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KR101877838B1 - MEMS Microphone Device And MEMS Microphone Module Comprising The Same - Google Patents

MEMS Microphone Device And MEMS Microphone Module Comprising The Same Download PDF

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KR101877838B1
KR101877838B1 KR1020160070228A KR20160070228A KR101877838B1 KR 101877838 B1 KR101877838 B1 KR 101877838B1 KR 1020160070228 A KR1020160070228 A KR 1020160070228A KR 20160070228 A KR20160070228 A KR 20160070228A KR 101877838 B1 KR101877838 B1 KR 101877838B1
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mems microphone
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권오주
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주식회사 아이비기술
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Abstract

외부 오염 물질의 유입 및 주변 소음의 유입이 억제된 고체 전도 방식의 MEMS 마이크로폰 소자 및 MEMS 마이크로폰 모듈이 제공된다. 본 발명에 따른 멤스 마이크로폰 모듈은, 인쇄회로기판; 상기 인쇄회로기판의 일면에 실장된 멤스 마이크로폰 소자; 및, 상기 인쇄회로기판과 함께 상기 멤스 마이크로폰 소자를 둘러싸서 외부 공간과 구분되는 내부 공간을 형성하는 하우징을 포함하고, 상기 멤스 마이크로폰 소자는, 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징에 대해 고정된 백플레이트; 상기 백플레이트에 대해 상대적으로 진동하는 진동막; 및, 상기 진동막을 사이에 두고 상기 백플레이트의 반대편에 형성된 것으로, 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징에 의해 막혀서 공기를 통한 외부와의 음압 전달 경로가 차단된 캐비티를 포함한다.There is provided a MEMS microphone element and a MEMS microphone module of a solid conduction type in which the inflow of external pollutants and the inflow of ambient noise are suppressed. A MEMS microphone module according to the present invention includes: a printed circuit board; A MEMS microphone element mounted on one surface of the printed circuit board; And a housing enclosing the MEMS microphone element together with the printed circuit board to form an internal space separated from an external space, wherein the MEMS microphone element comprises: a back plate fixed to the printed circuit board or the housing; A diaphragm which vibrates relative to the back plate; And a cavity formed on the opposite side of the back plate with the diaphragm interposed therebetween, the cavity being blocked by the printed circuit board or the housing and blocking the sound pressure transmission path to the outside through the air.

Description

멤스 마이크로폰 소자 및 이를 포함하는 멤스 마이크로폰 모듈 {MEMS Microphone Device And MEMS Microphone Module Comprising The Same}[0001] The present invention relates to a MEMS microphone device and a MEMS microphone module including the MEMS microphone device.

본 발명은 멤스(MEMS, Micro-Electro Mechanical System) 마이크로폰 (Microphone)에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 진동에 따른 음향신호를 제공하는 멤스 마이크로폰 소자 및 모듈에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a MEMS (Micro Electro Mechanical System) microphone, and more particularly, to a MEMS microphone element and a module that provide an acoustic signal according to vibration.

일반적으로 마이크로폰은 음성이나 음향을 전기적인 신호로 변환하는 장치이다. 마이크로폰은 음성이나 음향을 통신기기를 통해 송신하기 위해서나, 특정 범위의 음성이나 음향을 증폭하여 필요한 형태로 가공하는 데에도 필수적인 요소이다. 여기서 음성은 사람이 의미를 담아 성대로 내는 소리를 말하고, 음향은 음성을 포함하여 청각적으로 인식되는 소리를 포괄적으로 의미한다. Generally, a microphone is a device that converts voice or sound into electrical signals. A microphone is also an essential element for transmitting voice or sound through a communication device, or for amplifying a specific range of voice or sound and processing it into a necessary form. Here, the voice refers to the sound that the person puts in the voice with meaning, and the sound means the sound that is perceived audibly including the voice.

우수한 마이크로폰으로 인정되기 위해서는 전기적 신호로 변환하고자 하는 음성/음향 신호에 대한 우수한 감도와 작동성 그리고 사용 환경에 대한 우수한 신뢰성 등이 요구된다. 최근에는 이동통신기기나 그 액세서리로서의 헤드셋, 보청기 등 초소형 마이크로폰에 대한 수요가 증가하고 있다. 소형화에 적합한 마이크로폰으로서 멤스(MEMS) 마이크로폰을 들 수 있다. MEMS 마이크로폰은 진동막(membrane)과 백플레이트(back plate) 등 실질적으로 음향을 감지하는 요소들이 실리콘 기판상에 수행되는 박막 공정을 통해 형성되므로, 마이크로폰의 소형화는 물론, 자동화를 통한 생산성 향상에도 유리하다. In order to be recognized as a good microphone, excellent sensitivity and operability for voice / sound signals to be converted into electrical signals, and excellent reliability in the use environment are required. In recent years, there has been an increasing demand for microphones such as mobile communication devices and headsets and hearing aids as accessories thereof. As a microphone suitable for miniaturization, a MEMS microphone can be mentioned. Since the MEMS microphone is formed through a thin film process in which elements for sensing sound such as a vibration membrane and a back plate are formed on a silicon substrate, it is possible to reduce the size of the microphone and improve the productivity by automation Do.

최근까지 MEMS 마이크로폰에 관한 연구는 저항형(resistance type), 압전형(Piezo type), 콘덴서형(condensor type)으로 진행되어 왔다. 특히, 음성 주파수 대역에 대해서는 변환 음역의 안정성과 주파수 특성이 우수한 콘덴서형의 MEMS 마이크로폰 중심으로 연구와 개발이 진행되어 왔다. 콘덴서형 MEMS 마이크로폰은 서로 대향 배치된 한 쌍의 도전성 막을 갖는다. 이들 중 하나는 고정 전극인 백플레이트(back plate)를, 나머지 하나는 음성 등의 신호에 반응하여 진동하는 진동막(membrane)을 구성한다. 콘덴서형 MEMS 마이크로폰은 음성/음향에 의한 상기 진동막의 진동에 따라 수 ㎛ 내지 수십 ㎛ 간격의 에어 갭(air gap)을 사이에 두고 설치된 상기 진동막과 상기 백플레이트 사이의 정전용량이 변하는 현상을 이용하여, 전기적 신호를 생성한다. Until recently, research on MEMS microphones has been proceeding with resistance type, Piezo type, and condenser type. Particularly, research and development have been proceeded on a capacitor-type MEMS microphone centered on a voice frequency band having excellent stability and frequency characteristics of a converted sound field. The condenser type MEMS microphone has a pair of conductive films arranged opposite to each other. One of them constitutes a vibrating membrane which vibrates in response to a signal such as a back plate, which is a fixed electrode, and the other, a signal such as voice. The condenser type MEMS microphone utilizes a phenomenon in which the electrostatic capacity between the diaphragm and the back plate, which is installed with an air gap of several mu m to several tens of micrometers apart, is changed according to the vibration of the diaphragm by voice / sound Thereby generating an electrical signal.

종래의 콘덴서형 MEMS 마이크로폰 모듈은 일반적으로 인쇄회로기판과, 상기 인쇄회로기판에 실장되는 것으로 MEMS 마이크로폰 소자와 이를 구동하는 IC 컴포넌트(일반적으로 ASIC, Application Specific Integrated Circuit)를 구비한다. 또한, 상기 인쇄회로기판과 함께 그 내부의 MEMS 마이크로폰 소자와 IC 컴포넌트를 덮어 보호하는 금속 또는 합성수지 소재의 하우징을 포함하여 구성된다. 이때, 상기 인쇄회로기판과 상기 하우징 중 적어도 어느 한쪽에는 상기 인쇄회로기판과 하우징의 외부로부터 그 내부의 상기 진동막까지 공기를 통해 음향이 전달되도록 하는 개구부가 마련된다. The conventional condenser type MEMS microphone module generally includes a printed circuit board and an MEMS microphone element mounted on the printed circuit board and an IC component (generally, ASIC, Application Specific Integrated Circuit) for driving the MEMS microphone element. The MEMS microphone device includes a printed circuit board and a housing made of a metal or a synthetic resin to cover and protect the MEMS microphone element and the IC component therein. At least one of the printed circuit board and the housing is provided with an opening through which air is transmitted from the outside of the printed circuit board and the housing to the diaphragm inside the housing through the air.

이러한 개구부는 음향 입력을 받기 위한 불가결한 요소로 인식되어 왔다. 그러나 한편으로는 전술한 진동막의 기계적 안정성을 저해하는 요인이 되기도 한다. MEMS 마이크로폰의 진동막은 매우 얇은 두께로 이루어져 상기 개구부를 통해 유입되는 오염 물질 등에 악영향을 받기 쉽기 때문이다. 또한 상기 개구부는 공기의 진동을 통해 불필요한 주변 소음이 유입되는 경로가 되기도 한다.
These openings have been recognized as indispensable elements for receiving acoustic input. However, on the other hand, the mechanical stability of the above-mentioned diaphragm may be deteriorated. Since the diaphragm of the MEMS microphone has a very thin thickness and is easily affected by contaminants entering through the opening. Also, the opening may be a path through which unnecessary ambient noises are introduced through the vibration of the air.

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명에 따른 멤스(MEMS) 마이크로폰 소자 및 이를 포함하는 멤스 마이크로폰 모듈은 외부 오염 물질의 유입 및 주변 소음의 유입이 억제된 고체 전도 방식의 MEMS 마이크로폰 소자 및 MEMS 마이크로폰 모듈을 제공하는 데에 그 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a MEMS microphone device and a MEMS microphone module including the MEMS microphone device, A microphone element, and a MEMS microphone module.

전술한 과제의 해결을 위하여 본 발명에 따른 멤스 마이크로폰 모듈은, 인쇄회로기판; 상기 인쇄회로기판의 일면에 실장된 멤스 마이크로폰 소자; 및, 상기 인쇄회로기판과 함께 상기 멤스 마이크로폰 소자를 둘러싸서 외부 공간과 구분되는 내부 공간을 형성하는 하우징을 포함하고, 상기 멤스 마이크로폰 소자는, 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징에 대해 고정된 백플레이트; 상기 백플레이트에 대해 상대적으로 진동하는 진동막; 및, 상기 진동막을 사이에 두고 상기 백플레이트의 반대편에 형성된 것으로, 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징에 의해 막혀서 공기를 통한 외부와의 음압 전달 경로가 차단된 캐비티를 포함한다.In order to solve the above-described problems, a MEMS microphone module according to the present invention includes: a printed circuit board; A MEMS microphone element mounted on one surface of the printed circuit board; And a housing enclosing the MEMS microphone element together with the printed circuit board to form an internal space separated from an external space, wherein the MEMS microphone element comprises: a back plate fixed to the printed circuit board or the housing; A diaphragm which vibrates relative to the back plate; And a cavity formed on the opposite side of the back plate with the diaphragm interposed therebetween, the cavity being blocked by the printed circuit board or the housing and blocking the sound pressure transmission path to the outside through the air.

상기 진동막과 상기 백플레이트는 에어 갭을 사이에 두고 서로 대향하는 진동막 전극과 카운터 전극을 각각 구비하고, 상기 백플레이트가 고정된 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징과 상기 카운터 전극의 사이는 고체 물질로 채워질 수 있다. Wherein the diaphragm and the back plate each have a diaphragm electrode and a counter electrode opposed to each other with an air gap therebetween, and the printed circuit board on which the backplate is fixed, or between the housing and the counter electrode, ≪ / RTI >

상기 멤스 마이크로폰 소자는, 상기 진동막을 가지고, 상기 캐비티의 주변부를 형성함으로써 상기 진동막 전극의 평면적인 형상에 대응되는 형태의 빈 공간인 상기 캐비티를 정의하는 제 1 기판부; 상기 백플레이트를 갖는 제 2 기판부; 및, 상기 진동막과 상기 백플레이트가 서로 마주 보도록 상기 제 1 기판부와 상기 제 2 기판부를 서로 접합하며, 상기 진동막과 상기 백플레이트 사이에 에어 갭을 형성하는 갭 형성 접합부를 포함할 수 있다.Wherein the MEMS microphone element comprises: a first substrate portion having the diaphragm and defining a cavity that is a void space corresponding to a planar shape of the diaphragm electrode by forming a peripheral portion of the diaphragm; A second substrate portion having the back plate; And a gap forming joint joining the first substrate portion and the second substrate portion to each other such that the diaphragm and the backplate face each other and forming an air gap between the diaphragm and the backplate .

전술한 멤스 마이크로폰 소자에 있어서, 상기 갭 형성 접합부는, 상기 제 1 기판부의 제 1 주변 금속 패턴과 상기 제 2 기판부의 제 2 주변 금속 패턴 사이에 개입되어 상기 에어 갭에 해당하는 두께로 이들을 서로 접합하는 것으로, 상기 제 1 주변 금속 패턴은 상기 진동막 상에 형성된 진동막 전극의 주변부에 상기 진동막 전극과 동일한 금속층으로 형성되고, 상기 제 2 주변 금속 패턴은 상기 백플레이트 상에 형성된 카운터 전극의 주변부에 상기 카운터 전극과 동일한 금속층으로 형성된 것일 수 있다.In the above-mentioned MEMS microphone element, the gap forming joint is sandwiched between a first peripheral metal pattern of the first substrate portion and a second peripheral metal pattern of the second substrate portion to have a thickness corresponding to the air gap, Wherein the first peripheral metal pattern is formed of the same metal layer as the vibrating film electrode on the periphery of the vibrating film electrode formed on the vibrating film and the second peripheral metal pattern is formed on the periphery of the counter electrode formed on the backplate, May be formed of the same metal layer as the counter electrode.

상기 제 1 기판부 및 상기 제 2 기판부는 각각 실리콘 베이스 기판상에 적어도 하나 이상의 박막이 적층된 다층 구조물이고, 상기 제 2 기판부는 상기 카운터 전극 및 상기 제 2 주변 금속 패턴을 형성하는 금속층과 그와 접한 표면을 제외한 모든 층이 평면적으로 균일하게 형성된 것일 수 있다. Wherein the first substrate portion and the second substrate portion are multi-layer structures each having at least one thin film laminated on a silicon base substrate, the second substrate portion includes a metal layer forming the counter electrode and the second peripheral metal pattern, All of the layers except for the contacted surface may be uniformly formed in a plane.

상기 제 1 주변 금속 패턴은 평면적으로 상기 캐비티의 주변부와 중첩되도록 배치될 수 있다. The first peripheral metal pattern may be disposed so as to overlap the peripheral portion of the cavity in a plan view.

한편, 상기 멤스 마이크로폰 소자는, 일면이 상기 인쇄회로기판의 표면에, 다른 일면이 상기 하우징의 내측 표면에 접착될 수 있다. On the other hand, the MEMS microphone element can be bonded to one surface of the printed circuit board and the other surface to the inner surface of the housing.

본 발명의 한 측면에 따른 멤스 마이크로폰 소자는, 그 일면에 진동막 전극이 형성된 진동막; 상기 진동막을 사이에 두고 상기 진동막 전극 반대편에 상기 진동막 전극의 평면적 형상에 대응되는 형상으로 형성된 캐비티; 및, 그 일면에 소정의 에어 갭을 사이에 두고 상기 진동막 전극과 마주보는 카운터 전극이 형성된 것으로, 상기 카운터 전극 반대편이 고체 물질로 채워진 백플레이트를 포함한다.A MEMS microphone device according to an aspect of the present invention includes: a diaphragm having a diaphragm electrode on one surface thereof; A cavity formed on the opposite side of the diaphragm electrode with the diaphragm interposed therebetween in a shape corresponding to a planar shape of the diaphragm electrode; And a counter electrode facing the vibrating membrane electrode with a predetermined air gap interposed therebetween, and a back plate opposite the counter electrode filled with a solid material.

여기서 상기 멤스 마이크로폰 소자는, 상기 진동막을 가지고, 상기 캐비티의 주변부를 형성함으로써 상기 진동막 전극의 평면적인 형상에 대응되는 형태의 빈 공간인 상기 캐비티를 정의하는 제 1 기판부; 상기 백플레이트를 갖는 제 2 기판부; 및, 상기 진동막과 상기 백플레이트가 서로 마주 보도록 상기 제 1 기판부와 상기 제 2 기판부를 서로 접합하며, 상기 진동막과 상기 백플레이트 사이에 에어 갭을 형성하는 갭 형성 접합부를 포함하는 것일 수 있다. The MEMS microphone device may include a first substrate portion having the diaphragm and defining a cavity that is a void space corresponding to a planar shape of the diaphragm electrode by forming a peripheral portion of the diaphragm; A second substrate portion having the back plate; And a gap forming joining portion joining the first substrate portion and the second substrate portion to each other such that the diaphragm and the back plate face each other and forming an air gap between the diaphragm and the back plate. have.

상기 갭 형성 접합부는, 상기 제 1 기판부의 제 1 주변 금속 패턴과 상기 제 2 기판부의 제 2 주변 금속 패턴 사이에 개입되어 상기 에어 갭에 해당하는 두께로 이들을 서로 접합하는 것으로, 상기 제 1 주변 금속 패턴은 상기 진동막 상에 형성된 진동막 전극의 주변부에 상기 진동막 전극과 동일한 금속층으로 형성되고, 상기 제 2 주변 금속 패턴은 상기 백플레이트 상에 형성된 카운터 전극의 주변부에 상기 카운터 전극과 동일한 금속층으로 형성된 것일 수 있다.
Wherein the gap forming joint is interposed between a first peripheral metal pattern of the first substrate portion and a second peripheral metal pattern of the second substrate portion to bond the first peripheral metal pattern and the second peripheral metal pattern to a thickness corresponding to the air gap, The pattern is formed of the same metal layer as the vibrating film electrode on the periphery of the vibrating film electrode formed on the vibrating film, and the second surrounding metal pattern is formed on the periphery of the counter electrode formed on the back plate as a metal layer May be formed.

본 발명에 따른 멤스(MEMS) 마이크로폰 소자 및 이를 포함하는 멤스 마이크로폰 모듈은, 외부 오염 물질의 유입을 원천적으로 차단하여 가혹한 사용 환경에 대해서도 제품의 신뢰성을 향상시키고, 공기 진동에 의한 소음의 유입을 최소화하여 고체 전도에 의해 전달되는 유효 신호 이외의 잡음을 배제하여 소음이 심한 환경에서도 높은 품질의 신호를 제공하는 효과가 있다. The MEMS microphone device according to the present invention and the MEMS microphone module including the MEMS microphone device according to the present invention can prevent the inflow of external pollutants from the source to improve the reliability of the product even in a severe use environment and minimize the inflow of noise by air vibration Thereby eliminating noise other than the effective signal transmitted by the solid conduction, thereby providing a high-quality signal even in an environment with high noise.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 모듈에서 하우징이 개방된 상태를 보인다.
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 모듈의 내부 구조를 보인다.
도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 소자의 제 1 기판부 제조 공정을 보인다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 소자의 제 2 기판부 제조 공정을 보인다.
도 5는 상기 도 3의 공정에 따른 제 1 기판부와 상기 도 4의 공정에 따른 제 2 기판부를 결합하여 구성된 MEMS 마이크로폰 소자를 보인다.
1 shows a state in which a housing is opened in a MEMS microphone module according to an embodiment of the present invention.
2 shows an internal structure of a MEMS microphone module according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 illustrates a first substrate portion manufacturing process of a MEMS microphone device according to an embodiment of the present invention.
4 illustrates a second substrate portion manufacturing process of a MEMS microphone device according to an embodiment of the present invention.
5 shows a MEMS microphone element formed by combining a first substrate portion according to the process of FIG. 3 and a second substrate portion according to the process of FIG.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예들은 여러 가지 다양한 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하의 실시예들에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 기술적 사상을 명확히 전달하기 위하여 제공된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below can be modified in various ways, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. The embodiments of the present invention are provided to clearly convey the technical idea of the present invention to those skilled in the art.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 모듈에서 하우징이 개방된 상태를 보인다. 1 shows a state in which a housing is opened in a MEMS microphone module according to an embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 멤스 마이크로폰 모듈은, 인쇄회로기판(20)과, 상기 인쇄회로기판의 일면에 실장된 멤스 마이크로폰 소자(10), 그리고 상기 인쇄회로기판(20)과 함께 상기 멤스 마이크로폰 소자(10)를 둘러싸서 외부 공간과 구분되는 내부 공간을 형성하는 하우징(40)을 포함하여 구성된다. 상기 인쇄회로기판(20)의 일면에는 상기 멤스 마이크로폰 소자(10)를 구동하는 IC 컴포넌트(30)가 상기 하우징(40) 내부에 상기 멤스 마이크로폰 소자(10)와 함께 실장 될 수 있다. 도시된 바와 같이, 상기 인쇄회로기판(20)의 일면에는 다수의 전극 패드(21)가 마련되고, 상기 IC 컴포넌트(30)는 상기 다수의 전극 패드(21)와 다수의 리드 와이어(22)를 통해 와이어 본딩(wire bonding) 될 수 있다. 상기 멤스 마이크로폰 소자(10) 역시 상기 IC 컴포넌트(30)와 리드 와이어(22m)를 통해 와이어 본딩 될 수 있다. The MEMS microphone module according to the present embodiment includes a printed circuit board 20, a MEMS microphone element 10 mounted on one side of the printed circuit board, and the MEMS microphone element 10 And a housing 40 surrounding the outer space to define an inner space separated from the outer space. An IC component 30 for driving the MEMS microphone device 10 may be mounted on the surface of the printed circuit board 20 together with the MEMS microphone device 10 in the housing 40. A plurality of electrode pads 21 are provided on one surface of the printed circuit board 20 and the IC components 30 are electrically connected to the plurality of electrode pads 21 and the plurality of lead wires 22 Or may be wire-bonded through the wire. The MEMS microphone device 10 may also be wire-bonded through the IC component 30 and the lead wire 22m.

상기 멤스 마이크로폰 소자(10)는 상기 인쇄회로기판(20)과 상기 하우징(40) 중 적어도 어느 한 쪽에 접합 될 수 있다. 본 실시예에 따르면 상기 멤스 마이크로폰 소자(10)는 상기 인쇄회로기판(20)에 에폭시 등으로 그 일면이 접착되는데, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 멤스 마이크로폰 소자의 출력 단자 전극의 위치에 따라서 인쇄회로기판에 표면 실장 되는 경우라면, 솔더링 접합이 이루어지므로 별도의 접착이 불필요할 수 있다. 또한, 상기 인쇄회로기판(20)에 접합되지 않은 다른 면들 중 일부가 상기 하우징(40)에 접합 될 수도 있다. The MEMS microphone device 10 may be bonded to at least one of the printed circuit board 20 and the housing 40. According to the present embodiment, the MEMS microphone element 10 is adhered to the printed circuit board 20 with epoxy or the like, but the present invention is not limited thereto. For example, if the surface mounting is performed on the printed circuit board according to the position of the output terminal electrode of the MEMS microphone element, soldering bonding is performed, so that separate adhesion may be unnecessary. In addition, some of the other surfaces that are not bonded to the printed circuit board 20 may be bonded to the housing 40.

여기서, 상기 인쇄회로기판(20)과 상기 하우징(40)은 종래의 멤스 마이크로폰 모듈과 달리 공기를 통해 전파되는 음성을 비롯한 음향이 내부 공간으로 전달되도록 하기 위한 개구부를 가지지 않는다. 본 실시예에 따른 멤스 마이크로폰 모듈은 오히려 음성을 비롯한 음향을 발생시키는 진동이 고체전도를 통해 상기 멤스 마이크로폰 소자에 잘 전달되도록 구성된다. 이러한 구성상의 특징에 관해서 이하에서 좀 더 자세히 설명하기로 한다. Unlike the conventional MEMS microphone module, the printed circuit board 20 and the housing 40 do not have openings for transmitting sound including sound propagated through the air to the internal space. The MEMS microphone module according to the present embodiment is configured such that the vibration that generates sound including sound is transmitted to the MEMS microphone device through solid conduction. These configuration features will be described in more detail below.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 모듈의 내부 구조를 보인다. 2 shows an internal structure of a MEMS microphone module according to an embodiment of the present invention.

그 중심부의 단면을 통해 살펴본 상기 멤스 마이크로폰 소자(10)는, 상기 인쇄회로기판(20)에 대해 고정된 백플레이트(12)와, 상기 백플레이트(12)에 대해 상대적으로 진동하는 진동막(14), 그리고 상기 진동막(14)을 사이에 두고 상기 백플레이트(12)의 반대편에 형성된 것으로, 상기 하우징(40)의 일부분에 의해, 좀 더 구체적으로는 개구부가 없는 부분에 의해 막혀서 공기를 통한 외부와의 음압 전달 경로가 차단된 캐비티(cavity)(16)를 포함한다. 상기 캐비티(16)는 종래의 멤스 마이크로폰 모듈의 대응되는 구조에서 공명을 일으키는 음향 챔버로서의 기능도 수행하는 것과 달리 상기 진동막(14)이 그 평면에 수직 방향으로 진동할 수 있게 하는 구조로서의 제한적 기능을 가진다. The MEMS microphone element 10 viewed through the center section thereof includes a back plate 12 fixed to the printed circuit board 20 and a diaphragm 14 which vibrates relative to the back plate 12 ) And formed on the opposite side of the back plate (12) with the diaphragm (14) interposed therebetween. The housing (40) is closed by a part of the housing (40) And a cavity 16 in which a sound pressure transmission path to the outside is blocked. The cavity 16 functions as a resonant acoustic chamber in a corresponding structure of a conventional MEMS microphone module, but has a limited function as a structure that allows the diaphragm 14 to vibrate in a direction perpendicular to its plane .

소정 형태의 빈 공간인 상기 캐비티(16)를 정의하는 캐비티 주변부는 상기 하우징(40)에 접합될 수 있다. 구체적인 예로서 에폭시 등의 접착제로 접착될 수 있다. 이런 구조는 외부로부터 상기 하우징(40)에 전달된 음원으로서의 진동이 고체전도를 통해 상기 진동막(14)까지 전달되는 것을 돕는다.  A cavity peripheral portion defining the cavity 16, which is an empty space of a certain type, may be bonded to the housing 40. As a concrete example, it can be bonded with an adhesive such as epoxy. Such a structure assists vibration transmitted from the outside to the housing 40 as a sound source to be transmitted to the diaphragm 14 through solid conduction.

상기 진동막(14)에서 상기 캐비티(16)의 반대편에는 가변 콘덴서를 구성하는 한 전극인 진동막 전극(114m)이 배치되고, 그와 마주보는 상기 백플레이트(12)의 일면에는 소정의 에어 갭(air gap)(15)을 사이에 두고, 역시 가변 콘덴서를 구성하는 나머지 한 전극인 카운터 전극(124c)이 배치된다. 상기 두 전극은 금속 박막의 패터닝에 의해 형성된 금속 패턴으로 이루어질 수 있다. 상기 진동막 전극(114m)의 주변부와 상기 카운터 전극(124c)의 주변부에는 각각 제 1 주변 금속 패턴(114g)과 제 2 주변 금속 패턴(124g)이 형성되고, 이들 사이에 상기 소정의 에어 갭(15)을 형성하는 갭 형성 접합부(115)가 마련될 수 있다. 상기 갭 형성 접합부(115)는 상기 백플레이트(12)와 상기 진동막(14) 사이에서도 진동의 고체전도가 이루어지도록 진동 감쇄율이 낮은 접합재, 예컨대 금속성의 접합재로 이루어질 수 있다. A diaphragm electrode 114m is disposed on the diaphragm 14 opposite to the cavity 16. The diaphragm electrode 114m constitutes a variable capacitor. On one surface of the diaphragm 14 opposite to the diaphragm 14, a counter electrode 124c, which is another electrode constituting the variable capacitor, is disposed with an air gap 15 therebetween. The two electrodes may be formed of a metal pattern formed by patterning a metal thin film. A first peripheral metal pattern 114g and a second peripheral metal pattern 124g are formed on the periphery of the vibrating membrane electrode 114m and the periphery of the counter electrode 124c, 15 may be provided on the outer circumferential surface. The gap forming junction 115 may be formed of a bonding material having a low vibration damping ratio, for example, a metallic bonding material, so that solid conduction of vibration can be performed between the back plate 12 and the vibrating film 14.

본 실시예에 따른 멤스 마이크로폰 모듈에서 멤스 마이크로폰 소자(10)를 구조적 측면에서 보면 크게 상기 진동막(14)과 전술한 캐비티(16)의 주변부를 구성하는 제 1 기판부(11)와 상기 백플레이트(12)를 구성하는 제 2 기판부로 나뉜다. (본 실시예에서 전술한 백플레이트(12)와 제 2 기판부는 기능적 측면과 구조적 측면에서 달리 지칭한 것일 뿐 실질적으로 동일한 구성요소이므로 이하에서는 제 2 기판부에 대해서도 동일한 도면부호를 사용하기로 한다.) 상기 제 1 기판부(11)와 상기 제 2 기판부(12)는 각각 실리콘 베이스 기판(111, 121)상에 적어도 하나 이상의 박막이 적층된 다층 구조물인데, 그 구체적인 적층 구조에 대해서는 후술하기로 한다. In the MEMS microphone module according to the present embodiment, the MEMS microphone element 10 includes a first substrate portion 11 that constitutes the diaphragm 14 and a peripheral portion of the cavity 16, And a second substrate portion constituting the second substrate portion 12. (In the present embodiment, the back plate 12 and the second substrate portion are referred to in the functional and structural aspects only, and are substantially the same. Therefore, the same reference numerals will be used for the second substrate portion in the following description. ) The first substrate portion 11 and the second substrate portion 12 are multilayer structures in which at least one thin film is laminated on the silicon base substrates 111 and 121, respectively. The detailed lamination structure will be described later do.

이하에서는 전술한 실시예에 따른 멤스 마이크로폰 소자를 제조하는 공정에 관하여 설명한다. 설명될 공정은 하나의 예에 불과하며 본 발명에 따른 멤스 마이크로폰 소자가 이하의 공정에 의해 제조된 것으로 한정 해석될 이유는 없다. 다만, 공정을 통해 전술한 멤스 마이크로폰 소자의 구성이 더 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Hereinafter, a process for manufacturing a MEMS microphone device according to the above-described embodiment will be described. The process to be described is only one example, and there is no reason why the MEMS microphone device according to the present invention should be construed as being manufactured by the following process. However, the structure of the above-mentioned MEMS microphone device can be understood more clearly through the process.

도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 소자의 제 1 기판부 제조 공정을 보인다. FIG. 3 illustrates a first substrate portion manufacturing process of a MEMS microphone device according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 실리콘 베이스 기판(111)의 양면에 건식 식각(Dry-Etch) 마스킹 물질로서 실리콘 산화물(SiO2)층(112a,112b)을 형성한다. 다음으로 도3의 (b)에 도시된 것처럼 그 양면에 진동막 중 비금속재료 박막 부분을 형성하는 실리콘 질화물(SiNx)층(113a,113b)을 형성한다. 상기 실리콘 질화물층(113a,113b)은 반복적인 진동에 대한 상기 진동막의 내구성 향상 등을 위해 낮은 잔류 응력(residual stress)을 갖도록 형성하는 것이 바람직하다. First, silicon oxide (SiO2) layers 112a and 112b are formed as dry-etching masking materials on both sides of a silicon base substrate 111, as shown in FIG. 3A. Next, silicon nitride (SiNx) layers 113a and 113b are formed on both sides of the silicon nitride (SiNx) layer to form a nonmetallic thin film portion of the diaphragm, as shown in FIG. 3 (b). The silicon nitride layers 113a and 113b are preferably formed to have a low residual stress to improve durability of the diaphragm due to repetitive vibration.

다음으로 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 실리콘 질화물층(113a) 위에 도전성의 금속층(114)을 적층하고, 상기 금속층(114)을 패터닝하여 소정의 평면적 형상을 갖는 금속 패턴인 진동막 전극(114m)과 그 주변부에 소폭의 띠 형태로 연장된 제 1 주변 금속 패턴(114g)을 형성한다. 이때, 상기 금속층(114)은 Ti, Au, Cu, Al, Pt, 또는 Sn 등 전기전도도가 높은 금속 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. Next, as shown in FIG. 3C, a conductive metal layer 114 is laminated on the silicon nitride layer 113a, and the metal layer 114 is patterned to form a metal pattern having a predetermined planar shape A first peripheral metal pattern 114g extending in the form of a narrow band is formed on the membrane electrode 114m and its periphery. At this time, the metal layer 114 may be formed of a metal having high electrical conductivity such as Ti, Au, Cu, Al, Pt, or Sn, or an alloy thereof.

그런 다음, 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 주변 금속 패턴(114g) 위에 소정의 두께를 갖는 제 1 금속 접합재 패턴(115a)을 형성한다. 상기 제 1 금속 접합재 패턴(115a)은 예컨대, 공융 접합(Eutectic Bonding)에 적합한 금속성 접합재의 박막 패턴일 수 있고, 그 두께는 전술한 에어 갭의 약 1/2 정도일 수 있다. Then, as shown in FIG. 3D, a first metal bonding material pattern 115a having a predetermined thickness is formed on the first peripheral metal pattern 114g. The first metal bonding material pattern 115a may be, for example, a thin film pattern of a metallic bonding material suitable for eutectic bonding, and its thickness may be about 1/2 of the air gap described above.

다음으로 반응성 이온 식각법(DRIE, Deep Reactive Ion Etching)을 이용하여 제 1 기판부(11)의 후면을 식각함으로써, 도 3의 (e)에 도시된 것과 같이, 그 후면으로부터 상기 진동막(14)의 배면 즉, 진동막(14)에서 진동막 전극(114m)의 반대쪽 면까지 이르는 캐비티(16)를 형성한다. 상기 캐비티(16)의 평면적인 형상은 상기 진동막 전극(114m)의 평면적 형상과 유사하게 형성될 수 있고, 상기 진동막 전극(114m)의 면적보다는 넓게 형성되는 것이 바람직하다. 3 (e), the rear surface of the first substrate portion 11 is etched using a reactive ion etching (DRIE) method to form the diaphragm 14 , That is, a cavity 16 extending from the diaphragm 14 to the opposite surface of the diaphragm electrode 114m is formed. The planar shape of the cavity 16 may be similar to the planar shape of the diaphragm electrode 114m and may be formed wider than the area of the diaphragm electrode 114m.

도 3의 (f)는 위와 같은 공정을 통해 형성된 제 1 기판부(11)를 상기 진동막 전극(114m) 위에서 바라본 모습을 보인다. 이를 통해 전술한 제 1 주변 금속 패턴(114g)과 제 1 금속 접합재 패턴(115a)의 평면적 형태로 볼 수 있다. 본 실시예에서 상기 진동막 전극(114m)과 상기 제 1 주변 금속 패턴(114g)은 도전성 금속 패턴으로 서로 연결되는데, 이는 상기 진동막 전극(114m)과 그 출력 단자부(도 4의 (d) 도면부호 114e 참조)의 전기적 연결을 위한 것이다. FIG. 3 (f) shows a view of the first substrate portion 11 formed through the above process from above the vibrating membrane electrode 114m. Accordingly, the first peripheral metal pattern 114g and the first metal bonding material pattern 115a can be seen in a planar form. In the present embodiment, the diaphragm electrode 114m and the first peripheral metal pattern 114g are connected to each other by a conductive metal pattern. The diaphragm electrode 114m and the output terminal portion Reference numeral 114e) for electrical connection.

도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 MEMS 마이크로폰 소자의 제 2 기판부 제조 공정을 보인다. 4 illustrates a second substrate portion manufacturing process of a MEMS microphone device according to an embodiment of the present invention.

제 2 기판부 역시 상기 제 1 기판부와 마찬가지로 실리콘 웨이퍼를 베이스 기판으로 활용한다. 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이 실리콘 베이스 기판(121)의 양면에 실리콘 질화물(Si3N4)층(123a,123b)을 형성한다. 상기 실리콘 질화물층(123a,123b)은 습식 식각(Wet-Etch) 마스킹 층으로 활용된다. The second substrate portion, like the first substrate portion, also utilizes a silicon wafer as a base substrate. Silicon nitride (Si 3 N 4) layers 123 a and 123 b are formed on both sides of the silicon base substrate 121 as shown in FIG. 4 (a). The silicon nitride layers 123a and 123b are used as a wet etching masking layer.

이어서, 도 4의 (b)에 도시된 것처럼 일측의 상기 실리콘 질화물층(123a)에 도전성의 금속층(124)을 적층하고 패터닝하여 카운터 전극(124c) 패턴과 제 2 주변 전극 패턴(124g)을 형성한다. 상기 금속층(124)에 관한 사항은 제 1 기판부의 금속층(114)과 같다. 다음으로, 상기 제 2 주변 금속 패턴(124g) 상에 제 2 금속 접합재 패턴(115b)를 형성한다. 상기 제 2 금속 접합재 패턴(115b) 역시 공융 접합(Eutectic Bonding)에 적합한 금속성 접합재의 박막 패턴일 수 있고, 그 두께는 전술한 에어 갭의 약 1/2 정도일 수 있다.Next, as shown in FIG. 4 (b), a conductive metal layer 124 is laminated on the silicon nitride layer 123a on one side and patterned to form a counter electrode 124c pattern and a second peripheral electrode pattern 124g do. The metal layer 124 is the same as the metal layer 114 of the first substrate portion. Next, a second metal bonding material pattern 115b is formed on the second peripheral metal pattern 124g. The second metal bonding material pattern 115b may be a thin film pattern of a metallic bonding material suitable for eutectic bonding, and the thickness thereof may be about 1/2 of the air gap described above.

도 4의 (d)는 제 2 기판부(12)를 카운터 전극(124c) 쪽에서 바라본 모습으로, 위와 같은 공정을 통해 형성된 상기 카운터 전극(124c) 패턴 및 상기 제 2 주변 금속 패턴(124g)의 평면적 형상을 보인다. 상기 카운터 전극(124c)은 그 면적 중 대부분이 전술한 진동막 전극(114m)과 평면적으로 중첩되도록 형성된다. 다만, 상기 카운터 전극(124c)은 상기 제 2 주변 금속 패턴(124g)이 형성되지 않은 부분으로 연장되어, 그 출력 단자(124e)를 구성할 수 있다. 그 결과 상기 카운터 전극(124c)과 그 출력 단자(124e)는 동일한 금속층 내에서 서로 전기적으로 연결되고, 전술한 진동막 전극(도 3 (f)의 114m 참조)과 그 출력 단자(114e)는 전술한 제 1 주변 금속 패턴(114g), 제 1 금속 접합재 패턴(115a), 제 2 금속 접합재 패턴(115b), 및 제 2 주변 금속 패턴(124g)을 통해 서로 전기적으로 연결된다. 4D is a view of the second substrate portion 12 viewed from the side of the counter electrode 124c and shows the pattern of the counter electrode 124c and the second peripheral metal pattern 124g formed in the above- Shape. The counter electrode 124c is formed so that most of its area overlaps with the above-mentioned diaphragm electrode 114m in a plan view. However, the counter electrode 124c may extend to a portion where the second peripheral metal pattern 124g is not formed, and configure the output terminal 124e. As a result, the counter electrode 124c and its output terminal 124e are electrically connected to each other in the same metal layer, and the aforementioned vibrating membrane electrode (see 114m of FIG. 3 (f)) and its output terminal 114e are electrically connected Are electrically connected to each other through a first peripheral metal pattern 114g, a first metal bonding material pattern 115a, a second metal bonding material pattern 115b, and a second peripheral metal pattern 124g.

도 5는 상기 도 3의 공정에 따른 제 1 기판부와 상기 도 4의 공정에 따른 제 2 기판부를 결합하여 구성된 MEMS 마이크로폰 소자를 보인다. 5 shows a MEMS microphone element formed by combining a first substrate portion according to the process of FIG. 3 and a second substrate portion according to the process of FIG.

도시된 바와 같이, 진동막(14)을 갖는 제 1 기판부(11)와 백플레이트로서의 제 2 기판부(12)를 정합 정렬기를 이용하여 서로 정렬하고 접합한다. 접합 공정은 전술한 바와 같이 공융 접합(Eutectic Bonding)법에 따를 수 있다. 공융 접합 온도는 접합재의 종류에 따라 달라지는데, 예를 들어, 제 1 및 제 2 금속 접합재(115a,115b)의 용융 온도보다 낮은 약 300℃ 정도의 온도에서 접합이 이루어질 수 있다. 위와 같은 공정은 에어 갭(15)을 정확하게 제어하는 데에 유리하다. As shown in the figure, the first substrate portion 11 having the diaphragm 14 and the second substrate portion 12 as a back plate are aligned and bonded to each other using a matching aligner. The bonding process can be performed according to the eutectic bonding method as described above. The eutectic bonding temperature depends on the kind of the bonding material. For example, the bonding may be performed at a temperature of about 300 ° C lower than the melting temperature of the first and second metal bonding materials 115a and 115b. The above-described process is advantageous in accurately controlling the air gap 15.

콘덴서 방식의 멤스 마이크로폰 소자는 에어 갭(15)을 사이에 둔 진동막 전극과 카운터 전극 사이의 커패시턴스의 변화를 검출함으로써 상기 진동막(14)의 기계적 진동을 전기적 신호로 변환하는 것인데, 본 발명에 따른 멤스 마이크로폰 소자는 진동막(14)을 진동시키는 직접적인 요인이 전술한 캐비티(16) 내의 공기를 통해 전달된 음압이 아니라 제 2 기판부(12) 또는 제 1 기판부(11)를 통해 고체 전도 방식으로 전달된 기계적 진동이다. 즉, 관성에 의한 상기 진동막(14)의 상기 백플레이트(12)에 대한 상대적 진동을 통해 전기적 신호를 생성한다. 이를 위해 상기 백플레이트(12)는 카운터 전극의 하부가 공백 없이 고체물질로 채워진 것이 바람직하다. The condenser type MEMS microphone element converts the mechanical vibration of the diaphragm 14 into an electrical signal by detecting a change in capacitance between the diaphragm electrode and the counter electrode with the air gap 15 interposed therebetween. The MEMS microphone device according to the first embodiment has a direct effect of vibrating the diaphragm 14 not by the negative pressure transmitted through the air in the cavity 16 but through the second substrate 12 or the first substrate 11, Mechanical vibrations transmitted in a manner that is not known. In other words, an electrical signal is generated through relative oscillation of the diaphragm 14 due to inertia with respect to the back plate 12. To this end, it is preferable that the back plate 12 is filled with a solid material without a space at the bottom of the counter electrode.

10: MEMS 마이크로폰 소자
11: 제 1 기판부 12: 제 2 기판부
14: 진동막 15: 에어 갭
16: 캐비티(cavity) 20: 인쇄회로기판
30: IC 컴포넌트 40: 하우징
114m: 진동막 전극 114g: 제 1 주변 금속 패턴
115: 갭 형성 접합부 124c: 카운터 전극
124g: 제 2 주변 금속 패턴
10: MEMS microphone element
11: first substrate part 12: second substrate part
14: diaphragm 15: air gap
16: cavity 20: printed circuit board
30: IC component 40: housing
114m: diaphragm electrode 114g: first peripheral metal pattern
115: gap forming junction 124c: counter electrode
124g: second peripheral metal pattern

Claims (10)

인쇄회로기판;
상기 인쇄회로기판과 함께 외부 공간과 구분되는 내부 공간을 형성하는 하우징; 및,
상기 하우징으로 덮인 상기 인쇄회로기판의 일면 또는 상기 하우징에 고정된 멤스 마이크로폰 소자;를 포함하고,
상기 멤스 마이크로폰 소자는,
상기 인쇄회로기판의 일면 또는 상기 하우징에 대해 고정된 백플레이트;
상기 백플레이트에 대해 상대적으로 진동하는 진동막; 및,
상기 진동막을 사이에 두고 상기 백플레이트의 반대편에 형성된 것으로, 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징에 의해 막혀서 공기를 통한 외부와의 음압 전달 경로가 차단된 캐비티를 포함하고,
상기 진동막과 상기 백플레이트는 에어 갭을 사이에 두고 서로 대향하는 진동막 전극과 카운터 전극을 각각 구비하고,
상기 백플레이트가 고정된 상기 인쇄회로기판 또는 상기 하우징과 상기 카운터 전극의 사이는 고체 물질로 채워진,
멤스 마이크로폰 모듈.
Printed circuit board;
A housing defining an inner space separated from an outer space together with the printed circuit board; And
And a MEMS microphone element fixed to one surface of the printed circuit board covered with the housing or to the housing,
The MEMS microphone device includes:
A back plate fixed to one surface of the printed circuit board or to the housing;
A diaphragm which vibrates relative to the back plate; And
And a cavity formed on an opposite side of the back plate with the diaphragm interposed therebetween, the cavity being blocked by the printed circuit board or the housing and blocking a sound pressure transmission path to the outside through the air,
Wherein the diaphragm and the back plate each have a diaphragm electrode and a counter electrode opposed to each other with an air gap therebetween,
Wherein the back plate is fixed to the printed circuit board or between the housing and the counter electrode,
MEMS microphone module.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 멤스 마이크로폰 소자는,
상기 진동막을 가지고, 상기 캐비티의 주변부를 형성함으로써 상기 진동막 전극의 평면적인 형상에 대응되는 형태의 빈 공간인 상기 캐비티를 정의하는 제 1 기판부;
상기 백플레이트를 갖는 제 2 기판부; 및,
상기 진동막과 상기 백플레이트가 서로 마주 보도록 상기 제 1 기판부와 상기 제 2 기판부를 서로 접합하며, 상기 진동막과 상기 백플레이트 사이에 에어 갭을 형성하는 갭 형성 접합부를 포함하는,
멤스 마이크로폰 모듈.
The method according to claim 1,
The MEMS microphone device includes:
A first substrate portion having the diaphragm and defining a cavity which is an empty space in a shape corresponding to a planar shape of the diaphragm electrode by forming a peripheral portion of the diaphragm;
A second substrate portion having the back plate; And
And a gap forming joint joining the first substrate portion and the second substrate portion to each other such that the diaphragm and the backplate face each other and forming an air gap between the diaphragm and the backplate.
MEMS microphone module.
제 3 항에 있어서,
상기 갭 형성 접합부는, 상기 제 1 기판부의 제 1 주변 금속 패턴과 상기 제 2 기판부의 제 2 주변 금속 패턴 사이에 개입되어 상기 에어 갭에 해당하는 두께로 이들을 서로 접합하는 것으로,
상기 제 1 주변 금속 패턴은 상기 진동막 상에 형성된 진동막 전극의 주변부에 상기 진동막 전극과 동일한 금속층으로 형성되고,
상기 제 2 주변 금속 패턴은 상기 백플레이트 상에 형성된 카운터 전극의 주변부에 상기 카운터 전극과 동일한 금속층으로 형성된,
멤스 마이크로폰 모듈.
The method of claim 3,
The gap forming joint is interposed between a first peripheral metal pattern of the first substrate portion and a second peripheral metal pattern of the second substrate portion to bond the first peripheral metal pattern and the second peripheral metal pattern to a thickness corresponding to the air gap,
Wherein the first peripheral metal pattern is formed of the same metal layer as the vibrating film electrode on the periphery of the vibrating film electrode formed on the vibrating film,
Wherein the second peripheral metal pattern is formed in the peripheral portion of the counter electrode formed on the back plate and formed of the same metal layer as the counter electrode,
MEMS microphone module.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 기판부 및 상기 제 2 기판부는 각각 실리콘 베이스 기판상에 적어도 하나 이상의 박막이 적층된 다층 구조물이고,
상기 제 2 기판부는 상기 카운터 전극 및 상기 제 2 주변 금속 패턴을 형성하는 금속층과 그와 접한 표면을 제외한 모든 층이 평면적으로 균일하게 형성된,
멤스 마이크로폰 모듈.
5. The method of claim 4,
Wherein the first substrate portion and the second substrate portion are multilayer structures each having at least one thin film laminated on a silicon base substrate,
Wherein the second substrate portion is formed by forming all the layers except the metal layer forming the counter electrode and the second peripheral metal pattern and the surface in contact therewith uniformly in a planar manner,
MEMS microphone module.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 주변 금속 패턴은 평면적으로 상기 캐비티의 주변부와 중첩되도록 배치된,
멤스 마이크로폰 모듈.
5. The method of claim 4,
Wherein the first peripheral metal pattern is disposed so as to overlap the periphery of the cavity in a plan view,
MEMS microphone module.
제 1 항에 있어서,
상기 멤스 마이크로폰 소자는, 일면이 상기 인쇄회로기판의 표면에, 다른 일면이 상기 하우징의 내측 표면에 접착된,
멤스 마이크로폰 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the MEMS microphone element has one surface bonded to the surface of the printed circuit board and the other surface bonded to the inner surface of the housing,
MEMS microphone module.
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