[go: up one dir, main page]

KR102032065B1 - The constant amount dispenser device - Google Patents

The constant amount dispenser device Download PDF

Info

Publication number
KR102032065B1
KR102032065B1 KR1020180140057A KR20180140057A KR102032065B1 KR 102032065 B1 KR102032065 B1 KR 102032065B1 KR 1020180140057 A KR1020180140057 A KR 1020180140057A KR 20180140057 A KR20180140057 A KR 20180140057A KR 102032065 B1 KR102032065 B1 KR 102032065B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
syringe
pipe
flow rate
control valve
solenoid valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020180140057A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
백명신
Original Assignee
주식회사 지오테크놀로지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 지오테크놀로지 filed Critical 주식회사 지오테크놀로지
Priority to KR1020180140057A priority Critical patent/KR102032065B1/en
Priority to CN201910982079.5A priority patent/CN111185347A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102032065B1 publication Critical patent/KR102032065B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1026Valves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B67OPENING, CLOSING OR CLEANING BOTTLES, JARS OR SIMILAR CONTAINERS; LIQUID HANDLING
    • B67DDISPENSING, DELIVERING OR TRANSFERRING LIQUIDS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B67D7/00Apparatus or devices for transferring liquids from bulk storage containers or reservoirs into vehicles or into portable containers, e.g. for retail sale purposes
    • B67D7/02Apparatus or devices for transferring liquids from bulk storage containers or reservoirs into vehicles or into portable containers, e.g. for retail sale purposes for transferring liquids other than fuel or lubricants
    • B67D7/0238Apparatus or devices for transferring liquids from bulk storage containers or reservoirs into vehicles or into portable containers, e.g. for retail sale purposes for transferring liquids other than fuel or lubricants utilising compressed air or other gas acting directly or indirectly on liquids in storage containers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B67OPENING, CLOSING OR CLEANING BOTTLES, JARS OR SIMILAR CONTAINERS; LIQUID HANDLING
    • B67DDISPENSING, DELIVERING OR TRANSFERRING LIQUIDS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B67D7/00Apparatus or devices for transferring liquids from bulk storage containers or reservoirs into vehicles or into portable containers, e.g. for retail sale purposes
    • B67D7/02Apparatus or devices for transferring liquids from bulk storage containers or reservoirs into vehicles or into portable containers, e.g. for retail sale purposes for transferring liquids other than fuel or lubricants
    • B67D7/0288Container connection means
    • B67D7/0294Combined with valves

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명은 압축 기체원으로부터 공급된 기체를 통해 시린지 내의 액체를 토출시키는 토출 장치로서, 상기 시린지 내의 액체 잔량에 따라 시린지로 공급되는 유량을 조절하는 유량조절수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해, 토출에 따라 감소하는 시린지의 잔여용액에 따라 노즐에 전달되는 압력파가 상이하게 되는 특성을 배관의 면적(개도면적)를 제어하여 잔여용액이 변하더라도 일정한 압력파가 노즐에 전달되어 정량 토출이 구현된다.
또한, 정량 토출 장치를 구성하는 배관 상에 유량조절수단을 하나 이상 배치하여 토출이 반복되어 시린지내의 공간이 점진적으로 커지는 것과 비례하여 유량조절수단의 개도면적을 늘려 토출량이 일정하게 유지될 수 있다.
The present invention is a discharge device for discharging the liquid in the syringe through the gas supplied from the compressed gas source, characterized in that it comprises a flow rate adjusting means for adjusting the flow rate supplied to the syringe in accordance with the remaining liquid in the syringe.
As a result, the pressure wave delivered to the nozzle is different depending on the remaining solution of the syringe, which decreases with discharge, so that a constant pressure wave is transmitted to the nozzle even if the remaining solution changes. Discharge is implemented.
In addition, the discharge amount may be kept constant by increasing the opening area of the flow regulating means in proportion to the gradually increasing the space in the syringe by disposing repeatedly one or more flow rate regulating means on the pipe constituting the metered discharge device.

Figure R1020180140057
Figure R1020180140057

Description

정량 토출 장치{THE CONSTANT AMOUNT DISPENSER DEVICE}Quantitative Discharge Device {THE CONSTANT AMOUNT DISPENSER DEVICE}

본 발명은 정량 토출 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다양한 점도의 액체재료(수지, 도전성접착제, UV 레진, 각종 페이스트)를 정밀하게 정량 토출할 수 있는 디스펜서에 관한 것이다.The present invention relates to a metered discharge device, and more particularly, to a dispenser capable of precisely metered discharge of liquid materials (resin, conductive adhesive, UV resin, various pastes) of various viscosities.

공압용 디스펜서는 주사기 형태의 시린지에 압력을 일정시간 가해 시린지내의 액체를 토출하는 방식으로 구성된다. 일반적인 디스펜서는 외부의 기체원으로부터 유입된 고압의 공기를 2개의 비례제어밸브(레귤레이터)에서 각각 지정한 압력으로 제어하여 토출용 제1배관과 액체 흡입 및 흘림 방지 진공용 제2배관으로 공급하며 이를 전환시키는 전자밸브로 구성된다.The pneumatic dispenser is configured by discharging the liquid in the syringe by applying pressure to the syringe in a predetermined time. The general dispenser controls the high pressure air introduced from the external gas source to the pressure specified by the two proportional control valves (regulators) and supplies it to the first pipe for discharging and the second pipe for liquid suction and anti-spill vacuum. It consists of a solenoid valve.

전자밸브는 평시에는 제2배관을 열어 진공용으로 작동하여 시린지내의 액체가 흡입 및 흘림 방지를 시키며 토출신호가 온 경우 제2배관을 막고 제1배관을 열어 액체를 토출시킨 후 일정시간 후에 배기밸브를 열어 공기를 뺀 후 제1배관을 닫고 다시 제2배관을 열어 진공을 유지시킨다.The solenoid valve normally opens the second pipe and operates for vacuum to prevent the liquid in the syringe from inhaling and spilling.When the discharge signal comes, it blocks the second pipe and opens the first pipe to discharge the liquid. Open the air to release the air, close the first pipe and open the second pipe again to maintain the vacuum.

전술한 바와 같은 토출 공정과 진공 유지 공정을 반복하면 도 1 에서와 같이 시린지 내의 액체가 줄어 시린지내의 공간이 커지면서 공간을 채우는 시간으로 인해 토출량이 점차 감소하여 정량 토출이 이루어지지 못한다는 문제점이 있었다.When the above-described discharging process and the vacuum holding process are repeated, as shown in FIG. 1, the amount of discharge gradually decreases due to the filling time of the space as the liquid in the syringe decreases, thereby increasing the space in the syringe.

이를 해결하고자 하는 종래기술은 비례제어밸브의 압력을 높이거나 전자밸브의 개방시간을 늘려 정량 토출을 구현하고자 하였다.The prior art to solve this problem is to implement a metered discharge by increasing the pressure of the proportional control valve or the opening time of the solenoid valve.

그러나, 비례제어밸브의 압력을 높이는 방식은 공기의 특성상 맥동현상이 심해져 오차비율이 높아지며, 또한 원하는 압력에 도달하는 응답시간이 지연될 경우 원하는 토출량을 맞출 수 없다는 문제점이 있었으며, 전자밸브의 개방시간을 늘려 정량 토출을 하는 방식은 압력제어 보다는 안정성이 높지만 개방시간을 늘린 시점의 토출 오차비율이 상대적으로 높아진다는 문제점이 있었다.However, the method of increasing the pressure of the proportional control valve has a problem in that the pulsation phenomenon becomes severe due to the characteristics of the air, thereby increasing the error rate. Also, if the response time to reach the desired pressure is delayed, the desired discharge amount cannot be matched. The method of quantitative discharging by increasing the stability was higher than the pressure control, but there was a problem that the discharge error ratio at the time of increasing the opening time was relatively high.

대한민국 공개특허공보 제10-2017-0140117호(액체 자동 정량 토출장치)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2017-0140117 (Liquid automatic metering discharge device) 대한민국 등록특허공보 제10-0985754호(감광액 정량 토출 모니터링 시스템)Republic of Korea Patent No. 10-0985754 (Photosensitive Liquid Quantitative Discharge Monitoring System)

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은, 토출에 따라 감소하는 시린지의 잔여용액에 따라 노즐에 전달되는 압력파가 상이하게 되는 특성을 배관의 면적(개도면적)를 제어하여 잔여용액이 변하더라도 일정한 압력파가 노즐에 전달될 수 있도록 하는 정량 토출 장치를 제공하는 데 있다.The present invention was made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an area (opening area) of a pipe in which a pressure wave transmitted to a nozzle is different depending on a residual solution of a syringe which decreases with discharge. It is to provide a fixed-quantity discharging device that can be controlled to deliver a constant pressure wave to the nozzle even if the remaining solution changes.

본 발명의 또 다른 목적은 정량 토출 장치를 구성하는 배관 상에 유량조절수단을 하나 이상 배치하여 토출이 반복되어 시린지내의 공간이 점진적으로 커지는 것과 비례하여 유량조절수단의 개도면적을 늘려 토출량이 일정하게 유지될 수 있는 정량 토출 장치를 제공하는 데 있다.Still another object of the present invention is to arrange at least one flow rate adjusting means on a pipe constituting the metered discharge device so that the discharge is repeated to increase the opening area of the flow rate adjusting means in proportion to the gradually increasing space in the syringe so that the discharge amount is constant. It is to provide a fixed-quantity discharge device that can be maintained.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 압축 기체원으로부터 공급된 기체를 통해 시린지 내의 액체를 토출시키는 토출 장치로서, 상기 시린지 내의 액체 잔량에 따라 시린지로 공급되는 유량을 조절하는 유량조절수단을 포함하는 정량 토출 장치에 의해 달성될 수 있다.The above object is, according to the present invention, a discharge device for discharging a liquid in a syringe through a gas supplied from a compressed gas source, the quantitative amount comprising a flow control means for adjusting the flow rate supplied to the syringe in accordance with the remaining liquid in the syringe It can be achieved by the discharge device.

여기서, 상기 정량 토출 장치는, 압축 기체원; 상기 압축 기체원과 연결되며 상기 시린지로 조정된 압력의 기체의 공급 여부를 결정하는 전자밸브; 상기 압축 기체원과 상기 전자밸브를 연통하는 토출용 제1배관 상에 배치되는 제1비례제어밸브; 상기 압축 기체원과 상기 전자밸브를 연통하는 진공용 제2배관 상에 배치되는 제2비례제어밸브; 상기 전자밸브의 기체 공급을 통해 내부에 충진된 액체를 토출시키는 시린지; 및 상기 압축 기체원, 전자밸브, 제1비례제어밸브, 제2비례제어밸브를 제어하는 제어부; 를 포함하며, 상기 유량조절수단은 상기 정량 토출 장치가 구성하는 배관에 설치되는 유량조절제어 장치로 마련된다.Here, the metered discharge device, the compressed gas source; An solenoid valve connected to the compressed gas source and configured to determine whether to supply gas at a pressure adjusted by the syringe; A first proportional control valve disposed on the discharge first pipe communicating the compressed gas source with the solenoid valve; A second proportional control valve disposed on a second pipe for vacuum in communication with the compressed gas source and the solenoid valve; A syringe for discharging the liquid filled therein through the gas supply of the solenoid valve; And a control unit controlling the compressed gas source, the solenoid valve, the first proportional control valve, and the second proportional control valve. It includes, The flow rate adjusting means is provided as a flow rate control device installed in the pipe constituting the metered discharge device.

또한, 상기 유량조절제어 장치는 상기 제어부의 제어에 따라 설치된 배관의 면적을 가변시키는 유량제어밸브를 포함할 수 있다.In addition, the flow control device may include a flow control valve for varying the area of the pipe installed under the control of the controller.

또한, 상기 유량조절제어 장치는 설치된 배관 내의 맥동현상(surging)을 방지하는 맥동안정화장치를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the flow rate control device may be configured to further include a pulse scavenging device for preventing pulsation (surging) in the installed pipe.

한편, 상기 유량제어밸브는 상기 정량 토출 장치 상에서 복수개로 배치될 수 있다.On the other hand, the flow control valve may be arranged in plurality on the metered discharge device.

여기서, 상기 유량제어밸브는 상기 전자밸브와 시린지를 연결하는 배관 상에 배치되어 상기 제어부의 제어에 의해 상기 시린지 내의 액체 잔량에 반비례하도록 상기 시린지로 공급되는 배관의 면적을 증가시키도록 마련될 수 있다.Here, the flow control valve may be provided on the pipe connecting the solenoid valve and the syringe to increase the area of the pipe supplied to the syringe so as to be inversely proportional to the remaining liquid in the syringe under the control of the controller. .

또한, 상기 유량제어밸브는 상기 제1비례제어밸브와 상기 전자밸브를 연결하는 제1배관 상에 배치될 수 있다.In addition, the flow control valve may be disposed on a first pipe connecting the first proportional control valve and the solenoid valve.

또한, 상기 유량제어밸브는 상기 제2비례제어밸브와 상기 전자밸브를 연결하는 제2배관 상에 배치될 수도 있다.The flow rate control valve may be disposed on a second pipe connecting the second proportional control valve and the solenoid valve.

본 발명에 의해, 토출에 따라 감소하는 시린지의 잔여용액에 따라 노즐에 전달되는 압력파가 상이하게 되는 특성을 배관의 면적(개도면적)를 제어하여 잔여용액이 변하더라도 일정한 압력파가 노즐에 전달되어 정량 토출이 구현된다.According to the present invention, the pressure wave transmitted to the nozzle is different depending on the remaining solution of the syringe which decreases with the discharge, so that the constant pressure wave is transmitted to the nozzle even if the residual solution changes by controlling the area (opening area) of the pipe. Thus, the metered discharge is realized.

또한, 정량 토출 장치를 구성하는 배관 상에 유량조절수단을 하나 이상 배치하여 토출이 반복되어 시린지내의 공간이 점진적으로 커지는 것과 비례하여 유량조절수단의 개도면적을 늘려 토출량이 일정하게 유지될 수 있다.In addition, the discharge amount may be kept constant by increasing the opening area of the flow regulating means in proportion to the gradually increasing the space in the syringe by disposing repeatedly one or more flow regulating means on the pipe constituting the metered discharge device.

도 1 은 토출이 반복됨에 따라 시린지 내부의 액체 잔량에 따라 토출량이 달라지는 현상을 도시한 개략도이며,
도 2 는 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 구성도이며,
도 3 은 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 다른 실시예를 나타낸 구성도이며,
도 4 는 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 또 다른 실시예를 나타낸 구성도이며,
도 5 는 정량 토출을 구현하기 위하여 배관의 개도 면적에 따라 노즐에 전달되는 압력파 및 압력파 평균치의 상관관계를 도시한 그래프이며,
도 6 및 도 7 은 시린지 내의 액체 잔량에 따른 개도 면적 변경 시 얻어지는 응답 압력을 비교한 그래프이다.
1 is a schematic diagram showing a phenomenon in which the discharge amount is changed according to the remaining liquid in the syringe as the discharge is repeated,
2 is a block diagram of a metered discharge device according to the present invention,
3 is a configuration diagram showing another embodiment of the metered discharge device according to the present invention,
4 is a configuration diagram showing still another embodiment of the metered discharge device according to the present invention,
5 is a graph showing the correlation between the pressure wave and the pressure wave average value transmitted to the nozzle according to the opening area of the pipe in order to realize the quantitative discharge,
6 and 7 are graphs comparing the response pressures obtained when the opening area is changed according to the remaining amount of liquid in the syringe.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration of the present invention.

이에 앞서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서에서, 일 구성요소가 다른 구성요소와 "연통된다" 거나 "연결된다" 등으로 언급된 때에는, 상기 일 구성요소가 상기 다른 구성요소와 직접 연통되거나 또는 연결될 수도 있지만, 특별히 반대되는 기재가 존재하지 않는 이상, 중간에 또 다른 구성요소를 매개하여 연통되거나 또는 연결될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.Prior to this, if it is determined that the detailed description of the related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. In addition, in the present specification, when one component is referred to as being “in communication with” or “connected” with another component, or the like, the one component may be in direct communication with or connected to the other component. It is to be understood that unless the substrate exists, it may be in communication or connected via another component in the middle.

즉, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.That is, the terms used in the present specification and claims should not be construed in a dictionary meaning, and on the basis of the principle that the inventors may appropriately define the concept of terms in order to explain their invention in the best way. It should be interpreted as meanings and concepts corresponding to the technical spirit of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configurations shown in the embodiments and drawings described herein are only preferred embodiments of the present invention, and do not represent all of the technical idea of the present invention, and various equivalents may be substituted for them at the time of the present application. It is to be understood that water and variations may exist.

도 2 는 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 구성도이며, 도 3 은 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 다른 실시예를 나타낸 구성도이며, 도 4 는 본 발명에 따른 정량 토출 장치의 또 다른 실시예를 나타낸 구성도이며, 도 5 는 정량 토출을 구현하기 위하여 배관의 개도 면적에 따라 노즐에 전달되는 압력파 및 압력파 평균치의 상관관계를 도시한 그래프이며, 도 6 및 도 7 은 시린지 내의 액체 잔량에 따른 개도 면적 변경 시 얻어지는 응답 압력을 비교한 그래프이다.Figure 2 is a block diagram of a metered discharge device according to the present invention, Figure 3 is a block diagram showing another embodiment of the metered discharge device according to the present invention, Figure 4 is another embodiment of a metered discharge device according to the present invention 5 is a graph showing the correlation between the pressure wave and the pressure wave average value delivered to the nozzle according to the opening area of the pipe in order to realize the quantitative discharge, and FIG. 6 and FIG. 7 show the residual amount of liquid in the syringe. This is a graph comparing the response pressure obtained when the opening area is changed.

도 2 내지 도 4 를 참조하면, 본 발명에 따른 정량 토출 장치(100)는, 압축 기체원(10), 전자밸브(20), 제1, 2비례제어밸브(30, 40), 시린지(50), 임베디드 시스템으로 구성된 제어부(60) 및 유량조절제어 장치(70)를 포함한다. 또한, 유량조절제어 장치(70)의 전, 후단에는 입력압력과 출력압력의 정보를 검출하기 위한 압력센서(미도시)가 배치되며, 밸브와 시린지(50)의 연결 튜브 및 상기 각 구성과 제어부(60)를 전기적으로 연결하는 배선이 설치된다.2 to 4, the metered discharge device 100 according to the present invention includes a compressed gas source 10, a solenoid valve 20, first and second proportional control valves 30 and 40, and a syringe 50. ), The control unit 60 and the flow rate control device 70 configured as an embedded system. In addition, a pressure sensor (not shown) for detecting information of an input pressure and an output pressure is disposed at the front and rear ends of the flow regulating control device 70, the connection tube of the valve and the syringe 50, and the respective components and the control unit. Wiring for electrically connecting the 60 is provided.

여기서, 압축 기체원(10)은 정량 토출 장치(100) 내부로 조압된 기체를 공급하는 구성이며, 전자밸브(20)는 상기 압축 기체원(10)과 연결되며 상기 시린지(50)로 조정된 압력의 기체의 공급 여부를 결정하는 구성으로, 솔레노이드 밸브로 마련되며, 상기 제어부(60)로부터 전달된 전기적 제어 신호에 따라 솔레노이드 밸브를 개폐하여 토출 상태 및 진공 상태(미 토출 상태, 누수 방지)를 전환시키는 역할을 수행한다.Here, the compressed gas source 10 is a configuration for supplying the pressure gas into the metered discharge device 100, the solenoid valve 20 is connected to the compressed gas source 10 and adjusted by the syringe 50 It is configured to determine whether to supply the gas of the pressure, provided with a solenoid valve, opening and closing the solenoid valve in accordance with the electrical control signal transmitted from the control unit 60 to discharge state and vacuum state (not discharge state, leakage prevention) It serves to convert.

상기 제1비례제어밸브(30)는 상기 압축 기체원(10)과 상기 전자밸브(20)를 연통하는 토출용 제1배관 상에 배치되며, 상기 2비례제어밸브(40)는 상기 압축 기체원(10)과 상기 전자밸브(20)를 연통하는 진공용 제2배관 상에 배치되는 구성으로, 작동유체가 시린지(50)의 노즐에서 외부로의 전힘과 균형을 이룰 수 있는 압력을 공급될 수 있도록 하는 역할을 수행한다. 즉, 제1, 2비례제어밸브(30, 40)는 각각 토출 시와 대기 시에 제어부(60)의 제어에 의해 동작하는 구성으로 정량 토출 장치(100)의 시린지(50)의 노즐 및 배관 내부의 제어된 압력을 유지시키는 구성인 것이다.The first proportional control valve 30 is disposed on the discharge first pipe communicating the compressed gas source 10 and the solenoid valve 20, and the second proportional control valve 40 is the compressed gas source. (10) and the configuration disposed on the vacuum second pipe communicating with the solenoid valve 20, the working fluid can be supplied with a pressure to balance the total force from the nozzle of the syringe 50 to the outside It plays the role of making it work. That is, the first and second proportional control valves 30 and 40 operate under the control of the control unit 60 at the time of discharging and waiting, respectively, and the nozzles of the syringe 50 of the metered-discharge device 100 and the pipe interior. It is a configuration to maintain the controlled pressure of.

시린지(50)는 상기 전자밸브(20)의 기체 공급을 통해 내부에 충진된 액체를 토출시키는 구성이며, 제어부(60)는 전술한 각 구성 및 후술할 유량조절제어 장치(70) 및 배기밸브의 구동을 제어한다.Syringe 50 is a configuration for discharging the liquid filled therein through the gas supply of the solenoid valve 20, the control unit 60 of each of the above-described configuration and flow rate control device 70 and exhaust valve to be described later Control the drive.

여기서, 도 2 내지 도 4에 도시된 배기밸브 및 진공배기는 대기 시(미토출 시) 시린지(50) 내부의 용액이 외부로 누수되지 않도록 시린지(50)와 연결된 배관 및 튜브에 진공압을 인가하도록 마련된다.Here, the exhaust valve and the vacuum exhauster shown in FIGS. 2 to 4 apply a vacuum pressure to a pipe and a tube connected to the syringe 50 so that the solution inside the syringe 50 does not leak to the outside during standby (not discharged). To be prepared.

유량조절제어 장치(70)는 본 발명의 특징적 구성으로, 정량 토출 장치(100)가 구성하는 배관에 설치되며, 입력된 압력과 압력 인가 시간에 의해 토출 시 시린지(50) 내부에 충진된 액체 잔량 변화에 따른 노즐에 전달되는 압력파의 특성이 기 입력된 메모리부(미도시)와 배관의 면적(개도)를 조절함으로써 공급된 압축공기의 유동 면적을 조절하는 유량제어밸브(72)를 포함하여 구성될 수 있다.Flow control device 70 is a characteristic configuration of the present invention, is installed in the pipe constituting the metered discharge device 100, the remaining amount of liquid filled in the syringe 50 at the time of discharge by the input pressure and pressure application time Including a flow control valve 72 for adjusting the flow area of the supplied compressed air by adjusting the memory portion (not shown) and the area (opening degree) of the pipe, the characteristics of the pressure wave transmitted to the nozzle according to the change Can be configured.

구체적으로, 상기 유량제어밸브(72)는 토출에 의하여 잔여용액이 감소함에 따라 유량제어밸브(72)가 압축공기가 흐르는 배관의 유동면적을 제어, 즉 유량 유동 면적을 조절함으로써 감소된 잔여용액 만큼의 압력 보정값이 적용됨으로써 균일한 액적 토출을 구현할 수 있는 것이다.Specifically, the flow rate control valve 72 controls the flow area of the pipe through which the compressed air flows through the flow rate control valve 72 as the residual solution decreases by discharging, i.e., by adjusting the flow rate flow area. By applying the pressure correction value of the uniform discharge can be implemented.

이러한 유동면적 제어의 개념은 도 5 내지 도 7에서와 같이, 유량제어밸브가 관로의 개도율

Figure 112018113323411-pat00001
를 조절함에 따라 노즐에 전달되는 압력파가 다르게 나타나는 현상을 기반으로 설계되었다. 즉, 잔여용액과 평균압력의 관계는 같은 인가압력에서 잔여용액
Figure 112018113323411-pat00002
가 증가할수록 평균압력 Pavg가 증가하고, 관의 개도율이 증가할수록 노즐에 전달되는 압력파의 평균압력이 증가하게 되는 유체역학적 특성을 가진다. 이러한 특성을 이용하여 잔여용액에 상관없이 노즐에서 일정한 평균압력을 구현할 수 있는 각각의 잔여용액에 따른 밸브 개도율 값
Figure 112018113323411-pat00003
를 구현할 수 있도록 하는 입력값과 그에 따른 유량제어밸브(72)의 동작을 제어함으로써 정량 토출이 구현된다.The concept of the control of the flow area is as shown in Figs.
Figure 112018113323411-pat00001
It is designed based on the phenomenon that the pressure wave delivered to the nozzle is different from each other. In other words, the relationship between the residual solution and the average pressure is the residual solution at the same applied pressure.
Figure 112018113323411-pat00002
The average pressure P avg increases as the value increases, and the average pressure of the pressure wave transmitted to the nozzle increases as the opening degree of the pipe increases. Using this characteristic, the valve opening rate value according to each remaining solution that can realize a constant average pressure at the nozzle regardless of the remaining solution.
Figure 112018113323411-pat00003
Quantitative discharge is implemented by controlling the input value and thus the operation of the flow control valve 72 to implement the.

상기 유량제어밸브(72)의 동작 과정은 후술하는 바와 같다.Operation of the flow control valve 72 is as described later.

먼저, 설정된 토출압력/진공압력으로 제1, 2비례제어밸브(30, 40)를 제어하고 제어부(60) 또는 외부 장치(컨트롤러 또는 로봇 등)에서 토출신호를 받으면 설정된 전자밸브(20)가 설정시간 동안 개방하여 시린지(50) 내의 액체를 토출하고 전자밸브(20)를 닫기전에 배기밸브를 통해 공기를 빼 준 후 진공으로 배관의 상태를 유지한다. 이때 유량제어밸브(72)는 미리 설정된 면적으로 공기를 통과시키고 있으며, 토출이 진행되면서 시린지(50) 내의 액체가 줄면 액체의 흡입 및 흘림 방지를 위해 진공압력을 액체량과 비례적으로 감소시켜 준다. 이와 동시에 유량제어밸브(72)의 면적도 액체량과 반비례적으로 늘려주어 정량 토출을 구현하는 것이다.First, when the first and second proportional control valves 30 and 40 are controlled by the set discharge pressure / vacuum pressure, and the discharge signal is received from the controller 60 or an external device (controller or robot, etc.), the set solenoid valve 20 is set. After opening for a period of time to discharge the liquid in the syringe 50, and before closing the solenoid valve 20, the air through the exhaust valve to maintain the state of the pipe by vacuum. At this time, the flow control valve 72 passes air through a predetermined area, and if the liquid in the syringe 50 decreases as the discharge proceeds, the vacuum pressure is reduced in proportion to the amount of liquid to prevent the intake and spillage of the liquid. . At the same time, the area of the flow control valve 72 is also increased in inverse proportion to the amount of liquid to implement the quantitative discharge.

여기서, 유량제어밸브(72)의 개도율(η) 제어는 시린지의 액체용량(α)이 100%일 때 개도율은 최소값(η min)이 되며, 액체용량이 0%일 때 개도율이 최대값(η max)이 되도록 설정한다. 개도율이 고정되어 있으면, 액체 토출이 진행되면서 액체용량이 100%에서 0%로 줄어드는 과정에서는 시린지에 인가되는 압력파의 평균값이 작아진다. 따라서 전자밸브(20) 후단에 설치된 압력센서의 평균압력값(P avg )을 바탕으로 유량제어밸브(72)의 개도율을 다음과 같은 보정식으로 보정하여 적용한다. Here, in the control of the opening rate η of the flow control valve 72, the opening rate becomes the minimum value η min when the liquid volume α of the syringe is 100%, and the opening rate is maximum when the liquid volume is 0%. Set to be the value η max . If the opening degree is fixed, the average value of the pressure waves applied to the syringe becomes small in the process of decreasing the liquid volume from 100% to 0% as the liquid discharge proceeds. Therefore, based on the average pressure value P avg of the pressure sensor installed at the rear end of the solenoid valve 20, the opening ratio of the flow control valve 72 is corrected and applied as follows.

Figure 112018113323411-pat00004
Figure 112018113323411-pat00004

전술한 바와 같은 유량제어밸브(72)는 도 2 에서와 같이, 단독으로 구성될 수 있으며, 이 때 유량제어밸브(72a)는 상기 전자밸브(20)와 시린지(50)를 연결하는 배관 상에 배치되어 상기 제어부(60)의 제어에 의해 상기 시린지(50) 내의 액체 잔량에 반비례하도록 상기 시린지(50)로 공급되는 배관의 면적을 증가시키도록 마련될 수 있다.As described above, the flow control valve 72 may be configured alone, as shown in FIG. 2, wherein the flow control valve 72a is provided on a pipe connecting the solenoid valve 20 and the syringe 50. It may be arranged to increase the area of the pipe supplied to the syringe 50 to be inversely proportional to the remaining liquid in the syringe 50 under the control of the controller 60.

또한, 유량제어밸브(72)는 정량 토출 장치(100) 상에서 복수개 배치될 수도 있으며, 도 3 에서와 같이, 상기 전자밸브(20)와 시린지(50)를 연결하는 배관 상에 배치되는 유량제어밸브(72a) 및 상기 제1비례제어밸브(30)와 상기 전자밸브(20)를 연결하는 제1배관 상에 배치되는 유량제어밸브(72b)로서 유량조절제어 장치(70)가 구성될 수도 있다.In addition, a plurality of flow control valves 72 may be disposed on the metered discharge device 100, and as shown in FIG. 3, a flow control valve disposed on a pipe connecting the solenoid valve 20 and the syringe 50. The flow rate control device 70 may be configured as the flow rate control valve 72b disposed on the 72a and the first piping connecting the first proportional control valve 30 to the solenoid valve 20.

이 경우, 유량제어밸브(72b)에는 설치된 배관 내의 맥동현상(surging)을 방지하는 맥동안정화장치(74)가 부가될 수 있으며, 상측의 유량제어밸브(72a)에서는 마이크로적인 유량 면적 제어를 담당하고 하측의 유량제어밸브(72b)에서는 매크로적인 유량 면적 제어를 담당하여 더욱 정밀한 유량 면적 제어를 통한 정량 토출을 구현할 수 있다. 여기서, 상기 맥동안정화장치(74)는 압축 기체원(10)으로부터 공급된 압축 공기의 압력이 각종 밸브의 개폐에 의해 급격하게 변동되는 것을 방지하기 위한 각종 수단으로 마련될 수 있으며, 맥동안정화장치(74)가 설치되는 위치의 해당 유량제어밸브(72b)의 내부 용량을 증대시키는 형태로도 구현될 수 있다.In this case, the pulse control device 74 may be added to the flow control valve 72b to prevent pulsation in the installed pipe, and the flow control valve 72a on the upper side is responsible for micro flow area control. The lower flow control valve 72b is responsible for macroscopic flow area control to implement quantitative discharge through more precise flow area control. Here, the pulse purifier 74 may be provided with various means for preventing the pressure of the compressed air supplied from the compressed gas source 10 from being rapidly changed by opening and closing of various valves. It may also be implemented in the form of increasing the internal capacity of the flow control valve 72b of the position where the 74 is installed.

또한, 도 4 에서와 같이, 상기 전자밸브(20)와 시린지(50)를 연결하는 배관 상에 배치되는 유량제어밸브(72a) 및 상기 제1비례제어밸브(30)와 상기 전자밸브(20)를 연결하는 제1배관 상에 배치되는 유량제어밸브(72b) 및 상기 제2비례제어밸브(40)와 상기 전자밸브(20)를 연결하는 제2배관 상에 배치되는 유량제어밸브(72c)로서 유량조절제어 장치(70)가 구성될 수도 있다.In addition, as shown in FIG. 4, the flow control valve 72a and the first proportional control valve 30 and the solenoid valve 20 are disposed on a pipe connecting the solenoid valve 20 and the syringe 50. As a flow control valve 72b disposed on the first pipe for connecting the second proportional control valve 40 and the second pipe connecting the solenoid valve 20 with the second proportional control valve 40. The flow rate control device 70 may be configured.

이 경우에도, 유량제어밸브(72b, 72c)에는 설치된 배관 내의 맥동현상(surging)을 방지하는 맥동안정화장치(74)가 부가될 수 있으며, 이의 역할은 전술한 바와 같지만 상측 맥동안정화장치는 토출 시의 배관 내의 맥동을 안정화시키고 하측 맥동안정화장치는 대기 시의 배관 내의 맥동을 안정화시키도록 기능한다.Even in this case, the pulse control device 74 may be added to the flow control valves 72b and 72c to prevent pulsation in the installed pipe, and the role thereof is as described above, but the upper pulse control device is discharged. To stabilize the pulsation in the pipe and the lower pulsation purifier function to stabilize the pulsation in the pipe during standby.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 정량 토출 장치는, 토출에 따라 감소하는 시린지의 잔여용액에 따라 노즐에 전달되는 압력파가 상이하게 되는 특성을 배관의 면적(개도면적)를 제어하여 잔여용액이 변하더라도 일정한 압력파가 노즐에 전달되어 정량 토출이 구현된다.As described above, the fixed-quantity ejection apparatus according to the present invention controls the area (opening area) of the pipe so that the pressure wave transmitted to the nozzle is different depending on the remaining solution of the syringe which decreases with the discharge. Even if it changes, a constant pressure wave is transmitted to the nozzle to achieve a fixed quantity discharge.

또한, 정량 토출 장치를 구성하는 배관 상에 유량조절수단을 하나 이상 배치하여 토출이 반복되어 시린지내의 공간이 점진적으로 커지는 것과 비례하여 유량조절수단의 개도면적을 늘려 토출량이 일정하게 유지될 수 있다.In addition, the discharge amount may be kept constant by increasing the opening area of the flow regulating means in proportion to the gradually increasing the space in the syringe by disposing repeatedly one or more flow regulating means on the pipe constituting the metered discharge device.

이상, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명의 기술적 사상은 이러한 것에 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해, 본 발명의 기술적 사상과 하기 될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 실시가 가능할 것이다.As mentioned above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the technical idea of the present invention is not limited thereto, and a person having ordinary skill in the art to which the present invention pertains, Various modifications and variations may be made without departing from the scope of the appended claims.

100 : 정량 토출 장치
10 : 압축 기체원
20 : 전자밸브
30 : 제1비례제어밸브
40 : 제2비례제어밸브
50 : 시린지
60 : 제어부
70 : 유량조절제어 장치
72, 72a, 72b, 72c : 유량제어밸브 74 : 맥동안정화장치
100: metering discharge device
10: compressed gas source
20: solenoid valve
30: first proportional control valve
40: second proportional control valve
50: syringe
60: control unit
70 flow control device
72, 72a, 72b, 72c: flow control valve 74: pulse purifier

Claims (8)

압축 기체원으로부터 공급된 기체를 통해 시린지 내의 액체를 토출시키는 토출 장치로서,
상기 시린지 내의 액체 잔량에 따라 시린지로 공급되는 유량을 조절하며, 정량 토출 장치가 구성하는 배관에 설치되는 유량조절제어 장치로 마련되는 유량조절수단;
압축 기체원;
상기 압축 기체원과 연결되며 상기 시린지로 조정된 압력의 기체의 공급 여부를 결정하는 전자밸브;
상기 압축 기체원과 상기 전자밸브를 연통하는 토출용 제1배관 상에 배치되는 제1비례제어밸브;
상기 압축 기체원과 상기 전자밸브를 연통하는 진공용 제2배관 상에 배치되는 제2비례제어밸브;
상기 전자밸브의 기체 공급을 통해 내부에 충진된 액체를 토출시키는 시린지; 및
상기 압축 기체원, 전자밸브, 제1비례제어밸브, 제2비례제어밸브를 제어하는 제어부; 를 포함하며,
상기 유량조절제어 장치는 상기 제어부의 제어에 따라 설치된 배관의 면적을 가변시키는 유량제어밸브를 포함하며,
상기 유량제어밸브는 2개로 마련되며, 상기 유량제어밸브 중 하나는 상기 전자밸브와 시린지를 연결하는 배관 상에 마이크로적인 유량 면적 제어를 위해 배치되어 상기 제어부의 제어에 의해 상기 시린지 내의 액체 잔량에 반비례하도록 상기 시린지로 공급되는 배관의 면적을 증가시키며, 상기 유량제어밸브 중 다른 하나는 상기 제1비례제어밸브와 상기 전자밸브를 연결하는 제1배관 상에 매크로적인 유량 면적 제어를 위해 배치되어 상기 제어부의 제어에 의해 상기 시린지 내의 액체 잔량에 반비례하도록 상기 제1배관의 면적을 증가시키는 것을 특징으로 하는
정량 토출 장치.
An ejection apparatus for ejecting a liquid in a syringe through a gas supplied from a compressed gas source,
A flow rate adjusting means for adjusting a flow rate supplied to the syringe according to the remaining amount of the liquid in the syringe, the flow rate adjusting means being provided in a flow rate control device installed in a pipe constituted by the metered discharge device;
Compressed gas source;
An solenoid valve connected to the compressed gas source and configured to determine whether to supply gas at a pressure adjusted by the syringe;
A first proportional control valve disposed on the discharge first pipe communicating the compressed gas source with the solenoid valve;
A second proportional control valve disposed on a second vacuum pipe for communicating the compressed gas source and the solenoid valve;
A syringe for discharging the liquid filled therein through the gas supply of the solenoid valve; And
A control unit controlling the compressed gas source, the solenoid valve, the first proportional control valve, and the second proportional control valve; Including;
The flow rate control device includes a flow rate control valve for varying the area of the pipe installed under the control of the controller,
The flow control valve is provided in two, one of the flow control valve is disposed for the micro flow rate control on the pipe connecting the solenoid valve and the syringe is inversely proportional to the remaining liquid in the syringe by the control of the controller Increase the area of the pipe to be supplied to the syringe, and the other one of the flow control valve is disposed for macro flow rate control on the first pipe connecting the first proportional control valve and the solenoid valve the control unit Characterized in that to increase the area of the first pipe to be inversely proportional to the remaining liquid in the syringe.
Metered discharge device.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 유량조절제어 장치는 설치된 배관 내의 맥동현상(surging)을 방지하는 맥동안정화장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정량 토출 장치.
The method of claim 1,
The flow rate control device further comprises a pulse cleaning device for preventing pulsation (surging) in the installed pipe.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020180140057A 2018-11-14 2018-11-14 The constant amount dispenser device Active KR102032065B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180140057A KR102032065B1 (en) 2018-11-14 2018-11-14 The constant amount dispenser device
CN201910982079.5A CN111185347A (en) 2018-11-14 2019-10-16 Quantitative discharge device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180140057A KR102032065B1 (en) 2018-11-14 2018-11-14 The constant amount dispenser device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102032065B1 true KR102032065B1 (en) 2019-11-08

Family

ID=68542085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180140057A Active KR102032065B1 (en) 2018-11-14 2018-11-14 The constant amount dispenser device

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102032065B1 (en)
CN (1) CN111185347A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210136797A (en) 2020-05-07 2021-11-17 (주)우원티씨에스 Syringe pump for quantitative dispensing, coating solution supply method and syringe pump cleaning method
KR20220000521A (en) * 2020-06-26 2022-01-04 주식회사 지오테크놀로지 Dispenser and method for delivering micro-fixed quantity according to liquid level in syringe
KR20220107612A (en) 2021-01-25 2022-08-02 윤여록 Wine dispenser using nitrogen extrusion
KR102681799B1 (en) * 2024-04-25 2024-07-05 허수영 Liquid dispensing system

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102400123B1 (en) * 2020-08-21 2022-05-19 주식회사 지오테크놀로지 Dispenser and method for precision calculating liquid level in syringe

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3028596B2 (en) * 1990-11-22 2000-04-04 松下電器産業株式会社 Adhesive application method and adhesive application device
KR20040002869A (en) * 2001-03-27 2004-01-07 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 Droplets forming method and device for discharging constant-volume droplets
KR20040082323A (en) * 2003-03-18 2004-09-24 헤이신 소비 가부시키가이샤 Material supply system
KR100985754B1 (en) 2008-11-21 2010-10-06 (주)저스틴비디앤엘 Photosensitive Liquid Quantitative Discharge Monitoring System
US8136707B2 (en) * 2003-10-06 2012-03-20 Nordson Corporation Compensating pressure controller for fluid dispenser and method
KR20170140117A (en) 2016-06-10 2017-12-20 (주)화소 Quantified vent apparatus

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63296863A (en) * 1987-05-29 1988-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Viscous fluid coating apparatus
CN1431134A (en) * 2002-01-11 2003-07-23 英业达股份有限公司 Quantitative dispensing device
US8464902B2 (en) * 2009-01-09 2013-06-18 Nordson Corporation Apparatus and method for pulsed dispensing of liquid
CN202807190U (en) * 2012-10-11 2013-03-20 龙岩烟草工业有限责任公司 Full-automatic oiling device of aluminized paper of packing machine
CN203725295U (en) * 2013-01-10 2014-07-23 日本电产增成株式会社 Liquor spitting device
CN206731461U (en) * 2017-03-04 2017-12-12 蔡婷婷 Dispensing controller
CN108480150A (en) * 2018-03-16 2018-09-04 中山大学 Into adhesive dispenser, into the gentle hydraulic control tubing giving sufficient strength system of gluing method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3028596B2 (en) * 1990-11-22 2000-04-04 松下電器産業株式会社 Adhesive application method and adhesive application device
KR20040002869A (en) * 2001-03-27 2004-01-07 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 Droplets forming method and device for discharging constant-volume droplets
KR20040082323A (en) * 2003-03-18 2004-09-24 헤이신 소비 가부시키가이샤 Material supply system
US8136707B2 (en) * 2003-10-06 2012-03-20 Nordson Corporation Compensating pressure controller for fluid dispenser and method
KR100985754B1 (en) 2008-11-21 2010-10-06 (주)저스틴비디앤엘 Photosensitive Liquid Quantitative Discharge Monitoring System
KR20170140117A (en) 2016-06-10 2017-12-20 (주)화소 Quantified vent apparatus

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210136797A (en) 2020-05-07 2021-11-17 (주)우원티씨에스 Syringe pump for quantitative dispensing, coating solution supply method and syringe pump cleaning method
KR20220000521A (en) * 2020-06-26 2022-01-04 주식회사 지오테크놀로지 Dispenser and method for delivering micro-fixed quantity according to liquid level in syringe
KR102356550B1 (en) 2020-06-26 2022-01-27 주식회사 지오테크놀로지 Dispenser and method for delivering micro-fixed quantity according to liquid level in syringe
KR20220107612A (en) 2021-01-25 2022-08-02 윤여록 Wine dispenser using nitrogen extrusion
KR102681799B1 (en) * 2024-04-25 2024-07-05 허수영 Liquid dispensing system

Also Published As

Publication number Publication date
CN111185347A (en) 2020-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102032065B1 (en) The constant amount dispenser device
US7527768B2 (en) Liquid dispenser with vacuum control
CN107921467B (en) Liquid material discharge device
CN103269804B (en) Pneumatic liquid dispensing apparatus and method
JP4392474B2 (en) Material supply system
US9834391B2 (en) Powder feeding device, in particular for coating powder
KR20120036347A (en) Device and method for discharging constant amount of high-viscosity material
CN110325286B (en) Dense phase powder pump
KR101132118B1 (en) Chemical liguid supply system
CN106999966A (en) Fluid dispensing system with improved Stress control
JP4848201B2 (en) Actuation of a pneumatic device for the quantitative supply of liquid and a pneumatic device
KR102270149B1 (en) Coating apparatus and coating method
JPH11244757A (en) Liquid discharging device
JP2006026546A (en) Treating liquid supply system
JPH10288160A (en) Flow rate control system of double acting diaphragm pump
JPS63236559A (en) Liquid emitting apparatus
JPH1024263A (en) Dispensing device
JP2004105968A (en) Liquid discharging device
TWM552845U (en) Pressure-compensation-controlled feeding system
WO2024142631A1 (en) Liquid ejection device
HK40028401A (en) Liquid material discharge device
HK40028401B (en) Liquid material discharge device
JP2016087601A (en) Coating device and coating method
HK1107303B (en) Device for discharging fixed quantity of liquid

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20181114

PA0201 Request for examination
PA0302 Request for accelerated examination

Patent event date: 20190716

Patent event code: PA03022R01D

Comment text: Request for Accelerated Examination

Patent event date: 20181114

Patent event code: PA03021R01I

Comment text: Patent Application

PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20190801

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20191007

PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20191007

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20191007

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220901

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee