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KR101118872B1 - Surface protecting film and surface protecting material using the same - Google Patents

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KR101118872B1
KR101118872B1 KR1020040106083A KR20040106083A KR101118872B1 KR 101118872 B1 KR101118872 B1 KR 101118872B1 KR 1020040106083 A KR1020040106083 A KR 1020040106083A KR 20040106083 A KR20040106083 A KR 20040106083A KR 101118872 B1 KR101118872 B1 KR 101118872B1
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surface protective
protective film
ionizing radiation
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가지야구니히토
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키모토 컴파니 리미티드
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Abstract

본 발명의 표면보호막은, 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 이형제로 형성되어 되는 것으로, 바람직하게는 이형제는 실리콘 함유율이 50 중량% 이상 90 중량% 이하, 수평균 분자량이 5000~20000, 아크릴레이트 관능기 수가 3 이상인 실리콘 아크릴레이트이다. 이 표면보호막은 세정용제에 의한 클리닝에 의해 침식되지 않고, 더욱이 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올이나 그의 유도체 등으로 되는 용제에 의해서도 침식되지 않아, 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성이 지속된다.
The surface protective film of the present invention is formed of an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer and a releasing agent. Preferably, the releasing agent has a silicon content of 50% by weight to 90% by weight, a number average molecular weight of 5000 to 20000, and an acrylic It is silicone acrylate whose number of rate functional groups is three or more. The surface protective film is not eroded by cleaning with a cleaning solvent, and is not eroded even by a solvent such as a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in the photoresist, so that very high releasability to the photoresist is maintained.

표면보호막, 표면보호재료, 포토마스크, 포토레지스트, 이형성Surface protection film, surface protection material, photomask, photoresist, release property

Description

표면보호막 및 이것을 사용한 표면보호재료{Surface protecting film and surface protecting material using the same}Surface protective film and surface protecting material using the same

본 발명은, 이형성(離型性)을 갖는 표면보호막 및 표면보호재료에 관한 것으로, 특히 프린트기판 제작공정 등에 있어서 점착성을 갖는 포토레지스트를 노광(露光)할 때의 원고(포토마스크)의 표면에 적합하게 사용되는 표면보호막 및 표면보호재료에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to surface protective films and surface protective materials having releasability. In particular, the present invention relates to a surface of a document (photomask) when exposing a photoresist having adhesive properties to a printed board manufacturing process or the like. The present invention relates to a surface protective film and a surface protective material suitably used.

통상, 프린트 배선판이나 수지 볼록판은 액상 포토레지스트 등의 점착성이 있는 포토레지스트에 포토마스크(노광용 원고)를 밀착 노광하여 제작된다. 노광 종료 후 포토마스크를 포토레지스트로부터 박리시킬 때, 포토레지스트의 일부가 포토마스크 표면에 부착되는 것을 방지하기 위해서, 종래 포토마스크 위의 포토레지스트와 마주보는 면에 이형성을 갖는 표면보호재료(표면보호 시트)를 설치하고 있다. Usually, a printed wiring board and a resin convex board are produced by bringing a photomask (exposure document) into close contact with an adhesive photoresist such as a liquid photoresist. When the photomask is peeled from the photoresist after the end of the exposure, in order to prevent a portion of the photoresist from adhering to the surface of the photomask, a surface protective material having releasability on the surface facing the photoresist on the conventional photomask (surface protection Sheet).

이와 같은 포토마스크용 표면보호재료로서는, 플라스틱 필름의 한쪽 면에 이형성을 갖는 표면보호막을 갖고, 다른 한쪽 면에 점착층을 갖는 것이 제안되어 있다(일본 특허공개공보: 특허공개 제(평)11-7121호 공보 참조). 그러나 이와 같은 표면보호재료에 있어서도 표면보호막으로의 포토레지스트의 부착을 완전히 방지하 지는 못하여, 이들의 표면보호막에 남은 포토레지스트나 그 밖의 먼지 등을 제거하기 위해서, 표면보호막의 표면을 세정용제에 의해 정기적으로 클리닝(와이핑 조작)하는 것이 행해지고 있다. 이 때문에, 이와 같은 표면보호재료에는 클리닝 후에 있어서도 레지스트의 부착을 방지하도록 이형성이 지속되는 것이 요구되고 있다.As such a surface protection material for photomasks, it is proposed to have a surface protective film which has releasability on one side of a plastic film, and to have an adhesive layer on the other side (Japanese Patent Laid-Open No. 11-13). See publication 7121). However, even in such a surface protection material, adhesion of the photoresist to the surface protection film is not completely prevented, and the surface of the surface protection film is cleaned with a cleaning solvent in order to remove photoresist or other dust remaining on the surface protection film. Cleaning (wiping operation) is performed regularly. For this reason, such a surface protection material is required to keep releasability to prevent adhesion of a resist even after cleaning.

이에 대해서, 세정용제에 의한 클리닝 후에 있어서도, 포토레지스트에 대한 이형성이 지속되는 표면보호재료가 제안되어 있다(일본 특허공개공보: 특허공개 제2000-273412호 공보). 이와 같은 표면보호재료로는, 저급 알코올 등의 세정용제에 의한 클리닝에 대해서는 충분한 이형성을 지속할 수 있었다. 그러나, 최근 포토레지스트의 도포방법으로서는, 양산성을 높이기 위해 종래의 스크린 인쇄로부터 스프레이 코트나 커튼 코트라는 방법이 취해지게 되었다. 그 때문에 포토레지스트 중에 포함되는 용제의 성분이나 함유량이 변화되어, 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올이나 그의 유도체 등으로 되는 용제에 의해, 표면보호막이 서서히 침식되어 버려, 포토레지스트에 대한 충분한 이형성을 지속할 수 없게 되었다.On the other hand, the surface protection material which maintains mold release property with respect to a photoresist even after cleaning with a cleaning solvent is proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-273412). As such a surface protection material, sufficient releasability could be sustained with respect to cleaning by the cleaning solvents, such as a lower alcohol. However, in recent years, as a method of applying photoresist, a method such as spray coat or curtain coat has been taken from conventional screen printing in order to increase mass productivity. Therefore, the component and content of the solvent contained in the photoresist are changed, and the surface protective film is gradually eroded by a solvent such as a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in the photoresist, so that sufficient release property to the photoresist can be maintained. It became impossible.

한편, 포토마스크의 표면에 사용되는 표면보호재료는, 프린트 배선판 등의 기초가 되는 기판에는 스루홀(through hole) 등에 의해 요철이 있기 때문에, 밀착 노광될 때에 볼록부는 평활부 보다도 높은 압력이 가해져, 노광을 반복할 때마다 표면보호막이 조금씩 절삭되어 버린다고 하는 문제도 있다.On the other hand, since the surface protection material used for the surface of the photomask has irregularities due to through holes or the like on the substrate, such as a printed wiring board, the convex portion is subjected to a higher pressure than the smooth portion during close exposure. There is also a problem that the surface protective film is cut little by little every time the exposure is repeated.

따라서 본 발명은, 표면보호막이 세정용제에 의한 클리닝에 의해 침식되지 않고, 또한 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올이나 그의 유도체 등으로 되는 용제에 의해서도 침식되지 않아, 포토레지스트에 대해 매우 높은 이형성이 지속되는 표면보호막 및 이것을 사용한 표면보호재료를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, in the present invention, the surface protective film is not eroded by cleaning with a cleaning solvent, and is not eroded by a solvent such as a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in the photoresist, so that very high releasability of the photoresist is maintained. It is an object to provide a surface protective film and a surface protective material using the same.

또한 본 발명은 반복해서 사용한 경우에도, 표면보호막이 물리적으로 깎여져 버리는 것에 의한 표면보호막의 이형성의 저하를 방지하는 동시에, 헤이즈의 상승을 억제하고, 해상력의 저하를 방지하는 것을 목적으로 한다. Moreover, even if it uses repeatedly, an object of this invention is to prevent the fall of the release property of a surface protection film by physically scraping off a surface protection film, to suppress a rise of a haze, and to prevent the fall of resolution.

상기 목적을 달성하는 본 발명의 표면보호막은, 이형성을 갖는 표면보호막으로서, 전리방사선(電離放射線) 경화형 수지조성물 및 이소시아네이트 예비중합체(prepolymer)로 형성되어 되는 것을 특징으로 하는 것이다. The surface protection film of this invention which achieves the said objective is a surface protection film which has releasability, It is characterized by being formed from an ionizing radiation curable resin composition and an isocyanate prepolymer.

또한 본 발명의 표면보호막은, 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 이형제로 형성되어 되는 것을 특징으로 하는 것이다. The surface protective film of the present invention is characterized in that it is formed of an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer, and a release agent.

본 발명의 표면보호막에 있어서, 이소시아네이트 예비중합체의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 표면보호막을 구성하는 전체 수지고형분의 1 중량% 이상, 50 중량% 이하이다.In the surface protective film of the present invention, the content of the isocyanate prepolymer is not particularly limited, but is preferably 1% by weight or more and 50% by weight or less of the total resin solid content constituting the surface protection film.

본 발명의 표면보호막에 있어서 이형성은 예를 들면, 전리방사선 경화형 수지조성물에 포함되는 이형성 성분 또는 이형제에 의해 부여할 수 있다.In the surface protective film of this invention, mold release property can be provided by the mold release component or mold release agent contained in an ionizing radiation curable resin composition, for example.

이형제는, 바람직하게는 실리콘계 화합물이다. 또한 실리콘계 화합물은, 바람직하게는 실리콘 아크릴레이트이다. 실리콘 아크릴레이트는, 바람직하게는 실리콘 함유율이 50 중량% 이상 90 중량% 이하, 수평균 분자량이 5000~20000, 아크릴레이트 관능기 수가 3 이상이다. 본 발명에서 말하는 실리콘 함유율이란, 실리콘 아 크릴레이트에 있어서의 폴리알킬실록산 골격이 차지하는 비율을 말한다. The mold release agent is preferably a silicone compound. The silicone compound is preferably silicone acrylate. The silicone acrylate preferably has a silicon content of 50% by weight or more and 90% by weight or less, a number average molecular weight of 5000 to 20000, and a number of acrylate functional groups of 3 or more. The silicon content rate referred to in the present invention refers to the proportion of the polyalkylsiloxane skeleton in silicon acrylate.

본 발명의 표면보호재료는, 플라스틱 필름의 한쪽 면에 상술한 표면보호막을 갖고, 다른 한쪽 면에 점착층을 갖는 것을 특징으로 하는 것이다. The surface protection material of this invention has the surface protection film mentioned above on one side of a plastic film, and has an adhesive layer on the other side. It is characterized by the above-mentioned.

본 발명의 표면보호막 및 표면보호재료는, 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 이소시아네이트 예비중합체를 함유시킴으로써, 표면보호막이 세정용제에 의한 클리닝에 의해 침식되지 않고, 더욱이 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올이나 그의 유도체 등으로 되는 용제에 의해서도 침식되지 않아, 포토레지스트에 대해 매우 높은 이형성을 지속하는 것으로 할 수 있다.The surface protective film and the surface protective material of the present invention contain an isocyanate prepolymer together with an ionizing radiation curable resin composition so that the surface protective film is not eroded by cleaning with a cleaning solvent, and furthermore, a polyhydric alcohol or a derivative thereof contained in a photoresist. It does not corrode even by the solvent used, etc., and can maintain a very high mold release property with respect to a photoresist.

본 발명에 있어서는, 표면보호막을 구성하는 수지성분으로서 전리방사선 경화성 수지조성물을 사용함으로써, 노광을 반복하여 행해도 표면보호막을 절삭되기 어렵게 할 수 있다. 이것에 의해, 이형성의 저하를 방지하는 동시에 헤이즈의 상승을 억제하고, 해상력의 저하를 방지할 수 있다. 또한, 표면보호막은 흠집이 나기 어려워지기 때문에, 표면보호막의 내구성이 향상되어 노광할 수 있는 횟수를 대폭 늘릴수 있다. In the present invention, by using the ionizing radiation curable resin composition as the resin component constituting the surface protective film, it is possible to make the surface protective film difficult to be cut even if the exposure is repeated. Thereby, the fall of mold release property can be prevented, the rise of a haze can be suppressed, and the fall of a resolution can be prevented. In addition, since the surface protective film is less likely to be scratched, the durability of the surface protective film is improved, and the number of times of exposure can be significantly increased.

이하, 본 발명의 표면보호막의 각 구성요소의 실시형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of each component of the surface protection film of this invention is described.

본 발명의 표면보호막을 구성하는 전리방사선 경화형 수지조성물은, 전리방사선(자외선 또는 전자선)의 조사에 의해 가교(加橋) 경화할 수 있는 재료로 되어, 경화 후에 있어서의 표면보호막의 기계적 강도나 헤이즈의 저하를 방지한다. 표면보호막의 경도는, 피적층체에 따라 달라지지만, JIS K5400:1990에 있어서의 테이버(taber) 마모 경도시험에 있어서의 전후의 헤이즈 차(즉, 테이버 마모 경도시험 후 의 헤이즈에서 테이버 마모 경도시험 전의 헤이즈를 뺀 값, 이하 「△H」로 약기 한다)가, 25 미만, 더 나아가서는 20 미만으로 하는 것이 바람직하다. The ionizing radiation curable resin composition constituting the surface protective film of the present invention is a material which can be crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams), and the mechanical strength and haze of the surface protective film after curing. To prevent degradation. The hardness of the surface protective film varies depending on the laminated body, but the haze difference before and after the taper wear hardness test according to JIS K5400: 1990 (that is, the taper from the haze after the taper wear hardness test). The value obtained by subtracting the haze before the wear hardness test, hereinafter abbreviated as "ΔH") is preferably less than 25 and further less than 20.

전리방사선 경화형 수지조성물로서는 광중합성 예비중합체를 사용할 수 있다. 이 광중합성 예비중합체로서는, 1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기를 가지고, 가교 경화함으로써 3차원 망목(網目)구조가 되는 아크릴계 예비중합체가 특히 바람직하게 사용된다. 이 아크릴계 예비중합체로서는 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 멜라민 아크릴레이트, 폴리플루오로알킬 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 추가로 이들의 아크릴계 예비중합체는 단독으로도 사용 가능하지만, 가교 경화성을 향상시켜 표면보호막의 경도를 보다 향상시키기 위해서 광중합성 모노머를 가하는 것이 바람직하다. As the ionizing radiation curable resin composition, a photopolymerizable prepolymer can be used. As this photopolymerizable prepolymer, the acrylic prepolymer which has a 2 or more acryloyl group in 1 molecule, and becomes a three-dimensional network structure by crosslinking hardening is used especially preferably. Urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, polyfluoroalkyl acrylate, silicone acrylate, etc. can be used as this acryl-type prepolymer. In addition, although these acrylic prepolymers can be used independently, it is preferable to add a photopolymerizable monomer in order to improve crosslinking curability and to improve the hardness of a surface protective film further.

광중합성 모노머로서는 2-에틸헥실 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 부톡시에틸 아크릴레이트 등의 단관능 아크릴모노머, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 히드록시피바린산에스테르 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 등의 2관능 아크릴모노머, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 트리메틸프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 등의 다관능 아크릴모노머 등의 1종류 또는 2종류 이상이 사용된다. Examples of the photopolymerizable monomer include monofunctional acrylic monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and butoxyethyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and neo Bifunctional acryl monomers such as pentyl glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivaric acid ester neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylpropane triacrylate And one or two or more kinds of polyfunctional acrylic monomers such as pentaerythritol triacrylate and the like are used.

표면보호막은 상술한 광중합성 예비중합체 및 광중합성 모노머 외, 자외선 조사에 의해 경화시키는 경우에는 광중합 개시제나 광중합 촉진제 등의 첨가제를 사용하는 것이 바람직하다. It is preferable to use additives, such as a photoinitiator and a photoinitiator, when a surface protection film is hardened | cured by ultraviolet irradiation other than the photopolymerizable prepolymer and photopolymerizable monomer mentioned above.                     

광중합 개시제로서는, 아세토페논, 벤조페논, 미힐러케톤(Michler's ketone), 벤조인, 벤질메틸케탈, 벤조일벤조에이트, α-아실록심에스테르(acyloxymester), 티옥산톤류 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl methyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyloxymester, thioxanthones, and the like.

또한, 광중합 촉진제는, 경화시의 공기에 의한 중합장애를 경감시켜서 경화속도를 빠르게 할 수 있는 것으로, 예를 들면, p-디메틸아미노 안식향산 이소아밀에스테르, p-디메틸아미노 안식향산 에틸에스테르 등을 들 수 있다. In addition, the photopolymerization accelerator can reduce the polymerization impairment caused by air during curing and increase the curing speed. Examples thereof include p-dimethylamino benzoic acid isoamyl ester and p-dimethylamino benzoic acid ethyl ester. have.

이어서, 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 본 발명의 표면보호막을 구성하는 이소시아네이트 예비중합체에 대해서 설명한다. 여기에서 말하는 이소시아네이트 예비중합체란, 통상 폴리올 수지와 함께 상온 경화계에서 사용되는 이소시아네이트 예비중합체를 가리킨다. 이소시아네이트 예비중합체는, 원료 이소시아네이트에 의해 톨릴렌 디이소시아네이트계, 디페닐메탄 디이소시아네이트계, 크실릴렌 디이소시아네이트계, 이소포론 디이소시아네이트계, 헥사메틸렌 디이소시아네이트계 등이 있고, 특히 무황변성(無黃變性), 내후성의 관점에서 크실릴렌 디이소시아네이트계, 이소포론 디이소시아네이트계, 헥사메틸렌 디이소시아네이트계의 것이 적합하게 사용된다. Next, the isocyanate prepolymer which comprises the surface protection film of this invention with the ionizing radiation curable resin composition mentioned above is demonstrated. The isocyanate prepolymer referred to herein refers to an isocyanate prepolymer which is usually used in a room temperature curing system together with a polyol resin. Isocyanate prepolymers include tolylene diisocyanate type, diphenylmethane diisocyanate type, xylylene diisocyanate type, isophorone diisocyanate type, hexamethylene diisocyanate type, etc. with raw material isocyanate. Xylylene diisocyanate type, an isophorone diisocyanate type, and a hexamethylene diisocyanate type are used suitably from a viewpoint of a weather resistance and weather resistance.

이와 같은 이소시아네이트 예비중합체를 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 가교 경화시킴으로써, 표면보호막에 이형성을 지속시킬 수 있다. 이와 같이 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 이소시아네이트 예비중합체를 함유시키면 이형성을 지속할 수 있게 되는 이유는 반드시 명확하지는 않지만, 다음과 같이 생각할 수 있다. 즉, 피막표면에서는 공기 중의 산소에 의한 경화장애나 이형제에 의한 경 화장애가 적잖이 일어나고 있어, 이것에 의해 내용제성이 저하되고 있는 것으로 생각되어, 표면보호막에 이소시아네이트 예비중합체를 함유시키면 피막표면에서 이소시아네이트 예비중합체가 가교반응하여, 경화장애에 의해 약간 생긴 가교 부족을 보충할 수 있기 때문이라고 생각된다. 이것에 의해 표면보호막은 이소시아네이트 예비중합체를 함유시키지 않은 것과 비교하여 내용제성이 향상되어, 이형성을 유지할 수 있는 것이라고 생각된다. 또한, 불활성가스 등의 분위기하에서 전리방사선을 조사함으로써, 이와 같은 공기 중의 산소에 의한 경화장애를 발생시키지 않도록 하는 것도 가능하지만, 이와 같은 방법에서는 설비를 갖추기 위한 비용이 들고, 또한 이형제에 의한 경화장애를 방지할 수는 없다. By crosslinking and curing such an isocyanate prepolymer with an ionizing radiation curable resin composition, release property can be continued in a surface protection film. The reason why the release property can be continued by containing the isocyanate prepolymer together with the ionizing radiation curable resin composition is not necessarily clear, but it can be considered as follows. That is, hardening impairment caused by oxygen in the air and hardening impairment caused by a releasing agent are occurring at the surface of the film, and solvent resistance is deteriorated by this. It is considered that the polymer is able to compensate for the lack of crosslinking caused by crosslinking reaction and curing failure. It is thought that the surface protection film improves solvent resistance and can maintain mold release property by this, compared with the thing which does not contain an isocyanate prepolymer. In addition, by irradiating ionizing radiation in an atmosphere of an inert gas or the like, it is possible to prevent such hardening obstacles caused by oxygen in the air. However, in such a method, it is expensive to equip equipment and hardening obstacles by a release agent. It cannot be prevented.

이소시아네이트 예비중합체는, 소량이나마 함유시킴으로써 상기 효과가 얻어지고, 그 함유량은 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한 이소시아네이트기의 함유율, 표면보호막의 두께나 이형제의 첨가량에 따라 달라지기 때문에 일률적으로 말할 수 없지만, 표면보호막을 구성하는 전체 수지고형분 중, 하한(下限)으로서 1 중량% 이상, 바람직하게는 5 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 10 중량% 이상으로 하고, 상한(上限)으로서는 50 중량% 이하, 바람직하게는 30 중량% 이하로 한다. 1 중량% 이상으로 함으로써 표면보호막의 표면에서 이소시아네이트 예비중합체가 가교반응하여, 경화장애에 의해 약간 생긴 가교 부족을 보충할 수 있고, 50 중량% 이하로 함으로써 전리방사선 경화형 수지조성물을 사용함으로써 얻어지는 피막경도 등의 물성이 손실되지 않도록 할 수 있다. The said effect is acquired by containing a small amount of isocyanate prepolymers, and the content is not specifically limited. In addition, since it varies depending on the content of the isocyanate group, the thickness of the surface protective film and the addition amount of the release agent, it cannot be said uniformly. It is made into% or more, More preferably, it is 10 weight% or more, As an upper limit, it is 50 weight% or less, Preferably you may be 30 weight% or less. The film hardness obtained by using an ionizing radiation curable resin composition by using 1% by weight or more of the isocyanate prepolymer crosslinking reaction on the surface of the surface protective film to compensate for the lack of crosslinking caused by curing failure. Physical properties such as can be prevented from being lost.

이어서 본 발명의 표면보호막에 이형성을 부여하는 성분에 대해서 설명한다. Next, the component which gives a release property to the surface protection film of this invention is demonstrated.                     

이형제로서는 특별히 한정되지 않고, 플루오르계 화합물이나 실리콘계 화합물을 사용한 이형제를 사용할 수 있으며, 포토레지스트로부터의 초기 이형성을 고려하면, 실리콘계 화합물인 것이 바람직하다. 이와 같은 실리콘계 화합물로서는, 예를 들면, 실리콘 오일, 실리콘 수지, 오르가노실세스키옥산의 래더 중합체, 실리콘계 빗형 그래프트폴리머, 실리콘 아크릴레이트 등을 들 수 있고, 그 중에서도 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 가교시킬 수 있는 것으로부터 실리콘 아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. It does not specifically limit as a mold release agent, The mold release agent using a fluorine compound and a silicone type compound can be used, In consideration of the initial mold release property from a photoresist, it is preferable that it is a silicone type compound. Examples of such silicone compounds include silicone oils, silicone resins, ladder polymers of organosyl sesquioxanes, silicone comb graft polymers, silicone acrylates, and the like, with the ionizing radiation curable resin compositions described above. It is preferable to use silicone acrylate from the thing which can be bridge | crosslinked.

또한 광중합성 예비중합체로서, 상술한 폴리플루오로알킬 아크릴레이트 및 실리콘 아크릴레이트를 단독으로 사용한 경우는, 후술하는 이형제를 사용하지 않고 표면보호막에 이형성을 부여할 수 있지만, 이들 광중합성 예비중합체는, 단독으로 사용하기 보다도 이형제로서 상술한 다른 전리방사선 경화형 수지조성물과 함께 사용하는 것이 바람직하다. In addition, when the above-mentioned polyfluoroalkyl acrylate and silicone acrylate are used alone as a photopolymerizable prepolymer, mold release property can be imparted to the surface protective film without using a releasing agent described later, but these photopolymerizable prepolymers It is preferable to use together with the other ionizing radiation curable resin composition mentioned above as a mold release agent rather than using alone.

특히 실리콘 아크릴레이트는, 표면보호막으로 했을 때의 피적층체와의 접착성, 표면경도, 초기 이형성 및 노광이나 클리닝을 반복하여 행한 후의 이형성의 지속이라는 관점에서, 이형제로서 사용하는 것이 바람직하다. 실리콘 아크릴레이트를 이형제로서 사용하는 경우는, 다른 전리방사선 경화형 수지조성물에 의해 표면경도를 높게 하고, 실리콘 아크릴레이트는 소량의 첨가로도 충분한 이형성이 나오도록 실리콘 함유율을 특정의 것으로 하고, 또한 노광이나 클리닝을 반복하여 행한 후의 이형성의 지속이라는 관점에서, 수평균 분자량이나 아크릴레이트 관능기 수를 특정한 것으로 하는 것이 바람직하다. It is preferable to use a silicone acrylate as a mold release agent especially from a viewpoint of adhesiveness with a laminated body when it is used as a surface protective film, surface hardness, initial mold release property, and the continuation of mold release after repeated exposure and cleaning. When silicone acrylate is used as a releasing agent, the surface hardness is increased by another ionizing radiation curable resin composition, and the silicone acrylate has a specific silicone content so that sufficient release property can be obtained even with a small amount of addition. It is preferable to make a number average molecular weight and the number of acrylate functional groups a thing from a viewpoint of the persistence of mold release property after repeating cleaning.                     

즉, 이와 같은 실리콘 아크릴레이트는, 실리콘 함유율이 하한으로서 50 중량% 이상, 바람직하게는 60 중량% 이상으로 하고, 상한으로서 90 중량% 이하, 바람직하게는 80 중량% 이하로 한다. 실리콘 함유율을 50 중량% 이상으로 함으로써 우수한 이형성을 부여할 수 있고, 90 중량% 이하로 함으로써 유효한 아크릴레이트 관능기 수를 부여하여 이형성을 유지할 수 있다. That is, such silicone acrylate has a silicon content of at least 50 wt%, preferably at least 60 wt%, and at most 90 wt%, preferably at most 80 wt% as the upper limit. When the silicon content is at least 50% by weight, excellent mold release property can be imparted, and when the silicone content is at most 90% by weight, effective number of acrylate functional groups can be imparted to maintain mold release property.

또한, 수평균 분자량은 5000~20000인 것이 바람직하고, 더 나아가서는 10000~15000인 것이 바람직하다. 수평균 분자량을 5000 이상으로 함으로써 노광시에 이형제가 포토레지스트 쪽으로 전사되어 버리는 것을 방지할 수 있고, 20000 이하로 함으로써 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물과의 상용성이 저하되는 것을 방지하여, 피막의 투명성을 유지할 수 있는 동시에, 표면보호막의 이형성을 지속시킬 수 있다. Moreover, it is preferable that a number average molecular weight is 5000-20000, Furthermore, it is preferable that it is 10000-15000. By setting the number average molecular weight to 5000 or more, it is possible to prevent the release agent from being transferred to the photoresist side at the time of exposure, and by setting it as 20000 or less, the compatibility with the above-mentioned ionizing radiation curable resin composition is prevented from being lowered and the transparency of the film is prevented. At the same time, release of the surface protective film can be continued.

또한, 아크릴레이트 관능기 수는 3 이상인 것이 바람직하고, 3 이상 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 아크릴레이트 관능기 수를 3 이상으로 함으로써 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물과의 반응성을 충분한 것으로 하여, 이형성을 지속시킬 수 있다. 또한 아크릴레이트 관능기 수를 8 이상으로 해도, 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물과의 반응성의 향상에 의한 이형성의 지속은 기대할 수 없기 때문에, 이와 같은 범위로 하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that it is three or more, and, as for the number of acrylate functional groups, it is more preferable that it is three or more and eight or less. By setting the number of acrylate functional groups to 3 or more, the reactivity with the above-mentioned ionizing radiation curable resin composition is sufficient, and releasability can be continued. Moreover, even if the number of acrylate functional groups is 8 or more, since the continuation of releasability by improvement of the reactivity with the ionizing radiation curable resin composition mentioned above cannot be expected, it is preferable to set it as such a range.

이와 같은 이형제의 첨가량은 플루오르계 화합물 또는 실리콘계 화합물 등의 사용하는 이형제의 종류에 따라 다르지만, 실리콘계 화합물의 경우, 일반적으로 표면보호막을 구성하는 전체 수지고형분 중의 0.1 중량%~20 중량% 정도이다. 더욱이 실리콘 아크릴레이트를 사용하는 경우에는, 실리콘 함유율에 따라서도 다르지만 상기 범위의 경우, 0.5 중량%~10 중량%, 더 나아가서는 0.5 중량%~5 중량% 정도로 하는 것이 바람직하다. Although the addition amount of such a mold release agent changes with kinds of mold release agents used, such as a fluorine compound or a silicone type compound, in the case of a silicone type compound, it is generally about 0.1 weight%-20 weight% in the total resin solid content which comprises a surface protective film. Moreover, when using a silicone acrylate, although it changes also with a silicon content rate, it is preferable to set it as about 0.5 to 10 weight%, Furthermore, about 0.5 to 5 weight% in the said range.

본 발명의 표면보호막은 상술한 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 필요에 따라서 첨가한 이형제 외에, 이들의 효과를 저해하지 않는 범위라면 다른 수지를 혼합해도 된다. 단, 폴리올 수지 등과 같이 이소시아네이트 예비중합체와 반응해 버리는 수지의 경우는, 반응해 버리는 만큼 이소시아네이트 예비중합체의 첨가량을 많게 할 필요가 있다. 또한, 표면보호막에는 이들의 효과를 저해하지 않는 범위라면, 활제(滑劑), 미립자, 형광증백제, 안료, 대전방지제, 난연제, 항균제, 방곰팡이제, 산화방지제, 가소제, 레벨링제, 유동조정제, 소포제(消泡劑), 분산제 등의 여러 첨가제를 포함시킬 수 있다.The surface protection film of this invention may mix other resin as long as it is a range which does not impair these effects other than the ionizing radiation curable resin composition mentioned above, the isocyanate prepolymer and the mold release agent added as needed. However, in the case of the resin which will react with the isocyanate prepolymer, such as polyol resin, it is necessary to increase the amount of the isocyanate prepolymer added as much as the reaction. In addition, the surface protective film may contain lubricants, fine particles, fluorescent brighteners, pigments, antistatic agents, flame retardants, antimicrobial agents, mold mildews, antioxidants, plasticizers, leveling agents, and flow regulators so long as they do not impair these effects. Various additives, such as an antifoamer and a dispersing agent, can be included.

특히, 포토마스크용 표면보호막으로서는 밀착 노광시 진공화하기 쉽게 한다는 관점에서, 표면보호막 중에 무기 안료나 수지 비드 등의 미립자 등을 함유시켜 표면보호막의 표면에 미세한 요철을 형성하는 것이 바람직하다. 이와 같은 미립자로서는, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 황산바륨, 실리카, 수산화알루미늄, 카올린, 클레이, 탈크 등의 무기 안료나 아크릴 수지입자, 폴리스티렌 수지입자, 폴리우레탄 수지입자, 폴리에틸렌 수지입자, 벤조구아나민 수지입자, 에폭시 수지입자 등의 수지 비드 등을 사용할 수 있다. 이와 같은 미립자의 첨가량은, 미립자의 종류, 표면보호막의 두께에 따라 달라지기 때문에 일률적으로 말할 수 없지만, 통상은 표면보호막을 구성하는 전체 수지고형분에 대하여 0.1 중량%~10 중량% 정도이다. 또한, 이와 같은 미립자의 평균 입경은, 표면보호막의 두께에 따라 달라지기 때문에 일률적으로 말할 수는 없지만, 통상 0.1 ㎛~10 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 0.5 ㎛~5 ㎛인 것이 사용된다.In particular, as a surface protective film for photomasks, it is preferable to form fine irregularities on the surface of the surface protective film by containing fine particles such as inorganic pigments, resin beads, etc. in the surface protective film from the viewpoint of facilitating vacuuming during close exposure. Such fine particles include inorganic pigments such as calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, silica, aluminum hydroxide, kaolin, clay, and talc, acrylic resin particles, polystyrene resin particles, polyurethane resin particles, polyethylene resin particles, and benzoguanamine resins. Resin beads, such as particle | grains and an epoxy resin particle, can be used. Since the addition amount of such microparticles | fine-particles changes with the kind of microparticles | fine-particles and the thickness of a surface protective film, it cannot be said uniformly, Usually, it is about 0.1 to 10 weight% with respect to the total resin solid content which comprises a surface protective film. In addition, since the average particle diameter of such microparticles | fine-particles changes with the thickness of a surface protective film, it cannot be said uniformly, Usually, it is about 0.1 micrometer-10 micrometers, Preferably, 0.5 micrometer-5 micrometers are used.

표면보호막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 노광시의 포토마스크의 해상도를 저하시키지 않기 위해서는 되도록 얇은 쪽이 바람직하다. 또한 표면보호막의 표면경도, 밀착 노광을 반복하는 것에 의한 표면보호막의 깎임 방지, 초기 이형성 및 클리닝 후의 이형성의 지속이라는 관점에서는 어느 정도의 두께가 필요해진다. 구체적으로는 0.5 ㎛~5 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛~3 ㎛ 정도로 한다. Although the thickness of a surface protection film is not specifically limited, In order not to reduce the resolution of the photomask at the time of exposure, a thinner side is preferable. In addition, from the viewpoints of surface hardness of the surface protective film, prevention of chipping of the surface protective film by repeating close exposure, initial release and continuation of release after cleaning, a certain thickness is required. Specifically, the thickness is 0.5 µm to 5 µm, preferably 1 µm to 3 µm.

이와 같은 표면보호막은 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 필요에 따라서 첨가한 이형제, 다른 수지, 다른 첨가제 및 희석용매 등을 혼합하여 표면보호막용 도포액을 조정하고, 종래 공지의 코팅방법, 예를 들면 바 코터, 다이 코터, 블레이드 코터, 스핀 코터, 롤 코터, 그라비야(gravure) 코터, 플로(flow) 코터, 스프레이, 스크린 인쇄 등에 의해, 포토마스크 등의 보호하고자 하는 것에 직접 도포한 후, 필요에 따라 건조시키고, 전리방사선의 조사에 의해 경화시키고, 추가로 필요에 따라서 가열에 의해 큐어링(curing)을 함으로써 제작할 수 있다.Such a surface protective film is mixed with an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer and a release agent added as needed, other resins, other additives and diluting solvents to adjust the coating liquid for the surface protective film, and a conventionally known coating method, for example For example, a bar coater, a die coater, a blade coater, a spin coater, a roll coater, a gravure coater, a flow coater, a spray, a screen print, or the like is applied directly to a photomask or the like to be protected, It can be produced by drying if necessary, curing by irradiation with ionizing radiation, and further curing by heating as necessary.

전리방사선을 조사하는 방법으로서는 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본아크, 메탈할라이드 램프 등으로부터 발산되는 100 nm~400 nm, 바람직하게는 200 nm~400 nm의 파장영역의 자외선을 조사하거나, 또는 주사형(走査型)이나 커튼형의 전자선 가속기로부터 발산되는 100 nm 이하의 파장영역의 전자선을 조사 하는 등의 방법을 채용할 수 있다. As a method of irradiating ionizing radiation, ultraviolet rays in a wavelength range of 100 nm to 400 nm, preferably 200 nm to 400 nm emitted from an ultra high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, or the like, or The method of irradiating the electron beam of the wavelength range of 100 nm or less emitted from a scanning type or curtain type electron beam accelerator can be employ | adopted.

본 발명의 표면보호막은 상기와 같이 포토마스크 위에 직접 형성하여 사용하는 것 이외에, 예를 들면 한쪽 면에 점착층이 설치된 플라스틱 필름의 다른 한쪽 면에, 상술한 것과 동일하게 해서 표면 보호막을 형성하여 표면보호재료를 제작하고, 이 표면보호 필름의 점착층을 갖는 면과 포토마스크의 표면을 첩합(貼合)시킴으로써 사용하는 것도 가능하다.The surface protective film of the present invention is formed directly on the photomask as described above, and used, for example, on the other surface of the plastic film provided with an adhesive layer on one surface, the surface protective film is formed in the same manner as described above. A protective material can also be produced and used by bonding the surface having the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film with the surface of the photomask.

이와 같은 플라스틱 필름으로서는 특별히 한정되지 않지만, 투명성이 높은 것이 바람직하고, 특히 노광시에 사용되는 자외선 투과율이 높은 것일수록 바람직하다. 이와 같은 플라스틱 필름으로서는, 예들 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 트리아세틸셀룰로오스, 아크릴, 폴리염화비닐 등의 투명성이 우수한 플라스틱 필름이 사용된다. 특히 이축연신(二軸延伸)된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이 기계적 강도, 치수안정성이 우수하기 때문에 적합하게 사용된다. 또한 표면에 이(易)접착처리가 실시된 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이접착처리로서는, 플라즈마 처리, 코로나 방전처리, 원자외선 조사처리, 밑코팅(under coating) 이접착처리층의 형성 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as such a plastic film, It is preferable that transparency is high, and it is more preferable that especially high ultraviolet transmittance used at the time of exposure is high. As such a plastic film, the plastic film which is excellent in transparency, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, triacetyl cellulose, acryl, polyvinyl chloride, is used, for example. do. In particular, biaxially stretched polyethylene terephthalate films are suitably used because of their excellent mechanical strength and dimensional stability. Moreover, it is preferable to use the thing in which the adhesion | attachment process was given to the surface. Examples of the easy adhesion treatment include a plasma treatment, a corona discharge treatment, an ultraviolet irradiation treatment, and the formation of an under coating easy adhesion treatment layer.

플라스틱 필름의 두께는 노광시의 포토마스크의 해상도를 저하시키지 않는다는 관점에서 되도록 얇은 쪽이 바람직하지만, 취급성이나 기계적 강도 등도 고려하면, 1 ㎛~100 ㎛, 바람직하게는 2 ㎛~25 ㎛, 더욱 바람직하게는 4 ㎛~15 ㎛ 정도이다. The thickness of the plastic film is preferably as thin as possible from the viewpoint of not lowering the resolution of the photomask during exposure. However, considering the handleability and mechanical strength, the thickness of the plastic film is preferably 1 μm to 100 μm, preferably 2 μm to 25 μm. Preferably it is about 4 micrometers-15 micrometers.                     

점착층은 적어도 점착성 성분으로 형성된다. 점착성 성분으로서는 특별히 한정되지 않고, 천연수지계 점착제, 합성수지계 점착제 등이 사용되고, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제 등의 합성수지계 점착제가 바람직하게 사용된다. 또한 점착층에는, 점착성을 저해하지 않는 범위라면, 가교제나 표면보호막과 동일한 여러 첨가제를 포함시킬 수 있다. The adhesive layer is formed of at least an adhesive component. It does not specifically limit as an adhesive component, A natural resin adhesive, a synthetic resin adhesive, etc. are used, Synthetic resin adhesives, such as an acrylic adhesive, a silicone adhesive, and a urethane type adhesive, are used preferably. Moreover, as long as it is a range which does not impair adhesiveness, in the adhesion layer, various additives similar to a crosslinking agent and a surface protective film can be included.

점착층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 투명성(해상도)를 저해하지 않고 적당한 점착성을 얻을 수 있도록, 0.5 ㎛~20 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛~10 ㎛, 더욱 바람직하게는 2 ㎛~4 ㎛ 정도로 한다. 또한 점착층에는 그 점착성에 의해 표면보호 재료의 취급성이 저하되지 않도록, 플라스틱 필름이나 종이 등의 표면에 이형처리를 실시한 세퍼레이터(separator)를 첩합시켜두면 좋다.Although the thickness of an adhesion layer is not specifically limited, 0.5 micrometer-20 micrometers, Preferably it is 1 micrometer-10 micrometers, More preferably, about 2 micrometers-4 micrometers so that moderate adhesiveness can be obtained without impairing transparency (resolution). do. Moreover, what is necessary is just to bond together the separator which performed the mold release process on the surface of plastic films, paper, etc. so that the adhesiveness may not reduce the handleability of a surface protection material by the adhesiveness.

점착층은 점착성 성분 및 필요에 따라 가한 가교제나 다른 첨가제를 용제에 용해 또는 분산하여 점착층용 도포액을 조제하고, 상술한 표면보호막과 동일한 종래 공지의 코팅방법에 의해, 상술한 플라스틱 필름의 표면보호막을 형성하는 면과는 반대면에 도포, 건조함으로써 제작할 수 있다. 또한, 상기 점착층용 도포액을 세퍼레이터 등에 도포, 건조하고, 플라스틱 필름의 표면보호막을 형성하는 면과는 반대면에 라미네이트함으로써 제작할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer is prepared by dissolving or dispersing an adhesive component and a crosslinking agent or other additive added as necessary in a solvent to prepare a coating liquid for pressure-sensitive adhesive layer, and the surface protective film of the plastic film described above by a conventionally known coating method similar to the surface protective film described above. It can produce by apply | coating and drying on the surface opposite to the surface which forms the form. Moreover, it can produce by apply | coating and drying the said coating liquid for adhesion layers on a separator etc. to the surface opposite to the surface which forms the surface protection film of a plastic film.

이하, 본 발명을 실시예를 토대로 더욱 상세히 설명한다. 또한, 본 실시예에 있어서 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한 중량기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. In addition, in this Example, "part" and "%" are a basis of weight unless there is particular notice.

[실시예 1]Example 1

두께 6 ㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(루미라: 도오레샤)의 한쪽 면 에 하기 처방의 표면보호막용 도포액을, 다른 한쪽 면에 하기 처방의 점착층용 도포액을 각각 순차적으로 도포하고 건조시켜, 표면보호막을 형성하는 쪽의 면에는 고압 수은등으로 자외선을 조사하여 두께 2 ㎛의 표면보호막을 형성하였다. 또한, 점착층을 갖는 면에는 취급성을 고려하여 두께 25 ㎛의 세퍼레이터(MRB: 미츠비시가가쿠 폴리에스테르필름샤)를 첩합시키고, 60℃에서 2일간 큐어링하여 실시예 1의 표면보호재료를 제작하였다. 또한, 이형제로서 사용한 실리콘 아크릴레이트 a는, 실리콘 함유율이 70 %, 수평균 분자량이 약 12000, 아크릴레이트 관능기 수가 6인 것이었다.
On one side of a polyethylene terephthalate film (Lumera: Douresha) having a thickness of 6 μm, the coating liquid for the surface protective film of the following prescription was applied sequentially to the other side, and the coating liquid for the adhesive layer of the following prescription was applied and dried, respectively. The surface of the surface forming film was irradiated with ultraviolet light with a high pressure mercury lamp to form a surface protective film having a thickness of 2 m. In addition, the surface having an adhesive layer was bonded with a separator having a thickness of 25 μm (MRB: Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) in consideration of handling properties, and cured at 60 ° C. for 2 days to prepare the surface protective material of Example 1. It was. In addition, silicone acrylate a used as a mold release agent was 70% of silicone content, the number average molecular weight was about 12000, and the number of acrylate functional groups was six.

<실시예 1의 표면보호막용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Example 1>

?전리방사선 경화형 수지조성물 16부16 parts of ionizing radiation curable resin composition

(폴리에스테르 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Polyester acrylate) (solid content 100%)

(아로닉스 M7100: 도아고세이샤)  (Aronix M7100: Doago Seisha)

?이소시아네이트 예비중합체(고형분 75%) 5.5부5.5 parts of isocyanate prepolymers (75% solids)

(바녹 D750: 다이닛폰잉크가가쿠고교샤)  (Bannock D750: Dainippon Ink and Chemical Industries, Ltd.)

?이형제 0.2부? 0.2 release agents

(실리콘 아크릴레이트 a)(고형분 100%)  (Silicone acrylate a) (100% solids)

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 77부
Methyl ethyl ketone 77 parts

<점착층용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Adhesive Layer>

?아크릴계 점착제(고형분 40%) 10부10 parts of acrylic pressure-sensitive adhesives (40% solids)

(아론택 SCL-200: 도아고세이가가쿠샤)  (Arontech SCL-200: Toagosei Chemicals)

?톨루엔 10부Toluene, part 10

?초산에틸 10부
10 parts ethyl acetate

[실시예 2][Example 2]

실시예 1의 표면보호막용 도포액을, 하기 처방의 표면보호막용 도포액으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 표면보호재료를 제작하였다. 또한, 이형제로서 사용한 실리콘 아크릴레이트 b는, 실리콘 함유율이 20%, 수평균 분자량이 약 3000, 아크릴레이트 관능기 수가 2인 것이었다.
The surface protection material of Example 2 was produced like Example 1 except having changed the coating liquid for surface protection films of Example 1 into the coating liquid for surface protection films of the following prescription. In addition, the silicone acrylate b used as a mold release agent was 20% of silicone content, the number average molecular weight was about 3000, and the number of acrylate functional groups was two.

<실시예 2의 표면보호막용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Example 2>

?전리방사선 경화형 수지조성물 16부16 parts of ionizing radiation curable resin composition

(에폭시 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Epoxy acrylate) (100% solids)

(KAYARAD R130: 닛폰가야쿠샤)  (KAYARAD R130: Nippon Kayakusha)

?이소시아네이트 예비중합체(고형분 75%) 5.5부5.5 parts of isocyanate prepolymers (75% solids)

(바녹 D750: 다이닛폰잉크가가쿠고교샤)  (Bannock D750: Dainippon Ink and Chemical Industries, Ltd.)

?이형제 0.2부 ? 0.2 release agents                     

(실리콘 아크릴레이트 b)(고형분 100%)  (Silicone acrylate b) (100% solids)

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 77부
Methyl ethyl ketone 77 parts

[실시예 3]Example 3

실시예 1의 표면보호막용 도포액을, 하기 처방의 표면보호막용 도포액으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 표면보호재료를 제작하였다. 또한, 이형제로서 사용한 실리콘 오일은, 폴리실록산의 한쪽 말단을 유기기로 변성한 것이었다.
The surface protection material of Example 3 was produced like Example 1 except having changed the coating liquid for surface protection films of Example 1 into the coating liquid for surface protection films of the following prescription. In addition, the silicone oil used as a mold release agent modified | denatured one terminal of polysiloxane with the organic group.

<실시예 3의 표면보호막용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Example 3>

?전리방사선 경화형 수지조성물 16부16 parts of ionizing radiation curable resin composition

(우레탄 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Urethane acrylate) (solid content 100%)

(NK올리고 UI5HA: 신나카무라가가쿠고교샤)  (NK raise UI5HA: Shinnakamura Gakuku High School)

?이소시아네이트 예비중합체(고형분 75%) 5.5부5.5 parts of isocyanate prepolymers (75% solids)

(바녹 D750: 다이닛폰잉크가가쿠고교샤)  (Bannock D750: Dainippon Ink and Chemical Industries, Ltd.)

?이형제 0.2부? 0.2 release agents

(실리콘 오일)(고형분 100%)  (Silicone oil) (solid content 100%)

(X22-170DX: 신에쯔가가쿠고교샤)   (X22-170DX: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)                     

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 77부
Methyl ethyl ketone 77 parts

[비교예 1]Comparative Example 1

실시예 1의 표면보호막용 도포액을, 하기 처방의 표면보호막용 도포액(이소시아네이트 예비중합체를 첨가하지 않은 것)으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 표면보호재료를 제작하였다.
A surface protective material of Comparative Example 1 in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for surface protection film of Example 1 was changed to the coating liquid for surface protection film (without addition of isocyanate prepolymer) of the following prescription. Was produced.

<비교예 1의 표면보호막용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Comparative Example 1>

?전리방사선 경화형 수지조성물 20부20 parts of ionizing radiation curable resin composition

(폴리에스테르 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Polyester acrylate) (solid content 100%)

(아로닉스 M7100: 도아고세이샤)  (Aronix M7100: Doago Seisha)

?이형제 0.2부? 0.2 release agents

(실리콘 아크릴레이트 a)(고형분 100%)  (Silicone acrylate a) (100% solids)

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 79부
Methyl ethyl ketone 79 parts

[비교예 2] Comparative Example 2                     

실시예 2의 표면보호막용 도포액을, 하기 처방의 표면보호막용 도포액(이소시아네이트 예비중합체를 첨가하지 않은것)으로 변경한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 하여, 비교예 2의 표면보호재료를 제작하였다.
A surface protective material of Comparative Example 2 in the same manner as in Example 2 except that the coating liquid for surface protective film of Example 2 was changed to the coating liquid for surface protection film (without addition of isocyanate prepolymer) of the following prescription. Was produced.

<비교예 2의 표면보호막용 도포액의 처방><Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Comparative Example 2>

?전리방사선 경화형 수지조성물 20부20 parts of ionizing radiation curable resin composition

(에폭시 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Epoxy acrylate) (100% solids)

(KAYARAD R130: 닛폰가야쿠샤)  (KAYARAD R130: Nippon Kayakusha)

?이형제 0.2부? 0.2 release agents

(실리콘 아크릴레이트 b)(고형분 100%)  (Silicone acrylate b) (100% solids)

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 79부
Methyl ethyl ketone 79 parts

[비교예 3]Comparative Example 3

실시예 3의 표면보호막용 도포액을, 하기 처방의 표면보호막용 도포액(이소시아네이트 예비중합체를 첨가하지 않은것)으로 변경한 이외는 실시예 3과 동일하게 하여, 비교예 3의 표면보호재료를 제작하였다.
A surface protective material of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Example 3 except that the coating liquid for surface protection film of Example 3 was changed to the coating liquid for surface protection film (without addition of isocyanate prepolymer) of the following prescription. Produced.

<비교예 3의 표면보호막용 도포액의 처방> <Prescription of Coating Liquid for Surface Protective Film of Comparative Example 3>                     

?전리방사선 경화형 수지조성물 20부20 parts of ionizing radiation curable resin composition

(우레탄 아크릴레이트)(고형분 100%)  (Urethane acrylate) (solid content 100%)

(NK올리고 UI5HA: 신나카무라가가쿠고교샤)  (NK raise UI5HA: Shinnakamura Gakuku High School)

?이형제 0.2부? 0.2 release agents

(실리콘 오일)(고형분 100%)  (Silicone oil) (solid content 100%)

(X22-170DX: 신에츠가가쿠고교샤)  (X22-170DX: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

?광중합 개시제 1부Photopolymerization initiator part 1

(이르가큐어 184: 씨바스페셜리티케미컬즈샤)  Irgacure 184 Sea Specialty Chemicals

?메틸에틸케톤 79부
Methyl ethyl ketone 79 parts

실시예 및 비교예에서 얻어진 표면보호재료에 대해서, 표면보호막이 세정용제에 의한 클리닝이나, 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올 등의 용제에 의해서도 침식되지 않고, 포토레지스트에 대해 높은 이형성을 지속하는지의 여부를, 이하와 같은 시험을 행하여 평가하였다. 또한 반복하여 노광을 행함으로써 표면보호막의 내마모성에 대해서 평가하였다. 평가결과를 표 1에 나타낸다. With respect to the surface protective material obtained in Examples and Comparative Examples, whether the surface protective film is not eroded even by cleaning with a cleaning solvent or a solvent such as a polyhydric alcohol contained in the photoresist, and whether or not high releasability is maintained with respect to the photoresist. Was evaluated by performing the following test. Moreover, the wear resistance of the surface protection film was evaluated by repeatedly exposing. Table 1 shows the evaluation results.

(1) 초기 이형성의 평가(1) Evaluation of Initial Dysplasia

실시예 1~3 및 비교예 1~3의 표면보호재료의 표면보호막을 가지는 면에, 점착 테이프(닛토폴리에스테르 31b: 닛토덴코샤)를 첩부(貼付)하여, 인장(引張)시험기(TENSILON HTM-100: 도요볼드윈샤)를 사용하여, 박리속도 300 mm/분에 있어서의 180°박리력을 측정하고 평가하였다. 평가는, 박리력이 20 g/50 mm 미만이었던 것 을 「◎」, 20 g/50 mm~30 g/50 mm였던 것을 「○」, 미경화로 끈적끈적한 느낌이 있었던 것을 「×」로 하였다.
An adhesive tape (Nitto Polyester 31b: Nitto Denko Co., Ltd.) was affixed on a surface having a surface protective film of the surface protective materials of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, and a tensile tester (TENSILON HTM) -100: Toyoboldwinsha), 180 degree peeling force in peeling speed of 300 mm / min was measured and evaluated. The evaluation used "(circle)" and 20 g / 50mm-30 g / 50mm of peeling force which was less than 20g / 50mm, and made "x" that there was a sticky feeling by "(circle)" and uncured.

(2) 와이핑시험 후의 이형성의 평가(2) Evaluation of release property after wiping test

와이핑시험으로서 실시예 1~3 및 비교예 1, 2의 표면보호재료의 표면보호막을 갖는 면을, 세정용제로서 에틸알코올(EtOH)을 거즈에 묻혀, 50회 와이핑조작을 행한 후의 이형성을 상기 초기 이형성과 동일하게 하여 측정하였다. 또한 포토레지스트에 포함되는 다가 알코올에 대한 내용제성을 평가하기 위해서, 에틸알코올(EtOH) 대신에 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGM)를 사용하여, 상기와 동일하게 하여 와이핑시험을 행하였다. 평가는, 박리력이 초기의 측정값보다 2배 미만이었던 것을 「◎」, 2배 이상 10배 미만이었던 것을 「○」, 10배 이상이 된 것을 「×」로 하였다.As a wiping test, the surface having the surface protective film of the surface protective materials of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 was immersed in gauze with ethyl alcohol (EtOH) as a cleaning solvent, and then the releasability after 50 wiping operations was performed. Measurement was carried out in the same manner as the initial release. In addition, in order to evaluate the solvent resistance with respect to the polyhydric alcohol contained in a photoresist, the wiping test was done similarly to the above using propylene glycol monomethyl ether (PGM) instead of ethyl alcohol (EtOH). The evaluation used "(circle)" and the thing which became 10 times or more "(circle)" and the thing which was 2 times or more and less than 10 times that peeling force was less than 2 times the initial measured value as "x".

(3) 내마모성의 평가(3) evaluation of wear resistance

실시예 1~3 및 비교예 1, 2의 표면보호재료의 세퍼레이터를 박리하여, 투명 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(두께 188 ㎛)에 첩합시킨 후, JIS K5400:1990에 준거하여, 마모륜(摩耗輪) CS-10F, 하중 500 g, 회전속도 70 rpm, 회전수 100회로 테이버 마모시험을 행하여, 시험 후의 헤이즈에서 시험 전의 헤이즈(초기 헤이즈)를 뺀 값을 테이버 마모 경도 △H로 하였다. 또한 헤이즈는 JIS K7136:2000에 기초하여 헤이즈 미터(NDH2000: 닛폰덴쇼쿠샤)를 사용하여 측정하였다. 평가는 △H가 20 미만이었던 것을 「○」로 하였다.
After peeling the separator of the surface protection material of Examples 1-3 and Comparative Examples 1 and 2, bonding it to a transparent polyethylene terephthalate film (188 micrometers in thickness), it was a wear ring based on JISK5400: 1990. A taper abrasion test was performed at CS-10F, a load of 500 g, a rotational speed of 70 rpm, and a rotational speed of 100 cycles, and the value obtained by subtracting the haze before the test (initial haze) from the haze after the test was taken as the taper wear hardness ΔH. In addition, haze was measured using the haze meter (NDH2000: Nippon Denshokusha) based on JISK7136: 2000. Evaluation made "(circle)" that ΔH was less than 20.

Figure 112004059079525-pat00001
Figure 112004059079525-pat00001

표 1의 결과로부터도 명백하듯이, 실시예 1~3의 표면보호재료는 표면보호막이 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 이형제로 형성되어있기 때문에, 표면보호막을 클리닝하기 위해서 사용되는 세정용제인 에틸알코올에 대해서 우수한 내용제성을 가질 뿐만 아니라, 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올인 프로필렌글리콜 모노메틸에테르에 대해서도 우수한 내용제성을 갖는 것이었다. As is apparent from the results in Table 1, the surface protective materials of Examples 1 to 3 are used as cleaning agents for cleaning the surface protective film since the surface protective film is formed of an ionizing radiation curable resin composition, an isocyanate prepolymer and a release agent. In addition to excellent solvent resistance to phosphorus ethyl alcohol, it also had excellent solvent resistance to propylene glycol monomethyl ether which is a polyhydric alcohol contained in the photoresist.

특히 실시예 1의 표면보호재료는 표면보호막이 이형제로서 실리콘 함유율이 70 중량%, 수평균 분자량이 약 12000, 아크릴레이트 관능기 수가 6인 실리콘 아크릴레이트를 사용하였기 때문에, 와이핑시험 후에도 매우 우수한 이형성을 지속하는 것으로 되었다. In particular, the surface protective material of Example 1 used a silicone acrylate having a silicon content of 70% by weight, a number average molecular weight of about 12000 and an acrylate functional group of 6 as the surface protective film as a release agent, and thus exhibited excellent releasability even after the wiping test. It became to last.

한 편, 비교예 1의 표면보호재료는 표면보호막이 이소시아네이트 예비중합체를 함유하지 않고 형성된 것이기 때문에, 실시예 1과 비교하면 와이핑시험 후의 이 형성의 지속이 떨어지는 것으로 되었다.On the other hand, since the surface protective film of Comparative Example 1 was formed without containing an isocyanate prepolymer, the duration of this formation after the wiping test was inferior to that of Example 1.

또한, 실시예 2의 표면보호재료는 표면보호막이 이형제로서 실리콘 함유율이 20 중량%, 수평균 분자량이 약 3000, 아크릴레이트 관능기 수가 2인 실리콘 아크릴레이트를 사용하였기 때문에, 와이핑시험 후에도 양호한 이형성을 지속하는 것으로 되었다. 한 편, 비교예 2의 표면보호재료는 표면보호막이 이소시아네이트 예비중합체를 함유하지 않고 형성된 것이기 때문에, 실시예 2와 비교하면 와이핑시험 후의 이형성의 지속이 떨어지는 것으로 되었다.In addition, since the surface protective film of Example 2 used a silicone acrylate having a silicon content of 20% by weight, a number average molecular weight of about 3000 and an acrylate functional group of 2 as the surface protective film as a release agent, good releasability was obtained even after the wiping test. It became to last. On the other hand, since the surface protective film of Comparative Example 2 was formed without containing an isocyanate prepolymer, the sustainability of releasability after the wiping test was inferior to that of Example 2.

또한, 실시예 3의 표면보호재료는 표면보호막이 이형제로서 실리콘 오일을 사용한 것이지만, 이소시아네이트 예비중합체를 함유하여 형성되었기 때문에, 초기 이형성은 양호한 것으로 되고, 와이핑시험 후에도 양호한 이형성을 지속하는 것으로 되었다. 한 편, 비교예 3의 표면보호재료는 이소시아네이트 예비중합체를 함유하지 않고 형성되었기 때문에, 표면보호막은 실리콘 오일에 의한 경화장애를 일으켜 미경화로 끈적끈적한 느낌이 있는 것으로 되어 버렸다.In addition, although the surface protective film of Example 3 used the silicone oil as a mold release agent, but since the surface protective film was formed containing an isocyanate prepolymer, initial release property became favorable and it became favorable to maintain good mold release property even after a wiping test. On the other hand, since the surface protective material of Comparative Example 3 was formed without containing an isocyanate prepolymer, the surface protective film caused hardening impairment by silicone oil and became unsticky and gooey.

본 발명에 의하면, 전리방사선 경화형 수지조성물 및 이소시아네이트 예비중합체로 형성되어 되는 이형성을 갖는 표면보호막으로 한 것으로 인하여, 세정용제에 의한 클리닝이나 포토레지스트에 포함되는 용제에 의해 침식되지 않고, 노광이나 클리닝을 반복하여 행하여도 높은 이형성을 지속하는 표면보호막 및 표면보호 필름을 얻을 수 있다.According to the present invention, the surface protective film having a releasability formed of an ionizing radiation curable resin composition and an isocyanate prepolymer is used to prevent exposure and cleaning without being eroded by cleaning by a cleaning solvent or by a solvent contained in a photoresist. Even if it is performed repeatedly, the surface protection film and surface protection film which maintain high release property can be obtained.

Claims (9)

1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기를 가지고, 전리방사선에 의해 가교 경화함으로써 3차원 망목구조가 되는 아크릴계 예비 중합체를 포함하는 전리방사선 경화형 수지조성물 및 이소시아네이트 예비중합체로 형성되어 되는 것을 특징으로 하는 이형성을 갖는 표면보호막.Release property characterized in that it is formed of an ionizing radiation curable resin composition containing an acrylic prepolymer having two or more acryloyl groups in one molecule and crosslinking with ionizing radiation to form a three-dimensional network structure and an isocyanate prepolymer. Having a surface protective film. 1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기를 가지고, 전리방사선에 의해 가교 경화함으로써 3차원 망목구조가 되는 아크릴계 예비 중합체를 포함하는 전리방사선 경화형 수지조성물, 이소시아네이트 예비중합체 및 이형제로 형성되어 되는 것을 특징으로 하는 표면보호막.An ionizing radiation curable resin composition comprising an acrylic prepolymer having two or more acryloyl groups in one molecule and crosslinking with ionizing radiation to form a three-dimensional network structure, an isocyanate prepolymer and a release agent, characterized in that Surface protective film. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 이소시아네이트 예비중합체는, 표면보호막을 구성하는 전체 수지고형분의 1 중량% 이상, 50 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 표면보호막.The surface protective film according to claim 1 or 2, wherein the isocyanate prepolymer is 1% by weight or more and 50% by weight or less of the total resin solid content constituting the surface protection film. 제1항에 있어서, 상기 전리방사선 경화형 수지조성물은, 이형성을 갖는 광중합성 예비중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호막.The surface protective film according to claim 1, wherein the ionizing radiation curable resin composition comprises a photopolymerizable prepolymer having a releasability. 제2항 또는 제4항에 있어서, 상기 이형제 또는 이형성을 갖는 광중합성 예비중합체는, 실리콘계 화합물인 것을 특징으로 하는 표면보호막.The surface protective film according to claim 2 or 4, wherein the mold release agent or the photopolymerizable prepolymer having mold release property is a silicone compound. 제5항에 있어서, 상기 실리콘계 화합물은, 실리콘 아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 표면보호막.6. The surface protective film according to claim 5, wherein the silicone compound is silicone acrylate. 제6항에 있어서, 상기 실리콘 아크릴레이트는, 실리콘 함유율이 50 중량% 이상 90 중량% 이하, 수평균 분자량이 5000~20000, 아크릴레이트 관능기 수가 3 이상인 것을 특징으로 하는 표면보호막.7. The surface protective film according to claim 6, wherein the silicone acrylate has a silicon content of 50% by weight or more and 90% by weight or less, a number average molecular weight of 5000 to 20000, and a number of acrylate functional groups of 3 or more. 제1항, 제2항 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서, JIS K5400:1990에 있어서의 테이퍼 마모 경도시험 전후의 헤이즈 차가 25 미만인 것을 특징으로 하는 표면보호막.The surface protective film according to any one of claims 1, 2, and 4, wherein a haze difference before and after the taper wear hardness test in JIS K5400: 1990 is less than 25. 플라스틱 필름의 한쪽 면에 제1항, 제2항 및 제4항 중 어느 한 항의 표면보호막을 갖고, 다른 한쪽 면에 점착층을 갖는 것을 특징으로 하는 표면보호재료.The surface protective material of any one of Claims 1, 2, and 4 on one side of a plastic film, and the adhesive layer on the other side.
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