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KR102033083B1 - Semiconductor stocker systems and methods - Google Patents

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KR102033083B1
KR102033083B1 KR1020187029609A KR20187029609A KR102033083B1 KR 102033083 B1 KR102033083 B1 KR 102033083B1 KR 1020187029609 A KR1020187029609 A KR 1020187029609A KR 20187029609 A KR20187029609 A KR 20187029609A KR 102033083 B1 KR102033083 B1 KR 102033083B1
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KR
South Korea
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stocker
workpiece
container
station
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루츠 렙슈토크
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다이나믹 마이크로시스템즈 세미컨덕터 이큅먼트 게엠베하
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Publication date
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Abstract

일 실시예에서, 본 발명은 극자외선(EUV) 레티클 캐리어들과 같은 고레벨 청정도 제품들에 대한 클리닝된 스토리지 프로세스들 및 시스템들을 개시한다. 오염제거 챔버가 보관된 워크피스들을 클리닝하기 위해 사용될 수 있다. 퍼지 가스 시스템이 워크피스들내에 보관된 제품들의 오염을 방지하기 위해 사용될 수 있다. 로봇이 워크피스들을 전달하기 이전에 스토리지 격실의 상태를 검출하기 위해 사용될 수 있다. 모니터 디바이스가 스토커의 상태들을 모니터링하기 위해 사용될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses cleaned storage processes and systems for high level cleanliness products, such as extreme ultraviolet (EUV) reticle carriers. A decontamination chamber can be used to clean the stored workpieces. A purge gas system can be used to prevent contamination of the products stored in the workpieces. The robot can be used to detect the state of the storage compartment prior to delivering the workpieces. A monitor device can be used to monitor the status of the stocker.

Description

반도체 스토커 시스템들 및 방법들{SEMICONDUCTOR STOCKER SYSTEMS AND METHODS}Semiconductor Stocker Systems and Methods {SEMICONDUCTOR STOCKER SYSTEMS AND METHODS}

본 출원은 2011년 6월 28일자로 출원되고 "Semiconductor stocker systems and methods"이란 명칭의 미국 가특허 출원 일련번호 61/501,792호를 우선권으로 주장하며, 이는 인용에 의해 본원에 포함된다.This application claims priority to US Provisional Patent Application Serial No. 61 / 501,792, filed June 28, 2011 and entitled “Semiconductor stocker systems and methods”, which is incorporated herein by reference.

본 발명은 반도체 제조 산업에서 사용되는 웨이퍼 또는 레티클 캐리어들과 같은, 워크피스들 또는 워크피스 컨테이너들을 보관하는 장치들 및 방법들에 관한 것이다.The present invention relates to apparatuses and methods for storing workpieces or workpiece containers, such as wafer or reticle carriers used in the semiconductor manufacturing industry.

스토커들(stokers)은 일반적으로 웨이퍼들, 플랫 패널 디스플레이들, LCD, 포토리소그래피 레티클들, 또는 마스크들과 같은 워크피스들을 임시로 보관하기 위해 반도체 설비내에 설치된다. 반도체 디바이스들, LCD 패널들 등을 제조하는 프로세스에서는, 수백 개의 프로세싱 장비들 및 그에 따른 수백개의 제조 단계들이 존재한다. 웨이퍼들, 플랫 패널들, 또는 LCD들(이하, 워크피스)의 흐름이 단계 마다, 툴 마다 균일하게 하는 것은 매우 어렵다. 최상의 플래너들에도 불구하고, 툴 다운(tool down), 이머전시 로트 커밍 쓰루(lot coming through), 계획된 것 보다 길게 지속되는 정기적 정비와 같은 예상치 못한 시나리오가 항상 존재하며, 이에 따라 특정한 툴들에 대한 특정한 단계들에서 워크피스들의 다양한 누적들이 존재한다. 누적된 워크피스들은 스토리지 스토커에 보관되어, 프로세싱을 대기할 필요가 있다.Stokers are typically installed in a semiconductor facility to temporarily store workpieces such as wafers, flat panel displays, LCDs, photolithography reticles, or masks. In the process of manufacturing semiconductor devices, LCD panels, and the like, there are hundreds of processing equipment and therefore hundreds of manufacturing steps. It is very difficult for the flow of wafers, flat panels, or LCDs (hereinafter, workpiece) to be uniform from step to step, from tool to tool. Despite the best planners, there are always unexpected scenarios such as tool down, emergency lot coming through, and regular maintenance that lasts longer than planned, so there are specific tools for specific tools. There are various accumulations of workpieces in the steps. Accumulated workpieces are stored in a storage stocker and need to wait for processing.

예를 들어, 포토리소그래피 프로세스는 다수의 포토리소그래피 마스크들 또는 레티클들(이하, 레티클)을 수반하는, 반도체 제조 설비에서의 중요한 프로세스이다. 따라서, 레티클들은 통상적으로 스토리지 스토커에 보관되고, 필요한 경우에 리소그래피 노광 장비로 회수된다.For example, a photolithography process is an important process in a semiconductor manufacturing facility, involving a number of photolithography masks or reticles (hereinafter reticles). Thus, the reticles are typically stored in a storage stocker and returned to the lithographic exposure equipment as needed.

워크피스들 및 레티클들(이하, 제품들)의 스토리지는 청정도의 요건으로 인해 훨씬 더 복잡하다. 제품들에 대한 손상들은 입자들의 형태의 물리적 손상들 또는 상호작용들의 형태의 화학적 손상들일 수 있다. 반도체 디바이스 프로세싱의 임계 치수가 0.1 미크론을 넘으면, 0.1 미크론 사이즈의 입자들, 그리고 반응성 종(species)이 제품들에 접근하는 것을 방지할 필요가 있을 것이다. 스토리지 영역들은 통상적으로, 프로세싱 사이에 클리닝을 줄이는 것(less)을 보장하기 위해 프로세싱 설비보다 더 클린할 필요가 있을 것이다.Storage of workpieces and reticles (hereinafter products) is much more complicated due to the requirement of cleanliness. Damages to the products can be physical damages in the form of particles or chemical damages in the form of interactions. If the critical dimension of semiconductor device processing exceeds 0.1 micron, it will be necessary to prevent particles of 0.1 micron size, and reactive species from accessing the products. Storage areas will typically need to be cleaner than processing facilities to ensure less cleaning between processing.

따라서, 스토커 스토리지 영역들은 통상적으로, 바람직하게는 일정한 퍼징(purging), 그리고 가능성있는 화학 반응들을 방지하기 위한 불활성 가스 흐름이 있어도, 외부 환경으로부터 밀봉되도록 설계된다. 스토리지 영역들로의 액세스는 클린 스토리지 환경과 외부 환경 사이의 격리를 보장하기 위해 로드―록(load―lock)된다.Thus, stocker storage areas are typically designed to be sealed from the external environment, even with constant purging and inert gas flow to prevent possible chemical reactions. Access to the storage areas is load-locked to ensure isolation between the clean storage environment and the external environment.

반도체 디바이스들 및 프로세싱에서의 진보들로, 현대의 반도체 공장들에서 청정도에 대한 요건들, 예를 들어, 스토리지 스토커들에서 청정도에 대한 강화된 요건들이 제기되었다.Advances in semiconductor devices and processing have raised requirements for cleanliness in modern semiconductor factories, such as enhanced requirements for cleanliness in storage stockers.

일 실시예에서, 본 발명은 극자외선(EUV) 레티클 캐리어들과 같은, 고레벨 청정도 제품들에 대한 클리닝된 스토리지 프로세스들 및 시스템들을 개시한다. 오염제거 챔버는 보관된 워크피스들을 클리닝하기 위해 사용될 수 있다. 퍼지 가스 시스템은 워크피스들내에 보관된 제품들의 오염을 방지하기 위해 사용될 수 있다. 로봇은 워크피스들을 전달하기 이전에 스토리지 격실(compartment)의 상태를 검출하기 위해 사용될 수 있다. 모니터 디바이스는 스토커의 상태들을 모니터링하기 위해 사용될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses cleaned storage processes and systems for high level cleanliness products, such as extreme ultraviolet (EUV) reticle carriers. The decontamination chamber can be used to clean the stored workpieces. The purge gas system can be used to prevent contamination of the products stored in the workpieces. The robot can be used to detect the state of the storage compartment before delivering the workpieces. The monitor device can be used to monitor the status of the stocker.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 스토커 시스템의 구성들을 예시한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 프로세스의 일례를 예시한다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 시스템에 대한 상이한 구성들을 예시한다.
도 4a 및 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 오브젝트들을 오염제거하는 플로우차트들을 예시한다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 오브젝트들을 오염제거하는 다른 플로우차트들을 예시한다.
도 6a 내지 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 스토커에서 오브젝트들을 오염제거하는 플로우차트들을 예시한다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른, 다수의 스토리지 격실들을 포함하는 스토리지 챔버를 예시한다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼징된 가스 스토리지 격실들을 사용하는 스토커 시스템을 예시한다.
도 9a 내지 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼지 가스 격실들을 사용하여 오브젝트들을 보관하기 위한 플로우차트들을 예시한다.
도 10a 내지 도 10e는 본 발명의 일 실시예에 따른, 흐름 센서를 갖는 로봇 암을 예시한다.
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 그리퍼 암들 상의 센서 구성들을 예시한다.
도 12a 내지 도 12d는 본 발명의 일 실시예에 따른, 흐름 검출 시퀀스를 예시한다.
도 13a 및 13b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오브젝트들을 배치하기 이전에 퍼지 가스 흐름을 감지하기 위한 플로우차트들을 예시한다.
도 14a는 본 발명의 일 실시예에 따른, 모니터 캐리어를 예시한다.
도 14b는 스토커에서 모니터 캐리어의 이동들을 예시한다.
도 15a 내지 15c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 모니터 캐리어로부터 데이터를 수집하기 위한 플로우차트들을 예시한다.
도 16a는 본 발명의 일 실시예에 따른, 데이터 수집 스테이션을 포함하는 시스템을 예시한다.
도 16b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 데이터 수집 스테이션에 대한 플로우차트를 예시한다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른, 오버헤드 및 수동 로딩 스테이션들에 대한 예시적인 구성을 예시한다.
도 18a 및 18b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오버헤드 로딩 스테이션들에 액세스하는 예시적인 플로우차트들을 예시한다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼지 노즐들을 갖는 예시적인 이송 및/또는 스토리지 스테이션을 예시한다.
도 20은 EUV 레티클 캐리어의 구성을 예시한다.
1A and 1B illustrate configurations of a stocker system, in accordance with an embodiment of the present invention.
2A and 2B illustrate an example of a decontamination process, in accordance with one embodiment of the present invention.
3A and 3B illustrate different configurations for a decontamination system, according to one embodiment of the invention.
4A and 4B illustrate flowcharts for decontaminating objects using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention.
5A and 5B illustrate other flowcharts for decontaminating objects using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention.
6A-6C illustrate flowcharts for decontaminating objects in a stocker using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention.
7 illustrates a storage chamber including a plurality of storage compartments, according to one embodiment of the invention.
8 illustrates a stocker system using purged gas storage compartments, according to one embodiment of the invention.
9A-9C illustrate flowcharts for storing objects using purge gas compartments, according to one embodiment of the invention.
10A-10E illustrate a robotic arm with a flow sensor, in accordance with an embodiment of the present invention.
11A and 11B illustrate sensor configurations on gripper arms, according to one embodiment of the invention.
12A-12D illustrate a flow detection sequence, according to one embodiment of the invention.
13A and 13B illustrate flowcharts for sensing purge gas flow prior to placing objects, according to one embodiment of the invention.
14A illustrates a monitor carrier, in accordance with an embodiment of the present invention.
14B illustrates the movements of the monitor carrier in the stocker.
15A-15C illustrate flowcharts for collecting data from a monitor carrier, in accordance with an embodiment of the present invention.
16A illustrates a system including a data collection station, in accordance with an embodiment of the present invention.
16B illustrates a flowchart for a data collection station, in accordance with an embodiment of the present invention.
17 illustrates an example configuration for overhead and manual loading stations, in accordance with an embodiment of the present invention.
18A and 18B illustrate example flowcharts for accessing overhead loading stations, in accordance with an embodiment of the present invention.
19 illustrates an example transfer and / or storage station with purge nozzles, in accordance with an embodiment of the present invention.
20 illustrates the configuration of an EUV reticle carrier.

일부 실시예들에서, 본 발명은 반도체 워크피스 컨테이너들 및 레티클 캐리어들과 같은 오브젝트들의 스토리지를 위한 방법들 및 장치들을 개시한다. 일 실시예에서, 스토리지 프로세스는 보관된 오브젝트들의 내부 볼륨으로의 퍼지 가스를 통한 스토리지를 위한 클린 환경, 그리고 보관된 오브젝트들을 주기적으로 클리닝을 위한 오염제거 챔버를 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses methods and apparatuses for storage of objects such as semiconductor workpiece containers and reticle carriers. In one embodiment, the storage process may include a clean environment for storage through purge gas to the internal volume of stored objects, and a decontamination chamber for periodically cleaning the stored objects.

청정도는 카세트들, FOUP, 홀더들, 캐리어들 등과 같은 반도체 제품들에 대한 중요 요건이다. 클리닝된 스토리지에서, 클린 환경은 수 미크론 내지 서브―미크론 레벨들까지의 범위로 입자들의 감소 및 트레이스 오염물들, 유기, 무기 금속들, 자연 산화물 및 입자상 물질들(particulate matters)의 감소와 같이, 청정도의 레벨을 유지한다.Cleanliness is an important requirement for semiconductor products such as cassettes, FOUPs, holders, carriers and the like. In cleaned storage, the clean environment is clean, such as reduction of particles and reduction of trace contaminants, organic, inorganic metals, natural oxides and particulate matters in the range from several microns to sub-micron levels. To keep the level.

일 실시예에서, 본 발명은 극자외선(EUV) 레티클 캐리어들과 같은 고레벨 청정도 제품들에 대한 클리닝된 스토리지 프로세스들 및 시스템들을 개시한다. 아래의 설명은 예시적인 EUV 레티클 캐리어들을 사용하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않고, 적은(low) 입자상 오염들 및 적은 탈기 컴포넌트들과 같은 엄격한 청정도 요건들을 갖는 임의의 오브젝트들에 대해 적용될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses cleaned storage processes and systems for high level cleanliness products, such as extreme ultraviolet (EUV) reticle carriers. The description below uses exemplary EUV reticle carriers, but the invention is not so limited, and may be applied to any objects having stringent cleanliness requirements, such as low particulate contaminations and low degassing components. .

도 20은 보관될 EUV 레티클 캐리어(209)의 구성을 예시한다. EUV 레티클(200)은, 내부 컨테이너와 외부 컨테이너 사이의 공간(207)에 질소를 갖는 것과 함께, 이중―컨테이너 캐리어(209)에 통상적으로 보관된다. 내부 컨테이너는 통상적으로 금속으로 만들어지고, 하부 지지부(202)와 정합되는(mated) 상부 리드(201)를 포함한다. 외부 컨테이너는 통상적으로 저급(low) 탈기 폴리머로 만들어지고, 하부 지지부(204)와 정합되는 상부 리드(203)를 포함한다. 2개의(both) 컨테이너들은 오퍼레이터 또는 자동 이송 시스템에 의한 홀딩을 위한 핸들들을 가질 수 있다. 핸들(205)이 외부 컨테이너의 상부 리드(203)에 대해 도시되어 있다. 외부 컨테이너의 지지부(204)는 레티클 캐리어의 내부 볼륨(207)으로 질소 퍼지를 수용하기 위한 주입구들(inlets)을 가질 수 있다.20 illustrates the configuration of an EUV reticle carrier 209 to be stored. The EUV reticle 200 is typically stored in the double-container carrier 209 along with having nitrogen in the space 207 between the inner container and the outer container. The inner container is typically made of metal and includes an upper lid 201 mated with the lower support 202. The outer container is typically made of a low degassing polymer and includes an upper lid 203 that mates with the lower support 204. Both containers may have handles for holding by an operator or an automatic transport system. The handle 205 is shown for the upper lid 203 of the outer container. The support 204 of the outer container may have inlets for receiving a nitrogen purge into the inner volume 207 of the reticle carrier.

이중 컨테이너 EUV 레티클 캐리어는 반도체 프로세싱을 위한 고레벨 청정도의 일 예이고, 여기서, 레티클은 오염을 방지하기 위해 2개 레벨들의 컨테이너에 보관된다. 또한, 2개의 레벨들 사이의 볼륨은 박테리아 성장을 회피하거나 외부 컨테이너로부터의 탈기 입자들이 내부 컨테이너에 부착하는 것을 방지하기 위해 질소로 퍼지된다. 따라서, 이러한 클리닝된 오브젝트들에 대한 보관 시스템은 원하는 레벨의 청정도를 유지하기 위한 개선된 특징들을 요구한다.The double container EUV reticle carrier is an example of high level cleanliness for semiconductor processing, where the reticle is stored in two levels of containers to prevent contamination. In addition, the volume between the two levels is purged with nitrogen to avoid bacterial growth or to prevent degassed particles from the outer container from adhering to the inner container. Thus, the storage system for these cleaned objects requires improved features to maintain the desired level of cleanliness.

일 실시예에서, 본 발명은 보관된 오브젝트들을 주기적으로 퍼징하고, 클리닝하거나 탈기하기 위한 클리닝 챔버 및 프로세스를 개시한다. 클리닝 챔버는 예를 들어, 스토리지 동안 오브젝트들에 부착되는 임의의 오염물들을 탈기함으로써 보관된 오브젝트의 청정도를 복원할 수 있다. 주기적 클리닝은 임의의 오염을 감소시키거나 제거할 수 있어서, 오브젝트들을 고레벨의 청정도로 다시 복원시킬 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses a cleaning chamber and process for periodically purging, cleaning or degassing stored objects. The cleaning chamber can restore the cleanliness of the stored object, for example, by degassing any contaminants attached to the objects during storage. Periodic cleaning can reduce or eliminate any contamination, thereby restoring objects back to a high level of cleanliness.

일 실시예에서, 클리닝 챔버는 오브젝트들에 대한 오염물들의 탈기를 수행하기 위해 고진공을 이용하는 오염제거 챔버를 포함할 수 있다. 보관될 오브젝트들은 스토리지에 배치되기 전에 오염제거를 거칠 수 있다. 보관된 오브젝트들은 스토커 밖으로 꺼내지기 전에 오염제거될 수 있다. 보관된 오브젝트들은, 특정한 절차들에 후속하여, 예컨대 특정한 시간 이후에, 오브젝트들이 더티해질 때, 또는 스토커에 대한 청정도의 레벨에 관해 몇 가지 문제가 있을 때, 오염제거될 수 있다.In one embodiment, the cleaning chamber may include a decontamination chamber that uses high vacuum to perform degassing of contaminants on the objects. Objects to be archived may be decontaminated before being placed in storage. Archived objects can be decontaminated before being taken out of the stocker. Archived objects may be decontaminated following certain procedures, such as after a certain time, when the objects are dirty, or when there are some problems with the level of cleanness to the stocker.

일 실시예에서, 오염제거 프로세스는 오브젝트들의 표면 또는 서브표면상에 트랩된 임의의 오염물들을 배출(release)하기 위해 예를 들어, 10-6Torr 또는 그 미만의 고진공을 이용한다. 또한, 오브젝트들 내부의 볼륨은 예를 들어, 동일한 고진공 레벨로 배기(evacuate)될 수 있다. 또한, 퍼징 프로세스들이 내부 볼륨에 대해 수행되어, 오브젝트들내의 임의의 미립자들 및 오염물들이 추가로 제거될 수 있다.In one embodiment, the decontamination process uses high vacuum, for example 10 −6 Torr or less, to release any contaminants trapped on the surface or subsurface of the objects. Also, the volume inside the objects can be evacuated to the same high vacuum level, for example. In addition, purging processes may be performed on the internal volume to further remove any particulates and contaminants in the objects.

일 실시예에서, 오브젝트들은 내부 볼륨이 클린 질소로 펌핑되고 그리고/또는 펌핑/퍼징되어, 폐쇄되는 동안 오염제거된다. 다른 실시예에서, 오브젝트들은 개방되는 동안 오염제거되고, 이에 따라 오브젝트들의 모든 부분들은 임의의 트랩된 오염물들을 배출하기 위한 고레벨의 진공으로 처리된다.In one embodiment, the objects are decontaminated while the internal volume is pumped and / or pumped / purged with clean nitrogen. In another embodiment, the objects are decontaminated while opening, so all parts of the objects are treated with a high level vacuum to discharge any trapped contaminants.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 스토커 시스템의 구성들을 예시한다. 스토커는 스토리지 챔버(12), 로딩 및 언로딩 스테이션(18), 및 로딩/언로딩 스테이션(18)과 스토리지 챔버(12) 사이에서 오브젝트들을 이송하기 위한 이송 시스템(16)을 포함할 수 있다. 부가로, 스토커는 보관된 오브젝트들을 클리닝하기 위한 오염제거 챔버(14)를 또한 포함할 수 있다. 오염제거 챔버(14)는 스토리지 챔버(12)의 반대쪽에 위치될 수 있거나(도 1a) 스토리지 챔버(12) 옆에 위치될 수 있다(도 1b). 대안적으로, 오염제거 챔버(14)는 스토커 시스템 내에, 예를 들어, 이송 로봇(16)의 액세스 범위내에(within access), 어디에나 위치될 수 있다.1A and 1B illustrate configurations of a stocker system, in accordance with an embodiment of the present invention. The stocker may include a storage chamber 12, a loading and unloading station 18, and a transport system 16 for transporting objects between the loading / unloading station 18 and the storage chamber 12. In addition, the stocker may also include a decontamination chamber 14 for cleaning the stored objects. Decontamination chamber 14 may be located opposite the storage chamber 12 (FIG. 1A) or may be located next to storage chamber 12 (FIG. 1B). Alternatively, the decontamination chamber 14 may be located anywhere in the stocker system, for example within the access range of the transfer robot 16.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 프로세스의 일례를 예시한다. 오염제거되도록 도시된 오브젝트는 레티클(21)을 보호하는 외부 컨테이너(22B) 및 내부 컨테이너(22A)를 포함하는 이중 컨테이너 레티클 캐리어이다. 오염제거 챔버(20)는 오염제거 챔버(23A)내의 진공을 유지하는 진공 펌프(25), 가압 챔버를 확립하기 위한, 질소 또는 압축 공기와 같은 클린한, 비활성 또는 불활성 가스를 포함하는 가스 퍼지 시스템(26), 오브젝트의 내부 볼륨, 예를 들어, 외부 컨테이너(22B)와 내부 컨테이너(22A) 사이의 볼륨(23B)에 커플링된 하나 또는 그 초과의 매니폴드들(28)을 포함할 수 있다. 매니폴드들(28)은 내부 볼륨을 배기시키는 펌핑 라인(29B) 및 내부 볼륨을 퍼징하는 퍼지 가스(29A)에 커플링된다. 오브젝트 및/또는 오염제거 챔버를 가열하는 히터(24)가 포함될 수 있다. 잔류 가스 분석기(RGA)와 같은 센서가 오브젝트의 오염 레벨들을 모니터링하기 위해 또한 포함될 수 있다.2A and 2B illustrate an example of a decontamination process, in accordance with one embodiment of the present invention. The object shown to be decontaminated is a double container reticle carrier comprising an outer container 22B and an inner container 22A protecting the reticle 21. Decontamination chamber 20 includes a vacuum pump 25 that maintains a vacuum in decontamination chamber 23A, a gas purge system that includes a clean, inert or inert gas, such as nitrogen or compressed air, to establish a pressurized chamber. (26) may include one or more manifolds 28 coupled to an internal volume of the object, eg, volume 23B between outer container 22B and inner container 22A. . Manifolds 28 are coupled to pumping line 29B to exhaust the internal volume and purge gas 29A to purge the internal volume. A heater 24 may be included to heat the object and / or decontamination chamber. Sensors such as residual gas analyzers (RGA) may also be included to monitor the contamination levels of the object.

도 2a에서, 진공 볼륨(23A)은, 펌핑 라인(29B)으로 스위칭하는 매니폴드들(28)에 의해 확립된 오브젝트 내부의 진공 볼륨(23B)과 함께 진공 펌프(25)에 의해, 예를 들어, 셧다운 흐름(26)에 의해 확립된다. 히터(24) 및 RGA(27)는 턴 온될 수 있다. 오염제거를 위한 시간은 사전결정되어 설정될 수 있거나, 센서(27)에 의해 관측된 오염물들의 레벨에 의해 설정될 수 있다. 도 2b에서, 진공 오염제거를 완료한 이후에, 진공은 턴 오프되고, 퍼지 가스(26)가 오염제거 챔버에서 가압 환경(23A*)을 확립하기 위해 턴 온된다. 또한, 매니폴드들(28)은 퍼지 가스(29A)로 스위칭되어 퍼지 가스가 내부 볼륨(23B*)으로 흐른다. 가압 분위기(ambient)는 대기에 오염제거 챔버(20)를 개방하기 이전에, 예를 들어, 오염제거 챔버 외부로 오브젝트를 꺼내기 이전에 확립될 수 있다. 가압 분위기는 오염물들 및 미립자들이 오브젝트 표면으로 다시 트래핑(trapping)되는 것을 방지할 수 있다.In FIG. 2A, the vacuum volume 23A is, for example, by the vacuum pump 25 together with the vacuum volume 23B inside the object established by the manifolds 28 switching to the pumping line 29B. Is established by the shutdown flow 26. Heater 24 and RGA 27 may be turned on. The time for decontamination may be predetermined or set by the level of contaminants observed by the sensor 27. In FIG. 2B, after completing the vacuum decontamination, the vacuum is turned off and the purge gas 26 is turned on to establish the pressurized environment 23A * in the decontamination chamber. In addition, manifolds 28 are switched to purge gas 29A so that purge gas flows to internal volume 23B *. A pressurized atmosphere may be established prior to opening the decontamination chamber 20 to the atmosphere, for example before taking the object out of the decontamination chamber. The pressurized atmosphere can prevent contaminants and particulates from trapping back to the object surface.

일 실시예에서, 진공 오염제거 단계(도 2a) 동안, 매니폴드들(28)은 펌핑과 퍼징 사이에서 순환적으로 스위칭될 수 있어서, 내부 볼륨(23B)을 클리닝하기 위한 펌핑/퍼징 사이클들을 효과적으로 수행한다. In one embodiment, during the vacuum decontamination step (FIG. 2A), the manifolds 28 can be cyclically switched between pumping and purging, thereby effectively pumping / purging cycles for cleaning the internal volume 23B. To perform.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 시스템에 대한 상이한 구성들을 예시한다. 도 3a에서, 외부 컨테이너(22B)는 오염제거 동안 개방된다. 이러한 경우에서, 매니폴드들(28)은, 내부 볼륨이 오염제거 챔버(23)를 통해 펌핑될 수 있기 때문에, 퍼징 라인(29A)에 직접 커플링될 수 있다. 오염제거 프로세스는 이전과 같이 수행되고, 진공은, 히터(24) 및 센서(27)와 함께, 트랩된 오염물들에 대한 탈기 프로세스를 제공한다. 챔버에 대한 퍼지 가스(26) 및 컨테이너에 대한 퍼지 가스(29A)와 같은 퍼지 가스가 셧 오프된다. 오염제거 프로세스의 완료 이후에, 내부 볼륨을 채우는 퍼지 가스(29A)에 부가하여, 가압 분위기를 확립하기 위해 퍼지 가스(26)가 유입될 수 있다. 외부 컨테이너는 완성된 오브젝트가 외부 분위기로 배출되기 이전에, 퍼지 가스(29A)를 갖는 클린 환경상태하에서 폐쇄될 수 있다.3A and 3B illustrate different configurations for a decontamination system, according to one embodiment of the invention. In FIG. 3A, the outer container 22B is opened during decontamination. In such a case, the manifolds 28 may be coupled directly to the purging line 29A since the internal volume may be pumped through the decontamination chamber 23. The decontamination process is performed as before, and the vacuum, together with the heater 24 and the sensor 27, provides a degassing process for the trapped contaminants. Purge gas, such as purge gas 26 for the chamber and purge gas 29A for the container, is shut off. After completion of the decontamination process, in addition to purge gas 29A filling the internal volume, purge gas 26 may be introduced to establish a pressurized atmosphere. The outer container can be closed under a clean environment with purge gas 29A before the finished object is discharged to the outside atmosphere.

도 3b에서, 내부 및 외부 컨테이너들 양자 모두는 오염제거 동안 개방된다. 내부 및 외부 컨테이너들은 폐쇄된 오브젝트를 외부로 배출하기 이전에 퍼지 가스 분위기하에서 폐쇄된다.In FIG. 3B, both inner and outer containers are opened during decontamination. The inner and outer containers are closed under a purge gas atmosphere before discharging the closed object to the outside.

도 4a 및 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 오브젝트들을 오염제거하는 다른 플로우차트들을 예시한다. 일 실시예에서, 캐리어의 외부는 진공 탈기 프로세스에 영향을 받고, 캐리어내의 진공은 펌핑/퍼지 프로세스에 영향을 받는다. 펌핑/퍼지 프로세스는 클린 가스 퍼지가 후속하는 탈기를 위한 진공 펌핑일 수 있다.4A and 4B illustrate other flowcharts for decontaminating objects using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention. In one embodiment, the outside of the carrier is affected by the vacuum degassing process and the vacuum in the carrier is affected by the pumping / purge process. The pumping / purge process may be vacuum pumping for degassing followed by a clean gas purge.

대안적으로, 펌핑/퍼지 프로세스는 다수의 사이클들의 펌핑 및 퍼징을 포함할 수 있다. 도 4a에서, 동작(40)은 오염제거 챔버의 가스들을 배기시켜 캐리어를 오염제거한다. 동작은 캐리어내의 가스들을 하나 또는 다수의 사이클들로, 펌핑하고 퍼징한다. 동작(42)은 캐리어를 제거하기 이전에 오염제거 챔버로 질소를 흐르게 한다.Alternatively, the pumping / purge process may include pumping and purging of multiple cycles. In FIG. 4A, operation 40 decontaminates the carrier by evacuating gases in the decontamination chamber. The operation pumps and purges the gases in the carrier, in one or multiple cycles. Operation 42 causes nitrogen to flow into the decontamination chamber prior to removing the carrier.

일 실시예에서, 캐리어내의 볼륨은 옵션으로 펌핑 아웃된다. 예를 들어, 오염제거 간의 시간이 짧으면 ―이는, 캐리어내의 클린 가스가 내부 볼륨 내부에서 오브젝트에 부착되는 최소한의 또는 무시가능한 오염물들을 가져 여전히 매우 클린하다는 것을 의미함―, 내부 볼륨의 탈기는 필요하지 않을 수도 있다. 대부분의 경우들에서, 캐리어내의 클린 가스(예를 들어, 질소)는 예를 들어, 내부 볼륨의 퍼지 프로세스에 의해 새로운 클린 가스로 대체된다. 도 4b에서, 동작(43)은 캐리어를 오염제거 챔버로 이송한다. 동작(44)은 오염제거 챔버에서의 가스들을 배기시킨다. 동작(45)은 캐리어내의 가스들을 옵션으로 배기시킨다. 동작(46)은 캐리어내의 볼륨으로 질소를 흐르게 한다. 동작(47)은 오염제거 챔버로 질소를 흐르게 한다. 동작(48)은 오염제거 챔버 외부로 캐리어를 이송한다.In one embodiment, the volume in the carrier is optionally pumped out. For example, if the time between decontamination is short, which means that the clean gas in the carrier is still very clean with minimal or negligible contaminants attached to the object inside the internal volume, degassing of the internal volume is not necessary. It may not. In most cases, clean gas (eg, nitrogen) in the carrier is replaced with fresh clean gas, for example by a purge process of the internal volume. In FIG. 4B, operation 43 transfers the carrier to the decontamination chamber. Operation 44 exhausts gases in the decontamination chamber. Operation 45 optionally exhausts gases in the carrier. Operation 46 causes nitrogen to flow to the volume in the carrier. Operation 47 causes nitrogen to flow into the decontamination chamber. Operation 48 transfers the carrier out of the decontamination chamber.

도 5a 및 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 오브젝트들을 오염제거하는 다른 플로우차트들을 예시한다. 일 실시예에서, 캐리어는 캐리어의 외부 및 내부를 오염제거하기 위해 개방된다. 예를 들어, 외부 컨테이너는 외부 볼륨과 내부 볼륨 사이의 볼륨을 오염제거하기 위해 개방된다. 가장안쪽의 볼륨은 레티클을 보호하기 위해 여전히 폐쇄된다. 도 5a에서, 동작(50)은 캐리어를 오염제거 챔버로 이송한다.5A and 5B illustrate other flowcharts for decontaminating objects using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention. In one embodiment, the carrier is opened to decontaminate the outside and inside of the carrier. For example, the outer container is opened to decontaminate the volume between the outer volume and the inner volume. The innermost volume is still closed to protect the reticle. In FIG. 5A, operation 50 transfers the carrier to the decontamination chamber.

동작(51)은 오염제거 챔버로 질소를 흐르게 한다. 동작(52)은 캐리어의 외부 컨테이너를 개방한다. 동작(53)은 오염제거 챔버의 가스들을 배기시킨다. 동작(54)은 오염제거 챔버로 질소를 흐르게 한다. 동작(55)은 캐리어의 내부 볼륨으로 질소를 흐르게 한다. 동작(56)은 캐리어의 외부 컨테이너를 폐쇄한다. 동작(57)은 캐리어를 제거한다.Operation 51 causes nitrogen to flow into the decontamination chamber. Operation 52 opens the outer container of the carrier. Operation 53 exhausts gases in the decontamination chamber. Operation 54 causes nitrogen to flow into the decontamination chamber. Operation 55 causes nitrogen to flow into the internal volume of the carrier. Operation 56 closes the outer container of the carrier. Operation 57 removes the carrier.

일 실시예에서, 외부 및 내부 컨테이너들 양자 모두는 오염제거를 위해 개방된다.In one embodiment, both outer and inner containers are open for decontamination.

따라서, 상기 시퀀스는 동작(52) 및 동작(56)이 52A 및 56A로 변경되게 사용될 수 있다. 도 5b에서, 동작(52A)은 캐리어의 외부 컨테이너 및 내부 컨테이너를 개방한다. 동작들(53 내지 55)은 유사한데, 동작(53)은 오염제거 챔버의 가스들을 배기시키고, 동작(54)은 오염제거 챔버로 질소를 흐르게 하며, 동작(55)은 캐리어의 내부 볼륨으로 질소를 흐르게 한다. 동작(56A)은 캐리어의 내부 컨테이너 및 외부 컨테이너를 폐쇄한다.Thus, the sequence can be used such that operations 52 and 56 are changed to 52A and 56A. In FIG. 5B, operation 52A opens the outer container and the inner container of the carrier. Operations 53 to 55 are similar, operation 53 exhausts gases from the decontamination chamber, operation 54 causes nitrogen to flow into the decontamination chamber, and operation 55 is nitrogen to the internal volume of the carrier. To flow. Operation 56A closes the inner container and outer container of the carrier.

도 6a 내지 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오염제거 챔버를 사용하여 스토커에서 오브젝트들을 오염제거하는 플로우차트들을 예시한다. 일 실시예에서, 스토커에 보관된 오브젝트들은 클리닝 또는 컨디셔닝을 위해 클리닝 챔버(예를 들어, 오염제거 챔버)로 주기적으로 또는 가끔 이동된다. 도 6a에서, 동작(60)은 캐리어들을 스토리지 챔버에 보관한다. 동작(61)은 오염제거를 위해 캐리어를 오염제거 챔버로 주기적으로 이동시킨다. 동작(62)은 오염제거된 캐리어를 스토리지로 다시 리턴한다.6A-6C illustrate flowcharts for decontaminating objects in a stocker using a decontamination chamber, according to one embodiment of the invention. In one embodiment, objects stored in the stocker are periodically or occasionally moved to a cleaning chamber (eg, decontamination chamber) for cleaning or conditioning. In FIG. 6A, operation 60 stores carriers in a storage chamber. Operation 61 periodically moves the carrier to the decontamination chamber for decontamination. Operation 62 returns the decontaminated carrier back to storage.

일 실시예에서, 오브젝트들은 스토커로 이동되기 이전에 클리닝되거나 오염제거된다. 도 6b에서, 동작(63)은 캐리어를 스토커 로드 포트에 로딩한다. 동작(64)은 오염제거를 위해 캐리어를 오염제거 챔버로 이송한다. 동작(65)은 스토커의 스토리지에 캐리어를 보관한다.In one embodiment, objects are cleaned or decontaminated before being moved to the stocker. In FIG. 6B, operation 63 loads the carrier into the stocker load port. Operation 64 transfers the carrier to the decontamination chamber for decontamination. Operation 65 keeps the carrier in the stocker's storage.

일 실시예에서, 오브젝트들은 스토커 외부로 꺼내지기 이전에 클리닝되거나 오염제거된다. 도 6c에서, 동작(66)은 캐리어들을 스토커의 스토리지에 보관한다. 동작(67)은 오염제거를 위해 캐리어를 오염제거 챔버로 이송한다. 동작(68)은 오염제거된 캐리어를 스토커의 로드 포트로 이송한다.In one embodiment, objects are cleaned or decontaminated before being taken out of the stocker. In FIG. 6C, operation 66 keeps the carriers in the stocker's storage. Operation 67 transfers the carrier to the decontamination chamber for decontamination. Operation 68 transfers the decontaminated carrier to the load port of the stocker.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 오염제거하는 오염제거 챔버를 개시한다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함할 수 있다. 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관될 수 있다. 예를 들어, 워크피스는 EUV 레티클에 대한 캐리어일 수 있다. 오염제거 챔버는 워크피스를 지지하는 지지부를 포함할 수 있다. 지지부는 챔버의 벽을 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a decontamination chamber for decontaminating a workpiece. The workpiece may comprise a first container for storing the product. The first container can be stored in a second container. For example, the workpiece can be a carrier for an EUV reticle. The decontamination chamber can include a support for supporting the workpiece. The support may comprise a wall of the chamber.

지지부는 페데스탈(pedestal)을 포함할 수 있다. 오염제거 챔버는 제 1 펌핑 메커니즘을 포함할 수 있고, 여기서, 제 1 펌핑 메커니즘은 오염제거 챔버에 커플링된다. 제 1 펌핑 메커니즘은 터보 펌프 또는 크라이오(cryo) 펌프와 같은 펌프를 포함할 수 있다. 펌핑 메커니즘은 빠른 쓰루풋을 위한 고속 펌핑 시스템을 포함할 수 있다. 오염제거 챔버는 비활성 가스를 오염제거 챔버에 전달하는 제 1 가스 전달 시스템을 포함할 수 있다. 제 1 전달 시스템은 가스 흐름을 중단시키기 위한 셧 오프 밸브를 포함할 수 있다. 오염제거 챔버는 제 2 펌핑 메커니즘을 포함할 수 있고, 제 2 펌핑 메커니즘은 워크피스에 커플링되고, 제 2 펌핑 메커니즘은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨을 펌핑하도록 구성된다. 오염제거 챔버는 제 2 가스 전달 시스템을 포함할 수 있고, 제 2 가스 전달 시스템은 워크피스에 커플링되고, 제 2 가스 전달 시스템은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨에 비활성 가스를 전달하도록 구성된다. 일부 실시예들에서, 오염제거 챔버는 예를 들어, 펌핑과 퍼징 사이의 스위칭을 위한 매니폴드를 통해 제 2 펌핑 시스템과 제 2 전달 시스템에 워크피스를 연결하는 노즐들을 포함할 수 있다. 노즐들은 오염제거 챔버의 외부로부터 오염제거 챔버의 내부로 돌출될 수 있다. 예를 들어, 노즐들은 지지부에 커플링될 수 있어서, 워크피스가 지지부상에 배치될 때 노즐들에 커플링될 수 있다. 대안적으로, 노즐들은 오염제거 챔버내 어디에나 배치될 수 있고, 펌핑과 퍼징을 위해 워크피스의 개구들에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 제 2 펌핑 메커니즘은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨을 펌핑하기 위해 노즐들에 커플링될 수 있다. 제 2 가스 전달 시스템은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨에 비활성 가스를 전달하기 위해 노즐들에 커플링될 수 있다. 매니폴드가 제공될 수 있고, 여기서, 매니폴드는 노즐들로의 비활성 가스의 전달과 노즐들을 통한 비활성 가스의 펌핑 사이에서 스위칭하기 위해 노즐들에 커플링된다. 일부 실시예들에서, 오염제거 챔버는 제 2 컨테이너를 개방하는 제 1 메커니즘을 포함할 수 있고, 여기서, 제 2 컨테이너의 개방은 제 1 컨테이너를 제 2 스테이션의 분위기에 노출시킨다. 예를 들어, 제 2 컨테이너의 상부(top portion)가 상승될 수 있다. 오염제거 챔버는 제 1 컨테이너를 개방하는 제 2 메커니즘을 포함할 수 있고, 여기서, 제 1 컨테이너의 개방은 제품을 제 2 스테이션의 분위기에 노출시킨다. 예를 들어, 제 1 컨테이너의 상부가 상승될 수 있다.The support may comprise a pedestal. The decontamination chamber can include a first pumping mechanism, where the first pumping mechanism is coupled to the decontamination chamber. The first pumping mechanism can include a pump, such as a turbo pump or cryo pump. The pumping mechanism can include a high speed pumping system for fast throughput. The decontamination chamber can include a first gas delivery system for delivering an inert gas to the decontamination chamber. The first delivery system can include a shut off valve to stop the gas flow. The decontamination chamber can include a second pumping mechanism, the second pumping mechanism coupled to the workpiece, and the second pumping mechanism is configured to pump the volume between the first container and the second container. The decontamination chamber can include a second gas delivery system, the second gas delivery system coupled to the workpiece, the second gas delivery system to deliver inert gas to a volume between the first container and the second container. It is composed. In some embodiments, the decontamination chamber can include nozzles that connect the workpiece to the second pumping system and the second delivery system, for example, via a manifold for switching between pumping and purging. The nozzles may protrude from the exterior of the decontamination chamber into the interior of the decontamination chamber. For example, the nozzles can be coupled to the support, such that the workpiece can be coupled to the nozzles when placed on the support. Alternatively, the nozzles can be placed anywhere in the decontamination chamber and are coupled to the openings of the workpiece for pumping and purging. In some embodiments, the second pumping mechanism can be coupled to the nozzles to pump the volume between the first container and the second container. The second gas delivery system may be coupled to the nozzles for delivering inert gas to the volume between the first container and the second container. A manifold can be provided, where the manifold is coupled to the nozzles to switch between the delivery of the inert gas to the nozzles and the pumping of the inert gas through the nozzles. In some embodiments, the decontamination chamber can include a first mechanism for opening the second container, wherein opening of the second container exposes the first container to the atmosphere of the second station. For example, the top portion of the second container can be raised. The decontamination chamber can include a second mechanism for opening the first container, where opening of the first container exposes the product to the atmosphere of the second station. For example, the top of the first container can be raised.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 보관하는 스토커를 개시한다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함할 수 있고, 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관된다. 스토커는 제 1 스테이션을 포함할 수 있고, 제 1 스테이션은 워크피스를 로딩 또는 언로딩하도록 동작가능하다. 제 1 스테이션은 로딩 스테이션, 언로딩 스테이션, 또는 로딩 및 언로딩 스테이션으로서 기능하는 스테이션일 수 있다. 스토커는 제 2 스테이션을 포함할 수 있고, 여기서, 제 2 스테이션은 제 1 펌핑 메커니즘을 포함하고, 제 1 펌핑 메커니즘은 제 2 스테이션내에 진공 분위기를 확립하도록 동작가능하고, 제 2 스테이션은 워크피스를 탈기하도록 동작가능하다. 제 2 스테이션은 워크피스의 표면들을 탈기하기 위해 진공을 사용하여 오염제거 챔버로서 동작할 수 있다. 스토커는 스토리지 챔버를 포함할 수 있고, 여기서, 스토리지 챔버는 워크피스들을 보관하는 복수의 격실들을 포함한다. 스토커는 제 3 스테이션을 포함할 수 있고, 여기서, 제 3 스테이션은 제 1 스테이션, 제 2 스테이션, 및 스토리지 챔버 사이에서 워크피스를 이송하는 로봇 메커니즘을 포함한다.In some embodiments, the present invention discloses a stocker for storing a workpiece. The workpiece may comprise a first container for storing the product, the first container being stored in the second container. The stocker may comprise a first station, the first station being operable to load or unload the workpiece. The first station may be a loading station, an unloading station, or a station that functions as a loading and unloading station. The stocker may comprise a second station, wherein the second station comprises a first pumping mechanism, the first pumping mechanism is operable to establish a vacuum atmosphere within the second station, and the second station may It is operable to degas. The second station can operate as a decontamination chamber using a vacuum to degas the surfaces of the workpiece. The stocker may include a storage chamber, where the storage chamber includes a plurality of compartments for storing the workpieces. The stocker may comprise a third station, where the third station includes a robotic mechanism for transferring the workpiece between the first station, the second station, and the storage chamber.

일부 실시예들에서, 제 2 스테이션은 비활성 가스를 제 2 스테이션으로 전달하는 가스 전달 시스템을 포함할 수 있다. 제 2 스테이션은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨에 비활성 가스를 전달하는 가스 전달 시스템을 포함할 수 있다. 제 2 스테이션은 제 2 스테이션의 외부로부터 제 2 스테이션의 내부으로 돌출하는 하나 또는 그 초과의 노즐들을 포함할 수 있고, 여기서, 워크피스는 노즐들에 커플링된다. 노즐들은 비활성 가스를 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 전달하도록 구성될 수 있거나, 노즐들은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨을 펌핑하도록 구성된다. 제 2 스테이션은 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨을 펌핑하는 제 2 펌핑 메커니즘을 포함할 수 있다. 제 2 스테이션은 제 2 컨테이너를 개방하는 제 1 메커니즘을 포함할 수 있고, 여기서, 제 2 컨테이너의 개방은 제 1 컨테이너를 제 2 스테이션의 분위기에 노출시키고, 제 2 스테이션은 제 1 컨테이너를 개방하는 제 2 메커니즘을 더 포함하고, 제 1 컨테이너의 개방은 제품을 제 2 스테이션의 분위기에 노출시킨다.In some embodiments, the second station can include a gas delivery system for delivering inert gas to the second station. The second station may include a gas delivery system for delivering inert gas to the volume between the first container and the second container. The second station may include one or more nozzles that project from the outside of the second station into the interior of the second station, where the workpiece is coupled to the nozzles. The nozzles may be configured to deliver inert gas to the volume between the first container and the second container, or the nozzles are configured to pump the volume between the first container and the second container. The second station may include a second pumping mechanism for pumping the volume between the first container and the second container. The second station may comprise a first mechanism for opening the second container, wherein opening of the second container exposes the first container to an atmosphere of the second station, and the second station opens the first container. It further includes a second mechanism, wherein opening of the first container exposes the product to the atmosphere of the second station.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 오염제거하는 방법을 개시한다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함한다. 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관될 수 있다. 방법은 워크피스를 제 1 스테이션으로 이송하는 단계를 포함할 수 있고, 여기서, 제 1 스테이션은 워크피스를 오염제거하도록 구성된다. 워크피스가 제 1 스테이션에 배치된 이후에, 진공이 제 1 스테이션내에 확립될 수 있다. 또한, 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨이 펌핑될 수 있다. 그 후, 워크피스의 탈기가 모니터링되고, 여기서, 탈기는 진공 분위기 및 펌핑에 의해 초래된다. 워크피스가 클리닝된 이후에, 예를 들어, 오염없음 또는 최소의 오염을 나타내는 모니터링에 의해, 예컨대, 모니터가 일정한 레벨의 오염을 나타내면, 워크피스는 제 1 스테이션으로부터 제거될 수 있다. 제거 이전에, 비활성 가스가 제 1 스테이션으로 흐른다. 또한 활성 가스는 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 흐른다. 비활성 가스는 분위기로부터 클리닝된 워크피스로의 교차 오염을 방지할 수 있다. 그 후, 워크피스는 제 1 스테이션 외부로 이송될 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a method for decontaminating a workpiece. The workpiece includes a first container for storing the product. The first container can be stored in a second container. The method may include transferring the workpiece to a first station, where the first station is configured to decontaminate the workpiece. After the workpiece is placed in the first station, a vacuum can be established in the first station. Also, the volume between the first container and the second container can be pumped. Degassing of the workpiece is then monitored, where degassing is caused by vacuum atmosphere and pumping. After the workpiece is cleaned, for example, by monitoring indicating no contamination or minimal contamination, for example if the monitor shows a certain level of contamination, the workpiece can be removed from the first station. Prior to removal, inert gas flows to the first station. The active gas also flows in the volume between the first container and the second container. The inert gas can prevent cross contamination from the atmosphere to the cleaned workpiece. The workpiece can then be transferred out of the first station.

일부 실시예들에서, 방법은 오염제거 프로세스 동안 제 1 컨테이너를 개방하는 단계 및/또는 제 2 컨테이너를 개방하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 스토리지 전에, 오염제거를 위해 로드 포트로부터 제 1 스테이션으로 워크피스를 이송하는 단계, 특정한 시간의 스토리지 이후에 또는 스토리지 외부로 워크피스를 꺼낼 때 오염제거를 위해 스토리지 챔버로부터 제 1 스테이션으로 워크피스를 이송하는 단계, 스토리지 외부로 꺼내기 위해 워크피스를 제 1 스테이션으로부터 언로드 포트로 이송하는 단계, 클리닝된 이후에 워크피스를 보관하기 위해 제 1 스테이션으로부터 스토리지 챔버로 워크피스를 이송하는 단계를 또한 포함할 수 있다.In some embodiments, the method may include opening the first container and / or opening the second container during the decontamination process. The method includes transferring the workpiece from the load port to the first station for decontamination, after the storage at a specific time or from the storage chamber to the first station for decontamination when taking the workpiece out of storage. Transporting the piece, transferring the workpiece from the first station to the unload port for removal out of storage, and transferring the workpiece from the first station to the storage chamber for storage of the workpiece after being cleaned. It may include.

상기 설명은 보관된 오브젝트들을 클리닝하기 위한 오염제거 챔버를 이용하는 스토커를 설명한다. 그러나, 본 발명은 이에 제한되지 않고, 극저온 클리닝, 가스 블라스팅 클리닝, 극저온 입자 블라스팅, 레이저 클리닝, 또는 초임계 액체 클리닝과 같은 임의의 클리닝 챔버에 동일하게 적용될 수 있다.The above description describes a stocker using a decontamination chamber for cleaning the stored objects. However, the present invention is not limited thereto, and may equally be applied to any cleaning chamber, such as cryogenic cleaning, gas blasting cleaning, cryogenic particle blasting, laser cleaning, or supercritical liquid cleaning.

일 실시예에서, 본 발명은 보관된 오브젝트들의 내부 볼륨을 클린하게 유지하는 퍼지 가스 시스템을 갖는 스토리지 격실을 개시한다. 퍼지 가스 시스템은 질소를 오브젝트의 내부에 전달할 수 있어서, 내부 분위기를 효과적으로 대체하고, 청정도 레벨을 복구하며, 미립자 탈기를 제거하거나 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 이중 컨테이너 EUV 레티클 캐리어의 외부 컨테이너와 내부 컨테이너 사이의 볼륨은 스토리지 동안 질소로 연속적으로(또는 간헐적으로) 퍼징되어, 외부 컨테이너로부터 탈기된 임의의 오염물들이 제거되고 내부 컨테이너에 부착되지 않는다.In one embodiment, the present invention discloses a storage compartment having a purge gas system that keeps the internal volume of stored objects clean. The purge gas system can deliver nitrogen to the interior of the object, effectively replacing the internal atmosphere, restoring cleanliness levels, and eliminating or reducing particulate degassing. For example, the volume between the outer container and the inner container of a double container EUV reticle carrier is continuously (or intermittently) purged with nitrogen during storage, so that any contaminants degassed from the outer container are removed and not attached to the inner container. .

일 실시예에서, 스토리지 챔버는 스토리지를 클린하게 유지하기 위해 층류(laminar flow)로 퍼징될 수 있어서, 임의의 오염물들이 캐리어의 외부에 부착되는 것을 방지하거나 감소시킨다. 예를 들어, 필터링된 이후에 압축 공기와 같은 클린 가스가 교차 오염을 감소시키거나 제거하기 위해 상부 또는 측부들로부터 스토리지 챔버에 유입될 수 있다.In one embodiment, the storage chamber can be purged with laminar flow to keep the storage clean, thereby preventing or reducing any contaminants from adhering to the exterior of the carrier. For example, after filtering, clean gas, such as compressed air, may enter the storage chamber from the top or sides to reduce or eliminate cross contamination.

일 실시예에서, 퍼지 가스는 재순환될 수 있어서, 외부 분위기로부터의 임의의 오염의 기회를 제거한다. 재순환 가스는 질소와 같은 불활성 가스 또는 공기와 같은 비활성 가스를 포함할 수 있다. 재순환 가스는 미립자들을 제거하도록 필터링될 수 있고, 열 운동들을 감소시키도록 냉각될 수 있다. 따라서, 스토리지 격실의 내부 분위기는 외부 분위기로부터 격리되어, 보관된 오브젝트들에 대한 적절한 청정도의 레벨을 허용한다.In one embodiment, the purge gas may be recycled, eliminating any chance of contamination from the outside atmosphere. The recycle gas may comprise an inert gas such as nitrogen or an inert gas such as air. The recycle gas can be filtered to remove particulates and cooled to reduce thermal movements. Thus, the interior atmosphere of the storage compartment is isolated from the exterior atmosphere, allowing a level of cleanliness for the stored objects.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른, 다수의 스토리지 격실들을 포함하는 스토리지 챔버를 예시한다. 중앙 가스 라인(74)이 퍼지 가스를 스토리지 격실들로 전달한다. 일 실시예에서, 퍼지 가스는 어떠한 활성 미터링 또는 제어 밸브들없이 퍼지 가스를 연속적으로 전달한다(73A/73B). 퍼지 가스 흐름은 제조 동안 사전결정될 수 있고, 모든 격실들에 대해 동일하거나 또는 상이한 격실들에 대해 상이한 수동 조정을 위한 옵션적인 미터링 밸브들을 가질 수 있지만, 활성 또는 피드백 제어 수단이 존재하지 않을 수 있다. 퍼지 가스는 오브젝트가 그 격실에 위치되어 있는지 여부에 관계없이 고정된 양의 가스를 흐르게 할 수 있다. 다른 실시예에서, 퍼지 가스는 예를 들어, 어떠한 보관된 오브젝트가 없는 격실에 대해 퍼지 가스의 손실을 감소시키기 위해 활성적으로 제어될 수 있다.7 illustrates a storage chamber including a plurality of storage compartments, according to one embodiment of the invention. Central gas line 74 delivers purge gas to the storage compartments. In one embodiment, the purge gas continuously delivers the purge gas 73A / 73B without any active metering or control valves. The purge gas flow may be predetermined during manufacture and may have optional metering valves for different manual adjustments for the same or different compartments for all compartments, but there may be no active or feedback control means. The purge gas may allow a fixed amount of gas to flow regardless of whether the object is located in its compartment. In another embodiment, the purge gas may be actively controlled to reduce the loss of purge gas, for example, for compartments without any stored object.

퍼지 가스는 보관된 오브젝트의 내부 볼륨, 예를 들어, 이중 컨테이너 레티클 캐리어의 외부 컨테이너(72A)와 내부 컨테이너(72B) 사이의 볼륨에 질소와 같은 클린 가스를 전달할 수 있다. (외부 분위기 또는 재순환된 분위기로부터의) 층류는, 모든 격실들에 대해 상부(71A)로부터(또는 저부(미도시)로부터), 또는 개별 격실들에 대해 측면들(71B)로부터 스토리지 격실들에 전달될 수 있다.The purge gas may deliver a clean gas, such as nitrogen, to the internal volume of the stored object, eg, the volume between the outer container 72A and the inner container 72B of the double container reticle carrier. Laminar flow (from an external atmosphere or a recycled atmosphere) is transferred from the top 71A (or from the bottom (not shown)) for all compartments, or from the sides 71B to the storage compartments for the individual compartments. Can be.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼징된 가스 스토리지 격실들을 사용하는 스토커 시스템을 예시한다. 이중 컨테이너 캐리어(81B)와 같은 오브젝트는 입력 로딩 스테이션에 로딩될 수 있고, 스토커(80)의 스토리지 격실(81A)에 로봇(84)에 의해 이송될 수 있다. 일 실시예에서, 스토리지 챔버는, 입/출력 격실(81A)이 로봇(84)과 대면하도록, 방향(85)으로 회전가능한 캐러셀(carousel)을 포함할 수 있다.8 illustrates a stocker system using purged gas storage compartments, according to one embodiment of the invention. Objects such as dual container carrier 81B may be loaded into an input loading station and transported by robot 84 to storage compartment 81A of stocker 80. In one embodiment, the storage chamber may include a carousel that is rotatable in the direction 85 such that the input / output compartment 81A faces the robot 84.

각 스토리지 격실(81)은 보관된 캐리어의 내부 볼륨을 퍼징하는 퍼지 가스 라인(83C)을 포함할 수 있다. 퍼지 가스는 중앙 라인(83)으로부터 전달 라인(83A)으로 전달될 수 있고, 링(83B)으로 분포될 수 있으며, 그 후, 스토리지 격실들에 제공될 수 있다. 캐러셀이 회전가능하기 때문에, 페로 유체 시일(ferro fluid seal)(82)과 같은 회전 시일이 고정 입력 라인(83)에서 회전 라인(83A/83B/83C) 사이에 커플링될 수 있다. 필터링된 분위기 가스 또는 필터링된 재순환 가스인 층류(88)가 스토리지 격실들에 제공된다. 일 실시예에서, 입력 로딩 스테이션에는 로딩 위치에서 캐리어(81B)의 내부 볼륨을 퍼징하기 위해 퍼지 가스 라인(87)이 제공된다.Each storage compartment 81 may include a purge gas line 83C that purges the internal volume of the stored carrier. The purge gas can be delivered from the central line 83 to the delivery line 83A, distributed to the ring 83B, and then provided to the storage compartments. Since the carousel is rotatable, a rotational seal, such as a ferro fluid seal 82, can be coupled between the rotational lines 83A / 83B / 83C in the fixed input line 83. Laminar flow 88, which is filtered atmosphere gas or filtered recycle gas, is provided in the storage compartments. In one embodiment, the input loading station is provided with a purge gas line 87 to purge the internal volume of the carrier 81B at the loading position.

스토리지 격실들로부터 로딩/언로딩 스테이션으로의 캐리어를 이동시키기 위해 유사한 프로세스들이 사용될 수 있다.Similar processes can be used to move the carrier from the storage compartments to the loading / unloading station.

도 9a 내지 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼지 가스 격실들을 사용하여 오브젝트들을 보관하는 플로우차트들을 예시한다. 일 실시예에서, 캐리어들은 캐리어들의 내부 볼륨에 대해 퍼지 가스를 갖는 위치들에 보관될 수 있다. 도 9a에서, 동작(90)은 캐리어를 스토커로 이송한다. 동작(91)은 스토리지 위치에서 스토커에 질소를 흐르게 한다. 동작(92)은 스토리지 위치에 캐리어를 보관하고, 여기서, 캐리어는 질소 흐름에 커플링되어 질소를 캐리어의 내부 볼륨에 흐르게 한다.9A-9C illustrate flowcharts for storing objects using purge gas compartments, according to one embodiment of the invention. In one embodiment, the carriers may be stored at locations with purge gas relative to the internal volume of the carriers. In FIG. 9A, operation 90 transfers the carrier to the stocker. Operation 91 causes nitrogen to flow to the stocker at the storage location. Operation 92 stores the carrier at a storage location, where the carrier is coupled to the nitrogen flow to flow nitrogen to the internal volume of the carrier.

일 실시예에서, 각 격실은 퍼지 가스를 가질 수 있고, 각 캐리어는 퍼지 가스를 갖는 위치에서 스토커에 로딩될 수 있다. 도 9b에서, 캐리어는 스토리지 캐러셀의 회전을 통해 스토커에서의 스토리지 격실에 이송될 수 있다. 동작(93)은 캐리어를 스토커 로드 포트에 이송한다. 동작(94)은 스토커의 스토리지 캐러셀을 비어있는 스토리지 위치로 회전시킨다. 동작(95)은 비어있는 스토리지 위치에서 질소를 흐르게 한다. 동작(96)은 스토리지 위치에 캐리어를 이송하고, 여기서, 캐리어는 질소 흐름에 커플링되어 질소를 캐리어의 내부 볼륨에 흐르게 한다.In one embodiment, each compartment may have a purge gas and each carrier may be loaded into the stocker at a location with the purge gas. In FIG. 9B, the carrier may be transported to the storage compartment in the stocker through the rotation of the storage carousel. Operation 93 transfers the carrier to the stocker load port. Operation 94 rotates the stocker's storage carousel to an empty storage location. Operation 95 causes nitrogen to flow in the empty storage location. Operation 96 transfers the carrier to a storage location, where the carrier is coupled to the nitrogen flow to flow nitrogen to the internal volume of the carrier.

일 실시예에서, 각 격실은 퍼지 가스를 가질 수 있고, 각 캐리어는 로드 포트에 언로딩될 수 있다. 도 9c에서, 캐리어는 스토리지 캐러셀의 회전을 통해 언로드 포트에 이송될 수 있다. 동작(97)은 스토커 캐러셀에 캐리어들을 보관하고, 여기서, 각 캐리어는 질소 흐름에 커플링되어, 질소를 캐리어의 내부 볼륨에 흐르게 한다. 동작(98)은 스토커의 스토리지 캐러셀을 원하는 캐리어 위치로 회전시킨다. 동작(99)은 원하는 캐리어를 스토커 로드 포트에 이송한다.In one embodiment, each compartment may have a purge gas and each carrier may be unloaded to the load port. In FIG. 9C, the carrier may be transferred to the unload port through the rotation of the storage carousel. Operation 97 stores the carriers in a stocker carousel, where each carrier is coupled to a nitrogen flow, causing nitrogen to flow in the carrier's internal volume. Operation 98 rotates the stocker's storage carousel to the desired carrier position. Operation 99 transfers the desired carrier to the stocker load port.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 보관하는 스토커를 개시한다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함할 수 있다. 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관될 수 있다. 스토커는 제 1 스테이션 ― 제 1 스테이션은 워크피스를 로딩 또는 언로딩하도록 동작가능함 ―; 스토리지 챔버 ― 스토리지 챔버는 워크피스들을 보관하는 복수의 격실들을 포함함 ―; 제 2 스테이션 ― 제 2 스테이션은 제 1 스테이션과 스토리지 챔버 사이에서 워크피스를 이송하는 로봇 메커니즘을 포함함 ―; 가스 전달 시스템 ― 가스 전달 시스템은 스토리지 챔버의 각 격실에서 하나 또는 그 초과의 노즐들에 분포되고, 노즐들은 비활성 가스를 워크피스의 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 전달하기 위해 각 격실에 보관된 워크피스에 커플링하도록 구성됨 ―을 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a stocker for storing a workpiece. The workpiece may comprise a first container for storing the product. The first container can be stored in a second container. The stocker is a first station, the first station being operable to load or unload the workpiece; Storage chamber, the storage chamber including a plurality of compartments for storing the workpieces; Second station, the second station including a robotic mechanism for transferring the workpiece between the first station and the storage chamber; Gas Delivery System—The gas delivery system is distributed in one or more nozzles in each compartment of the storage chamber, the nozzles in each compartment to deliver inert gas to the volume between the first and second containers of the workpiece. Configured to couple to the stored workpiece.

일부 실시예들에서, 가스 전달 시스템은 워크피스가 노즐들에 커플링한 채로 또는 커플링하지 않은 채로 노즐들에 비활성 가스를 전달한다. 일부 실시예들에서, 스토커는 워크피스가 노즐들에 커플링될 때 비활성 가스를 노즐들에 전달하는 메커니즘; 노즐들을 통해 비활성 가스의 유량을 제어하기 위해 노즐들에 커플링된 미터링 밸브; 층류를 격실들에 전달하는 흐름 메커니즘 ―층류는 스토리지 챔버의 상부로부터 제공됨―; 층류를 격실들에 전달하는 흐름 메커니즘 ―층류는 각 개별 격실의 측면으로부터 제공됨―; 스토리지 챔버내에서 흐름을 순환시키기 위해, 상층부 바닥(raised floor)에 커플링된 순환 메커니즘; 및 스토리지 챔버내에서 가스를 냉각시키는 칠러(chiller)를 포함할 수 있다.In some embodiments, the gas delivery system delivers inert gas to the nozzles with or without the workpiece coupled to the nozzles. In some embodiments, the stocker may include a mechanism to deliver inert gas to the nozzles when the workpiece is coupled to the nozzles; A metering valve coupled to the nozzles for controlling the flow rate of the inert gas through the nozzles; A flow mechanism for delivering laminar flow to the compartments, the laminar flow being provided from the top of the storage chamber; Flow mechanism for delivering laminar flow to the compartments, where the laminar flow is provided from the side of each individual compartment; A circulation mechanism coupled to the raised floor for circulating the flow within the storage chamber; And a chiller for cooling the gas in the storage chamber.

일부 실시예들에서, 스토커는 제 1 스테이션 ―제 1 스테이션은 워크피스를 로딩 또는 언로딩하도록 동작가능함―; 제 1 가스 전달 시스템 ― 제 1 가스 전달 시스템은 제 1 스테이션에서 하나 또는 그 초과의 제 1 노즐들에 커플링되고, 제 1 노즐들은 워크피스의 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨에 비활성 가스를 전달하기 위해 제 1 스테이션에 위치된 워크피스에 커플링하도록 구성됨―; 스토리지 챔버 ―스토리지 챔버는 워크피스들을 보관하는 복수의 격실들을 포함하고, 격실들은 회전가능한 캐러셀상에 배치됨―; 제 2 스테이션 ―제 2 스테이션은 제 1 스테이션과 스토리지 챔버 사이에서 워크피스를 이송하는 로봇 메커니즘을 포함함 ―; 제 2 가스 전달 시스템 ― 가스 전달 시스템은 회전 시일을 통해 스토리지 챔버의 각 격실에서 하나 또는 그 초과의 노즐들에 분포되고, 회전 시일은 제 2 가스 전달 시스템을 회전가능한 캐러셀에 커플링하도록 구성되고, 노즐들은 워크피스의 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨에 비활성 가스를 전달하기 위해 각 격실에 보관된 워크피스에 커플링하도록 구성됨―을 포함할 수 있다.In some embodiments, the stocker is a first station, the first station being operable to load or unload the workpiece; First Gas Delivery System—The first gas delivery system is coupled to one or more first nozzles at a first station, the first nozzles being inert gas in a volume between the first and second containers of the workpiece. Is configured to couple to a workpiece located at a first station to deliver a; A storage chamber, the storage chamber including a plurality of compartments for storing the workpieces, the compartments being disposed on the rotatable carousel; Second station, the second station including a robotic mechanism for transferring the workpiece between the first station and the storage chamber; A second gas delivery system, the gas delivery system being distributed to one or more nozzles in each compartment of the storage chamber via a rotation seal, the rotation seal configured to couple the second gas delivery system to the rotatable carousel; And the nozzles are configured to couple to the workpiece stored in each compartment to deliver an inert gas to the volume between the first container and the second container of the workpiece.

일부 실시예들에서, 스토커는 층류를 격실들에 전달하는 흐름 메커니즘 ―층류는 각 개별 격실의 측면으로부터 제공됨―; 스토리지 챔버내에서 흐름을 순환시키기 위해, 상층부 바닥에 커플링된 순환 메커니즘; 스토리지 챔버내의 가스를 냉각시키는 칠러; 및 오염제거 챔버 ―오염제거 챔버는 워크피스를 오염제거하도록 동작가능함―를 포함할 수 있다.In some embodiments, the stocker is a flow mechanism that delivers laminar flow to the compartments, where the laminar flow is provided from the side of each individual compartment; A circulation mechanism coupled to the top floor to circulate the flow within the storage chamber; A chiller to cool the gas in the storage chamber; And a decontamination chamber, wherein the decontamination chamber is operable to decontaminate the workpiece.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 보관하는 방법을 개시한다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함할 수 있다. 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관될 수 있다. 방법은 워크피스를 스토리지 챔버의 격실에 이송하는 단계 ―워크피스는 하나 또는 그 초과의 노즐들에 커플링되고, 노즐들은 비활성 가스를 워크피스의 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 전달하도록 구성됨―; 및 비활성 가스를 노즐들로 흘리는 단계를 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a method of storing a workpiece. The workpiece may comprise a first container for storing the product. The first container can be stored in a second container. The method includes transferring a workpiece to a compartment of a storage chamber, wherein the workpiece is coupled to one or more nozzles, the nozzles to deliver inert gas to a volume between the first container and the second container of the workpiece. Configured; And flowing an inert gas to the nozzles.

일부 실시예들에서, 방법은 워크피스를 로드 포트로부터 격실로 이송하기 이전에 워크피스를 로드 포트에 수용하는 단계 ―워크피스는 로드 포트에서의 하나 또는 그 초과의 제 2 노즐들에 커플링되고, 제 2 노즐들은 비활성 가스를 워크피스의 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 전달하도록 구성됨―; 비활성 가스를 제 2 노즐들로 흘리는 단계; 워크피스가 노즐들에 커플링한 채로 또는 커플링하지 않은 채로 노즐들에 비활성 가스를 흘리는 단계; 워크피스가 노즐들에 커플링될 때 노즐들에 비활성 가스를 흘리는 단계; 격실에 층류를 전달하는 단계 ―층류는 격실의 측면으로부터 제공됨―; 상층부 바닥을 통해 순환 흐름을 격실에 전달하는 단계; 및 칠러를 통해 순환 흐름을 전달하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, a method includes receiving a workpiece in a load port prior to transferring the workpiece from the load port to the compartment, wherein the workpiece is coupled to one or more second nozzles at the load port and The second nozzles are configured to deliver an inert gas to a volume between the first container and the second container of the workpiece; Flowing an inert gas to the second nozzles; Flowing inert gas to the nozzles with or without the workpiece coupled to the nozzles; Flowing inert gas to the nozzles when the workpiece is coupled to the nozzles; Delivering laminar flow to the compartment, the laminar flow being provided from the side of the compartment; Delivering a circulating flow to the compartment through the top floor; And delivering a circulating flow through the chiller.

일 실시예에서, 본 발명은 스토리지 챔버와 로드 포트 사이의 이송 동안 오브젝트를 핸들링하는 로봇 암을 개시한다. 로봇은 그 위치에 오브젝트를 보관하기 이전에 스토리지 격실에서 퍼지 가스를 검출하는 흐름 센서를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 검출은, 온 더 플라이 방식으로(on―the―fly)(이는 스토리지 격실로의 경로 동안을 의미함) 수행될 수 있고, 이에 따라, 이송 오버헤드가 발생하지 않는다. 일 실시예에서, 검출은 스토리지 격실을 선택하기 이전에 퍼지 흐름의 존재를 검출하는 개별 동작으로 수행될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses a robot arm that handles an object during transfer between a storage chamber and a load port. The robot may include a flow sensor that detects purge gas in the storage compartment prior to storing the object at that location. In one embodiment, the detection may be performed on-the-fly, which means during the path to the storage compartment, so that no transfer overhead occurs. In one embodiment, the detection may be performed in a separate operation to detect the presence of a purge flow prior to selecting the storage compartment.

일 실시예에서, 센서가 각 퍼지 가스에 대해 사용될 수 있어서, 다수의 퍼지 가스 시스템에 대해, 로봇 암은 임의의 수의 결함 퍼지 가스 노즐들을 검출할 수 있다. 센서는 퍼지 가스 노즐 바로 위에 있도록 위치될 수 있어서, 가스 흐름의 존재를 신뢰가능하게 검출할 수 있다. 일 실시예에서, 센서는 예를 들어, 로봇 암이 캐리어의 외부 에지를 그리핑하고 퍼지 가스 노즐들이 외부 에지 영역 내부에 배치될 때, 퍼지 가스 노즐로부터 오프셋되게 위치된다.In one embodiment, a sensor can be used for each purge gas, so that for multiple purge gas systems, the robot arm can detect any number of defective purge gas nozzles. The sensor can be positioned to be directly above the purge gas nozzle, so that it can reliably detect the presence of the gas flow. In one embodiment, the sensor is positioned to be offset from the purge gas nozzle, for example, when the robot arm grips the outer edge of the carrier and the purge gas nozzles are placed inside the outer edge region.

일 실시예에서, 그리퍼 암들을 갖는 그리퍼 핸들러가 이중 컨테이너 캐리어들과 같은 보관된 오브젝트들을 핸들링하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 그리퍼 암은 외부 컨테이너를 핸들링할 수 있다. 대안적으로, 그리퍼 암은 오버헤드 이송 시스템용으로 설계된 오버헤드 핸들을 핸들링할 수 있다.In one embodiment, a gripper handler with gripper arms can be used to handle stored objects, such as dual container carriers. For example, the gripper arm can handle the outer container. Alternatively, the gripper arm can handle an overhead handle designed for an overhead transport system.

도 10a 내지 도 10e는 본 발명의 일 실시예에 따른, 흐름 센서를 갖는 로봇 암을 예시한다. 로봇 암(101)은 로봇 암의 단부 영역에 배치된 흐름 센서(102)를 가질 수 있어서, 로봇 암 이동 동안 그리고 캐리어(105)가 가스 노즐(103)에 도달하기 이전에 흐름(104)을 검출할 수 있다. 원하는 위치에서 가스 흐름의 존재를 검출한 이후에, 로봇 암은 그 이동을 계속 진행시키고, 캐리어가 노즐(103)에 도달할 때는 중지시킬 수 있다. 그 후, 로봇은 캐리어(105)를 퍼지 가스 노즐상에 배치할 수 있고, 이는 노즐로부터의 퍼지 가스(104A)가 캐리어(105)의 내부 볼륨(106)으로 진입하는 것을 허용한다. 퍼지 가스 흐름이 검출되지 않으면, 로봇 암은 다른 스토리지 격실로 이동할 수 있고, 옵션으로 이러한 위치를 결함 퍼지 가스를 갖는 것으로서 라벨링한다. 검출은 원하는 스토리지 위치로의 경로 동안 수행될 수 있고, 이에 따라 오버헤드를 발생시키지 않고, 스토커의 쓰루풋은 퍼지 가스 흐름을 검출하는 추가의 동작에도 불구하고 본질적으로 동일하게 유지된다.10A-10E illustrate a robotic arm with a flow sensor, in accordance with an embodiment of the present invention. The robot arm 101 may have a flow sensor 102 disposed in the end region of the robot arm to detect the flow 104 during robot arm movement and before the carrier 105 reaches the gas nozzle 103. can do. After detecting the presence of the gas flow at the desired position, the robot arm can continue its movement and stop when the carrier reaches the nozzle 103. The robot can then place the carrier 105 on the purge gas nozzle, which allows purge gas 104A from the nozzle to enter the internal volume 106 of the carrier 105. If no purge gas flow is detected, the robot arm can move to another storage compartment and optionally label this location as having a defective purge gas. Detection may be performed during the path to the desired storage location, thus without incurring overhead, and the throughput of the stocker remains essentially the same despite the additional operation of detecting purge gas flow.

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 그리퍼 암들 상의 센서 구성들을 예시한다. 일 실시예에서, 센서는 그리퍼 암과 같은 로봇 암의 전단부에 위치될 수 있어서, 센서는 캐리어가 가스 노즐에 도달하기 이전에 흐름을 검출할 수 있다. 도 11a에서, 그리퍼 암들(110)은 에지에 의해 캐리어(111)를 그리핑할 수 있다. 센서들(112)은 그리퍼 암들(110)의 선단(tip)들에 배치될 수 있으며, 그리퍼 암들이 가스 노즐들(113)을 지나 이동할 때 노즐들(113)로부터의 측면 흐름을 검출할 수 있다. 일 실시예에서, 그리퍼 암들은 캐리어(111)가 가스 노즐들(113)과 정렬되도록 이동할 수 있다. 그 이동 방향에서, 노즐들로부터의 흐름들은 센서들(112)과 오프셋될 수 있다. 대안적으로, 그리퍼 암들은 흐름을 검출하도록 이동할 수 있고, 그 후, 캐리어를 노즐들과 정렬하기 위해 이동들을 조정할 수 있다.11A and 11B illustrate sensor configurations on gripper arms, according to one embodiment of the invention. In one embodiment, the sensor may be located at the front end of the robot arm, such as a gripper arm, so that the sensor may detect the flow before the carrier reaches the gas nozzle. In FIG. 11A, the gripper arms 110 may grip the carrier 111 by an edge. Sensors 112 may be disposed at the tips of gripper arms 110, and may detect lateral flow from nozzles 113 as the gripper arms move past gas nozzles 113. . In one embodiment, the gripper arms can move so that the carrier 111 is aligned with the gas nozzles 113. In that direction of movement, the flows from the nozzles may be offset with the sensors 112. Alternatively, the gripper arms can move to detect the flow and then adjust the movements to align the carrier with the nozzles.

일 실시예에서, 센서들은 이동 경로 동안 노즐들과 정렬되게 배치될 수 있다. 도 11b에서, 그리퍼 암들(110A)은 오버헤드 핸들(115)에서 캐리어(111A)를 그리핑할 수 있고, 따라서 센서들(112A)은 그리퍼 암들이 노즐들(113) 상에 캐리어(111A)를 배치하도록 이동할 때 노즐들(113) 바로 위에 있을 수 있다.In one embodiment, the sensors may be arranged to align with the nozzles during the travel path. In FIG. 11B, the gripper arms 110A may grip the carrier 111A at the overhead handle 115, such that the sensors 112A may cause the gripper arms to move the carrier 111A onto the nozzles 113. It may be directly above the nozzles 113 as it moves to place.

도 12a 내지 도 12d는 본 발명의 일 실시예에 따른, 흐름 검출 시퀀스를 예시한다. 시퀀스는 그리퍼 암들(110A)이 상부 핸들(115)에서 캐리어(111A)를 그리핑한다는 것을 나타낸다. 센서들(112)은 그리퍼 암들(110A)의 단부들에 위치될 수 있다. 도 12a는 캐리어가 퍼지 노즐들(113)과 정합되도록 스토리지 위치상에 캐리어(111A)를 배치하기 위한 경로상의 그리퍼 암들(110A)을 도시한다. 이동 경로상에서, 센서들(112)은 흐름 노즐들(113)의 상부에 있을 수 있고, 따라서, 흐름이 존재하는지 여부를 검출할 수 있다(도 12b). 센서들의 위치들, 흐름 노즐들 및 그리퍼 암들의 경로에 의존하여, 다른 구성들이 또한 가능하다. 적어도 하나의 흐름(또는 캐리어들을 퍼징하는 흐름 요건들에 의존하여 모두 2개의 흐름들)의 존재를 검출할시에, 그리퍼 암들은 경로를 계속 갈 수 있고, 노즐들이 캐리어와 정렬될 때는 중지한다(도 12c). 정렬 이후에, 그리퍼 암들은 스토리지 위치에 캐리어를 배치할 수 있고, 이것은 노즐들이 퍼지 가스를 캐리어의 내부 볼륨에 제공할 수 있게 한다. 그 후, 그리퍼 암들은 제거될 수 있다(도 12d).12A-12D illustrate a flow detection sequence, according to one embodiment of the invention. The sequence indicates that the gripper arms 110A grip the carrier 111A at the upper handle 115. Sensors 112 may be located at the ends of the gripper arms 110A. 12A shows gripper arms 110A on the path for placing carrier 111A on a storage location such that the carrier is mated with purge nozzles 113. On the travel path, the sensors 112 may be on top of the flow nozzles 113 and thus detect whether there is a flow (FIG. 12B). Other configurations are also possible, depending on the positions of the sensors, the flow nozzles and the path of the gripper arms. Upon detecting the presence of at least one flow (or all two flows depending on the flow requirements purging the carriers), the gripper arms can continue the path and stop when the nozzles are aligned with the carrier ( 12c). After alignment, the gripper arms can place the carrier in a storage location, which allows the nozzles to provide purge gas to the internal volume of the carrier. The gripper arms can then be removed (FIG. 12D).

이 시퀀스는 캐리어를 배치하는 경로상에서 노즐 흐름을 검출하는 것이 가능한 구성을 설명한다. 측면 흐름을 검출하는 것, 캐리어 배치를 위한 경로를 정정하기 이전에 노즐 흐름을 검출하기 위해 이동하는 것과 같은 다른 구성들이 사용될 수 있다.This sequence describes a configuration capable of detecting nozzle flow on a path for arranging carriers. Other configurations may be used, such as detecting lateral flow, moving to detect nozzle flow prior to correcting the path for carrier placement.

도 13a 및 13b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오브젝트들을 배치하기 이전에 퍼지 가스 흐름을 감지하는 플로우차트들을 예시한다. 도 13a에서, 로봇 암은 스토리지 위치에서 가스 흐름의 존재를 검출할 수 있고, 스토리지 위치가 오브젝트들을 보관하는데 적합한 퍼지 가스 흐름을 갖는다는 것을 식별할 수 있다. 흐름 식별은 오브젝트 배치 동작에 통합될 수 있고, 이것은 오브젝트 배치의 경로상에서 흐름을 식별한다.13A and 13B illustrate flowcharts for sensing purge gas flow prior to placing objects, according to one embodiment of the invention. In FIG. 13A, the robotic arm can detect the presence of a gas flow at the storage location and can identify that the storage location has a purge gas flow suitable for storing objects. Flow identification can be incorporated into object placement operations, which identify flows in the path of object placement.

동작(130)은 로봇 암을 스토리지 위치로 이동시킨다. 동작(131)은, 그리퍼 암상의 센서에 의해, 스토리지 위치에서의 가스 흐름의 존재를 감지한다. 동작(132)은 스토리지 위치를 퍼지 가스 흐름을 갖는 것으로서 식별한다.Operation 130 moves the robot arm to a storage location. Operation 131 detects the presence of a gas flow at the storage location by a sensor on the gripper arm. Operation 132 identifies the storage location as having a purge gas flow.

도 13b에서, 오브젝트 배치의 시퀀스는 하나 또는 그 초과의 통합된 센서들을 갖는 로봇 암에 의해 수행될 수 있다. 동작(133)은, 그리퍼 암에 의해 캐리어를 픽업(pick up)한다.In FIG. 13B, the sequence of object placement may be performed by a robotic arm with one or more integrated sensors. Operation 133 picks up the carrier by the gripper arm.

동작(134)은, 원하는 스토리지 위치로 이동한다. 동작(135)은, 그리퍼 암상의 센서에 의해, 스토리지 위치로의 경로상에서 가스 흐름의 존재를 감지한다. 동작(136)은, 가스 흐름이 검출되면, 가스가 캐리어의 내부로 흐르도록 원하는 스토리지 위치에 캐리어를 배치한다. 동작(137)은, 가스 흐름이 검출되지 않으면 다른 스토리지 위치로 캐리어를 이송한다.Operation 134 moves to the desired storage location. Operation 135 senses the presence of a gas flow on the path to the storage location by a sensor on the gripper arm. Operation 136 locates the carrier at a desired storage location such that when gas flow is detected, gas flows into the carrier. Operation 137 transfers the carrier to another storage location if no gas flow is detected.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 이송하는 로봇을 개시한다. 로봇은 워크피스를 지지하는 로봇 암; 로봇 암의 제 1 단부에 커플링된 하나 또는 그 초과의 센서들 ―센서들은 가스 흐름을 검출하도록 동작가능함―; 로봇 암의 제 2 단부에 커플링된 이동 메커니즘 ―이동 메커니즘은 로봇 암을 이동시키도록 동작가능함―을 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a robot for transporting a workpiece. The robot includes a robot arm supporting the workpiece; One or more sensors coupled to the first end of the robot arm, the sensors being operable to detect gas flow; A movement mechanism coupled to the second end of the robot arm, the movement mechanism being operable to move the robot arm.

일부 실시예들에서, 로봇 암은 워크피스를 그리핑하는 그리퍼를 형성한다. 로봇은 로봇 암의 그리핑 거리를 변경하는 메커니즘을 더 포함할 수 있다. 워크피스는 제 1 단부와 제 2 단부 사이에 지지될 수 있다. 센서들은 상향 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다. 센서들은 측면 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다. 센서들은 목적지(destination)로의 워크피스의 이송 동안 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다.In some embodiments, the robot arm forms a gripper for gripping the workpiece. The robot may further include a mechanism to change the gripping distance of the robot arm. The workpiece can be supported between the first end and the second end. The sensors can be configured to detect upward gas flow. The sensors can be configured to detect side gas flow. The sensors may be configured to detect gas flow during transfer of the workpiece to the destination.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 보관하는 스토커를 개시한다. 스토커는 스토리지 챔버 ―스토리지 챔버는 워크피스들을 보관하는 복수의 격실들을 포함하고, 스토리지 챔버는 가스 흐름을 전달하는 하나 또는 그 초과의 노즐들을 포함함―; 및 스토리지 챔버로 또는 스토리지 챔버로부터 워크피스를 이송하는 로봇 ―로봇은 로봇 암의 단부에 커플링된 하나 또는 그 초과의 센서들을 포함하고, 센서들은 가스 흐름을 검출하도록 동작가능함―을 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a stocker for storing a workpiece. The stocker comprises a storage chamber, the storage chamber including a plurality of compartments for storing the workpieces, the storage chamber including one or more nozzles for delivering a gas flow; And a robot transferring the workpiece to or from the storage chamber, the robot including one or more sensors coupled to an end of the robot arm, the sensors being operable to detect gas flow. .

일부 실시예들에서, 로봇 암은 워크피스를 그리핑하는 그리퍼를 형성할 수 있다. 로봇은 로봇 암의 그리핑 거리를 변경하는 메커니즘을 포함할 수 있다. 워크피스는 제품을 보관하는 제 1 컨테이너를 포함할 수 있고, 여기서, 제 1 컨테이너는 제 2 컨테이너내에 보관되고, 제 2 컨테이너는 제 1 컨테이너와 제 2 컨테이너 사이의 볼륨으로 흐르는 가스 흐름을 수용하는 주입구를 포함한다. 센서들은 상향 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다. 센서들은 측면 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다. 센서들은 격실로의 워크피스의 이송 동안 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다.In some embodiments, the robotic arm may form a gripper that grips the workpiece. The robot can include a mechanism to change the gripping distance of the robot arm. The workpiece may comprise a first container for storing the product, where the first container is stored in the second container, the second container receiving gas flow flowing in the volume between the first container and the second container. It includes an injection port. The sensors can be configured to detect upward gas flow. The sensors can be configured to detect side gas flow. The sensors may be configured to detect gas flow during transfer of the workpiece to the compartment.

일부 실시예들에서, 본 발명은 워크피스를 이송하는 방법을 개시한다. 방법은 로봇 암에 의해 워크피스를 지지하는 단계; 워크피스를 격실로 이송하는 단계 ― 격실은 노즐을 포함하고, 노즐은 가스 흐름을 전달하도록 구성됨 ―; 격실로의 워크피스의 이송 동안 가스 흐름의 존재 또는 부재를 검출하는 단계; 및 가스 흐름이 검출되면 노즐이 워크피스에 커플링되도록 워크피스를 격실에 배치하는 단계를 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a method of transferring a workpiece. The method includes supporting a workpiece by a robot arm; Transferring the workpiece to the compartment, the compartment including a nozzle, the nozzle configured to deliver a gas flow; Detecting the presence or absence of a gas flow during transfer of the workpiece to the compartment; And placing the workpiece in the compartment such that the nozzle is coupled to the workpiece when gas flow is detected.

일부 실시예들에서, 로봇 암의 단부에서의 센서가 가스 흐름의 존재를 검출한 이후에, 로봇은 워크피스를 격실에 배치하기 위해 계속 이동할 수 있고, 여기서, 워크피스는 로봇 암의 중간에서 지지된다. 로봇 암에 의해 형성된 그리퍼는 워크피스를 격실에 배치하도록 해제될 수 있다.In some embodiments, after the sensor at the end of the robot arm detects the presence of gas flow, the robot can continue to move the workpiece to place the compartment, where the workpiece is supported in the middle of the robot arm. do. The gripper formed by the robot arm can be released to place the workpiece in the compartment.

일부 실시예들에서, 방법은 가스 흐름이 검출되지 않으면 워크피스를 다른 격실로 이송하는 단계; 가스 흐름이 검출되지 않으면 격실을 결함으로서 마킹하는 단계; 워크피스를 로드 포트로 이송하는 단계 ― 로드 포트는 노즐을 포함하고, 노즐은 가스 흐름을 전달하도록 구성됨 ―; 워크피스의 로드 포트로의 이송 동안 가스 흐름의 존재 또는 부재를 검출하는 단계; 및 가스 흐름이 검출되면 노즐이 워크피스에 커플링되도록 워크피스를 격실에 배치하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the method includes transferring the workpiece to another compartment if no gas flow is detected; Marking the compartment as a defect if no gas flow is detected; Transferring the workpiece to a load port, the load port including a nozzle, the nozzle configured to deliver a gas flow; Detecting the presence or absence of gas flow during transfer of the workpiece to the load port; And placing the workpiece in the compartment such that the nozzle is coupled to the workpiece when gas flow is detected.

일 실시예에서, 본 발명은 스토커에 보관될 오브젝트들과 유사한 사이즈 및 형상으로 만들어질 수 있는 모니터 오브젝트를 개시한다. 모니터 오브젝트는 시간 및 포지션(position)들에 관하여, 상이한 스토리지 위치들에 관한 데이터를 수집하기 위해 상이한 스토리지 위치들로 이동할 수 있다. 예를 들어, 모니터 오브젝트는 상이한 위치들로 이동하여, 스토커내의 상이한 위치들에서 퍼지 가스 흐름 특징들을 식별할 수 있다. 또한, 모니터 오브젝트는 시간에 관한 데이터를 수집하여, 퍼지 가스 특징들에 대한 시간 에볼루션(time evolution)을 제공할 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses a monitor object that can be made in a size and shape similar to the objects to be stored in the stocker. The monitor object may move to different storage locations to collect data regarding different storage locations, with respect to time and positions. For example, the monitor object may move to different locations to identify purge gas flow features at different locations within the stocker. In addition, the monitor object may collect data about time to provide time evolution for purge gas characteristics.

일 실시예에서, 모니터 캐리어는 퍼지 가스의 행위, 예를 들어, 퍼지 가스가 존재하는지 여부, 어떤 퍼지 가스 흐름이 있는지, 퍼지 가스의 품질, 퍼지 가스의 조성, 퍼지 가스에서 입자들의 레벨, 및 퍼지 가스의 임의의 다른 특징들을 모니터링할 수 있다.In one embodiment, the monitor carrier acts on purge gas, for example, whether there is a purge gas, what purge gas flow is there, the quality of the purge gas, the composition of the purge gas, the level of particles in the purge gas, and Any other characteristics of the gas can be monitored.

일 실시예에서, 모니터 캐리어는 환경의 행위, 예를 들어, 스토리지 챔버에서의 클린 가스 흐름을 모니터링할 수 있다. 모니터 캐리어는 스토리지 분위기의 품질, 예를 들어, 입자 생성률, 오염물 생성률, 유량, 및 분위기의 임의의 다른 특징들을 검출할 수 있다. 다른 데이터, 예를 들어, 온도, 청정도, 미립자들 등이 또한 수집될 수 있다.In one embodiment, the monitor carrier may monitor the behavior of the environment, eg, clean gas flow in the storage chamber. The monitor carrier can detect the quality of the storage atmosphere, eg, particle production rate, contaminant production rate, flow rate, and any other features of the atmosphere. Other data may also be collected, such as temperature, cleanliness, particulates, and the like.

도 14a는 본 발명의 일 실시예에 따른 모니터 캐리어를 예시한다. 모니터 캐리어(140)는 로봇 암에 의해 픽업되고 해제되는 핸들들 및 격실 지지부상에 배치되는 바닥 표면을 포함하는 다른 캐리어들에 대해 유사한 형상 및 사이즈를 가질 수 있다. 모니터 캐리어는 전자장치에 전력을 공급하기 위한 배터리(142)를 포함할 수 있다. 배터리는 재충전가능한 배터리일 수 있지만, 다른 배터리 타입들이 사용될 수 있다. 모니터 캐리어는 내부 볼륨에서 퍼지 흐름을 감지하거나 외부 분위기 특징들을 감지하기 위한 하나 또는 그 초과의 센서들(141A 및 141B)을 포함할 수 있다. 센서들은 예를 들어, 명령들을 로딩하고 데이터를 언로딩하기 위해 인터페이스(143)를 통해 통신할 수 있다.14A illustrates a monitor carrier according to an embodiment of the present invention. The monitor carrier 140 may have a similar shape and size to other carriers, including handles that are picked up and released by the robot arm and a bottom surface disposed on the compartment support. The monitor carrier may include a battery 142 for powering the electronics. The battery may be a rechargeable battery, but other battery types may be used. The monitor carrier may include one or more sensors 141A and 141B for sensing purge flow in the internal volume or for sensing external ambient features. The sensors can communicate via interface 143, for example, to load instructions and unload data.

도 14b는 스토커에서의 모니터 캐리어의 이동들을 예시한다. 일 실시예에서, 모니터 캐리어는 스토커의 동작 동안 사용될 수 있고, 다수의 보관된 캐리어들(145)은 레티클들(146)을 갖는다. 모니터 캐리어(140)는 비어있는 위치에 배치될 수 있고, 그 위치에서 데이터를 수집한다. 그 후, 모니터 캐리어는 새로운 위치, 즉, 다른 비어있는 위치(147) 또는 점유되어 있는 캐리어를 다른 위치로 이동시킴으로써 비어지게 되는 위치로 이동될 수 있다.14B illustrates the movements of the monitor carrier in the stocker. In one embodiment, the monitor carrier can be used during the operation of the stocker, and the plurality of stored carriers 145 have reticles 146. The monitor carrier 140 may be placed in an empty position and collect data at that position. The monitor carrier can then be moved to a new location, ie another empty position 147 or a position that becomes empty by moving the occupied carrier to another position.

모니터 캐리어를 이동시킴으로써, 위치 의존 데이터가 수집될 수 있다. 예를 들어, 로봇 이동들과 상관됨으로써 수집된 데이터는 스토커에서의 상이한 위치들로 기인한 것일 수 있다. 추가로, 시간 의존 데이터가 예를 들어, 데이터를 시간 스탬프 또는 로봇 이동들과 상관시킴으로써 또한 제공될 수 있다.By moving the monitor carrier, position dependent data can be collected. For example, data collected by correlating with robot movements may be due to different locations in the stocker. In addition, time dependent data may also be provided, for example by correlating the data with a time stamp or robot movements.

도 15a 내지 15c는 본 발명의 일 실시예에 따른, 모니터 캐리어로부터 데이터를 수집하는 플로우차트들을 예시한다. 도 15a에서, 하나 또는 그 초과의 센서들은 데이터를 수집하기 위해 캐리어 쉘프(shelf)에 커플링될 수 있다. 동작(150)은 캐리어 쉘프를 제공한다. 동작(151)은 하나 또는 그 초과의 센서들을 분위기에 관한 데이터를 수집하는 캐리어 쉘프에 커플링한다.15A-15C illustrate flowcharts for collecting data from a monitor carrier, in accordance with an embodiment of the present invention. In FIG. 15A, one or more sensors may be coupled to a carrier shelf to collect data. Operation 150 provides a carrier shelf. Operation 151 couples one or more sensors to a carrier shelf that collects data about the atmosphere.

도 15b에서, 데이터는 스토커에서의 비어있는 위치들에서 수집될 수 있다. 동작(152)은 모니터 캐리어를 스토커에서의 비어있는 스토리지 위치로 이송한다. 동작(153)은 비어있는 스토리지 위치에서 퍼지 흐름에 관한 데이터를 수집한다.In FIG. 15B, data may be collected at empty locations in the stocker. Operation 152 moves the monitor carrier to an empty storage location in the stocker. Operation 153 collects data regarding purge flows at empty storage locations.

도 15c에서, 수집된 데이터가 시간 및 포지션들에 관하여 상관될 수 있다.In FIG. 15C, the collected data may be correlated with respect to time and positions.

동작(154)은 모니터 캐리어를 스토커에서의 스토리지 위치들로 이송한다. 동작(155)은 스토커에서의 스토리지 위치들에서 퍼지 흐름에 관한 데이터를 수집한다. 동작(156)은 시간 및 위치들에 관하여 퍼지 흐름에 관한 데이터를 상관시킨다.Operation 154 transfers the monitor carrier to storage locations in the stocker. Operation 155 collects data regarding purge flow at storage locations in the stocker. Operation 156 correlates data regarding purge flow with respect to time and locations.

일부 실시예들에서, 본 발명은 스토커의 상태들을 모니터링하는 디바이스를 개시하고, 스토커는 복수의 워크피스들을 보관하도록 구성된다. 디바이스는 디바이스의 외부 표면 또는 내부에 커플링된 하나 또는 그 초과의 센서들 ―디바이스는 워크피스와 유사한 사이즈 및 형상을 포함함―; 센서들에 의해 수집된 데이터를 저장하기 위해, 센서들에 커플링된 메모리; 및 메모리에 전력을 공급하는, 메모리에 커플링된 배터리를 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a device for monitoring the status of a stocker, wherein the stocker is configured to store a plurality of workpieces. The device comprises one or more sensors coupled to or within the outer surface of the device, the device comprising a size and shape similar to the workpiece; A memory coupled to the sensors to store data collected by the sensors; And a battery coupled to the memory that powers the memory.

일부 실시예들에서, 센서는 가스 흐름을 검출하도록 구성될 수 있다. 센서는 가스 흐름의 품질을 검출하도록 구성될 수 있다. 가스 흐름의 품질은 가스 흐름의 조성, 및 가스 흐름에서의 입자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 센서는 분위기의 특징을 검출하도록 구성될 수 있다. 특징은 온도, 청정도, 및 미립자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 센서들은 데이터를 시간의 함수로서 수집할 수 있다. 제어기가 센서들 및 메모리를 동작시키기 위해 포함될 수 있다. 인터페이스가 데이터 프로세싱 시스템과 통신하는 센서들을 위해 포함될 수 있다.In some embodiments, the sensor can be configured to detect gas flow. The sensor may be configured to detect the quality of the gas flow. The quality of the gas flow may comprise at least one of the composition of the gas flow, and the level of particles in the gas flow. The sensor may be configured to detect a characteristic of the atmosphere. The feature may include at least one of temperature, cleanliness, and level of particulates. Sensors can collect data as a function of time. A controller can be included to operate the sensors and the memory. An interface may be included for sensors in communication with the data processing system.

상기 설명은 스토리지 스토커에서 사용된 모니터 캐리어를 설명한다. 그러나, 본 발명은 이에 제한되지 않고, 다른 시스템들, 예를 들어, 동작 상태들하에서 시스템 특징들을 모니터링하는 프로세싱 시스템들 또는 클리너 시스템들에 대해 사용될 수 있다.The above description describes the monitor carrier used in the storage stocker. However, the present invention is not so limited, and may be used for other systems, eg, processing systems or cleaner systems that monitor system features under operating conditions.

일 실시예에서, 본 발명은 모니터 캐리어를 수용하는 시스템내의 스테이션을 개시한다. 스테이션은 예를 들어, 데이터 및 전력을 이송하기 위해 모니터 캐리어에 인터페이스들을 제공할 수 있다. 일 실시예에서, 스테이션은 모니터 캐리어의 인터페이스와 정합하는 정합 인터페이스를 포함할 수 있다. 이 인터페이스를 통해, 예를 들어, 모니터 캐리어에서 재충전가능한 배터리를 충전하기 위한 전력, 및 예를 들어, 수집된 데이터를 이송하거나 명령들을 수용하기 위한 데이터가 스테이션과 모니터 캐리어 사이에서 이송될 수 있다. 스테이션은 데이터가 처리될 수 있도록 시스템의 전자 서브시스템에 커플링될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses a station in a system containing a monitor carrier. The station may, for example, provide interfaces to the monitor carrier for transferring data and power. In one embodiment, the station may include a mating interface that mates with an interface of the monitor carrier. Through this interface, for example, power for charging a rechargeable battery in the monitor carrier, and data, for example for transferring collected data or for accepting commands, can be transferred between the station and the monitor carrier. The station can be coupled to an electronic subsystem of the system so that data can be processed.

도 16a는 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 수집 스테이션을 포함하는 시스템을 예시한다. 스토커는 스토리지 챔버(160), 이송 모듈(161), 로딩 및 언로딩 스테이션(162), 제어 장비(164), 및 데이터 수집 스테이션(163)을 포함할 수 있다. 이송 모듈은 스토리지 챔버(160) 전반에 걸쳐, 그리고 배터리 재충전 및 데이터 이송을 위해 데이터 수집 스테이션(163)으로 그리고 데이터 수집 스테이션(163)으로부터 하나 또는 그 초과의 모니터 캐리어들을 이송할 수 있다. 데이터 수집 스테이션으로부터, 데이터가 추가로 프로세싱되어 디스플레이되도록 전자 장비에 이송될 수 있다.16A illustrates a system including a data collection station in accordance with one embodiment of the present invention. The stocker may include a storage chamber 160, a transfer module 161, a loading and unloading station 162, control equipment 164, and a data collection station 163. The transfer module may transfer one or more monitor carriers throughout the storage chamber 160 and to and from the data collection station 163 for battery recharge and data transfer. From the data collection station, data can be transferred to electronic equipment for further processing and display.

일 실시예들에서, 본 발명은 워크피스들을 보관하는 스토커를 개시한다. 스토커는 스토리지 챔버 ―스토리지 챔버는 워크피스들을 보관하는 복수의 격실들을 포함하고, 스토리지 챔버는 가스 흐름을 전달하는 하나 또는 그 초과의 노즐들을 포함함―; 스토리지 챔버로 또는 스토리지 챔버로부터 워크피스를 이송하는 로봇; 및 스테이션 ―스테이션은 워크피스를 지지하도록 동작가능하고, 스테이션은 디바이스와 정합하는 인터페이스를 포함하고, 디바이스는 워크피스와 유사한 사이즈 및 형상을 포함함―을 포함할 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses a stocker for storing workpieces. The stocker comprises a storage chamber, the storage chamber including a plurality of compartments for storing the workpieces, the storage chamber including one or more nozzles for delivering a gas flow; A robot for transferring the workpiece to or from the storage chamber; And a station, the station operable to support the workpiece, the station including an interface that mates with the device, the device comprising a size and shape similar to the workpiece.

일부 실시예들에서, 제어기가 디바이스로부터의 데이터를 프로세싱하는 정합 인터페이스에 커플링될 수 있다. 디바이스는 스토커에 관한 데이터를 수집하여 인터페이스에 이송할 수 있다. 데이터는 가스 흐름의 존재, 가스 흐름의 품질, 및 분위기의 특징 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 가스 흐름의 품질은 가스 흐름의 조성, 및 가스 흐름에서의 입자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 특징은 온도, 청정도, 및 미립자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 디바이스는 데이터를 시간의 함수로서 수집하여 인터페이스에 이송할 수 있다.In some embodiments, a controller can be coupled to a mating interface that processes data from the device. The device may collect data about the stocker and transfer it to the interface. The data may include at least one of the presence of a gas flow, the quality of the gas flow, and the characteristics of the atmosphere. The quality of the gas flow may comprise at least one of the composition of the gas flow, and the level of particles in the gas flow. The feature may include at least one of temperature, cleanliness, and level of particulates. The device may collect data as a function of time and transfer it to the interface.

도 16b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 데이터 수집 스테이션에 대한 플로우차트를 예시한다. 동작(165)은 모니터 캐리어를 데이터 스테이션에 이송한다. 동작(166)은 모니터 캐리어와 데이터 스테이션 사이의 전기적 접속들을 커플링한다. 동작(167)은 명령들을 모니터 캐리어에 업로딩한다(옵션).16B illustrates a flowchart for a data collection station, in accordance with an embodiment of the present invention. Operation 165 transfers the monitor carrier to the data station. Operation 166 couples electrical connections between the monitor carrier and the data station. Operation 167 uploads the instructions to the monitor carrier (optional).

동작(168)은 모니터 캐리어로부터 데이터 프로세싱 시스템으로 데이터를 다운로딩한다. 동작(169)은 모니터 캐리어에서 배터리를 충전한다(옵션).Operation 168 downloads data from the monitor carrier to the data processing system. Operation 169 charges the battery in the monitor carrier (optional).

일부 실시예들에서, 본 발명은 스토커의 상태들을 모니터링하는 방법을 개시하고, 스토커는 복수의 워크피스들을 보관하도록 구성된다. 방법은 스토커의 스토리지 격실로 디바이스를 이송하는 단계 ―디바이스는 워크피스와 유사한 사이즈 및 형상을 포함하고, 디바이스는 워크피스와 동일한 메커니즘에 의해 이송되도록 구성되고, 디바이스는 워크피스로서 스토리지 격실에 배치되도록 구성됨―; 디바이스에 의해 가스 흐름 또는 분위기에 관한 데이터를 수집하는 단계; 및 디바이스를 다른 스토리지 격실로 이송하는 단계를 포함할 수 있다.In some embodiments, the present invention discloses a method of monitoring the status of a stocker, wherein the stocker is configured to store a plurality of workpieces. The method includes transferring a device to a storage compartment of the stocker, wherein the device comprises a size and shape similar to the workpiece, the device is configured to be transported by the same mechanism as the workpiece, and the device is disposed in the storage compartment as a workpiece Configured; Collecting data regarding the gas flow or the atmosphere by the device; And transferring the device to another storage compartment.

일부 실시예들에서, 방법은 스테이션으로부터 디바이스를 픽업하는 단계 ―스테이션은 디바이스로부터 데이터를 이송하는 인터페이스를 포함함―; 및 스테이션에서 디바이스의 배터리를 재충전하는 단계를 포함할 수 있다. 가스 흐름 또는 분위기에 관한 데이터는 가스 흐름의 품질, 가스 흐름의 조성, 가스 흐름에서의 입자들의 레벨, 분위기의 특징, 온도, 청정도, 및 미립자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, a method includes picking up a device from a station, the station including an interface for transferring data from the device; And recharging the battery of the device at the station. The data regarding the gas flow or the atmosphere may include at least one of the quality of the gas flow, the composition of the gas flow, the level of particles in the gas flow, the characteristics of the atmosphere, the temperature, the cleanliness, and the level of the particulates.

일 실시예들에서, 본 발명은 오버헤드 이송(OHT)을 위한 로딩 스테이션을 개시한다. 오버헤드 이송은 통상적으로 오버헤드를 구동하여, 제조 설비내의 상이한 프로세스 장비를 연결한다. 오버헤드 이송은 또한 전형적으로 선형적이어서, 하나의 장비로부터 다른 장비로 직선들로 구동한다. 따라서, 오버헤드 이송 로딩 스테이션들은 통상 선형적이며, 오버헤드 이송 라인과 수직으로 인터페이싱한다. 반대로, 수동 로딩 스테이션들은 통상적으로 방사상으로 위치되어, 로봇 암이 위치되는 중심점과 인터페이싱한다.In one embodiment, the present invention discloses a loading station for overhead transport (OHT). Overhead conveying typically drives overhead to connect different process equipment in a manufacturing facility. Overhead feed is also typically linear, driving straight lines from one machine to another. Thus, overhead transfer loading stations are typically linear and interface vertically with the overhead transfer line. In contrast, manual loading stations are typically located radially, interfacing with the center point where the robot arm is located.

일 실시예에서, 본 발명은 오버헤드 이송 로딩/언로딩 스테이션에서, 선형적 배향으로부터 중심 로봇 암에 대면하는 방사상 배향으로 오브젝트들을 회전시키는 방법들 및 시스템들을 개시한다. 일 실시예에서, 오버헤드 로딩 스테이션은 수동 로딩 스테이션 보다 높은 포지션에 배치된다. 동일한 로봇이 수동 로딩 스테이션들 및 오버헤드 로딩 스테이션들 양자 모두에 액세스하도록 사용될 수 있고, 로봇은 2개의 로딩 스테이션들을 연결하는 수직 방향으로 이동한다. 오버헤드 로딩 스테이션들이 중심 로봇에 대면하도록 재배향됨에 따라, 오버헤드 로딩 스테이션들에서 오브젝트들에 액세스하는 것이 단순화될 수 있다.In one embodiment, the present invention discloses methods and systems for rotating objects from a linear orientation to a radial orientation facing a central robot arm at an overhead transfer loading / unloading station. In one embodiment, the overhead loading station is located at a higher position than the manual loading station. The same robot can be used to access both manual loading stations and overhead loading stations, with the robot moving in the vertical direction connecting the two loading stations. As the overhead loading stations are redirected to face the central robot, accessing the objects at the overhead loading stations can be simplified.

도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른, 오버헤드 및 수동 로딩 스테이션들에 대한 예시적인 구성을 예시한다. 수동 로딩/언로딩 스테이션들(171) 및 대응하는 오브젝트들(172)은 방사상으로 설계되어, 수동 로딩 스테이션들의 높이에서 중심 로봇(170A)과 대면한다. 오버헤드 로딩/언로딩 스테이션들(173)은 오버헤드 이송 라인(179)을 수용하도록 선형으로 설계된다. 오버헤드 이송 라인(179)으로부터 이송한 이후에, 오브젝트들은 선형으로 배향된다(175). 오버헤드 로딩 스테이션들은 회전 메커니즘(174)을 포함하여, 로봇(170B)에 방사상으로 대면하도록 오브젝트들을 회전시킨다(177). 도시된 바와 같이, 좌우 오브젝트들은 상이한 방향들로 회전된다. 선형 이송 라인의 포지션들 및 중심 로봇의 포지션에 의존하여, 다른 회전 방향들이 포함된다. 따라서, 오브젝트들에 액세스하기 위해, 로봇은 수동 로딩 스테이션으로부터 오버헤드 로딩 스테이션으로 z―방향으로 이동하고, 오브젝트들은 선형 포지션들로부터 방사상 포지션들로 회전하며, 로봇은 회전된 오브젝트들에 액세스할 수 있다.17 illustrates an example configuration for overhead and manual loading stations, in accordance with an embodiment of the present invention. The manual loading / unloading stations 171 and the corresponding objects 172 are radially designed to face the central robot 170A at the height of the manual loading stations. Overhead loading / unloading stations 173 are designed linearly to accommodate overhead transfer line 179. After transferring from the overhead transfer line 179, the objects are oriented linearly (175). Overhead loading stations include a rotation mechanism 174 to rotate the objects 177 to radially face the robot 170B. As shown, the left and right objects are rotated in different directions. Depending on the positions of the linear transfer line and the position of the central robot, different directions of rotation are included. Thus, to access the objects, the robot moves in a z-direction from the manual loading station to the overhead loading station, the objects rotate from linear positions to radial positions, and the robot can access the rotated objects. have.

도 18a 및 18b는 본 발명의 일 실시예에 따른, 오버헤드 로딩 스테이션들에 액세스하는 예시적인 플로우차트들을 예시한다. 도 18a에서, 로봇은 상향 이동하고, 캐리어는 방사상으로 배향되어 로봇에 의해 픽업되도록 회전된다. 동작(180)은, 캐리어가 OHT 암에 의해 액세스될 수 있도록 캐리어 지지부를 회전시킨다(옵션).18A and 18B illustrate example flowcharts for accessing overhead loading stations, in accordance with an embodiment of the present invention. In FIG. 18A, the robot moves upward and the carrier is radially oriented and rotated to be picked up by the robot. Operation 180 rotates the carrier support (optional) so that the carrier can be accessed by the OHT arm.

동작(181)은, OHT 암에 의해 캐리어 지지부상에 캐리어를 수용한다. 동작(182)은, 캐리어가 중심 로봇 암에 대면하도록 캐리어 지지부를 회전시킨다. 동작(183)은, 로봇 암을 적절한 높이 레벨로 이동시킨다(옵션). 동작(184)은, 로봇 암에 의해 캐리어를 픽업한다.Operation 181 receives the carrier on the carrier support by the OHT arm. Operation 182 rotates the carrier support such that the carrier faces the central robot arm. Operation 183 moves the robot arm to an appropriate height level (optional). Operation 184 picks up the carrier by the robotic arm.

도 18b에서, 로봇은 상향 이동하며, 캐리어를 로딩 스테이션상에 배치한다. 그 후, 로딩 스테이션은 선형으로 배향되어 오버헤드 이송에 의해 픽업되도록 회전된다. 동작(185)은, 중심 로봇 암에 대면하도록 캐리어 지지부를 회전시킨다(옵션). 동작(186)은, 로봇 암에 의해 캐리어 지지부상에 캐리어를 배치한다. 동작(187)은, 캐리어가 OHT 암에 의해 액세스될 수 있도록 캐리어 지지부를 회전시킨다. 동작(188)은, 로봇 암을 적절한 높이 레벨로 이동시킨다(옵션). 동작(189)은, OHT 스테이션에 캐리어를 수용한다.In FIG. 18B, the robot moves upwards and places the carrier on the loading station. Thereafter, the loading station is oriented linearly and rotated to be picked up by overhead transport. Operation 185 rotates the carrier support to face the central robot arm (optional). Operation 186 places the carrier on the carrier support by the robot arm. Operation 187 rotates the carrier support such that the carrier can be accessed by the OHT arm. Operation 188 moves the robot arm to an appropriate height level (optional). Operation 189 receives the carrier at the OHT station.

일 실시예에서, 본 발명은 오브젝트들 내부의 볼륨에 대해 질소 퍼지를 이용하는 클리너 시스템에 대한 로딩 및 언로딩 스테이션을 개시한다. 캐리어 내부의 오브젝트에 대한 청정도의 레벨을 유지하기 위해, 내부 볼륨은 질소와 같은 불활성 가스로 지속적으로 퍼징된다. 따라서, 본 발명은 내부 볼륨의 일정한 퍼지를 보장하는 이송 및/또는 스토리지 스테이션에 대한 불활성 가스 퍼지를 개시한다.In one embodiment, the present invention discloses a loading and unloading station for a cleaner system that uses a nitrogen purge for the volume inside the objects. In order to maintain the level of cleanliness for the object inside the carrier, the internal volume is continuously purged with an inert gas such as nitrogen. Accordingly, the present invention discloses an inert gas purge for a transport and / or storage station that ensures a constant purge of the internal volume.

도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른, 퍼지 노즐들을 갖는 예시적인 이송 및/또는 스토리지 스테이션을 예시한다. 이중 컨테이너 캐리어(190)는 스테이션(192)의 질소 퍼지 노즐들(194) 상에 배치된다. 질소 노즐들(194)이 이중 컨테이너 캐리어(190)의 저부 지지부에 질소(195)를 제공함에 따라, 외부 컨테이너 내부의 볼륨은 리프레시된 질소로 지속적으로 퍼징된다.19 illustrates an example transfer and / or storage station with purge nozzles, in accordance with an embodiment of the present invention. The dual container carrier 190 is disposed on the nitrogen purge nozzles 194 of the station 192. As the nitrogen nozzles 194 provide nitrogen 195 to the bottom support of the dual container carrier 190, the volume inside the outer container is continuously purged with refreshed nitrogen.

일 실시예에서, 본 발명은 EUV 캐리어들의 스토리지를 위한 EUV 스토커 시스템 및 프로세스를 개시한다. EUV 스토커 시스템은 하나 또는 그 초과의 클리닝 챔버들(예를 들어, 오염제거 챔버들), 퍼지 가스 스토리지 스테이션들 및 격실들, 퍼지 가스 동작을 검출하는 센서들을 갖는 로봇 암, 스토커에서 데이터 수집을 위한 모니터 캐리어들, 데이터 및 전력 이송을 위한 모니터 스테이션, 회전 오버헤드 로딩 스테이션, 및 퍼지 가스 로딩 및 언로딩 스테이션을 포함한다.In one embodiment, the present invention discloses an EUV stocker system and process for storage of EUV carriers. The EUV stocker system includes one or more cleaning chambers (e.g., decontamination chambers), purge gas storage stations and compartments, a robotic arm with sensors to detect purge gas operation, for data collection at the stocker. Monitor carriers, a monitor station for data and power transfer, a rotating overhead loading station, and a purge gas loading and unloading station.

Claims (10)

스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스로서,
상기 스토커는, 각각 내부 컨테이너 및 외부 컨테이너를 포함하는 복수의 워크피스들을 보관하도록 구성되고, 상기 디바이스는,
상기 디바이스의 외부 표면 또는 내부에 커플링된 하나 또는 그 초과의 센서들 ― 상기 디바이스는 워크피스와 유사한 사이즈 및 형상을 포함함 ―;
상기 센서들에 의해 수집된 데이터를 저장하는, 상기 센서들에 커플링된 메모리; 및
상기 메모리에 전력을 공급하기 위해 상기 메모리에 커플링된 배터리
를 포함하고,
상기 외부 컨테이너 내부의 볼륨은 불활성 가스로 퍼징되는(purged),
스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
A device for monitoring the status of a stocker,
The stocker is configured to store a plurality of workpieces, each of which includes an inner container and an outer container, the device comprising:
One or more sensors coupled to or within an exterior surface of the device, the device comprising a size and shape similar to a workpiece;
A memory coupled to the sensors for storing data collected by the sensors; And
A battery coupled to the memory for powering the memory
Including,
The volume inside the outer container is purged with an inert gas,
Device for monitoring the status of the stalker.
제 1 항에 있어서,
센서는 가스 흐름을 검출하도록 구성되는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
The sensor is configured to detect a gas flow, the device for monitoring the status of the stocker.
제 1 항에 있어서,
센서는 가스 흐름의 품질을 검출하도록 구성되는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
The sensor is configured to detect the quality of the gas flow, the device for monitoring the status of the stocker.
제 1 항에 있어서,
가스 흐름의 품질은 상기 가스 흐름의 조성, 및 상기 가스 흐름에서의 입자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
And the quality of gas flow comprises at least one of the composition of the gas flow, and the level of particles in the gas flow.
제 1 항에 있어서,
센서는 분위기의 특징을 검출하도록 구성되는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
The sensor is configured to detect a condition of the stocker, wherein the sensor is configured to detect a characteristic of the atmosphere.
제 5 항에 있어서,
상기 특징은 온도, 청정도, 및 미립자들의 레벨 중 적어도 하나를 포함하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 5,
Wherein the characteristic comprises at least one of temperature, cleanliness, and level of particulates.
제 1 항에 있어서,
상기 센서들은 데이터를 시간의 함수로서 수집하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
And the sensors collect data as a function of time.
제 1 항에 있어서,
상기 센서들 및 상기 메모리를 동작시키기 위한 제어기를 더 포함하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
And a controller for operating the sensors and the memory.
제 1 항에 있어서,
데이터 처리 시스템과 통신하기 위해 상기 센서들에 대한 인터페이스를 더 포함하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 디바이스.
The method of claim 1,
Further comprising an interface to the sensors for communicating with a data processing system.
스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 방법으로서,
상기 스토커는 각각 내부 컨테이너 및 외부 컨테이너를 포함하는 복수의 워크피스들을 보관하도록 구성되고, 상기 방법은,
상기 스토커의 스토리지 격실로 디바이스를 이송하는 단계 ― 상기 디바이스는 상기 워크피스와 유사한 사이즈 및 형상을 포함하며, 상기 디바이스는 상기 워크피스와 동일한 메커니즘에 의해 이송되도록 구성되고, 상기 디바이스는 상기 워크피스로서 상기 스토리지 격실에 배치되도록 구성되며, 상기 외부 컨테이너 내부의 볼륨은 불활성 가스로 퍼징됨 ―;
상기 디바이스에 의해 가스 흐름 또는 분위기에 관한 데이터를 수집하는 단계; 및
상기 디바이스를 다른 스토리지 격실로 이송하는 단계
를 포함하는, 스토커의 상태들을 모니터링하기 위한 방법.
A method for monitoring the status of a stalker,
The stocker is configured to store a plurality of workpieces each including an inner container and an outer container, the method comprising:
Transferring the device to a storage compartment of the stocker, the device comprising a size and shape similar to the workpiece, the device configured to be transported by the same mechanism as the workpiece, the device being the workpiece Configured to be disposed in the storage compartment, wherein a volume inside the outer container is purged with an inert gas;
Collecting data regarding gas flow or atmosphere by the device; And
Transferring the device to another storage compartment
And a status for monitoring the status of the stocker.
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