것과 같이 여러 종류의 염료를 사용하는 이유는 넓은 범위의 파장을 모두 흡수할 수 있는 염료는 현재까지 개발되어 보고된 예가 없기 때문이다.
그러나, 상기 일본특허공개공보 2004-309655호에 의할 경우에는 염료의 종류가 많아져서 염료 추가에 의한 공정이 복잡해지고, 각 파장대역별로 근적외선 흡수 효과를 발휘할 수 있도록 최소량 이상의 염료를 사용하여야 하기 때문에 결국 염료 종류가 많아지면 전체적인 염료 사용량이 증가하여야 한다는 문제가 있었다. 즉, 염료 사용량이 증가되면 필터 원가가 상승하게 될 뿐만 아니라, 다량의 염료로 인하여 근적외선 이외의 가시광선 등의 투과율도 함께 저하되어 화질이 저하된다는 문제가 초래된다.
따라서, 염료의 종류와 사용량은 감소되어야 할 필요가 있으며, 가급적이면 한 종류의 염료만 사용하더라도 충분한 근적외선 흡수효과를 가지는 PDP 필터를 마련할 필요가 있다.
미국특허공보 5,804,102호에는 PDP 필터로서 800~900nm의 파장대역에서 작동가능한 플라즈마 디스플레이 필터가 개시되어 있다. 상기 좁은 파장대역에서 작동할 경우에는 상술한 일본특허공개공보 2004-309655호 보다는 적은 종류의 염료를 사용할 수 있으며 따라서 상기 일본특허공개공보 2004-309655호에 의한 문제점을 어느 정도는 해결 가능할 수 있다. 본 기술은 리모트 콘트롤러의 수신대역이 800~900nm으로 제한될 경우에 적용가능한 것으로 현재 사용되는 리모트 콘트롤러 수신기와 같이 수신대역이 800~1100nm로 넓을 경우에는 900nm를 초과하는 파장대에서 방출되는 빛은 흡수할 수 없기 때문에 상기 파장대에서 방출되는 빛에 의한 오작동은 방지하기 어렵다는 문제가 있을 수 있다.
따라서, 현재까지 제안된 어떠한 기술도 소량의 염료만 사용하여 가시광선의 투과율은 높게 유지하면서도 근적외선으로 인한 기기의 오작동을 방지할 수 있는 해답을 제시한 적은 없었다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 근적외선(NIR) 차폐 파장 영역을 최소화 하면서도 PDP에 의한 리모트 콘트롤러 송수신 신호 간섭 방지라는 근적외선 차폐 필름의 기능은 동일 수준 이상으로 유지하여, 근적외선 차폐 파장 영역을 최소화 함으로서 염료의 사용량이나 사용 염료의 수를 최소화 하여 비용에서 장점을 가지며, 또한 최소화된 염료 사용으로 인해 가시광선 영역의 투과율 손실이 최소화된 고성능의 근적외선 흡수용 PDP 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 PDP 필터는 근적외선에 대한 최대 흡수파장이 880~1000nm인 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터이다.
이때, 상기 염료의 최대 흡수파장은 900~960nm인 것이 보다 바람직하다.
또한, 880~1000nm 의 파장대역의 광 투과율이 800~880nm 파장대역의 광 투과 율에 비하여 10% point 이상 낮은 것이 효과적이며, 883nm의 광 투과율이 824nm의 광투과율에 비하여 10% point 이상 낮은 것이 보다 바람직하다.
그리고, 880~920nm 파장대역의 광 투과율과 980~1000nm 파장 대역의 광투과율 차의 절대값이 5% point 이하인 것이 바람직하다.
상기 본 발명의 유리한 효과를 달성하기에 바람직한 염료는 염료로는 시아닌 (Cyanine)계, 프탈로/나프탈로시아닌 (Phthalo /Naphthalocyanine) 계, 금속 착물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것으로 할 수 있다.
그리고, 상기 금속 착물 염료는 하기 화학식 1 또는 2의 구조를 가지는 화합물인 것이 좋다.
<화학식 1>
Figure 112007011998683-pat00001
(상기 화학식 1에서, A1 ∼ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 니트 로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 비치환된 알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 알콕시, 치환 또는 비치환된 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 알킬티오, 치환 또는 비치환된 아릴티오, 치환 또는 비치환된 알킬아미노, 치환 또는 비치환된 아릴아미노, 치환 또는 비치환된 알킬카보닐아미노 또는 치환 또는 비치환된 아릴카보닐아미노기이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기 또는 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고; Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이며; X+ 는 4급 암모늄 또는 4급 포스포늄을 나타내고; M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
<화학식 2>
Figure 112007011998683-pat00002
(상기 화학식 2에서, B1 ∼ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 하이드록시, 니트로, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 플루오로알킬, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 또는 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 나프틸기이고, 상기 치환기는, 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 1~16의 알킬아미노기이며, M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
또한, 상기 프탈로시아닌(phthalocyanine) 염료는 하기 화학식 3의 화합물이고, 상기 나프탈로시아닌 (naphthalocyanine)염료는 하기 화학식 4의 화합물인 것이 바람직하다.
<화학식 3>
Figure 112007011998683-pat00003
<화학식 4>
Figure 112007011998683-pat00004
(상기 화학식 3 및 4에서,
상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며상기 치환기는 할로겐원자, 알킬 티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.)
또한, 상기 시아닌계 염료는 하기 화학식 5의 화합물인 것이 좋다.
<화학식 5>
Ar1-A-Ar2
(상기 화학식 5에서,
A는 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 7의 공액 이중결합을 형성하는 하이드로카르빌렌기이며;
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로고리기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 포함하는 다환식 고리화합물 그룹이다.)
이때, 상기 A의 바람직한 예로서는 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 들 수 있다.
<화학식 6>
Figure 112007011998683-pat00005
여기서 Y는 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기이고, Z는 수소 원자 또는 할로겐기, 시아노기, 탄소수 1∼8 알킬기 또는 탄소수 6∼10의 아릴기이다.
또한, 상기 Ar1 및 Ar2의 바람직한 예로서는 하기 화학식 7로 표시되는 것을 들 수 있다.
<화학식 7>
Figure 112007011998683-pat00006
상기에서, 치환기 X는 아로마틱링(Aromatic ring)의 어디에도 치환될 수 있으며, 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복 실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기 등을 예로 들 수 있으며, 상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.
그리고, 상기 시아닌계 염료로는 하기 화학식 8 내지 15의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 화합물인 것이 바람직하다.
<화학식 8>
Figure 112007011998683-pat00007
<화학식 9>
Figure 112007011998683-pat00008
<화학식 10>
Figure 112007011998683-pat00009
<화학식 11>
Figure 112007011998683-pat00010
<화학식 12>
Figure 112007011998683-pat00011
<화학식 13>
Figure 112007011998683-pat00012
<화학식 14>
Figure 112007011998683-pat00013
<화학식 15>
Figure 112007011998683-pat00014
또한, 상기 염료는 용매 및 바인더와 함께 기재 위에 습식 코팅된 후 건조하여 제조되는 것이 좋다.
이때, 상기 용매는 메틸에틸케톤(MEK), 에틸아세테이트(EA), 톨루엔 중에서 선택되는 것이 효과적이다.
그리고, 상기 바인더로 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 바인더, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지 또는 폴리카보네이트(PC)를 사용하는 것이 좋다.
또한, 상기 염료, 용매 및 바인더의 혼합물이 코팅 및 건조된 코팅층 외곽에 공중합체 감압성 접착제(PSA)가 추가로 코팅되는 것이 좋다.
그리고, 상기 바인더로 공중합체 감압성 접착제(PSA)를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명의 발명자들은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 깊이 검토한 결과, 상술한 바와 같이 필터의 근적외선 흡수 파장대역이 넓어질수록 사용되는 염료의 종류와 양이 증가한다는 점을 발견하고 가급적이면 좁은 파장영역을 흡수하더라도 주변기기의 오작동을 방지할 수 있는 조건을 찾을 필요가 있다는 결론에 이르게 되었다.
또한, 상기 조건을 충족시키기 위해서는 단순히 PDP 필터의 작동파장대역만 고려할 것이 아니라, PDP 장치에서 발생하는 근적외선의 주요 파장범위 및 주변기기의 리모트 콘트롤러 수신부의 감광도도 동시에 고려하여야 한다는 사실을 발견할 수 있었다.
즉, TV, 에어컨, 비디오 등의 주변기기(이하, 간단히 '주변기기'라 칭함)의 리모트 콘트롤러 수신부는 리모트 콘트롤러 송신부 작동파장 이외의 파장을 가진 전자기파(예를 들면, 태양광 등)에 의한 교란을 방지하기 위하여 대부분 750nm 이하의 파장의 전자기파는 통과시키지 않고 차단하도록 자체 필터(daylight filter)를 수신부 표면에 포함하고 있으므로 750nm 이하의 파장은 전혀 문제가 되지 않는다.
따라서, 리모트 콘트롤러의 오작동 및 감도 저하의 원인은 리모트 콘트롤러의 발신부가 아닌 다른 곳에서 방출되는 상기 800~1200nm 범위의 전자기파이다. 리모트 콘트롤러 수신부의 입장에서 보면 PDP에서 방출되는 근적외선은 리모트 콘트롤러 발신부가 보내는 신호의 인식을 방해하는 노이즈(잡음 또는 방해신호)가 되는 것이다.
PDP에서 방출되는 근적외선의 성분을 분석해 보았다. 분석에 사용된 PDP는 LG전자의 42인치 V5 패널이었으며, 상기 PDP에서 방출되는 근적외선을 측정하기 위한 장비는 Ocean Optics사의 HR4000 spectrometer이었다. 측정된 근적외선 스펙트럼을 도 1과 도 2에 나타내었다. 그리고, 이때 근적외선 피크(Peak)별 및 파장영역별 근적외선 방사 휘도의 분포를 각각 하기 표 1 및 표 2에 나타내었다.
근적외선 피크 PDP 방사 휘도 비율*
800~1000nm 100%
824nm 13%
829nm 6%
883nm 29%
896nm 4%
906nm 5%
917nm 9%
981nm 24%
994nm 8%
표에 기재된 값들은 800~1000nm영역에서 방출되는 총 NIR의 양을 100으로 가정했을 때 각 NIR peak별 방사 휘도의 비율을 의미한다.
파장영역 PDP 방사 휘도 비율*
800~1000nm 100%
800~880nm 19%
880~920nm 48%
920~980nm 1%
980~1000nm 32%
표에 기재된 값들은 800~1000nm영역에서 방출되는 총 NIR의 양을 100으로 가정했을 때 각 파장영역별 방사 휘도의 비율을 의미한다.
표 1,2로부터 PDP에서 발생하는 NIR 노이즈 중에서 가장 큰 비중을 차지하는 성분은 824, 883, 981nm의 피크이고, 그 중에서도 가장 크기가 큰 것은 883과 981nm의 피크라는 것을 알 수 있다. 위의 측정 데이터를 파장 영역별로 나눠보면, 880nm~1000nm 영역에서 발생하는 근적외선 노이즈가 전체의 81%를 차지함을 알 수 있다.
824nm영역의 큰 근적외선 발광휘도 피크를 포함한 800~880nm영역에서 발생하는 근적외선 노이즈의 비중은 전체의 약 19%로 크지는 않지만 그렇다고 무시할 수 있는 수준 또한 아니다. 하지만, 리모트 콘트롤러의 오작동에 영향을 미치는 또하나의 인자인 리모트 콘트롤러 수신부의 파장대역에 따른 감광도를 검토해본 결과 동일 성능을 유지하면서도 상대적으로 좁은 흡수영역을 갖는 근적외선 흡수 PDP filter를 제안할 수 있게 되었다.
즉, 리모트 콘트롤러의 수신부는 송신부에서 송신한 근적외선을 감지하기 위하여 광다이오드를 사용하는데, 비록 상기 광다이오드의 감광 파장대역이 400~1100nm로 넓지만 파장대역별로 감광도가 다르기 때문에 많은 양의 전자기파가 도달하더라도 그 전자기파의 파장성분에 따라 광다이오드가 반응하여 오작동을 일으키는 정도는 달라질 수 있다.
그러므로, 리모트 콘트롤러 수신부의 감광도를 고려하여 만일 감광도가 낮은 파장대역이 있다면 상기 파장대역을 가지는 전자기파는 비록 많은 양이 방출되더라도 리모트 콘트롤러 수신부의 오작동의 원인이 되지 않을 수 있으므로 굳이 상기 파장대역의 전자기파까지 다량으로 흡수할 필요가 없게 된다.
본 발명의 발명자들은 이러한 점에 착안하여 각 파장대역별로 리모트 콘트롤러 수신부의 감광도 자료들을 입수, 비교 분석하였다. 그 결과 시장에서 판매되는 대부분의 리모트 콘트롤러 수광부 센서는 880~1000nm 영역에서 최대감도를 가지며 880nm 이하 영역의 감광도는 20% 이하라는 것을 알 수 있었다. 그 중에서 최대 감도 파장대역이 비교적 높은 수광부 센서(Sharp사 모델번호 PD410PI, 최대 감도 파장=1000nm)와 최대 감도 파장대역이 비교적 낮은 센서(Osram_SF사 모델번호 H 5110, 최대 감도 파장=940nm)의 파장별 감광도 곡선을 제조사의 데이터 시트(data sheet)를 이용하여 도 3과 표 3에 나타내었다.
파장대역 Sharp PD410PI Osram_SFH 5110
800~1000nm 55.4% 62.2%
800~880nm 13.3% 19.9%
880~920nm 63.3% 85.7%
920~980nm 92.1% 96.4%
980~1000nm 99.4% 83.8%
표에서 나타낸 값들은 센서에서 감도가 가장 높은 파장에서의 감도를 100이라 하였을 때 각 파장영역에서의 상대적인 감도의 평균치를 의미한다.
상기 표 3에 기재된 바와 같이 PDP 장치로부터 방출되는 전체 파장범위 중 리모트 콘트롤러 수신기에 도달하는 파장범위에 해당되는 800~1000nm에 대한 평균적인 감광도는 55~62% 수준이었으나, 각 파장 대역별로 감광도는 현저하게 차이가 난다. PDP 발생 총 NIR의 19%를 차지하는 800~880nm의 파장대역에 대한 감광도는 13.3~19.9%에 지나지 않는 한편 880~1000nm 의 파장대역에서의 감도는 63.3%이상이며, 그중에서도 특히 PDP 발생 총 NIR의 32%를 차지하는 980~1000nm 파장대역에 대한 감광도는 80% 이상으로 매우 높은 감광도를 가지고 있다는 것을 알 수 있었다.
또한, 표 2의 결과에서 알 수 있듯이, PDP NIR의 주 발생 대역은 800~880, 880~920, 980~1000nm의 3 대역으로 나눌 수 있는데, 이러한 결과와 상기 각 파장 대역에 대한 리모트 콘트롤러 수신부의 수신감도를 정리한 상기 표 3의 결과를 종합하면, PDP 필터가 가장 비중을 높여서 차단해야 할 파장대역과 그렇지 않은 영역을 판단할 수 있는 것이다.
즉, 상기 표 1 및 표 2의 결과와 표 3의 결과를 바탕으로 보면, 비록 PDP 장치에서 방출되는 전자기파 중 824nm 대역의 파장을 가진 빛은 발생하는 전체 NIR 중에서 차지하는 비중(약 19%)도 크지 않을 뿐 아니라, PDP 필터에 의한 제거량이 많지 않더라도 리모트 콘트롤러 수광부에서의 감지도가 낮기 때문에 주변기기의 오작동에 큰 문제를 일으키지 않는 반면 880~920nm 및 980~1000nm의 파장대역의 빛은 발생하는 양도 많을 뿐 아니라, 리모트 콘트롤러의 감도 또한 높은 파장대여서, 주변기기의 오작동을 일으킬 가능성이 매우 높다고 예상할 수 있다.
따라서, 가장 많은 근적외선이 방출되면서 감광도도 높은 880~920nm 및 980~1000nm 파장대역의 빛에 대한 차단이 가장 많이 이루어져야 할 필요가 있다는 것을 알 수 있다.
따라서, 본 발명의 근적외선 흡수용 PDP 필터는 880~1000nm 대역에서 최대 흡수파장(반대로 말하면 최소 투과파장)을 가진다. 또한, 상술하였듯이 883nm 파장대역의 근적외선 방출량이 가장 크다는 사실과 다른 파장대역의 빛의 흡수도를 고려할 때에는 상기 최대 흡수파장은 880~1000nm인 것이 바람직하고, 특히 900~960nm 사이인 것이 더욱 바람직하다. 상기와 같이 좁은 파장대역에서 최대흡수 파장을 가질 경우 상기 염료의 종류가 감소될 수 있으며, 바람직하게는 1 종류의 염료만을 사용하는 것도 가능하다.
다만, 상기 염료의 종류 수는 본 발명의 보다 바람직한 예로서, 반드시 한가지에 국한될 필요는 없다. 즉, 종래발명과 구별되는 본 발명의 특징은 종래의 경우 모든 파장범위에서 일정한 흡수도를 가지도록 PDP 필터를 제공하기 위해서 여러 종류의 염료를 다량으로 첨가하여야 하였고, 그 결과 염료의 총량이 증가된다는 문제가 있었으나, 본 발명은 염료의 최대 흡수 파장대역이 좁기 때문에 두 가지 이상의 염료를 사용한다고 하더라도 두 염료가 서로 보완작용을 하기 때문에 하나의 염료를 첨가한 만큼 다른 하나의 염료의 양이 감소될 수 있고, 그 결과 염료의 총량이 특별히 증가하지는 않는 것이다.
또한, 880~1000nm, 바람직하게는 900~960nm 에서 최대 흡수 파장을 가진다고 하더라도, 흡수 곡선은 연속적인 형태를 가지므로 다른 파장의 근적외선 흡수가 완전히 배제되는 것은 아니고 따라서 상술한 800~880nm 대역의 근적외선도 기기의 오작동을 일으키는 범위 이하로 제한될 수 있는 것이다.
본 발명의 근적외선 흡수용 PDP 필터의 투과율은 상술한 바와 같이 880~1000nm 범위에서 최소치를 가지게 되는데, 특히 800~880nm의 파장대역에 비하여 그 투과율의 평균치가 10% point 이상 낮은 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 발명자들의 연구결과에 따르면 보다 간편한 비교를 위해서는 883nm의 빛에 대한 투과율과 824nm의 빛에 대한 투과율을 비교할 수 있다. 즉, 상술하였듯이 PDP에서 방출되는 대부분의 빛이 883nm와 824nm 부근에서 피크를 나타내므로 상기 두 파장에서의 광투과율을 판단함으로써 근적외선 흡수용 PDP 필터의 투과율의 대표치로 설정할 수 있는 것이다.
그 뿐만 아니라, 앞에서도 설명하였듯이 상기 880~1000nm의 파장 대역중에서도 상기 880~920nm 및 980~1000nm 파장 대역의 빛에 대한 차단이 많이 이루어져야 하며, 따라서 두 파장대역의 빛에 대한 차단율은 비슷하게 높은 수준으로 유지, 즉 상기 두 파장대역의 빛에 대한 투과율이 비슷하게 낮은 수준으로 될 필요가 있다. 따라서, 상기 두 파장대역의 빛에 대한 PDP 필터의 투과율의 차이의 절대값은 5%이하로 제한하는 것이 바람직하다.
상기 특징을 가진 PDP 필터는 염료로서 시아닌(Cyanine)계, 프탈로/나프탈로시아닌(Phthalo/Naphthalocyanine)계, 금속 착물 등을 1종 또는 2종이상 포함한 것을 사용할 수 있다.
그리고, 상기 금속 착물 염료는 하기 화학식 1 또는 2의 구조를 가지는 화합물인 것이 바람직하다.
<화학식 1>
Figure 112007011998683-pat00015
(상기 화학식 1에서, A1 ∼ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 니트로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 비치환된 알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 알콕시, 치환 또는 비치환된 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 알킬티오, 치환 또는 비치환된 아릴티오, 치환 또는 비치환된 알킬아미노, 치환 또는 비치환된 아릴아미노, 치환 또는 비치환된 알킬카보닐아미노 또는 치환 또는 비치환된 아릴카보닐아미노기이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기 또는 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고; Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이며; X+ 는 4급 암모늄 또는 4급 포스포늄을 나타내고; M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
<화학식 2>
Figure 112007011998683-pat00016
(상기 화학식 2에서, B1 ∼ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 하이드록시, 니트로, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 플루오로알킬, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 또는 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 나프틸기이고, 상기 치환기는, 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 1~16의 알킬아미노기이며, M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
또한, 상기 프탈로시아닌(phthalocyanine) 염료는 하기 화학식 3의 화합물이고, 상기 나프탈로시아닌 (naphthalocyanine)염료는 하기 화학식 4의 화합물인 것이 바람직하다.
<화학식 3>
Figure 112007011998683-pat00017
<화학식 4>
Figure 112007011998683-pat00018
(상기 화학식 3 및 4에서,
상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며상기 치환기는 할로겐원자, 알킬 티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.)
또한, 상기 시아닌계 염료는 하기 화학식 5의 화합물인 것이 바람직하다.
<화학식 5>
Ar1-A-Ar2
(상기 화학식 5에서,
A는 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 7의 공액 이중결합을 형성하는 하이드로카르빌렌기이며;
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로고리기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 포함하는 다환식 고리 화합물 그룹이다.)
여기서 상기 A로는 보다 구체적으로는 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 그 예로 들 수 있다.
<화학식 6>
여기서 Y는 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기이고, Z는 수소 원자 또는 할로겐기, 시아노기, 탄소수 1∼8 알킬기 또는 탄소수 6∼10의 아릴기이다.
또한, 상기 Ar1 및 Ar2는 보다 구체적으로는 하기 화학식 7로 표시되는 것을 그 예로 들 수 있다.
<화학식 7>
Figure 112007011998683-pat00020
상기에서, 치환기 X는 아로마틱링(Aromatic ring)의 어디에도 치환될 수 있으며, 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기 등을 예로 들 수 있으며, 상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.
본 발명의 사용될 수 있는 상기 시아닌계 염료로는 바람직하게는 하기 화학식 8 내지 15의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 화합물일 수 있다.
<화학식 8>
Figure 112007011998683-pat00021
<화학식 9>
Figure 112007011998683-pat00022
<화학식 10>
Figure 112007011998683-pat00023
<화학식 11>
Figure 112007011998683-pat00024
<화학식 12>
Figure 112007011998683-pat00025
<화학식 13>
Figure 112007011998683-pat00026
<화학식 14>
Figure 112007011998683-pat00027
<화학식 15>
Figure 112007011998683-pat00028
또한, 기재로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)를 사용하는 것이 바람직하며, 염료는 기재에 코팅된 형태로 사용하는 것이 바람직하다. 코팅은 상기 염료를 메틸에틸케톤(MEK), 에틸아세테이트(EA), 톨루엔 등의 용매 및 바인더와 함께 코팅한 후 건조시키는 방식의 습식 코팅법을 이용할 수 있다. 상기 바인더로는 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 바인더, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지 또는 폴리카보네이트(PC)를 사용하거나 공중합체 감압성 접착제(PSA)를 사용하는 것이 바람직하다. 만일 PSA 이외의 바인더를 이용할 경우에는 코팅층 외곽에 다시 PSA 등의 점착제를 코팅하여 점착성을 부여하는 것이 일반적이며, PSA를 바로 바인더로 사용할 경우에는 바인더에 의해 점착성이 부여되기 때문에 부가적으로 점착제를 코팅할 필요는 없다.
상기 염료가 습식 코팅법으로 코팅될 경우의 충분한 근적외선 흡수능을 가지기에 바람직한 코팅층 두께는 3~20㎛ 이며, 특히 PSA를 바인더로 사용하여 코팅할 경우의 바람직한 코팅층 두께는 20~30㎛ 이다.
(실시예)
실시예
100㎛ 두께의 PET 기재위에 메틸에틸케톤(MEK)를 포함하는 용매 89g과 염료로서 최대흡수파장이 958nm인 일본촉매의 프탈로시아닌계 염료인 910B 140mg와 역시 프탈로시아닌계 염료이며, 최대흡수파장이 911nm인 906B 53mg 및 바인더인 아크릴계 PSA 11g을 혼합하여 약 250㎛ 두께로 코팅한 후 120℃에서 5분간 건조하여 본 발명에 따른 25㎛두께의 근적외선 흡수 필름을 제조하였다.
비교예
800~1200nm 대역의 파장을 모두 흡수할 수 있도록 하기 위하여 광 흡수 파장이 각각 약 1100nm, 850nm인 Japan Carlit사의 디임모늄계 염료인 CIR 1081 600mg 및 Epolin사의 금속 착물계 염료인 V-63 300mg을 Tg(유리전이온도)가 90℃ 이상인 아크릴계 바인더 30g, 메틸에틸케톤 용매 70g과 혼합하여, 건조 후 두께 10㎛의 근적외선 흡수 필름을 제조하였다. 상기 제작된 근적외선 흡수용 PDP 필터에서의 코팅층 두께는 10㎛이었다.
상기 근적외선 흡수용 필터의 근적외선 흡수 성능 시험을 다음과 같이 실시하였다.
1. 파장대별 근적외선 투과율은 필터를 사용하지 않았을 때의 근적외선 방출량을 측정한 결과와 필터를 사용하였을 때의 근적외선 방출량을 측정한 결과를 비교하여 필터를 사용하지 않았을 때의 근적외선 방출량에 대한 방출된 근적외선 양의 차이의 비율로 구하였다. 파장대별 근적외선 방사 휘도는 Ocean OPtics 사의 스펙트로미터인 HR4000을 사용하여 측정하였다. 상술한 바와 같이 각 방사 휘도는 전체 파장대역의 방사 휘도를 100으로 보았을 때의 분율로서 표시하였다.
2. 리모트 콘트롤러 수신부로 Sharp사 모델번호 PD410PI 및 Osram_SF사 모델번호 H 5110로 제조된 리모트 콘트롤러 수신부의 파장별 감도 곡선을 고려하여 센서에 감지되는 빛의 양을 계산하였다.
3. 각 필름의 투과율은 Shimadzu 사의 uv-vis 스펙트로미터(모델명 : uv3101)을 이용하여 측정하였다.
실시예에 의해 제조된 근적외선 흡수용 필터와 비교예에 의해 제조된 근적외선 흡수용 필터의 파장에 따른 투과율 값을 도 4의 그래프로 비교하였다.
그래프에서 볼 수 있듯이, 비교예에 의해 제조된 필터는 800nm 이상의 전체 파장에 대하여 고르게 근적외선 흡수 성능을 보유하기 위하여 여러 종류의 염료를 사용하여 모든 파장대에서 투과율을 감소시키고자 한 반면, 실시예에 의해 제조된 필터는 880~1000nm대의 파장(보다 상세하게는 900~960nm)대의 파장의 근적외선을 보다 많이 흡수할 수 있도록 설계된 것이다.
하기 표 4에 상기 실시예와 비교예에 의해 제조된 PDP 필터에 대한 근적외선 흡수 시험결과를 나타내었다.
PDP의 NIR 방출량* 리모컨 센서의 감광도 (%) PDP filter의 투과율(%) 필터 통과 후 리모컨 센서에서 감지되는 NIR Noise(%)
실시예 비교예
Sharp PD410PI Osram_SFH 5110 실시예 비교예 Sharp Osram Sharp Osram
전영역 800~1000nm 100* 55.4 62.2 6.5 5.5 3.6 3.7 3.6 3.7
대역별 800~880nm 19 13.3 19.9 13.1 9.3 0.2 0.3 0.1 0.2
880~920nm 48 63.3 85.7 2.7 3.5 1.7 2.1 1.9 2.3
920~980nm 1 92.1 96.4 0.9 2.7 0.1 0.1 0.2 0.1
980~1000nm 32 99.4 83.8 4.3 2.8 1.6 1.2 1.4 1.1
880~1000 81 83.7 90.8 2.1 3.0 3.4 3.4 3.5 3.5
1000~1050nm 0 93.9 59.2 30.1 2.8 0 0 0 0
*800~1000nm 대역에서 발생하는 근적외선양을 100으로 가정하였음
상기 표 2의 결과로부터 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 근적외선 필터(실시예)는 종래기술(비교예)에 비하여 800~880nm의 투과율은 증가시킨데 반하여, 880~920nm에서의 투과율을 감소시킨 것이다. 이러할 경우 PDP에서 동일한 방사 휘도의 근적외선이 방출될 경우 리모컨 수광부에서 감지되는 근적외선의 강도는 실시예의 경우 3.6%와 3.7%로, 비교예의 3.6%와 3.7%과 동일하여 큰 차이가 없을 것으로 예측된다. 이러한 이유는 리모트 콘트롤러 센서의 감도가 낮은 800~880nm 영역의 근적외선 차폐 특성을 다소 희생하더라도 880~920nm 영역을 집중해서 차폐하면 PDP에서 방사되는 근적외선에 의한 리모트 콘트롤러 수신부의 영향을 최소화할 수 있기 때문이다.
따라서, 본 발명에서 의도하는 바와 같이 좁은 파장대역에서 작용하는 소량의 염료(바람직하게는 한 종류의 염료)만을 사용한 근적외선 흡수용 PDP 필터의 효과를 확인할 수 있었다.
본 발명은 기존에 사용되던 다량의 염료를 사용한 근적외선 PDP 필터에 비하여 적은 종류의 염료를 사용하고도 충분한 근적외선 흡수 성능을 가지는 PDP 필터를 제공하는 것으로, 본 발명에 의할 경우에는 PDP 필터의 생산성이 향상되고, 제조비용이 절감될 뿐만 아니라, 불필요한 염료에 의한 광 투과율의 감소등의 문제도 방지할 수 있다.

Claims (17)

  1. 근적외선에 대한 최대 흡수파장이 880~1000nm인 염료를 포함하는 근적외선 흡수용 PDP 필터로서,
    상기 염료는 시아닌 (Cyanine)계, 프탈로/나프탈로시아닌 (Phthalo /Naphthalocyanine) 계, 금속 착물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상이며,
    상기 금속 착물 염료는 하기 화학식 1 또는 2의 구조를 가지는 화합물이고,
    상기 프탈로시아닌(phthalocyanine) 염료는 하기 화학식 3의 화합물이고, 상기 나프탈로시아닌 (naphthalocyanine)염료는 하기 화학식 4의 화합물이며,
    상기 시아닌계 염료는 하기 화학식 5의 화합물 또는 하기 화학식 8 내지 15의 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
    <화학식 1>
    Figure 112009066614185-pat00047
    (상기 화학식 1에서, A1 ∼ A8은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 니트로, 시아노, 티오시아나토, 시아나토, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 치환 또는 비치환된 알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 알콕시, 치환 또는 비치환된 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 알킬티오, 치환 또는 비치환된 아릴티오, 치환 또는 비치환된 알킬아미노, 치환 또는 비치환된 아릴아미노, 치환 또는 비치환된 알킬카보닐아미노 또는 치환 또는 비치환된 아릴카보닐아미노기이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기 또는 탄소수 1~16의 알킬아미노기이고; Y1과 Y2는 각각 독립적으로 산소 또는 황이며; X+ 는 4급 암모늄 또는 4급 포스포늄을 나타내고; M1은 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
    <화학식 2>
    Figure 112009066614185-pat00048
    (상기 화학식 2에서, B1 ∼ B4는 각각 독립적으로 수소, 시아노, 하이드록시, 니트로, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오, 플루오로알킬, 아실, 카바모일, 알킬아미노카보닐, 알콕시카보닐, 아릴옥시카보닐, 또는 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 나프틸기이고, 상기 치환기는, 할로겐 원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 1~16의 알킬아미노기이며, M2는 니켈, 플라티늄, 팔라듐 또는 구리임.)
    <화학식 3>
    Figure 112009066614185-pat00049
    <화학식 4>
    Figure 112009066614185-pat00050
    (상기 화학식 3 및 4에서,
    상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며상기 치환기는 할로겐원자, 알킬 티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.)
    <화학식 5>
    Ar1-A-Ar2
    (상기 화학식 5에서,
    A는 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 7의 공액 이중결합을 형성하는 하이드로카르빌렌기이며;
    Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로고리기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 포함하는 다환식 고리 화합물 그룹이다.)
    <화학식 8>
    Figure 112009066614185-pat00051
    <화학식 9>
    Figure 112009066614185-pat00052
    <화학식 10>
    Figure 112009066614185-pat00053
    <화학식 11>
    Figure 112009066614185-pat00054
    <화학식 12>
    Figure 112009066614185-pat00055
    <화학식 13>
    Figure 112009066614185-pat00056
    <화학식 14>
    Figure 112009066614185-pat00057
    <화학식 15>
    Figure 112009066614185-pat00058
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 염료의 최대 흡수파장은 900~960nm인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  3. 제 1 항에 있어서, 880~1000nm의 파장대역의 광 투과율이 800~880nm 파장대역의 광 투과율에 비하여 10% point 이상 낮은 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  4. 제 3 항에 있어서, 883nm의 광 투과율이 824nm의 광투과율에 비하여 10% point 이상 낮은 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 A는 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 필터.
    <화학식 6>
    Figure 112009066614185-pat00033
    여기서 Y는 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기이고, Z는 수소 원자 또는 할로겐기, 시아노기, 탄소수 1∼8 알킬기 또는 탄소수 6∼10의 아릴기이다.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar2는 하기 화학식 7로 표시되는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 필터.
    <화학식 7>
    Figure 112009066614185-pat00034
    상기에서, 치환기 X는 아로마틱링(Aromatic ring)의 어디에도 치환될 수 있으며, 할로겐 원자, 니트로기, 시아닌기, 술폰산기, 술폰산염기, 술포닐기, 카르복실기, 탄소수 2∼8의 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 카르복실레이트기 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 알콕시기 또는 탄소수 6∼30의 아릴기 등을 예로 들 수 있으며, 상기 R은 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴옥시기, 치환 또는 비치환된 질소 원자를 한 개 이상 가지는 오각환이며, 상기 치환기는 할로겐원자, 알킬티오, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 6~10의 아릴옥시기, 탄소수 1~16의 알킬아미노기이다.
  12. 삭제
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 염료가 용매 및 바인더와 함께 기재 위에 습식 코팅된 후 건조하여 제조되는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 용매는 메틸에틸케톤(MEK), 에틸아세테이트(EA), 톨루엔 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 바인더로 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 바인더, 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 수지 또는 폴리카보네이트(PC)를 사용하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 염료, 용매 및 바인더의 혼합물이 코팅 및 건조된 코팅층 외곽에 공중합체 감압성 접착제(PSA)가 추가로 코팅되는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
  17. 제 13 항에 있어서, 상기 바인더로 공중합체 감압성 접착제(PSA)를 사용하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수용 PDP 필터.
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