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KR101968813B1 - 반사성 코팅 기판 - Google Patents

반사성 코팅 기판 Download PDF

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KR101968813B1
KR101968813B1 KR1020170021421A KR20170021421A KR101968813B1 KR 101968813 B1 KR101968813 B1 KR 101968813B1 KR 1020170021421 A KR1020170021421 A KR 1020170021421A KR 20170021421 A KR20170021421 A KR 20170021421A KR 101968813 B1 KR101968813 B1 KR 101968813B1
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Abstract

본 발명은 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 하지층 및 상기 하지층 상에 형성된 반사 금속층을 포함하는 반사성 코팅 기판으로서, 상기 하지층은 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하는 반사성 코팅 기판을 제공한다.

Description

반사성 코팅 기판{Reflective Coated Substrate}
본 발명은 반사성 코팅 기판에 관한 것이다.
반사성 코팅 기판은 반사를 증가시킬 목적으로 기판 상에 반사율이 높은 금속을 사용하여 반사 금속층을 코팅한 기판이다. 일반적으로 반사 금속층에는 은(Ag)을 사용한다. 종래 반사 금속층으로서 은을 증착하는 방법으로 사용된 습식 화학적 방식은 공정 중에 발생하는 세정수가 약제, 은, 구리 및 주석을 함유하고 있어 이를 환경친화적인 방식으로 폐기해야 하는데 따른 비용과 설비가 소요되는 문제점이 있었다. 이에 따라 은 증착 방법으로 스퍼터링 방식이 제안되었다. 그러나, 스퍼터링 방식으로 은을 증착하는 경우, 은이 기판으로 흔히 사용되는 유리 또는 플라스틱에 대한 밀착력이 낮아 반사성 코팅 기판의 내구성이 떨어지는 문제점이 있었다.
종래 스퍼터링 방식에서 은과 기판 사이의 밀착력을 향상시키기 위한 방법으로 기판과 반사 금속층 사이에 니켈 크롬 질화물층 등을 형성시킨 반사성 코팅 기판들이 제시된 바 있으나, 반사율이 저하되거나 내구성 확보가 여전히 어려운 단점이 있었다.
이에, 스퍼터링 방식으로 제조시 높은 반사율을 확보하면서도 내구성이 우수한 반사성 코팅 기판에 대한 개발이 요구되고 있다.
일본 등록특허 제2,831,932호
본 발명은 스퍼터링 방식으로 제조시 높은 반사율을 확보하면서도 내구성이 우수한 반사성 코팅 기판을 제공한다.
한편으로, 본 발명은 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 하지층 및 상기 하지층 상에 형성된 반사 금속층을 포함하는 반사성 코팅 기판으로서, 상기 하지층은 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하는 반사성 코팅 기판을 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 하지층의 두께는 2nm 내지 10nm일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 반사성 코팅 기판은 상기 반사 금속층 상에 형성된 금속 보호층 및 상기 금속 보호층 상에 형성된 무기 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 반사성 코팅 기판은 상기 무기 보호층 상에 형성된 UV 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 반사성 코팅 기판은 투명 기판과 반사 금속층 사이에 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하는 하지층을 가져 스퍼터링 방식을 통해 제조된 경우 높은 반사율을 확보하면서도 내구성이 우수하다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판의 개략적인 단면도이다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 하지층 및 상기 하지층 상에 형성된 반사 금속층을 포함하는 반사성 코팅 기판에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 투명 기판은 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
유리 기판으로서는 예컨대 소다라임 유리, 소다-석회-규산염 유리, 붕규산 유리 또는 납 유리 등을 제한 없이 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라 어닐링되거나 열처리된 유리가 사용될 수 있다.
플라스틱 기판으로서는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드 및 베이클라이트(Bakelite)로 구성된 군으부터 선택되는 1종 이상의 폴리머를 포함하는 플라스틱 기판이 사용될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 투명 기판의 두께는 사용 목적에 따라 자유롭게 선택될 수 있으며, 예를 들어 1 내지 10 mm일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 하지층은 투명 기판과 반사 금속층 사이의 밀착력을 향상시킴으로써 반사성 코팅 기판의 내구성을 향상시키는 역할을 한다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 상기 하지층이 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하여 투명 기판과 반사 금속층 사이의 밀착력이 우수할 뿐만 아니라 반사율 저하를 최소화할 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 투명 기판으로부터 반사 금속층 방향으로 입사된 가시광선의 반사율이 투명 기판과 반사 금속층 사이에 위치한 하지층에 의해서 저하되는 것이 최소화될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 가시광선 반사율이 85% 이상, 예를 들어 85 내지 90%, 특히 87 내지 90%일 수 있다. 상기 가시광선 반사율은 380nm 내지 780nm의 파장대역의 반사율일 수 있다.
상기 아연-알루미늄 산화물은 ZnAlOx로 표시될 수 있으며, 이때 x는 0.9≤x≤1.1일 수 있다.
상기 아연-알루미늄 산질화물은 ZnAlOxNy로 표시될 수 있으며, 이때 x는 0.4≤x≤0.6이고, y는 0.4≤y≤0.6일 수 있다.
상기 아연-알루미늄 질화물은 ZnAlNx로 표시될 수 있으며, 이때 x는 0.8≤x≤1.2 일 수 있다.
상기 하지층의 두께는 2nm 내지 10nm, 예를 들어 2nm 내지 5nm일 수 있다. 하지층의 두께가 2nm 미만이면 하지층의 밀착 성능이 떨어질 수 있으며, 10nm를 초과하면 반사율이 저하될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 반사 금속층은 하지층 상에 형성되며, 반사율이 높은 금속을 사용하여 반사성 코팅 기판의 반사율을 향상시킬 수 있다.
상기 반사 금속층은 은(Ag), 은 합금, 알루미늄(Al), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금을 포함할 수 있으며, 특히 가시광선 반사율 및 밀착력 향상면에서 은 또는 은 합금을 포함할 수 있다.
상기 은 합금으로는 은-주석 합금, 은-인듐 합금, 은-로듐 합금, 은-루테늄 합금, 은-금 합금, 은-팔라듐 합금, 은-니켈 합금, 은-셀렌 합금 및 은-안티몬 합금으로 이루어지는 군으로부터 선택하여 사용할 수 있다.
상기 반사 금속층의 두께는 50nm 내지 100nm, 구체적으로 50nm 내지 70nm, 예를 들어 55nm 내지 60nm일 수 있다. 반사 금속층의 두께가 50nm미만이면 반사율이 감소할 수 있고, 100nm를 초과하면 반사율 증가 효율성이 감소할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 상기 반사 금속층 상에 형성된 금속 보호층 및 상기 금속 보호층 상에 형성된 무기 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 금속 보호층은 반사 금속층의 산화를 방지할 수 있다.
상기 금속 보호층은 주기율표의 2-16족 원소로부터의 원소 금속, 예컨대 니켈, 철, 알루미늄, 구리, 크롬, 티타늄, 코발트, 아연, 주석, 지르코늄, 몰리브덴, 텅스텐, 니오븀, 인듐, 납 및 비스무트로부터 선택되는 하나 이상의 금속 또는 이들의 질화물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 특히, 상기 금속 보호층은 니켈, 니켈-크롬 합금 또는 니켈-크롬 질화물을 포함할 수 있다.
상기 금속 보호층의 두께는 1.2 내지 10nm일 수 있다. 금속 보호층의 두께가 1.2nm 미만이면 내염수성 및 내스크래치성이 감소할 수 있으며, 10nm를 초과하면 반사성 코팅 기판의 내구성이 저하될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 무기 보호층은 내구성을 향상시키는 역할을 한다.
상기 무기 보호층은 규소 산화물 또는 규소 질화물을 포함할 수 있다.
상기 무기 보호층의 두께는 5nm 내지 30nm, 예를 들어 10nm일 수 있다. 무기 보호층의 두께가 5nm 미만이면 내스크래치성이 감소할 수 있으며, 30nm를 초과하면 생산성이 감소할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 상기 무기 보호층 상에 형성된 UV 보호층을 더 포함할 수 있다.
상기 UV 보호층은 반사성 코팅 기판의 내구성, 특히 내스크래치성을 더욱 향상시키는 역할을 한다.
상기 UV 보호층은 우레탄 아크레이트, 이소보르닐 아크릴레이트(IBOA), 라우릴 아크릴레이트, 알파 아미노 케톤 등을 포함할 수 있다.
상기 UV 보호층의 두께는 10㎛ 내지 100㎛일 수 있다. UV 보호층의 두께가 10㎛ 미만이면 내구성이 감소할 수 있으며, 100㎛를 초과하면 생산성 및 가공성이 감소할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 투명 기판(10), 상기 투명 기판 상에 형성된 하지층(20), 상기 하지층 상에 형성된 반사 금속층(30), 상기 반사 금속층 상에 형성된 금속 보호층(40), 상기 금속 보호층 상에 형성된 무기 보호층(50) 및 상기 무기 보호층 상에 형성된 UV 보호층(60)을 포함한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 각각의 층은 진공증착, 특히 스퍼터링(sputtering) 방식을 포함한 물리적 기상 증착(Physical vapor deposition, PVD), 저압(low pressure), 상압(atmospheric pressure), 플라즈마(plasma)를 포함하는 화학적 기상 증착(Chemical vapor deposition, CVD) 등의 방법을 적절히 사용할 수 있다.
특히, 상기 각각의 층은 스퍼터링 방식에 의해 연속적으로 모든 층을 증착할 수 있다. 해당 타겟 물질(들)의 스퍼터링을, 산소의 존재 하에 수행함으로써 그 산화물 층을 증착할 수 있고, 질소의 존재 하에 수행함으로써 그 질화물 층을 증착할 수 있다.
상기 스퍼터링 방식은 특히 대형 투명 기판에 대해 적합할 수 있다. 스퍼터링 방식을 이용할 경우 단일 진공 챔버에서 광범위한 물질을 성막시킬 수 있으며, 통상적인 습식 화학적 방법보다 화학적 순도가 높은 층을 수득할 수 있다. 또한 습식 화학적 방법으로부터 야기되는 환경 오염 문제를 해결할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 건축, 실내 인테리어, 특히 고온 다습한 환경의 실내 인테리어 용도로 사용될 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사성 코팅 기판은 욕실의 세면대, 욕실 내 가구, 붙박이장 등의 특판 가구에 사용될 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예 및 비교예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3: 반사성 코팅 기판의 제조
5mm 소다라임 유리에 하기 표 1과 같은 적층 구조로 각각의 층을 성막하여 반사성 코팅 기판을 제조하였다. 각각의 층의 성막은 인라인 스퍼터(BMC)를 사용하여 수행하였다. 이때, SiNx에서 x는 1.06 내지 1.60이고, ZnAlOx에서 x는 0.80 내지 1.20이며, NiCr에서 Ni:Cr은 80:20이었다.
또한, NiCrNx에서 x는 0.8 내지 1.2이었다.
구분 하지층 반사 금속층 금속 보호층 무기 보호층 UV 보호층
비교예 1 성분 - Ag NiCr SiNx -
두께(nm) - 55 1.2 10 -
비교예 2 성분 SiNx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 10 55 1.2 10 -
비교예 3 성분 NiCrNx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 3 55 1.2 10 -
실시예 1 성분 ZnAlOx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 10 55 1.2 10 -
실시예 2 성분 ZnAlOx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 3 55 1.2 10 -
실시예 3 성분 ZnAlOx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 2 55 1.2 10 -
실시예 4 성분 ZnAlOx Ag NiCr SiNx UA
두께(nm) 2 55 1.2 10 UA
실시예 5 성분 ZnAlOx Ag NiCr SiNx -
두께(nm) 2 55 10 10 -
UA: 우레탄 아크레이트(수평균 분자량: 8,000)
실험예 1:
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 반사성 코팅 기판의 물성을 후술하는 방법으로 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
(1) 반사율
반사성 코팅 기판의 유리 기판면의 반사율을 380nm 내지 780nm의 파장대역에서 Lambda 950(Perkinelmer)로 측정하였다.
(2) 내염수성
내염수성은 3% NaCl 용액에 시편을 침지한 후 코팅막이 손상되기까지 걸리는 시간을 측정하여 평가하였다.
(3) 내스크래치성
내스크래치성은 석영가루를 섞은 용액을 뿌려 브러쉬로 10회 이상 왕복한 후 코팅막의 손상을 확인하여 평가하였다.
구분 반사율(%) 내염수성 내스크래치성
비교예 1 89.2 2 시간 10회 손상
비교예 2 83.4 1 시간 10회 손상
비교예 3 74.5 24 시간 이상 10회 손상
실시예 1 87.5 24 시간 이상 10회 손상
실시예 2 87.9 24 시간 이상 10회 손상
실시예 3 88.5 24 시간 이상 10회 손상
실시예 4 88.5 24 시간 이상 1000회 이상 없음
실시예 5 88.7 24 시간 10회 손상
상기 표 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 5에 따른 반사성 코팅 기판은 반사율이 85% 이상으로 높으면서도 내염수성 및 내스크래치성이 우수한 것을 확인할 수 있었다. 반면, 하지층을 포함하지 않는 비교예 1에 따른 반사성 코팅 기판은 반사율은 높으나 내염수성이 떨어지는 것을 확인하였다. 또한, 하지층이 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하지 않는 비교예 2 및 3에 따른 반사성 코팅 기판도 반사율이 저하되거나 내염수성이 떨어지는 것으로 나타났다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.
10: 투명 기판 20: 하지층
30: 반사 금속층 40: 금속 보호층
50: 무기 보호층 60: UV 보호층

Claims (14)

  1. 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 하지층 및 상기 하지층 상에 형성된 반사 금속층을 포함하는 반사성 코팅 기판으로서, 상기 하지층은 아연-알루미늄의 산화물, 산질화물 또는 질화물을 포함하고,
    상기 반사 금속층의 두께가 50 nm 내지 100 nm이고,
    가시광선 반사율이 85% 이상인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 투명 기판은 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드 및 베이클라이트(Bakelite)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 폴리머를 포함하는 플라스틱 기판 또는 유리 기판인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  3. 제1항에 있어서, 상기 하지층의 두께가 2nm 내지 10nm인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  4. 제1항에 있어서, 상기 반사 금속층이 은(Ag), 은 합금, 알루미늄(Al), 백금(Pt) 및 티타늄(Ti)으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 반사 금속층 상에 형성된 금속 보호층 및 상기 금속 보호층 상에 형성된 무기 보호층을 더 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  7. 제6항에 있어서, 상기 금속 보호층은 니켈, 니켈-크롬 합금 또는 니켈-크롬 질화물을 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  8. 제6항에 있어서, 상기 금속 보호층의 두께가 1.2nm 내지 10nm인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  9. 제6항에 있어서, 상기 무기 보호층은 규소 질화물 또는 규소 산화물을 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  10. 제6항에 있어서, 상기 무기 보호층의 두께가 5nm 내지 30nm인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  11. 제6항에 있어서, 상기 무기 보호층 상에 형성된 UV 보호층을 더 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  12. 제11항에 있어서, 상기 UV 보호층은 우레탄 아크레이트를 포함하는 가시광선 반사성 코팅 기판.
  13. 제11항에 있어서, 상기 UV 보호층의 두께는 10㎛ 내지 100㎛인 가시광선 반사성 코팅 기판.
  14. 제1항에 있어서, 건축 또는 실내 인테리어용인 가시광선 반사성 코팅 기판.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110055505A (zh) * 2019-05-31 2019-07-26 成都柔电云科科技有限公司 一种多层钛膜及其制备方法
CN112962064A (zh) * 2021-02-01 2021-06-15 国家纳米科学中心 一种耐高温光学反射膜及其制备方法和用途
US11656409B2 (en) 2021-03-10 2023-05-23 Globalfoundries U.S. Inc. Optical antenna for photonic integrated circuit and methods to form same
US11579360B2 (en) * 2021-06-22 2023-02-14 Globalfoundries U.S. Inc. Optical antenna with reflective material for photonic integrated circuit and methods to form same

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2120877A1 (en) 1993-04-28 1994-10-29 Jesse D. Wolfe Durable first and second surface mirrors
US7081302B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
BRPI0515784A (pt) * 2004-12-17 2008-08-05 Afg Ind Inc artigo com camada protetora resistente a arranhões oxidável no ar para revestimentos ópticos e método para melhorar a proteção contra arranhões destes revestimentos
US7659001B2 (en) * 2005-09-20 2010-02-09 Guardian Industries Corp. Coating with infrared and ultraviolet blocking characteristics
US7771103B2 (en) * 2005-09-20 2010-08-10 Guardian Industries Corp. Optical diffuser with IR and/or UV blocking coating
US8409663B2 (en) * 2007-04-27 2013-04-02 Guardian Industries Corp. Method of making a coated glass substrate with heat treatable ultraviolet blocking characteristics
KR20110079991A (ko) * 2010-01-04 2011-07-12 삼성코닝정밀소재 주식회사 열선반사 다층박막 및 그를 포함하는 자동차용 유리
JP2011173764A (ja) * 2010-02-25 2011-09-08 Central Glass Co Ltd 低放射膜
US9272949B2 (en) * 2010-07-09 2016-03-01 Guardian Industries Corp. Coated glass substrate with heat treatable ultraviolet blocking characteristics
KR101283927B1 (ko) * 2011-09-09 2013-07-16 웅진케미칼 주식회사 데코시트 표면보호용 코팅조성물 및 이를 포함하는 데코시트
JP5897157B2 (ja) * 2012-03-05 2016-03-30 サン−ゴバン グラス フランスＳａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ Ｇｌａｓｓ Ｆｒａｎｃｅ 熱放射反射コーティングを有するプレート
US9919959B2 (en) * 2012-05-31 2018-03-20 Guardian Glass, LLC Window with UV-treated low-E coating and method of making same
KR101493571B1 (ko) * 2012-12-24 2015-02-13 (주)엘지하우시스 저방사 투명 적층체 및 이를 포함하는 건축 자재
US20150090689A1 (en) * 2013-09-27 2015-04-02 Corning Incorporated Compositions for protecting display glass and methods of use thereof
KR101979625B1 (ko) * 2014-07-16 2019-05-20 (주)엘지하우시스 저방사 코팅 및 저방사 코팅을 포함하는 창호용 기능성 건축 자재
JPWO2016027733A1 (ja) * 2014-08-22 2017-06-01 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体
JP6334000B2 (ja) * 2014-12-16 2018-05-30 富士フイルム株式会社 ３ｄ印刷用活性光線硬化型インクジェットインク組成物、３次元造形方法、及び、３ｄ印刷用活性光線硬化型インクジェットインクセット
US10138159B2 (en) * 2017-03-09 2018-11-27 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers

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