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KR101663759B1 - adapter unit for align photo mask - Google Patents

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KR101663759B1
KR101663759B1 KR1020160057789A KR20160057789A KR101663759B1 KR 101663759 B1 KR101663759 B1 KR 101663759B1 KR 1020160057789 A KR1020160057789 A KR 1020160057789A KR 20160057789 A KR20160057789 A KR 20160057789A KR 101663759 B1 KR101663759 B1 KR 101663759B1
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KR
South Korea
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photomask
adapter
seated
jig frame
front side
Prior art date
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KR1020160057789A
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Korean (ko)
Inventor
김민삼
Original Assignee
주식회사 티엠씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

본 발명은 패턴이 형성된 확인대상기판(미도시)이 안착되는 지그프레임(J)의 전방 및 후방에 설치되어 상기 확인대상기판에 형성된 패턴이 정확한지를 검사하기 위한 포토마스크(M)가 안착되는 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트에 관한 것으로서, 지그프레임(J)의 전방에 설치되는 것으로서 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제1체결공(11a)(12a)이 형성된 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)와, 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)를 연결하는 제1테이블(13)과, 상기 제1테이블(13) 상부면 중앙에 형성되는 것으로서 포토마스크(M)의 전방측 밑면이 안착되는 제1안착단(14)을 가지는 제1어댑터(10); 및 지그프레임(J)의 후방에 설치되는 것으로서 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제2체결공(21a)이 형성된 제2다리몸체(21)와, 제2다리몸체(21)의 측부 일측으로 돌출되는 제2테이블(23)과, 제2테이블(23)의 상부면에 형성되는 것으로서 포토마스크(M)의 후방측 밑면이 안착되는 제2안착단(24)을 가지는 제2어댑터(20);을 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a method and a device for mounting a photomask (M) for inspecting whether a pattern formed on a substrate to be checked is correct or not, which is installed in front of and behind a jig frame (J) A first fastening hole 11a or 12a which is provided in front of the jig frame J and through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J, A first table 13 connecting a pair of first leg bodies 12 and 13 formed with a first leg body 12 and a pair of first leg bodies 12 and 13 formed thereon; A first adapter (10) having a first mounting end (14) on which a front side bottom surface of the photomask (M) is seated; And a second leg body 21 provided at the rear of the jig frame J and formed with a second fastening hole 21a through which a bolt (not shown) fastened to the jig frame J is passed, A second table 23 formed on the upper surface of the second table 23 and having a second seating end 24 on which the bottom surface of the rear side of the photomask M is seated, And a second adapter (20) having a first end and a second end.

Description

패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트{adapter unit for align photo mask}[0001] The present invention relates to a photo-mask alignment adapter unit for pattern inspection,

본 발명은 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼나 글라스와 같은 기판에 패턴이 정확하게 형성되었는지를 검사하기 위한 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트에 관한 것이다. The present invention relates to a photomask aligning adapter unit for pattern inspection, and more particularly, to a photomask aligning adapter unit for pattern inspection for inspecting whether a pattern is accurately formed on a substrate such as a wafer or a glass.

일반적으로 반도체 소자나 LCD 패널등을 제조하기 위하여, 식각공정(photolithography)을 통하여 웨이퍼나 글라스와 같은 기판(이하, 확인대상기판)에 다수의 패턴을 형성한다. 이러한 패턴은 다수의 소자를 전기적으로 연결하는 것이기 때문에 정확히 형성되어야 하며, 따라서 확인대상기판에 패턴 형성후 그 패턴이 정확히 형성되었는지를 확인하여야 한다. In general, a plurality of patterns are formed on a substrate such as a wafer or glass (hereinafter referred to as a substrate to be confirmed) through photolithography in order to manufacture a semiconductor device or an LCD panel. These patterns must be precisely formed since they are electrically connected to a plurality of devices. Therefore, it is necessary to confirm whether or not the patterns are accurately formed after the patterns are formed on the substrate to be inspected.

이를 위하여, 확인용 패턴이 형성된 포토마스크를 확인대상기판의 상부측에 정확히 이송시켜야 한다. 이때 포토마스크를 기판 상부로 이송시키는 장치는, 기본적으로 확인대상기판이 안착되는 지그프레임의 가장자리측에 설치되는 다수의 어댑터와, 어댑터에 안착된 패턴검사용 포토마스크를 확인대상기판의 상부측 특정한 얼라인 위치로 이송시키는 에어스프링을 포함한다. 이러한 장치에 의하여, 에어스프링은 포토마스크를 밀어 확인대상기판 상부측의 특정 얼라인 위치로 이송시키고, 이후 카메라를 이용하여 포토마스크에 형성된 확인용 패턴과 확인대상기판에 형성된 패턴을 상호 비교하여 확인대상기판에 패턴이 정확히 형성되었는지 여부를 확인하게 된다.For this purpose, the photomask on which the confirmation pattern is formed must be accurately transferred to the upper side of the substrate to be identified. At this time, the apparatus for transferring the photomask to the upper portion of the substrate includes a plurality of adapters provided basically on the edge side of the jig frame on which the substrate to be inspected is placed, and a photomask for pattern inspection placed on the adapter, And an air spring for transferring to an aligned position. With this apparatus, the air spring pushes the photomask to transfer it to a specific alignment position on the upper side of the substrate to be inspected, and thereafter, the confirmation pattern formed on the photomask and the pattern formed on the confirmation target substrate are compared with each other using a camera It is confirmed whether or not the pattern is accurately formed on the target substrate.

이와 관련된 선행기술이 특허공개번호 2001-0111048호에 얼라인먼트 방법, 정합검사방법 및 포토마스크란 명칭으로 개시되어 있다. Prior art related to this is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-0111048 under the names of alignment method, registration inspection method and photomask.

그런데 패턴확인을 위하여 포토마스크를 이송시키는 과정이 반복됨에 따라, 쿼츠로 된 포토마스크와 어댑터 사이에서 정전기가 발생하는데, 이러한 정전기는 포토마스크가 어댑터에 밀착된 상태를 유지하게 하는 인력을 형성함으로써 에어스프링이 포토마스크를 밀더라도 그 포토마스크가 잘 밀리지 않게되는 원인이 되었다. 이 경우 포토마스크가 얼라인 위치로 정확히 이송되지 않게 되어, 결과적으로 확인대상기판에 패턴이 정확히 형성되었는지 여부를 알수 없게 되었다. However, as the process of transferring the photomask is repeated to confirm the pattern, static electricity is generated between the quartz photomask and the adapter, which forms a attraction force to keep the photomask in close contact with the adapter, Even if the spring pushes the photomask, it causes the photomask to not be pressed well. In this case, the photomask is not correctly transferred to the alignment position, and as a result, it is impossible to know whether or not the pattern is accurately formed on the substrate to be checked.

한편 포토마스크를 밀기 위하여 에어스프링으로 탄성력을 크게할 수 있으나, 이 경우 포토마스크가 정전기에 의하여 정지하고 있다가 갑자기 밀리게 되면서 충격이 인가됨에 따라, 정확한 얼라인 위치에서 벗어나게 되었다. On the other hand, the elastic force can be increased by the air spring in order to push the photomask, but in this case, the photomask is stopped by the static electricity, and suddenly pushed out.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 패턴검사용 포토마스크를 확인대상기판 상부측의 특정 얼라인위치로 이송시킬 때, 포토마스크와 어댑터 사이에서 정전기 발생을 방지할 수 있는 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a photomask for pattern inspection which, when transferring a photomask for pattern inspection to a specific alignment position on the upper side of a substrate to be inspected, It is an object of the present invention to provide a photomask alignment adapter unit for inspection.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트는,
패턴이 형성된 확인대상기판(미도시)이 안착되는 지그프레임(J)의 전방 및 후방에 설치되어 상기 확인대상기판에 형성된 패턴이 정확한지를 검사하기 위한 포토마스크(M)가 안착되는 것으로서, 상기 지그프레임(J)의 전방에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제1체결공(11a)(12a)이 형성된 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)와, 상기 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)를 연결하는 제1테이블(13)과, 상기 제1테이블(13) 상부면 중앙에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 전방측 밑면이 안착되는 제1안착단(14)을 가지는 제1어댑터(10); 상기 지그프레임(J)의 후방 일측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제2체결공(21a)이 형성된 제2다리몸체(21)와, 상기 제2다리몸체(21)의 측부 일측으로 돌출되는 제2테이블(23)과, 상기 제2테이블(23)의 상부면에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 후방측 밑면이 안착되는 제2안착단(24)을 가지는 제2어댑터(20); 및 상기 지그프레임(J)의 후방 타측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제3체결공(31a)이 형성된 제3다리몸체(31)와, 상기 제3다리몸체(31)의 전방측에 형성되는 제3테이블(33)과, 상기 제3테이블(33)의 상부면에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 다른 후방측 밑면이 안착되는 제3안착단(34)을 가지는 제3어댑터(30);를 포함하고,
상기 제1안착단(14)은, 상기 포토마스크(M)의 전방측 모서리가 안착되는 제1경사면(14b) 및 그 제1경사면(14b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제1수평면(14a)으로 구성되되, 상기 제1경사면(14b)은 상기 제2,3어댑터측을 향하는 상기 제1테이블(13)의 전방측에, 그리고 상기 제1수평면(14a)은 상기 제1테이블(13)의 후방측에 위치되며;
상기 제2안착단(24)은, 상기 포토마스크(M)의 후방 모서리가 안착되는 제2경사면(24b) 및 상기 제2경사면(24b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제2수평면(24a)으로 구성되되, 상기 제2수평면(24a)은 상기 제3어댑터측을 향하는 상기 제2테이블(23)의 전방측에, 그리고 상기 제2경사면(24b)은 제2테이블(23)의 후방측에 위치되고;
상기 제3안착단(34)은, 상기 포토마스크(M)의 후방 모서리가 안착되는 제3경사면(34b) 및 상기 제3경사면(34b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제3수평면(34a)으로 구성되되, 상기 제3수평면(34a)은 상기 제2어댑터측을 향하는 상기 제3테이블(33)의 전방측에, 그리고 상기 제3경사면(34b)은 제3테이블(33)의 후방측에 위치되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a photomask alignment adapter unit for pattern inspection,
As check target substrate (not shown), the pattern is formed is installed in the front and rear of the jig frame (J) that is seated to be a photomask (M) for testing the pattern is correct formed in the check target substrate mounted, the jig A pair of first leg bodies 12 (first leg body 12) provided in front of the frame J and provided with first fastening holes 11a and 12a through which bolts (not shown) fastened to the jig frame J are inserted A first table 13 for connecting the pair of first leg bodies 12 and 13 to each other and a second table 13 for connecting the pair of leg bodies 12 and 13 to each other; A first adapter (10) having a first seating end (14) on which a bottom side is seated; A second leg body 21 provided at a rear side of the jig frame J and having a second fastening hole 21a through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J; A second table 23 protruding from one side of the side of the second leg body 21 and a second table 23 formed on the top surface of the second table 23, A second adapter (20) having a seating end (24); And a third leg body 31 provided on the other side of the jig frame J and having a third fastening hole 31a through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J, A third table 33 formed on the front side of the third leg body 31 and another bottom side of the photomask M that is formed on the upper surface of the third table 33 And a third adapter (30) having a third seating end (34)
The first seating end 14 has a first inclined face 14b on which the front side edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the first inclined face 14b, Wherein the first inclined surface 14b is formed on the front side of the first table 13 facing the second and third adapter sides and the first horizontal surface 14a is formed on the front side of the first table 13, Is located on the rear side of the first table (13);
The second seating end 24 has a second inclined face 24b on which the rear edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the second inclined face 24b And the second horizontal surface 24a is formed on the front side of the second table 23 facing the third adapter side and the second inclined surface 24b is disposed on the second table 23b, 23);
The third seating end 34 has a third inclined face 34b on which the rear edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the third inclined face 34b The third horizontal surface 34a is formed on the front side of the third table 33 facing the second adapter side and the third inclined surface 34b is disposed on the third table 33b 33).

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본 발명에 있어서, 상기 제1안착단(14)은, 정전기 발생이 방지되는 엔지니어링 플라스틱으로 된다. In the present invention, the first seating end 14 is made of an engineering plastic in which static electricity is prevented.

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본 발명에 따르면, 제1,2,3어댑터의 제1,2,3안착단이 포토마스크의 모서리부분과 점접촉되는 제1,2,3경사면을 포함함으로써, 포토마스크와 제1,2,3어댑터 사이에서 정전기의 발생을 최소화할 수 있다. 이에 따라 패턴검사를 하여 포토마스크를 이송시키는 과정이 반복되더라도 쿼츠로 된 포토마스크와 제1,2,3어댑터 사이에서 정전기가 발생되지 않아 정전기에 따른 포토마스크가 어댑터에 밀착된 상태를 유지하게 하는 인력의 발생을 방지할 수 있고, 따라서 에어스프링이 포토마스크(M)를 밀때 잘 밀리게 되어 포토마스크를 특정 얼라인 위치로 정확히 이송시킬 수 있어 결과적으로 확인대상기판에 패턴이 정확히 형성되었는지 여부를 검사할 수 있다. According to the present invention, since the first, second, and third mounting ends of the first, second, and third adapters include first, second, and third inclined surfaces that are in point contact with corner portions of the photomask, 3 adapter to minimize the generation of static electricity. Accordingly, even if the pattern inspection is repeated to transfer the photomask, static electricity is not generated between the quartz photomask and the first, second, and third adapters, so that the photomask according to the static electricity is kept in close contact with the adapter It is possible to prevent the generation of attraction force, and thus, the air spring is pushed when the photomask M is pushed, so that the photomask can be precisely transferred to a certain alignment position. As a result, whether or not the pattern is accurately formed on the substrate to be confirmed Can be inspected.

제1,2,3안착단이 포토마스크(M)의 모서리부분과 점접촉되는 제1,2,3경사면을 포함함으로써, 포토마스크와 제1,2,3어댑터 사이에서 정전기의 발생을 최소화할 수 있다. The first, second, and third rest positions include the first, second, and third inclined faces that are in point contact with the edge portions of the photomask (M), thereby minimizing the generation of static electricity between the photomask and the first, .

또한 제2,3안착단보다 상대적으로 큰 면적을 차지하는 제1안착단은 정전기의 발생이 방지되는 엔지니어링 플라스틱으로 됨으로써, 쿼츠 재질로 된 포토마스크가 반복적으로 접촉되는 과정에서 정전기의 발생이 방지되고, 이에 따라 정전기에 의한 포토마스크의 밀림 방해원인이 제거될 수 있다. In addition, since the first seating end, which occupies a relatively larger area than the second and third seating ends, is an engineering plastic that prevents the generation of static electricity, the generation of static electricity is prevented during repeated contact of the quartz- As a result, the cause of interruption of the photomask due to static electricity can be eliminated.

그리고 제2,3안착단이 제2,3경사면과 연결되는 제2,3수평면을 포함함으로써, 에어스프링에 의하여 밀리는 포토마스크가 제2,3경사면을 타고 제2,3수평면으로 부드럽게 타고 올라올 수 있어, 정확한 얼라인 위치로 포토마스크를 이송시킬 수 있는 것이다. And the second and third mounting stages include the second and third horizontal surfaces connected to the second and third inclined surfaces so that the photomask pushed by the air spring can smoothly ride on the second and third horizontal surfaces with the second and third inclined surfaces So that the photomask can be transferred to the correct alignment position.

도 1은 본 발명에 따른 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트가 지그프레임에 설치된 것을 예시한 도면,
도 2는 도 1의 제1어댑터를 발췌하여 도시한 사시도,
도 3은 도 2의 III-III' 선을 따른 단면도,
도 4는 도 1의 제2어댑터를 발췌하여 도시한 사시도,
도 5는 도 4의 V-V' 선을 따른 단면도,
도 6은 도 1의 제3어댑터를 발췌하여 도시한 사시도,
도 7은 도 6의 VII-VII' 선을 따른 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram illustrating the installation of a photomask aligning adapter unit for pattern inspection according to the present invention in a jig frame;
Fig. 2 is a perspective view illustrating the first adapter of Fig. 1,
3 is a sectional view taken along the line III-III 'of FIG. 2,
FIG. 4 is a perspective view illustrating the second adapter of FIG. 1,
5 is a sectional view taken along the line VV 'in Fig. 4,
FIG. 6 is a perspective view illustrating the third adapter of FIG. 1,
7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII 'of FIG. 6;

이하, 본 발명에 따른 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a photomask alignment adapter unit for pattern inspection according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트가 지그프레임에 설치된 것을 예시한 도면이다.FIG. 1 is a diagram illustrating a photomask aligning adapter unit for pattern inspection according to the present invention installed on a jig frame.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트는, 패턴이 형성된 웨이퍼나 글라스와 같은 확인대상기판(미도시)이 안착되는 지그프레임(J)의 전방측, 후방 일측 및 타측에 설치되는 확인대상기판에 형성된 패턴이 정확한지를 검사하기 위한 포토마스크(M)가 안착되는 제1,2,3어댑터(10)(20)(30)를 포함한다. 즉 제1,2,3어댑터(10)(20)(30)의 상부측에는 확인대상기판에 정확한 패턴이 형성되었는지를 확인하기 위한 패턴검사용 포토마스크(M)가 안착되는 것이고, 포토마스크(M)는 측부가 에어스프링(미도시)에 의하여 밀리어 확인대상기판의 상부측 특정 얼라인 위치로 이송된다. 이러한 제1,2,3어댑터(10)(20)(30)는 알루미늄 블럭에 아노다이징 코팅이 됨으로써 구현된다. As shown in the drawing, the photomask aligning adapter unit for pattern inspection according to the present invention is provided with a front side, a rear side, and a rear side of a jig frame J on which a substrate (not shown) and a first, second and third adapter 10, 20, 30, which is a photomask (M) mounted for inspecting a pattern formed on a substrate to determine the accuracy of which is installed at the other side. That is, on the upper side of the first, second, and third adapters 10, 20, and 30, a pattern inspection photomask M for confirming whether or not an accurate pattern is formed on the substrate to be identified is seated, Is pushed by an air spring (not shown) to be transported to a specific alignment position on the upper side of the substrate to be confirmed. The first, second and third adapters 10, 20 and 30 are realized by applying an anodizing coating to the aluminum block.

도 2는 도 1의 제1어댑터를 발췌하여 도시한 사시도이고, 도 3은 도 2의 III-III' 선을 따른 단면도이다. FIG. 2 is a perspective view illustrating the first adapter of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III 'of FIG.

도시된 바와 같이, 제1어댑터(10)는, 지그프레임(J)의 전방에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제1체결공(11a)(12a)이 형성된 한쌍의 제1다리몸체(11)(12)와, 한쌍의 제1다리몸체(11)(12)를 연결하는 제1테이블(13)과, 제1테이블(13) 상부면 중앙에 형성되는 것으로서 포토마스크(M)의 전방측 밑면이 안착되는 제1안착단(14)을 포함한다. The first adapter 10 is provided in front of the jig frame J and has a first fastening hole 11a (not shown) through which a bolt (not shown) fastened to the jig frame J is passed A first table 13 connecting a pair of first leg bodies 11 and 12 with a pair of leg bodies 12 and 12a formed on the first leg 13 and a pair of first leg bodies 11 and 12, And a first seating end 14 on which a front side bottom surface of the photomask M is seated.

제1안착단(14)은, 포토마스크(M)의 전방측 모서리가 안착되는 제1경사면(14b) 및 그 제1경사면(14b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제1수평면(14a)으로 구성된다. 이때 제1경사면(14b)은 도 1에 도시된 바와 같이 제1테이블(13)의 전방측, 즉 제2,3어댑터(20)(30) 측을 향하게 위치되고 제1수평면(14a)은 제1테이블(13)의 후방측에 위치된다. The first seating end 14 has a first inclined face 14b on which the front side edge of the photomask M is seated and a second inclined face 14b on which the bottom face of the photomask M via the first inclined face 14b is seated 1 horizontal plane 14a. At this time, the first inclined surface 14b is positioned toward the front side of the first table 13, that is, toward the side of the second and third adapters 20 and 30 as shown in Fig. 1, 1 is located on the rear side of the table 13.

이러한 제1안착단(14)의 구조에 의하여, 포토마스크(M)의 전방측이 제1경사면(14b)에 안착될 때는 포토마스크(M)의 모서리 부분만 제1경사면(14b)에 안착되고 다른 편편한 면은 제1경사면(14b)에서 분리되므로, 포토마스크(M)와 제1어댑터(10) 사이에서 정전기의 발생이 억제된다. 그리고 포토마스크(M)가 에어스프링(미도시)에 제1수평면(14a) 측으로 좀더 밀리면, 결국 포토마스크(M)의 모서리부분 밑면은 제1수평면(14a)에 안착되고 제1경사면(14b)에서 분리된다. When the front side of the photomask M is seated on the first inclined face 14b by the structure of the first seating end 14, only the corner portion of the photomask M is seated on the first inclined face 14b Since the other flat surface is separated from the first inclined surface 14b, generation of static electricity is suppressed between the photomask M and the first adapter 10. [ When the photomask M is further pushed toward the first horizontal surface 14a side by an air spring (not shown), the bottom surface of the corner portion of the photomask M is seated on the first horizontal surface 14a and the first inclined surface 14b, Lt; / RTI >

이때 제1경사면(14b)의 경사각도(θ)는 제1수평면(14a)을 기준으로 1° ~ 10°의 경사각도가 형성되고, 바람직하게는 5° 의 경사각을 이룬다. At this time, the inclination angle? Of the first inclined plane 14b is inclined at an angle of 1 to 10 degrees with respect to the first horizontal plane 14a, preferably at an inclination angle of 5 degrees.

만약 제1경사면(14b)의 경사각도(θ)가 제1수평면(14a)을 기준으로 1° 이내일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제1경사면(14b)에 안착되더라도, 포토마스크(M) 모서리 외측부분과 제1경사면(14b) 사이의 간격이 좁아지므로 정전기가 발생될 수 있다. 그리고 제1경사면(14b)의 경사각도(θ)가 제1수평면(14a)을 기준으로 10° 이상일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제1경사면(14b)에 안착된 상태에서 상대적으로 과도한 경사각도에 의하여 에어스프링측으로 수평 벡터힘이 인가되므로, 에어스프링이 포토마스크(M)를 밀더라도 포토마스크가 정밀하게 이송되지 못하게 된다. Even if the edge portion of the photomask M is seated on the first inclined surface 14b when the inclination angle? Of the first inclined surface 14b is within 1 degree with respect to the first horizontal surface 14a, Static electricity may be generated since the interval between the outer edge portion of the first corner M and the first inclined face 14b is narrowed. When the inclination angle? Of the first inclined plane 14b is equal to or larger than 10 degrees with respect to the first horizontal plane 14a, the corner portion of the photomask M is relatively positioned with the first inclined plane 14b The horizontal vector force is applied to the air spring side by an excessive inclination angle, so that even if the air spring pushes the photomask M, the photomask can not be accurately transferred.

한편 제1안착단(14)은 정전기 발생이 방지되는 재질, 예를 들면 부도체인 엔지니어링 플라스틱을 가공한 후 알루미늄으로 된 제1테이블(13)에 부착하여 구현될 수 있다. 이에 따라 후술할 제2,3안착단(24)(34) 보다 상대적으로 큰 면적을 차지하는 제1안착단(14)에서 발생할 수 있는 정전기의 발생 가능성을 더욱 낮출 수 있는 것이다. On the other hand, the first seating end 14 can be realized by processing an engineering plastic, for example, a non-conductive material, which is prevented from generating static electricity, and then attaching it to the first table 13 made of aluminum. Accordingly, the possibility of static electricity that may occur in the first seating end 14, which occupies a relatively larger area than the second and third seating ends 24 and 34 to be described later, can be further reduced.

도 4는 도 1의 제2어댑터를 발췌하여 도시한 사시도이고, 도 5는 도 4의 V-V' 선을 따른 단면도이다. FIG. 4 is a perspective view showing the second adapter of FIG. 1, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line V-V 'of FIG.

도시된 바와 같이, 제2어댑터(20)는, 지그프레임(J)의 후방 일측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제2체결공(21a)이 형성된 제2다리몸체(21)와, 제2다리몸체(21)의 측부 일측으로 돌출되는 제2테이블(23)과, 제2테이블(23)의 상부면에 형성되는 것으로서 포토마스크(M)의 후방측 밑면이 안착되는 제2안착단(24)을 포함한다. The second adapter 20 is provided at a rear side of the jig frame J and includes a second fastening hole 21a through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J, A second table 23 protruding to one side of the side of the second leg body 21 and a second table 23 formed on the upper surface of the second table 23, And a second seating end 24 on which the rear side bottom surface of the second seating end 24 is seated.

제2안착단(24)은, 상기 포토마스크(M)의 모서리가 안착되는 제2경사면(24b) 및 상기 제2경사면(24b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제2수평면(24a)으로 구성된다. 이때 제2수평면(24a)은 도 1에 도시된 바와 같이 제2테이블(23)의 전방측, 즉 제3어댑터(30) 측을 향하게 위치되고, 제2경사면(24b)은 제2테이블(23)의 후방측에 위치되는 것이다. The second seating end 24 has a second inclined face 24b on which the edge of the photomask M is seated and a second inclined face 24b on which the bottom face of the photomask M via the second inclined face 24b is seated And a horizontal plane 24a. The second horizontal surface 24a is positioned toward the front side of the second table 23, i.e., toward the side of the third adapter 30, and the second inclined surface 24b is positioned toward the second table 23 As shown in Fig.

이러한 제2안착단(24)의 구조에 의하여, 포토마스크(M)의 측방이 제2경사면(24b)에 안착될 때는 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제2경사면(24b)에 안착되고 다른 편편한 면은 제2경사면(24b)에서 분리되므로, 포토마스크(M)와 제2어댑터(10) 사이에서 정전기의 발생이 억제된다. 그리고 포토마스크(M)가 에어스프링(미도시)에 제2수평면(24a) 측으로 좀더 밀리면, 결국 포토마스크(M)의 모서리부분 밑면이 제2수평면(24a)에 안착되고 제2경사면(24b)에서 분리된다. When the side of the photomask M is seated on the second inclined surface 24b, the edge portion of the photomask M is seated on the second inclined surface 24b by the structure of the second seating end 24, Since the flat surface is separated from the second inclined surface 24b, generation of static electricity between the photomask M and the second adapter 10 is suppressed. When the photomask M is further pushed toward the second horizontal surface 24a by an air spring (not shown), the bottom surface of the edge portion of the photomask M is seated on the second horizontal surface 24a and the second inclined surface 24b, Lt; / RTI >

이때 제2경사면(24b)의 경사각도(θ)는 제2수평면(24a)을 기준으로 1° ~ 10°, 바람직하게는 5° 로 경사면이 형성된다. At this time, the inclination angle? Of the second inclined surface 24b is formed to be 1 to 10 degrees, preferably 5 degrees, on the basis of the second horizontal surface 24a.

만약 제2경사면(24b)의 경사각도(θ)가 제2수평면(24a)을 기준으로 1° 이내일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제2경사면(24b)에 안착되더라도, 포토마스크(M) 모서리 외측부분과 제2경사면(24b) 사이의 간격이 좁아지므로 정전기가 발생될 수 있다. 그리고 제2경사면(24b)의 경사각도(θ)가 제2수평면(24a)을 기준으로 10° 이상일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제2경사면(24b)에 안착된 상태에서 상대적으로 과도한 경사각도에 의하여 제2수평면(24a) 반대방향으로 과도한 수평 벡터힘이 인가되므로, 에어스프링이 포토마스크(M)를 밀더라도 포토마스크가 제2경사면(24b)을 타고 제2수평면(24a)으로 정밀이송되지 못하게 된다. Even if the edge portion of the photomask M is seated on the second inclined surface 24b when the inclination angle? Of the second inclined surface 24b is within 1 degree with respect to the second horizontal surface 24a, Static electricity may be generated because the distance between the outer edge portion of the first corner M and the second inclined face 24b is narrowed. When the inclination angle? Of the second inclined surface 24b is equal to or larger than 10 degrees with respect to the second horizontal surface 24a, the edge portion of the photomask M is relatively positioned in the state of being seated on the second inclined surface 24b An excessive horizontal vector force is exerted in the direction opposite to the second horizontal surface 24a due to the excessive inclination angle so that even if the air spring pushes the photomask M, the photomask rides on the second horizontal surface 24a on the second inclined surface 24b, So that it can not be precisely transported.

도 6은 도 1의 제3어댑터를 발췌하여 도시한 사시도이고, 도 7은 도 6의 VII-VII' 선을 따른 단면도이다. FIG. 6 is a perspective view illustrating the third adapter of FIG. 1, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII 'of FIG.

도시된 바와 같이, 제3어댑터(30)는, 지그프레임(J)의 후방 타측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제3체결공(31a)이 형성된 제3다리몸체(31)와, 제3다리몸체(31)의 전방측에 형성되는 제3테이블(33)과, 제3테이블(33)의 상부면에 형성되는 것으로서 포토마스크(M)의 후방 타측 밑면이 안착되는 제3안착단(34)을 포함한다. As shown in the figure, the third adapter 30 is provided on the other side of the jig frame J, and includes a third fastening hole 31a through which a bolt (not shown) fastened to the jig frame J passes, A third table 33 formed on the front side of the third leg body 31 and a third table 33 formed on the upper surface of the third table 33 as the photomask M, And a third resting end (34) on which the other rear bottom surface of the rear rest is seated.

제3안착단(34)은, 상기 포토마스크(M)의 모서리가 안착되는 제3경사면(34b) 및 상기 제3경사면(34b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제3수평면(34a)으로 구성된다. 이때 제3수평면(34a)은 도 1에 도시된 바와 같이 제3테이블(33)의 전방측, 즉 제2어댑터(20) 측을 향하게 위치되고, 제3경사면(34b)은 제3테이블(33)의 후방측에 위치된다.The third seating end 34 has a third inclined face 34b on which the edge of the photomask M is seated and a third inclined face 34b on which the bottom face of the photomask M via the third inclined face 34b is seated And a horizontal surface 34a. The third horizontal surface 34a is positioned toward the front side of the third table 33, that is, toward the second adapter 20 side as shown in FIG. 1, and the third inclined surface 34b is positioned toward the third table 33 As shown in Fig.

이러한 제3안착단(34)의 구조에 의하여, 포토마스크(M)의 후방이 제3경사면(34b)에 안착될 때, 포토마스크(M)의 모서리 부분만 제3경사면(34b)에 안착되고 다른 면은 제3경사면(34b)에서 분리되므로, 포토마스크(M)와 제2어댑터(10) 사이에서 정전기의 발생이 억제된다. 그리고 포토마스크(M)가 에어스프링(미도시)에 의하여 제3수평면(34a) 측으로 좀더 밀리면, 결국 포토마스크(M)의 모서리부분 밑면은 제3수평면(34a)에 안착되고 제3경사면(34b)에서 분리된다. When the rear of the photomask M is seated on the third inclined face 34b by the structure of the third seating end 34, only the edge portion of the photomask M is seated on the third inclined face 34b Since the other surface is separated from the third inclined surface 34b, generation of static electricity is suppressed between the photomask M and the second adapter 10. [ When the photomask M is further pushed toward the third horizontal surface 34a by an air spring (not shown), the bottom portion of the corner portion of the photomask M is seated on the third horizontal surface 34a and the third inclined surface 34b ).

이때 제3경사면(34b)의 경사각도(θ)는 제3수평면(34a)을 기준으로 1° ~ 10°, 바람직하게는 5°로 경사면이 형성된다. At this time, the inclination angle? Of the third inclined face 34b is formed to be 1 to 10 degrees, preferably 5 degrees, on the basis of the third horizontal face 34a.

만약 제3경사면(34b)의 경사각도(θ)가 제3수평면(34a)을 기준으로 1° 이내일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제3경사면(34b)에 안착되더라도, 포토마스크(M) 모서리 외측부분과 제3경사면(34b) 사이의 간격이 좁아지므로 정전기가 발생될 수 있다. 그리고 제3경사면(34b)의 경사각도(θ)가 제3수평면(34a)을 기준으로 10° 이상일 경우, 포토마스크(M)의 모서리 부분이 제3경사면(34b)에 안착된 상태에서 상대적으로 과도한 경사각도에 의하여 에어스프링 측으로 수평 벡터힘이 인가되므로, 에어스프링이 포토마스크(M)를 밀더라도 포토마스크(M)가 제3경사면(34b)을 타고 제3수평면(34a)으로 정밀이송되지 못하게 된다. Even if the edge portion of the photomask M is seated on the third inclined surface 34b when the inclination angle? Of the third inclined surface 34b is within 1 degree with respect to the third horizontal surface 34a, Static electricity may be generated because the interval between the outer edge portion of the first corner M and the third inclined face 34b is narrowed. When the inclination angle? Of the third inclined face 34b is 10 degrees or more with respect to the third horizontal face 34a, the corner portion of the photomask M is relatively positioned in the state of being seated on the third inclined face 34b The horizontal vector force is applied to the air spring side by an excessive inclination angle so that even if the air spring pushes the photomask M, the photomask M is not precisely conveyed to the third horizontal surface 34a by the third inclined surface 34b I can not.

한편, 상기 제1,2,3테이블(13)(23)(33)의 하부측에는 도 3, 도 5 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제1,2,3테이블경사면(13a)(23a)(33a)이 형성되어 있다. 이러한 제1,2,3테이블경사면(13a)(23a)(33a)에 따라, 제1,2,3어댑터(10)(20)(30) 사이에 확인대상기판이 위치될 때 그 제1,2,3경사면에 의하여 위치이동이 제한되고, 이에 따라 확인대상기판에 형성된 패턴의 정확도를 더욱 확실하게 확인할 수 있다. 3, 5, and 7, first, second, and third table inclined surfaces 13a, 23a are formed on the lower sides of the first, second, and third tables 13, 23, (33a) is formed. When the substrate to be identified is positioned between the first, second, and third adapters 10, 20, 30 along the first, second, and third table inclined surfaces 13a, 23a, 33a, The positional movement is limited by the two or three inclined surfaces, and thus the accuracy of the pattern formed on the substrate to be checked can be confirmed more reliably.

이와 같이, 본 발명에 따르면, 상기 제1,2,3어댑터(10)(20)(30)의 제1,2,3안착단(14)(24)(34)이 포토마스크(M)의 모서리 부분과 점접촉되는 제1,2,3경사면(14b)(24b)(34b)을 포함함으로써, 포토마스크(M)와 제1,2,3어댑터(10)(20)(30) 사이에서 정전기의 발생을 최소화할 수 있다. 이에 따라 패턴검사를 하여 포토마스크를 이송시키는 과정이 반복되더라도 쿼츠로 된 포토마스크와 제1,2,3어댑터 사이에서 정전기가 발생되지 않아 정전기에 따른 포토마스크가 어댑터에 밀착된 상태를 유지하게 하는 인력의 발생을 방지할 수 있고, 따라서 에어스프링이 포토마스크(M)를 밀때 잘 밀리게 되어 포토마스크(M)를 특정 얼라인 위치로 정확히 이송시킬 수 있어 결과적으로 확인대상기판에 패턴이 정확히 형성되었는지 여부를 검사할 수 있다. As described above, according to the present invention, the first, second, and third mounting ends 14, 24, and 34 of the first, second, and third adapters 10, 20, The first, second, and third inclined surfaces 14b, 24b, and 34b in point contact with the edge portions of the photomask M and the first, second, and third adapters 10, 20, The occurrence of static electricity can be minimized. Accordingly, even if the pattern inspection is repeated to transfer the photomask, static electricity is not generated between the quartz photomask and the first, second, and third adapters, so that the photomask according to the static electricity is kept in close contact with the adapter It is possible to prevent the generation of attraction force and thus the air spring is pushed when the photomask M is pushed so that the photomask M can be accurately transferred to a specific alignment position, Or not.

또한 제2,3안착단(24)(34) 보다 상대적으로 큰 면적을 차지하는 제1안착단(14)은 정전기의 발생이 방지되는 엔지니어링 플라스틱으로 됨으로써, 포토마스크(M)가 반복적으로 접촉되는 과정에서 정전기의 발생이 더욱 방지되고, 이에 따라 정전기에 의한 포토마스크의 밀림 방해원인이 더욱 효과적으로 제거될 수 있다. The first seating end 14, which occupies a relatively larger area than the second and third seating ends 24 and 34, is an engineering plastic that prevents the generation of static electricity. Thus, the process of repeatedly contacting the photomask M The generation of static electricity is further prevented, and the cause of interruption of the photomask due to the static electricity can be more effectively removed.

그리고 제2,3안착단(24)(34)이 제2,3경사면(24b)(34b)과 연결되는 제2,3수평면(24a)(34a)을 포함함으로써, 에어스프링에 의하여 밀리는 포토마스크(M)가 제2,3경사면(24b)(34b)을 타고 제2,3수평면(24a)(34a)로 부드럽게 타고 올라올 수 있어, 정확한 얼라인 위치로 포토마스크를 이송시킬 수 있는 것이다. And the second and third mounting ends 24 and 34 include the second and third horizontal surfaces 24a and 34a connected to the second and third inclined surfaces 24b and 34b, The photomask M can smoothly ride on the second and third horizontal surfaces 24a and 34a on the second and third inclined surfaces 24b and 34b so that the photomask can be transferred to the correct alignment position.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

10 ... 제1어댑터 11, 12 ... 제1다리몸체
11a, 12a ... 제1체결공 13 ... 제1테이블
14 ... 제1안착단 14a ... 제1수평면
14b ... 제2경사면 20 ... 제1어댑터
21 ... 제2다리몸체 21a ... 제2체결공
23 ... 제2테이블 24 ... 제2안착단
24a ... 제2수평면 24b... 제2경사면
30 ... 제3어댑터 31 ... 제3다리몸체
31a ... 제3체결공 33 ... 제3테이블
34 ... 제3안착단 34a ... 제3수평면
34b ... 제3경사면10: first adapter 11, 12: first leg body
11a, 12a ... first fastening hole 13 ... first table
14 ... first seating end 14a ... first horizontal surface
14b ... second inclined surface 20 ... first adapter
21 ... second leg body 21a ... second fastening hole
23 ... second table 24 ... second seating stage
24a ... second horizontal surface 24b ... second inclined surface
30 ... third adapter 31 ... third leg body
31a ... third fastening hole 33 ... third table
34 ... third seating stage 34a ... third horizontal plane
34b ... third inclined surface

Claims (7)

패턴이 형성된 확인대상기판(미도시)이 안착되는 지그프레임(J)의 전방 및 후방에 설치되어 상기 확인대상기판에 형성된 패턴이 정확한지를 검사하기 위한 포토마스크(M)가 안착되는 것으로서,
상기 지그프레임(J)의 전방에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제1체결공(11a)(12a)이 형성된 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)와, 상기 한쌍의 제1다리몸체(12)(13)를 연결하는 제1테이블(13)과, 상기 제1테이블(13) 상부면 중앙에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 전방측 밑면이 안착되는 제1안착단(14)을 가지는 제1어댑터(10);
상기 지그프레임(J)의 후방 일측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제2체결공(21a)이 형성된 제2다리몸체(21)와, 상기 제2다리몸체(21)의 측부 일측으로 돌출되는 제2테이블(23)과, 상기 제2테이블(23)의 상부면에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 후방측 밑면이 안착되는 제2안착단(24)을 가지는 제2어댑터(20); 및
상기 지그프레임(J)의 후방 타측에 설치되는 것으로서, 그 지그프레임(J)에 체결되는 볼트(미도시)가 관통되는 제3체결공(31a)이 형성된 제3다리몸체(31)와, 상기 제3다리몸체(31)의 전방측에 형성되는 제3테이블(33)과, 상기 제3테이블(33)의 상부면에 형성되는 것으로서 상기 포토마스크(M)의 다른 후방측 밑면이 안착되는 제3안착단(34)을 가지는 제3어댑터(30);를 포함하고,
상기 제1안착단(14)은, 상기 포토마스크(M)의 전방측 모서리가 안착되는 제1경사면(14b) 및 그 제1경사면(14b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제1수평면(14a)으로 구성되되, 상기 제1경사면(14b)은 상기 제2,3어댑터측을 향하는 상기 제1테이블(13)의 전방측에, 그리고 상기 제1수평면(14a)은 상기 제1테이블(13)의 후방측에 위치되며;
상기 제2안착단(24)은, 상기 포토마스크(M)의 후방 모서리가 안착되는 제2경사면(24b) 및 상기 제2경사면(24b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제2수평면(24a)으로 구성되되, 상기 제2수평면(24a)은 상기 제3어댑터측을 향하는 상기 제2테이블(23)의 전방측에, 그리고 상기 제2경사면(24b)은 제2테이블(23)의 후방측에 위치되고;
상기 제3안착단(34)은, 상기 포토마스크(M)의 후방 모서리가 안착되는 제3경사면(34b) 및 상기 제3경사면(34b)을 경유한 상기 포토마스크(M)의 밑면이 안착되는 제3수평면(34a)으로 구성되되, 상기 제3수평면(34a)은 상기 제2어댑터측을 향하는 상기 제3테이블(33)의 전방측에, 그리고 상기 제3경사면(34b)은 제3테이블(33)의 후방측에 위치되는 것을 특징으로 하는 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트.As check target substrate (not shown), the pattern is formed is installed in the front and rear of the frame jig (J) that is seated to be a photomask (M) for checking the accuracy of the pattern is formed in the check target substrate loading,
A pair of first leg bodies 12 (12a, 12b) are provided in front of the jig frame (J) and are provided with first fastening holes (11a, 12a) through which bolts (not shown) fastened to the jig frame A first table 13 for connecting the pair of first leg bodies 12 and 13 to each other and a second table 13 for connecting the pair of first leg bodies 12 and 13 to each other; (10) having a first seating end (14) on which the front side bottom surface of the first adapter (10) is seated;
A second leg body 21 provided at a rear side of the jig frame J and having a second fastening hole 21a through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J; A second table 23 protruding from one side of the side of the second leg body 21 and a second table 23 formed on the top surface of the second table 23, A second adapter (20) having a seating end (24); And
A third leg body 31 provided at a rear side of the jig frame J and having a third fastening hole 31a through which a bolt (not shown) is fastened to the jig frame J; A third table 33 formed on the front side of the third leg body 31 and a second table 33 formed on the upper surface of the third table 33 and having the other rear side bottom surface of the photomask M And a third adapter (30) having three seating ends (34)
The first seating end 14 has a first inclined face 14b on which the front side edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the first inclined face 14b, Wherein the first inclined surface 14b is formed on the front side of the first table 13 facing the second and third adapter sides and the first horizontal surface 14a is formed on the front side of the first table 13, Is located on the rear side of the first table (13);
The second seating end 24 has a second inclined face 24b on which the rear edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the second inclined face 24b And the second horizontal surface 24a is formed on the front side of the second table 23 facing the third adapter side and the second inclined surface 24b is disposed on the second table 23b, 23);
The third seating end 34 has a third inclined face 34b on which the rear edge of the photomask M is seated and a bottom face of the photomask M via the third inclined face 34b The third horizontal surface 34a is formed on the front side of the third table 33 facing the second adapter side and the third inclined surface 34b is disposed on the third table 33b 33). ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI > 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1안착단(14)은, 정전기 발생이 방지되는 엔지니어링 플라스틱으로 된 것을 특징으로 하는 패턴검사용 포토마스크 얼라인 어댑터 유니트.The method according to claim 1,
Wherein the first seating end (14) is made of an engineering plastic that is prevented from generating static electricity. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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