KR101716452B1 - 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정 방법 - Google Patents
디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 일반적인 반사형 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 단차 측정 시스템을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따라 합성파를 만드는 원리에 대한 이해를 돕기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정 시스템을 도시하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 측정 및 불측정 영역을 도시하는 도면이다.
도 6은 시편의 기준면으로부터 결점 간의 단차를 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 단차 측정 시스템을 이용한 단차 측정 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
13: 콜리메이팅 렌즈 14: 제1 빔 스플리터
15: 렌즈 17: 제2 빔 스플리터
30: 대물렌즈 40: 카메라
Claims (9)
- 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 단차 측정 시스템에 있어서,
서로 다른 파장의 간섭에 의해 원 파장보다 긴 파장을 갖는 합성파를 방출하는 합성파 방출부;
상기 방출된 합성파를 기준 빔 경로(R)와 측정 빔 경로(O)로 분할하여 출력하는 빔 스플리터;
상기 측정 빔 경로(O)로 출력된 합성파를 반사시켜 시료로 향하게 하는 미러;
상기 시료에 의해 반사된 합성파를 입사시키는 대물렌즈; 및
상기 대물렌즈를 통과한 상기 합성파의 이미지를 촬상하는 카메라;를 포함하여 구성되는 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용하여 단차를 측정하되, 상기 단차는 상기 홀로그래피 마이크로스코프에 적용하는 합성파의 파장보다 큰 단차를 측정하는 단차 측정 방법에 있어서,
서로 다른 파장의 간섭에 의해 원 파장보다 긴 파장을 갖는 상기 합성파를 획득하는 단계;
상기 합성파를 이용하여 상기 대물렌즈의 초점을 상기 시료의 기준면에 맞추는 단계;
상기 기준면에 맞춘 상기 대물렌즈의 초점을 상기 시료의 단차 상부에 맞추기 위해 초점을 이동하는 단계;
상기 초점 이동거리를 산출하는 단계; 및
상기 산출된 초점 이동거리에 기반하여 상기 단차의 높이를 계산하는 단계;를 포함하며,
상기 단차의 높이 h(r)를 계산하는 단계는,
h(f) - DoF(Depth of Focus) ≤ h(r) ≤ h(f)+DoF 및
h(r)=h(e)+N x λ/2의 식으로 구하되,
여기서,
h(f): 단차의 높이를 초점이동거리를 통해 측정한 값,
h(e): 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 통해 단차를 측정한 값으로 2π 모호성을 갖는 값,
DoF: 대물렌즈(30)의 특성값으로 알고 있는 값,
N : 자연수, DoF < λ/2 의 조건을 적용하여, 한 개의 N 을 구하며, 상기 구한 N을 통해 h(r)을 계산하는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 합성파를 이용하여 단차의 높이를 위상 펼침(unwrapping) 기능을 적용하지 않고 측정하는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 제1항에 있어서, 상기 초점을 이동하는 방법은,
수동에 의한 작동, ROI(Region of interest) 영상 분석 기계적 작동, ROI (Region of interest)입력세기 분석 기계적 작동, 디지털 포커싱 중 하나의 방법을 이용하고, 상기 초점 이동 시, 상기 세 가지 모든 경우에 카메라 CCD면과 작은 각도차를 갖는 기준파(reference optical path)를 닫고, 산란파(sample field, object optical path)만을 통과시키며 측정하는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 제4항에 있어서, 상기 수동을 통한 초점 이동방법은,
상기 단차 하부와 상부의 이미지를 이미지 프로세싱을 통해 렌즈를 통해 초점이 가장 잘 맞는 위치를 찾은 다음 하부에서 상부단차까지 렌즈의 이동 거리를 구하는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 제4항에 있어서, 상기 ROI 영상 분석 기계적 작동을 이용한 초점 이동방법은,
상기 단차 상부를 ROI로 설정한 후, 렌즈의 위치를 변화시키며 영상 분석을 통하여 초점이 가장 잘 맞는 위치를 찾는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 제4항에 있어서, 상기 ROI 입력세기 분석 기계적 작동을 이용한 초점 이동방법은,
상기 단차 상부를 ROI로 설정한 후 렌즈의 위치를 변화시키며 입력세기 분석을 통하여 초점이 가장 잘 맞는 위치를 찾는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법. - 제1항에 있어서, 상기 초점 이동거리 산출 단계는,
상기 디지털 홀로그래피 마이크로스코프의 경우, 단일 파장의 coherent laser를 광원으로 사용하며, Ray tracing에 의해서 초점이 변할 때 맺혀지는 상을 계산하는 디지털 포커싱 기능에 의해서 상기 기준면 초점에서 상기 단차 상부 초점까지의 렌즈 이동 거리를 산출하는 것을 특징으로 하는, 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정방법.
- 삭제
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| KR1020150118254A KR101716452B1 (ko) | 2015-08-21 | 2015-08-21 | 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정 방법 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102055307B1 (ko) * | 2018-10-08 | 2020-01-22 | 주식회사 내일해 | 측정 대상 물체의 3차원 형상 정보 생성 장치 |
| KR20200040209A (ko) * | 2018-10-08 | 2020-04-17 | 주식회사 내일해 | 측정 대상 물체의 3차원 형상 정보 생성 장치 |
| US11215950B2 (en) | 2017-08-25 | 2022-01-04 | Naeilhae, Co., Ltd. | Holographic reconstruction device and method |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113946115B (zh) * | 2021-10-29 | 2025-04-22 | 上海交通大学 | 散射光场全息三维位移测量装置、方法及介质 |
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100611078B1 (ko) * | 2000-12-16 | 2006-08-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치에서 단차 측정 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
| JP2009204502A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Lasertec Corp | 表面形状測定装置及び表面形状測定方法 |
| KR101174274B1 (ko) * | 2010-09-13 | 2012-08-16 | 케이맥(주) | 간섭계와 2차원-반사광도계의 측정이 가능한 복합시편 표면특성 측정장치 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5153669A (en) * | 1991-03-27 | 1992-10-06 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Three wavelength optical measurement apparatus and method |
| KR101896903B1 (ko) | 2012-03-07 | 2018-09-13 | 삼성전자주식회사 | 주사 전자 현미경을 이용하여 소자의 단차를 측정하는 방법 및 단차 측정 장치 |
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100611078B1 (ko) * | 2000-12-16 | 2006-08-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치에서 단차 측정 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
| JP2009204502A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Lasertec Corp | 表面形状測定装置及び表面形状測定方法 |
| KR101174274B1 (ko) * | 2010-09-13 | 2012-08-16 | 케이맥(주) | 간섭계와 2차원-반사광도계의 측정이 가능한 복합시편 표면특성 측정장치 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11215950B2 (en) | 2017-08-25 | 2022-01-04 | Naeilhae, Co., Ltd. | Holographic reconstruction device and method |
| KR102055307B1 (ko) * | 2018-10-08 | 2020-01-22 | 주식회사 내일해 | 측정 대상 물체의 3차원 형상 정보 생성 장치 |
| KR20200040209A (ko) * | 2018-10-08 | 2020-04-17 | 주식회사 내일해 | 측정 대상 물체의 3차원 형상 정보 생성 장치 |
| KR102425448B1 (ko) | 2018-10-08 | 2022-07-27 | 주식회사 내일해 | 측정 대상 물체의 3차원 형상 정보 생성 장치 |
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