KR100962361B1 - Thin film solar cell manufacturing deposition equipment - Google Patents
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Abstract
박막형 태양전지를 제조할 때 파티클(Particle)에 의하여 증착 대상물이 오염되는 것을 방지하여 태양전지의 성능 저하를 줄이며, 유지 보수에 소요되는 비용을 감소시킬 수 있는 박막형 태양전지 제조용 증착 장치를 개시한다.Disclosed is a deposition apparatus for manufacturing a thin-film solar cell, which can prevent the deposition object from being contaminated by particles when manufacturing a thin-film solar cell, reduce the performance of the solar cell, and reduce the cost of maintenance.
본 발명의 박막형 태양전지 제조용 증착 장치는, 증착 대상물이 들어가거나 나오는 입구 및 출구를 구비한 쳄버, 쳄버 내부로 가스를 공급하는 가스 공급부, 쳄버 내부에 배치되는 가열부 어셈블리, 쳄버 내부에 배치되는 가이드 레일, 가이드 레일을 따라 미끄럼 이동하는 증착 대상물 고정 트레이, 증착 대상물 고정 트레이를 이송시키는 이송부를 포함한다.The deposition apparatus for manufacturing a thin-film solar cell of the present invention includes a chamber having an inlet and an outlet into and out of a deposition object, a gas supply unit supplying gas into the chamber, a heating unit assembly disposed inside the chamber, and a guide disposed inside the chamber. And a transfer unit for transferring the deposition target fixing tray and the deposition target fixing tray sliding along the rail, the guide rail.
태양전지, 증착, 실리콘, 박막형, 열선, 수직 Solar Cell, Deposition, Silicon, Thin Film, Hot Wire, Vertical
Description
본 발명은 박막형 태양전지를 제조하는데 이용되는 박막 증착 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 박막형 태양전지를 제조할 때 파티클(Particle)로 인하여 발생할 수 있는 오염을 방지하여 태양전지의 성능 저하를 줄이며 유지 보수 비용을 감소시킬 수 있는 박막형 태양전지 제조용 증착 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film deposition apparatus used to manufacture a thin film solar cell, and more particularly, to prevent contamination caused by particles when manufacturing a thin film solar cell, thereby reducing and maintaining performance degradation of the solar cell. The present invention relates to a deposition apparatus for manufacturing a thin-film solar cell capable of reducing maintenance costs.
일반적으로 박막형 태양전지는 원료가스 분해, 실리콘 증착, PN 접합 형성, 그리고 반사 방지막과 전극을 형성하여 제조된다. 원료가스의 분해는 진공 내에 실리콘을 포함한 모노실란 등의 원료 가스를 유입하고, 플라즈마 또는 열선 등의 높은 에너지를 가하여 이루어진다. 통상 200℃ ~ 300℃로 가열된 투명전극(ITO)을 지닌 글라스 기판 위에 원료가스와 붕소를 포함한 가스(B2H6)를 혼입하여 P형 박막을 형성하고, 다음으로 모노실란을 투입하여 실리콘이 증착한 대상물 위에 쌓이도록 한다. 그 다음으로 원료가스와 인을 포함한 가스(Ph3)를 혼입하여 N형 박막을 형성함으로써 박막형 태양전지가 제조된다. 이러한 통상의 박막형 태양 전지 제조 과정 에서 사용되는 박막 증착 장치는 증착 대상물(글라스 기판 등)이 아래쪽에 배치되고 대상물의 위쪽에 가스 공급장치 및 플라즈마 소스 또는 열선 등으로 이루어지는 가열부가 위치되는 수평 배치 구조로 이루어진다. Generally, thin film solar cells are manufactured by source gas decomposition, silicon deposition, PN junction formation, and anti-reflection film and electrode formation. The decomposition of the source gas is performed by introducing a source gas such as monosilane containing silicon into a vacuum and applying high energy such as plasma or hot wire. Normally, a gas mixture containing raw material gas and boron (B 2 H 6 ) is mixed on a glass substrate having a transparent electrode (ITO) heated at 200 ° C. to 300 ° C. to form a P-type thin film, and then monosilane is added to silicon. This deposits on the deposited object. Next, a thin film type solar cell is manufactured by mixing an raw material gas and a gas (Ph 3) containing phosphorus to form an N type thin film. The thin film deposition apparatus used in the manufacturing process of the conventional thin film solar cell has a horizontal arrangement structure in which a deposition object (glass substrate, etc.) is disposed below and a heating part including a gas supply device and a plasma source or a heating wire is positioned above the object. Is done.
이러한 종래의 박막 증착 장치는 증착 과정에서 가스 공급장치 등에 붙어 있던 파티클이 증착 대상물로 떨어져 태양전지의 불량이 발생되거나 또는 성능 및 효율이 떨어질 수 있는 문제점이 있다. Such a conventional thin film deposition apparatus has a problem that a particle attached to a gas supply device, etc. during the deposition process may fall into a deposition target, causing a defect of a solar cell, or deteriorating performance and efficiency.
또한, 상기 열선을 이용하는 경우 일반적으로 상기 열선의 양단이 서로 고정되는 양단 고정형 구조로 이루어져 고온의 발열 과정을 통하여 처짐 등의 변형이 발생되고 이로 인하여 전기적인 특성 및 실리콘이 증착되는 두께를 변화시킬 수 있는 단점을 갖는 한편, 상기 열선을 자주 교체해야 하므로 유지 보수 비용이 증대되는 문제점이 있다.In addition, in the case of using the hot wire, generally, both ends of the hot wire are fixed to each other, so that deformations such as sag are generated through a high temperature heating process, thereby changing electrical characteristics and thickness of silicon deposition. On the other hand, there is a problem that the maintenance cost is increased because the hot wire must be replaced frequently.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 태양전지를 제작하는 과정에서 증착 대상물로 파티클이 떨어지는 것을 방지하여 제품의 불량을 줄일 수 있는 박막형 태양전지 제조용 증착 장치를 제공하는데 있다.Therefore, the present invention has been proposed to solve the above problems, an object of the present invention is to prevent the falling of particles to the deposition target in the process of manufacturing a solar cell deposition apparatus for manufacturing a thin film type solar cell that can reduce the defect of the product To provide.
또한, 본 발명은 열선의 사용 기간을 늘림으로써 교체 작업을 줄여 유지 보수 비용을 줄일 수 있는 박막형 태양전지 제조용 증착 장치를 제공하는데 있다.In addition, the present invention is to provide a deposition apparatus for manufacturing a thin-film solar cell that can reduce the maintenance work by increasing the service life of the hot wire.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 증착 대상물이 유입되거나 배출되는 입구 및 출구를 구비한 쳄버, 상기 쳄버 내부로 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 쳄버 내부에 배치되는 가열부 어셈블리, 상기 쳄버 내부에 배치되는 가이드 레일, 상기 가이드 레일을 따라 미끄럼 이동하는 증착 대상물 고정 트레이, 상기 증착 대상물 고정 트레이를 이송시키는 이송부를 포함하는 박막형 태양전지 제조용 증착 장치를 제공하다.In order to achieve the above object, the present invention is a chamber having an inlet and an outlet through which the deposition object is introduced or discharged, a gas supply unit for supplying gas into the chamber, a heating unit assembly disposed inside the chamber, Provided is a deposition apparatus for manufacturing a thin-film solar cell comprising a guide rail disposed inside the chamber, a deposition target fixing tray sliding along the guide rail, and a transfer unit for transferring the deposition target fixing tray.
상기 쳄버는 바디, 상기 바디에 일측이 힌지 결합되고 다른 일측에 체결부가 결합되는 커버로 이루어지는 것이 바람직하다.The chamber is preferably made of a body, the cover is hinged to one side of the body and the fastening portion is coupled to the other side.
상기 쳄버에는 상기 가스 공급부를 통하여 내부로 유입되는 가스를 상기 가열부 어셈블리 측으로 확산시키는 가스 확산판이 제공되는 것이 바람직하다.The chamber is preferably provided with a gas diffusion plate for diffusing the gas introduced into the interior through the gas supply to the heating unit assembly side.
상기 가이드 레일은 위와 아래로 일정한 거리가 떨어져 쌍을 이루어 배치되 는 것이 바람직하다.The guide rail is preferably arranged in pairs apart at a certain distance up and down.
상기 증착 대상물 고정 트레이에는 상기 증착 대상물이 수직인 상태로 고정되어 이송되는 것이 바람직하다.It is preferable that the deposition target is fixed and transported in a vertical state to the deposition target fixing tray.
상기 증착 대상물 고정 트레이는 증착 대상물이 끼워지는 홈이 제공되는 것이 바람직하다.The deposition target fixing tray is preferably provided with a groove into which the deposition target is fitted.
상기 가열부 어셈블리는 고정틀, 상기 고정틀에 일정한 간격으로 고정되는 열선들, 상기 열선들의 일단이 상기 고정틀에 고정되는 제1 고정부, 상기 열선들의 타단이 상기 고정틀에 고정되는 제2 고정부, 상기 제2 고정부의 위치를 조절하여 상기 열선들의 장력을 조절하는 장력 조절부를 포함하는 것이 바람직하다.The heating unit assembly may include a fixing frame, hot wires fixed to the fixing frame at regular intervals, a first fixing part to which one end of the heating wires are fixed to the fixing frame, and a second fixing part to which the other ends of the heating wires are fixed to the fixing frame, 2 preferably comprises a tension control unit for adjusting the tension of the hot wires by adjusting the position of the fixing portion.
상기 장력 조절부는 상기 고정틀에 고정되는 지지플레이트, 상기 지지플레이트에 나사 결합되어 상기 제2 고정부를 가압하는 장력조절부재, 상기 고정틀과 상기 제2 고정부 사이에 배치되어 상기 제2 고정부를 상기 장력조절부재 측으로 가압하는 탄성부재를 포함하는 것이 바람직하다.The tension adjusting part is a support plate which is fixed to the fixing frame, a tension adjusting member which is screwed to the support plate to press the second fixing part, disposed between the fixing frame and the second fixing part is the second fixing part It is preferable to include an elastic member for pressing to the tension control member side.
상기 제1 고정부는 상기 고정틀에 결합되는 제1 고정블럭, 상기 제1 고정블럭에 체결부재에 의하여 고정되는 제2 고정블럭, 상기 제1 고정블럭과 제2 고정블럭 사이에 상기 열선들이 배치되고 상기 제1 고정블럭과 상기 제2 고정블럭을 고정하는 체결부재를 포함하는 것이 바람직하다.The first fixing part may include a first fixing block coupled to the fixing frame, a second fixing block fixed to the first fixing block by a fastening member, and the hot wires are disposed between the first fixing block and the second fixing block. It is preferable to include a fastening member for fixing the first fixed block and the second fixed block.
상기 제2 고정부는 상기 고정틀에 제공된 홈에 배치되는 제3 고정블럭, 상기 제3 고정블럭에 체결부재에 의하여 고정되는 제4 고정블럭, 상기 제3 고정블럭과 제4 고정블럭 사이에 상기 열선들이 배치되고 상기 제3 고정블럭과 상기 제3 고정 블럭을 고정하는 체결부재들을 포함하는 것이 바람직하다.The second fixing part may include a third fixing block disposed in a groove provided in the fixing frame, a fourth fixing block fixed to the third fixing block by a fastening member, and the heating wires between the third fixing block and the fourth fixing block. It is preferable to include fastening members disposed and fixing the third fixing block and the third fixing block.
상기 가열부 어셈블리는 열선들이 수직 방향으로 배치된 상태로 상기 쳄버에 고정되는 것이 바람직하다.The heating unit assembly is preferably fixed to the chamber with the heating wires arranged in the vertical direction.
상기 이송부는 상기 쳄버에 결합되는 구동원, 상기 구동원에 의하여 회전하며 상기 증착 대상물 또는 증착 대상물 고정 트레이를 밀어서 상기 가이드 레일을 따라 이동시키는 하나 이상의 트랜스퍼 로드를 구비하는 것이 바람직하다.Preferably, the transfer unit includes a driving source coupled to the chamber, and one or more transfer rods rotated by the driving source to move the deposition target or the deposition target fixing tray along the guide rail.
이와 같은 본 발명은 가열부 어셈블리와 증착 대상물이 수직한 방향으로 서로 마주하여 배치되는 구조를 통하여 가스 공급부 측에서 자유 낙하하는 파티클(particle)에 의하여 증착 대상물이 오염되는 것을 방지하여 제품의 불량을 줄일 수 있는 효과를 가진다.The present invention reduces the defects of the product by preventing contamination of the deposition object by particles falling freely on the gas supply side through a structure in which the heating unit assembly and the deposition object face each other in the vertical direction. Has the effect.
또한, 본 발명은 초기 열선들을 세팅할 때 장력 조절부에 의하여 각각의 열선의 특성에 맞도록 정밀하게 열선들의 장력을 조절하여 최적화시킴으로써 열선들의 수명을 연장하여 유지 보수 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention has the effect of reducing the maintenance cost by extending the life of the hot wires by optimizing by adjusting the tension of the hot wires precisely to match the characteristics of each hot wire by the tension control unit when setting the initial hot wires. .
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시 예에 적용될 수 있으며 공정 쳄버가 배치된 위치를 도시한 도면으로, 박막형 태양전지 제조용 증착 장치를 도시하고 있다. 1 is a view showing a position where a process chamber is arranged and applicable to an embodiment of the present invention, and shows a deposition apparatus for manufacturing a thin film solar cell.
박막형 태양전지 제조용 증착 장치는 로딩부(L)와 제1 쳄버(1), 제2 쳄 버(3), 제3 쳄버(5), 그리고 언로딩부(UL)를 포함한다. 로딩부(L)는 증착 대상물을 제1 쳄버(1)의 내부로 공급할 수 있는 것으로 이송용 로봇 등 통상의 장치가 사용될 수 있다. 또한, 언로딩부(UL)는 제3 쳄버(5)에서 처리 공정이 완료된 상태에서 증착 대상물을 인출하기 위한 장치로 이 역시 이송용 로봇 등 통상의 장치가 사용될 수 있다. The deposition apparatus for manufacturing a thin film solar cell includes a loading unit L, a
또한 박막형 태양전지는 통상 글라스 기판(이하 '증착 대상물' 이라 함)에 P형층과 N형 층이 증착 공정에 의하여 형성된다. 박막형 태양전지에 적용되는 증착 공정은 상술한 제1 쳄버(1), 제2 쳄버(3), 그리고 제3 쳄버(5)들이 순차적으로 증착 대상물이 이동되면서 이루어질 수 있다.In addition, in the thin film solar cell, a P-type layer and an N-type layer are usually formed on a glass substrate (hereinafter referred to as a 'deposition object') by a deposition process. The deposition process applied to the thin film solar cell may be performed by moving the deposition targets to the
도 2는 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 상술한 쳄버들의 일 예를 도시한 사시도이고, 도 3은 도 2의 주요부를 나타내는 사시도이며, 도 4는 도 3의 주요 부분을 분해한 도면으로, 쳄버(11)를 도시하고 있다. 2 is a perspective view showing an example of the above-described chambers for explaining an embodiment of the present invention, Figure 3 is a perspective view showing the main part of Figure 2, Figure 4 is an exploded view of the main part of Figure 3, The
본 발명의 실시 예에서의 쳄버(11)는 바디(13)와 커버(15)로 이루어질 수 있다. 바디(13)는 양 측면에 글라스 기판 등의 증착 대상물(W, 도 4에 표시하고 있음)이 수직 상태로 들어가거나 나갈 수 있는 입구(17)와 출구(19)가 제공된다. 또한, 상술한 쳄버(11)는 그 내부에 원료가스 등을 공급하기 위한 가스 공급부(21, 도 2에 도시하고 있음)가 제공된다.The
바디(13)에는 커버(15)의 저면이 힌지 결합된다. 그리고 커버(15)의 위쪽은 상술한 바디(13)에 체결부재(23)로 결합된다. 바디(13)와 커버(15)를 결합하는 체결부재(23)는 통상의 원터치식 클램프 등이 사용될 수 있다. 이와 같이 바디(13)에 커버(15)가 힌지 결합되면서 원터치식의 클램프로 이루어진 체결부재(23)에 의하여 결합 상태가 유지될 수 있는 구조는, 필요한 경우 커버(15)를 쉽게 바디(13)에서 분리하여 유지 보수를 편리하게 할 수 있는 것이다. The bottom surface of the
상술한 커버(15)에는 그 내측 부분에 가스 공급부(21)에서 공급되는 원료 가스를 확산시키기 위한 가스 확산판(31)이 결합된다. 가스 확산판(31)에는 다수의 관통된 구멍이 뚫어져 있어 넓은 면으로 가스를 분산시킬 수 있다. The
또한, 커버(15)에는 가스 확산판(31)과 일정한 공간이 띄워지는 위치에 가열부 어셈블리(33)가 결합된다. 그리고 바디(13)에는 증착 대상물(W)이 수직으로 세워진 상태로 미끄럼 이동되어 내부로 유입되거나 또는 외부로 배출되도록 안내하는 가이드 레일(35, 37, 도 5에 도시하고 있음)이 제공된다. 그리고 바디(13)에는 증착 대상물(W)을 이송시키는 이송부(39, 도 8에 도시하고 있음)가 제공된다. In addition, the
상술한 가열부 어셈블리(33)는, 도 6과 도 7에 도시하고 있는 바와 같이, 중앙부에 공간이 제공되고 대략 사각형상으로 이루어지는 고정틀(41), 이 고정틀(41)의 하단에 결합되며 열선(43)의 일단을 고정하는 제1 고정부(45), 열선(43)의 타단을 고정하며 고정틀(41)의 상부에 배치되는 제2 고정부(47), 그리고 제2 고정부(47)의 위치를 가변시켜 열선의 초기 장력을 조절하는 장력 조절부(49, 도 6에 도시하고 있음)를 포함한다.As shown in FIGS. 6 and 7, the
제1 고정부(45)는 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53), 그리고 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53)을 결합하는 체결부재(55)들을 포함한다. 제1 고정블럭(51)은 고정틀(41)의 하단에 제공된 홈(41a, 도7에 도시하고 있음)에 일정한 간 격으로 별도의 나사 또는 볼트 등의 체결부재에 의하여 결합된다. 그리고 제1 고정블럭(51)의 일면에는 제2 고정블럭(53)이 체결부재(55)에 의하여 결합된다. 그리고 열선(43)은 일 끝부분이 상술한 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53) 사이에 끼워지도록 배치하고 나사 또는 볼트 등의 체결부재(55)에 의하여 고정된다. 이러한 열선(43)은 일정한 간격으로 다수개가 배치되는 것이 바람직하다.The
제2 고정부(47)는 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63), 그리고 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63)을 결합하는 또 다른 체결부재(65)들을 포함한다. 제3 고정블럭(61)은 고정틀(41)의 상단에 제공된 또 다른 홈(41b)에 일정한 간격으로 배치된다. 그리고 제3 고정블럭(61)의 일면에는 제4 고정블럭(63)이 또 다른 체결부재(65)에 의하여 결합된다. 그리고 열선(43)은 다른 끝 부분이 상술한 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63) 사이에 끼워지도록 배치하고 나사 또는 볼트 등의 체결부재(65)에 의하여 고정된다. 이러한 열선(43)은 일정한 간격으로 다수개가 배치된다. 그리고 이러한 제2 고정부(47)는 장력 조절부(49)에 의하여 그 위치가 가변될 수 있는 상태로 결합된다.The
장력 조절부(49)는, 도 6에 도시하고 있는 바와 같이, 고정틀(41)에 체결부재로 결합되는 지지플레이트(71), 지지플레이트(71)에 관통되어 결합되는 다수의 장력조절부재(73), 그리고 제2 고정부(47)를 상술한 장력조절부재(73)측으로 가압하도록 탄성력이 작용하는 탄성부재(75)를 포함한다.As shown in FIG. 6, the
지지플레이트(71)는 상술한 고정틀(41)에 제공된 홈(41b)의 일부를 막아 제2 고정부(41)들이 홈(41b) 내부에 수납되는 상태를 유지할 수 있도록 고정틀(41)에 나사 또는 볼트 등의 체결부재로 결합된다. 그리고 이 지지플레이트(71)는 다수의 구멍이 일정한 간격으로 제공되어 열선(43)들이 관통된 상태로 고정될 수 있다. 장력조절부재(73)는 상술한 지지플레이트(71)에 일정한 간격으로 결합되어 제2 고정부(47)의 제3 고정블럭(61) 또는 제4 고정블럭(63)에 밀착될 수 있다. 그리고 탄성부재(75)는 압축코일 스프링으로 이루어지는 것이 바람직하며, 제2 고정부(47)가 장력조절부재(73)의 선단에 밀착되도록 고정틀(41)의 홈(41b)에 배치된다.The
한편, 상술한 바디(13)에는 가이드 레일(35, 37, 도 5와 도 8에 도시하고 있음)들이 배치된다. 가이드 레일(35, 37)은 입구(15)와 출구(17)를 통하여 증착 대상물 고정트레이(91)가 이동될 수 있는 방향으로 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 가이드 레일(35, 37)은 상, 하 방향으로 일정한 거리가 띄워져 쌍을 이루어 배치된다. 이러한 가이드 레일(35, 37)은 증착 대상물(W)이 수직으로 배치된 상태로 이동될 수 있도록 배치될 수 도 있고, 수직을 기준으로 일정한 각도로 기울어진 상태로 증착 대상물을 이동시키는 것도 가능하게 그 위치를 다르게 배치하는 것도 가능하다.Meanwhile, the guide rails 35 and 37 (shown in FIGS. 5 and 8) are disposed on the
증착 대상물 고정트레이(91)에는 서로 마주하는 위치에 끼움 홈(91a)이 형성되고, 이 끼움 홈(91a, 도 4에 나타내고 있음)에 증착 대상물(W)이 끼워진다. 이러한 증착 대상물 고정트레이(91)는 증착 대상물(W)이 결합된 상태에서 상술한 가이드 레일(35, 37) 사이에 배치되어 미끄럼 이동될 수 있다.In the deposition
그리고 바디(13)의 내부에는 상술한 증착 대상물 고정 트레이(91)를 인접한 쳄버로 이동시킬 수 있는 이송부(39)가 제공된다. 이송부(39)는 모터(M1, M2)등의 구동원과 이 구동원에 의하여 회전하는 트랜스퍼 로드(101, 103)를 포함한다. 트랜스퍼 로드(101, 103)는 일부가 밴딩된 구조로 이루어지며, 구동원에 의하여 회전되면서 증착 대상물(W) 또는 증착 대상물 고정트레이(91)의 일측을 밀어 가이드 레일(35, 17)을 따라 이송시킬 수 있다. 본 발명의 실시 예에서 이송부(39)는 구동원에 의하여 회전하는 트랜스퍼 로드(101, 103)로 구성된 예를 도시하여 설명하고 있으나 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 구조로 이루어질 수 있다.And the inside of the
이와 같이 이루어지는 본 발명의 실시 예에 의하여 증착 대상물이 쳄버 내에서 증착되는 과정을 설명하면 다음과 같다. When the deposition object is deposited in the chamber according to the embodiment of the present invention made as described above are as follows.
우선, 가열부 어셈블리(33)를 이루는 고정틀(41)에 열선(43)들을 세팅한다. 이때 열선(43)은 일단이 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53) 사이에 위치되도록 배치하고 체결부재(55)로 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53)을 결합한다. 그러면 열선(43)은 일단이 제1 고정블럭(51)과 제2 고정블럭(53) 사이에 끼워져 고정되는 것이다. First, the
또한, 열선(43)은 타단이 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63) 사이에 위치되도록 배치하고 또 다른 체결부재(65)로 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63)을 결합한다, 그러면 열선(43)은 타단이 제3 고정블럭(61)과 제4 고정블럭(63) 사이에 끼워져 고정되는 것이다. 따라서 이와 같은 방법은 열선(43)들을 고정틀(41)에 고정한다. In addition, the
그러나 이와 같이 고정된 열선(43)들은 각각의 장력들이 균일하지 않게 고정된 상태이다. 따라서 작업자는 장력조절부(49)를 이용하여 열선(43)의 각각의 장력 을 조절한다. 즉, 장력조절부재(73)를 회전시키면 지지플레이트(71)를 따라 장력 조절부재(73)가 열선(43)의 길이 방향을 따라 이동한다. 따라서 작업자는 열선(43)의 초기 장력을 용이하게 세팅할 수 있는 것이다. 그리고 탄성부재(75)는 제2 고정부(47)를 항상 장력조절부재(73) 측으로 탄성력이 작용하도록 배치되어 있으므로 장력을 일정한 상태로 유지할 수 있다. However, the fixed
이러한 작업은 열선(43)이 반복적으로 가열되면서 팽창 및 수축을 할 때 비교적 열선(43)들의 특성에 적합한 장력을 미리 정밀하게 세팅함으로써 열선(43)들의 수명을 증대시킬 수 있는 것이다. 따라서 열선(43)들의 수명 증가로 인하여 유지 보수에 필요한 비용을 절감시킬 수 있는 것이다. This operation can increase the service life of the
이와 같이 세팅된 가열부 어셈블리(33)는 커버(15)를 바디(13)에서 오픈한 상태에서 커버(15)의 내부에 고정한다. 그리고 커버(15)를 체결부재(23)를 이용하여 바디(13)에 결합시킨다. 이때 가열부 어셈블리(33)의 열선(43)들은 수직인 상태로 배치되는 것이 바람직하다. 즉, 가열부 어셈블리(33)와 증착 대상물(W)이 서로 수직인 상태에서 마주하여 배치되어야 가스 공급부(21) 측에 있던 파티클이 증착 대상물에 떨어지는 것을 방지할 수 있고, 이로 인하여 증착 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The
그리고 고정 트레이(91)에 제공된 끼움 홈(91a, 도 4에 도시하고 있으며, 상하측 모두에 있으나 편의상 보이는 하단부에만 부호를 부여 함)에 증착 대상물(W)이 끼워진 상태로 제1 쳄버(1)에 공급한다. 즉, 고정트레이(91)들은 증착 대상물(W)의 상, 하 측 모두에 끼워지는 것이다.In addition, the
증착 대상물(W)이 끼워진 고정 트레이(91)는 로딩부(L)에서 로더에 의하여 입구(15)를 통하여 제1 쳄버(1)로 공급되는 것이다. 이때 고정 트레이(91)는 가이드 레일(35, 37)을 따라 이동되어 중앙 부분에 배치된다. 물론, 증착 대상물(W)은 수직인 상태로 배치되는 것이 바람직하다. 그러나 증착 조건에 따라 증착 대상물(W)은 반드시 수직으로만 배치된 상태를 유지하는 것은 아니며 수직과 가까운 다른 각도로도 배치될 수 있다.The fixed
이러한 상태에서 제1 쳄버(1)의 내부로 원료가스가 공급되면 열선을 이용하여 높은 열에너지를 가함으로써 상기 원료 가스를 분해한다. 이때 상기 원료 가스에 예를 들면 붕소 가스를 포함한 가스를 섞어서 투입함으로써 P형 실리콘 박막이 증착 대상물(W)에 증착된다. In this state, when the source gas is supplied to the inside of the
그리고 다음 공정을 진행하기 위하여 제2 쳄버(3)로 증착 대상물 고정트레이(91)를 이송시킨다. 이때 제어유닛(도시생략)에 의하여 모터(M1, M2)를 순차적으로 제어하여 구동시킨다. 그러면 트랜스퍼 로드(101)가 회전하여 증착 대상물 고정트레이(91)에 밀착되면서 증착 대상물 고정트레이(91)를 일측 방향으로 밀어낸다(도 8에 도시하고 있음). 계속해서 또 다른 트랜스퍼 로드(103)가 회전하면서 역시 동일한 방법에 의하여 증착 대상물 고정트레이(91)를 밀어내는 것이다. Then, the deposition
따라서 증착 대상물 고정트레이(91)는 가이드 레일(35, 37)을 따라 이동되면 인접하여 배치된 제2 쳄버(3)로 이동하는 것이다. 따라서 제2 쳄버(3)에서 이후 공정이 진행되면서 태양전지가 제조될 수 있는 것이다.Accordingly, when the deposition
이러한 본 발명의 실시 예는 가열부 어셈블리(33)에 제공되는 열선(43)들의 장력을 각각 조절하여 최적의 상태로 세팅하는 것이 가능하여 열선(43)들의 수명을 연장시킬 수 있으며 유지 보수 비용을 줄일 수 있다. 또한 본 발명의 실시 예는 가열부 어셈블리(33)와 증착 대상물이 서로 수직으로 배치되어 마주하는 형태로 이루어지므로 원료 가스 공급부 측 또는 가열부 어셈블리 측에서 떨어질 수 있는 파티클이 증착 대상물에 직접 떨어지는 것이 방지되어 제품의 불량을 줄일 수 있다.This embodiment of the present invention can be set to the optimum state by adjusting the tension of the
한편, 상술한 본 발명의 실시 예에서는 직접 언급하지 않았으나 파티클이 증착 대상물에 직접 낙하되지 않도록 하기 위한 다른 구조로서 종래 가스 공급부와 가열부 어셈블리의 수평구조를 반전시킴으로써 기판의 하부에 상기 가스 공급부와 가열부 어셈블리를 배치한다. 이에 따라 기판의 저면에 실리콘 박막이 증착되고 기판 상에 파티클이 낙하되는 종래 폐단이 방지될 수 있다. Meanwhile, although not directly mentioned in the above-described embodiment of the present invention, another structure for preventing particles from directly falling onto the deposition target is to invert the horizontal structure of the conventional gas supply unit and the heating unit assembly, thereby heating the gas supply unit and the lower part of the substrate. Place the subassembly. Accordingly, the conventional closed end of the silicon thin film deposited on the bottom surface of the substrate and the particles fall on the substrate can be prevented.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예를 설명하기 위하여 도 6에 대응되는 도면으로 가열부 어셈블리를 도시하고 있다. 본 발명의 다른 실시 예에서의 가열부 어셈블리에 대하여 상술한 실시 예와 동일한 부분은 상술한 실시 예의 설명으로 대치하고 다른 점만을 설명한다. 본 발명의 다른 실시 예는 제1 고정부(45)가 고정틀(41)에 회전축(151)에 의하여 회동 가능하게 결합된다. 즉, 고정틀(41)에 가로 방향(도 9 기준)으로 힌지축(151)이 삽입될 수 있는 홀(41c)이 제공된다. 그리고 제1 고정부(45)에는 이 홀(41c)에 대응되는 위치에 또 다른 홀(도시생략)이 제공된다. 제1 고정부(45)에 제공된 홀은 제1 고정부(45)의 편심된 위치에 제공되는 것이 바람직하다. 제1 고정부(45)는 상술한 힌지축(151)을 중심으로 자중에 의하여 회전할 수 있는 구조로 결합되는 것이 바람직하다. 이러한 제1 고정부(45)의 고정구조는 열 선(43)이 증착 공정 중에 끊어지면, 자중에 의하여 제1 고정부(45)가 가스 공급부(21)측으로는 고정틀(41)의 벽면에 의하여 회전이동이 제한되고 그 반대측으로 회전될 수 있도록 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 구조는 증착 과정 중에 끊어진 열선(43)이 가스 공급부(21) 측에 제공될 수 있는 전기 장치 등에 접촉되어 전기적 합선이 발생할 수 있는 것을 방지하기 위한 것이다.FIG. 9 is a view corresponding to FIG. 6 to illustrate another embodiment of the present invention. The same parts as the above-described embodiment of the heating unit assembly in another embodiment of the present invention will be replaced with the description of the above-described embodiment and only the differences will be described. In another embodiment of the present invention, the first fixing
도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 공정 쳄버의 배치위치를 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining an arrangement position of the process chamber in order to explain the embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시 예의 전체적인 외관을 도시한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing the overall appearance of an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시 예의 내부 일부를 보여주는 사시도이다.3 is a perspective view showing a part of the interior of the embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 주요 부분을 분해하여 도시한 사시도이다.4 is an exploded perspective view illustrating the main part of FIG. 3.
도 5는 도 2의 Ⅴ-Ⅴ부를 잘라서 본 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 2.
도 6은 본 발명의 주요부인 가열부 어셈블리를 도시한 사시도이다.6 is a perspective view showing a heating unit assembly which is a main part of the present invention.
도 7은 도 6의 주요부를 분해하여 도시한 분해 사시도이다.FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating an exploded view of the main part of FIG. 6.
도 8은 증착 대상물 또는 증착 대상물을 고정하는 고정 트레이를 이송시키는 이송부의 작동 과정을 설명하기 위한 도면이다.8 is a view for explaining the operation of the transfer unit for transporting the deposition object or a fixed tray for fixing the deposition object.
도 9는 도 6에 대응되며 다른 실시 예를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 9 is a diagram corresponding to FIG. 6 and for explaining another exemplary embodiment.
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|---|---|---|---|---|
| JPH0817738A (en) * | 1994-06-24 | 1996-01-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Method for forming crystalline semiconductor thin film |
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| JPH1088320A (en) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor thin film manufacturing method |
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