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KR101003337B1 - Micro actuator for depth of focus - Google Patents

Micro actuator for depth of focus Download PDF

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KR101003337B1
KR101003337B1 KR1020030039183A KR20030039183A KR101003337B1 KR 101003337 B1 KR101003337 B1 KR 101003337B1 KR 1020030039183 A KR1020030039183 A KR 1020030039183A KR 20030039183 A KR20030039183 A KR 20030039183A KR 101003337 B1 KR101003337 B1 KR 101003337B1
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이영주
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아이노셉 엑스 홀딩스 엘엘씨
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Abstract

본 발명은 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터에 관한 것으로, 내부에 관통공이 형성된 고정부와; 상기 고정부의 관통공 내부에 배치되고 그 내부에 광진행 경로 관통공이 형성된 가동부와; 상기 고정부와 상기 가동부에 양단이 각각 고정되도록 설치된 탄성체와; 상기 가동부의 광진행 경로 관통공에 설치된 집속 렌즈와; 상기 고정부를 둘러싼 절연 수지 또는 절연 세라믹과; 상기 절연 수지 또는 세라믹에 솔레노이드 형상으로 상기 고정부를 감싸도록 매입 형성된 적층 코일과; 상기 적층 코일에 인가하기 위한 전류제어장치와; 상기 가동부의 일단에 결합된 자성체를; 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터를 제공하여, 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터는 적층 코일부를 절연 수지의 내부에 매입함으로서, 소형 경량화가 가능하며, 적층 코일에 인가되는 전류방향을 변경함에 의하여 양방향 구동이 가능하고, 렌즈가동장치를 마이크로머시닝 기술에 의하여 제조함으로서 대량생산이 용이하고 각 소자간 균일도를 향상시킬 수 있으며, 탄성체의 허용변위를 조절함에 따라 행정거리를 크게 할 수 있고, 가동부의 작은 질량으로 인하여 응답시간을 줄일 수 있다. The present invention relates to a micro actuator for controlling depth of focus, comprising: a fixing part having a through hole formed therein; A movable part disposed in the through hole of the fixing part and having a light traveling path through hole formed therein; An elastic body installed at both ends of the fixing part and the movable part, respectively; A focusing lens installed in the light traveling path through hole of the movable part; Insulating resin or insulating ceramic surrounding the fixing part; A laminated coil embedded in the insulating resin or ceramic so as to surround the fixing part in a solenoid shape; A current control device for applying to the laminated coil; A magnetic body coupled to one end of the movable part; By providing a micro-actuator for controlling the depth of focus, comprising a micro-actuator for the depth of focus, the micro-actuator for the depth of focus can be reduced in size and compact by embedding the laminated coil portion inside the insulating resin, and changes the current direction applied to the laminated coil. It is possible to drive in both directions, and by manufacturing the lens moving device by micromachining technology, it is easy to mass production, improve the uniformity between each element, and increase the stroke length by adjusting the allowable displacement of the elastic body, The small mass of the moving parts reduces the response time.

가동부, 고정부, 탄성체, 투명 기판, 적층 코일부Movable part, fixed part, elastic body, transparent substrate, laminated coil part

Description

초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터{MICRO ACTUATOR FOR CONTROLLING THE FOCAL LENGTH AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}MICRO ACTUATOR FOR CONTROLLING THE FOCAL LENGTH AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 구조 및 동작을 도시한 것으로, 1 to 6 illustrate the structure and operation of a micro actuator for depth of focus according to an embodiment of the present invention.

도 1은 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 분리 사시도1 is an exploded perspective view of a micro actuator for depth of focus adjustment

도 2는 도 1의 렌즈가동장치의 평면도2 is a plan view of the lens driving apparatus of FIG.

도 3은 도 1의 적층 코일부의 평면도3 is a plan view of the multilayer coil unit of FIG. 1;

도 4는 도 1의 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 절단선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면도4 is a cross-sectional view taken along the cutting line IV-IV of the micro actuator for depth of focus adjustment of FIG. 1.

도 5는 가동부가 상향으로 이동하는 동작을 도시한 개념도5 is a conceptual diagram illustrating an operation of moving the movable part upward;

도 6은 가동부가 하향으로 이동하는 동작을 도시한 개념도 6 is a conceptual diagram illustrating an operation of moving the movable portion downward;

도 7a 내지 도 7c는 도 1의 렌즈가동장치를 제조단계에 따라 도시한 단면도이다. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating the lens driving apparatus of FIG. 1 according to a manufacturing step.

*도면의 주요부분에 대한 설명*Description of the Related Art [0002]

110: 렌즈가동장치 111: 가동부110: lens moving device 111: moving part

113: 탄성체 114: 고정부113: elastic body 114: fixing part

115: 자성체 116: 투명 기판 115: magnetic material 116: transparent substrate                 

120: 집속 렌즈 130: 적층 코일부 120: focusing lens 130: laminated coil portion

131: 적층 코일 134: 절연 수지 또는 세라믹131: laminated coil 134: insulating resin or ceramic

140: 광디스크 150: 전류제어장치140: optical disk 150: current control device

210: 실리콘 기판210: silicon substrate

본 발명은 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터에 관한 것으로서, 상세하게는 소형 경량화 및 저전력화가 가능하고 각 소자간 균일도를 향상시키며 저렴한 가격으로 대량생산이 가능한 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터에 관한 것이다. The present invention relates to a micro-actuator for controlling depth of focus, and more particularly, to a micro-actuator for controlling depth of focus, capable of small size, light weight and low power, improving uniformity between elements, and enabling mass production at a low price.

회전하는 광디스크를 기록 매체로 이용하는 광 기록/재생 장치의 경우에는 광디스크 자체의 편평도 오차, 광디스크를 회전 구동시키는 구동부에 의한 기계적 진동 및 편심 오차에 기인하여 광디스크의 기록층과 픽업 광학계의 대물렌즈간의 거리는 끊임없이 변화하게 되어, 기록 및 재생을 위한 신호 대 잡음비(Signal to Noise Ratio)가 불량하게 되고, 이에 따라 판독 및 기록 가능한 단위 비트의 크기에 제약이 따를 뿐 아니라 오독 및 오기록의 원인이 되기도 한다. In the case of an optical recording / reproducing apparatus using a rotating optical disk as a recording medium, the distance between the recording layer of the optical disk and the objective lens of the pickup optical system is due to the flatness error of the optical disk itself, the mechanical vibration and the eccentricity error caused by the driving unit for rotating the optical disk. Constantly changing, the signal-to-noise ratio for recording and reproducing becomes poor, thereby not only restricting the size of the unit bits that can be read and written, but also causing misreading and miswriting.

따라서, 이에 대응하여 입력 광의 초점을 기록층에 맺히도록 능동적으로 조정해 주는 포커싱 서보(Focusing Servo)장치가 이용되고 있으며, 같은 원리가 콘포칼 마이크로스코프(Confocal Microscope)와 같은 측정 장비에도 적용되고 있다. Accordingly, a focusing servo device that actively adjusts the focus of the input light to form the recording layer has been used, and the same principle is applied to measurement equipment such as a confocal microscope. .                         

최근의 광 기록/재생 장치는 기록 용량을 늘리기 위하여 광 정보를 저장하는 데이터 비트(data bit) 크기를 줄임으로써 기록 밀도를 증가시키거나, 광디스크의 양면에 기록층을 형성하거나, 광디스크의 기록면에 여러 층의 기록막을 적층하고 각각의 기록막 층에 광 정보를 기록, 재생 및 개서 하는 방법들이 개발되고 있다. 특히, 다층의 기록막으로 적층 구성되는 다층기록막 광디스크의 경우에는 디스크 편평도 오차, 진동 및 편심 오차, 적층 막들의 두께 오차 등에 기인한 개별 기록층 내에서의 미소한 초점 심도의 조절 기능뿐 아니라, 각각의 기록막간에 레이저빔이 집속될 수 있도록 초점위치를 개별 기록막 층 간을 이동시킬 수 있도록 하는 초점 심도의 조절 기능이 필수적이다. Recent optical recording / reproducing apparatuses increase the recording density by reducing the size of data bits for storing optical information in order to increase the recording capacity, or form recording layers on both sides of the optical disk, or various recording surfaces of the optical disk. Methods of stacking recording films of layers and recording, reproducing and rewriting optical information on each recording film layer have been developed. In particular, in the case of a multi-layer recording film optical disc composed of a multi-layer recording film, not only the function of adjusting the fine depth of focus in the individual recording layer due to the disc flatness error, the vibration and eccentricity error, and the thickness error of the laminated films, It is essential to adjust the depth of focus so that the focus position can be moved between the individual recording film layers so that the laser beam can be focused between the respective recording films.

이러한 문제점을 고려하여, 종래에는 입력 광의 초점을 광디스크의 기록층에 맺히도록 원통 형태의 코일 두개를 동심원상으로 겹치게 배열하고 전자기 구동력으로 집속 렌즈 등을 광 축 방향으로 움직여 초점 위치를 조절하는 방식이 이용되고 있다. 그러나, 이러한 종래의 초점 심도 조절용 액츄에이터는 소형화가 곤란할 뿐만 아니라 동작전류가 커서 소형의 정보 저장 장치에는 채택이 곤란하다는 문제점이 있다. In view of these problems, conventionally, two cylindrical coils are arranged in a concentric manner so that the input light is focused on the recording layer of the optical disk, and the focusing position is adjusted by moving the focusing lens or the like in the optical axis direction with an electromagnetic driving force. It is used. However, such a conventional focus depth actuator is not only difficult to miniaturize, but also has a problem that it is difficult to adopt a small information storage device because of its large operating current.

또한, 대한민국 특허 공개번호 제 2002-0014486호에 명시된 발명과 같이 정전기에 의해 구동되는 초점 심도 조절용 액츄에이터도 개발되어 활용되고 있으나, 상하 양(兩)방향 구동이 불가능하며, 행정거리가 짧고, 높은 구동전압이 요구된다는 문제점이 있다. In addition, as in the invention disclosed in Korean Patent Publication No. 2002-0014486, an actuator for adjusting the depth of focus driven by static electricity has been developed and utilized, but it is impossible to drive in both directions in the vertical direction and has a short stroke and high driving. There is a problem that a voltage is required.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 소형 경량화 및 저전력화가 가능하고, 소자간 균일도를 향상시키며, 저렴한 가격으로 대량생산이 가능하고, 양(兩) 방향으로 구동할 수 있는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터를 제공함을 그 목적으로 한다.  The present invention has been made to solve the above problems, small size, light weight and low power, can improve the uniformity between devices, mass production at a low price, the depth of focus that can be driven in both directions It is an object of the present invention to provide an adjustable micro actuator.

본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 내부에 관통공이 형성된 고정부와; 상기 고정부의 관통공 내부에 배치되고 그 내부에 광진행 경로 관통공이 형성된 가동부와; 상기 고정부와 상기 가동부에 양단이 각각 고정되도록 설치된 탄성체와; 상기 가동부의 광진행 경로 관통공에 설치된 집속 렌즈와; 상기 고정부를 둘러싼 절연 수지 또는 절연 세라믹과; 상기 절연 수지 또는 세라믹에 솔레노이드 형상으로 상기 고정부를 감싸도록 매입 형성된 적층 코일과; 상기 적층 코일에 전류를 인가하기 위한 전류제어장치와; 상기 가동부의 일단에 결합된 자성체를; 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터를 제공한다. The present invention and the fixing portion formed through holes therein to achieve the object as described above; A movable part disposed in the through hole of the fixing part and having a light traveling path through hole formed therein; An elastic body installed at both ends of the fixing part and the movable part, respectively; A focusing lens installed in the light traveling path through hole of the movable part; Insulating resin or insulating ceramic surrounding the fixing part; A laminated coil embedded in the insulating resin or ceramic so as to surround the fixing part in a solenoid shape; A current control device for applying a current to the laminated coil; A magnetic body coupled to one end of the movable part; It provides a micro-actuator for the depth of focus characterized in that it comprises a.

상기와 같은 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터를 제공함으로서, 양방향 구동이 가능하며, 대량생산에 의한 소자간 균일도를 향상시키고, 행정거리를 크게 할 수 있으며, 가동부의 작은 질량으로 인하여 응답시간을 줄일 수 있다.By providing the micro-actuator for the depth of focus adjustment as described above, it is possible to drive in both directions, to improve the uniformity between devices by mass production, to increase the stroke distance, and to reduce the response time due to the small mass of the movable part.

여기서, 상기 절연 수지는 다층 인쇄회로기판(multi-layer PCB)으로 형성되는 것이 바람직하다.Here, the insulating resin is preferably formed of a multi-layer PCB.

한편, 상기 절연 수지는 저온 소결 적층 세라믹 회로기판(LTCC; Low Temperature Co-fired Ceramic)으로 형성될 수도 있다On the other hand, the insulating resin may be formed of a low temperature sintered laminated ceramic circuit board (LTCC; Low Temperature Co-fired Ceramic)

또한, 상기 절연 수지는 정렬, 조립을 용이하게 하기 위하여 끼워맞춤으로 조립되도록 상기 고정부의 외면과 일정한 틈새를 갖는 조립용 관통공이 형성되는 것이 효과적이다.In addition, it is effective that the through-hole for assembly having a predetermined clearance with the outer surface of the fixing part is formed so that the insulating resin is assembled by fitting to facilitate alignment and assembly.

한편, 상기 절연 수지는 정렬, 조립을 용이하게 하기 위하여 접착제에 의한 접합으로 조립되도록 상기 고정부의 외면과 일정한 틈새를 갖는 조립용 관통공이 형성될 수도 있다. On the other hand, the insulating resin may be formed through holes for assembly having a predetermined gap with the outer surface of the fixing portion to be assembled by bonding by an adhesive to facilitate alignment and assembly.

그리고, 상기 탄성체는 전자기 구동력의 방향에 대해서는 자유로운 변형이 가능하고, 그 이외의 방향에 대해서는 큰 강성을 갖도록 형성되는 것이 바람직하다. The elastic body may be freely deformed with respect to the direction of the electromagnetic driving force, and is formed to have great rigidity with respect to the other directions.

또한, 상기 자성체는 광진행 경로 관통공의 외주부에 환형이나 분절된 환형의 형태로 집적되어 구성되는 것이 효과적이다.In addition, the magnetic body is effectively configured to be integrated in the form of an annular or segmented annular portion in the outer peripheral portion of the optical path through hole.

그리고, 상기 가동부는 상기 집속 렌즈를 용이하게 정렬, 조립하기 위하여 상기 가동부에 형성된 광진행 경로 관통공 내에 렌즈거치턱이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the movable part has a lens mounting jaw formed in the light traveling path through hole formed in the movable part in order to easily align and assemble the focusing lens.

또한, 전자기 구동에 의한 상기 가동부의 상하이동이 간섭되지 않도록 상기 가동부의 하단으로부터 일정 거리만큼 이격되며 상기 고정부 하단에 결합된 투명 기판을 더 포함하여 구성되는 것이 효과적이다.In addition, it is effective to further comprise a transparent substrate spaced apart from the lower end of the movable portion by a certain distance and coupled to the lower end of the fixed portion so as not to interfere with the movement of the movable portion by the electromagnetic drive.

그리고, 상기 투명 기판의 표면에는 광반사에 의한 광손실을 최소화 할 수 있도록 무반사 코팅이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, an anti-reflective coating is preferably formed on the surface of the transparent substrate so as to minimize light loss due to light reflection.                     

또한, 전류제어장치로부터 전류가 인가되기 위하여 상기 투명 기판의 일측면을 상기 절연 수지의 외주보다 돌출되도록 형성하고, 상기 적층 코일의 끝단과 연결되도록 돌출된 투명 기판의 일면에 형성된 전극 패드를 더 포함하여 구성되는 것이 효과적이다.The apparatus may further include an electrode pad formed on one surface of the transparent substrate protruding from one side of the insulating resin so as to protrude from the outer periphery of the insulating resin in order to apply current from the current controller, and connected to an end of the multilayer coil. It is effective to be configured.

그리고, 상기 전극 패드는 전류제어장치로부터 전류가 인가되기 위하여 상기 적층 코일의 끝단과 연결되고, 상기 절연 수지의 상단에 형성될 수도 있다. In addition, the electrode pad may be connected to the end of the multilayer coil in order to apply current from the current control device, and may be formed on the top of the insulating resin.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 흩뜨리지 않도록 하기 위하여 생략하기로 한다. However, in describing the present invention, a detailed description of known functions or configurations will be omitted in order not to disturb the gist of the present invention.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 구성 및 동작을 도시한 것으로, 도 1은 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 분리 사시도, 도 2는 도 1의 렌즈가동장치의 평면도, 도 3은 도 1의 적층 코일부의 평면도, 도 4는 도 1의 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 절단선 Ⅳ-Ⅳ에 따른 단면도, 도 5는 가동부가 상향으로 이동하는 동작을 도시한 개념도, 도 6은 가동부가 하향으로 이동하는 동작을 도시한 개념도이다. 1 to 6 show the configuration and operation of the micro-actuator for the depth of focus according to an embodiment of the present invention, Figure 1 is an exploded perspective view of the micro-actuator for focus depth adjustment, Figure 2 is a lens moving device of Figure 1 3 is a plan view of the multilayer coil unit of FIG. 1, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the cutting line IV-IV of the micro-actuator for controlling the depth of focus of FIG. 1, FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating an operation of moving the movable part upward; 6 is a conceptual diagram illustrating an operation of moving the movable part downward.

도면에 도시된 바와 같이, 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터는 레이저빔이 집속되도록 초점을 형성시키는 집속 렌즈(120)와, 집속 렌즈(120)와 결합하여 광진행 경로 방향으로 정밀 구동하는 렌즈가동장치(110)와, 상기 렌즈가동장치(110)에 유도 자기장을 생성시키도록 렌즈가동장치(110)를 감싸고 있는 적층 코일부(130)와, 상기 적층 코일부에 전류를 인가하는 전류제어장치(150)로 구성된다. As shown in the drawing, the micro-actuator for depth of focus adjustment includes a focusing lens 120 that forms a focus so that the laser beam is focused, and a lens moving device 110 that is coupled to the focusing lens 120 to precisely drive in the direction of the light path. ), The laminated coil unit 130 surrounding the lens movable device 110 to generate an induction magnetic field in the lens movable device 110, and the current control device 150 applying a current to the laminated coil part. It is composed.

상기 렌즈가동장치(110)는 반도체 가공공정에 의하여 제조되어 집적화된 형태를 가지며, 내부에 관통공(114a)이 형성된 고정부(114)와, 전자기 구동력에 의해 광진행 경로 방향으로 상하 수직이동을 하도록 고정부관통공(114a)의 내부에 설치된 가동부(111)와, 그 가동부(111)의 중심부에 광진행 경로를 따라 관통 형성된 관통공(112)과, 그 광진행 경로 관통공(112)의 상단에 집속 렌즈(120)를 용이하게 조립, 정렬하기 위하여 형성된 렌즈거치턱(112a)과, 가동부(111)의 변위방향과 반대방향으로 복원력을 갖도록 고정부(114)와 가동부(111)에 양단이 각각 고정되도록 설치된 탄성체(113)와, 환형 (ring shape)또는 분절된 환형(segmented ring shape)으로 광진행 경로 관통공의 외주 부근의 가동부(111)의 상단에 일체로 결합된 자성체(115)와, 전자기 구동에 의한 상기 가동부(111)의 수직 이동이 간섭되지 않도록 상기 가동부(111)의 하단으로부터 일정 거리만큼 이격되도록 설치되고 상기 고정부(114) 하단에 결합된 투명 기판(116)을 구비한다.The lens driving device 110 is manufactured by a semiconductor processing process and has an integrated form. The lens driving device 110 has a fixed portion 114 having a through hole 114a formed therein, and vertical movement in the light traveling path direction by an electromagnetic driving force. The movable part 111 provided in the inside of the fixed part through-hole 114a, the through-hole 112 which penetrates along the optical path in the center of the movable part 111, and the upper end of the optical path path through-hole 112 Opposite ends of the fixing portion 114 and the movable portion 111 to have a restoring force in a direction opposite to the displacement direction of the movable portion 111 and the lens mounting jaw 112a formed to easily assemble and align the focusing lens 120 in the And a magnetic body 115 integrally coupled to an upper end of the movable part 111 near the outer circumference of the optical path through hole through an elastic body 113 installed to be fixed to each other, and a ring shape or a segmented ring shape. , The number of the movable parts 111 by the electromagnetic drive Includes a transparent substrate 116 is bonded is provided to be spaced apart by a predetermined distance from the lower end of the movable portion 111 so that movement does not interfere with the high in the lower section (114).

이 때, 탄성체(113)는 반도체 가공공정에 의하여 실리콘 기판을 재료로 하여 판형상으로 제작되며, 전자기 구동력의 방향인 상하방향에 대해서는 자유로운 변형이 가능하도록 강성이 작게 형성되고, 그 이외의 방향에 대해서는 변형을 억제하도록 강성이 크게 형성되는 것이 바람직하다. At this time, the elastic body 113 is manufactured in a plate shape using a silicon substrate as a material by a semiconductor processing process, and rigidity is formed small so that free deformation is possible in the up-down direction, which is the direction of electromagnetic driving force, and in other directions. It is preferable that rigidity is formed large so that deformation may be suppressed.

또한, 투명 기판(116)은 오염물질이 광디스크(140)로부터 집속 렌즈(120)에 도달하는 것을 방지하는 역할을 하며, 투명 기판(116)에 의한 광의 굴절 정도를 고려하여 소정의 두께로 가공되고, 그 표면에는 광반사에 의한 광손실을 최소화 할 수 있도록 무반사 코팅이 형성되도록 한다.In addition, the transparent substrate 116 serves to prevent contaminants from reaching the focusing lens 120 from the optical disk 140, and is processed to a predetermined thickness in consideration of the degree of refraction of light by the transparent substrate 116. On the surface, an antireflective coating should be formed to minimize light loss due to light reflection.

상기 적층 코일부(130)는 상기 고정부(114)를 둘러싼 절연 수지(134)와, 렌즈가동장치(110)를 끼워넣고 렌즈가동장치(110)와 적층 코일부(130)간 접착제에 의한 결합을 할 수 있을 정도의 틈새를 갖도록 절연 수지(134)의 중심부에 형성된 조립용 관통공(135)과, 솔레노이드 형상으로 고정부(114)를 감싸도록 절연 수지(134) 내부에 작은 직경을 갖는 코일 금속 전도체로 매입 형성된 적층 코일(131)과, 적층 코일(131)에 구동 전류를 인가하기 위하여 절연 수지(134)의 상단에 형성된 2개의 전극 패드(132,133)로 구성된다. The multilayer coil unit 130 inserts the insulating resin 134 surrounding the fixing unit 114 and the lens moving device 110, and bonds the adhesive between the lens moving device 110 and the laminated coil part 130 by an adhesive. Coupling through hole 135 formed in the center of the insulating resin 134 so as to have a gap enough to be made, and a coil having a small diameter inside the insulating resin 134 to surround the fixing part 114 in a solenoid shape The multilayer coil 131 is formed of a metal conductor and two electrode pads 132 and 133 formed on the top of the insulating resin 134 to apply a driving current to the multilayer coil 131.

이 때, 전극 패드(132,133)는 상기와 같이 절연 수지(134)의 상단에 형성되는 대신, 절연 수지(134)의 일측면으로부터 투명 기판(116)이 돌출되도록 가공하고 돌출된 투명 기판(116)의 일면에 형성될 수도 있다.  In this case, the electrode pads 132 and 133 are formed on the upper end of the insulating resin 134 as described above, and the transparent substrate 116 is processed so that the transparent substrate 116 protrudes from one side of the insulating resin 134. It may be formed on one side of.

또한, 적층 코일부(130)의 초소형화를 위하여, 절연 수지(134)는 다층 인쇄회로기판(Multi-layer Printed Circuit Board) 또는 적층 세라믹 회로 기판(Low Temperature Cofired Ceramic; LTCC)등으로 구성되어 단위면적당 더 많은 적층 코일(131)이 그 내부에 매입되도록 형성된다. In addition, in order to minimize the size of the multilayer coil unit 130, the insulating resin 134 is formed of a multilayer printed circuit board or a low temperature cofired ceramic (LTCC) unit. More stacked coils 131 per area are formed to be embedded therein.

이와 같은 구성에 의하여, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터의 동작은 전류제어장치(150)로부터 적층 코일(131)에 전류를 인가하고, 적층 코일(131) 주위에 암페어(Ampere)의 법칙에 따른 자기장이 형성되어 렌즈가동장치(110)의 중심부에 자기장이 집적되며, 그 자기장의 방향에 따라 자성체(115)에 전자기 구동력을 발생시키고, 전자기 구동력에 의하여 자성체(115)와 일체로 움직이는 가동부(111)가 소정의 방향으로 변위가 발생하면, 탄성체(113)는 그 반대 방향으로 변위에 비례하여 가동부(111)에 복원력이 가해지고, 복원력과 전자기 구동력이 평행이 이루는 지점에서 가동부(111)의 변위가 결정되며, 전자기 구동력은 전류제어장치(150)로부터 인가되는 전류의 크기에 비례하므로 인가 전류의 크기조절에 의하여 가동부(111)의 변위를 임의로 조절할 수 있도록 구현된다. By such a configuration, as shown in FIGS. 5 and 6, the operation of the micro actuator for focus depth adjustment applies a current to the laminated coil 131 from the current controller 150, and surrounds the laminated coil 131. A magnetic field is formed in accordance with Ampere's law so that a magnetic field is integrated in the center of the lens driving device 110, and generates an electromagnetic driving force in the magnetic body 115 according to the direction of the magnetic field, and the magnetic body 115 by the electromagnetic driving force. When a displacement occurs in a predetermined direction of the movable part 111 which moves integrally with the), a resilient force is applied to the movable part 111 in proportion to the displacement in the opposite direction, and the restoring force and the electromagnetic driving force are parallel to each other. At this point, the displacement of the movable part 111 is determined, and since the electromagnetic driving force is proportional to the magnitude of the current applied from the current control device 150, the movable part 111 is adjusted by adjusting the magnitude of the applied current. It is implemented to adjust the displacement freely.

도 5는 다층기록막구조를 갖는 광디스크(140)에 대하여, 집속 렌즈(120)가 상향으로 이동하는 것을 보여주는 동작 개념도로서, 자성체(115)에 착자되어 있는 자력은 하향으로 자화된 것으로 예시되어 있다. 다층기록막구조를 갖는 광디스크(140)는 데이터 저장을 위한 상부기록막(142) 및 하부기록막(144)과, 광디스크의 외부로부터 기록막을 보호하기 위한 보호막(141)과, 기록막을 분리하도록 상부기록막(142)과 하부기록막(144) 사이에 분포된 분리막(143)과, 광디스크의 기판(145)으로 구성된다. FIG. 5 is an operation conceptual view showing that the focusing lens 120 moves upward with respect to the optical disk 140 having the multilayer recording film structure. The magnetic force magnetized to the magnetic body 115 is illustrated as being downwardly magnetized. . The optical disk 140 having a multi-layer recording film structure includes an upper recording film 142 and a lower recording film 144 for data storage, a protective film 141 for protecting the recording film from the outside of the optical disk, and an upper portion to separate the recording film. And a separator 143 distributed between the recording film 142 and the lower recording film 144, and the substrate 145 of the optical disk.

여기서, 집속 렌즈(120)의 초점을 상향으로 이동하는 동작은 전류제어장치(150)에 의해 적층 코일(131)에 시계 반대방향(위에서 볼 경우)으로 전류가 인가되고, 전류의 크기에 따라 렌즈가동장치(110)에 자기장(Bu)이 상향으로 분포하며, 자성체(115)의 자력은 하향으로 자화되어 있으므로 전자기 구동력 (Fu)은 상향으로 작용하게 되므로 가동부(111)는 상향으로 이동을 하고, 그에 따라 집속 렌즈(120)의 초점은 심도(lu)가 짧아지게 되어 광디스크(140)의 상부기록막(142)에 맺히게 됨으로서 구현된다. Here, in the operation of moving the focus of the focusing lens 120 upward, the current is applied to the laminated coil 131 in the counterclockwise direction (when viewed from above) by the current control device 150, and according to the magnitude of the current Since the magnetic field B u is upwardly distributed in the movable device 110 and the magnetic force of the magnetic body 115 is magnetized downward, the electromagnetic driving force F u acts upward, so the movable part 111 moves upward. As a result, the focus of the focusing lens 120 is shortened by a depth l u , and thus is formed on the upper recording film 142 of the optical disk 140.

같은 원리로, 도 6은 다층기록막구조를 갖는 광디스크(140)에 대하여, 집속 렌즈(120)가 하향으로 이동하는 것을 보여주는 동작 개념도로서, 자성체(115)에 착자되어 있는 자력은 하향으로 자화된 것으로 예시되어 있다. 여기서, 집속 렌즈(120)의 초점을 하향으로 이동하는 동작은 전류제어장치(150)에 의해 적층 코일(131)에 시계 방향(위에서 볼 경우)으로 전류가 인가되고, 전류의 크기에 따라 렌즈가동장치(110)에 자기장(Bd)이 하향으로 분포하며, 자성체(115)의 자력은 아래쪽으로 자화되어 있으므로 전자기 구동력(Fd)은 하향으로 작용하게 되므로 가동부(111)는 하향으로 이동을 하고, 그에 따라 집속 렌즈(120)의 초점은 심도(ld)가 길어지게 되어 광디스크(140)의 하부기록막(144)에 맺히게 됨으로서 구현된다. 이 때, 가동부(111)의 하단과 투명 기판(116)간에 상호 간섭이 발생하지 않도록 상호간의 간격(gd)이 일정 값 이상을 가져야 한다.In the same principle, FIG. 6 is an operation conceptual view showing that the focusing lens 120 moves downward with respect to the optical disc 140 having the multilayer recording film structure. The magnetic force magnetized on the magnetic body 115 is magnetized downward. Is illustrated. Here, in the operation of moving the focus of the focusing lens 120 downward, the current is applied to the laminated coil 131 in the clockwise direction (when viewed from above) by the current controller 150, and the lens moves according to the magnitude of the current. Since the magnetic field B d is distributed downward in the apparatus 110, and the magnetic force of the magnetic body 115 is magnetized downward, the electromagnetic driving force F d acts downward, so that the movable part 111 moves downward. Therefore, the focus of the focusing lens 120 is realized by making the depth l d longer and confining the lower recording film 144 of the optical disk 140. At this time, the distance g d between the lower end of the movable part 111 and the transparent substrate 116 should have a predetermined value or more so that mutual interference does not occur.

따라서, 본 발명의 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터는 초점 심도 조절을 위하여 탄성체(113)의 허용변위를 조절함에 따라 행정거리를 크게 할 수 있고, 적층 코일(131)에 인가되는 전류의 방향에 따라 양(兩)방향 구동이 가능하고, 가동부의 작은 질량으로 인하여 응답시간을 줄일 수 있으며, 절연 수지(134) 내부에 단위 면적당 보다 많은 적층 코일을 매입시킴으로서 적층 코일부의 소형화가 가능하며, 보다 작은 전류를 인가하여도 동일한 전자기 구동력을 얻을 수 있으므로 소비되는 전력을 감소시킬 수 있다. Therefore, the micro actuator for depth of focus adjustment of the present invention can increase the stroke length by adjusting the allowable displacement of the elastic body 113 to adjust the depth of focus, and according to the direction of the current applied to the laminated coil 131, I) It is possible to drive in the direction, and the response time can be reduced due to the small mass of the movable part, and the laminated coil part can be miniaturized by embedding more laminated coils per unit area in the insulating resin 134, and the smaller current Even when applied, the same electromagnetic driving force can be obtained, thereby reducing power consumption.                     

도면에는 동일 기록막 내에서 미소한 초점 보정에 관한 동작은 별도로 도시하지 않았으나, 기록막 간의 초점 이동 동작과 구동원리는 동일하며 단지 구동에 의한 변위가 미소하다는 차이점만 있다. In the drawing, the operation of the fine focus correction in the same recording film is not separately shown, but the focus shifting operation and the driving principle between the recording films are the same, and there is only a difference that the displacement caused by the driving is minute.

도 7a 내지 도 7c는 도 1의 렌즈가동장치를 제조단계에 따라 도시한 단면도이다. 상기 도면에서는 편의상 렌즈가동장치(110) 하나에 대하여 도시되었으나, 실제 공정은 도면에 도시한 소자가 다수 개 형성되는 웨이퍼 형태의 기판 형태로 공정이 진행되어 동시에 다량으로 제조되며, 렌즈가동장치(110)의 제조 공정은 반도체 가공공정에 의하여 다음의 단계를 거쳐 구현된다. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating the lens driving apparatus of FIG. 1 according to a manufacturing step. In the drawing, for convenience, one lens movable apparatus 110 is illustrated, but the actual process is performed in the form of a wafer-type substrate in which a plurality of elements shown in the figures are formed, and is manufactured in large quantities at the same time. ) Is implemented through the following steps by a semiconductor processing process.

도 7a (a)에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 형태의 실리콘 기판(210)을 시작 재료로 하여 실리콘 기판(210)의 상하면에 각각 식각 마스크 박막(211,212)을 형성한다. 식각 마스크 박막은 도포, 증착, 도금 등의 반도체 소자 제조 공정에 의하여 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 등과 같이 실리콘과의 식각 선택도(Etch Selectivity)가 높은 물질로 형성된다. As shown in FIG. 7A (a), etching mask thin films 211 and 212 are formed on the upper and lower surfaces of the silicon substrate 210 using the wafer-shaped silicon substrate 210 as a starting material. The etching mask thin film is formed of a material having high etching selectivity with silicon, such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like by a semiconductor device manufacturing process such as coating, vapor deposition, and plating.

그 다음, 도 7a (b)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 상면에 승화(Evaporation) 또는 스퍼터링(Sputtering) 등의 박막 증착 방법으로 전해 도금 공정의 시드(Seed)로 이용될 금속박막(213)을 형성하고, 도금틀용 감광막(214)을 도포한 후, 사진묘화공정 (Photolithography)을 통하여 상기 감광막(214)에 도금틀(Plating mold)(214a)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7A (b), the metal thin film to be used as a seed of the electrolytic plating process by a thin film deposition method such as sublimation or sputtering on the upper surface of the silicon substrate 210. 213 is formed and the plating mold photoresist 214 is applied, and then a plating mold 214a is formed on the photoresist 214 through photolithography.

그 다음, 도 7a (c)에 도시된 바와 같이, 상기 도금틀(214a)에 니켈, 페라이트 등의 자성체(115)를 전해도금을 통하여 소정의 두께만큼 형성한 후, 도금틀(214a)로 이용된 감광막(214)을 제거한다. Subsequently, as shown in FIG. 7A (c), a magnetic material 115 such as nickel and ferrite is formed in the plating mold 214a by electroplating, and then used as the plating mold 214a. The photosensitive film 214 is removed.

그 다음, 도 7a (d)에 도시된 바와 같이, 자성체(115) 패턴 이외의 부분의 금속박막(213)을 식각으로 제거한다.Next, as shown in FIG. 7A (d), the metal thin film 213 of the portion other than the magnetic body 115 pattern is removed by etching.

그 다음, 도 7a (e)에 도시된 바와 같이, 자성체(115)가 패터닝된 표면상에 감광막을 도포하고, 사진묘화공정에 의하여 고정부(114)의 상단과, 탄성체(113)의 상단과, 렌즈거치턱을 제외한 가동부(111)의 상단을 형성할 부분에 제1 식각 마스크 패턴(215a)을 형성한다. Then, as shown in Figure 7a (e), the magnetic body 115 is applied to the photosensitive film on the patterned surface, by the photo-drawing process, the top of the fixing portion 114, the top of the elastic body 113 and In addition, the first etching mask pattern 215a is formed on a portion of which the upper end of the movable part 111 is formed except for the lens mounting jaw.

그 다음, 도 7b (f)에 도시된 바와 같이, 제1 식각 마스크 패턴(215a)이 형성되지 않은 식각 마스크 박막(211)을 반응성 이온 식각(Reactive Ion Etching ; RIE) 등의 건식 식각 방법이나 불산(Hydrofluoric Acid; HF)등의 화학 식각 용액을 사용한 식각으로 제거한다. Next, as shown in FIG. 7B (f), the dry etching method such as reactive ion etching (RIE) or hydrofluoric acid may be performed on the etching mask thin film 211 on which the first etching mask pattern 215a is not formed. It is removed by etching using a chemical etching solution such as (Hydrofluoric Acid; HF).

그 다음, 도 7b (g)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 하면에 감광막을 도포한 후, 실리콘 기판(210)의 상면에 이미 형성된 정렬 마크(Alignment mark)를 이용한 양면정렬기술(Double side alignment)에 의하여 실리콘 기판(210) 하면에 고정부(114) 하단을 형성할 부분에 제2 식각 마스크 패턴(216a)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 7B (g), after the photosensitive film is coated on the lower surface of the silicon substrate 210, a double-sided alignment technique using an alignment mark already formed on the upper surface of the silicon substrate 210 ( The second etching mask pattern 216a is formed on a portion of the lower surface of the silicon substrate 210 to form the lower end of the fixing part 114 by double side alignment.

그 다음, 도 7b (h)에 도시된 바와 같이, 제2 식각 마스크 패턴(216a)이 형성되지 않은 식각 마스크 박막(212)을 반응성 이온 식각(RIE) 등의 건식 식각 방법이나 불산(HF)등의 화학식각용액을 사용한 식각으로 제거한 후, 제2 식각 마스크 패턴(216a)이 형성되지 않은 실리콘 부분을 가동부(111)의 하단에 이르는 깊이만큼 실리콘 깊은 반응성 이온 식각(Silicon Deep RIE)기술 등으로 식각하고, 실리콘 기 판(210)의 상하면에 잔류하는 감광막을 제거한다.Next, as shown in FIG. 7B (h), the etching mask thin film 212 on which the second etching mask pattern 216a is not formed is subjected to dry etching such as reactive ion etching (RIE), hydrofluoric acid (HF), or the like. After removal by etching using the etchant solution, the silicon portion where the second etching mask pattern 216a is not formed is etched by silicon deep reactive ion etching (Silicon Deep RIE) technology to the depth that reaches the bottom of the movable part 111. Then, the photoresist remaining on the upper and lower surfaces of the silicon substrate 210 is removed.

그 다음, 도 7b (i)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 하면에 가동부(111)의 하단을 형성할 면에 대해 제3 식각 마스크 패턴(217A)을 사진묘화공정으로 형성한다.Next, as shown in FIG. 7B (i), the third etching mask pattern 217A is formed on the bottom surface of the movable part 111 on the bottom surface of the silicon substrate 210 by a photo drawing process.

그 다음, 도 7b (j)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 하면에 형성된 제3 식각 마스크 패턴(212a, 217A)이 형성되지 않은 실리콘 부분을 소정의 깊이만큼 반응성 이온 식각(RIE) 또는 실리콘 깊은 반응성 이온식각(Silicon Deep RIE) 기술 등으로 식각하고, 제3 식각 마스크 패턴(212a, 217A)을 제거한다. 이 과정에서 식각이 진행된 후 잔류하는 실리콘의 두께가 탄성체(113)의 두께가 된다. Next, as illustrated in FIG. 7B (j), reactive ion etching (RIE) is performed on the portion of the silicon on which the third etching mask patterns 212a and 217A formed on the bottom surface of the silicon substrate 210 are not formed. Or by etching using a silicon deep reactive ion etching technique to remove the third etching mask patterns 212a and 217A. In this process, the thickness of the silicon remaining after etching is the thickness of the elastic body 113.

그 다음, 도 7c (k)에 도시된 바와 같이, 제3 식각 마스크 박막(212a, 217A)을 제거하고 드러난 실리콘 기판(210)의 하면에 투명 기판(116)을 접합한다. 투명 기판(116)의 재질이 소정의 소듐(Sodium; Na)을 함유한 유리일 때에는 투명 기판(116)의 접합은 미세가공기술의 하나인 실리콘-유리 간 양극 접합(Anodic Bonding)에 의한다.Next, as shown in FIG. 7C (k), the third etching mask thin films 212a and 217A are removed and the transparent substrate 116 is bonded to the bottom surface of the exposed silicon substrate 210. When the material of the transparent substrate 116 is glass containing a predetermined sodium (Na), the bonding of the transparent substrate 116 is made by silicon-glass anodic bonding, which is one of microfabrication techniques.

그 다음, 도 7c (l)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 상면에 제1 식각 마스크 패턴(215a)이 형성되지 않은 실리콘 부분을 반응성 이온 식각(RIE) 또는 실리콘 깊은 반응성 이온 식각 기술 등으로 식각하여 실리콘 기판(210)이 관통되도록 한다. 이 과정에서 광진행 경로 관통공(112) 및 렌즈거치턱(112a)이 완성된다. Next, as shown in FIG. 7C (l), a portion of the silicon on which the first etching mask pattern 215a is not formed on the upper surface of the silicon substrate 210 may be formed using reactive ion etching (RIE) or silicon deep reactive ion etching. The silicon substrate 210 may be penetrated by etching through the same. In this process, the light traveling path through hole 112 and the lens mounting jaw 112a are completed.

그 다음, 도 7c (m)에 도시된 바와 같이, 실리콘 기판(210)의 상면에 드러난 식각 마스크 박막(211)을 제거함으로서 가동부(111), 탄성체(113) 및 고정부(114)를 완성하고, 투명 기판(116)을 웨이퍼 형태의 기판에서 다이싱(Dicing) 등의 방법으로 소정 크기의 개별 칩으로 각각 분리함으로서 본 발명의 렌즈가동장치(110)를 완성한다. Next, as shown in FIG. 7C (m), the movable part 111, the elastic body 113, and the fixing part 114 are completed by removing the etch mask thin film 211 exposed on the upper surface of the silicon substrate 210. In addition, the lens movable apparatus 110 of the present invention is completed by separating the transparent substrate 116 into individual chips having a predetermined size by a dicing method or the like in a wafer form substrate.

적층 코일부(130)는 절연 수지(134)가 세라믹 회로 기판으로 형성된 경우에는 도금된 금속재질의 코일을 세라믹 회로기판에 채워넣고 각각의 기판을 적층하여 형성되며, 절연 수지(134)가 인쇄회로기판으로 형성된 경우에는 도금된 금속재질의 코일을 몰딩에 의하여 함께 형성한 후 이를 적층하여 형성된다. When the insulation resin 134 is formed of a ceramic circuit board, the multilayer coil unit 130 is formed by filling a ceramic circuit board with a plated metal coil and stacking each substrate, and the insulation resin 134 is a printed circuit. In the case where the substrate is formed as a substrate, the plated metal coils are formed together by molding and then laminated.

한편, 완성된 렌즈가동장치(110)의 광진행 경로 관통공(112)에 집속 렌즈(120)를 장착하여 조립하고, 이를 적층 인쇄회로기판 또는 적층 세라믹기판으로 절연 수지를 구성한 적층 코일부(130)의 조립용 관통공(135)에 끼워넣고, 접착제로 조립용 관통공(135)의 내면과 렌즈가동장치(110)의 고정부(114)의 외면을 부착하여 결합하거나 또는 일정 공차에 의한 끼워맞춤으로 결합하고, 전극 패드(132,133)에 전류제어장치를 연결함으로서 본 발명의 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터가 완성된다. Meanwhile, the multilayer coil unit 130 in which the focusing lens 120 is mounted and assembled in the optical path path through hole 112 of the completed lens moving device 110, and the insulation resin is formed of a multilayer printed circuit board or a multilayer ceramic substrate. ) Into the assembling through-hole 135, and attaching the inner surface of the assembling through-hole 135 and the outer surface of the fixing part 114 of the lens moving device 110 with an adhesive, or fitting by a certain tolerance. By combining the fitting and connecting the current control device to the electrode pads (132, 133), the micro-actuator for controlling the depth of focus of the present invention is completed.

렌즈가동장치(111)는 반도체 제조 공정 및 정밀 가공 기술인 마이크로머시닝 기술로 제조되므로 대량생산이 용이하고, 각 소자간 균일도를 향상시킬 수 있으며, 적층 코일부(130)는 절연 수지(134)의 내부에 단위면적당 보다 많은 작은 직경의 코일금속전도체로 형성된 적층 코일(131)을 매입할 수 있으므로 소형화에 기여하고, 보다 낮은 전류로 동일한 전자기 구동력을 얻을 수 있으므로 전력의 소비량을 절감시킬 수 있다. Since the lens moving device 111 is manufactured by a semiconductor manufacturing process and a micromachining technology, which is a precision processing technology, mass production is easy, and uniformity between elements can be improved, and the multilayer coil part 130 is formed inside the insulating resin 134. Since the multilayer coil 131 formed of a coil metal conductor having a smaller diameter per unit area can be embedded, it contributes to miniaturization, and the same electromagnetic driving force can be obtained at a lower current, thereby reducing power consumption.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described above by way of example, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터는 적층 코일부을 절연 수지의 내부에 매입함으로서 소형 경량화가 가능하며, 적층 코일에 인가되는 전류방향을 변경함에 의하여 양방향 구동이 가능하고, 렌즈가동장치를 마이크로머시닝 기술에 의하여 제조함으로서 대량생산이 용이하고 각 소자간 균일도를 향상시킬 수 있다. 또한, 탄성체(113)의 허용변위를 조절함에 따라 행정거리를 크게 할 수 있으며, 가동부의 작은 질량으로 인하여 응답시간을 줄일 수 있다.
As described above, according to the present invention, the depth of focus micro-actuator can be miniaturized and light-weighted by embedding the laminated coil part inside the insulating resin, and bidirectional driving is possible by changing the current direction applied to the laminated coil. By manufacturing the movable device by micromachining technology, mass production is easy and the uniformity between elements can be improved. In addition, by adjusting the allowable displacement of the elastic body 113, the stroke length can be increased, and the response time can be reduced due to the small mass of the movable part.

Claims (24)

내부에 관통공이 형성된 고정부와;A fixing part having a through hole formed therein; 상기 고정부의 관통공 내부에 배치되고 그 내부에 광진행 경로 관통공이 형성된 가동부와;A movable part disposed in the through hole of the fixing part and having a light traveling path through hole formed therein; 양단이 각각 상기 고정부와 상기 가동부에 고정된 탄성체와; An elastic body fixed at both ends of the fixing part and the movable part; 상기 가동부의 광진행 경로 관통공에 설치된 집속 렌즈와;A focusing lens installed in the light traveling path through hole of the movable part; 상기 고정부를 둘러싼 절연 수지와;An insulating resin surrounding the fixing portion; 상기 고정부를 둘러싸도록 상기 절연 수지에 매입 형성된, 제1 직경을 갖는 코일 형상의 금속 전도체와; A coil-shaped metal conductor having a first diameter embedded in said insulating resin so as to surround said fixing portion; 솔레노이드 형상으로 상기 고정부를 감싸도록 상기 절연 수지에 매입 형성된 적층 코일과;A laminated coil embedded in the insulating resin to surround the fixing part in a solenoid shape; 상기 적층 코일에 전류를 인가하도록 구성된 전류제어장치와;A current control device configured to apply a current to the laminated coil; 상기 가동부의 일단에 결합된 자성체를;A magnetic body coupled to one end of the movable part; 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. Micro actuator for depth of focus, characterized in that it comprises a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연 수지는 다층 인쇄회로기판인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. The insulating resin is a micro actuator for depth of focus, characterized in that the multilayer printed circuit board. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연 수지는 적층 세라믹 회로기판인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. The insulation actuator is a micro actuator for depth of focus, characterized in that the laminated ceramic circuit board. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연 수지에는 상기 고정부가 삽입되도록 상기 고정부의 외면으로부터 소정 거리에 위치된 조립용 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. The insulated resin micro-actuator for controlling the depth of focus, characterized in that the through-hole for assembly located at a predetermined distance from the outer surface of the fixing portion is formed so that the fixing portion is inserted. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연 수지에는 접착제를 사용하여 상기 고정부가 부착되도록 상기 고정부의 외면으로부터 소정 거리에 위치된 조립용 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. And a through hole for assembly located at a predetermined distance from an outer surface of the fixing part so that the fixing part is attached to the insulating resin by using an adhesive. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 탄성체는 전자기 구동력의 방향에 대해서는 변형이 가능하고, 그 이외의 방향에 대해서는 고정된(rigid) 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The elastic body is deformable in the direction of the electromagnetic drive force, and the rigidity for the depth of focus micro-actuator characterized in that (rigid) for the other directions. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 자성체는 환형(ring-shaped)이며 광진행 경로 관통공의 외주부 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. The magnetic body is ring-shaped, the depth of focus micro-actuator, characterized in that located on the outer peripheral portion of the optical path through hole. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 가동부는 상기 집속 렌즈의 정렬 및 조립을 위하여, 상기 가동부에 형성된 광진행 경로 관통공 내에 렌즈탑재유닛이 형성된 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. And the movable unit includes a lens mounting unit formed in a light traveling path through hole formed in the movable unit to align and assemble the focusing lens. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 가동부의 하단으로부터 일정 거리만큼 이격되며 상기 고정부 하단에 결합된 투명 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. A micro actuator for depth of focus, characterized in that it further comprises a transparent substrate coupled to the bottom of the fixed portion spaced apart from the bottom of the movable portion. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 투명 기판의 표면에는 광반사에 의한 광손실을 최소화 할 수 있도록 무반사 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The surface of the transparent substrate is a micro-actuator for controlling the depth of focus, characterized in that the anti-reflective coating is formed to minimize the light loss due to light reflection. 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 투명 기판의 제1 측면은 상기 절연 수지의 외주보다 돌출되고, 상기 전류제어장치로부터 전류를 인가하기 위하여 상기 적층 코일의 일단에 연결되도록 상기 투명 기판의 돌출된 표면에 형성된 전극 패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터. The first side surface of the transparent substrate further includes an electrode pad protruding from an outer circumference of the insulating resin and formed on a protruding surface of the transparent substrate so as to be connected to one end of the multilayer coil in order to apply current from the current control device. A micro actuator for depth of focus, characterized in that. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 전류제어장치로부터 전류를 인가하기 위하여 상기 적층 코일의 일단과 연결되도록, 상기 절연 수지의 제1단 상에 형성된 전극 패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.And an electrode pad formed on the first end of the insulating resin so as to be connected to one end of the multilayer coil to apply current from the current control device. 광원으로부터 입사된 광을 집속하는 것에 의하여 초점을 형성하는 렌즈; A lens for forming a focus by focusing light incident from the light source; 내부에 상기 렌즈가 탑재되고, 상기 렌즈를 축방향으로 움직이게 하는 렌즈탑재유닛; 및A lens mounting unit mounted inside the lens and moving the lens in an axial direction; And 소정 방향으로 자기장을 갖는 고정자기장 발생부재 및 전류의 방향 및 양에 따라 자기장의 방향 및 세기가 변하는 가변자기장 발생부재를 포함하는 전자기력 발생장치를 포함하고,An electromagnetic force generating device including a stationary magnetic field generating member having a magnetic field in a predetermined direction and a variable magnetic field generating member whose direction and intensity of the magnetic field change in accordance with the direction and amount of current. 상기 렌즈탑재유닛은, 내부에 관통홀이 형성된 고정부; 상기 고정부의 관통홀 내에 위치하며 상기 렌즈가 내부에 탑재되도록 광진행경로가 형성된 가동부; 및 상기 가동부가 상기 고정부에 탄성적으로 매달리게 하기 위한 복수의 탄성 지지체를 포함하며, The lens mounting unit may include a fixing part having a through hole therein; A movable part positioned in a through hole of the fixing part and having an optical path formed therein so that the lens is mounted therein; And a plurality of elastic supports for elastically suspending the movable portion to the fixed portion. 상기 전자기력 발생장치는 상기 렌즈탑재유닛 주위에 설치되고 상기 두 개의 자기장 발생부재의 상호작용에 의해 발생된 전자기력 방향으로 상기 렌즈가 움직이게 하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.And the electromagnetic force generating device is installed around the lens mounting unit and moves the lens in the direction of the electromagnetic force generated by the interaction of the two magnetic field generating members. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 고정자기장 발생부재는, 상기 렌즈 근처에 위치되고 상기 가동부의 일측에 설치된 자성체인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The stator magnetic field generating member is a magnetic body positioned near the lens and installed on one side of the movable part. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 자성체는 환형 또는 여러 부분으로 분할된 환형을 갖는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The magnetic actuator is a depth of focus micro-actuator characterized in that it has an annular or annular divided into several parts. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 가변자기장 발생부재는, 상기 고정부를 둘러싸도록 설치된 적층 코일인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.And the variable magnetic field generating member is a stacked coil installed to surround the fixing part. 제16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 적층 코일은, The laminated coil, 상기 고정부와의 조립을 위한 관통홀을 갖는 절연 수지; 및An insulating resin having a through hole for assembly with the fixing part; And 상기 고정부를 둘러싸도록 상기 절연 수지에 매입 형성된, 작은 직경을 갖는 코일 형상의 금속 전도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.And a coil-shaped metal conductor having a small diameter embedded in the insulating resin so as to surround the fixing part. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 적층 코일은 다층 인쇄회로기판으로 형성된 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The multilayer coil is a micro-actuator for depth of focus, characterized in that formed of a multilayer printed circuit board. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 렌즈탑재유닛은 상기 복수의 탄성 지지체 및 상기 가동부로부터 소정 거리에 위치되고, 상기 고정부의 일측에 결합된 투명 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The lens mounting unit is a micro-actuator for the depth of focus characterized in that it comprises a transparent substrate which is located at a predetermined distance from the plurality of elastic support and the movable portion, coupled to one side of the fixing portion. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 투명 기판의 표면에 반사 방지 코팅막이 형성되는 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.An anti-reflective coating film is formed on the surface of the transparent substrate. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 투명 기판의 일측은 상기 절연 수지의 외주면에 비하여 돌출형성되고, 상기 금속 전도체에 연결되고 전류조절장치에 전기적으로 연결되도록 상기 투명 기판의 돌출된 표면에 전극 패드가 형성되며, 상기 금속 전도체는 코일 형상의 금속 전도체인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.One side of the transparent substrate is protruded relative to the outer peripheral surface of the insulating resin, an electrode pad is formed on the protruding surface of the transparent substrate to be connected to the metal conductor and electrically connected to the current regulator, the metal conductor is a coil A micro actuator for depth of focus, characterized in that the metal conductor of the shape. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 절연 수지의 상단에 형성되고 전류조절장치에 전기적으로 연결되도록 상기 금속 전도체의 일단에 전극 패드가 연결형성되고, 상기 금속 전도체는 코일 형상의 금속 전도체인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.An electrode pad is connected to one end of the metal conductor so as to be formed on top of the insulating resin and electrically connected to the current control device, and the metal conductor is a coil-shaped metal conductor. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 적층 코일은 적층 세라믹 회로기판인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The multilayer coil is a micro actuator for depth of focus, characterized in that the laminated ceramic circuit board. 제23항에 있어서,24. The method of claim 23, 상기 적층 세라믹 회로기판은 저온 동시소성 세라믹(LTCC; Low Temperature Co-fired Ceramic) 기판인 것을 특징으로 하는 초점 심도 조절용 마이크로 액츄에이터.The multilayer ceramic circuit board is a low-temperature co-fired ceramic (LTCC) substrate, characterized in that the depth of focus micro-actuator.
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